KR20110043881A - 휘도 강화 시트, 이를 포함하는 백라이트 유닛 및 액정 디스플레이 장치 - Google Patents

휘도 강화 시트, 이를 포함하는 백라이트 유닛 및 액정 디스플레이 장치 Download PDF

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KR20110043881A KR1020090100603A KR20090100603A KR20110043881A KR 20110043881 A KR20110043881 A KR 20110043881A KR 1020090100603 A KR1020090100603 A KR 1020090100603A KR 20090100603 A KR20090100603 A KR 20090100603A KR 20110043881 A KR20110043881 A KR 20110043881A
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Abstract

본 발명은 휘도 강화 시트, 이를 포함하는 백라이트 유닛 및 액정 디스플레이 장치에 관한 것으로, 구체적으로 본 발명의 휘도 강화 시트는 투명 기재 필름; 상기 투명 기재 필름의 상면에 형성된 고굴절율층; 및 상기 고굴절율층의 상면에 형성되고, 상면에 복수개의 프리즘 형상의 요철이 형성된 프리즘층을 포함한다.
본 발명의 휘도 강화 시트는 투과도가 우수하며 빛을 집광시키는 효과를 극대화하여 휘도 향상 효과가 탁월하며 고휘도를 요구하는 LED광원 액정 디스플레이에 적용 할 수 있다.
고굴절율층, 휘도 강화 시트

Description

휘도 강화 시트, 이를 포함하는 백라이트 유닛 및 액정 디스플레이 장치 {Brightness Enhancement Sheet, Back Light Unit and Liquid Crystal Display Device Including the Same}
본 발명은 휘도 강화 시트, 이를 포함하는 백라이트 유닛 및 액정 디스플레이 장치에 대한 것으로, 구체적으로 휘도 및 투과도 등의 물성이 우수하여 백라이트 유닛의 효율이 향상되는 휘도 강화 시트, 이를 포함하는 백라이트 유닛 및 액정 디스플레이 장치에 대한 것이다.
일반적으로 액정 디스플레이나 플라즈마 디스플레이 패널과 같은 액정 디스플레이 장치 후면에는 백라이트 유닛의 휘도를 향상시킬 목적으로 프리즘 시트(prism sheet)가 사용된다.
상기 프리즘 시트는 특정범위의 굴절률을 갖는 투명유리를 사용하여 일체로 성형하는 방법 또는 광경화 수지 조성물로부터 프리즘 형상으로 성형하는 방법 등에 의해 제조될 수 있다. 근래에는 곡면(曲面) 디스플레이 표면을 갖는 박형화 및 대형화 액정 셀을 용이하게 제조할 수 있다는 관점에서 유리기판 대신에 광경화 수지 조성물을 사용하여 제조된 플라스틱 필름을 기판으로 사용한 액정 디스플레이 장치가 주목 받고 있다. 그러나, 플라스틱 필름이 기판으로 사용될 때, 기판의 외표면은 쉽게 손상되고, 불규칙한 반사를 일으킴으로써 액정 디스플레이 장치의 광학적 특징에 악영향을 미친다. 상기 문제점을 해결하기 위하여 기판의 표면상에 광경화 조성물로 코팅층을 형성하여 기판 표면의 경도를 증가시켜, 표면이 손상되기 어려운 액정 디스플레이 장치를 얻고 있다.
또한, 근래에 각광 받고 있는 LED 광원의 경우 CCFL광원 보다 램프의 밝기가 우수하여 적은 양의 램프수로부터 고휘도를 요구하고 있으며, 그에 상응하는 고휘도 프리즘 시트 개발이 활발히 진행 되고 있다. 종래의 휘도 강화 시트는 고휘도를 구현하기 위해 프리즘층에 금속산화물을 과량 사용하거나 굴절율이 높은 유기물을 사용 하였하고 있다. 그러나, 금속산화물을 과량 사용하는 경우 투과성이 저하되거나 분산을 위한 표면처리 공정이 복잡하고 고가로 인해 경제성이 떨어지는 문제점이 있으며, 굴절률이 높은 유기물을 사용하는 경우 충분한 휘도 향상 효과를 기대하기 어렵고 특히 산갈림 현상이 저하되는 문제점이 있다.
상기의 문제점을 해결하고자 본 발명의 목적은 휘도 및 투과도 등의 물성이 우수하여 백라이트 유닛의 효율이 향상되는 휘도 강화 시트, 이를 포함하는 백라이 트 유닛 및 액정 디스플레이 장치를 제공하는데 있다.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은,
투명 기재 필름;
상기 투명 기재 필름의 상면에 형성된 고굴절율층; 및
상기 고굴절율층의 상면에 형성되고, 상면에 복수개의 프리즘 형상의 요철이 형성된 프리즘층을 포함하는 휘도 강화 시트를 제공한다.
상기 고굴절율층은 자외선 경화형 (메타)아크릴레이트, 금속산화물, 광개시제 및 용제를 포함하는 고굴절율층 형성용 조성물로 형성될 수 있다.
상기 자외선 경화형 (메타)아크릴레이트는 하기 화학식 1 로 표현될 수 있다:
[화학식 1]
Figure 112009064697612-PAT00001
(상기 화학식 1 에서,
R1 은 CH2, C(CH3)2, CH(CH3), CH(C2H5), C(C6H5)2, 황, 설폭시 또는 산소이고,
R2 및 R5 는 각각 독립적으로 CH2CH2, CH2CH(CH3) 또는 CH2CH(OH)CH2 이고,
R3 는 수소; 할로겐 원자; 수소, 할로겐 원자로 치환된 헤테로시클로알킬; 또는 탄소수 3 내지 10 의 단일 또는 적어도 이중의 축합고리이고,
R4 는 수소 또는 메틸기이고,
X 는 산소 원자 또는 황 원자이고,
n 및 m 은 독립적으로 0 내지 20 의 정수이나, 적어도 하나는 0 이 아니다)
상기 금속산화물은 지르코니아, 티타니아, 산화안티몬, 알루미나, 산화주석, 안티몬산화주석 및 인듐산화주석으로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 이들의 혼합물일 수 있다.
상기 금속산화물의 입경은 1 내지 100 nm 일 수 있다.
상기 고굴절율층 형성용 조성물은 (메타)아크릴레이트 단량체를 더 포함할 수 있다.
상기 고굴절율층의 굴절율은 25 ℃에서 1.6 내지 2.3 일 수 있다.
상기 고굴절율층의 두께는 0.05 내지 5 ㎛ 일 수 있다.
상기 프리즘층은 하기 화학식 1 로 표현되는 다관능 (메타)아크릴레이트, 하기 화학식 2 로 표현되는 단관능 (메타)아크릴레이트 및 광개시제를 포함하는 프리즘층 형성용 조성물로 형성될 수 있다:
[화학식 1]
Figure 112009064697612-PAT00002
(상기 화학식 1 에서,
R1 은 CH2, C(CH3)2, CH(CH3), CH(C2H5), C(C6H5)2, 황, 설폭시 또는 산소이고,
R2 및 R5 는 각각 독립적으로 CH2CH2, CH2CH(CH3) 또는 CH2CH(OH)CH2 이고,
R3 는 수소; 할로겐 원자; 수소, 할로겐 원자로 치환된 헤테로시클로알킬; 또는 탄소수 3 내지 10 의 단일 또는 적어도 이중의 축합고리이고,
R4 는 수소 또는 메틸기이고,
X 는 산소 원자 또는 황 원자이고,
n 및 m 은 독립적으로 0 내지 20 의 정수이나, 적어도 하나는 0 이 아니다)
[화학식 2]
Figure 112009064697612-PAT00003
(상기 화학식 2 에서,
X 는 산소 원자 또는 황 원자이고;
R1 은 수소; 할로겐 원자; 수소, 할로겐 원자로 치환된 헤테로시클로알킬; 또는 탄소수 3 내지 10 의 단일 또는 적어도 이중의 축합고리이고;
R2 는 CH2CH2, CH2CH(CH3) 또는 CH2CH(OH)CH2이고;
R3 는 수소 또는 메틸기이고;
n 은 0 내지 10 의 정수이다)
상기 다관능 (메타)아크릴레이트는 프리즘층 형성용 조성물에 대하여 0.01 내지 90 중량부로 포함될 수 있다.
상기 단관능 (메타)아크릴레이트는 25 ℃에서 점도가 1 내지 3000 cps 일 수 있다.
상기 단관능 (메타)아크릴레이트는 프리즘층 형성용 조성물에 대하여 1 내지 80 중량부로 포함될 수 있다.
본 발명의 다른 목적을 달성하기 위하여 본 발명은,
본 발명의 휘도 강화 시트를 포함하는 백라이트 유닛을 제공한다.
본 발명의 또 다른 목적을 달성하기 위하여 본 발명은,
본 발명의 백라이트 유닛을 포함하는 액정 디스플레이 장치를 제공한다.
본 발명의 휘도 강화 시트는 휘도 및 투과도가 우수하다. 또한, 본 발명의 휘도 강화 시트는 각 층간의 밀착성이 우수하고, 산갈라짐 현상이 억제되어 고휘도를 구현 할 수 있다.
본 발명의 휘도 강화 시트는 공정시간이 짧고, 몰드와의 이형성도 우수하여 작업성 및 생산성이 향상된다.
본 발명의 휘도 강화 시트는 액정 디스플레이 장치의 LED광원 백라이트 유닛 등에 유용하게 적용할 수 있을 뿐만 아니라, 백라이트 유닛의 효율을 향상시킨다.
이하 당업자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명은 다양하게 변형될 수 있고 여러 가지 형태를 취할 수 있으며, 여기서는 그에 따른 특별한 실시예에 대해서만 기술한다. 그러나, 본 발명은 여기서 언급되는 특별한 형태로 한정되는 것이 아닌 것으로 이해되어야 하며, 오히려 첨부된 청구범위에 의해 정의되는 본 발명의 정신과 범위 내에 있는 모든 변형물과 균등물 및 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
도 1 은 본 발명의 일 실시예에 의한 휘도 강화 시트(100)를 도시한 것이다.
도 1 을 참조하면, 본 발명의 휘도 강화 시트는 투명 기재 필름(110); 고굴절율층(120); 및 프리즘층(130)을 포함한다.
상기 투명 기재 필름(110)은 광학적 특성이 양호한 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC) 또는 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN)등의 투명 광학용 고분자로 형성될 수 있다.
상기 투명 기재 필름(110)은 고굴절율층(120)과의 접착력 등을 향상시키기 위해 상기 고분자 위에 수분산 폴리우레탄 또는 수성 아크릴 수지층이 1~2 ㎛ 두께로 프라이머 형식으로 코팅된 것을 사용할 수 있다.
상기 투명 기재 필름(110)은 10 내지 1000 ㎛ 두께로 형성될 수 있으며, 더욱 바람직하게는, 50 내지 300 ㎛ 두께로 형성될 수 있다. 상기 투명 기재 필름(110)의 두께가 50 ㎛ 미만인 경우 내열성이 저하되고, 300 ㎛를 초과하는 경우 투과도가 감소할 수 있다.
상기 고굴절율층(120)은 상기 투명 기재 필름(110)의 상면에 형성되고, 투명 기재 필름(110) 및 프리즘층(130)과의 굴절율 차이로 인해 빛의 집광을 향상시키며 그로 인해 고휘도를 구현할 수 있다.
상기 고굴절율층(120)은 자외선 경화형 (메타)아크릴레이트, 금속산화물, 광개시제 및 용제를 포함하는 고굴절율층 형성용 조성물로 형성될 수 있다.
상기 자외선 경화형 (메타)아크릴레이트는 특별히 제한되지 않으나, 금속산화물의 굴절율을 저해 시키지 않는 것을 사용하는 것이 바람직하다. 보다 구체적으로, 상기 자외선 경화형 (메타)아크릴레이트는 하기 화학식 1 로 표현될 수 있다:
[화학식 1]
Figure 112009064697612-PAT00004
상기 화학식 1 에서, R1 은 CH2, C(CH3)2, CH(CH3), CH(C2H5), C(C6H5)2, 황, 설폭시 또는 산소로부터 선택될 수 있으며, R2 및 R5 는 CH2CH2, CH2CH(CH3) 또는 CH2CH(OH)CH2 이며, R3 는 수소; 할로겐 원자; 수소, 할로겐 원자로 치환된 헤테로시클로알킬; 또는 탄소수 3 내지 10 의 단일 또는 적어도 이중의 축합고리이며, R4 는 수소 또는 메틸기이며, X는 산소 원자 또는 황 원자이며, n 및 m 은 독립적으로 0 내지 20 의 정수이나 둘 다 0 은 아니다.
상기 금속산화물은 굴절율을 상승시키고, 고굴절율층(120)과 투명 기재 필름(110) 및 프리즘층(130)의 굴절율을 상이하게 하여 휘도 강화 시트의 휘도를 더 향상시키는 역할을 한다.
상기 금속산화물은 입경이 1 내지 100 nm 인 나노입자인 것이 바람직하다. 상기 금속산화물의 입경이 1 nm 미만인 경우 금속산화물 제조가 어렵고, 100 nm 를 초과하는 경우 투과도가 저하될 수 있다.
상기 금속산화물은 용매에 대한 분산성을 높이기 위해 표면처리제로 표면 개질을 할 수 있으며 상기 표면처리제로는 이소옥틸 트리메톡시-실란, N-(3-트리에톡시실릴프로필)메톡시에톡시에톡시에틸 카바메이트, N-(3-트리에톡시실릴프로필)메톡시에톡시에톡시에틸 카바메이트, 3-(메타크릴로일옥시)프로필트리메톡시실란, 3-아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-(메타크릴로일옥시)프로필트리에톡시실란, 3-(메타크릴로일옥시)프로필메틸디메톡시실란, 3-(아크릴로일옥시프로필)메틸디메톡시실란, 3-(메타크릴로일옥시)프로필디메틸에톡시실란, 3-(메타크릴로일옥시)프로필디메틸에톡시실란, 비닐디메틸에톡시실란, 페닐트리메톡시실란, n-옥틸트리메톡시실란, 도데실트리메톡시실란, 옥타데실트리메톡시실란, 프로필트리메톡시실란, 헥실트리메톡시실란, 비닐메틸디아세톡시실란, 비닐메틸디에톡시실란, 비닐트리아세톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리이소프로폭시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리페녹시실란, 비닐트리-t-부톡시실란, 비닐트리스-이소부톡시실란, 비닐트리이소프로페녹시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, 스티릴에틸트리메톡시실란, 머캅토프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 아크릴산, 메타크릴산, 올레산, 스테아르산, 도데칸산, 2-[2-(2-메톡시에톡시)에톡시]아세트산 (MEEAA), 베타-카르복시에틸아크릴레이트, 2-(2-메톡시에톡시)아세트산 및 메톡시페닐 아세트산으로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 이들의 혼합물을 사용 할 수 있다.
상기 금속산화물은 바람직하게는 지르코니아, 티타니아, 산화안티몬, 알루미나, 산화주석, 안티몬산화주석 및 인듐산화주석으로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 이들의 혼합물일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 금속산화물의 굴절율을 구체적으로 살펴보면, 티타니아 1.8 내지 2.4, 지르코니아 1.8 내지 2.1, 안티몬산화주석 및 인듐산화주석 1.8, 알루미나 1.75, 산화안티몬 1.6 이다.
상기 금속산화물은 분산성을 향상시키기 위해 용제에 분산하여 사용할 수 있다. 상기 용제는 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올 또는 옥탄올 등의 알코올; 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤 또는 시클로헥사논 등의 케톤; 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트, 에틸 락테이트 또는 γ-부티로락톤 등의 에스테르; 에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르 또는 디에틸렌 글리콜 모노부틸 에테르 등의 에테르; 벤젠, 톨루엔 또는 크실렌 등의 방향족 탄화수소; 및 디메틸포름아미드, 디메틸 아세트아미드 또는 N-메틸피롤리돈 등의 아미드로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 바람직하게는, 메탄올, 이소프로판올, 부탄올, 메틸에틸 케톤, 메틸이소부틸 케톤, 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트, 톨루엔 및 크실렌으로부터 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다.
상기 광개시제는 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-몰폴린프로판온-1, 디페닐케톤벤질디메틸케탈, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-1-온, 4-히드록시시클로 페닐케톤, 디메톡시-2-페닐아테토페논, 안트라퀴논, 플루오렌, 트리페닐아민, 카바졸, 3-메틸아세토페논, 4-크놀로아세토페논, 4,4-디메톡시아세토페논, 4,4-디아미노벤조페논 및 1-히드록시시클로헥실 페닐케톤으로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 용제는 상기 금속산화물을 분산하기 위해 사용하는 용제와 동일한 용제일 수 있으며, 상술한 바와 동일하므로 여기서는 자세한 설명을 생략한다.
상기 고굴절율층 형성용 조성물은 (메타)아크릴레이트 단량체를 더 포함할 수 있다.
상기 (메타)아크릴레이트 단량체는 바람직하게는, 디펜타에리스리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판 테트라(메타)아크릴레이트, (메타)아크릴릭 에스테르, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 글리세롤 트리(메타)아크릴레이트, 트리스(2-히드록시에틸) 이소시아누레이트 트리(메타)아크릴레이트, 에틸렌클리콜 디(메타)아크릴레이트, 프로필렌 글리콜(메타)아크릴레이트, 1,3-부탄디올 디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌클리콜 디(메타)아크릴레이트, 디프로필렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 비스(2-히드록시에틸) 이소시아누레이트 디(메타)아크릴레 이트, 히드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 히드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 히드록시부틸 (메타)아크릴레이트, 이소옥틸 (메타)아크릴레이트, 이소-덱실 (메타)아크릴레이트, 스테아릴 (메타)아크릴레이트, 테트라히드로퍼푸릴 (메타)아크릴레이트, 페녹시에틸 (메타)아크릴레이트, 이소보네올 (메타)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 고굴절율층 형성용 조성물의 굴절율은 1.6 내지 2.3 일 수 있으며, 바람직하게는 1.8 내지 2.0 일 수 있다. 상기 굴절율 범위내에서 투명 기재 필름(110) 및 프리즘층(130)과의 굴절율 차이를 주어 빛의 집광효과를 극대화할 수 있다.
상기 고굴절율층(120)의 두께는 0.05 내지 5 ㎛일 수 있으며, 바람직하게는 0.1 내지 2 ㎛일 수 있다. 상기 고굴절율층(120)의 두께가 0.05 ㎛ 미만인 경우, 굴절률의 차이로 인한 휘도 향상 효과를 나타내기 어려울 수 있으며, 5 ㎛를 초과하는 경우에는 투과도가 저하될 수 있다.
상기 고굴절율층(120)은 상기 투명 기재 필름(110)의 상면에 상기 고굴절율층 형성용 조성물을 코팅하여 형성할 수 있으며, 상기 코팅은 다이코터, 에어 나이프, 리버스 롤, 스프레이, 블레이드, 캐스팅, 그라비아, 마이크로 그라비아 또는 스핀 코팅 등의 당업계에 공지된 방법에 따라 도공(Coating Process)이 가능하다. 구체적으로는, 상기 고굴절율층 형성용 조성물을 상기 투명 기재 필름(110)의 일 면에 도포한 후, 30~150 ℃에서 10초~30분간, 바람직하게는 30초~10분 동안 휘발물을 증발시켜 건조하고, UV광을 조사하여 경화시킴으로써 고굴절율층(120)을 형성할 수 있다. 이 때, UV광의 조사량은 약 0.01~10 J/cm2, 바람직하게는 0.1~2 J/cm2 일 수 있다.
상기 프리즘층(130)은 상기 고굴절율층(120)의 상면에 형성되며, 상기 프리즘층(130)의 상면은 복수개의 프리즘 형상의 요철이 형성되어 있다. 상기 프리즘층은 본 발명의 휘도 강화 시트의 휘도를 상승시키는 역할을 한다.
상기 프리즘층(130)은 다관능 (메타)아크릴레이트, 단관능 (메타)아크릴레이트 및 광개시제를 포함하는 프리즘층 형성용 조성물로 형성될 수 있다.
상기 다관능 (메타)아크릴레이트는 프리즘층에 고굴절율을 부여하며, 표면 경도 또는 탄성을 향상시킨다.
상기 다관능 (메타)아크릴레이트 상기 화학식 1 로 표현될 수 있다. 상기 화학식 1 로 표현되는 다관능 (메타)아크릴레이트중에서 n+m이 6 이하인 화합물은 경도 향상에 도움을 줄 수 있으며, n+m이 6 이상인 화합물은 표면 탄성을 향상시킬 수 있다.
바람직하게는, 상기 다관능 (메타)아크릴레이트는 에폭시 (메타)아크릴레이트 또는 에틸렌/프로필렌 (메타)아크릴레이트일 수 있다. 상기 에폭시 (메타)아크릴레이트는 경화 후 표면 경도를 향상시키며 에틸렌/프로필렌 (메타)아크릴레이트는 부가 정도에 따라 표면 경도 또는 탄성을 향상시킬 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 다관능 (메타)아크릴레이트는 테트라브로모비스페놀 A 에폭시 (메타)아크릴레이트, 테트라브로모비스페놀 A 에틸렌/프로필렌옥사이드 (메타)아크릴레이트, 비스페놀 A 에폭시 (메타)아크릴레이트, 비스페놀 A 에틸렌프로필렌옥사이드 (메타)아크릴레이트, 티오비스페놀에폭시 (메타)아크릴레이트, 티오비스페놀에틸렌/프로필렌옥사이드 (메타)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 다관능 (메타)아크릴레이트는 프리즘층 형성용 조성물에 대해 0.01 내지 90 중량부로 포함될 수 있다. 상기 다관능 (메타)아크릴레이트가 0.01 중량 부 미만으로 포함되는 경우 고굴절율을 부여하려는 목적을 달성하기 어려울 수 있으며, 90 중량부를 초과하여 포함되는 경우 점도 상승으로 작업성에 문제가 있을 수 있다.
상기 단관능 (메타)아크릴레이트는 프리즘층 형성용 조성물의 굴절율을 향상시키면서도 점도가 너무 높지 않도록 점도를 낮춰주는 역할을 한다.
상기 단관능 (메타)아크릴레이트는 하기 화학식 2 로 표현될 수 있다:
[화학식 2]
Figure 112009064697612-PAT00005
상기 화학식 2 에서, X 는 산소 원자 또는 황 원자이고, R1 은 수소; 할로겐 원자; 수소, 할로겐 원자로 치환된 헤테로시클로알킬; 또는 탄소수 3 내지 10 의 단일 또는 적어도 이중의 축합고리이며, R2 는 CH2CH2, CH2CH(CH3) 또는 CH2CH(OH)CH2 이며, R3 는 수소 또는 메틸기이며, n 은 0 내지 10 의 정수이다.
상기 단관능 (메타)아크릴레이트는 바람직하게는 점도가 25 ℃ 에서 1 내지 3000 cps 인 저점도 (메타)아크릴레이트일 수 있다. 상기 점도 범위내에서 굴절율에 영향을 미치지 않으면서 프리즘층 형성용 조성물의 점도가 적정하여 작업성이 향상된다.
상기 단관능 (메타)아크릴레이트는 페놀계 물질에 에틸렌옥사이드가 부가된 형태나 에폭시 반응 후 (메타)아크릴레이트를 도입한 물질, 벤질 알코올계에 아크릴 관능기를 부여한 물질 등을 사용할 수 있다. 구체적으로, 페녹시에틸 (메타)아크릴레이트, 티오페녹시에틸 (메타)아크릴레이트, 메타-페닐페놀에틸 (메타)아크릴레이트, 벤질 (메타)아크릴레이트, 메타-페녹시벤질 (메타)아크릴레이트, 오르소-페닐페녹시에틸 (메타)아크릴레이트, 큐밀 (메타)아크릴레이트, 나프톨에틸 (메타)아크릴레이트, 바이페닐메탄올 (메타)아크릴레이트, 페놀에폭시 (메타)아크릴레이트 및 오르소-페닐페놀에폭시 (메타)아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 단관능 (메타)아크릴레이트의 굴절률은 바람직하게는 1.510 내지 1.590 일 수 있다. 상기 굴절률 범위내에서 굴절율 향상에 기여할 수 있으며, 결과적으로 고굴절율층과의 굴절율 차이를 만들어 휘도를 향상시킬 수 있다.
상기 단관능 (메타)아크릴레이트는 프리즘층 형성용 조성물에 대해 1 내지 80 중량부로 포함될 수 있다. 상기 단관능 (메타)아크릴레이트가 1 중량부 미만으로 포함되는 경우 점도 저하의 효과를 보기 어렵고, 80 중량부를 초과하여 포함되는 경우 점도가 낮아 작업성이 좋지 않을 수 있다.
상기 광개시제는 당업계에 공지된 것이 제한없이 사용될 수 있으며, 구체적으로는 벤젠 에테르계, 벤질 케탈계, 알파히드록시 알킬페논계, 아미노알킬 페논계 및 포스핀 옥사이드계 화합물로 이루어진 군에서 선택된 단독 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다. 보다 구체적으로는, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모폴린프로판온-1, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(모르폴리노페닐)-부탄온-1, 디페닐케톤벤질디메틸케탈, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-1-온, 4-히드록시시클로페닐케톤, 디메톡시-2-페닐아테토페논, 안트라퀴논, 플루오렌, 트리페닐아민, 카바졸, 3-메틸아세토페논, 4-크놀로아세토페논, 4,4-디메톡시아세토페논, 4,4-디아미노벤조페논, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐-포스핀옥사이드, 비스(2,9-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥사이드 및 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드 로 이루어진 군에서 선택된 단독 또는 이들의 혼합물을 사 용할 수 있다.
바람직하게는, 포스핀 옥사이드계 화합물에서 선택될 수 있으며, 보다 바람직하게는, 포스핀 옥사이드계 화합물과 벤젠 에테르계, 벤질 케탈계, 알파히드록시알킬 페논계 및 아미노알킬 페논계 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 이들의 혼합물을 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 광개시제는 프리즘층 형성용 조성물에 대하여 0.1 내지 10 중량부로 포함될 수 있다. 상기 광개시제의 함량이 0.1 중량부 미만으로 포함되는 경우 경화 속도가 늦고, 10 중량부를 초과하여 포함되는 경우 황변 현상이 심해질 수 있다.
상기 프리즘층 형성용 조성물에는 필요에 따라 상술한 성분들 이외에 당해 분야에서 일반적으로 사용되는 첨가제들이 추가로 포함될 수 있으며 예를 들어, 고분자형 몰드와의 이형성을 부여하기 위하여 실리콘 변형 또는 불소 변형 첨가제를 포함할 수 있다. 이러한 첨가제의 예로, 비와이케이 케미사의 BYK-323, BYK-331, BYK-333, BYK-337, BYK-373, BYK-375, BYK-377, BYK-378, 대구사의 TEGO Glide 410, TEGO Glide 411, TEGO Glide 415, TEGO Glide 420, TEGO Glide 432, TEGO Glide 435, TEGO Glide 440, TEGO Glide 450, TEGO Glide 455, TEGO Rad 2100, TEGO Rad 2200N, TEGO Rad 2250, TEGO Rad 2300, TEGO Rad 2500, 3M사의 FC-4430, FC-4432 등이 있다.
상기 프리즘층(130)의 상면은 프리즘 형상의 요철이 복수개 형성되어 있으 며, 하면은 상기 고굴절율층(120)과 접해 있다.
상기 프리즘층(130)은 1 내지 200 ㎛, 바람직하게는 10 내지 100 ㎛, 보다 바람직하게는 20 내지 50 ㎛로 형성될 수 있다. 1 ㎛ 미만의 두께로 형성되는 경우 휘도를 증가시키려는 본 발명의 목적을 달성하기 어려울 수 있으며, 200 ㎛를 초과하는 경우 투과도가 낮아져 휘도가 감소할 수 있다.
상기 프리즘층(130)은 상기에서 설명한 프리즘층 형성용 조성물을 상기 고굴절율층(120)의 상면에 도포하고 그라비아, 롤, 나이프 코팅 등의 당업계에 공지된 코팅 방식을 적용하여 코팅할 수 있다. 코팅 후에는 광을 조사하여 경화시킨다. 상기 경화를 위한 UV 광의 조사량은 약 0.1∼2 J/㎠이고, 바람직하게는 0.4∼0.8 J/㎠ 이다. 상기 경화는 365 nm의 파장을 주 파장으로 하는 메탈 할라이드 계열의 램프를 사용하여 실시하는 것이 바람직하다.
본 발명은 또한, 상기 휘도 강화 시트를 구비한 백라이트 유닛을 제공한다. 상기 백라이트 유닛의 구조는 제한되지 않으며 본 기술분야에서 알려진 구조를 채용할 수 있다. 일례로, CCFL, LED 등의 광원, 광원의 광을 도광시키는 도광판, 확산시트, 휘도 강화 시트 등을 구비할 수 있다.
본 발명은 또한, 상기 백라이트 유닛을 구비한 액정 디스플레이 장치를 제공한다. 상기 액정 디스플레이 장치는 본 발명의 휘도 강화 시트를 포함하는 백라이 트 유닛을 구비하여 효율이 증가할 수 있다.
상기 액정 디스플레이 장치 역시 그 구조에 제한이 없으며, 본 기술분야에서 알려진 구조를 채용할 수 있다.
본 발명은 하기의 실시예에 의하여 보다 구체화될 것이며, 하기 실시예는 본 발명의 구체적인 예시에 불과하며, 본 발명의 보호범위를 한정하거나 제한하고자 하는 것은 아니다.
< 제조예 1 내지 5> 고굴절율층 형성용 조성물의 제조
하기 표 1 에 나타난 조성으로 이들을 혼합 교반하여 고굴절율층 형성용 조성물을 제조하였다. 하기 표 1 의 단위는 중량부이다.
성 분 1 2 3 4 5
티오비스페놀에폭시아크릴레이트
(ESPT-01, 신아티엔씨)		 25 35 35 35 15
펜타에리스리톨트리아크릴레이트
(M340, 미원상사)		 5 5 5 5 5
티타니아
(입경 5 nm, 20% in MIBK, 촉매화성)		 50 - - - -
지르코니아
(입경 5~10 nm, 20% in MIBK, 촉매화성)		 - 40 - - -
안티몬산화주석
(입경 15 nm, 20% in MEC, 에스켐텍)		 - - 40 - -
인듐산화주석
(입경 20 nm, 20% in IPA, 에보니트데구사)		 - - - 40 -
산화안티몬
(입경 10 nm, 20% in MIBK, 촉매화성)		 - - - - 60
1-히드록시시클로헥실페닐케톤
(Igaqure 184, BASF)		 3 3 3 3 3
메틸에틸케톤 16.6 16.6 16.6 16.6 16.6
실리콘 첨가제
(BYK 333, 비와이케이케미)		 0.4 0.4 0.4 0.4 0.4
굴절율 1.86 1.80 1.69 1.70 1.60
< 제조예 6 내지 8> 프리즘층 형성용 조성물의 제조
하기 표 2 에 나타난 조성으로 이들을 혼합 교반하여 프리즘층 형성용 조성물을 제조하였다. 하기 표 2 의 단위는 중량부이다.
성 분 6 7 8
티오비스페놀에폭시아크릴레이트
(ESPT-01, 신아티엔씨)		 60 - -
비스페놀 A 에폭시아크릴레이트
(EB600, SK Cytech)		 - 64 24
티올에틸페녹시아크릴레이트 34 - -
페녹시에틸아크릴레이트 - 30 30
티타니아
(5~10 nm, 석원산업)		 - - 40
1-히드록시시클로헥실페닐케톤
(Igaqure 184, BASF)		 4 4 4
2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐-포스핀옥사이드 2 2 2
굴절율 1.56 1.54 1.54
<실시예 1 내지 10 및 비교예 1 내지 2> 휘도 강화 시트의 제조
하기 표 3 과 같이 상기 제조예에서 제조한 고굴절율층 형성용 조성물과 프리즘층 형성용 조성물로 다음의 방법으로 고굴절율층과 프리즘층을 형성하여 휘도 강화 시트를 제조하였다.
고굴절율층 형성용 조성물을 투명 PET 필름(필름 두께 180 ㎛) 상에 그라비어 코팅하고 80 ℃에서 2 분간 건조 한 후, 0.5 J/㎠으로 자외선을 조사, 경화시켜 0.5 ㎛의 고굴절율층을 형성하였다. 이어서, 도 2 에 도시된 바와 같이 수지 투입구(40)에 프리즘층 형성용 조성물을 공급하고 이를 기재 필름 롤(10)로부터 공급되는 고굴절율층을 갖는 PET 필름의 일측면에 25 ㎛의 두께로 도포하면서, 프리즘 패턴 형상의 마스터 몰드(30)를 이용하여 수지층에 프리즘 패턴을 전사하였다. 동시에 1 J/㎠의 광량의 메탈 할라이드 램프(UV 조사기:20)를 조사하여 상기 수지층을 경화시켜 휘도 강화 시트를 제조하였다.
고굴절율층 형성용 조성물 프리즘층 형성용 조성물
실시예 1 제조예 1 제조예 6
실시예 2 제조예 2 제조예 6
실시예 3 제조예 3 제조예 6
실시예 4 제조예 4 제조예 6
실시예 5 제조예 5 제조예 6
실시예 6 제조예 1 제조예 7
실시예 7 제조예 2 제조예 7
실시예 8 제조예 3 제조예 7
실시예 9 제조예 4 제조예 7
실시예 10 제조예 5 제조예 7
비교예 1 - 제조예 6
비교예 2 - 제조예 7
비교예 3 - 제조예 8
< 실험예 1> 휘도 평가
17인치 패널용 백라이트 유닛(LM170E01, 희성전자)에 상기 실시예 및 비교예에서 제조된 휘도 강화 시트를 크기에 맞게 자른 후 장착하고 휘도계(BM7, 탑콘사)를 이용하여 13개의 지점의 휘도를 측정하여 평균값을 구하였다. 그 결과는 하기 표 4 와 같다.
< 실험예 2> 산갈림 현상
17인치 패널용 백라이트 유닛(LM170E01, 희성전자)에 상기에서 제조된 휘도 강화 시트를 크기에 맞게 자른 후 장착하고, 상기 백라이트 유닛을 분 당 60회의 왕복운동을 하는 장치에 장착하고 10시간 동안 왕복운동을 하여 산갈림 현상이 1cm 이상인 부분이 10곳 이상이면 매우 불량, 7∼9곳이면 불량, 4∼6곳이면 보통, 1∼3곳이면 양호, 없으면 매우 양호로 구분하여 표기하였다. 그 결과는 하기 표 4 와 같다.
< 실험예 3> 투과선명도
상기 실시예 및 비교예에서 형성된 휘도 강화 시트의 투과선명도를 다음과 같은 기준으로 시각 평가하였다. 그 결과는 하기 표 4 와 같다.
○: 양호, Δ: 보통, ×: 불량
< 실험예 4> 밀착성 평가
상기 실시예 및 비교예에서 제조된 휘도 강화 시트를 대상으로 다음과 같은 방법으로 각 층간의 밀착성을 측정하여 그 결과를 하기 표 4 에 나타내었다.
필름의 도포된 면에 1 mm 간격으로 가로 세로 각각 11개의 직선을 그어 100개의 정사각형을 만든 후, 테이프(CT-24, 일본 니치방 사제)을 이용하여 3회 박리 테스트를 진행하였다. 100개의 사각형 3개를 테스트하여 다음과 같이 밀착성을 계산하여 평균치를 기록하였다.
밀착성 = n / 100
n: 전체 사각형 중 박리되지 않는 사각형 수
100: 전체 사각형의 개수
따라서 하나도 박리되지 않았을 시 100 / 100으로 기록하였다.
휘도
(cd/㎡)		 밀착성 투과선명도 산갈림현상
실시예1 4859 100/100 ○ 매우양호
실시예2 4832 100/100 ○ 매우양호
실시예3 4846 100/100 ○ 매우양호
실시예4 4825 100/100 ○ 매우양호
실시예5 4834 100/100 ○ 매우양호
실시예6 4117 100/100 ○ 매우양호
실시예7 4118 100/100 ○ 매우양호
실시예8 4117 100/100 ○ 매우양호
실시예9 4120 100/100 ○ 매우양호
실시예10 4710 100/100 ○ 매우양호
비교예 1 2758 95/100 Δ 매우양호
비교예 2 2658 95/100 Δ 매우양호
비교예 3 4002 30/100 × 매우불량
상기 표 4 에서 확인할 수 있는 바와 같이, 본 발명에 따라 고굴절율층과 프리즘층을 함께 갖는 실시예의 경우 고굴절율층을 포함하지 않는 비교예에 비하여 우수한 휘도와 투과도를 보여주고 있으며, 전반적으로 우수한 물성을 나타내고 있다.
도 1 은 본 발명의 일 실시예에 의한 휘도 강화 시트를 나타낸 것이다.
도 2 는 본 발명의 휘도 강화 시트의 제조공정을 도시한 것이다.

Claims (14)

  1. 투명 기재 필름;
    상기 투명 기재 필름의 상면에 형성된 고굴절율층; 및
    상기 고굴절율층의 상면에 형성되고, 상면에 복수개의 프리즘 형상의 요철이 형성된 프리즘층을 포함하는 것을 특징으로 하는 휘도 강화 시트.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 고굴절율층이 자외선 경화형 (메타)아크릴레이트, 금속산화물, 광개시제 및 용제를 포함하는 고굴절율층 형성용 조성물로 형성된 것을 특징으로 하는 휘도 강화 시트.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 자외선 경화형 (메타)아크릴레이트가 하기 화학식 1 로 표현되는 것을 특징으로 하는 휘도 강화 시트:
    [화학식 1]
    Figure 112009064697612-PAT00006
    (상기 화학식 1 에서,
    R1 은 CH2, C(CH3)2, CH(CH3), CH(C2H5), C(C6H5)2, 황, 설폭시 또는 산소이고,
    R2 및 R5 는 CH2CH2, CH2CH(CH3) 또는 CH2CH(OH)CH2 이고,
    R3 는 수소; 할로겐 원자; 수소, 할로겐 원자로 치환된 헤테로시클로알킬; 또는 탄소수 3 내지 10 의 단일 또는 적어도 이중의 축합고리이고,
    R4 는 수소 또는 메틸기이고,
    X 는 산소 원자 또는 황 원자이고,
    n 및 m 은 독립적으로 0 내지 20 의 정수이나, 적어도 하나는 0 이 아니다)
  4. 청구항 2에 있어서,
    상기 금속산화물이 지르코니아, 티타니아, 산화안티몬, 알루미나, 산화주석, 안티몬산화주석 및 인듐산화주석으로 이루어진 군으로부터 선택된 단독 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 휘도 강화 시트.
  5. 청구항 2에 있어서,
    상기 금속산화물의 입경이 1 내지 100 nm 인 것을 특징으로 하는 휘도 강화 시트.
  6. 청구항 2에 있어서,
    상기 고굴절율층 형성용 조성물이 (메타)아크릴레이트를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 휘도 강화 시트.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 고굴절율층의 굴절율이 25 ℃에서 1.6 내지 2.3 인 것을 특징으로 하는 휘도 강화 시트.
  8. 청구항 1에 있어서,
    상기 고굴절율층의 두께가 0.05 내지 5 ㎛인 것을 특징으로 하는 휘도 강화 시트.
  9. 청구항 1에 있어서,
    상기 프리즘층이 하기 화학식 1 로 표현되는 다관능 (메타)아크릴레이트; 하기 화학식 2 로 표현되는 단관능 (메타)아크릴레이트; 및 광개시제를 포함하는 프리즘층 형성용 조성물로 형성되는 것을 특징으로 하는 휘도 강화 시트:
    [화학식 1]
    Figure 112009064697612-PAT00007
    (상기 화학식 1 에서,
    R1 은 CH2, C(CH3)2, CH(CH3), CH(C2H5), C(C6H5)2, 황, 설폭시 또는 산소이고,
    R2 및 R5 는 CH2CH2, CH2CH(CH3) 또는 CH2CH(OH)CH2 이고,
    R3 는 수소; 할로겐 원자; 수소, 할로겐 원자로 치환된 헤테로시클로알킬; 또는 탄소수 3 내지 10 의 단일 또는 적어도 이중의 축합고리이고,
    R4 는 수소 또는 메틸기이고,
    X 는 산소 원자 또는 황 원자이고,
    n 및 m 은 독립적으로 0 내지 20 의 정수이나 적어도 하나는 0 이 아니다)
    [화학식 2]
    Figure 112009064697612-PAT00008
    (상기 화학식 2 에서,
    X 는 산소 원자 또는 황 원자이고,
    R1 은 수소; 할로겐 원자; 수소, 할로겐 원자로 치환된 헤테로시클로알킬; 또는 탄소수 3 내지 10 의 단일 또는 적어도 이중의 축합고리이고,
    R2 는 CH2CH2, CH2CH(CH3) 또는 CH2CH(OH)CH2 이고,
    R3 는 수소 또는 메틸기이고,
    n 은 0 내지 10 의 정수이다)
  10. 청구항 9에 있어서,
    상기 다관능 (메타)아크릴레이트는 프리즘층 형성용 조성물에 대하여 0.01 내지 90 중량부로 포함되는 것을 특징으로 하는 휘도 강화 시트.
  11. 청구항 9에 있어서,
    상기 단관능 (메타)아크릴레이트는 25 ℃에서 점도가 1 내지 3000 cps 인 것을 특징으로 하는 휘도 강화 시트.
  12. 청구항 9에 있어서,
    상기 단관능 (메타)아크릴레이트가 프리즘층 형성용 조성물에 대하여 1 내지 80 중량부로 포함되는 것을 특징으로 하는 휘도 강화 시트.
  13. 청구항 1 내지 12 중 어느 한 항의 휘도 강화 시트를 포함하는 것을 특징으로 하는 백라이트 유닛.
  14. 청구항 13의 백라이트 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 디스플레이 장치.
KR1020090100603A 2009-10-22 2009-10-22 휘도 강화 시트, 이를 포함하는 백라이트 유닛 및 액정 디스플레이 장치 KR20110043881A (ko)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN102778776A (zh) * 2011-05-13 2012-11-14 苏州汉朗光电有限公司 光学镀膜型近晶相液晶显示器
US11422401B2 (en) * 2019-02-26 2022-08-23 Lintec Corporation Light diffusion film comprising an indentation elastic modulus of 30 MPa or more at 23 degrees Celsius throughout an entirety of the light diffusion film

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102778776A (zh) * 2011-05-13 2012-11-14 苏州汉朗光电有限公司 光学镀膜型近晶相液晶显示器
CN102778776B (zh) * 2011-05-13 2014-12-17 苏州汉朗光电有限公司 光学镀膜型近晶相液晶显示器
US11422401B2 (en) * 2019-02-26 2022-08-23 Lintec Corporation Light diffusion film comprising an indentation elastic modulus of 30 MPa or more at 23 degrees Celsius throughout an entirety of the light diffusion film

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