KR20110025980A - 치환된 비페닐의 제조 방법 - Google Patents

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KR20110025980A
KR20110025980A KR1020117001740A KR20117001740A KR20110025980A KR 20110025980 A KR20110025980 A KR 20110025980A KR 1020117001740 A KR1020117001740 A KR 1020117001740A KR 20117001740 A KR20117001740 A KR 20117001740A KR 20110025980 A KR20110025980 A KR 20110025980A
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폴커 메이발트
세바스티안 피어 스미트
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요아힘 슈미트-라이토프
안스가르 게레온 알텐호프
미하엘 카일
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바스프 에스이
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    • C07C201/06—Preparation of nitro compounds
    • C07C201/12—Preparation of nitro compounds by reactions not involving the formation of nitro groups

Abstract

본 발명은 팔라듐 및 하기 화학식 III의 두자리 인 리간드로 이루어진 팔라듐 촉매 및 염기의 존재 하에 용매 또는 희석제 중에서 하기 화학식 II의 할로벤젠을 하기 화학식 IVa의 페닐보론산, 하기 화학식 IVb의 디페닐보린산, 또는 하기 화학식 IVa의 페닐보론산과 하기 화학식 IVb의 디페닐보린산의 혼합물과 반응시키는 것을 특징으로 하는, 하기 화학식 I의 치환된 비페닐의 제조 방법에 관한 것이다.
<화학식 I>
Figure pct00016

<화학식 II>
Figure pct00017

<화학식 III>
Figure pct00018

<화학식 IVa>
Figure pct00019

<화학식 IVb>
Figure pct00020

상기 식 중, R1은 니트로 또는 아미노이고, R2은 시아노, 할라이드, C1-C4 알킬 할라이드, C1-C4 알콕시 할라이드 또는 C1-C4 알킬티오 할라이드이고, n은 0 내지 3이며, R3은 수소, 시아노 또는 할라이드이고, Hal은 염소 또는 브롬이고, Ar은 임의로 치환된 페닐이고, R4 및 R5는 각각 C1-C8 알킬 또는 C3-C6 시클로알킬이거나 또는 R4 및 R5는 함께, 임의로 C1-C6 알킬 치환기를 함유할 수 있는 2원 내지 7원의 가교를 형성한다.

Description

치환된 비페닐의 제조 방법{Method for Producing Substituted Biphenyls}
본 발명은 팔라듐 및 하기 화학식 III의 두자리 인 리간드로 이루어진 팔라듐 촉매 및 염기의 존재 하에 용매 또는 희석제 중에서 하기 화학식 II의 할로벤젠을 하기 화학식 IVa의 페닐보론산, 하기 화학식 IVb의 디페닐보린산, 또는 하기 화학식 IVa의 페닐보론산과 하기 화학식 IVb의 디페닐보린산의 혼합물과 반응시키는 것을 포함하는, 하기 화학식 I의 치환된 비페닐의 제조 방법에 관한 것이다.
<화학식 I>
Figure pct00001
상기 식 중,
R1은 니트로 또는 아미노이고,
R2은 시아노, 할로겐, C1-C4-할로알킬, C1-C4-할로알콕시 또는 C1-C4-할로알킬티오이고,
n은 0, 1, 2 또는 3이며, n이 2 또는 3인 경우에는 R2 라디칼은 동일하거나 상이할 수 있고,
R3은 수소, 시아노 또는 할로겐이다.
<화학식 II>
Figure pct00002
상기 식 중,
Hal은 염소 또는 브롬이고,
R1 및 R3은 각각 상기에서 정의한 바와 같다.
<화학식 III>
Figure pct00003
상기 식 중,
Ar은 메틸, 메톡시, 불소 및 염소로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 내지 3개의 치환기를 함유할 수 있는 페닐이고,
R4 및 R5는 각각 C1-C8-알킬 또는 C3-C6-시클로알킬이거나 또는 R4 및 R5는 함께, 목적하는 경우 C1-C6-알킬 치환기를 함유할 수 있는 2원 내지 7원의 가교를 형성한다.
<화학식 IVa>
Figure pct00004
<화학식 IVb>
Figure pct00005
상기 식 중,
R2 및 n은 각각 상기에서 정의한 바와 같다.
클로로방향족과 방향족 보론산 및 보린산의 팔라듐-촉매화 커플링은 그 자체로 공지되어 있다. 예를 들어, 상응하게 치환된 니트로비페닐을 생성하는 2-니트로클로로벤젠과 할로겐-치환 방향족 보론산의 커플링은 WO 97/33846호에 기재되어 있다. 트리페닐포스핀이 이러한 커플링 반응에서 팔라듐을 위한 리간드로서 가장 일반적으로 사용된다. 그러나, 리간드로서의 트리페닐포스핀의 사용은 커플링 대응물로서 사용되는 방향족 보론산 및 보린산이 크게 양성자탈보론화 (protodeboronation)되고 본 위치에서 치환되지 않은 방향족 화합물이 목적하지 않는 부산물로서 형성되는 위험이 있다. 이는 선택성 및 수율을 향상시키기 위해 트리페닐포스핀을 팔라듐 공급원에 대해 상당한 몰 과량으로 사용할 경우 또한 그러하다.
본 발명자들은 클로로방향족과 할로겐-치환 방향족 보론산 및 보린산의 팔라듐-촉매화 반응에서 두자리 1,3-비스(디페닐포스피닐)프로판 (dppp) 리간드를 사용하는 경우 트리페닐포스핀을 사용하는 경우보다 매우 열악한 수율로 진행된다는 것을 발견하였다 (실시예 2a에 대해 비교한 실시예 2b 참조). 그러나, 알킬 사슬에서의 추가 치환기에 의해 약간 변형된 두자리 리간드, 예를 들어 1,3-비스(디페닐포스피닐)-2,2-디메틸프로판 또는 1,3-비스(디페닐포스피닐)-2-에틸-2-부틸프로판을 사용할 경우, 목적하는 커플링 생성물이 놀랍게도 매우 양호한 수율로 그리고 동시에 단지 매우 낮은 수준의 하기 화학식의 양성자탈보론화 부산물과 함께 획득된다.
Figure pct00006
바로 상기에 언급한 리간드를 사용할 경우 팔라듐 공급원의 필요한 양 및 리간드의 필요한 양이 트리페닐포스핀을 사용한 방법에 비해 상당히 감소될 수 있다는 추가 이점이 있다. 사용되는 팔라듐 화합물은 일반적으로 매우 고가이기 때문에, 팔라듐의 사용을 감소시키는 이러한 수단은 경제적으로 매우 가치가 있다.
현재까지의 문헌에는 커플링 반응에서의 두자리 비스포스핀 리간드의 사용에 대해 단지 드물게 보고되어 있다. WO 98/16486호에는 단순한 클로로방향족의 반응에서의 친유성 지방족 비스포스핀의 사용이 보고되어 있으나, 실시예에 의한 증명이 없다.
DE-A 4340490호에는 커플링 반응에서의 1,2-비스(디시클로헥실포스피닐)에탄 및 1,2-비스(디에틸포스피닐)에탄의 사용이 교시되어 있다. 여기서, 전자 풍부 클로로방향족에 대해선 양호한 결과가 달성되었으나, 불소 또는 트리플루오로메틸과 같은 전자 끌기 치환기 (electron-withdrawing substituent)를 함유하는 방향족에 대해선 그러하지 못하였다.
그러나, 완전히 지방족으로 치환된 포스핀의 사용은 일반적으로 매우 제한되는데, 이는 이러한 포스핀은 공기에 매우 민감하고 일부는 자연성 (pyrophoric)이기 때문이다.
이에 따라, 본 발명의 목적은 산업적 규모로 공업적으로 수행할 수 있고 감소된 팔라듐 촉매 농도로 작업하며 경제적으로 실행가능한, 치환된 비페닐의 위치선택적 제조를 위한 방법을 제공하는 것이다.
서두에 정의된 방법은 상세하게 기술한 상기 종래 기술의 단점을 극복한다.
본 발명의 방법에 의해 제조된 치환된 비페닐 (I)은 바람직하게는 다음과 같은 치환기를 갖는다.
R1은 니트로 또는 아미노, 보다 바람직하게는 니트로이고,
R2은 시아노, 불소, 염소, 브롬, 트리플루오로메틸, 트리플루오로메톡시 또는 트리플루오로메틸티오, 보다 바람직하게는 불소, 염소 또는 트리플루오로메틸티오, 가장 바람직하게는 불소 또는 염소이고,
n은 2 또는 3, 보다 바람직하게는 3이고,
R3은 수소 또는 할로겐, 특히 수소 또는 불소이다.
3,4,5-트리플루오로-2'-니트로비페닐의 제조가 매우 특히 바람직하다.
이어지는 균질 촉매화 스즈끼 비아릴 교차-커플링은 바람직하게는 아래 반응식에 따라 수행한다.
Figure pct00007
출발 물질은 바람직하게는 R2 및 n이 각각 상기에서 정의한 바와 같은 화학식 IVa의 페닐보론산 또는 화학식 IVb의 디페닐보린산 또는 이들의 혼합물이다.
출발 물질로서 3,4,5-트리플루오로페닐보론산 및 디(3,4,5-트리플루오로페닐)보린산 (IVa 및 IVb)이 매우 특히 바람직하다.
하나의 니트로기 또는 아미노기를 함유하는 화합물 (II), 특히 2-니트로클로로벤젠 또는 2-아미노클로로벤젠 또는 2-아미노브로모벤젠으로부터 진행하는 것이 바람직하다.
페닐보론산 (IVa) 또는 디페닐보린산 (IVb)에 대해 화합물 (II)은 통상적으로 대략 등몰량, 바람직하게는 최대 약 30 몰% 과량으로 사용한다. 몰비 및 과량의 계산시, 순수 형태로 또는 IVa와의 혼합물로 사용되는 디페닐보린산 (IVb)는 2개의 페닐 라디칼을 전가할 수 있음을 고려하여야 한다.
사용되는 염기는 바람직하게는 혼합물로서의 및 특히 개개의 알칼리 금속 수산화물, 알칼리 토금속 수산화물, 알칼리 금속 탄산염, 알칼리 토금속 탄산염, 알칼리 금속 중탄산염, 알칼리 금속 아세트산염, 알칼리 토금속 아세트산염, 알칼리 금속 알콕사이드 및 알칼리 토금속 알콕사이드이다.
특히 바람직한 염기는 알칼리 금속 수산화물, 알칼리 토금속 수산화물, 알칼리 금속 탄산염, 알칼리 토금속 탄산염 및 알칼리 금속 중탄산염이다.
특별히 바람직한 염기는 알칼리 금속 수산화물, 예를 들어 수산화나트륨, 수산화칼륨 및 수산화리튬, 및 또한 알칼리 금속 탄산염 및 알칼리 금속 중탄산염, 예를 들어 탄산리튬, 탄산나트륨 및 탄산칼륨이다.
그러나, 사용되는 염기는 또한 유기 염기, 예를 들어 3차 아민일 수 있다. 예를 들어, 트리에틸아민 또는 디메틸시클로헥실아민을 사용하는 것이 바람직하다.
염기는 페닐보론산 (IVa) 또는 디페닐보린산 (IVb)을 기준으로 바람직하게는 100 내지 500 몰%, 보다 바람직하게는 150 내지 400 몰%의 비율로 사용한다.
적합한 팔라듐 공급원은 예를 들면 팔라듐(II) 염, 예를 들어 염화팔라듐(II) 또는 아세트산팔라듐(II) 또는 이들의 수용액, 및 또한 염화비스아세토니트릴팔라듐(II) 또는 Pd가 0의 산화 상태인 팔라듐 착체이다.
염화팔라듐(II)을 사용하는 것이 특히 바람직하다.
알킬 사슬에서 치환된 적합한 두자리 인 리간드 및 그의 제법은 선행 출원 EP 08154184.9호에 공지되어 있다. 페닐 고리가 치환되지 않은 1,3-비스(디페닐포스피닐)프로판 (III), 특히 R4가 C1-C6-알킬, 예를 들어 메틸, 에틸, 1-메틸에틸, n-부틸, 1-메틸프로필, 2-메틸프로필, n-펜틸, 1-메틸부틸, 2-메틸부틸, 3-메틸부틸, n-헥실, 1-메틸펜틸, 2-메틸펜틸, 3-메틸펜틸 및 4-메틸펜틸, 또는 시클로프로필이고, R5가 C1-C6-알킬, 예를 들어 메틸, 에틸, 1-메틸에틸, n-부틸, 1-메틸프로필, 2-메틸프로필, n-펜틸, 1-메틸부틸, 2-메틸부틸, 3-메틸부틸, n-헥실, 1-메틸펜틸, 2-메틸펜틸, 3-메틸펜틸 및 4-메틸펜틸이거나 R4 및 R5가 함께 에탄-1,2-디일, 프로판-1,3-디일, 부탄-1,4-디일 또는 펜탄-1,5-디일 사슬인 상기 1,3-비스(디페닐포스피닐)프로판 (III)이 바람직하다.
특히 바람직한 인 리간드 (III)는 1,3-비스(디페닐포스피닐)-2-메틸프로판, 1,3-비스(디페닐포스피닐)-2,2-디메틸프로판, 1,3-비스(디페닐포스피닐)-2-메틸-2-에틸프로판, 1,3-비스(디페닐포스피닐)-2,2-디에틸프로판, 1,3-비스(디페닐포스피닐)-2-메틸-2-프로필프로판, 1,3-비스(디페닐포스피닐)-2-에틸-2-프로필프로판, 1,3-비스(디페닐포스피닐)-2,2-디프로필프로판, 1,3-비스(디페닐포스피닐)-2-메틸-2-부틸프로판, 1,3-비스(디페닐포스피닐)-2-에틸-2-부틸프로판, 1,3-비스(디페닐포스피닐)-2-프로필-2-부틸프로판, 1,3-비스(디페닐포스피닐)-2,2-디부틸프로판, 1,3-비스(디페닐포스피닐)-2-메틸-2-시클로프로필프로판, 1,3-비스(디페닐포스피닐)-2-메틸-2-시클로부틸프로판, 1,3-비스(디페닐포스피닐)-2-메틸-2-시클로펜틸프로판, 1,3-비스(디페닐포스피닐)-2-메틸-2-시클로헥실프로판, 1,1-비스(디페닐포스피닐)시클로프로판, 1,1-비스(디페닐포스피닐)시클로부탄, 1,1-비스(디페닐포스피닐)시클로펜탄, 1,1-비스(디페닐포스피닐)시클로헥산, 특히 1,3-비스(디페닐포스피닐)-2,2-디메틸프로판 및 1,3-비스(디페닐포스피닐)-2-에틸-2-부틸프로판이다.
착체 리간드의 반응성은 테트라-n-부틸암모늄 브로마이드 (TBAB)와 같은 4차 암모늄 염을 첨가함으로써 증진시킬 수 있다 (예를 들어, 문헌 [D.　Zim et al., Tetrahedron Lett. 2000, 41, 8199] 참조).
일반적으로, 0.5 내지 5 몰 당량의 상기한 착체 리간드, 특히 1,3-비스(디페닐포스피닐)-2,2-디메틸프로판 및 1,3-비스(디페닐포스피닐)-2-에틸-2-부틸프로판을 1당량의 팔라듐(II) 염과 배합한다. 팔라듐(II) 염을 기준으로 1당량의 착체 리간드를 사용하는 것이 특히 바람직하다.
팔라듐 공급원은 본 발명에 따른 방법에서 화합물 (IVa) 또는 (IVb)을 기준으로 0.001 내지 5.0 몰%, 바람직하게는 0.1 내지 1.0 몰%, 특히 0.1 내지 0.5 몰%의 낮은 비율로 사용한다.
본 발명에 따른 방법에 적합한 유기 용매는 각 경우 개개의 또는 혼합물로서의 에테르, 예를 들어 디메톡시에탄, 디에틸렌 글리콜 디메틸 에테르, 테트라히드로푸란, 2-메틸테트라히드로푸란, 3-메틸테트라히드로푸란, 디옥산, tert-부틸 메틸 에테르 및 tert-부틸 에틸 에테르, 탄화수소, 예를 들어 n-헥산, n-헵탄, 헵탄 이성질체 혼합물, 시클로헥산, 석유 에테르, 벤젠, 톨루엔 및 크실렌, 알코올, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 2-프로판올, 에틸렌 글리콜, 1-부탄올, 2-부탄올 및 tert-부탄올, 케톤, 예를 들어 아세톤, 에틸 메틸 케톤 및 이소부틸 메틸 케톤, 아미드, 예를 들어 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드 및 N-메틸피롤리돈, 및 디메틸 술폭사이드이다.
바람직한 용매는 각 경우 개개의 또는 혼합물로서의 에테르, 예를 들어 디메톡시에탄, 테트라히드로푸란, 2-메틸테트라히드로푸란, 3-메틸테트라히드로푸란 및 디옥산, 탄화수소, 예를 들어 시클로헥산, 톨루엔 및 크실렌, 알코올, 예를 들어 에탄올, 1-프로판올, 2-프로판올, 1-부탄올 및 tert-부탄올이다.
특히 바람직한 변형에서, 본 발명에 따른 방법에서, 물, 1종 이상의 수불용성 용매 및 1종 이상의 수용성 용매를 사용하며, 예를 들면 물 및 디옥산의 혼합물, 또는 물 및 테트라히드로푸란의 혼합물, 또는 물, 디옥산 및 에탄올의 혼합물, 또는 물, 테트라히드로푸란 및 메탄올의 혼합물, 또는 물, 톨루엔 및 테트라히드로푸란의 혼합물, 바람직하게는 물 및 테트라히드로푸란의 혼합물, 또는 물, 테트라히드로푸란 및 메탄올의 혼합물을 사용한다. 물 및 테트라히드로푸란 중에서 반응을 수행하는 것이 바람직하다.
용매의 총 양은 일반적으로 화합물 (II) 1몰 당 3000 내지 100 g, 바람직하게는 2000 내지 150 g이다.
적절하게는, 방법을 수행하기 위해, 화합물 (II), 페닐보론산 (IVa) 또는 디페닐보린산 (IVb) 또는 페닐보론산 (IVa)과 디페닐보린산 (IVb)의 혼합물, 염기 및 촉매량의 팔라듐 공급원을 물 및 1종 이상의 불활성 유기 용매의 혼합물에 첨가하고, 1 내지 50시간, 바람직하게는 2 내지 24시간 동안 50℃ 내지 140℃, 바람직하게는 70℃ 내지 110℃, 보다 바람직하게는 90℃ 내지 110℃의 온도에서 교반한다.
사용되는 용매 및 온도에 따라, 1 bar 내지 6 bar 또는 바람직하게는 1 bar 내지 4 bar의 압력이 설정된다.
이러한 방법에 적합한 전형적인 장치에서 수행할 수 있다.
반응이 완료된 후, 고체 형태로 수득되는 팔라듐 촉매를 예를 들어 여과로 제거할 수 있고, 조 생성물에서 용매 또는 용매들을 제거할 수 있다.
이어서, 당업자에게 공지되어 있고 특정 생성물에 대해 적절한 방법으로, 예를 들어 재결정화, 증류, 승화, 대역 용융, 용융 결정화 또는 크로마토그래피로 추가로 정제할 수 있다.
본 발명에 따른 방법에 의해 화합물 (I)이 매우 양호한 순도와 함께 최대 정량적인 수율까지의 매우 높은 수율로 수득된다.
할로벤젠 (II)은 공지되어 있거나 그 자체로 공지된 방법에 의해 제조될 수 있다. 페닐보론산 (IVa) 및 디페닐보린산 (IVb)도 마찬가지로 공지되어 있거나 또는 그 자체로 공지되어 있는 방식으로 제조할 수 있다 (예를 들어 WO 2006/092429호 참조).
본 발명에 따른 방법에 의해 수득할 수 있는, R1이 니트로인 치환된 비페닐 (I) (비페닐 (Ia)), 예를 들어 3,4-디플루오로-2'-니트로비페닐, 2,4-디클로로-2'-니트로비페닐, 3,4-디클로로-2'-니트로비페닐 및 3,4,5-트리플루오로-2'-니트로비페닐을 수소화에 의해 그 자체로 공지된 방식으로 R1이 아미노인 상응하게 치환된 비페닐 (I) (비페닐 (Ib))로 전환할 수 있다. 또한, 치환된 비페닐 (Ib)는 곡물 보호 활성 성분, 예를 들어 하기 화학식 V의 살진균 활성 피라졸카르복스아미드를 위한 중요한 중간체이다 (예를 들어, EP-A 589301호 또는 WO 2006/087343호 참조).
<화학식 V>
Figure pct00008
상기 식 중,
R6은 메틸, 또는 디플루오로메틸 또는 트리플루오로메틸과 같은 할로메틸이다.
제조 실시예: 3,4,5-트리플루오로-2'-니트로비페닐의 합성
a) 3,4,5-트리플루오로페닐보론산의 제조
질소 또는 아르곤으로 불활성화시킨 반응기에 83.2 g (3.42 몰)의 마그네슘 부스러기 (turning)를 먼저 충전한 후 안정화제가 없는 1646.2 g의 건조 테트라히드로푸란을 첨가하였다. 30 g (0.14 몰)의 3,4,5-트리플루오로브로모벤젠을 교반과 함께 25℃에서 적가하고, 그리나드 (Grignard) 반응의 개시를 기다렸다. 대략 32℃로의 자발적인 온도 증가에 의해 그리나드 반응의 개시를 인지할 수 있었다. 이어서, 571.9 g (2.71 몰)의 추가의 3,4,5-트리플루오로브로모벤젠을 5시간 이내에 25 내지 35℃에서 계량 첨가하였다. 반응을 완결시키기 위하여, 혼합물을 추가로 2시간 동안 25 내지 30℃에서 교반하였다. 제2의 반응기에 328.0 g (3.16 몰)의 트리메틸 보레이트 및 안정화제가 없는 452 g의 건조 테트라히드로푸란의 용액을 먼저 충전하였고, -5℃로 미리 냉각시켰다. 이후, 그리나드 용액을 2.5시간 내에 상기 제1의 반응기로부터 계량 첨가하였다. 과잉의 마그네슘은 상기 제1의 반응기에 남겨 두었다. 계량 첨가를 완료한 후, 혼합물을 추가 2시간 동안 20 내지 25℃에서 교반하였다. 가수분해를 위해, 1326.1 g (2.76 몰)의 7.6% 염산을 이어서 25℃에서 계량 첨가한 후, 혼합물을 추가 1시간 동안 25℃에서 교반하였다. 혼합물을 50℃로 가열하고, 상들을 분리하였다. 이후, 유기 상을 50℃에서 603.9 g의 물로 추출하고, 세척 물 상을 다시 제거하였다. 이어서, 테트라히드로푸란/물 혼합물을 증류 제거하여 유기 상을 농축하였다. 이로 인해, 테트라히드로푸란 중 40% 3,4,5-트리플루오로페닐보론산 용액 1032.6 g (82%)이 수득되었으며, 이를 다음 반응에서 직접 사용하였다.
b) 3,4,5-트리플루오로페닐보론산과 2-니트로클로로벤젠의 스즈끼 커플링에 의한 3,4,5-트리플루오로-2'-니트로비페닐의 제조
충분히 불활성화시킨 압력 용기에, 이전 단계 a)로부터의 테트라히드로푸란 중 40% 3,4,5-트리플루오로페닐보론산 용액 49.6 g (0.113 몰)과 10% 수산화나트륨 용액 121.6 g (0.304 몰) 및 2-니트로클로로벤젠 19.7 g (0.124 몰)의 혼합물을 먼저 충전하였다. 이어서, 특정 리간드를 실온에서 첨가하고, 혼합물을 교반하고, 염화팔라듐(II)을 마지막으로 첨가하였다. 이어서, 반응 혼합물을 105℃로 가열하였다. 이로 인해 대략 3 내지 4 bar의 압력이 설정되었다. 약 12시간의 반응 시간 후, 압력 용기의 압력을 표준 압력으로 낮추고, 30℃로 냉각하고, 반응 혼합물을 배출하였다. 마무리처리를 위해, 반응 혼합물을 tert-부틸 메틸 에테르에 넣고, 상들을 분리하고, 수성 상을 tert-부틸 메틸 에테르로 2회 재추출하였다. 용매를 감압 하에서 완전히 증류 제거하고, 최종 중량을 측정하고, 조 3,4,5-트리플루오로-2'-니트로비페닐의 함량을 정량적 HPLC로 분석하였다. 목적하는 경우, 조 3,4,5-트리플루오로-2'-니트로비페닐을, 예를 들어 이소부탄올로부터의 재결정으로 추가로 정제할 수 있었다.
이소부탄올로부터의 결정화 후, 융점이 79℃인 순수 3,4,5-트리플루오로-2'-니트로비페닐이 수득되었다.
Figure pct00009

Claims (15)

  1. 팔라듐 및 하기 화학식 III의 두자리 인 리간드로 이루어진 팔라듐 촉매 및 염기의 존재 하에 용매 또는 희석제 중에서 하기 화학식 II의 할로벤젠을 하기 화학식 IVa의 페닐보론산, 하기 화학식 IVb의 디페닐보린산, 또는 하기 화학식 IVa의 페닐보론산과 하기 화학식 IVb의 디페닐보린산의 혼합물과 반응시키는 것을 포함하는, 하기 화학식 I의 치환된 비페닐의 제조 방법.
    <화학식 I>
    Figure pct00010

    상기 식 중,
    R1은 니트로 또는 아미노이고,
    R2은 시아노, 할로겐, C1-C4-할로알킬, C1-C4-할로알콕시 또는 C1-C4-할로알킬티오이고,
    n은 0, 1, 2 또는 3이며, n이 2 또는 3인 경우에는 R2 라디칼은 동일하거나 상이할 수 있고,
    R3은 수소, 시아노 또는 할로겐이다.
    <화학식 II>
    Figure pct00011

    상기 식 중,
    Hal은 염소 또는 브롬이고,
    R1 및 R3은 각각 상기에서 정의한 바와 같다.
    <화학식 III>
    Figure pct00012

    상기 식 중,
    Ar은 메틸, 메톡시, 불소 및 염소로 이루어진 군으로부터 선택된 1개 내지 3개의 치환기를 함유할 수 있는 페닐이고,
    R4 및 R5는 각각 C1-C8-알킬 또는 C3-C6-시클로알킬이거나 또는 R4 및 R5는 함께, 목적하는 경우 C1-C6-알킬 치환기를 함유할 수 있는 2원 내지 7원의 가교를 형성한다.
    <화학식 IVa>
    Figure pct00013

    <화학식 IVb>
    Figure pct00014

    상기 식 중,
    R2 및 n은 각각 상기에서 정의한 바와 같다.
  2. 제1항에 있어서, R2가 할로겐이고, n이 2 또는 3이고, R3이 수소 또는 할로겐인 방법.
  3. 제1항에 있어서, R2가 불소 또는 염소인 방법.
  4. 제1항에 있어서, R1이 R2를 함유하는 페닐 고리에 대해 오르토 위치에 있는 것인 방법.
  5. 제1항에 있어서, R1 및 R3이 서로에 대해 파라 위치에 있는 것인 방법.
  6. 제1항에 있어서, Ar이 페닐인 방법.
  7. 제1항에 있어서, 반응을 50 내지 140℃의 온도에서 수행하는 방법.
  8. 제1항에 있어서, 반응을 물 및 유기 용매의 혼합물 중에서 수행하는 방법.
  9. 제7항에 있어서, 에테르를 유기 용매로서 사용하는 방법.
  10. 제1항에 있어서, 반응을 1 내지 6 bar의 압력에서 수행하는 방법.
  11. R1이 니트로이고 R2가 할로겐이고 n이 3이고 R3이 수소 또는 할로겐인 제1항에 따른 화학식 I의 화합물.
  12. 3,4-디플루오로-2'-니트로비페닐, 2,4-디클로로-2'-니트로비페닐, 3,4-디클로로-2'-니트로비페닐, 3,4,5-트리플루오로-2'-니트로비페닐, 3'-클로로-4',5'-디플루오로비페닐-2-일아민, 3',4'-디클로로-5'-플루오로비페닐-2-일아민, 3',5'-디클로로-4'-플루오로비페닐-2-일아민 및 3',4',5'-트리클로로비페닐-2-일아민으로 이루어진 군으로부터 선택되는 제1항에 따른 화학식 I의 화합물.
  13. R1이 아미노이고 R2가 할로겐이고 n이 3이고 R3이 할로겐인 제1항에 따른 화학식 I의 화합물.
  14. 3,4,5-트리플루오로-2'-니트로비페닐.
  15. 제1항에 있어서, 후속적으로, 수득된 치환된 비페닐을 그 자체로 공지된 방식으로 하기 화학식 V의 피라졸카르복스아미드로 전환하는 방법.
    <화학식 V>
    Figure pct00015

    상기 식 중,
    R6은 메틸 또는 할로메틸이다.
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