KR20110011297A - 실시간 면저항 측정 장치 - Google Patents
실시간 면저항 측정 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20110011297A KR20110011297A KR1020090068881A KR20090068881A KR20110011297A KR 20110011297 A KR20110011297 A KR 20110011297A KR 1020090068881 A KR1020090068881 A KR 1020090068881A KR 20090068881 A KR20090068881 A KR 20090068881A KR 20110011297 A KR20110011297 A KR 20110011297A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- sheet resistance
- roller
- roll
- measuring
- real
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 37
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims abstract description 16
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 5
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 5
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims description 3
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 claims description 3
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 claims description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 claims description 2
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N zinc oxide Inorganic materials [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N indium tin Chemical compound [In].[Sn] RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 30
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229920005570 flexible polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000307 polymer substrate Polymers 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
- 230000003685 thermal hair damage Effects 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/02—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance
- G01N27/04—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance
- G01N27/043—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance of a granular material
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R27/00—Arrangements for measuring resistance, reactance, impedance, or electric characteristics derived therefrom
- G01R27/02—Measuring real or complex resistance, reactance, impedance, or other two-pole characteristics derived therefrom, e.g. time constant
- G01R27/08—Measuring resistance by measuring both voltage and current
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R13/00—Arrangements for displaying electric variables or waveforms
- G01R13/02—Arrangements for displaying electric variables or waveforms for displaying measured electric variables in digital form
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/01—Subjecting similar articles in turn to test, e.g. "go/no-go" tests in mass production; Testing objects at points as they pass through a testing station
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/282—Testing of electronic circuits specially adapted for particular applications not provided for elsewhere
-
- G—PHYSICS
- G08—SIGNALLING
- G08B—SIGNALLING OR CALLING SYSTEMS; ORDER TELEGRAPHS; ALARM SYSTEMS
- G08B21/00—Alarms responsive to a single specified undesired or abnormal condition and not otherwise provided for
- G08B21/18—Status alarms
- G08B21/182—Level alarms, e.g. alarms responsive to variables exceeding a threshold
-
- G—PHYSICS
- G08—SIGNALLING
- G08B—SIGNALLING OR CALLING SYSTEMS; ORDER TELEGRAPHS; ALARM SYSTEMS
- G08B21/00—Alarms responsive to a single specified undesired or abnormal condition and not otherwise provided for
- G08B21/18—Status alarms
- G08B21/185—Electrical failure alarms
-
- G—PHYSICS
- G08—SIGNALLING
- G08C—TRANSMISSION SYSTEMS FOR MEASURED VALUES, CONTROL OR SIMILAR SIGNALS
- G08C19/00—Electric signal transmission systems
- G08C19/02—Electric signal transmission systems in which the signal transmitted is magnitude of current or voltage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Business, Economics & Management (AREA)
- Emergency Management (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Measurement Of Resistance Or Impedance (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
본 발명의 실시간 면저항 측정 장치는 언와인더 롤(Unwinder Roll, 200a)과 와인더 롤(winder Roll, 200b)의 상호 회전에 의해 서로 이웃한 제1 롤러와 제2 롤러 간 필름(210a, 210b)을 풀거나(Unwinding), 감도록(winding) 하여 이송하는 롤-투-롤(roll-to-roll) 시스템의 증착물질의 면저항 측정 장치에 있어서, 상기 제1 롤러(A)와 상기 제2 롤러(B) 사이에 감긴 상기 필름이 증착 된 후에 증착 물질(310)의 면저항을 실시간으로 측정하는 면저항 측정부(320)를 제공함에 기술적 특징이 있다.
본 발명의 실시간 면저항 측정 장치는 증착되는 물질에 저전류를 흘러 보낸 후 정전압을 측정함으로, 증착되는 물질에 열적 손상을 가하는 일없이 증착되는 물질의 면저항을 간단히 측정하여, 작업 도중에 저항 값의 변화를 실시간으로 모니터링 할 수 있는 장점이 있다.
롤-투-롤(roll-to-roll), 면저항 측정, 스퍼터, 정전류, 정전압
Description
본 발명은 면저항 측정 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 롤-투-롤(roll-to-roll) 시스템의 증착물질의 면저항을 실시간으로 측정하는 장치에 관한 것이다.
최근 디스플레이 및 태양전지의 급격한 기술 발전과 더불어 가볍고 휘어지면서 소자의 특성이 그대로 유지되는 플렉시블(flexible) 디스플레이와 플렉시블 태양전지에 대한 관심이 날로 증가되고 있다. 플렉시블 디스플레이 및 태양전지가 지향하고 있는 저가, 고속의 대량생산을 위해서는 기존의 유리 기판을 근간으로 하는 배치(Batch) 타입의 공정이 아닌 연속공정에 의한 롤-투-롤(Roll-to-Roll) 공정이 필수적이다.
롤-투-롤(Roll-to-Roll) 공정이란 플렉시블 디스플레이나 태양전지 제작에 사용되는 PET, PEN, PES와 같은 고분자 기판을 언와인딩(Unwinding)/와인딩(winding) 롤러(roller)를 통해 풀거나 되 감아주면서 박막의 성막을 수행하는 공정으로 차세대 플렉시블 광전소자용 고속, 대량 생산방법으로 많은 연구가 진행 되고 있다.
도 1은 종래의 면저항 측정 장치가 없는 롤-투-롤(roll-to-roll) 시스템을 도시한 것이다.
도 1을 참조하면, 종래의 롤-투-롤(roll-to-roll) 시스템(100)은 언와인더 롤(Unwinder Roll, 120a)과 와인더 롤(winder Roll, 120b)의 회전운동에 의해 기판 상의 필름(110a, 110b)을 풀거나(Unwinding), 감도록(winding) 한다. 필름이 일정 간격으로 배열된 복수개의 롤러(211a~219a, 211b~219b)를 통해 드럼(drum, 250)으로 이동하면, 드럼의 중앙에 배치된 스퍼터(130)에 의해 투명 전도막을 타겟(target)으로 상기 필름(110a)을 스퍼터링(sputtering) 하여 증착한다.
증착이 완료된 필름(110b)은 와인더 롤(120b)쪽으로 이송 되고, 필름이 모두 감기면 작업을 완료하였다.
하지만, 종래 기술은 작업 하는 도중에 필름 상에 증착되는 물질이 균일하게 증착되는 여부를 감지하고 이를 실시간 모니터링 하는 장치가 없어서, 증착의 균일성(uniformity)이 보장되는 필름을 제공하지 못하는 문제가 있었다.
본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는, 롤-투-롤(roll-to-roll) 시스템에서 스퍼터링 된 증착 물질에 열적 손상을 가하는 일없이 증착되는 물질의 면저항을 간단히 측정하여, 작업 도중에 저항 값의 변화를 실시간으로 모니터링 할 수 있는 면저항 측정 장치를 제공하는데 있다.
상기 기술적 과제를 이루기 위한 본 발명에 따른 실시간 면저항 측정 장치 는, 언와인더 롤(Unwinder Roll, 200a)과 와인더 롤(winder Roll, 200b)의 상호 회전에 의해 서로 이웃한 제1 롤러와 제2 롤러 간 필름(210a, 210b)을 풀거나(Unwinding), 감도록(winding) 하여 이송하는 롤-투-롤(roll-to-roll) 시스템의 증착물질의 면저항 측정 장치에 있어서, 상기 제1 롤러(A)와 상기 제2 롤러(B) 사이에 감긴 상기 필름이 증착 된 후에 증착 물질(310)의 면저항을 실시간으로 측정하는 면저항 측정부(320)를 제공한다.
본 발명은 증착되는 물질에 저전류를 흘러 보낸 후 정전압을 측정함으로, 증착되는 물질에 열적 손상을 가하는 일없이 증착되는 물질의 면저항을 간단히 측정하여, 작업 도중에 저항 값의 변화를 실시간으로 모니터링 할 수 있는 장점이 있다.
이하에서는 본 발명의 구체적인 실시 예를 도면을 참조하여 상세히 설명하도록 한다.
도 2는 본 발명의 롤-투-롤(roll-to-roll) 시스템에 사용된 면저항 측정장치를 도시한 것이다.
도 2를 참조하면, 본 발명의 롤-투-롤(roll-to-roll) 시스템의 면저항 측정장치(200)는 언와인더 롤(Unwinder Roll, 200a)과 와인더 롤(winder Roll, 200b)의 회전운동에 의해 필름(210a, 210b)을 풀거나(Unwinding), 감도록(winding) 하며, 일정 간격으로 배열된 복수개의 롤러(211a~219a, 211b~219b)를 통해 필름을 드럼(drum, 250) 등 각각의 해당 작업 영역으로 연속해서 이송 한다.
상기 드럼(drum, 250)에 필름(210a)이 이송되면, 드럼의 양 측면에 배치된 스퍼터a(230a)와 스퍼터b(230b)에 의해 투명 전도막 물질을 타겟(target)으로 하여 상기 필름(210a)을 스퍼터링(sputtering) 하여 증착한다. 사용되는 스퍼터의 수는 는 필요에 따라 드럼(drum, 250)의 주변에 복수 개 설치하여 실시할 수 있음은 당연하다.
상기 기판에 사용된 필름(210a)은 플렉시블(Flexible) 한 고분자 연성기판으로 PET(Polyethylene Terephthalate), PES(Polyether Sulfone), PI(Polyimide), PEN(Polyethylene Naphthalate) , PAR(Polyarylate), PC(polycarbonate) 등을 사용 한다.
상기 타겟(target)으로 사용되는 투명 전도막 물질은 아이티오(Indium Tin Oxide, ITO), SnO2, ZnO, CdSnO4, IZO(Indium zinc oxide) 등을 사용 할 수 있으며, 바람직하게는 높은 전도도를 가지며, 가시광선 투과성이 양호한 아이티오(ITO)를 이용한다.
또한 상기 타겟(target) 물질은 DC magnetron sputtering system, RF magnetron sputtering system에서 사용되는 물질을 사용할 수 있으며, 이를 테면 Si, Si/Al, Ge, Al, Be, Cr, Mo, Nb, Ta, Ti, W , In, Ni/Cr, Ti/Al 등 작업의 필요에 맞게 다양하게 응용 될 수 있음은 당연하다.
상기 스퍼터링이 완료된 필름(210b)은 와인더 롤(220b) 쪽으로 이동하는데, 면저항 측정 장치(270)는 상기 필름(210b)에 증착된 면의 저항을 측정하여 투명전극 물질이 일정하게 증착 되었는지 여부를 판단할 수 있다.
도 3은 본 발명의 면저항 측정 장치를 상세히 도시한 것이다.
도 3을 참조하면, 본 발명의 면저항 측정 장치(300)는 면저항 측정부(320), 제어부(340), 디스플레이(350)를 구비 한다.
면저항 측정부(320)는 정전류 발생부(321) 및 정전압 측정부(323)를 구비한다. 정전류 발생부(321)는 제1 롤러(A)와 제2 롤러(B) 사이의 필름에 증착된 투명전도막 물질(310)에 일정한 크기의 전류(I)를 흘러 보내면, 정전압 측정부(323)는 상기 투명전도막 물질(310) 상에 걸리는 일정한 크기의 전압(V)을 측정 한다.
상기 전류(I)는 제1 롤러(A)에서 제2 롤러(B) 방향 또는 제2 롤러(B)에서 제1 롤러(A) 방향으로 0.1mA 이상 10mA 이하의 저 전류를 흘러 보내는데, 이는 고 전류를 필름에 흘러 보낼 경우 열이 발생하여 필름에 증착된 물질의 물성 변화가 생길 우려를 방지하기 위함이다.
상기 면저항 측정에 사용되는 제1 롤러(A)와 제2 롤러(B)는 전기전도성이 우수하고, 마모성이 적은 물질을 사용한다. 이를테면, 스테인레스 강(stainless steel), 구리(Cu), 알루미늄 (Al) 등을 사용하는 것이 바람직 하지만, 이에 한정되지 아니하고 기술의 발전에 따라 다양하게 실시 할 수 있음은 당연하다.
제어부(340)는 상기 정전류 발생부(321)에서 흘러 보낸 정전류(I)와 정전압 측정부에서 측정된 정전압(V)을 사용하여 투명전도막 물질(310)의 저항(R)을 계산 한다. 제어부(340)는 측정된 상기 저항(R)과 미리 정해진 기준 저항 값(Rref)을 비교한 결과 허용 되는 오차 범위가 아닌 경우 스퍼터링 장치에 이상이 있다고 판단하여 에러 신호를 전송 한다.
디스플레이(350)는 상기 제어부(340)에서 계산된 저항(R)을 실시간 모니터링 하고, 상기 저항(R)이 허용 오차 범위 이상일 경우 경고 표시를 화면에 출력 한다.
도4는 본 발명의 면저항을 측정하기 위해 증착되는 면의 단면을 도시한 것이다.
도 4를 도 3과 연계하여 설명하면, 필름 상에 증착 된 투명 전도막 물질이 비저항(ρ), 길이(l), 폭(w), 두께(d)를 갖는 경우, 전류(I)가 투명 전도막 물질를관통하는 구역의 단면적(S)은 폭(w)× 두께(d)로 표시 된다.
투명 전도막 물질의 저항(R)은 옴의 법칙에 의해 아래의 [수학식1]로 표현 된다.
[수학식1]
R = V/I = ρ l/wd [ohm]
여기서, 비저항(ρ)은 물질의 고유저항으로 순수물질의 경우 그 비저항 값은 이미 알려진 상수 이고, 길이(l) 및 폭(w)은 각각 제1 롤러(A)와 제2 롤러(B) 사이의 일정한 거리와 일정한 폭을 갖는 고정된 값이다. 따라서 투명 전도막의 저항(R)은 투명 전도막의 두께(d)에 의존하는 함수임을 알 수 있다.
따라서, 측정된 저항(R)이 허용 오차 범위를 넘는 경우, 스퍼터에 의해 증착 되는 증착물질의 두께에 이상이 있음을 알 수 있고, 이를 시정하기 위해 진행 되는 작업을 중단하고 스퍼터를 유지 보수할 필요가 있다.
한편, 면저항(Sheet resistance, Rs)은 두께가 일정할 경우 단위면적당 저항으로 정의되며, 웨이퍼(wafer), 엘시디( LCD), 태양전지(Solar cell) 등의 벌크 및 박막의 전도성을 검사하기 위하여 쓰이며, 저항(R)과 아래의 [수학식2]와 같은 관계가 있다.
[수학식2]
면저항(Rs) = 저항(R) × 보정계수(C.F) [ohm/sq]
여기서, 보정계수(C.F)는 4개 탐침(probe)으로 측정된 전류와 전압을 측정하여, 저항(R) 값을 구한 후 면저항(Rs)을 계산하기 위해 사용되는 계수로서, 일반적으로 측정하고자 하는 샘플의 크기, 두께, 측정 시의 온도를 고려하여 산출 된다.
이상에서는 본 발명에 대한 기술사상을 첨부 도면과 함께 서술하였지만 이는 본 발명의 바람직한 실시 예를 예시적으로 설명한 것이지 본 발명을 한정하는 것은 아니다. 또한 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 이라면 누구나 본 발명의 기술적 사상의 범주를 이탈하지 않는 범위 내에서 다양한 변형 및 모방이 가능함은 명백한 사실이다.
도 1은 종래의 면저항 측정 장치가 없는 롤-투-롤(roll-to-roll) 시스템을 도시한 것이다.
도 2는 본 발명의 롤-투-롤(roll-to-roll) 시스템에 사용된 면저항 측정장치를 도시한 것이다.
도 3은 본 발명의 면저항 측정 장치를 상세히 도시한 것이다.
도4는 본 발명의 면저항을 측정하기 위해 증착되는 면의 단면을 도시한 것이다.
Claims (12)
- 언와인더 롤(Unwinder Roll)과 와인더 롤(winder Roll)의 상호 회전에 의해 서로 이웃한 제1 롤러와 제2 롤러 간 필름을 풀거나(Unwinding), 감도록(winding) 하여 이송하는 롤-투-롤(roll-to-roll) 시스템의 증착물질의 면저항 측정 장치에 있어서,상기 제1 롤러와 상기 제2 롤러 사이에 감긴 상기 필름이 증착 된 후에 증착 물질의 면저항을 실시간으로 측정하는 면저항 측정부를 구비하는 것을 특징으로 하는 실시간 면저항 측정 장치.
- 제 1항에 있어서, 상기 면저항 측정부는,상기 증착물질에 정전류를 흘러 보내는 정전류 발생부 및 상기 증착물질에 걸리는 정전압을 측정하는 정전압 측정부를 구비하는 것을 특징으로 하는 실시간 면저항 측정 장치.
- 제 2 항에 있어서, 상기 정전류 발생부는,상기 제1 롤러에서 상기 제2 롤러 방향으로 또는 상기 제2 롤러에서 상기 제1 롤러 방향으로 상기 정전류를 흘려보내는 것을 특징으로 하는 실시간 면저항 측정 장치.
- 제 2항 또는 제3항에 있어서, 상기 정전류는 0.1mA 이상 10mA 이하 인 것을 특징으로 하는 실시간 면저항 측정 장치.
- 제 1항에 있어서, 상기 제1 롤러 및 상기 제2 롤러는,스테인레스 강(stainless steel), 구리(Cu), 알루미늄(Al) 중 어느 하나를 사용하는 것을 특징으로 하는 실시간 면저항 측정 장치.
- 제 2항에 있어서, 상기 정전류(I)와 상기 정전압(V)을 사용하여 상기 증착물질의 저항(R)을 계산하고, 상기 저항(R)과 미리 정해진 기준 저항(Rref)을 비교한 결과 허용 오차 범위가 아닌 경우 스퍼터링 장치에게 에러 메시지를 전송하도록 명령하는 제어부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 실시간 면저항 측정 장치.
- 제 6항에 있어서, 상기 제어부에서 계산된 저항(R)을 실시간으로 화면에 모니터링 하고, 상기 저항(R)이 상기 허용 오차 범위 이상일 경우 경고 표시를 화면에 출력하는 디스플레이를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 실시간 면저항 측정 장치.
- 제 1항에 있어서, 상기 필름은,PET(Polyethylene Terephthalate), PES(Polyether Sulfone), PI(Polyimide), PEN(Polyethylene Naphthalate), PAR(Polyarylate), PC(polycarbonate) 중 어느 하 나를 사용하는 것을 특징으로 하는 실시간 면저항 측정 장치.
- 제 1항에 있어서, 상기 증착 물질은 투명 전도막 물질인 것을 특징으로 하는 실시간 면저항 측정 장치.
- 제 9항에 있어서, 상기 투명 전도막 물질은,ITO(Indium Tin OxideO), SnO2, ZnO, CdSnO4, IZO(Indium zinc oxide) 중 어느 하나 인 것을 특징으로 하는 실시간 면저항 측정 장치.
- 제 1항에 있어서, 상기 증착물질은 스퍼터의 스퍼터링에 의해 증착되는 것을 특징으로 하는 것을 특징으로 하는 실시간 면저항 측정 장치.
- 제 11항에 있어서, 상기 스퍼터는 드럼 주위에 복수 개 설치되어 사용하는 것을 특징으로 하는 것을 특징으로 하는 실시간 면저항 측정 장치.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020090068881A KR20110011297A (ko) | 2009-07-28 | 2009-07-28 | 실시간 면저항 측정 장치 |
| PCT/KR2010/004758 WO2011013938A2 (ko) | 2009-07-28 | 2010-07-21 | 실시간 면 저항 측정 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020090068881A KR20110011297A (ko) | 2009-07-28 | 2009-07-28 | 실시간 면저항 측정 장치 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20110011297A true KR20110011297A (ko) | 2011-02-08 |
Family
ID=43529821
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020090068881A Ceased KR20110011297A (ko) | 2009-07-28 | 2009-07-28 | 실시간 면저항 측정 장치 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR20110011297A (ko) |
| WO (1) | WO2011013938A2 (ko) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021076321A1 (en) * | 2019-10-17 | 2021-04-22 | Lam Research Corporation | In-situ monitoring of substrate surfaces |
| KR102690023B1 (ko) * | 2024-03-14 | 2024-08-05 | 인하대학교 산학협력단 | 박막 트랜지스터(tft)의 정밀 특성 분석을 위한 면저항 및 이동도 측정 장치 및 방법 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114535780A (zh) * | 2022-02-17 | 2022-05-27 | 南京大学 | 钙钛矿表面瞬时局部加热并原位表征真空激光装置及方法 |
| CN114672782B (zh) * | 2022-04-14 | 2023-01-03 | 西安交通大学 | 薄膜沉积与连续膜生长监测一体化样品台装置及监测方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002161366A (ja) * | 2000-11-17 | 2002-06-04 | Sharp Corp | 成膜基板の生産管理システム |
| JP2002212720A (ja) * | 2001-01-23 | 2002-07-31 | Canon Inc | スパッタリング方法およびスパッタリング装置 |
| KR20060055117A (ko) * | 2004-11-18 | 2006-05-23 | 주식회사 코오롱 | 필름 증착설비 |
-
2009
- 2009-07-28 KR KR1020090068881A patent/KR20110011297A/ko not_active Ceased
-
2010
- 2010-07-21 WO PCT/KR2010/004758 patent/WO2011013938A2/ko active Application Filing
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021076321A1 (en) * | 2019-10-17 | 2021-04-22 | Lam Research Corporation | In-situ monitoring of substrate surfaces |
| US12105039B2 (en) | 2019-10-17 | 2024-10-01 | Lam Research Corporation | Systems and methods for in-situ measurement of sheet resistance on substrates |
| KR102690023B1 (ko) * | 2024-03-14 | 2024-08-05 | 인하대학교 산학협력단 | 박막 트랜지스터(tft)의 정밀 특성 분석을 위한 면저항 및 이동도 측정 장치 및 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2011013938A3 (ko) | 2011-06-03 |
| WO2011013938A2 (ko) | 2011-02-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR20110011297A (ko) | 실시간 면저항 측정 장치 | |
| TWI661070B (zh) | 串聯式沉積控制設備、具有其之真空沉積設備、及串聯式沉積控制之方法 | |
| Lee et al. | Embedded flexible micro-sensors in MEA for measuring temperature and humidity in a micro-fuel cell | |
| CN102985585B (zh) | 透明导电性薄膜及其制造方法 | |
| US20140154424A1 (en) | Roll-to-roll sputtering method | |
| US8746309B2 (en) | Position controller for flexible substrate | |
| EP2863291A1 (en) | Transparent body for a touch panel manufacturing method and system for manufacturing a transparent body for a touch screen panel | |
| TW201140196A (en) | Continuous manufacturing system for liquid crystal display panel and continuous manufacturing method for liquid crystal display panel | |
| EP3414359A2 (en) | Vacuum processing system and methods therefor | |
| JP2013504748A5 (ko) | ||
| JP2012054006A (ja) | 透明導電性ガスバリヤフィルム及びその製造方法 | |
| JPS60258461A (ja) | ウエブヘの反応的スパツタリングによる伝導性のある透明な金属酸化物膜形成のための方法とその装置 | |
| US9903015B2 (en) | Substrate with transparent electrode and method for manufacturing same | |
| CN102877038A (zh) | 透明导电膜卷绕镀膜装置及其使用方法 | |
| JP5413655B2 (ja) | 膜厚測定装置 | |
| KR20160067826A (ko) | 스퍼터 장치 | |
| CN202865329U (zh) | 透明导电膜卷绕镀膜装置 | |
| CN202187062U (zh) | 双面卷对卷真空镀膜设备 | |
| JP2015021173A (ja) | 成膜装置 | |
| CN203602705U (zh) | 一种自适应磁场调整型磁控溅射镀膜设备 | |
| JP4292612B2 (ja) | 表面抵抗測定装置 | |
| JP6790502B2 (ja) | 長尺基板の液切装置及びこれを備えた湿式表面処理装置並びに長尺基板の液切方法及びこれを含んだめっき方法 | |
| CN223134551U (en) | Pole piece evaporation equipment | |
| JP2004063271A (ja) | 透明導電膜の製造方法 | |
| JP4731363B2 (ja) | ヒータユニット |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20090728 |
|
| PA0201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20110128 Patent event code: PE09021S01D |
|
| PG1501 | Laying open of application | ||
| E601 | Decision to refuse application | ||
| PE0601 | Decision on rejection of patent |
Patent event date: 20110428 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PE06012S01D Patent event date: 20110128 Comment text: Notification of reason for refusal Patent event code: PE06011S01I |