KR20110004778A - 터치패널 - Google Patents
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Abstract
본 발명에 따른 터치패널은, 제1도전박막을 적재하는 제1기판과; 상기 제1도전박막에 대면하는 제2도전박막을 적재하고, 상기 제1기판에 인접하는 제2기판 및; 상기 제1도전박막과 상기 제2도전박막 사이에 설치되어 있는 복수개의 스페이서를 구비하고; 상기 제1도전박막 조성물질의 구성유닛의 디멘존의 치수는 300nm를 초과하지 않는 것을 특징으로 한다.
Description
본 발명은 터치패널에 관한 것이다.
근래, 이동전자제품 또는 전자설비의 고기능화 및 다양화의 발전에 따라, 터치패널이 설치된 전자장치들이 점점 많아지고 있다. 이러한 전자장치를 사용하는 사람들은 손가락 또는 여타의 부재로 터치패널을 직접 접촉하는 것으로 상기 전자장치에 정보를 입력함으로써, 키패드, 마우스, 리모콘 등과 같은 입력장치에 대한 의존을 저감 또는 제거하여 사용자의 조작을 편리하게 한다.
현재 주로 사용되고 있는 터치패널은, 저항압력식(Registive Overlay) 터치패널, 정전용량식(Capacitive overlay) 터치패널, 적외선식(Infrared Beam) 터치패널 및, 표면음파식(Surface Acoustic Wave) 터치패널 등이 있다. 종래의 터치패널의 사용과정에서는 한번에 터치패널의 한곳만 접촉하여 입력하였지만, 터치패널 기술의 발전에 따라 한번에 터치패널의 두곳 또는 두곳 이상을 동시에 접촉하여 입력할 수 있게 되었다.
도 1은 종래의 터치패널의 단면도이고, 도 2는 도 1에 도시된 터치패널의 구성을 도시하는 도면이다.
도 1에 도시된 터치패널(40)은 제1투명기판(401)과, 제1 ITO(산화인듐주석) 투명도전층(403), 제2 ITO 투명도전층(404) 및, 제2투명기판(402)을 구비하고, 상기 제1투명기판(401) 및 상기 제2투명기판(402)은 고분자재료기판이며, 상기 제1 ITO 투명도전층(403) 및 상기 제2 ITO 투명도전층(404)은 유리기판 위에 ITO 박막을 피복하여 형성된 것이다.
상기 제2 ITO 투명도전층(404) 위에 상기 제2 ITO 투명도전층(404)을 외계전압에 전기 연결하는 도전배선(404a)이 설치되어 있다. 상기 제1 ITO 투명도전층(403)과 상기 제2 ITO 투명도전층(404)은 서로 마주 대하고 있고, 그 사이에 복수개의 스페이서(spacer)(408)를 설치하여 상기 두 ITO 투명도전층을 일정한 간격으로 격리하며, 상기 두 ITO 투명도전층의 주변은 접착제(407)로 접착시켜 고정한다. 상기 제1투명기판(401)과 상기 제1 ITO 투명도전층(403) 사이에 투광성(透光性) 접착제(405)가 붙어 있고, 상기 제2투명기판(402)과 상기 제2 ITO 투명도전층(404) 사이에 투광성 접착제(406)가 붙어 있으며, 상기 투광성 접착제(405,406)는 상기 투명기판(401,402)과 상기 ITO 투명도전층(403,404) 사이의 광선 전송 소모를 감소하는데 사용된다. 상기 투광성 접착제(405,406)의 굴절율은 각각 상기 투명기판(401,402)의 굴절율에 접근하든가 또는 상기 투명기판(401,402)의 굴절율과 같으며, 상기 투광성 접착제(405,406)는 OCA(Optical Clear Adhesive) 광학 접착제일 수 있다.
상기 제1투명기판(401)은 상기 터치패널(40)의 접착면으로서, 사용자의 접착조작에 사용되는 투광성을 갖고 있는 투광 영역(401a)과, 제조업자가 그림 또는 문자(401c)를 인쇄하기 위한 그림문자영역(401b)을 포함한다.
상기 ITO 투명도전층(403,404)은, 스퍼터링(sputtering) 방법으로 기판 위에 ITO를 스퍼터하여 형성한 것이다. 스퍼터링은 고온환경을 필요로 하는데, 고분자재료기판은 고온환경에 감당할 수 없기 때문에, ITO 박막을 적재하는 기판은 주로 유리기판이다. 다시 말하면, 스퍼터링방법으로 기판 위에 ITO 박막을 형성할 경우, 사용할만한 기판은 제한을 받으며, 스퍼터링 제조작업은 ITO 투명도전층의 제조코스트를 높이고 있다.
상기한 점을 감안하여 터치패널의 연구발전방향은, 어떻게 스퍼터링방법을 제외한 다른 방법으로 기판 위에 도전박막을 형성하고, 어떻게 저온환경에서 기판 위에 도전박막을 형상하며, 어떻게 ITO 박막을 대체할만한 다른 도전박막을 선택하는 것을 주요과제로 하고 있다. 그리고, 터치패널을 장착한 전자제품 또는 설비의 경박화를 실현하기 위하여, 어떻게 기판 위에 도전박막을 형성하는 기술로 터치패널의 두께를 감축하는 것도 새로운 과제로 되었다.
도 1 및 도 2를 참조하여 보면, 도전층의 두께를 감축하거나 또는 기판 및 광학 접착제의 사용을 감소하여 터치패널의 두께를 감축할 수 있다. 상기 터치패널(40)의 두께를 얇게 하고 코스트를 절약하기 위하여, 상기 ITO 투명도전층(403)을 적재하는 기판을 없애고, 상기 ITO 투명도전층(403)을 직접 기판(401) 위에 형성하며, 따라서 상기 투광성 접착제(405)를 사용할 필요도 없다. 하지만, 고온제조작업과정에서 ITO 도전층을 고온에 감당할 수 없는 고분자재료 기판(401) 위에 스퍼터하기 힘들기 때문에, 다른 해결방법을 탐색할 필요가 있다.
본 발명은 상기한 점을 감안하여 발명된 것으로, 두께가 얇고, 제조코스트가 낮은 터치패널을 제공함에 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 터치패널은, 제1도전박막을 적재하는 제1기판과; 상기 제1도전박막에 대면하는 제2도전박막을 적재하며, 상기 제1기판에 인접하는 제2기판과; 상기 제2기판에 인접하는 제3기판과; 상기 제2기판과 상기 제3기판 사이에 설치되어 있는 투광층 및; 상기 제1도전박막과 상기 제2도전박막 사이에 설치되어 있는 복수개의 스페이서를 구비하며, 상기 제1도전박막 조성물질의 구성유닛의 위도의 치수는 300nm를 초과하지 않고, 상기 투광층의 굴절율은 상기 제2기판과 상기 제3기판 중의 한 기판의 굴절율과 비슷하다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 터치패널은, 제1도전박막을 적재하는 제1기판과; 상기 제1도전박막에 대면하는 제2도전박막을 적재하며, 상기 제1기판에 인접하는 제2기판과; 상기 제1도전박막과 상기 제2도전박막 사이에 설치되어 있는 복수개의 스페이서를 구비하며, 상기 제1도전박막 조성물질의 구성유닛의 위도의 치수는 300nm를 초과하지 않는다.
본 발명에 따른 터치패널은 저온환경에서 가공 작업할 수 있고, 또한 기판의 수량을 감소하여 터치패널의 두께를 감축할 수 있다. 구체적으로 설명하면, CNT 박막을 도전박막으로 할 경우, 저온환경에서 상기 CNT 박막을 점착제로 강도가 큰 폴리카포나이트 기판 위에 점착하기 때문에, 광학 접착제을 사용하지 않으며, 따라서 제품의 체적을 감축하고 제조코스트를 절약할 수 있다.
도 1은 종래의 터치패널의 단면도이다.
도 2는 도 1에 도시된 터치패널의 구성을 도시하는 도면이다.
도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 터치패널의 구성을 도시하는 도면이다.
도 4는 본 발명의 제2실시예에 따른 터치패널의 구성을 도시하는 도면이다.
도 2는 도 1에 도시된 터치패널의 구성을 도시하는 도면이다.
도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 터치패널의 구성을 도시하는 도면이다.
도 4는 본 발명의 제2실시예에 따른 터치패널의 구성을 도시하는 도면이다.
본 발명에 따른 터치패널은 제1도전박막을 적재한 제1기판과, 제2도전박막을 적재한 제2기판 및, 스페이서(spacer)를 구비한다. 상기 제1도전박막 조성물질의 구성유닛의 디멘존(dimension)의 치수는 300nm를 초과하지 않고, 상기 제2도전박막 조성물질의 구성유닛의 디멘존의 치수는 300nm를 초과할 수 있으며, 상기 제1도전박막과 상기 제2도전박막은 서로 대면하고 서로 인접하며, 상기 스페이서는 상기 제1도전박막과 상기 제2도전박막 사이에 설치되어 있다. 상기 제1도전박막 및 상기 제2도전박막의 조성물질의 구성유닛은, 도전박막 조성물질의 기본입자(粒子) 및 복수개의 기본입자로 구성된 분자를 구비한다.
1실시예에 있어서, 본 발명의 제1도전박막은, 나노미터(nm)급의 ITO 유닛으로 구성된다. 다른 1실시예에 있어서, 본 발명의 제1도전박막은 CNT(탄소나노튜브) 유닛으로 구성되고, 또한 CNT의 특성에 의하여 저항이방성을 갖고 있으며, 즉 상기 제1도전박막은 저항이방성을 갖고 있는 도전박막이다. 저항이방성을 갖고 있는 도전박막은 다른 방향에서 다른 도전성 또는 저항성을 갖고 있다. 예를 들면, 인장처리된 CNT 박막은 바로 저항이방성을 갖고 있는 도전박막이다.
이하, 다른 실시예로 본 발명에 따른 터치패널에 대해 상세히 설명하지만, 본 발명에 따른 터치패널은 아래의 실시예에 한정되는 것은 아니다.
도 3은 본 발명의 제1실시예에 따른 터치패널의 구성을 도시하는 도면이다. 본 실시예에 따른 터치패널(20)은 도전박막(202)을 적재하는 제1기판(201)과, 도전박막(204)을 적재하는 제2기판(203), 투광층(透光層)(205) 및, 제3기판(206)을 구비하고, 상기 도전박막(202)은 복수개의 나노유닛으로 구성된 도전박막이며, 상기 나노유닛의 디멘존의 치수는 300nm를 초과하지 않는다.
구체적으로 설명하면, 상기 제1기판(201) 위에 상기 도전박막(202)을 외계전압에 연결하는 도전배선(201a)이 설치되어 있다. 상기 제2기판(203)은 상기 제1기판(201)과 인접하고, 상기 도전박막(202)과 상기 도전박막(204)은 서로 마주 대하고 있다. 상기 제3기판(206)은 상기 제2기판(203)에 인접하고, 상기 투광층(205)은 상기 제2기판(203)과 상기 제3기판(206) 사이에 설치되어 상기 제2기판(203)과 상기 제3기판(206) 사이의 광선 전송 소모를 감소하는데 사용된다. 상기 투광층(205)은 OCA 광학 접착제이다. 상기 도전박막(202)과 상기 도전박막(204) 사이에 도 1에 도시된 복수개의 스페이서(408)가 배치되어 있고, 상기 스페이서(408)의 형상은 원형과 같은 등방성형상일 수 있으며, 또는 구형과 같은 이방성형상일 수 있다.
상기 도전박막(202)이 구비하는 나노유닛은 임의의 나노급의 도전 유닛일 수 있으며, 예를 들면 나노급의 ITO 유닛 또는 CNT 유닛이다. CNT 유닛으로 구성된 박막은 인장처리된 다음에 저항이방성을 갖고 있다. 상기 도전박막(202)이 나노급의 ITO 유닛으로 구성될 때, 상기 도전박막(202)은 섭씨 150도 이하의 저온환경에서 스퍼터링(sputtering) 방법을 제외한 다른 방법, 예를 들면 도포방식으로 상기 제1기판(201) 위에 형성된다. 상기 도전박막(202)이 CNT 유닛으로 구성된 도전박막일 때, 인장처리된 CNT 도전박막일 수 있으며, 섭씨 150도 심지어 상온 섭씨 25도 이하의 저온환경에서 점착제에 의해 상기 제1기판(201) 위에 쉽게 붙어 있게 된다.
상기 도전박막(204)은 일반적인 도전박막 또는 나노유닛으로 구성된 도전박막이다. 상기 도전박막(204)이 일반적인 도전박막일 때, 스퍼터링(sputtering) 방법으로 상기 제2기판(203) 위에 형성될 수 있으며, 예를 들면, 유리기판 위에 형성된 ITO 박막이다. 상기 도전박막(204)이 나노유닛으로 구성된 도전박막일 때, 임의의 나노급의 도전 유닛일 수 있으며, 예를 들면 나노급의 ITO 유닛 또는 CNT 유닛이다. CNT 유닛으로 구성된 박막은 인장처리된 다음에 저항이방성을 갖고 있다. 상기 도전박막(204)이 나노급의 ITO 유닛으로 구성될 때, 상기 도전박막(204)은 섭씨 150도 이하의 저온환경에서 스퍼터링(sputtering) 방법을 제외한 다른 방법, 예를 들면 도포방식으로 상기 제2기판(203) 위에 형성된다. 상기 도전박막(204)이 CNT 유닛으로 구성된 도전박막일 때, 인장처리된 CNT 도전박막일 수 있으며, 섭씨 150도 심지어 상온 이하의 저온환경에서 점착제에 의해 상기 제2기판(203) 위에 쉽게 붙어 있게 된다.
상기 제1기판(201)과 상기 제2기판(203)은 모두 투광성을 갖고 있는 기판이다. 상기 제1기판(201) 및 상기 제2기판(203)의 재료는 유리 또는 가요성(可撓性)을 갖고 있는 고분자재료이다. 상기 고분자재료는, 폴리카포나이트(PC), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 폴리에틸렌(PE), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 또는 폴리이미드(PI)이다. 상기 제1기판(201)의 재료는 PC이고, 상기 제2기판(203)의 재료는 PET인 것이 바람직하다.
상기 제3기판(206)은 장식용 투명기판이고, 투광영역(206a)과 그림문자영역(206b)을 구비하며, 상기 그림문자영역(206b)에 인쇄방식이나 레이저 판각인쇄 등 방식에 의해 그림 또는 문자(206c)가 형성되어 있다. 상기 제3기판(206)의 재료는PC, PMMA, PET, PE 또는 PI과 같은 고분자재료이다. 상기 제3기판(206)의 재료는 PET인 것이 바람직하다.
본 실시예에 있어서, 상기 투광층(205)은 상기 제2기판(203)과 상기 제3기판(206) 사이의 광선 전송 소모를 감소하는데 사용되기 때문에, 상기 투광층(205)의 굴절율은 상기 제2기판(203) 및 상기 제3기판(206)의 굴절율과 비슷하다. 상기 투광층(205)의 굴절율은 상기 제2기판(203) 및 상기 제3기판(206)의 굴절율의 0.9∼1.1배인 것이 바람직하다.
본 실시예에 있어서, 상기 도전박막(202)과 상기 제1기판(201)은 일체로 결합되어 있기 때문에, 도 2에 도시된 터치패널(40)과 비교하여 보면, 투명도전층(404)을 적재하는 기판과 OCA 광학 접착제(406)를 생략할 수 있으며, 따라서 터치패널(20)의 두께를 얇게 할 수 있다. 또한, 상기 도전박막(202)은 CNT 도전박막을 사용할 수 있기 때문에, 섭씨 150도 심지어 상온 섭씨 25도 이하의 저온환경에서 점착제에 의해 상기 제1기판(201)과 쉽게 결합할 수 있으며, 가공 작업방법의 우세를 갖고 있다.
본 실시예의 제1예에 있어서, 상기 제1기판(201)은 유리기판이고, 상기 도전박막(202)은 CNT 박막이고, 상기 도전배선(201a)은 FPC 기판이며, 상기 제2기판(203)은 PET 기판이고, 상기 도전박막(204)은 나노급의 ITO 유닛으로 구성된 도전박막이며, 상기 투광층(205)은 OCA 광학 접착제이고, 상기 제3기판(206)은 PET기판이다.
본 실시예의 제2예에 있어서, 상기 제1기판(201)은 PC 기판이고, 상기 도전박막(202)은 CNT 박막이며, 상기 도전배선(201a)은 FPC 기판이고, 상기 제2기판(203)은 PET 기판이며, 상기 도전박막(204)은 CNT 박막이고, 상기 투광층(205)은 OCA 광학 접착제이며, 상기 제3기판(206)은 PET 기판이다.
본 실시예의 제3예에 있어서, 상기 제1기판(201)은 PC 기판이고, 상기 도전박막(202)은 CNT 박막이며, 상기 도전배선(201a)은 FPC 기판이고, 상기 제2기판(203)은 유리기판이며, 상기 도전박막(204)은 ITO 박막이고, 상기 투광층(205)은 OCA광학 접착제이며, 상기 제3기판(206)은 PET 기판이다.
본 발명의 제1실시예는 상기 특정된 세가지 실시예에만 한정되는 것은 아니고, 이 기술분야에서 통상의 지식을 습득한 자라면, 본 발명의 제1실시예에 의해 많은 수정과 변형이 가능함을 이해하여야 할 것이다.
도 4는 본 발명의 제2실시예 따른 터치패널의 구성을 도시하는 도면이다. 본 실시예에 따른 터치패널(30)은 도전박막(302)을 적재하는 제1기판(301) 및 도전박막(304)을 적재하는 제2기판(303)을 구비하고, 상기 도전박막(302)은 복수개의 나노유닛으로 구성된 도전박막이며, 상기 나노유닛의 디멘존의 치수는 300nm를 초과하지 않는다.
구체적으로 설명하면, 상기 제1기판(301) 위에 상기 도전박막(302)을 외계전압에 연결하는 도전배선(301a)이 설치되어 있다. 상기 제2기판(303)은 상기 제1기판(301)과 인접하고, 상기 도전박막(302)과 상기 도전박막(304)은 서로 마주 대하고 있다. 상기 도전박막(302)과 상기 도전박막(304) 사이에 도 1에 도시된 복수개의 스페이서(408)가 배치되어 있고, 상기 스페이서(408)의 형상은 원형과 같은 등방성형상일 수 있으며, 또는 구형과 같은 이방성형상일 수 있다.
상기 도전박막(302)이 구비하는 나노유닛은 임의의 나노급의 도전 유닛일 수 있으며, 예를 들면 나노급의 ITO 유닛 또는 CNT 유닛이다. CNT 유닛으로 구성된 박막은 인장처리된 다음에 저항이방성을 갖고 있다. 상기 도전박막(302)이 나노급의 ITO 유닛으로 구성될 때, 상기 도전박막(302)은 섭씨 150도 이하의 저온환경에서 스퍼터링방법을 제외한 다른 방법, 예를 들면 도포방식으로 상기 제1기판(301) 위에 형성된다. 상기 도전박막(302)이 CNT 유닛으로 구성된 도전박막일 때, 인장처리된 CNT 도전박막일 수 있으며, 섭씨 150도 심지어 상온 섭씨 25도 이하의 저온환경에서 점착제에 의해 상기 제1기판(301) 위에 쉽게 붙어 있게 된다.
상기 도전박막(304)은 나노유닛으로 구성된 도전박막이다. 상기 도전박막(304)이 구비하는 나노유닛은 임의의 나노급의 도전 유닛일 수 있으며, 예를 들면 나노급의 ITO 유닛 또는 CNT 유닛이다. CNT 유닛으로 구성된 박막은 인장처리된 다음에 저항이방성을 갖고 있다. 상기 도전박막(304)이 나노급의 ITO 유닛으로 구성될 때, 상기 도전박막(304)은 섭씨 150도 이하의 저온환경에서 스퍼터링방법을 제외한 다른 방법, 예를 들면 도포방식으로 상기 제2기판(303) 위에 형성된다. 상기 도전박막(304)이 CNT 유닛으로 구성된 도전박막일 때, 인장처리된 CNT 도전박막일 수 있으며, 섭씨 150도 심지어 상온 섭씨 25도 이하의 저온환경에서 점착제에 의해 상기 제2기판(303) 위에 쉽게 붙어 있게 된다.
상기 제1기판(301)은 투광성을 갖고 있는 기판이다. 상기 제1기판(301)의 재료는 유리 또는 가요성을 갖고 있는 고분자재료이다. 상기 고분자재료는, PET, 강도가 큰 PC, PMMA, PE 또는 PI이다. 상기 제2기판(303)은 장식용 투명기판으로서, 투광 영역(303a)과 그림문자영역(303b)을 구비하고, 상기 그림문자영역(303b)에 인쇄방식이나 다른 방식에 의해 그림 또는 문자(303c)가 인쇄되어 있다. 상기 제2기판(303)의 재료는 PC, PMMA, PET, PE 또는 PI과 같은 고분자재료이다. 상기 제1기판(301)의 재료는 PC이고, 상기 제2기판(303)의 재료는 PET인 것이 바람직하다.
본 실시예에 있어서, 상기 도전박막(302)과 상기 제1기판(301)은 일체로 결합되고, 상기 도전박막(304)과 상기 제2기판(303)이 일체로 결합되어 있기 때문에, 도 2에 도시된 터치패널(40)과 비교하여 보면, 투명도전층(403) 및 투명도전층(404)을 적재하는 두개의 기판과 OCA 광학 접착제(405) 및 OCA 광학 접착제(406)를 생략할 수 있으며, 따라서 터치패널(30)의 두께를 얇게 할 수 있다. 또한, 상기 도전박막(302) 및 상기 도전박막(304)은 CNT 도전박막을 사용할 수 있기 때문에, 섭씨 150도 심지어 상온 섭씨 25도 이하의 저온환경에서 점착 등 방식에 의해 상기 제1기판(301) 및 상기 제2기판(303)과 쉽게 결합할 수 있으며, 가공 작업방법의 우세를 갖고 있다.
본 실시예의 제1예에 있어서, 상기 제1기판(301)은 PC 기판이고, 상기 도전박막(302) 및 상기 도전박막(304)은 CNT 박막이며, 상기 도전배선(301a)은 FPC기판이고, 상기 제2기판(303)은 장식용 PET기판이다.
본 실시예의 제2예에 있어서, 상기 제1기판(301)은 유리기판이고, 상기 도전박막(302) 및 상기 도전박막(304)은 CNT 박막이며, 상기 도전배선(301a)은 FPC기판이고, 상기 제2기판(303)은 장식용 PET 기판이다.
본 발명의 제2실시예는 상기 특정된 두가지 실시예에만 한정되는 것은 아니고, 이 기술분야에서 통상의 지식을 습득한 자라면, 본 발명의 제2실시예에 의해 많은 수정과 변형이 가능함을 이해하여야 할 것이다.
이상, 본 발명을 바람직한 실시예를 사용하여 설명하였으나, 본 발명의 범위는 특정 실시예에 한정되는 것은 아니고, 첨부된 특허청구범위에 의하여 해석되어야 할 것이다. 또한, 이 기술분야에서 통상의 지식을 습득한 자라면, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않으면서도 많은 수정과 변형이 가능함을 이해하여야 할 것이다.
20,30,40 --- 터치패널
201,301 --- 제1기판
201a, 301a,404a --- 도전배선
202,302,204,304 --- 도전박막
203,303 --- 제2기판
205 --- 투광층
206 --- 제3기판
206a,303a,401a --- 투광구역
206b,303b,401b --- 그림문자영역
206c, 303c, 401c --- 그림 또는 문자
401 --- 제1투명기판
402 --- 제2투명기판
403 --- 제1 ITO 투명도전층
404 --- 제2 ITO 투명도전층
405,406 --- 투광성 접착제
407 --- 접착제
408 --- 스페이서
201,301 --- 제1기판
201a, 301a,404a --- 도전배선
202,302,204,304 --- 도전박막
203,303 --- 제2기판
205 --- 투광층
206 --- 제3기판
206a,303a,401a --- 투광구역
206b,303b,401b --- 그림문자영역
206c, 303c, 401c --- 그림 또는 문자
401 --- 제1투명기판
402 --- 제2투명기판
403 --- 제1 ITO 투명도전층
404 --- 제2 ITO 투명도전층
405,406 --- 투광성 접착제
407 --- 접착제
408 --- 스페이서
Claims (22)
- 제1도전박막을 적재하는 제1기판과;
상기 제1도전박막에 대면하는 제2도전박막을 적재하고, 상기 제1기판에 인접하는 제2기판 및;
상기 제1도전박막과 상기 제2도전박막 사이에 설치되어 있는 복수개의 스페이서를 구비하고;
상기 제1도전박막 조성물질의 구성유닛의 디멘존의 치수는 300nm를 초과하지 않는 것을 특징으로 하는 터치패널.
- 제1항에 있어서,
상기 터치패널이 포함하는 기판의 수량은 가장 많으면 세개인 것을 특징으로 하는 터치패널.
- 제1항에 있어서,
상기 제1도전박막은 도포방식이나 접착방식에 의해 상기 제1기판 위에 형성되는 것을 특징으로 하는 터치패널.
- 제3항에 있어서,
상기 제1도전박막은 산화인듐주석 도전박막인 것을 특징으로 하는 터치패널.
- 제1항에 있어서,
상기 제1도전박막은 탄소나노튜브를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널.
- 제5항에 있어서,
상기 제1도전박막은 인장처리되는 것을 특징으로 하는 터치패널.
- 제5항에 있어서,
상기 제1도전박막은 저항이방성을 갖고 있는 것을 특징으로 하는 터치패널.
- 제1항에 있어서,
상기 제1기판의 재료는 고분자와 유리 중의 어느 하나인 것을 특징으로 하는 터치패널.
- 제1항에 있어서,
상기 제1기판은 가요성을 갖고 있는 것을 특징으로 하는 터치패널.
- 제1항에 있어서,
상기 제1기판의 재료는 강도가 큰 폴리카포나이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌 또는 폴리이미드 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 터치패널.
- 제10항에 있어서,
상기 제2기판의 재료는 강도가 큰 폴리카포나이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌 또는 폴리이미드 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 터치패널.
- 제1항에 있어서,
상기 제2기판 위에 그림이나 문자가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 터치패널.
- 제1도전박막을 적재하는 제1기판과;
상기 제1도전박막에 대면하는 제2도전박막을 적재하고, 상기 제1기판에 인접하는 제2기판과;
상기 제2기판에 인접하는 제3기판과;
상기 제2기판과 상기 제3기판 사이에 설치되어 있는 투광층 및;
상기 제1도전박막과 상기 제2도전박막 사이에 설치되어 있는 복수개의 스페이서를 구비하고;
상기 제1도전박막 조성물질의 구성유닛의 디멘존의 치수는 300nm를 초과하지 않고, 상기 투광층의 굴절율은 상기 제2기판과 상기 제3기판 중 어느 하나의 기판의 굴절율과 비슷한 것을 특징으로 하는 터치패널.
- 제13항에 있어서,
상기 제1도전박막과 상기 제2도전박막 중 어느 하나는 탄소 나노 튜브를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널.
- 제14항에 있어서,
상기 제1도전박막과 상기 제2도전박막 중 어느 하나는 인장처리되는 것을 특징으로 하는 터치패널.
- 제14항에 있어서,
상기 제1도전박막과 상기 제2도전박막 중 어느 하나는 도전이방성을 갖고 있는 것을 특징으로 하는 터치패널.
- 제13항에 있어서,
상기 제1기판의 재료는 유리인 것을 특징으로 하는 터치패널.
- 제13항에 있어서,
상기 제1기판의 재료는 강도가 큰 폴리카포나이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌 또는 폴리이미드 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 터치패널.
- 제13항에 있어서,
상기 제2기판의 재료는 강도가 큰 폴리카포나이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌 또는 폴리이미드 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 터치패널.
- 제13항에 있어서,
상기 제3기판의 재료는 강도가 큰 폴리카포나이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌 또는 폴리이미드 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 터치패널.
- 제13항에 있어서,
상기 제3기판 위에 그림이나 문자가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 터치패널.
- 제13항에 있어서,
상기 투광층의 굴절율은 상기 제2기판과 상기 제3기판 중 어느 하나의 기판의 굴절율의 0.9∼1.1배인 것을 특징으로 하는 터치패널.
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