KR20100114459A

KR20100114459A - 리소그래피 장치, 제어 시스템, 멀티-코어 프로세서, 및 멀티-코어 프로세서에서 태스크를 개시하는 방법

Info

Publication number: KR20100114459A
Application number: KR1020100032775A
Authority: KR
Inventors: 할더 람베르투스 코넬리우스 요한네스 반; 빌헬무스 테오도루스 마리아 알버츠; 리차드 나우베르
Original assignee: 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
Priority date: 2009-04-15
Filing date: 2010-04-09
Publication date: 2010-10-25
Also published as: US20100268913A1; TW201044120A; JP5122601B2; KR101128067B1; JP2010250821A; CN101866116B; CN101866116A; NL2004392A

Abstract

멀티-코어 프로세서는, 2개 이상의 코어와, 코어에 의해 공유되고, 한 번에 하나의 코어와 통신할 수 있는 외부 통신 장치와, 각각의 코어와 동시에 통신할 수 있는 내부 통신 장치를 포함하며, 외부 통신 장치를 통해 제1 신호를 수신하고, 제1 신호를 하나의 코어에 중계하며, 하나의 코어에 의해 제1 신호를 처리함으로써 제2 신호가 생성되도록 하며, 제2 신호를 내부 통신 장치에 의해 각각의 코어에 실질적으로 동시에 전송하며, 제2 신호의 수신에 대한 응답으로 각각의 코어에서 태스크를 개시하도록 구성된다.

Description

리소그래피 장치, 제어 시스템, 멀티-코어 프로세서, 및 멀티-코어 프로세서에서 태스크를 개시하는 방법{LITHOGRAPHIC APPARATUS, CONTROL SYSTEM, MULTI-CORE PROCESSOR, AND A METHOD TO START TASKS ON A MULTI-CORE PROCEESSOR}

본 발명은 멀티-코어 프로세서, 이러한 멀티-코어 프로세서를 포함하는 제어 시스템, 이러한 제어 시스템을 포함하는 리소그래피 장치, 및 멀티-코어 프로세서에서 태스크를 개시하는 방법에 관한 것이다.

리소그래피 장치는 기판 상에, 통상적으로는 기판의 타겟 영역 상에 원하는 패턴을 부여하는 장치이다. 리소그래피 장치는 예컨대 집적회로(IC)의 제조시에 사용될 수 있다. 이러한 경우, 마스크 또는 레티클(reticle)로도 지칭되는 패터닝 장치가 집적회로의 개개의 층 상에 형성될 회로 패턴을 생성하기 위해 사용될 수 있다. 이 패턴은 기판(예컨대, 실리콘 웨이퍼) 위의 타겟 영역(예컨대, 하나의 다이(die)의 일부분, 하나의 다이, 또는 여러 개의 다이를 포함) 상으로 전사(transfer)될 수 있다. 패턴의 전사는 통상적으로 기판 상에 제공된 방사선-감응재(레지스트)로 이루어진 층 위에의 이미징(imaging)을 통해 수행된다. 일반적으로, 단일 기판은 연속적으로 패터닝되는 인접한 타겟 영역들의 네트워크를 포함할 것이다. 공지된 리소그래피 장치는, 타겟 영역 상에 패턴 전체를 한번에 노광함으로써 각각의 타겟 영역을 조사(照射)하는 소위 스테퍼(stepper), 및 소정의 방향("스캐닝"-방향)의 방사 빔을 통해 패턴을 스캐닝하는 동시에, 이 방향과 평행한 방향(동일 방향으로 평행한 방향) 또는 역-평행 방향(반대 방향으로 평행한 방향)으로 기판을 스캐닝함으로써 각각의 타겟 영역을 조사하는 소위 스캐너를 포함한다. 또한, 기판 상에 패턴을 임프린트(imprint)함으로써 패터닝 장치로부터 기판으로 패턴을 전사할 수도 있다.

리소그래피 장치는 각각 예컨대 기판 테이블의 움직임 제어, 이미지 프로세싱 등의 리소그래피 장치에서의 프로세스를 제어하는 복수의 제어 시스템을 포함할 수 있다. 가장 최근의 제어 시스템은 입력, 일반적으로 센서 입력에 좌우되어 컨트롤러 출력을 산출하는 프로세서를 포함한다. 프로세서의 산출 프로세스는 균등하게 나누어진 기간으로 분할되어, 이 기간에서 인터럽트로도 지칭되는 신호가 프로세서에 보내지고, 산출이 행해지며, 그 산출 결과가 프로세서로부터 증폭기와 같은 입출력(IO) 장치에 보내진다. 균등하게 나누어진 기간은 안정한 프로세스 컨트롤러를 갖도록 하는데 필수적이며, 또한 샘플링 시간으로도 알려져 있다. 샘플링 시간은 제어될 프로세스 및 요구된 정확도에 좌우되며, 이와 달리 샘플링 시간의 역수인 주파수로서 정의될 수도 있다. 인터럽트는 예를 들어 전용의 중앙 클록 또는 센서/카메라와 같은 제어 시스템의 하드웨어 등의 외부 디바이스에 의해 야기된 신호이다. 그러므로, 이 외부 디바이스는 멀티-코어 프로세서의 일부가 아니다.

샘플링 주기 내에서, 연산 작업량(computational workload)은 샘플링 계산으로 지칭되는 타임-크리티컬 작업량(time-critical workload)과, 백그라운드 계산으로 지칭되는 비(非)타임-크리티컬 작업량(non time-critical workload)으로 분할될 수 있다. 샘플링 계산의 우선순위는 백그라운드 계산의 우선순위보다 높게 되도록 설정되어, 인터럽트를 수신한 후에는 샘플링 계산이 프로세서의 백그라운드 계산을 인터럽트한다.

프로세서에 통합되는 컨트롤러의 증가된 복잡도 및/또는 제어 루프 주파수의 증가, 즉 샘플링 주파수의 증가로 인하여 프로세스 제어에 대한 요구가 커짐에 따라, 프로세서의 계산 용량을 증가시키고자 하는 필요성이 야기되었고, 이것은 싱글-코어 프로세서에 의해 충족될 수 없다. 그 대신, 멀티-코어 프로세서가 이용된다. 멀티-코어 프로세서는 태스크를 동시에 수행할 수 있는 2개 이상의 코어를 포함한다.

종래 기술의 멀티-코어 프로세서(MCP)의 개략적인 도시가 도 2에 나타내어져 있다. 도 2에서의 멀티-코어 프로세서는 일례로서 3개의 코어(C1, C2, C3)를 갖는다. 멀티-코어 프로세서(MCP)는 모든 코어(C1, C2, C3)에 의해 공유되는 외부 통신 장치(ECF : External Communication Facility)를 포함하며, 이 외부 통신 장치는 스위치(SW)에 의해 개략적으로 나타낸 바와 같이 한 번에 하나의 코어와 통신할 수 있다.

예컨대 중앙 클록과 같은 타이밍 장치 또는 센서 등의 외부 디바이스(ED)에 의해 전송된 인터럽트는 외부 통신 장치(ECF)를 통해 수신된다. 그러나, 외부 통신 장치(ECF)로는, 인터럽트가 전술한 바와 같이 모든 코어(C1, C2, C3)에 동시에 라우팅될 수 없다. 이 예에서, 외부 통신 장치(ECF)는 인터럽트를 제2 코어(C2)에 라우팅, 즉 중계할 것이다. 코어(C1, C2, C3)는 또한 우측을 향하는 화살표에 의해 나타낸 바와 같은 출력을 갖는다.

도 3은 도 2의 종래 기술의 멀티-코어 프로세서(MCP)의 코어에서 태스크(T)를 개시하기 위한 종래 기술의 방법을 나타내고 있다. 시간 to에서, 도 2의 장치(ED)가 신호를 전송한다. 코어(C1∼C3)는 백그라운드 계산(BG)을 수행할 것이다. 도 2의 외부 통신 장치(ECF)를 통해 신호가 수신되며, 이 경우 코어 C2가 신호를 처리하며, 상이한 코어(C1∼C3)에 의해 태스크(T)를 스케줄하고 개시하기 위해 시간 t1에서 스케줄링 프로세스(S)를 개시할 것이다. 이 예에서, 태스크(T)는 시간 t2에서 백그라운드 계산(BG)을 인터럽트하는 코어(C1)에 의해 최초 개시되며, 그 후 태스크(T)는 시간 t3에서 백그라운드 계산(BG)을 인터럽트하는 코어 C3에 의해 개시되며, 최종적으로는 스케줄링 프로세스(S)는 코어 C2 자신에 의해 태스크(T)를 개시하기 위해 시간 t4에서 정지한다.

태스크(T)가 완료될 때, 백그라운드 계산(BG)이 재개될 것이다. 시간 t5에서 모든 태스크가 완료된다. 태스크의 순차적인 개시와, 윈도우즈(Windows) 또는 리눅스(Linux)와 같은 운영체제가 각각의 코어에서 신호를 처리하고 태스크를 스케쥴하는데 소요되는 시간(t1∼t4)으로 인해, t0와 t5 사이의 시구간이 비교적 길게 되거나, 또는 각각의 태스크(T) 내에서 수행되는 계산의 양이 제한될 수 있다(즉, 태스크(T)가 짧게 된다). 그러므로, 종래 기술의 방법은 멀티-코어 프로세서의 계산 용량, 즉 효율을 제한하고 있다. 다른 단점은 코어의 수가 증가할수록 효과가 점점 악화된다는 것이다.

또한, 제어의 관점에서 태스크들 또는 이들 태스크들의 일부분을 실질적으로 동시에 완료하여, 이로써 멀티-코어 프로세서의 출력이 동기화될 수 있고, 멀티-코어 프로세서의 계산 프로세스로 인해 제어 루프에서 페이스(phase)가 손실되지 않도록 하는 것이 요망될 것이다. 그러나, 종래 기술의 방법으로는 이것을 실현할 수 없다.

전술한 단점은 제어 시스템의 성능을 제한하고, 이에 의해 리소그래피 장치의 전체적인 성능을 제한한다.

따라서, 멀티-코어 프로세서의 효율을 증가시키는 것이 바람직하다. 또한, 리소그래피 장치에서의 프로세스에 대한 제어를 향상시키는 것이 바람직하다. 또한, 리스그래피 장치의 성능을 향상시키는 것이 바람직하다.

본 발명의 실시예에 따라, 2개 이상의 코어와, 상기 코어에 의해 공유되고, 한 번에 하나의 코어와 통신할 수 있는 외부 통신 장치와, 각각의 상기 코어와 동시에 통신할 수 있는 내부 통신 장치를 포함하며, 상기 외부 통신 장치를 통해 제1 신호를 수신하고, 상기 제1 신호를 하나의 코어에 중계하며, 상기 하나의 코어에 의해 상기 제1 신호를 처리함으로써 제2 신호가 생성되도록 하며, 상기 제2 신호를 상기 내부 통신 장치에 의해 각각의 상기 코어에 실질적으로 동시에 전송하며, 상기 제2 신호의 수신에 대한 응답으로 각각의 상기 코어에서 태스크를 개시하도록 구성되는 멀티-코어 프로세서가 제공된다.

본 발명의 다른 실시예에 따라, 리소그래피 장치에서의 프로세스를 제어하는 제어 시스템으로서, 디바이스의 입력에 기초하여 상기 제어 시스템의 출력을 산출하도록 구성된 멀티-코어 프로세서를 포함하며, 상기 멀티-코어 프로세서가, 2개 이상의 코어와, 상기 코어에 의해 공유되고, 한 번에 하나의 코어와 통신할 수 있는 외부 통신 장치와, 각각의 상기 코어와 동시에 통신할 수 있는 내부 통신 장치를 포함하며, 상기 멀티-코어 프로세서가, 상기 외부 통신 장치를 통해 제1 신호를 수신하고, 상기 제1 신호를 하나의 코어에 중계하며, 상기 하나의 코어에 의해 상기 제1 신호를 처리함으로써 제2 신호가 생성되도록 하며, 상기 제2 신호를 상기 내부 통신 장치에 의해 각각의 상기 코어에 실질적으로 동시에 전송하며, 상기 제2 신호의 수신에 대한 응답으로 각각의 상기 코어에서 태스크를 개시하도록 구성되는, 제어 시스템이 제공된다.

본 발명의 다른 실시예에 따라, 리소그래피 장치로서, 상기 리소그래피 장치에서의 프로세스를 제어하는 제어 시스템과, 상기 프로세스에 기초하여 상기 제어 시스템에 입력을 제공하는 센서를 포함하며, 상기 제어 시스템은 상기 센서의 입력에 기초하여 상기 제어 시스템의 출력을 산출하도록 구성된 멀티-코어 프로세서를 포함하며, 상기 멀티-코어 프로세서는, 2개 이상의 코어와, 상기 코어에 의해 공유되고, 한 번에 하나의 코어와 통신할 수 있는 외부 통신 장치와, 각각의 상기 코어와 동시에 통신할 수 있는 내부 통신 장치를 포함하며, 상기 멀티-코어 프로세서가, 상기 외부 통신 장치를 통해 제1 신호를 수신하고, 상기 제1 신호를 하나의 코어에 중계하며, 상기 하나의 코어에 의해 상기 제1 신호를 처리함으로써 제2 신호가 생성되도록 하며, 상기 제2 신호를 상기 내부 통신 장치에 의해 각각의 상기 코어에 실질적으로 동시에 전송하며, 상기 제2 신호의 수신에 대한 응답으로 각각의 상기 코어에서 태스크를 개시하도록 구성되는, 리소그래피 장치가 제공된다.

본 발명의 다른 실시예에 따라, 멀티-코어 프로세서의 코어에서 태스크를 개시하도록 하는 방법으로서, 상기 멀티-코어 프로세서는, 상기 코어에 의해 공유되고, 한 번에 하나의 코어와 통신할 수 있는 외부 통신 장치와, 각각의 상기 코어와 동시에 통신할 수 있는 내부 통신 장치를 포함하며, 상기 방법은, 상기 외부 통신 장치를 통해 제1 신호를 수신하는 단계, 상기 제1 신호를 하나의 코어에 중계하는 단계, 상기 하나의 코어에 의해 상기 제1 신호를 처리함으로써 제2 신호가 생성되도록 하는 단계, 상기 제2 신호를 상기 내부 통신 장치에 의해 각각의 상기 코어에 실질적으로 동시에 전송하는 단계, 및 상기 제2 신호의 수신에 대한 응답으로 각각의 상기 코어에서 태스크를 개시하는 단계를 포함하는, 멀티-코어 프로세서의 코어에서 태스크를 개시하는 방법이 제공된다.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 리소그래피 장치를 도시하고 있다.
도 2는 종래 기술의 멀티-코어 프로세서를 도시하고 있다.
도 3은 도 2의 종래 기술의 멀티-코어 프로세서에 의해 태스크를 개시하는 종래 기술의 방법의 개략 표현도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 멀티-코어 프로세서를 도시하고 있다.
도 5는 도 4의 멀티-코어 프로세서의 코어에서 태스크를 개시하는 방법을 도시하고 있다.

이하에서는, 단지 예시를 목적으로 하는 본 발명의 실시예를 대응하는 부분에 대응하는 도면 부호가 부여되어 있는 첨부된 개략 도면을 참조하여 설명할 것이다.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 리소그래피 장치를 개략적으로 도시하고 있다. 본 리소그래피 장치는, 방사 빔(B)(예컨대, UV 방사 또는 임의의 다른 적합한 방사)을 조절하도록 구성된 조명 시스템(조명기)(IL)과, 패터닝 장치(예컨대, 마스크)(MA)를 지지하도록 구성되고, 또한 특정의 파라미터에 따라 패터닝 장치를 정확히 위치시키도록 구성된 제1 위치 설정기(PM)에 연결된 패터닝 장치 지지체 또는 마스크 지지 구조체(예컨대, 마스크 테이블)(MT)를 포함한다. 또한, 본 리소그래피 장치는, 기판(예컨대, 레지스트가 코팅된 웨이퍼)(W)을 유지하도록 구성되고, 특정의 파라미터에 따라 기판을 정확히 위치시키도록 구성된 제2 위치 설정기(PW)에 연결된 기판 테이블(예컨대, 웨이퍼 테이블)(WT) 또는 "기판 지지체"와, 패터닝 장치(MA)에 의해 방사 빔(B)에 부여한 패턴을, 기판(W)의 타겟 영역(C)(예컨대, 하나 이상의 다이를 포함하는) 상에 투영하도록 구성된 투영 시스템(예컨대, 굴절 투영 렌즈 시스템)(PS)을 포함한다.

조명 시스템(IL)은 방사선을 지향, 성형 또는 제어하기 위한 굴절식, 반사식, 자기식, 전자기식, 정전식, 또는 다른 형태의 광학 요소들 또는 이들의 임의의 조합과 같은 다양한 형태의 광학 요소들을 포함할 수 있다.

패터닝 장치 지지체는, 패터닝 장치의 배향, 리소그래피 장치의 디자인, 및 예컨대 패터닝 장치가 진공 분위기에서 유지되는지의 여부와 같은 기타 조건들에 좌우되는 방식으로 패터닝 장치를 유지한다. 패터닝 장치 지지체는 패터닝 장치를 유지하기 위해 기계식, 진공식, 정전식, 또는 기타 클램핑 기술들을 이용할 수 있다. 패터닝 장치 지지체는, 예컨대 필요에 따라 고정되거나 이동시킬 수 있는 프레임(frame) 또는 테이블일 수도 있다. 패터닝 장치 지지체는 패터닝 장치가 예컨대 투영 시스템에 대하여 요구된 위치에 있도록 할 수 있다. 본 명세서에서 사용되는 "레티클" 또는 "마스크"라는 용어는 "패터닝 장치"라는 좀 더 일반적인 용어와 동의어로 간주될 수 있다.

본 명세서에서 사용되는 "패터닝 장치"라는 용어는, 기판의 타겟 영역에 패턴을 생성하기 위하여 방사 빔의 단면에 패턴을 부여하기 위해 사용될 수 있는 어떠한 디바이스도 포함되는 것으로 폭넓게 해석되어야 한다. 방사 빔에 부여된 패턴은, 예컨대 그 패턴이 위상 반전 형상부(phase-shifting feature) 또는 이른바 어시스트 형상부(assist feature)를 포함하는 경우, 기판의 타겟 영역 내의 요구된 패턴과 정확하게 대응하지 않을 수도 있다는 것에 유의하여야 한다. 일반적으로, 방사 빔에 부여된 패턴은 집적회로와 같은 타겟 영역 내에 생성되는 디바이스에서의 특정 기능층에 대응할 것이다.

패터닝 장치(MA)는 투과형 또는 반사형 모두 가능하다. 패터닝 장치의 예로는 마스크, 프로그래머블 미러 어레이, 및 프로그래머블 LCD 패널을 포함한다. 마스크는 리소그래피 분야에서 잘 알려져 있으며, 바이너리형, 교번 위상 반전형 및 감쇠 위상 반전형과 같은 마스크 타입뿐만 아니라 다양한 하이브리드 마스크 타입들을 포함한다. 프로그래머블 미러 어레이의 예는 소형 미러들의 매트릭스 배열을 채용하며, 그 각각의 미러들은 입사하는 방사 빔을 상이한 방향으로 반사시키도록 개별적으로 경사지는 것이 가능하다. 경사진 미러들은 미러 매트릭스에 의해 반사되는 방사 빔에 패턴을 부여한다.

본 명세서에서 사용되는 "투영 시스템"이라는 용어는, 이용되고 있는 노광 방사선에 대하여 적합하거나 또는 액침액(immersion liquid)의 사용 또는 진공의 사용과 같은 다른 요인들에 대하여 적합하다면, 굴절형, 반사형, 반사 굴절형(catadioptric), 자기형, 전자기형, 및 정전형 광학 시스템, 또는 이들의 임의의 조합을 포함하는 어떠한 타입의 투영 시스템도 포함하는 것으로서 폭넓게 해석되어야 한다. 본 명세서에서 사용되는 "투영 렌즈"라는 용어는 "투영 시스템"이라는 좀더 일반적인 용어의 동의어로 간주할 수 있다.

본 명세서에서 설명한 바와 같이, 리소그래피 장치는 투과형 타입(예컨대, 투과형 마스크를 채용함)이다. 이와 달리, 리소그래피 장치는 반사형 타입(예컨대, 전술한 바와 같은 유형의 프로그래머블 미러 어레이를 채용하거나, 또는 반사형 마스크를 채용함)일 수도 있다.

리소그래피 장치는 2개(듀얼 스테이지) 이상의 기판 테이블 또는 "기판 지지체"(및/또는 2개 이상의 마스크 테이블 또는 "마스크 지지체")를 갖는 형태로 구성될 수 있다. 이러한 "복수 스테이지" 기계에서는, 추가의 테이블 또는 추가의 지지체가 병행하여 사용될 수 있거나, 또는 하나 이상의 테이블 또는 지지체 상에 예비 공정을 수행하면서 다른 하나 이상의 테이블 또는 지지체를 노광용으로 사용하는 것이 가능하다.

리소그래피 장치는 또한 기판의 적어도 일부분을 물과 같은 비교적 굴절률이 높은 액체로 덮어 투영 시스템과 기판 사이의 공간을 채우도록 하는 형태로 될 수도 있다. 액침액은 예컨대 마스크와 투영 시스템 사이와 같은 리소그래피 장치 내의 다른 공간에도 가해질 수 있다. 액침 기술은 투영 시스템의 개구수(numerical aperture)를 증가시키기 위해 사용될 수 있다. 본 명세서에 사용된 바와 같은 "액침"이라는 용어는 복수의 기판과 같은 기판을 반드시 액체에 침지시켜야 하는 것을 의미하지는 않고, 노광하는 동안에 투영 시스템과 기판 사이에 액체를 위치시키는 것을 의미한다.

도 1을 참조하면, 조명기(IL)는 방사 소스(SO)로부터 방사 빔을 수광한다. 예컨대, 방사 소스(SO)가 엑시머 레이저인 경우, 방사 소스와 리소그래피 장치는 별도의 장치일 수도 있다. 이러한 경우, 방사 소스는 리소그래피 장치의 일부를 형성하는 것으로 고려되지 않으며, 방사 빔은 예컨대 적합한 지향 미러 및/또는 빔 확장기(beam expander)를 포함하는 빔 전달 시스템(BD)을 이용하여 방사 소스(SO)로부터 조명기(IL)로 전달된다. 다른 경우에, 예컨대 방사 소스가 수은 램프인 경우에, 이 방사 소스는 리소그래피 장치의 일체형 부품일 수도 있다. 방사 소스(SO) 및 조명기(IL)는 필요에 따라 빔 전달 시스템(BD)과 함께 방사 시스템으로 지칭될 수도 있다.

조명기(IL)는 방사 빔의 각도 세기 분포(angular intensity distribution)를 조정하는 조정기(AD)를 포함할 수 있다. 일반적으로, 조명기(IL)의 퓨필 평면(pupil plane) 내의 세기 분포의 적어도 외측 반경 및/또는 내측 반경 범위(통상적으로, 각각 외측-σ 및 내측-σ라 함)가 조정될 수 있다. 또한, 조명기(IL)는 집속기(integrator)(IN) 및 집광기(condenser)(CO)와 같은 다양한 다른 구성요소들을 포함할 수 있다. 조명기는 방사 빔의 단면에서 요구된 균일성 및 세기 분포를 갖도록 방사 빔을 조절하는데 사용될 수 있다.

방사 빔(B)은 패터닝 장치 구조체(예컨대, 마스크 테이블)(MT) 상에 유지되어 있는 패터닝 장치(예컨대, 마스크)(MA) 상에 입사되며, 패터닝 장치(MA)에 의해 패터닝된다. 패터닝 장치(예컨대, 마스크)(MA)를 종단한 후, 방사 빔(B)은 투영 시스템(PS)을 통과하고, 투영 시스템(PS)은 방사 빔을 기판(W)의 타겟 영역(C) 상에 집속한다. 제2 위치 설정기(PW), 제어 시스템(CS) 및 위치 센서(IF)(예컨대, 간섭계 디바이스, 선형 인코더, 또는 용량형 센서)를 이용하여, 예컨대 상이한 타겟 영역(C)을 방사 빔(B)의 경로 내에 위치시키도록 기판 테이블(WT)을 정확하게 이동시킬 수 있다. 마찬가지로, 제1 위치 설정기(PM) 및 다른 위치 센서(도 1에 명시적으로 도시되어 있지 않음)를 이용하여, 예컨대 마스크 라이브러리(mask library)로부터의 기계적 인출 후에 또는 스캔하는 동안에, 방사 빔(B)의 경로에 대하여 패터닝 장치(예컨대, 마스크)(MA)를 정확히 위치시키는 것이 가능하다. 일반적으로, 패터닝 장치 지지체(예컨대, 마스크 테이블)(MT)의 이동은, 제1 위치 설정기(PM)의 일부를 형성하는 롱-스트로크 모듈(long-stroke module; 개략적 위치 설정) 및 숏-스트로크 모듈(short-stroke module; 미세 위치 설정)을 이용하여 실현될 것이다. 마찬가지로, 기판 테이블(WT) 또는 "기판 지지체"의 이동은 제2 위치 설정기(PW)의 일부를 형성하는 롱-스트로크 모듈 및 숏-스트로크 모듈을 이용하여 실현될 수 있다. 스테퍼(스캐너와 반대되는 것으로서의)의 경우, 패터닝 장치 구조체(예컨대, 마스크 테이블)(MT)는 숏-스트로크 액추에이터에만 연결되거나, 그렇지 않으면 고정될 것이다. 제어 시스템(CS)은 위치 센서(IF)로부터의 입력에 기초하여 제2 위치 설정기(PW)에 구동 신호를 제공하도록 구성되며, 이 구동 신호는 위치 센서로부터의 입력에 기초하여 프로세서에 의해 주기적으로 산출된다.

패터닝 장치(예컨대, 마스크)(MA) 및 기판(W)은 패터닝 장치 정렬 마크(M1, M2) 및 기판 정렬 마크(P1, P2)를 이용하여 정렬될 수 있다. 도시된 바와 같이 기판 정렬 마크들이 전용의 타겟 영역에 위치하고 있지만, 이들 마크들은 타겟 영역(C)들 사이의 공간 내에 위치될 수도 있다(이들은 스크라이브-레인(scribe-lane) 정렬 마크로 알려져 있다). 마찬가지로, 마스크(MA) 상에 하나 이상의 다이가 제공되는 상황에서는, 패터닝 장치 정렬 마크들은 다이들 사이에 위치될 수 있다.

도시된 장치는 다음 모드들 중 하나 이상의 모드로 사용될 수 있다:

1. 스텝 모드에서는, 패터닝 장치 구조체(예컨대, 마스크 테이블)(MT) 또는 "마스크 지지체" 및 기판 테이블(WT) 또는 "기판 지지체"를 기본적으로 정지 상태로 유지한 채로, 방사 빔에 부여한 패턴 전체를 한 번에 타겟 영역(C) 상에 투영한다(즉, 단일 정지 노광). 그리고나서, 상이한 타겟 영역(C)이 노광될 수 있도록 기판 테이블(WT) 또는 "기판 지지체"를 X 방향 및/또는 Y 방향으로 이동시킨다. 스텝 모드에서는, 노광 필드의 최대 크기에 의해, 단일 정지 노광시에 이미징되는 타겟 영역(C)의 크기가 한정된다.

2. 스캔 모드에서는, 패터닝 장치 지지체(예컨대, 마스크 테이블)(MT) 또는 "마스크 지지체" 및 기판 테이블(WT) 또는 "기판 지지체"를 동기적으로 스캐닝하면서, 방사 빔(B)에 부여한 패턴을 타겟 영역(C) 상에 투영한다(즉, 단일 동적 노광). 마스크 테이블(MT) 또는 "마스크 지지체"에 관련한 기판 테이블(WT) 또는 "기판 지지체"의 속도 및 방향은 투영 시스템(PS)의 확대율(또는 축소율) 및 상 반전 특성에 의하여 결정될 수 있다. 스캔 모드에서는, 노광 필드의 최대 크기에 의해, 단일 동적 노광시의 타겟 영역(C)의 폭(스캐닝되지 않는 방향에서의 폭)이 한정되는 한편, 스캐닝 움직임의 길이에 의해 타겟 영역(C)의 높이(스캐닝 방향에서의 높이)가 결정된다.

3. 또 다른 모드에서는, 프로그래머블 패터닝 장치를 유지한 채로 패터닝 장치 지지체(예컨대, 마스크 테이블)(MT) 또는 "마스크 지지체"를 기본적으로 정지 상태로 하고, 또한 기판 테이블(WT) 또는 "기판 지지체"를 이동시키거나 스캐닝하면서, 방사 빔에 부여한 패턴을 타겟 영역(C) 상에 투영한다. 이 모드에서는, 일반적으로 펄스 방사 소스가 채용되며, 프로그래머블 패터닝 장치는 필요에 따라 기판 테이블(WT) 또는 "기판 지지체"의 각각의 이동 후에 업데이트되거나 또는 스캔 동안의 연속적인 방사 펄스의 사이에서 업데이트된다. 이 작동 모드는 앞서 언급한 바와 같은 타입의 프로그래머블 미러 어레이와 같은 프로그래머블 패터닝 장치를 이용하는 마스크 없는 리소그래피(maskless lithography)에 용이하게 적용될 수 있다.

또한, 전술한 사용 모드의 조합 및/또는 변형, 또는 전혀 다른 사용 모드가 채용될 수도 있다.

도 4는 예컨대 도 1의 리소그래피 장치의 제어 시스템(CS)에 사용될 수 있는 본 발명의 실시예에 따른 멀티-코어 프로세서(MCP')의 개략 예시도이다. 멀티-코어 프로세서(MCP')는 코어(C1', C2', C3')에 의해 공유되는 외부 통신 장치(ECF')를 포함하며, 이 외부 통신 장치는 스위치(SW')에 의해 나타낸 바와 같이 동일 시각에 하나의 코어와 통신할 수 있다. 외부 통신 장치는 외부 디바이스(ED')에 연결되어 있으며, 이 외부 디바이스로는 중앙 클록과 같은 타이밍 장치가 가능하지만, 도 1의 위치 센서(IF)와 같은 센서이어도 된다.

멀티-코어 프로세서(MCP')는 또한 예컨대 멀티캐스팅에 의해 각각의 코어와 동시에 통신할 수 있는 내부 통신 장치(ICF')를 포함한다.

외부 디바이스(ED')는 제1 신호를 멀티-코어 프로세서(MCP')에 주기적으로 보낼 수 있으며, 이 신호는 외부 통신 장치(ECF')를 통해 멀티-코어 프로세서에 의해 수신된다. 외부 통신 장치(ECF')는 제1 신호를 코어들 중의 하나, 이 경우에는 코어 C3'에 중계할 수 있다. 코어 C3'는 그 후 제1 신호를 처리함으로써 제2 신호가 생성되도록 할 수 있다. 제2 신호는, 예컨대 타이머와 같은, 내부 통신 장치를 통해 코어와 통신할 수 있는 디바이스(도시하지 않음)에서 생성된다. 또한, 이 디바이스는 내부 통신 장치의 일부가 될 수도 있다. 내부 통신 장치는 제2 신호를 각각의 코어에 동시에 전송할 수 있다. 그리고나서, 이들 코어는 제2 신호의 수신에 응답하여 각각의 코어에서 태스크를 로컬 방식으로(locally) 개시할 수 있다.

코어(C1', C2', C3')는 또한 도 2의 멀티-코어 프로세서(MCP)와 유사하게 우측을 향하는 화살표로 나타낸 바와 같은 출력을 갖는다.

도 5는 도 4의 멀티-코어 프로세서(MCP')의 코어(C1', C2', C3')에서 태스크(T')를 개시하기 위한 본 발명에 따른 방법을 도시하고 있다. 시간 t0'에서, 외부 디바이스(ED')에 의해 전송되는 제1 신호가 외부 통신 장치(ECF')를 통해 수신된다. 코어(C1', C2', C3')는 백그라운드 계산(BG')을 수행하고 있을 수도 있다. 이 예에서, 제1 신호는 코어 C3'에 중계되며, 코어 C3'는 내부 통신 장치 내의 타이머를 개시시킴으로써 시간 t1'와 t2' 사이(블록 H'으로 나타냄)에서 제1 신호를 처리하고, 타이머를 시간 t2'에서 종료하도록 설정한다. 시간 t2'에서, 타이머가 정지하고 제2 신호를 생성하며, 이 신호가 내부 통신 장치에 의해 각각의 코어에 실질적으로 동시에 전송된다. 제2 신호의 수신에 의해 각각의 코어에서 유사 스케줄링 프로세스(인터럽트 서비스 루틴으로서도 알려진)(S')가 개시되며, 이로써 시간 t2'에서 태스크(T')가 개시된다. 각각의 코어에서의 스케줄링 프로세스(S')는 그 코어의 백그라운드 계산(BG')을 인터럽트한다. 도 5의 실시예에서, 멀티-코어 프로세서는 제2 신호의 우선순위를 제1 신호의 우선순위보다 높게 설정하도록 구성된다.

태스크(T')가 완료된 후에는, 백그라운드 계산이 재개될 수 있다. 시간 t4'에서 태스크(T') 모두가 완료되며, 예컨대 시간 t5'에서 다음번의 제1 신호가 외부 통신 장치를 통해 수신되어, 전술한 방법의 단계가 주기적으로 반복될 수 있다.

본 발명의 실시예에 따른 방법의 이점은 태스크(T')가 동기화되고, 이를 이용하여 멀티-코어 프로세서의 출력을 마찬가지로 동기화할 수 있어서, 멀티-코어 프로세서로 인해 제어 루프에서 페이스가 손실되지 않게 된다는 점이다.

외부 디바이스로부터 신호를 수신하는 것과 최종 태스크(T')가 완료되는 순간 사이의 시간 간격(t0'∼t4')이 단축된다는 추가의 이점이 있다. 이것은 샘플링 주기를 더 작게 하거나 또는 샘플링 주기 당의 계산을 더 많이 할 수 있도록 하며, 이로써 멀티-코어 프로세서의 효율을 증가시킨다.

시간 t1'과 t2' 사이의 시간 간격은 가능한 한 작은 것이 바람직하며, 마찬가지로 시간 간격 t2'과 t3' 사이의 시간 간격도 가능한 한 작은 것이 바람직하다.

시간 t1'와 t3' 사이의 시간 간격이 멀티-코어 프로세서의 코어의 수에 좌우되지 않으며, 그에 따라 상대적으로 많은 수의 코어를 갖는 멀티-코어 프로세서에 적합하여, 샘플링 주기를 마찬가지로 증가시키지 않고서도 계산 용량을 증가시킬 것이라는 또 다른 이점이 있다.

일실시예에서, 2개 이상의 코어 및 이들 코어에 의해 공유되는 외부 통신 장치를 포함하는 멀티-코어 프로세서가 제공된다. 외부 통신 장치는 한 번에 하나의 코어와 통신할 수 있다. 멀티-코어 프로세서는 또한 각각의 코어와 동시에 통신할 수 있는 내부 통신 장치를 추가로 포함한다. 멀티-코어 프로세서는 외부 통신 장치를 통해 제1 신호를 수신하고 이 제 1 신호를 하나의 코어에 중계하도록 구성된다. 멀티-코어 프로세서는 하나의 코어에 의해 제1 신호를 처리함으로써 제2 신호가 생성되도록 구성된다. 멀티-코어 프로세서는 제2 신호를 내부 통신 장치에 의해 각각의 코어에 실질적으로 동시에 전송하고 제2 신호의 수신에 대한 응답으로 각각의 코어에서 태스크를 개시하도록 구성된다.

멀티-코어 프로세서는, 제2 신호를 수신한 후에, 제1 신호를 처리하는 코어를 포함한 코어 전부에서 태스크를 개시하도록 구성될 수 있다.

멀티-코어 프로세서는 제2 신호의 우선순위를 제1 신호의 우선순위보다 높게 설정하도록 구성될 수 있다.

내부 통신 장치는 제2 신호를 생성하도록 구성된 타이머를 포함할 수도 있다.

일실시예에서, 리소그래피 장치에서의 프로세스를 제어하는 제어 시스템이 제공된다. 제어 시스템은 디바이스의 입력에 기초하여 제어 시스템의 출력을 산출하도록 구성된 멀티-코어 프로세서를 포함한다. 멀티-코어 프로세서는, 2개 이상의 코어와, 이들 코어에 의해 공유되고 한 번에 하나의 코어와 통신할 수 있는 외부 통신 장치를 포함한다. 멀티-코어 프로세서는 각각의 코어와 동시에 통신할 수 있는 내부 통신 장치를 추가로 포함한다. 멀티-코어 프로세서는 외부 통신 장치를 통해 제1 신호를 수신하고 이 제 1 신호를 하나의 코어에 중계하도록 구성된다. 멀티-코어 프로세서는 하나의 코어에 의해 제1 신호를 처리함으로써 제2 신호가 생성되도록 구성된다. 멀티-코어 프로세서는 제2 신호를 내부 통신 장치에 의해 각각의 코어에 실질적으로 동시에 전송하고 제2 신호의 수신에 대한 응답으로 각각의 코어에서 태스크를 개시하도록 구성된다.

멀티-코어 프로세서는 제2 신호를 생성하도록 구성된 타이머를 포함할 수도 있다.

일실시예에서, 제어 시스템 및 센서를 포함하는 리소그래피 장치가 제공된다. 제어 시스템은 리소그래피 장치에서의 프로세스를 제어한다. 센서는 프로세스에 기초하여 제어 시스템에 입력을 제공할 것이다. 제어 시스템은 센서의 입력에 기초하여 제어 시스템의 출력을 산출하도록 구성된 멀티-코어 프로세서를 포함한다. 멀티-코어 프로세서는, 2개 이상의 코어와, 이들 코어에 의해 공유되고 한 번에 하나의 코어와 통신할 수 있는 외부 통신 장치를 포함한다. 멀티-코어 프로세서는 각각의 코어와 동시에 통신할 수 있는 내부 통신 장치를 추가로 포함한다. 멀티-코어 프로세서는 외부 통신 장치를 통해 제1 신호를 수신하고 이 제 1 신호를 하나의 코어에 중계하도록 구성된다. 멀티-코어 프로세서는 하나의 코어에 의해 제1 신호를 처리함으로써 제2 신호가 생성되도록 구성된다. 멀티-코어 프로세서는 제2 신호를 내부 통신 장치에 의해 각각의 코어에 실질적으로 동시에 전송하고 제2 신호의 수신에 대한 응답으로 각각의 코어에서 태스크를 개시하도록 구성된다.

일실시예에서, 멀티-코어 프로세서의 코어에서 태스크를 개시하는 방법이 제공된다. 멀티-코어 프로세서는, 코어에 의해 공유되고 한 번에 하나의 코어와 통신할 수 있는 외부 통신 장치를 포함한다. 멀티-코어 프로세서는 각각의 코어와 동시에 통신할 수 있는 내부 통신 장치를 추가로 포함한다. 상기 방법은, 외부 통신 장치를 통해 제1 신호를 수신하는 단계와, 이 제 1 신호를 코어 중의 하나에 중계하는 단계를 포함한다. 상기 방법은 또한 하나의 코어에 의해 제1 신호를 처리함으로써 제2 신호가 생성되도록 하는 단계를 포함한다. 또한, 상기 방법은, 제2 신호를 내부 통신 장치에 의해 각각의 코어에 실질적으로 동시에 전송하는 단계와, 제2 신호의 수신에 대한 응답으로 각각의 코어에서 태스크를 개시하는 단계를 포함한다.

멀티-코어 프로세서에 의해 제2 신호의 우선순위가 제1 신호의 우선순위보다 높게 설정될 수 있다. 제2 신호는 타이머에 의해 생성될 수도 있다.

본 명세서에서는, 집적회로(IC)의 제조에 있어서 리소그래피 장치의 사용예에 대해 특정하게 언급하였지만, 본 명세서에서 설명된 리소그래피 장치는 집적 광학 시스템, 자기 도메인 메모리(magnetic domain memory)용 유도 및 검출 패턴, 평판 디스플레이, 액정 디스플레이(LCD), 박막 자기 헤드의 제조와 같은 기타 응용예들을 가질 수 있음을 이해하여야 한다. 당업자라면, 이러한 다른 응용예와 관련하여, 본 명세서에서 사용된 "웨이퍼" 또는 "다이"와 같은 어떠한 용어의 사용도 각각 "기판" 또는 "타겟 영역"과 같은 좀더 일반적인 용어와 동의어로 간주될 수 있음을 이해할 것이다. 본 명세서에서 언급되는 기판은, 노광 전후에, 예컨대 트랙(전형적으로 기판에 레지스트층을 도포하고 노광된 레지스트를 현상하는 장치), 계측 장비, 및/또는 검사 장치에서 처리될 수 있다. 적용 가능한 범위에서, 상기 기판 처리 장치와 여타 기판 처리 장치에 본 명세서의 개시 내용이 적용될 수 있다. 또한, 예컨대 다층 집적회로를 생성하기 위하여 기판이 복수 회 처리될 수 있으므로, 본 명세서에 사용되는 기판이라는 용어는 이미 여러 번 처리된 층들을 포함한 기판을 지칭할 수도 있다.

앞에서는 광학 리소그래피의 관점에서 본 발명의 실시예를 이용하는 것에 대하여 구체적인 참조가 이루어졌을 수도 있지만, 본 발명은 예컨대 임프린트 리소그래피와 같은 다른 응용분야에 이용될 수도 있으며, 또한 문맥이 허락하는 곳에서는 광학 리소그래피로 한정되지 않는다. 임프린트 리소그래피에서는, 패터닝 장치의 토폴로지가 기판에 제공된 레지스트의 층 내로 프레스될 수 있으며, 그 후에 레지스트를 전자기 방사선, 가열, 압력 또는 이들의 조합을 가함으로써 경화시킨다. 레지스트가 경화된 후에는, 패터닝 장치는 레지스트의 외측으로 이동되어 레지스트 층에 패턴을 잔류시킨다.

본 명세서에 사용된 "방사선" 및 "빔"이라는 용어는, 자외(UV) 방사선(예컨대, 365, 248, 193, 157, 또는 126 ㎚의 파장을 가짐) 및 극자외(EUV) 방사선(예컨대, 5∼20 ㎚ 범위의 파장을 가짐)을 포함하는 모든 유형의 전자기 방사선뿐만 아니라 이온빔 또는 전자빔과 같은 입자빔을 포괄한다.

"렌즈"라는 용어는 문맥이 허용하는 곳에서는 굴절성, 반사성, 자기성, 전자기성, 및 정전성 광학 요소들을 포함하는 다양한 타입의 광학 요소들 중 어느 하나 또는 그 조합을 지칭할 수도 있다.

이상에서 본 발명의 특정 실시예들이 설명되었지만, 본 발명은 설명된 것과 다르게 실시될 수도 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 예컨대, 본 발명의 실시예는 상기 개시된 바와 같은 방법을 기술하는 기계 판독 가능한 명령어들의 하나 이상의 시퀀스들을 포함하는 컴퓨터 프로그램, 또는 이러한 컴퓨터 프로그램이 저장되는 데이터 저장 매체(예컨대, 반도체 메모리, 자기 디스크, 또는 광학 디스크)의 형태를 취할 수도 있다.

전술한 내용은 예시를 위한 것으로, 본 발명을 제한하려는 것이 아니다. 따라서, 당업자라면 하기 청구항들의 범위를 벗어나지 않고서도 전술한 본 발명에 대한 변형예가 이루어질 수도 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims

멀티-코어 프로세서에 있어서,
2개 이상의 코어;
상기 코어에 의해 공유되고, 한 번에 하나의 코어와 통신할 수 있는 외부 통신 장치; 및
각각의 상기 코어와 동시에 통신할 수 있는 내부 통신 장치
를 포함하며,
상기 외부 통신 장치를 통해 제1 신호를 수신하고,
상기 제1 신호를 하나의 코어에 중계하며,
상기 하나의 코어에 의해 상기 제1 신호를 처리함으로써 제2 신호가 생성되도록 하며,
상기 제2 신호를 상기 내부 통신 장치에 의해 각각의 상기 코어에 실질적으로 동시에 전송하며,
상기 제2 신호의 수신에 대한 응답으로 각각의 상기 코어에서 태스크를 개시하도록 구성되는,
멀티-코어 프로세서.
제1항에 있어서,
상기 제2 신호를 수신한 후에는, 상기 제1 신호를 처리하는 상기 하나의 코어를 포함한 상기 코어 전부에서 태스크를 개시하도록 구성되는, 멀티-코어 프로세서.
제1항에 있어서,
상기 제2 신호의 우선순위를 상기 제1 신호의 우선순위보다 높게 설정하도록 구성되는, 멀티-코어 프로세서.
제1항에 있어서,
상기 내부 통신 장치는 상기 제2 신호를 생성하도록 구성된 타이머를 포함하는, 멀티-코어 프로세서.
리소그래피 장치에서의 프로세스를 제어하는 제어 시스템에 있어서,
디바이스의 입력에 기초하여 상기 제어 시스템의 출력을 산출하도록 구성된 멀티-코어 프로세서를 포함하며, 상기 멀티-코어 프로세서는,
2개 이상의 코어;
상기 코어에 의해 공유되고, 한 번에 하나의 코어와 통신할 수 있는 외부 통신 장치; 및
각각의 상기 코어와 동시에 통신할 수 있는 내부 통신 장치
를 포함하며,
상기 멀티-코어 프로세서는,
상기 외부 통신 장치를 통해 제1 신호를 수신하고,
상기 제1 신호를 하나의 코어에 중계하며,
상기 하나의 코어에 의해 상기 제1 신호를 처리함으로써 제2 신호가 생성되도록 하며,
상기 제2 신호를 상기 내부 통신 장치에 의해 각각의 상기 코어에 실질적으로 동시에 전송하며,
상기 제2 신호의 수신에 대한 응답으로 각각의 상기 코어에서 태스크를 개시하도록 구성되는,
제어 시스템.
제5항에 있어서,
상기 멀티-코어 프로세서는, 상기 제2 신호를 수신한 후에는, 상기 제1 신호를 처리하는 상기 하나의 코어를 포함한 상기 코어 전부에서 태스크를 개시하도록 구성되는, 제어 시스템.
제5항에 있어서,
상기 멀티-코어 프로세서는 상기 제2 신호의 우선순위를 상기 제1 신호의 우선순위보다 높게 설정하도록 구성되는, 제어 시스템.
제5항에 있어서,
멀티-코어 프로세서는 상기 제2 신호를 생성하도록 구성된 타이머를 포함하는, 제어 시스템.
리소그래피 장치에 있어서,
상기 리소그래피 장치에서의 프로세스를 제어하는 제어 시스템과, 상기 프로세스에 기초하여 상기 제어 시스템에 입력을 제공하는 센서를 포함하며, 상기 제어 시스템은, 상기 센서의 입력에 기초하여 상기 제어 시스템의 출력을 산출하도록 구성된 멀티-코어 프로세서를 포함하며, 상기 멀티-코어 프로세서는,
2개 이상의 코어;
상기 코어에 의해 공유되고, 한 번에 하나의 코어와 통신할 수 있는 외부 통신 장치; 및
각각의 상기 코어와 동시에 통신할 수 있는 내부 통신 장치
를 포함하며,
상기 멀티-코어 프로세서는,
상기 외부 통신 장치를 통해 제1 신호를 수신하고,
상기 제1 신호를 하나의 코어에 중계하며,
상기 하나의 코어에 의해 상기 제1 신호를 처리함으로써 제2 신호가 생성되도록 하며,
상기 제2 신호를 상기 내부 통신 장치에 의해 각각의 상기 코어에 실질적으로 동시에 전송하며,
상기 제2 신호의 수신에 대한 응답으로 각각의 상기 코어에서 태스크를 개시하도록 구성되는,
리소그래피 장치.
제9항에 있어서,
상기 멀티-코어 프로세서는, 상기 제2 신호를 수신한 후에는, 상기 제1 신호를 처리하는 상기 하나의 코어를 포함한 상기 코어 전부에서 태스크를 개시하도록 구성되는, 리소그래피 장치.
제9항에 있어서,
상기 멀티-코어 프로세서는 상기 제2 신호의 우선순위를 상기 제1 신호의 우선순위보다 높게 설정하도록 구성되는, 리소그래피 장치.
제9항에 있어서,
멀티-코어 프로세서는 상기 제2 신호를 생성하도록 구성된 타이머를 포함하는, 리소그래피 장치.
멀티-코어 프로세서의 코어에서 태스크를 개시하도록 하는 방법에 있어서,
상기 멀티-코어 프로세서는, 상기 코어에 의해 공유되고, 한 번에 하나의 코어와 통신할 수 있는 외부 통신 장치와, 각각의 상기 코어와 동시에 통신할 수 있는 내부 통신 장치를 포함하며,
상기 방법은,
상기 외부 통신 장치를 통해 제1 신호를 수신하는 단계;
상기 제1 신호를 하나의 코어에 중계하는 단계;
상기 하나의 코어에 의해 상기 제1 신호를 처리함으로써 제2 신호가 생성되도록 하는 단계;
상기 제2 신호를 상기 내부 통신 장치에 의해 각각의 상기 코어에 실질적으로 동시에 전송하는 단계; 및
상기 제2 신호의 수신에 대한 응답으로 각각의 상기 코어에서 태스크를 개시하는 단계
를 포함하는, 멀티-코어 프로세서의 코어에서 태스크를 개시하는 방법.
제13항에 있어서,
상기 제2 신호의 우선순위가 상기 멀티-코어 프로세서에 의해 상기 제1 신호의 우선순위보다 높게 설정되는, 멀티-코어 프로세서의 코어에서 태스크를 개시하는 방법.
제13항에 있어서,
상기 제2 신호는 타이머에 의해 생성되는, 멀티-코어 프로세서의 코어에서 태스크를 개시하는 방법.