KR20100059458A - 약액 공급 장치 - Google Patents
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Abstract
가스의 압력으로 약액을 공급하는 약액 공급 장치를 개시한다. 약액 공급 장치는 약액을 저장하는 약액 저장부, 약액 저장부로부터 약액을 공급받아 토출하는 노즐, 약액 저장부로부터 노즐까지 약액을 전달하는 약액 공급 라인, 약액 공급 라인에 배치되어 약액의 배출에 의한 압력 정보를 검출하는 압력계, 약액 저장부에 가스를 공급하는 가스 공급부, 가스를 전달하는 가스 공급 라인, 가스 공급 라인에 배치되어 가스의 이동량을 제어하는 전공 레귤레이터 및 전공 레귤레이터 및 압력계와 연결되고, 압력계로부터 수신된 압력 정보로 약액 저장부로 공급되는 가스의 양을 조절하기 위해 전공 레귤레이터를 제어하는 제어부를 포함한다.
Description
본 발명은 약액 공급 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 가스의 압력으로 약액을 공급하는 약액 공급 장치에 관한 것이다.
일반적으로 기판 처리 장치는 반도체 제조용 웨이퍼 및 평판 디스플레이 제조용 유리기판 등의 기판을 처리하는 장치이다. 이러한 기판 처리 장치는 다양한 종류의 약액을 사용하여 기판 표면을 처리한다. 따라서, 기판 처리 장치는 약액을 공급하는 장치가 필요하다.
도 1은 종래의 일반적인 약액 공급 장치의 일 예를 개략적으로 나타내는 구성도이다.
도 1을 참조하면, 약액 공급 장치(5)는 식각 및 세정 공정에 사용되는 약액을 저장하는 약액 저장부(10)에서 약액 공급 라인(15)을 통해 노즐(20)로 약액을 공급한다. 이때, 약액 저장부(10)는 가스 공급부(40)로부터 가스를 공급받아 약액을 배출하며, 약액 공급 라인(15)에 설치된 약액 공급 밸브(30)가 약액의 공급량을 조절한다. 가스 공급부(40)는 가스 공급 라인(45)을 통해 약액 저장부(10)로 가스를 공급하며, 가스 공급 라인(45)에 설치된 정밀 레귤리에터(50)가 약액 저장 부(10)에 공급되는 가스의 이동량을 제어한다.
여기서, 약액 공급 장치(5)는 약액 저장부(10)에서 상기 약액이 배출될 때 내부의 압력이 변화하여 저장된 약액이 출렁인다. 이에 따라 종래의 약액 공급 장치(5)에서는 상기 약액의 유량 변화를 확인하기 위해 상기 약액 저장부(10)에 설치된 센서(미도시)가 급격한 유량 변화로 오동작하거나 알람을 발생시켰다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 약액의 유량 변동을 최소화하기 위해 약액을 토출할 때 발생하는 압력 강하에 신속히 대응하여 안정적으로 약액을 공급할 수 있는 약액 공급 장치를 제공하는 것이다.
상술한 과제를 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 약액 공급 장치는 상기 약액을 저장하는 약액 저장부, 상기 약액 저장부로부터 상기 약액을 공급받아 토출하는 노즐, 상기 약액 저장부로부터 상기 노즐까지 상기 약액을 전달하는 약액 공급 라인, 상기 약액 공급 라인에 배치되어 상기 약액의 배출에 의한 압력 정보를 검출하는 압력계, 상기 약액 저장부에 가스를 공급하는 가스 공급부, 상기 가스를 전달하는 가스 공급 라인, 상기 가스 공급 라인에 배치되어 상기 가스의 이동량을 제어하는 전공 레귤레이터 및 상기 전공 레귤레이터 및 상기 압력계와 연결되고, 상기 압력계로부터 수신된 상기 압력 정보로 상기 약액 저장부로 공급되는 상기 가스의 양을 조절하기 위해 상기 전공 레귤레이터를 제어하는 제어부를 포함한다.
여기서, 상기 약액 저장부는 이소프로필알콜을 저장하고, 상기 가스 공급부는 질소 가스를 공급한다.
상술한 약액 공급 장치에 따르면 압력계와 제어부를 구비함으로써, 약액을 토출할 때 발생하는 압력 강하에 신속히 반응하여 약액 저장부의 내부 압력 변화에 의한 약액의 출렁임을 최소화할 수 있다.
이하에서는 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세하게 설명한다. 상술한 본 발명이 해결하고자 하는 과제, 과제 해결 수단, 및 효과는 첨부된 도면과 관련된 실시 예들을 통해서 용이하게 이해될 것이다. 각 도면은 명확한 설명을 위해 일부가 간략하거나 과장되게 표현되었다. 각 도면의 구성 요소들에 참조 번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 동일한 부호를 가지도록 도시되었음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 약액 공급 장치를 개략적으로 나타내는 블럭도이다.
도 2를 참조하면, 약액 공급 장치(100)는 약액 저장부(110), 약액 공급 라인(115), 노즐(120), 약액 공급 밸브(130), 가스 공급부(140), 가스 공급 라인(145), 전공 레귤레이터(150), 압력계(160) 및 제어부(170)를 포함한다.
상기 약액 저장부(110)는 소정의 용량을 갖는 저장 탱크로 이루어진다. 상기 약액 저장부(110)는 상기 저장 탱크에 반도체 제조 공정에서 사용되는 약액 예컨대, 이소프로필알콜(IPA)을 저장한다. 상기 약액 저장부(110)는 저장된 상기 약액을 가스의 압력으로 배출한다.
상기 노즐(120)은 반도체 제조 공정에 투입된 반도체 기판에 상기 약액 저장부(110)로부터 공급되는 상기 약액을 토출한다. 이를 위해, 상기 노즐(120)은 상기 약액 공급 라인(115)과 연결되고, 상기 반도체 기판이 투입된 반도체 공정 설비에 배치된다.
상기 약액 공급 라인(115)은 예컨대, 파이프와 같이 관 형태로 이루어져 상기 약액 저장부(110)와 상기 노즐(120)을 연결한다. 상기 약액 공급 라인(115)은 상기 약액 저장부(110)로부터 배출되는 상기 약액의 이동 통로를 제공하여 상기 약액을 상기 노즐(120)에 전달한다. 상기 약액 공급 라인(115)에는 상기 약액의 이동량을 제어하기 위해 상기 약액 공급 밸브(130)가 설치된다.
상기 약액 공급 밸브(130)는 상기 약액 공급 라인(115)에 설치되고, 개폐를 통해 상기 약액 저장부(110)에서 배출되는 상기 약액의 양을 조절한다. 상기 약액 공급 밸브(130)는 사용자에 의해 수동으로 개폐되거나, 별도의 컨트롤러를 통해 자동으로 개폐될 수 있다.
상기 가스 공급부(140)는 상기 약액을 배출하기 위해 사용되는 가스를 저장하고 있다가 상기 약액 저장부(110)에서 상기 약액을 배출할 때 상기 약액 저장부(110)에 상기 가스를 공급한다. 상기 가스 공급부(140)는 상기 가스 공급 라인(145)을 통해 예컨대, 질소(N2) 가스를 상기 약액 저장부(110)에 공급할 수 있다.
상기 가스 공급 라인(145)은 상기 가스 공급부(140)와 상기 약액 저장부(110)를 연결한다. 상기 가스 공급 라인(145)은 상기 가스 공급부(140)에서 배출 되는 상기 가스의 이동 통로를 제공하여 상기 약액 저장부(110)로 상기 가스를 전달한다.
상기 전공 레귤레이터(150)는 상기 가스 공급 라인(145)에 설치되어 상기 가스의 이동량을 제어한다. 이를 위해, 상기 전공 레귤레이터(150)는 조절 밸브(미도시)를 포함하고, 공압을 조절하여 상기 조절 밸브의 개폐량을 제어한다. 이때, 상기 전공 레귤레이터(150)는 외부로부터 수신된 제어 신호를 통해 상기 조절 밸브의 개폐량을 제어할 수 있다.
상기 압력계(160)는 상기 약액 저장부(110)와 상기 약액 공급 밸브(130) 사이의 상기 약액 공급 라인(115)의 관로에 설치되며, 상기 약액 저장부(110)에서 배출되는 상기 약액의 압력을 측정한다. 상기 압력계(160)는 상기 측정된 약액의 압력 정보를 수집하여 네트워크로 연결된 상기 제어부(170)로 송신한다.
상기 제어부(170)는 상기 전공 레귤레이터(150)와 상기 압력계(160)에 네트워크로 연결된다. 상기 제어부(170)는 상기 압력계(160)로부터 상기 약액의 압력 정보를 수신하여 상기 약액 저장부(110)에서 약액 배출시 발생하는 압력 강하에 대응하도록 상기 전공 레귤레이터(150)를 제어한다. 예를 들어, 상기 제어부(170)는 상기 약액 저장부(110)에서 발생하는 압력 강하에 대응하도록 상기 전공 레귤레이터(150)로 제어 신호를 송신하여 상기 전공 레귤레이터(150)의 조절 밸브의 개폐 속도를 조절한다. 이때, 상기 제어부(170)는 상기 약액 저장부(110)에서 상기 약액이 배출되면서 내부의 압력 변화로 인해 상기 약액의 출렁임이 심해지는 것을 방지하기 위해 상기 약액의 배출 압력과 상기 가스의 공급 압력을 계산하여 상기 전공 레귤레이터(150)에 상기 제어 신호를 송신한다. 이를 통해, 상기 제어부(170)는 상기 압력계(160)로부터 수신된 압력 정보를 상기 전공 레귤레이터(150)에 피드백함으로써, 상기 약액 저장부(110)에서 상기 약액이 배출될 때 상기 약액 저장부(110)에 저장된 상기 약액이 출렁이는 폭을 감소시킬 수 있다.
상기 약액 공급 장치(100)는 상기 압력계(160)와 상기 제어부(170)를 구비함으로써, 약액을 토출할 때 발생하는 압력 강하에 신속히 반응하여 상기 약액 저장부의 내부 압력 변화에 의한 상기 약액의 출렁임을 최소화할 수 있다.
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
도 1은 종래의 일반적인 약액 공급 장치의 일 예를 개략적으로 나타내는 구성도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시 예에 따른 약액 공급 장치를 개략적으로 나타내는 블럭도이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
100: 약액 공급 장치 110: 약액 저장부
115: 약액 공급 라인 120: 노즐
130: 약액 공급 밸브 140: 가스 공급부
145: 가스 공급 라인 150: 전공 레귤레이터
170: 제어부
Claims (2)
- 반도체 제조 설비에 약액을 공급하는 약액 공급 장치에 있어서,상기 약액을 저장하는 약액 저장부;상기 약액 저장부로부터 상기 약액을 공급받아 토출하는 노즐;상기 약액 저장부로부터 상기 노즐까지 상기 약액을 전달하는 약액 공급 라인;상기 약액 공급 라인에 배치되어 상기 약액의 배출에 의한 압력 정보를 검출하는 압력계;상기 약액 저장부에 가스를 공급하는 가스 공급부;상기 가스를 전달하는 가스 공급 라인;상기 가스 공급 라인에 배치되어 상기 가스의 이동량을 제어하는 전공 레귤레이터; 및상기 전공 레귤레이터 및 상기 압력계와 연결되고, 상기 압력계로부터 수신된 상기 압력 정보로 상기 약액 저장부로 공급되는 상기 가스의 양을 조절하기 위해 상기 전공 레귤레이터를 제어하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
- 제1 항에 있어서,상기 약액 저장부는 이소프로필알콜을 저장하고, 상기 가스 공급부는 질소 가스를 공급하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020080118238A KR20100059458A (ko) | 2008-11-26 | 2008-11-26 | 약액 공급 장치 |
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Family
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KR20210055353A (ko) * | 2019-11-07 | 2021-05-17 | 세메스 주식회사 | 약액공급장치 |
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