KR20100059223A

KR20100059223A - Apparatus for cleaning a substrate

Info

Publication number: KR20100059223A
Application number: KR1020080117917A
Authority: KR
Inventors: 손석호; 김성철; 이창용; 최재현
Original assignee: 세메스 주식회사
Priority date: 2008-11-26
Filing date: 2008-11-26
Publication date: 2010-06-04

Abstract

PURPOSE: An apparatus for cleaning a substrate is provided to reduce the size of a substrate cleaning machine by performing one cleaning process with a brush unit and the other cleaning process with a twin fluid atomizer in a single processing container. CONSTITUTION: A substrate loading part(110) loads a substrate. A transferring unit(122) transfers the substrate. While the substrate is transferred, the angle of the substrate is 60° to 80°. A plurality of brush units(124) brushes the substrate during a substrate transferring process. A highly pressurized cleaning solution is mixed with air. A twin fluid atomizer(126) sprays the mixture in a mist form toward the substrate which is previously cleaned by the brush units.

Description

Apparatus for cleaning a substrate

본 발명은 기판 세정 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판을 수직에 가까울 경사각으로 이송하면서 상기 기판을 세정할 수 있는 기판 세정 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate cleaning apparatus, and more particularly, to a substrate cleaning apparatus capable of cleaning the substrate while transferring the substrate at an inclined angle close to the vertical.

일반적으로, 평판 디스플레이 장치의 제조에서 유리 기판과 같은 대면적 기판에 대하여 소정의 처리 공정들이 수행될 수 있다. 예를 들면, 식각 공정, 스트립 공정, 세정 공정, 건조 공정, 등과 같은 단위 공정들이 상기 기판에 대하여 수행될 수 있으며, 상기 단위 공정들을 수행하기 위한 장치는 일반적으로 인라인 방식으로 기판을 이동시키면서 수행될 수 있다.In general, certain processing processes may be performed on large area substrates, such as glass substrates, in the manufacture of flat panel display devices. For example, unit processes such as an etching process, a strip process, a cleaning process, a drying process, and the like may be performed on the substrate, and the apparatus for performing the unit processes is generally performed while moving the substrate in an inline manner. Can be.

특히, 상기 세정 공정을 수행하기 위한 장치는 다수의 롤러들을 이용하여 상기 기판을 수평 방향으로 이송할 수 있으며, 상기 기판 상으로 세정 액을 공급할 수 있다. 또한, 기판 상의 불순물을 제거하기 위하여 상기 기판을 브러싱하는 다수의 브러시들과, 브러시들에 의해 일차 세정된 기판 상으로 고압의 이류체를 분사하여 상기 기판을 이차 세정하는 이류체 분사 노즐 등을 포함할 수 있다.In particular, the apparatus for performing the cleaning process may transfer the substrate in a horizontal direction by using a plurality of rollers, it is possible to supply the cleaning liquid onto the substrate. In addition, a plurality of brushes for brushing the substrate to remove impurities on the substrate, and a two-fluid injection nozzle for secondary cleaning the substrate by spraying a high-pressure air onto the substrate first cleaned by the brush can do.

또한, 상기 기판에 대한 세정은 세정 용기에서 진행될 수 있다. 예를 들어 상기 브러시를 이용한 일차 세정을 위한 세정 용기와, 이류체 분사 노즐에 의한 고압의 이류체를 이용한 이차 세정을 위한 세정 용기가 각각 구비되어 세정이 진행된다. In addition, the cleaning of the substrate may be performed in a cleaning vessel. For example, the cleaning container for the primary cleaning using the brush and the cleaning container for the secondary cleaning using the high pressure airflow by the two-fluid injection nozzle are provided, respectively.

이처럼 상기 브러시 및 이류체 분사 노즐에 대해 세정 용기를 개별적으로 구성하는 경우 기판 세정 설비가 대형화되는 문제점과 함께, 세정액의 사용량이 증가되는 문제점을 갖고 있다. 이와 함께, 최근 기판이 점차 대형화되는 추세로 인해 세정 설비의 사이즈 역시 증가되고 있어 상기 설비의 사이즈를 줄이고 세정액의 사용량을 줄일 수 있는 기판 세정 장치의 설계가 요구되고 있는 실정이다.As described above, when the cleaning container is individually configured for the brush and the air atomizing nozzle, the substrate cleaning equipment is enlarged, and the amount of the cleaning liquid is increased. In addition, the size of the cleaning equipment is also increased due to the recent increase in the size of the substrate is a situation that requires the design of a substrate cleaning device that can reduce the size of the equipment and the amount of the cleaning liquid used.

따라서 본 발명의 실시예를 통해 해결하고자 하는 일 과제는 기판 세정 설비의 사이즈를 줄이고, 세정액의 사용량을 줄일 수 있는 기판 세정 장치를 제공하는 것이다.Therefore, one problem to be solved by the embodiment of the present invention is to provide a substrate cleaning apparatus that can reduce the size of the substrate cleaning equipment, the amount of the cleaning liquid used.

상기 본 발명의 일 과제를 달성하기 위해 본 발명에 따른 기판 세정 장치에서 세정 공정부는 상기 기판을 60°내지 80°의 경사각을 갖는 상태로 일 방향으로 이송하는 이송 유닛과, 상기 이송 유닛에 의해 이송되는 기판을 브러싱하여 1차 세정하는 다수의 브러시 유닛들과, 상기 1차 세정된 기판으로 고압의 세정액과 에어를 혼합하여 미스트 형태로 분사하여 상기 기판을 2차 세정하는 이류체 분사 노즐과, 상기 기판에 대해 세정 공간을 제공하며, 내부에 상기 이송 유닛, 상기 브러시 유닛들, 상기 이류체 분사 노즐이 위치하는 하나의 공정 용기를 포함한다.In order to achieve the object of the present invention, in the substrate cleaning apparatus according to the present invention, the cleaning process unit transfers the substrate in one direction in a state having an inclination angle of 60 ° to 80 °, and the transfer unit is transferred by the transfer unit. A plurality of brush units for first cleaning by brushing a substrate, a high-pressure cleaning liquid and air mixed with the first cleaned substrate, and spraying in a mist form to spray the substrate, and a double-fluid nozzle for cleaning the substrate secondly; It provides a cleaning space for the substrate, and includes a process vessel in which the transfer unit, the brush units, and the air atomizing nozzle are located.

여기서 일 실시예에 따르면, 상기 이송 유닛은 상기 경사각을 갖도록 배치된 상기 기판을 지지하여 이송하기 위한 이송 벨트와, 상기 이송 벨트와 연결되며, 상기 기판을 이송하기 위하여 상기 이송 벨트를 회전시키는 구동 풀리들과, 상기 구동 풀리들과 연결되며 상기 이송 벨트를 회전시키기 위한 회전력을 제공하는 구동부와, 상기 이송 벨트에 의해 지지된 기판의 일평면 방향에 배치되어 상기 기판의 이송 중에 상기 기판이 쓰러지지 않고 상기 경사각을 유지하도록 지지하는 아이들 롤러들(idle rollers)을 포함할 수 있다. 또한, 상기 이송 벨트는 상기 기판의 안 정적 지지를 위해 상기 기판이 지지되는 벨트 바깥면에 상기 회전 방향을 따라서 형성된 슬릿 형태의 안착홈이 구비될 수 있다.According to one embodiment, the transfer unit is a transport belt for supporting and transporting the substrate disposed to have the inclination angle, and a drive pulley connected to the transport belt, and rotates the transport belt to transport the substrate And a driving unit connected to the driving pulleys to provide a rotational force for rotating the transfer belt, and disposed in one plane direction of the substrate supported by the transfer belt, so that the substrate does not fall during transfer of the substrate. It may include idle rollers for supporting to maintain the inclination angle. In addition, the transfer belt may be provided with a slit-shaped mounting groove formed along the rotation direction on the outer surface of the belt on which the substrate is supported for stable support of the substrate.

다른 실시예에 따르면, 상기 이송 유닛은 지지 부재들 및 링크 부재들이 교대로 연결되며, 상기 기판을 지지하여 이송하기 위한 이송 체인과, 상기 지지 부재들 상에 각각 구비되며 수지계열의 물질로 이루어져 상기 지지 부재들에 지지되는 기판의 손상을 방지하기 위한 완충 부재들과, 상기 이송 체인에 지지된 기판의 일측에 배치되며, 상기 기판의 이송 중에 상기 기판이 상기 지지 부재의 상면에 대해 상기 경사각을 갖도록 지지하는 아이들 롤러와, 상기 이송 체인에 기어 결합하며 상기 기판을 이송하기 위하여 상기 이송 체인을 회전시키는 체인 기어들과, 상기 체인 기어들과 연결되며 상기 이송체인을 회전시키기 위한 회전력을 상기 체인 기어들로 제공하는 구동부를 포함할 수 있다. According to another embodiment of the present invention, the transfer unit includes support members and link members alternately connected to each other, a transfer chain for supporting and transporting the substrate, and a resin-based material provided on the support members, respectively. Shock absorbing members for preventing damage to the substrate supported by the supporting members, and disposed on one side of the substrate supported by the transfer chain, so that the substrate has the inclination angle with respect to the upper surface of the supporting member during transfer of the substrate. The chain gears support idle rollers, gear chains that rotate to the transfer chain and rotate the transfer chain to transfer the substrate, and rotational forces connected to the chain gears to rotate the transfer chain. It may include a driving unit to provide.

또한, 상기 완충 부재들은 상기 평판형 기판이 미끄러지는 것을 방지하기 위한 상기 기판의 이송 방향을 따라서 형성된 슬릿 형태의 안착홈이 구비될 수 있다.In addition, the buffer members may be provided with a slit-shaped mounting groove formed along a transport direction of the substrate to prevent the flat substrate from slipping.

또 다른 실시예에 따르면, 상기 이송 유닛은 상기 경사각을 갖도록 배치되고, 평판형 기판이 상기 경사각을 갖는 상태로 적재되는 캐리어와, 일 방향으로 배치되어 상기 캐리어를 지지하며, 상기 캐리어를 상기 경사각을 갖는 상태로 이송하기 위해 회전하는 구동 풀리들과, 상기 구동 풀리들과 연결되며, 상기 구동 풀리들이 회전하도록 회전력을 제공하는 구동부를 포함할 수 있다. 또한, 상기 캐리어의 일측에 배치되어 상기 캐리어의 이송 중에 상기 캐리어가 상기 경사각을 유지하도록 지지하는 아이들 롤러들(idle rollers)을 포함할 수 있다.According to yet another embodiment, the transfer unit is disposed to have the inclination angle, the carrier is loaded with the flat substrate having the inclination angle, and arranged in one direction to support the carrier, the carrier to the inclination angle It may include a driving pulley that rotates to transfer to have a state, and a driving unit connected to the driving pulleys, and provides a rotational force to rotate the drive pulleys. In addition, it may include idle rollers disposed on one side of the carrier to support the carrier to maintain the inclination angle during transport of the carrier.

또 다른 실시예에 따르면, 상기 이송 유닛은 상기 경사각을 갖도록 배치되고, 평판형 기판이 상기 경사각을 갖는 상태로 적재되는 캐리어와, 일 방향으로 배치되고 상기 캐리어를 지지하여 상기 캐리어와 기어 결합하며, 상기 캐리어를 상기 경사각을 갖는 상태로 이송하기 위해 회전하는 이송 기어들과, 상기 이송 기어들과 연결되며, 상기 이송 기어들이 회전하도록 회전력을 제공하는 구동부를 포함할 수 있다. 또한, 상기 캐리어의 일측에 배치되어 상기 캐리어의 이송 중에 상기 캐리어가 상기 경사각을 유지하도록 지지하는 아이들 롤러들(idle rollers)을 포함할 수 있다.According to another embodiment, the transfer unit is disposed to have the inclination angle, the carrier is loaded with a flat substrate having the inclination angle, and arranged in one direction and support the carrier to gear coupling with the carrier, It may include a transfer gear that rotates to transfer the carrier in the state having the inclination angle, and a drive unit connected to the transfer gears, and provides a rotational force to rotate the transfer gears. In addition, it may include idle rollers disposed on one side of the carrier to support the carrier to maintain the inclination angle during transport of the carrier.

또 다른 실시예에 따르면, 상기 공정 용기 내에 배치되며 상기 브러시 유닛이 상기 기판을 브러싱할 때 상기 브러시로 세정액을 공급하는 샤워 노즐들을 더 포함할 수 있다.In still another embodiment, the apparatus may further include shower nozzles disposed in the process container and supplying a cleaning liquid to the brush when the brush unit brushes the substrate.

이와 같이 구성된 본 발명에 따른 기판 세정 장치는 기판을 수직에 가까운 경사각으로 이송할 수 있는 이송 유닛을 사용하고, 브러시 유닛에 의한 세정과 이류체 분사 노즐을 이용한 세정을 단일 공정 용기 내에서 진행함으로써, 기판 세정 설비의 사이즈를 줄일 수 있다. 또한, 상기 브러시 및 이류체 분사노즐이 단일 공정 용기에 구비됨에 따라서 세정액의 사용량을 줄이소, 이의 공급을 위한 라인의 구성을 간소화 할 수 있다.The substrate cleaning apparatus according to the present invention configured as described above uses a transfer unit capable of transferring the substrate at an inclined angle close to vertical, and proceeds cleaning by a brush unit and cleaning using an air atomizing nozzle in a single process vessel. The size of the substrate cleaning equipment can be reduced. In addition, since the brush and the air atomizing nozzle are provided in a single process container, the amount of the cleaning liquid is reduced, and the configuration of a line for supply thereof can be simplified.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 기판 세정 장치에 대하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a substrate cleaning apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 발명의 명확성을 기하기 위해 실제보다 확대하거나, 개략적인 구성을 설명하기 위하여 실제보다 축소하여 도시한 것이다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다.As the inventive concept allows for various changes and numerous embodiments, particular embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the text. However, this is not intended to limit the present invention to the specific disclosed form, it should be understood to include all modifications, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention. Like reference numerals are used for like elements in describing each drawing. In the accompanying drawings, the dimensions of the structures are enlarged to illustrate the invention, and are actually shown in a smaller scale than the actual dimensions in order to explain the schematic configuration. The terms first, second, etc. may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as the second component, and similarly, the second component may also be referred to as the first component.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular example embodiments only and is not intended to be limiting of the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In this application, the terms "comprise" or "have" are intended to indicate that there is a feature, number, step, action, component, part, or combination thereof described on the specification, and one or more other features. It is to be understood that the present invention does not exclude the possibility of the presence or the addition of numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

한편, 다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.On the other hand, unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art. Terms such as those defined in the commonly used dictionaries should be construed as having meanings consistent with the meanings in the context of the related art and shall not be construed in ideal or excessively formal meanings unless expressly defined in this application. Do not.

실시예Example

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치를 개략적으로 나타내는 구성도이다.1 is a schematic view showing a substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치(100)는 유리 기판과 같은 평판형 기판(G)에 대한 세정 공정을 위하여 사용될 수 있다.Referring to FIG. 1, the substrate cleaning apparatus 100 according to an embodiment of the present invention may be used for a cleaning process for a flat substrate G such as a glass substrate.

상기 기판 세정 장치(100)는 기판 로딩부(110), 세정 공정부(120), 건조 공정부(130) 및 기판 언로딩부(140)를 포함할 수 있다. 상기 기판 로딩부(110), 세정 공정부(120), 건조 공정부(130), 기판 언로딩부(140)는 일렬로 배치될 수 있다.The substrate cleaning apparatus 100 may include a substrate loading unit 110, a cleaning process unit 120, a drying process unit 130, and a substrate unloading unit 140. The substrate loading unit 110, the cleaning process unit 120, the drying process unit 130, and the substrate unloading unit 140 may be arranged in a line.

상기 기판 로딩부(110)는 기판(G)을 로딩(loading)시킨다. 기판 로딩부(110)는 외부의 기판 이송 장치(미도시)를 통해 기판(G)을 이송 받아 대기시킨다. 또한, 기판 로딩부(110)는 이송 받은 기판(G)을 정렬하거나, 기판(G)의 경사각을 이후 세정 공정부(!20) 및 건조 공정부(130)의 진행시에 사용되는 경사각으로 변환하는 역할을 할 수 있다. 이를 위해 기판 로딩부(110)에는 기판(G)의 경사를 변화시키는 경사 변환 유닛(미도시)이 구비될 수 있다.The substrate loading unit 110 loads the substrate (G). The substrate loading unit 110 receives and waits for the substrate G through an external substrate transfer device (not shown). In addition, the substrate loading unit 110 aligns the transferred substrate G, or converts the inclination angle of the substrate G into an inclination angle that is used during the progress of the cleaning process unit 20 and the drying process unit 130. Can play a role. To this end, the substrate loading unit 110 may be provided with a gradient conversion unit (not shown) for changing the inclination of the substrate (G).

상기 세정 공정부(120)는 기판(G)을 일 방향으로 이송시키면서 상기 기판(G) 상의 이물질을 제거한다. 상기 세정 공정부(120)는 기판(G)을 수평 이송하기 위한 이송 유닛(122)과, 상기 이송 유닛(122)에 의해 수평 이송되는 기판(G)에 대해 브러싱을 진행하여 상기 기판(G)을 1차 세정하는 복수의 브러시 유닛들(124)과, 상기 1차 세정된 기판(G)으로 고압의 이류체를 분사하여 2차 세정하기 위한 이류체 분사 노즐(126)을 포함할 수 있다. 상기 이류체 분사 노즐(126)은 고압의 세정액과 에어를 혼합하여 미스트 형태로 기판(G)을 향해서 분사함으로써 기판(G)에 대한 세정을 진행한다. 도시하진 않았지만 상기 이류체 분사 노즐(126)은 고압의 세정액과 에어를 각각 공급받는 유로들이 형성되고, 상기 유로들을 통해 공급되는 고압의 세정액과 에어를 혼합하여 분사할 수 있는 구조를 갖는다.The cleaning process unit 120 removes foreign substances on the substrate G while transferring the substrate G in one direction. The cleaning process unit 120 performs a brushing process on the transfer unit 122 for horizontally transferring the substrate G and the substrate G horizontally transferred by the transfer unit 122 to the substrate G. It may include a plurality of brush units 124 for the first cleaning, and a two-fluid injection nozzle 126 for secondary cleaning by spraying a high-pressure air flow to the first cleaned substrate (G). The two-fluid jet nozzle 126 mixes the high-pressure cleaning liquid and air and sprays the mist toward the substrate G in the form of a mist to perform cleaning on the substrate G. Although not shown, the two-fluid jet nozzle 126 has a structure in which flow paths receiving high pressure cleaning liquid and air are formed, respectively, and spray the mixture of high pressure cleaning liquid and air supplied through the flow paths.

상기 세정 공정부(120)는 상기 브러시 유닛(124)들에 의해 브러싱을 진행할 때 상기 브러시(124)로 세정액을 공급하고, 상기 이류체 분사 노즐(126)의 2차 세정 이후에 기판(G)으로 세정액을 분사하기 위한 다수의 샤워 노즐(128)들을 더 포함할 수 있다.The cleaning process unit 120 supplies a cleaning liquid to the brush 124 when brushing is performed by the brush units 124, and the substrate G after the second cleaning of the air atomizing nozzle 126. It may further include a plurality of shower nozzles 128 for spraying the cleaning liquid into.

또한, 상기 세정 공정부(120)는 상기 기판(G)에 대해 세정 공정을 진행할 수 있도록 세정 공간을 제공하는 하나의 세정 용기(121)를 갖는다. 특히, 상기 하나의 세정 용기(121) 내에는 상기 이송 유닛(122)과 상기 브러시 유닛들(124)과 상기 이류체 분사 노즐(126)이 배치된다. 즉, 상기 브러시 유닛들(124)과 상기 이류체 분사 노즐(126)은 하나의 공정 용기(121) 내에 함께 배치되어 상기 기판(G)에 대해 연속하여 세정을 수행한다.In addition, the cleaning process unit 120 includes a cleaning container 121 that provides a cleaning space so that the cleaning process may be performed on the substrate G. In particular, the transfer unit 122, the brush units 124, and the air atomizing nozzle 126 are disposed in the one cleaning container 121. That is, the brush units 124 and the air atomizing nozzle 126 are disposed together in one process container 121 to continuously clean the substrate G.

상기 세정 공정부(120)에서 상기 이송 유닛(122)은 상기 기판(G)을 경사각을 갖는 상태로 이송하며, 본 실시예에서 상기 기판(G)이 갖는 경사각은 약 60°내지 80°의 범위를 갖는다. 이처럼 수직에 가까운 경사각으로 기판(G)을 이송하는 상기 이송 유닛(122)에 대해서는 추후 상세히 설명하기로 한다.In the cleaning process unit 120, the transfer unit 122 transfers the substrate G in a state having an inclination angle, and in this embodiment, the inclination angle of the substrate G is in a range of about 60 ° to 80 °. Has As described above, the transfer unit 122 transferring the substrate G at an inclination angle close to the vertical will be described in detail later.

상기 건조 공정부(130)는 세정 공정이 완료된 기판(G)을 건조시킨다. 이를 위해 건조 공정부(130)는 하나 이상의 에어 나이프(132)를 갖는다. 상기 에어 나이프(132)는 기판(G)으로 건조 기체를 분사함으로써 기판(G) 상에 잔류하는 세정액이나 이물질을 날려버림은 물론 기판(G)을 건조시킨다. 상기 건조 공정부(130)도 건조 공정을 위한 건조 용기(131)를 가지며, 상기 에어 나이프(132)가 상기 건조 용기(131) 내에 배치된다. 상기 건조 공정부(130)에도 기판(G)을 수평 방향으로 이송하기 위한 이송 유닛(134)이 구비되며, 상기 이송 유닛(134)도 상기 기판(G)을 수직에 가까운 경사각을 갖는 상태로 이송할 수 있게 구성될 수 있다.The drying process unit 130 dries the substrate G on which the cleaning process is completed. To this end, the drying process unit 130 has one or more air knives 132. The air knife 132 blows dry gas onto the substrate G to blow away the cleaning liquid or foreign matter remaining on the substrate G, as well as to dry the substrate G. The drying process unit 130 also has a drying container 131 for a drying process, the air knife 132 is disposed in the drying container 131. The drying process unit 130 is also provided with a transfer unit 134 for transferring the substrate (G) in the horizontal direction, the transfer unit 134 also transfers the substrate (G) in a state having an inclination angle close to the vertical Can be configured to do so.

상기 기판 언로딩부(140)는 기판(G)을 언로딩(unloading)한다. 즉, 상기 기판 언로딩부(140)는 건조 공정부(130)에서 건조가 완료된 기판(G)을 이송받아 대기시킨다. 또한, 기판(G)을 후속 공정이 수행되는 설비로 반출시킨다. 이를 위해, 기판 언로딩부(140)에는 로봇 암 등의 기판 이송 장치가 구비될 수 있다.The substrate unloading unit 140 unloads the substrate G. That is, the substrate unloading unit 140 receives the substrate G, which has been dried, from the drying process unit 130, and waits. In addition, the substrate G is taken out to a facility where a subsequent process is performed. To this end, the substrate unloading unit 140 may be provided with a substrate transfer device such as a robot arm.

이하 도면을 참조하여 상기 세정 공정부(120)에 적용되는 이송 유닛(122)의 실시예들에 대해 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the transfer unit 122 applied to the cleaning process unit 120 will be described with reference to the drawings.

도 2는 도 1에 도시된 세정 공정부에 적용되는 이송 유닛의 제1 실시예를 개략적으로 나타낸 도면이고, 도 3은 도 2에 도시된 이송 유닛의 측면도이다.2 is a view schematically showing a first embodiment of a transfer unit applied to the cleaning process unit shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a side view of the transfer unit shown in FIG. 2.

도 2 및 도 3을 참조하면, 제1 실시예에 따른 이송 유닛(200)은 상기 기판(G) 지지하며 일 방향으로 이송하기 위한 이송 체인(210)과, 상기 이송 체인(210)에 지지되는 기판(G)의 손상 방지를 위한 완충 부재(220)와, 상기 이송 체인(220)과 기어 결합하며 상기 기판(G)을 이송하기 위하여 상기 이송 체인(210)을 회전시키는 체인 기어들(230)과, 상기 체인 기어들(230)과 연결되며 상기 이송 체인(210)을 회전시키기 위한 회전력을 제공하는 구동부(240)를 포함할 수 있다.2 and 3, the transfer unit 200 according to the first embodiment is supported by the transfer chain 210 and the transfer chain 210 for supporting the substrate G and transferring in one direction. A shock absorbing member 220 for preventing damage to the substrate G, and chain gears 230 for gear coupling with the transfer chain 220 and rotating the transfer chain 210 to transfer the substrate G. And a driving unit 240 connected to the chain gears 230 and providing a rotational force for rotating the transfer chain 210.

상기 이송 체인(210)은 교대로 서로 연결된 다수의 지지 부재들(212) 및 링크 부재들(214)을 포함한다. 구체적으로, 상기 지지 부재들(212)은 상기 기판(G)을 지지하는 역할을 하며, 상기 링크 부재들(214)은 두 개의 지지 부재(212)들을 연결하는 역할을 한다. 상기 지지 부재들(212)과 링크 부재들(214)은 회전축에 의한 힌지 방식으로 연결된다. 즉, 상기 지지 부재들(212) 및 링크 부재들(214)이 교대로 힌지 방식으로 연결되면서 체인 구조를 갖는다. 상기 이송 체인(210)은 다양한 구조를 가질 수 있으며 상기 기판(G)을 지지하기 위한 스테이지가 구비되면 충분하다. 상기 기판(G)은 상기 이송 체인(210)에 지지된 상태로 경사각을 가지며 상기 기판(G)의 이송 방향, 즉 이송 체인(210)의 회전 방향으로 배치된다.The transport chain 210 includes a plurality of support members 212 and link members 214 that are alternately connected to one another. Specifically, the support members 212 serve to support the substrate G, and the link members 214 serve to connect two support members 212. The support members 212 and the link members 214 are connected in a hinged manner by a rotation axis. That is, the support members 212 and the link members 214 are alternately connected in a hinged manner and have a chain structure. The transfer chain 210 may have various structures, and it is sufficient if a stage for supporting the substrate G is provided. The substrate G has an inclination angle while being supported by the transfer chain 210 and is disposed in a transfer direction of the substrate G, that is, in a rotation direction of the transfer chain 210.

상기 완충 부재들(220)은 상기 이송 체인(210)에 기판(G)이 지지되어 이송될 때 상기 기판(G)의 손상을 방지하기 위하여 구비된다. 상기 완충 부재들(116)은 상기 이송 체인(210)에서 기판(G)을 지지하는 지지 부재들(212) 상에 각각 구비된다. 상기 완충 부재들(220)은 수지계열의 물질로 이루어진다. 따라서 상기 완충 부재들(116)은 상기 기판(G)을 이송 중에 상기 기판(G)으로 가해질 수 있는 충격을 흡 수한다. 또한, 상기 완충 부재들(220)은 상기 기판(G)이 지지될 때 기설정된 경사각(예컨대 60°내지 80°의 경사각)을 갖도록 지지됨에 따라서 상기 기판(G)이 미끄러지는 것을 방지하기 위하여 안착홈(222)이 구비될 수 있다. 상기 안착홈(222)은 상기 완충 부재들(220)의 중앙부에 상기 기판(G)의 이송 방향을 따라서 연장하는 슬릿 형태를 가질 수 있다.The buffer members 220 are provided to prevent damage to the substrate G when the substrate G is supported and transferred to the transfer chain 210. The buffer members 116 are respectively provided on the support members 212 supporting the substrate G in the transfer chain 210. The buffer members 220 are made of a resin-based material. Accordingly, the buffer members 116 absorb shocks that may be applied to the substrate G while transferring the substrate G. In addition, the buffer members 220 are supported to have a predetermined inclination angle (for example, an inclination angle of 60 ° to 80 °) when the substrate G is supported, so that the buffer member 220 is seated to prevent the substrate G from slipping. The groove 222 may be provided. The seating groove 222 may have a slit shape extending along the transfer direction of the substrate G to a central portion of the buffer members 220.

상기 체인 기어들(230)은 회전 동작하여 상기 이송 벨트(210)를 회전시킴으로써, 상기 기판(G)을 회전 방향으로 이송한다.The chain gears 230 rotate to transfer the substrate G in the rotational direction by rotating the transfer belt 210.

상기 구동부(240)는 회전력을 발생시키는 동력부(241)를 포함하며, 상기 동력부(241)의 회전력을 동력 전달부(242)를 이용하여 상기 체인 기어들(230)로 제공한다. 예를 들어, 상기 동력 전달부(242)는 비접촉 방식이 이용될 수 있다. 즉, 상기 동력 전달부(242)는 세정 용기(121)의 일측벽을 사이에 두고 마주보는 제1 마그네틱 기어들(243) 및 제2 마그네틱 기어들(244)을 이용한다. 상기 제1 및 제2 마그네틱 기어들(243, 244) 사이에는 인력이 작용하여 제1 마그네틱 기어들(243)이 회전하면 제2 마그네틱 기어들(244)이 따라서 회전한다. 상기 제1 마그네틱 기어들(243)은 동력부(241)와 연결되어 회전한다. 상기 제2 마그네틱들(244)에는 지지 부재(245)들에 의해 지지되는 구동축들(246)이 연결되며, 상기 구동축들(246)은 상기 제2 마그네틱 기어들(244)과 상기 체인 기어들(230)을 연결한다. 결과적으로 회전력을 발생시키는 동력부(241)가 상기 제1 마그네틱 기어들(243)을 회전시킴으로써 상기 체인 기어들(210)을 회전시키게 된다.The driving unit 240 includes a power unit 241 for generating a rotational force, and provides the rotational force of the power unit 241 to the chain gears 230 using the power transmission unit 242. For example, the power transmission unit 242 may use a non-contact method. That is, the power transmission unit 242 uses the first magnetic gears 243 and the second magnetic gears 244 facing each other with one side wall of the cleaning container 121 interposed therebetween. An attractive force is applied between the first and second magnetic gears 243 and 244 so that when the first magnetic gears 243 rotate, the second magnetic gears 244 rotate accordingly. The first magnetic gears 243 rotate in connection with the power unit 241. Drive shafts 246 supported by the support members 245 are connected to the second magnetics 244, and the drive shafts 246 are connected to the second magnetic gears 244 and the chain gears 244. 230). As a result, the power unit 241 generating the rotation force rotates the first magnetic gears 243 to rotate the chain gears 210.

또한, 상기 이송 유닛(200)은 상기 기판(G)이 상기 이송 체인(210)에 60ㅀ내 지 80ㅀ경사각을 갖도록 지지되어 이송될 때 상기 기판(G)의 일측에 배치되어 상기 기판(G)이 쓰러지지 않고 상기 경사각을 유지하도록 상기 기판(G)을 지지하는 아이들 롤러들(250)을 포함할 수 있다.In addition, the transfer unit 200 is disposed on one side of the substrate (G) when the substrate (G) is supported and transferred to the transfer chain 210 to have a 60 ° to 80 ° inclination angle to the substrate (G) It may include idle rollers 250 for supporting the substrate (G) to maintain the inclination angle without falling.

이처럼 제1 실시예에 따른 상기 이송 유닛(200)은 이송 체인(210)을 이용하여 기판(G)을 수직에 가까운 경사각으로 이송함으로써, 기판 세정 설비의 사이즈를 줄일 수 있다. As described above, the transfer unit 200 according to the first exemplary embodiment may reduce the size of the substrate cleaning facility by transferring the substrate G at an inclined angle close to the vertical by using the transfer chain 210.

도 4는 도 1에 도시된 세정 공정부에 적용되는 이송 유닛의 제2 실시예를 개략적으로 나타낸 도면이고, 도 5는 도 4에 도시된 이송 유닛의 측면도이다.4 is a view schematically showing a second embodiment of the transfer unit applied to the cleaning process unit shown in FIG. 1, and FIG. 5 is a side view of the transfer unit shown in FIG. 4.

도 4 및 도 5를 참조하면, 제2 실시예에 따른 이송 유닛(300)은 상기 기판(G)을 경사각을 갖는 상태로 지지하여 일 방향으로 이송하기 위한 이송 벨트(310)와, 상기 기판(G)을 이송하기 위하여 상기 이송 벨트(310)를 회전시키는 구동 풀리들(320)과, 상기 구동 풀리들(320)과 연결되며 상기 이송 벨트(310)를 회전시키기 위한 회전력을 제공하는 구동부(240), 그리고 이송 벨트(310)에 의해 지지된 기판(G)을 쓰러지지 않도록 지지하기 위한 아이들 롤러들(250)을 포함할 수 있다.4 and 5, the transfer unit 300 according to the second embodiment may support the substrate G in a state having an inclination angle and transfer the transfer belt 310 to transfer in one direction, and the substrate ( G) drive pulleys 320 for rotating the transfer belt 310 to transfer the drive unit 240 connected to the drive pulleys 320 and providing rotational force for rotating the transfer belt 310. And idle rollers 250 for supporting the substrate G supported by the transfer belt 310 so as not to fall.

상기 이송 벨트(310)는 경사각을 갖는 상태로 배치된 기판(G)을 지지하며, 회전을 통해 경사각을 갖는 상태로 기판(G)을 이송하게 된다. 따라서 상기 기판(G)은 상기 이송 벨트(310)의 길이 방향으로 배치되며, 기판(G)의 이송 방향은 상기 이송 벨트(110)의 회전 방향이 된다.The transfer belt 310 supports the substrate G disposed in a state of having an inclination angle, and transfers the substrate G in a state of having an inclination angle through rotation. Accordingly, the substrate G is disposed in the longitudinal direction of the transfer belt 310, and the transfer direction of the substrate G becomes the rotation direction of the transfer belt 110.

상기 이송 벨트(310)는 단면이 평면 또는 브이 형상을 가질 수 있으나, 이에 한정되는 않고 다양한 형상을 가질 수 있다. 상기 이송 벨트(310)는 기판(G)이 지지되는 바깥면에 회전 방향을 따라서 형성된 슬릿 형태의 안착홈(112)을 가질 수 있다. 상기 안착홈(312)은 상기 이송 벨트(310)의 폭 중앙 부위에 형성될 수 있다. 상기 이송 벨트(310)는 상기 기판(G)의 경사각에 대해 수직한 회전축을 갖도록 배치될 수 있을 것이다. 이는 상기 기판(G)이 경사각을 갖는 상태로 이송 벨트(310)에 지지되므로, 기판(G)을 보다 안정적으로 지지하기 위해서이다.The transfer belt 310 may have a flat or v-shaped cross section, but is not limited thereto and may have various shapes. The transfer belt 310 may have a seating groove 112 having a slit shape formed along the direction of rotation on an outer surface on which the substrate G is supported. The seating groove 312 may be formed at a width center portion of the transfer belt 310. The transfer belt 310 may be disposed to have a rotation axis perpendicular to the inclination angle of the substrate G. This is to support the substrate G more stably because the substrate G is supported by the transfer belt 310 in a state having an inclination angle.

상기 구동 풀리들(320)은 이송 벨트(310)와 연동하도록 구성된다. 예컨대, 상기 구동 풀리들(320)의 외주면에 이송 벨트(310)가 걸리게 되며, 구동 풀리들(320)과 이송 벨트(310) 사이의 마찰력으로 이송 벨트(310)를 회전시킨다. 상기 구동 풀리들(320)에는 외주면 양측 부위들에 상기 이송 벨트(310)가 회전 도중에 미끄러져 이탈하는 것을 방지하기 위해 가이드 부재(322)가 구비된다. 상기 구동 풀리들(320)은 상기 기판(G)의 경사각에 대해 수직한 회전축을 갖도록 배치될 수 있으며, 이를 통해서 상기 이송 벨트(320)가 상기 기판(G)이 갖는 경사각에 대해 수직한 회전축을 갖도록 한다.The drive pulleys 320 are configured to interlock with the transfer belt 310. For example, the transfer belt 310 is caught on the outer circumferential surface of the drive pulleys 320, and the transfer belt 310 is rotated by the friction force between the drive pulleys 320 and the transfer belt 310. The driving pulleys 320 are provided with guide members 322 on both sides of the outer circumference to prevent the transfer belt 310 from slipping off during rotation. The driving pulleys 320 may be disposed to have a rotation axis perpendicular to the inclination angle of the substrate G, through which the transfer belt 320 may have a rotation axis perpendicular to the inclination angle of the substrate G. Have it.

상기 구동부(240)는 회전력을 발생시키는 동력부(241)를 포함하며, 상기 동력부(241)의 회전력을 동력 전달부(241)를 이용하여 상기 구동 풀리들(320)들로 회전력을 전달하여 상기 구동 풀리들(320)을 회전시킨다. 상기 구동부(240)의 구성은 앞서 설명한 구동부(241)와 실질적으로 유사하므로 그 상세한 설명은 생략하기로 한다. 아울러 상기 아이들 롤러들(250)도 앞서 설명한 바와 동일하므로 상세한 설명은 생략한다.The drive unit 240 includes a power unit 241 for generating a rotational force, and transmits the rotational force of the power unit 241 to the drive pulleys 320 by using the power transmission unit 241. The driving pulleys 320 are rotated. Since the configuration of the driver 240 is substantially similar to the driver 241 described above, a detailed description thereof will be omitted. In addition, since the idle rollers 250 are the same as described above, a detailed description thereof will be omitted.

이처럼 제2 실시예에 따른 상기 이송 유닛(300)은 이송 벨트(310)를 이용하여 기판(G)을 수직에 가까운 경사각으로 이송함으로써, 기판 세정 설비의 사이즈를 줄일 수 있다. As described above, the transfer unit 300 according to the second exemplary embodiment may reduce the size of the substrate cleaning facility by transferring the substrate G at an inclined angle close to the vertical by using the transfer belt 310.

도 6은 도 1에 도시된 세정 공정부에 적용되는 이송 유닛의 제3 실시예를 개략적으로 나타낸 도면이고, 도 7은 도 6에 도시된 이송 유닛의 측면도이다.6 is a view schematically showing a third embodiment of the transfer unit applied to the cleaning process unit shown in FIG. 1, and FIG. 7 is a side view of the transfer unit shown in FIG. 6.

도 6 및 도 7울 참조하면, 제3 실시예에 따른 이송 유닛(400)은 제1 경사각을 갖도록 배치되어 평판형 기판(G)을 상기 제1 경사각을 갖는 상태로 적재하는 캐리어(410)와, 상기 캐리어(410)를 지지하고 상기 캐리어(410)를 기판(G)을 적재한 상태로 이송하기 위해 회전 동작하는 구동 풀리들(420)과, 상기 구동 풀리들(420)과 연결되며 회전력을 제공하는 구동부(240)를 포함할 수 있다.6 and 7, the transfer unit 400 according to the third embodiment may be arranged to have a first inclination angle, and may include a carrier 410 for loading the flat substrate G in a state having the first inclination angle. In addition, the driving pulleys 420 are rotated to support the carrier 410 and the carrier 410 is transported in a state where the substrate G is loaded, and the driving pulleys 420 are connected to each other. It may include a driving unit 240 to provide.

상기 캐리어(410)는 적재되는 기판(G)을 제1 경사각을 갖는 상태로 지지한다. 상기 캐리어(410)는 기판(G)을 적재하여 이송하기 위한 운반 수단으로 사용된다. 즉, 상기 캐리어(410)에 기판(G)을 적재한 상태로 캐리어(110)를 이송하여 상기 기판(G)을 이송하게 된다.The carrier 410 supports the substrate G to be loaded with the first inclination angle. The carrier 410 is used as a transport means for loading and transporting the substrate (G). That is, the carrier 110 is transported while the substrate G is loaded on the carrier 410 to transport the substrate G.

상기 캐리어(410)는 제1 경사각에 대해 수직한 제2 경사각으로 배치되어 기판(G)을 지지하는 제1 플레이트(411)와, 제1 경사각을 갖도록 배치되는 제2 플레이트(412)를 포함할 수 있다. 상기 기판(G)을 지지하는 제1 플레이트(411)의 상면에는 상기 기판(G)을 안정적으로 지지할 수 있도록 안착홈(413)이 구비될 수 있다. 상기 안착홈(413)은 상기 기판(G)의 이송 방향을 따라서 형성된 슬릿 형태를 갖는다. 또한, 상기 안착홈(113)은 기판(G)의 두께와 적어도 같거나, 조금 더 큰 폭을 갖는다. 또한, 제1 플레이트(411)에 지지된 기판(G)이 제1 경사각을 유지하도록 기판(G)의 일측(예컨대 일평면 방향)에 배치되어 상기 기판(G)을 지지하는 제1 아이들 롤러들(414)을 가질 수 있다. 상기 캐리어(410)에는 기판(G)이 슬라이드 방식으로 투입될 때 상기 기판(G)을 지지하며 회전 가능하게 구성되는 제2 아이들 롤러들(415)이 구비된다.The carrier 410 may include a first plate 411 disposed at a second inclination angle perpendicular to the first inclination angle to support the substrate G, and a second plate 412 disposed to have the first inclination angle. Can be. A mounting groove 413 may be provided on an upper surface of the first plate 411 for supporting the substrate G to stably support the substrate G. The seating groove 413 has a slit shape formed along the transport direction of the substrate G. In addition, the mounting groove 113 has a width that is at least equal to or slightly larger than the thickness of the substrate (G). In addition, the first idle rollers are disposed on one side (eg, one plane direction) of the substrate G to support the substrate G so that the substrate G supported by the first plate 411 maintains the first inclination angle. 414 may have. The carrier 410 is provided with second idle rollers 415 rotatably configured to support the substrate G when the substrate G is inserted in a slide manner.

상기 구동 풀리들(420)은 상기 캐리어(410)를 지지하며, 캐리어(410)를 제1 경사각을 갖는 상태로 이송하는 역할을 한다. 이를 위해 상기 구동 풀리들(420)은 회전 동작한다. 즉, 구동 풀리들(120)은 회전을 통해 지지된 캐리어(410)를 회전 방향으로 이송한다. 상기 구동 풀리들(420)은 상기 캐리어(410)가 갖는 제1 경사각과 수직한 회전축을 갖도록 배치된다. 이는 상기 캐리어(410)가 제1 경사각을 갖는 상태로 상기 구동 풀리들(420)에 지지되므로, 안정적인 지지와 원활한 이송을 위함이다. 도시하지는 않았지만 상기 구동 풀리들(420)은 상기 캐리어(410)와 마찰력을 증가시키기 위해 그 외주면에 마찰력을 증가시킬 수 있는 물질이 구비될 수 있다.The driving pulleys 420 support the carrier 410 and serve to transport the carrier 410 to a state having a first inclination angle. To this end, the driving pulleys 420 rotate. That is, the driving pulleys 120 transfer the carrier 410 supported by the rotation in the rotation direction. The driving pulleys 420 are disposed to have a rotation axis perpendicular to the first inclination angle of the carrier 410. This is because the carrier 410 is supported by the driving pulleys 420 in a state of having a first inclination angle, for stable support and smooth transfer. Although not shown, the driving pulleys 420 may be provided with a material capable of increasing frictional force on its outer circumferential surface to increase frictional force with the carrier 410.

상기 구동부(240)는 제1 및 제2 실시예에 따른 이송 유닛(200, 300)에서와 실질적으로 동일하다.The drive unit 240 is substantially the same as in the transfer units 200 and 300 according to the first and second embodiments.

상기 이송 유닛(400)은 상기 캐리어(410)가 경사각을 갖는 상태로 이송될 때 쓰러지지 않고 상기 경사각을 유지하도록 상기 캐리어(410)를 지지하는 제3 아이들 롤러들(440)을 포함할 수 있다.The transfer unit 400 may include third idler rollers 440 that support the carrier 410 so that the carrier 410 does not fall when the carrier 410 is transported in a state having an inclination angle.

이처럼 제3 실시예에 따른 상기 이송 유닛(400)은 캐리어(410)를 이용하여 기판(G)을 수직에 가까운 경사각으로 이송함으로써, 기판 세정 설비의 사이즈를 줄 일 수 있다.As described above, the transfer unit 400 according to the third exemplary embodiment may reduce the size of the substrate cleaning facility by transferring the substrate G at an inclined angle close to the vertical by using the carrier 410.

도 8은 도 1에 도시된 세정 공정부에 적용되는 이송 유닛의 제4 실시예를 개략적으로 나타낸 도면이고, 도 9는 도 8에 도시된 이송 유닛의 측면도이다.8 is a view schematically showing a fourth embodiment of a transfer unit applied to the cleaning process unit shown in FIG. 1, and FIG. 9 is a side view of the transfer unit shown in FIG. 8.

도 8 및 도 9를 참조하면, 제4 실시예에 따른 이송 유닛(500)은 제1 경사각을 갖도록 배치되어 평판형 기판(G)을 상기 제1 경사각을 갖는 상태로 적재하는 캐리어(510)와, 상기 캐리어(510)를 지지하여 상기 캐리어(510)와 기어 결합하며 상기 캐리어(510)를 이송하기 위해 회전 동작하는 이송 기어들(520)과, 상기 이송 기어들(520)과 연결되며 회전력을 제공하는 구동부(240)를 포함할 수 있다.8 and 9, the transfer unit 500 according to the fourth embodiment may be arranged to have a first inclination angle, and may include a carrier 510 for loading the flat substrate G in a state having the first inclination angle. The support gears 520 rotate to support the carrier 510 and the carrier 510 and rotate to transfer the carrier 510, and are connected to the transfer gears 520 to provide rotational force. It may include a driving unit 240 to provide.

상기 캐리어(510)는 적재되는 기판(G)을 제1 경사각을 갖는 상태로 지지한다. 캐리어(510)는 기판(G)을 적재하여 이송하기 위한 운반 수단으로 사용된다. 즉, 상기 캐리어(510)에 기판(G)을 적재한 상태로 캐리어(510)를 이송하여 상기 기판(G)을 이송하게 된다.The carrier 510 supports the substrate G to be loaded with the first inclination angle. The carrier 510 is used as a conveying means for loading and transporting the substrate G. That is, the carrier 510 is transferred while the substrate G is loaded on the carrier 510 to transfer the substrate G.

상기 캐리어(510)는 제1 경사각에 대해 수직한 제2 경사각으로 배치되어 기판(G)을 지지하는 제1 플레이트(511)와, 제1 경사각을 갖도록 배치되는 제2 플레이트(512)를 포함할 수 있다. 상기 기판(G)을 지지하는 제1 플레이트(511)의 상면에는 상기 기판(G)을 안정적으로 지지할 수 있도록 안착홈(513)이 구비될 수 있다. 상기 안착홈(513)은 상기 기판(G)의 이송 방향을 따라서 형성된 슬릿 형태를 갖는다. 상기 캐리어(510)는 제1 플레이트(511)에 지지된 기판(G)이 제1 경사각을 유지하도록 기판(G)의 일측(예컨대 일평면 방향)에 배치되어 상기 기판(G)을 지지하는 제1 아이들 롤러들(514)을 가질 수 있다. 상기 캐리어(510)에는 기판(G)이 슬라이 드 방식으로 투입될 때 상기 기판(G)을 지지하며 회전 가능하게 구성된 제2 아이들 롤러들(515)이 구비된다. 특히, 상기 제1 플레이트(511)의 하면에 상기 캐리어(510)를 상기 이송 기어들(520)과 기어 결합시키기 위한 랙 기어(516)가 구비된다. 상기 랙 기어(516)는 상기 제1 플레이트(511)의 하면에서 상기 기판(G)의 이송 방향을 따라서 배치된다.The carrier 510 may include a first plate 511 disposed at a second inclination angle perpendicular to the first inclination angle to support the substrate G, and a second plate 512 disposed to have the first inclination angle. Can be. A mounting groove 513 may be provided on an upper surface of the first plate 511 supporting the substrate G to stably support the substrate G. The seating groove 513 has a slit shape formed along the transport direction of the substrate G. The carrier 510 is formed on one side (eg, one plane direction) of the substrate G to support the substrate G such that the substrate G supported on the first plate 511 maintains the first inclination angle. It may have one idle rollers 514. The carrier 510 is provided with second idle rollers 515 rotatably configured to support the substrate G when the substrate G is introduced in a slide manner. In particular, a rack gear 516 is provided on the bottom surface of the first plate 511 to couple the carrier 510 to the transfer gears 520. The rack gear 516 is disposed along a transport direction of the substrate G on a lower surface of the first plate 511.

상기 이송 기어들(520)은 상기 캐리어(510)를 지지하며, 캐리어(510)를 제1 경사각을 갖는 상태로 이송하는 역할을 한다. 이를 위해 상기 이송 기어들(520)은 회전 동작한다. 즉, 이송 기어들(520)은 캐리어(510)를 지지하여 상기 제1 플레이트(511)의 하면에 구비되는 랙 기어(516)와 기어 결합하며, 회전을 통해 지지된 캐리어(510)를 회전 방향으로 이송한다. 상기 이송 기어들(520)은 상기 캐리어(510)가 갖는 제1 경사각과 수직한 회전축을 갖도록 배치된다. 이는 상기 캐리어(510)가 제1 경사각을 갖는 상태로 상기 이송 기어들(520)에 지지되므로, 안정적인 지지와 원활한 이송을 위함이다.The transfer gears 520 support the carrier 510 and serve to transfer the carrier 510 to a state having a first inclination angle. To this end, the transfer gears 520 rotate. That is, the transfer gears 520 support the carrier 510 and gear-couple with the rack gear 516 provided on the bottom surface of the first plate 511, and rotate the carrier 510 supported by the rotation direction. Transfer to. The transfer gears 520 are disposed to have a rotation axis perpendicular to the first inclination angle of the carrier 510. This is for the stable support and smooth transfer since the carrier 510 is supported by the transfer gears 520 with the first inclination angle.

상기 구동부(240)는 제1 내지 제3 실시예에 따른 이송 유닛(200, 300, 400)에서와 실질적으로 동일하다.The drive unit 240 is substantially the same as in the transfer units 200, 300, 400 according to the first to third embodiments.

상기 이송 유닛(500)은 상기 캐리어(510)가 경사각을 갖는 상태로 이송될 때 쓰러지지 않고 상기 경사각을 유지하도록 상기 캐리어(510)를 지지하는 제3 아이들 롤러들(540)을 포함할 수 있다.The transfer unit 500 may include third idler rollers 540 supporting the carrier 510 so as to maintain the inclination angle without falling when the carrier 510 is transported in a state having the inclination angle.

이처럼 제4 실시예에 따른 상기 이송 유닛(500)은 캐리어(510)를 이용하여 기판(G)을 수직에 가까운 경사각으로 이송함으로써, 기판 세정 설비의 사이즈를 줄 일 수 있다.As described above, the transfer unit 500 according to the fourth exemplary embodiment may reduce the size of the substrate cleaning facility by transferring the substrate G at an inclined angle close to the vertical by using the carrier 510.

상술한 바와 같이 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판 세정 장치는 세정 용기 내에서 기판을 수직에 가까운 경사각을 갖도록 하여 이송할 수 있는 이송 유닛을 이용하여 기판을 이송함으로써 기판 세정 설비의 사이즈를 줄일 수 있다. As described above, the substrate cleaning apparatus according to the preferred embodiment of the present invention can reduce the size of the substrate cleaning equipment by transferring the substrate using a transfer unit capable of transferring the substrate to have a vertical inclination angle in the cleaning vessel. have.

또한, 상기 이송 유닛에 의해 하나의 세정 용기 내에 기판에 대한 브러싱 세정을 위한 브러시 유닛들과 고압력 이류체에 의한 세정하는 이류체 분사 노즐을 함께 배치시킴으로써, 기판 세정 설비의 사이즈를 줄이고, 세정액의 사용량을 줄일 수 있다.Further, by arranging the brush units for brushing cleaning of the substrate and the two-fluid jet nozzle for cleaning by the high-pressure airflow fluid together by the transfer unit, the size of the substrate cleaning equipment is reduced, and the amount of the cleaning liquid is used. Can be reduced.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.While the foregoing has been described with reference to preferred embodiments of the present invention, those skilled in the art will be able to variously modify and change the present invention without departing from the spirit and scope of the invention as set forth in the claims below. It will be appreciated.

도 2는 도 1에 도시된 세정 공정부에 적용되는 이송 유닛의 제1 실시예를 개략적으로 나타낸 도면이다.FIG. 2 is a view schematically showing a first embodiment of a transfer unit applied to the cleaning process unit shown in FIG. 1.

도 3은 도 2에 도시된 이송 유닛의 측면도이다.3 is a side view of the transfer unit shown in FIG. 2.

도 4는 도 1에 도시된 세정 공정부에 적용되는 이송 유닛의 제2 실시예를 개략적으로 나타낸 도면이다.4 is a view schematically showing a second embodiment of a transfer unit applied to the cleaning process unit shown in FIG. 1.

도 5는 도 4에 도시된 이송 유닛의 측면도이다.5 is a side view of the transfer unit shown in FIG. 4.

도 6은 도 1에 도시된 세정 공정부에 적용되는 이송 유닛의 제3 실시예를 개략적으로 나타낸 도면이다.6 is a view schematically showing a third embodiment of a transfer unit applied to the cleaning process unit shown in FIG. 1.

도 7은 도 6에 도시된 이송 유닛의 측면도이다.7 is a side view of the transfer unit shown in FIG. 6.

도 8은 도 1에 도시된 세정 공정부에 적용되는 이송 유닛의 제4 실시예를 개략적으로 나타낸 도면이다.8 is a view schematically showing a fourth embodiment of a transfer unit applied to the cleaning process unit shown in FIG. 1.

도 9는 도 8에 도시된 이송 유닛의 측면도이다.9 is a side view of the transfer unit shown in FIG. 8.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

100: 기판 세정 장치 110: 기판 로딩부100: substrate cleaning device 110: substrate loading portion

120: 세정 공정부 122: 이송 유닛120: cleaning step 122: transfer unit

124: 브러시 유닛 126: 이류체 분사 노즐124: brush unit 126: air atomizing nozzle

128: 샤워 노즐 130: 건조 공정부128: shower nozzle 130: drying step

132: 에어 나이프 140: 기판 언로딩부132: air knife 140: substrate unloading portion

Claims

A substrate cleaning apparatus comprising a substrate loading portion for loading a substrate, a cleaning process portion for cleaning the substrate, a drying process portion for drying the substrate, and a substrate unloading portion for unloading the substrate,

The cleaning process unit

A transfer unit for transferring the substrate in one direction with an inclination angle of 60 ° to 80 °;

A plurality of brush units for first cleaning the brushed substrate transferred by the transfer unit;

A two-fluid jet nozzle configured to mix the high-pressure cleaning liquid and air with the primary cleaned substrate and spray the air in the form of a mist to secondary clean the substrate; And

And a process chamber provided therein with a cleaning space for the substrate, wherein the transfer unit, the brush units, and the air atomizing nozzle are located therein.

The method of claim 1, wherein the transfer unit

A conveying belt for supporting and conveying the substrate arranged to have the inclined angle;

Drive pulleys connected to the transfer belt and rotating the transfer belt to transfer the substrate;

A driving unit connected to the driving pulleys and providing a rotational force for rotating the transfer belt; And

And idle rollers disposed in one plane direction of the substrate supported by the transfer belt to support the substrate to maintain the inclination angle without falling down during the transfer of the substrate.

The substrate cleaning apparatus of claim 2, wherein the transfer belt has a slit-shaped mounting groove formed along the rotation direction on an outer surface of the belt on which the substrate is supported for stable support of the substrate.

The method of claim 1, wherein the transfer unit

A transfer chain, in which support members and link members are alternately connected, for supporting and transporting the substrate;

Buffer members each provided on the support members and made of a resin-based material to prevent damage to a substrate supported by the support members;

An idle roller disposed at one side of the substrate supported by the transfer chain and supporting the substrate to have the inclination angle with respect to an upper surface of the support member during transfer of the substrate;

Chain gears geared to the transfer chain and rotating the transfer chain to transfer the substrate; And

And a driving unit connected to the chain gears and providing a rotational force to the chain gears for rotating the transfer chain.

The substrate cleaning apparatus of claim 4, wherein the buffer members are provided with a slit-shaped mounting groove formed along a conveying direction of the substrate to prevent the flat substrate from slipping.

The method of claim 1, wherein the transfer unit

A carrier disposed to have the inclination angle and loaded with the flat substrate having the inclination angle;

Drive pulleys disposed in one direction to support the carrier and rotate to transport the carrier to the state having the inclined angle; And

And a driving unit connected to the driving pulleys and providing a rotational force to rotate the driving pulleys.

7. The substrate cleaning apparatus of claim 6, comprising idle rollers disposed on one side of the carrier to support the carrier to maintain the inclination angle during transport of the carrier.

The method of claim 1, wherein the transfer unit

Transfer gears disposed in one direction and supporting the carrier to be gear-engaged with the carrier, and rotated to transfer the carrier with the inclination angle; And

And a drive unit connected to the transfer gears and providing a rotational force to rotate the transfer gears.

9. The substrate cleaning apparatus of claim 8, comprising idle rollers disposed on one side of the carrier to support the carrier to maintain the inclination angle during transport of the carrier.

The substrate cleaning apparatus according to claim 1, further comprising shower nozzles disposed in the process vessel and supplying a cleaning liquid to the brush when the brush unit brushes the substrate.