JP4504839B2

JP4504839B2 - Substrate processing equipment

Info

Publication number: JP4504839B2
Application number: JP2005056231A
Authority: JP
Inventors: 治道廣瀬
Original assignee: Shibaura Mechatronics Corp
Current assignee: Shibaura Mechatronics Corp
Priority date: 2005-03-01
Filing date: 2005-03-01
Publication date: 2010-07-14
Anticipated expiration: 2025-03-01
Also published as: JP2006239503A

Description

この発明は基板を所定の傾斜角度で搬送しながらロールブラシで洗浄処理する基板の処理装置に関する。 The present invention relates to a substrate processing apparatus for cleaning a substrate with a roll brush while transporting the substrate at a predetermined inclination angle.

たとえば、液晶表示装置や半導体装置の製造工程においては、これらの対象物であるガラス基板や半導体ウエハなどの基板にレジストを塗布し、現像処理してからエッチング処理をすることで、基板の表面に回路パターンを精密に形成する。基板に回路パターンを形成したならば、その基板の表面に付着しているレジスト膜やレジスト残渣などの有機物を薬液によって除去する処理が行われる。 For example, in a manufacturing process of a liquid crystal display device or a semiconductor device, a resist is applied to a substrate such as a glass substrate or a semiconductor wafer, which is an object, and a development process is performed before an etching process. A circuit pattern is precisely formed. When the circuit pattern is formed on the substrate, a process of removing organic substances such as a resist film and a resist residue adhering to the surface of the substrate with a chemical solution is performed.

薬液による処理が行われた基板は洗浄液によって洗浄処理される。基板の洗浄処理を行う場合、単に純水や希釈された薬液などの洗浄液を噴射するだけでは基板に付着した汚れを確実に洗浄することができないことがある。そのような場合、上記基板に洗浄液を供給しながら回転駆動されるロールブラシで擦って洗浄するということが行われる。 The substrate that has been processed with the chemical solution is cleaned with the cleaning solution. When performing a substrate cleaning process, it may not be possible to reliably clean dirt adhering to the substrate simply by spraying a cleaning solution such as pure water or a diluted chemical solution. In such a case, cleaning is performed by rubbing with a roll brush that is rotationally driven while supplying the cleaning liquid to the substrate.

ロールブラシによって洗浄された基板には洗浄液が付着残留し、その洗浄液を放置しておくと汚れの原因になる。したがって、ロールブラシによる洗浄後には基板に付着した洗浄液をエアーナイフによって乾燥除去するということが行われている。 The cleaning liquid adheres and remains on the substrate cleaned by the roll brush, and if the cleaning liquid is left unattended, it causes dirt. Therefore, after cleaning with the roll brush, the cleaning liquid adhering to the substrate is dried and removed with an air knife.

ところで、最近では液晶表示装置に用いられるガラス製の基板が大型化及び薄型化する傾向にある。しかも、基板が大型化することで、基板上に供給される処理液の量が増大し、基板上の処理液の量に応じて上記搬送軸に加わる荷重が大きくなる。 Recently, glass substrates used in liquid crystal display devices tend to be larger and thinner. In addition, as the substrate becomes larger, the amount of the processing liquid supplied onto the substrate increases, and the load applied to the transport shaft increases according to the amount of the processing liquid on the substrate.

したがって、これらのことにより、搬送軸の撓みが増大するから、基板を水平搬送すると、搬送ローラ間における基板の撓みが大きくなり、各処理部での処理が基板の板面全体にわたって均一に行えなくなるということが生じる。 Accordingly, since the bending of the transport shaft increases due to these factors, when the substrate is transported horizontally, the substrate is flexed between the transport rollers, and processing in each processing unit cannot be performed uniformly over the entire plate surface of the substrate. That happens.

そこで、上記基板を所定の傾斜角度で傾斜させて搬送することで、搬送軸や基板に生じる撓みを少なくし、その搬送過程で上記基板にブラシ洗浄やエアーナイフによる乾燥処理などの処理を行うということが実用化されつつある。 Therefore, by carrying the substrate inclined at a predetermined inclination angle, the bending that occurs in the conveyance shaft and the substrate is reduced, and the substrate is subjected to processing such as brush cleaning and air knife drying processing during the conveyance process. Is being put into practical use.

所定の傾斜角度で傾斜して搬送される基板をブラシ洗浄する場合、一方の板面と他方の板面とをブラッシングする一対のロールブラシが用いられる。一対のロールブラシは軸線を基板の搬送方向と直交する方向、つまり上下方向にして配置される。 When brush cleaning a substrate transported with a predetermined tilt angle, a pair of roll brushes that brush one plate surface and the other plate surface are used. The pair of roll brushes are arranged with the axis line orthogonal to the substrate transport direction, that is, the vertical direction.

基板の一方の板面と他方の板面とをブラッシングする一対のロールブラシは、基板の板面に対する接触状態、つまり押し当て量を調整することが要求される。基板の板面に対する押し当て量の調整は一対のロールブラシの軸方向上端と下端とを移動させることで行われる。 The pair of roll brushes that brush one plate surface and the other plate surface of the substrate are required to adjust the contact state with respect to the plate surface of the substrate, that is, the pressing amount. Adjustment of the pressing amount with respect to the board surface of a board | substrate is performed by moving the axial direction upper end and lower end of a pair of roll brush.

ところで、基板が大型化すれば、ロールブラシは長尺化及び高重量化する。しかも、基板を所定の傾斜角度で搬送するため、ロールブラシも基板と同じ角度で傾斜している。そのため、一対のロールブラシの基板の板面に対する押し当て量を軸方向全長にわたり均一になるよう調整する作業に多くの手間が掛かるということがあった。 By the way, if the substrate is enlarged, the roll brush becomes longer and heavier. Moreover, in order to transport the substrate at a predetermined inclination angle, the roll brush is also inclined at the same angle as the substrate. For this reason, it takes a lot of work to adjust the pressing amount of the pair of roll brushes against the plate surface of the substrate so as to be uniform over the entire length in the axial direction.

この発明は、一対のロールブラシの基板に対する押し当て量の調整を容易に、しかも精度よく行うことができるようにした基板の処理装置を提供することにある。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus capable of easily and accurately adjusting the amount of pressing of a pair of roll brushes against a substrate.

この発明は、基板を所定の傾斜角度で搬送しながら処理する処理装置であって、
チャンバと、
このチャンバ内に配置され上記基板を所定の傾斜角度で支持して搬送する搬送ローラが設けられた搬送軸と、
上記搬送ローラによって搬送される基板の下端を支持する駆動ローラが設けられた駆動軸と、
この駆動軸を回転駆動して上記駆動ローラによって上記基板に駆動力を付与し、その基板を上記搬送ローラに沿って搬送する駆動源と、
上記チャンバ内を搬送される上記基板を洗浄処理するブラシ洗浄部とを具備し、
上記ブラシ洗浄部は、
軸線を上記基板の搬送方向と交差する方向に向けて対向して配置され搬送される上記基板の一方の板面と他方の板面をブラッシングする一対のロールブラシと、
各ロールブラシの上端に設けられこれらロールブラシの軸方向上端側の上記基板の板面に対する押し当て量を調整する上部間隔調整機構と、
各ロールブラシの下端に設けられこれらロールブラシの軸方向下端側の上記基板の板面に対する押し当て量を調整する下部間隔調整機構と、
上記上部間隔調整機構と下部間隔調整機構とによる一方のロールブラシの上端側と下端側の上記基板の板面に対する押し当て量の調整を連動させる第１の連動軸と、
上記上部間隔調整機構と下部間隔調整機構による他方のロールブラシの上端側と下端側の上記基板の板面に対する押し当て量の調整を連動させる第２の連動軸を具備し、
上記ロールブラシは、上端が吊り下げられた状態で回転可能に支持され、下端が回転駆動される連結軸に対して軸方向に変位自在かつこの連結軸と一体的に回転するよう連結されていることを特徴とする基板の処理装置にある。 The present invention is a processing apparatus for processing a substrate while conveying the substrate at a predetermined inclination angle,
A chamber;
A transport shaft provided in the chamber and provided with a transport roller for supporting and transporting the substrate at a predetermined inclination angle;
A drive shaft provided with a drive roller for supporting the lower end of the substrate conveyed by the conveyance roller;
A driving source for rotating the driving shaft to apply a driving force to the substrate by the driving roller and conveying the substrate along the conveying roller;
A brush cleaning unit for cleaning the substrate transported in the chamber;
The brush cleaning part
A pair of roll brushes for brushing one plate surface and the other plate surface of the substrate which are arranged and conveyed facing an axis in a direction intersecting the conveyance direction of the substrate;
An upper interval adjustment mechanism that is provided at the upper end of each roll brush and adjusts the amount of pressing against the plate surface of the substrate on the upper end side in the axial direction of the roll brush;
A lower gap adjusting mechanism that is provided at the lower end of each roll brush and adjusts the amount of pressing against the plate surface of the substrate on the lower end side in the axial direction of the roll brush;
A first interlocking shaft for interlocking adjustment of the pressing amount of the upper and lower ends of one roll brush against the plate surface of the substrate by the upper interval adjusting mechanism and the lower interval adjusting mechanism;
A second interlocking shaft that interlocks the adjustment of the pressing amount of the other roll brush with respect to the plate surface of the substrate by the upper spacing adjusting mechanism and the lower spacing adjusting mechanism ;
The roll brush is rotatably supported in a state where the upper end is suspended, and is connected so as to be axially displaceable and to rotate integrally with the connecting shaft to which the lower end is rotationally driven. The substrate processing apparatus is characterized by the above.

この発明によれば、各ロールブラシの軸方向上端側と下端側との基板の板面に対する押し当て量を同時に調整することができる。そのため、一対のロールブラシを軸線に対して正確に平行移動させて位置決めすることができるから、一対のロールブラシの位置決め調整を容易かつ正確に行うことが可能となる。 According to this invention, the pressing amount with respect to the board surface of the board | substrate of the axial direction upper end side and lower end side of each roll brush can be adjusted simultaneously. For this reason, the pair of roll brushes can be accurately translated relative to the axis and positioned, so that the positioning adjustment of the pair of roll brushes can be performed easily and accurately.

以下、この発明の一実施の形態を図面を参照して説明する。
図１乃至図９はこの発明の一実施の形態を示し、図１は処理装置の内部構造を示す正面図、図２は側面図である。処理装置は図１と図２に鎖線で示すチャンバ１を有する。このチャンバ１は図２に示すように断面形状が矩形状であって、垂直線に対して所定の角度、たとえば７５度の角度で傾斜して配設される。 An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
1 to 9 show an embodiment of the present invention, FIG. 1 is a front view showing the internal structure of the processing apparatus, and FIG. 2 is a side view. The processing apparatus has a chamber 1 indicated by a chain line in FIGS. As shown in FIG. 2, the chamber 1 has a rectangular cross-sectional shape and is inclined with respect to a vertical line at a predetermined angle, for example, an angle of 75 degrees.

上記チャンバ１の上面には上部支持板２が設けられ、下面には下部支持板３が設けられている。各支持板２，３には、上部と下部とが後述するごとく支持された複数の搬送軸４，４Ａ（搬送軸４Ａについては後で説明する）が軸線を平行にしてチャンバ１の長手方向に対し所定間隔で設けられている。各搬送軸４には軸方向に所定間隔で複数の搬送ローラ５が設けられている。なお、各搬送軸４はチャンバ１と同様、軸線を７５度の角度で傾斜させて設けられている。 An upper support plate 2 is provided on the upper surface of the chamber 1, and a lower support plate 3 is provided on the lower surface. Each support plate 2, 3 has a plurality of transport shafts 4, 4 A (the transport shaft 4 A will be described later) supported in the upper and lower portions as will be described later in the longitudinal direction of the chamber 1. On the other hand, they are provided at predetermined intervals. Each transport shaft 4 is provided with a plurality of transport rollers 5 at predetermined intervals in the axial direction. Each transfer shaft 4 is provided with an axis inclined at an angle of 75 degrees as in the chamber 1.

上記チャンバ１内には処理部としての後述するブラシ洗浄部７と乾燥処理部８とが設けられている。チャンバ１内には図１に鎖線で示す基板Ｗが矢印で示す方向に搬送されてくる。チャンバ１内に搬入された基板Ｗは上記ブラシ洗浄部７でブラシ洗浄され、ついで上記乾燥処理部８で基板Ｗに付着残留した洗浄液が乾燥処理されるようになっている。 The chamber 1 is provided with a brush cleaning unit 7 and a drying processing unit 8 described later as processing units. A substrate W indicated by a chain line in FIG. 1 is transferred into the chamber 1 in a direction indicated by an arrow. The substrate W carried into the chamber 1 is subjected to brush cleaning by the brush cleaning unit 7, and then the cleaning liquid adhering to the substrate W is dried by the drying processing unit 8.

上記チャンバ１内に搬入された基板Ｗは、傾斜方向下側の板面が上記搬送軸４に設けられた搬送ローラ５によって支持され、下端は駆動ローラ１１によって支持される。この駆動ローラ１１は駆動軸１２の先端部に取り付け固定されている。駆動軸１２の基端部は、図７に示すようにチャンバ１の前面に取り付けられた筒状の支持体１３に軸受１４によって回転可能に支持されている。上記支持体１３はチャンバ１の前面下部に設けられた前面支持板１５に取り付けられている。 The substrate W carried into the chamber 1 is supported by the transport roller 5 provided on the transport shaft 4 at the lower plate surface in the inclined direction, and supported by the drive roller 11 at the lower end. The drive roller 11 is fixedly attached to the tip of the drive shaft 12. The base end portion of the drive shaft 12 is rotatably supported by a bearing 14 on a cylindrical support 13 attached to the front surface of the chamber 1 as shown in FIG. The support 13 is attached to a front support plate 15 provided at the lower front of the chamber 1.

上記駆動軸１２の基端部は上記支持体１３から突出し、その突出端には第１の伝達歯車１６が嵌着されている。この第１の伝達歯車１６には第２の伝達歯車１７が噛合している。この第２の伝達歯車１７には従動プーリ１８が一体的に設けられていて、これらは上記前面支持板１５に設けられたブラケット１９に回転可能に取り付けられている。 A base end portion of the drive shaft 12 protrudes from the support 13, and a first transmission gear 16 is fitted to the protruding end. A second transmission gear 17 meshes with the first transmission gear 16. The second transmission gear 17 is integrally provided with a driven pulley 18, and these are rotatably attached to a bracket 19 provided on the front support plate 15.

上記前面支持板１５には第１の駆動源２１が上下方向の位置決め調整可能に設けられている。この第１の駆動源２１の出力軸２２には駆動プーリ２３が嵌着されていて、この駆動プーリ２３と上記従動プーリ１８とにはタイミングベルト２４が張設されている。 The front support plate 15 is provided with a first drive source 21 so that the positioning in the vertical direction can be adjusted. A driving pulley 23 is fitted on the output shaft 22 of the first driving source 21, and a timing belt 24 is stretched between the driving pulley 23 and the driven pulley 18.

したがって、上記第１の駆動源２１が作動すれば、上記駆動軸１２とともに駆動ローラ１１が回転駆動されるから、この駆動ローラ１１に下端を当接させた基板Ｗが駆動ローラ１１との摩擦力によって上記搬送軸４に設けられた搬送ローラ５にガイドされて搬送されるようになっている。 Therefore, when the first driving source 21 is operated, the driving roller 11 is rotationally driven together with the driving shaft 12, so that the substrate W having the lower end in contact with the driving roller 11 is in frictional force with the driving roller 11. Therefore, it is guided and transported by a transport roller 5 provided on the transport shaft 4.

図７に示すように上記駆動軸１２を支持した支持体１３はカバー２５によって覆われている。カバー２５には駆動軸１２を挿通する孔２５ａが形成されている。駆動軸１２のカバー２５内に位置する部分には上記孔２５ａに対向して遮蔽盤２６が設けられている。それによって、チャンバ１内で基板Ｗに供給された洗浄液が上記駆動軸１２を伝わって軸受１４に向かって流れるのを阻止できるようになっている。
なお、上記カバー２５には図示しない排液孔が形成され、カバー２５内に流れた洗浄液を排出できるようになっている。 As shown in FIG. 7, the support 13 that supports the drive shaft 12 is covered with a cover 25. The cover 25 is formed with a hole 25a through which the drive shaft 12 is inserted. A portion of the drive shaft 12 located in the cover 25 is provided with a shielding plate 26 facing the hole 25a. Accordingly, the cleaning liquid supplied to the substrate W in the chamber 1 can be prevented from flowing toward the bearing 14 through the drive shaft 12.
The cover 25 is formed with a drain hole (not shown) so that the cleaning liquid flowing into the cover 25 can be discharged.

図１に示すように、上記ブラシ洗浄部７は第１のブラシユニット２８と第２のブラシユニット２９が基板Ｗの搬送方向に沿って所定間隔で離間して配置されてなる。各ブラシユニット２８，２９は図３に示すように基板Ｗの搬送方向と交差する方向に沿って配置された上ロールブラシ３１と下ロールブラシ３２からなる。上ロールブラシ３１は傾斜して搬送される基板Ｗの傾斜方向上面をブラッシングし、下ロールブラシ３２は下面をブラッシングする。 As shown in FIG. 1, the brush cleaning unit 7 includes a first brush unit 28 and a second brush unit 29 that are arranged at a predetermined interval along the transport direction of the substrate W. Each of the brush units 28 and 29 includes an upper roll brush 31 and a lower roll brush 32 arranged along a direction intersecting the transport direction of the substrate W as shown in FIG. The upper roll brush 31 brushes the upper surface in the inclination direction of the substrate W conveyed while being inclined, and the lower roll brush 32 brushes the lower surface.

図８はロールブラシ３１，３２の上部の支持構造を示し、図９は下部の支持構造を示す。ロールブラシ３１，３２の上下端からはそれぞれ支軸３３，３４が突設されている。上支軸３３は上継ぎ手３５に連結される。この上継ぎ手３５にはすり割溝３６が形成され、このすり割溝３６には上記上支軸３３が係合支持される係合溝３７が形成されている。 FIG. 8 shows the upper support structure of the roll brushes 31 and 32, and FIG. 9 shows the lower support structure. Support shafts 33 and 34 protrude from the upper and lower ends of the roll brushes 31 and 32, respectively. The upper support shaft 33 is connected to the upper joint 35. A slit 36 is formed in the upper joint 35, and an engagement groove 37 in which the upper support shaft 33 is engaged and supported is formed in the slot 36.

上記上支軸３３にはフランジ３３ａが形成されている。上支軸３３はフランジ３３ａを上記係合溝３７に係合させて設けられている。そして、すり割溝３６に図示しない止め具をねじ止め固定することで、上記上支軸３３が上記上継ぎ手３５に着脱可能に係合保持されている。つまり、ロールブラシ３１，３２は上継ぎ手３５によってチャンバ１内に吊り下げられた状態で設けられている。それによって、ロールブラシ３１，３２に生じる座屈応力が低減し、たわみが生じ難くなっている。 The upper support shaft 33 is formed with a flange 33a. The upper support shaft 33 is provided by engaging the flange 33 a with the engagement groove 37. The upper support shaft 33 is detachably engaged with the upper joint 35 by screwing and fixing a stopper (not shown) to the slit groove 36. That is, the roll brushes 31 and 32 are provided in a state of being suspended in the chamber 1 by the upper joint 35. As a result, the buckling stress generated in the roll brushes 31 and 32 is reduced, and bending is less likely to occur.

上記上継ぎ手３５の上端面には取り付け軸３８が設けられている。この取り付け軸３８は上記上部支持板２に取り付け固定される上部支持体３９にスラスト軸受３９ａとラジアル軸受３９ｂを介して回転可能に支持されている。上部支持体３９はチャンバ１の前後方向、つまり一対のロールブラシ３１，３２が接離する方向に移動可能となっている。 A mounting shaft 38 is provided on the upper end surface of the upper joint 35. The attachment shaft 38 is rotatably supported by an upper support 39 fixedly attached to the upper support plate 2 via a thrust bearing 39a and a radial bearing 39b. The upper support 39 is movable in the front-rear direction of the chamber 1, that is, in the direction in which the pair of roll brushes 31 and 32 are in contact with each other.

そして、一対のロールブラシ３１，３２の上部は、上部支持体３９を介して後述する上部間隔調整機構４１によって対向間隔を調整できるようになっている。
各ロールブラシ３１，３２の下支軸３４には図９に示すように下継ぎ手４３が連結されている。この下継ぎ手４３は上記上継ぎ手３５と同様、すり割溝４４及び係合溝４５が形成されていて、この係合溝４５に上記下支軸３４が挿入されている。そして、上記すり割り溝４４に図示せぬ止め具がねじ止め固定されることで、下支軸３４に下継ぎ手４３が連結固定される。 And the upper part of a pair of roll brush 31 and 32 can adjust the opposing space | interval by the upper space | interval adjustment mechanism 41 mentioned later via the upper support body 39. FIG.
A lower joint 43 is connected to the lower support shaft 34 of each of the roll brushes 31 and 32 as shown in FIG. As with the upper joint 35 , the lower joint 43 is formed with a slit groove 44 and an engagement groove 45, and the lower support shaft 34 is inserted into the engagement groove 45. Then, the lower joint 43 is connected and fixed to the lower support shaft 34 by screwing and fixing a stopper (not shown) in the slot 44.

下継ぎ手４３には、連結軸４７の上端に開放して形成された係合溝４７ａに係合したピン４８が設けられている。つまり、連結軸４７に対して下継ぎ手４３は軸方向に変位可能かつ一体的に回転するよう連結されている。したがって、ロールブラシ３１，３２の上継ぎ手３５による吊り下げ状態が損なわれることがない。 The lower joint 43 is provided with a pin 48 that is engaged with an engagement groove 47 a that is formed open at the upper end of the connecting shaft 47. That is, the lower joint 43 is connected to the connecting shaft 47 so as to be displaceable in the axial direction and rotate integrally. Therefore, the suspended state by the upper joint 35 of the roll brushes 31 and 32 is not impaired.

上記連結軸４７の他端部は下部支持体４９に挿通され、一対の軸受５１によって回転可能に支持されている。上記連結軸４７の他端は継ぎ手部５２を介してブラシ用駆動源５３の図示しない出力軸に連結されている。一対のロールブラシ３１，３２の下部は、下部支持体４９を介して後述する下部間隔調整機構５５によって対向間隔を調整できるようになっている。 The other end of the connecting shaft 47 is inserted into the lower support 49 and is rotatably supported by a pair of bearings 51. The other end of the connecting shaft 47 is connected to an output shaft (not shown) of the brush drive source 53 via a joint portion 52. The lower portions of the pair of roll brushes 31 and 32 can be adjusted in the facing distance by a lower distance adjusting mechanism 55 described later via a lower support 49.

上記下部支持体４９は上記下部支持板３に図示せぬ部材を介して取り付け固定される。それによって、上記ブラシ用駆動源５３が作動すれば、一対のロールブラシ３１，３２が回転駆動されるようになっている。これらロールブラシ３１，３２の回転方向は基板Ｗの送り方向或いは送り方向と逆方向など要求される洗浄条件に応じて設定される。 The lower support 49 is attached and fixed to the lower support plate 3 via a member (not shown). Accordingly, when the brush drive source 53 is activated, the pair of roll brushes 31 and 32 are rotationally driven. The rotation direction of these roll brushes 31 and 32 is set according to the required cleaning conditions such as the feeding direction of the substrate W or the direction opposite to the feeding direction.

なお、図９に示すように、チャンバ１の上記連結軸４７が貫通した部分は下端が上記チャンバの下面に液密に取り付けられた内筒５６によって覆われている。この内筒５６は上記下継ぎ手４３に一体形成された外筒５７によって覆われている。内筒５６と外筒５７とでラビリンスを構成していて、チャンバ１内の洗浄液が上記連結軸４７を伝わって外部に流れるのを阻止している。 As shown in FIG. 9, the lower end of the portion of the chamber 1 through which the connecting shaft 47 passes is covered with an inner cylinder 56 that is liquid-tightly attached to the lower surface of the chamber. The inner cylinder 56 is covered with an outer cylinder 57 formed integrally with the lower joint 43. The inner cylinder 56 and the outer cylinder 57 constitute a labyrinth, and the cleaning liquid in the chamber 1 is prevented from flowing outside through the connecting shaft 47.

上記連結軸４７と下部支持体４９の上端部との箇所にもラビリンス５４が設けられている。それによって、洗浄液が仮に連結軸４７を伝わって流れてきても、その洗浄液が連結軸４７を支持した軸受５１に流れ込むのを阻止できるようになっている。 A labyrinth 54 is also provided at a location between the connecting shaft 47 and the upper end of the lower support 49. As a result, even if the cleaning liquid flows along the connecting shaft 47, the cleaning liquid can be prevented from flowing into the bearing 51 that supports the connecting shaft 47.

上記乾燥処理部８は、図１に示すようにチャンバ１内を搬送される基板Ｗの傾斜した上面と下面とに先端のスリット（図示せず）を対向させて配置された一対のエアーナイフ５９（１つだけ図示）からなる。 As shown in FIG. 1, the drying processing unit 8 includes a pair of air knives 59 that are disposed with a slit (not shown) at the tip facing the inclined upper and lower surfaces of the substrate W transported in the chamber 1. (Only one is shown).

エアーナイフ５９の先端からは搬送される基板Ｗの板面に対して不活性ガスや清浄な空気などの気体が所定の圧力で、しかも基板Ｗの搬送方向下流側に向けて噴射されるようになっている。それによって、上記ブラシ洗浄部７でブラシ洗浄された基板Ｗの板面に付着残留する洗浄水が基板Ｗの板面から除去される。 From the tip of the air knife 59, a gas such as an inert gas or clean air is jetted at a predetermined pressure toward the downstream side in the transport direction of the substrate W with respect to the plate surface of the substrate W to be transported. It has become. As a result, the cleaning water remaining on the plate surface of the substrate W that has been brush-cleaned by the brush cleaning unit 7 is removed from the plate surface of the substrate W.

上記チャンバ１内に配置された搬送軸４のうち、上記ブラシ洗浄部７と乾燥処理部８の近くに配置された搬送軸、具体的にはブラシ洗浄部７の第１のブラシユニット２８の搬入側の１本、第２のブラシユニット２９の搬出側の１本及び第１のブラシユニット２８の搬出側であるとともに、第２のブラシユニット２９の搬入側である、これら一対のブラシユニット２８，２９の間に位置する３本及び乾燥処理部８の搬入側２本の搬送軸４は第２の駆動源６１によって強制的に回転駆動されるようになっている。 Of the transport shaft 4 disposed in the chamber 1, the transport shaft disposed near the brush cleaning unit 7 and the drying processing unit 8, specifically, the first brush unit 28 of the brush cleaning unit 7 is carried in. A pair of brush units 28, one on the side, one on the carry-out side of the second brush unit 29 and one on the carry-out side of the first brush unit 28, and on the carry-in side of the second brush unit 29, The two transport shafts 4 located between 29 and the two carry-in sides of the drying processing unit 8 are forcibly rotated by the second drive source 61.

第２の駆動源６１によって回転駆動される搬送軸を４Ａとする。回転駆動される搬送軸４Ａには上記搬送ローラ５が一体的に取り付け固定され、回転駆動されない搬送軸４には搬送ローラ５が回転可能に取り付けられている。 A conveyance shaft that is rotationally driven by the second drive source 61 is assumed to be 4A. The transport roller 5 is integrally attached and fixed to the rotationally driven transport shaft 4A, and the transport roller 5 is rotatably mounted on the transport shaft 4 that is not rotationally driven.

図６に示すように、回転駆動される搬送軸４Ａの上部には上継ぎ手６３が連結される。この上継ぎ手６３にはすり割り溝６４が形成され、このすり割り溝６４には上記搬送軸４Ａの上部が係合支持される係合溝６５が形成されている。 As shown in FIG. 6, an upper joint 63 is connected to the upper portion of the rotationally driven transport shaft 4A. The upper joint 63 is formed with a slot groove 64, and the slot groove 64 is formed with an engagement groove 65 in which the upper portion of the conveying shaft 4A is engaged and supported.

上記搬送軸４Ａの上端にはフランジ６６が形成されていて、このフランジ６６を上記係合溝６５に係合させている。そして、上記すり割り溝６４に図示しない止め具をねじ止め固定することで、上記搬送軸４Ａと上継ぎ手６３とが着脱可能に連結固定されている。このように、搬送軸４Ａはロールブラシ３１，３２と同様、吊り下げ構造で支持されている。 A flange 66 is formed at the upper end of the conveying shaft 4A, and this flange 66 is engaged with the engagement groove 65. Then, the conveying shaft 4A and the upper joint 63 are detachably connected and fixed by screwing and fixing a stopper (not shown) in the slit groove 64. In this way, the transport shaft 4A is supported by a suspended structure, like the roll brushes 31 and 32.

上記上継ぎ手６３には上記係合溝６５と同心に嵌合孔６７が形成され、この嵌合孔６７には連結軸６７ａの下端部が嵌合され、ピン６８によって連結固定されている。連結軸６７ａはチャンバ１の上部壁から外方へ突出し、その突出部分は上記上部支持板２に設けられた上部支持体６９に一対の軸受７１によって回転可能に支持されている。 A fitting hole 67 is formed in the upper joint 63 concentrically with the engaging groove 65, and a lower end portion of a connecting shaft 67 a is fitted into the fitting hole 67 and is connected and fixed by a pin 68. The connecting shaft 67 a protrudes outward from the upper wall of the chamber 1, and the protruding portion is rotatably supported by a pair of bearings 71 on an upper support 69 provided on the upper support plate 2.

チャンバ１の上部壁の上記連結軸６７が貫通した部分の上面と連結軸６７とにはラビリンス７２が設けられている。このラビリンス７２によってチャンバ１の連結軸６７が貫通した部分から洗浄液が外部に流出するのを阻止している。さらに、チャンバ１の上面には連結軸６７が貫通した部分を囲む環状壁７２ａが設けられている。それによって、連結軸６７の貫通部分からチャンバ１の外部に洗浄液が流出しても、その洗浄液が上記環状壁７２ａによって周囲に流れるのが防止される。 A labyrinth 72 is provided on the upper surface of the portion of the upper wall of the chamber 1 through which the connecting shaft 67 passes and the connecting shaft 67. The labyrinth 72 prevents the cleaning liquid from flowing out from the portion through which the connecting shaft 67 of the chamber 1 passes. Further, an annular wall 72a is provided on the upper surface of the chamber 1 so as to surround a portion through which the connecting shaft 67 passes. Accordingly, even if the cleaning liquid flows out of the chamber 1 from the through portion of the connecting shaft 67, the cleaning liquid is prevented from flowing around by the annular wall 72a.

搬送軸４Ａの下部は図７に示すように下継ぎ手７３が取り付けられている。この下継ぎ手７３にはすり割り溝７４及び係合溝７５が形成され、この係合溝７５に搬送軸４Ａの下端部が挿入されている。そして、上記すり割り溝７４には図示しない止め具が取り付け固定される。それによって、上記搬送軸４Ａに下継ぎ手７３が連結固定される。 A lower joint 73 is attached to the lower portion of the transport shaft 4A as shown in FIG. The lower joint 73 is formed with a slit groove 74 and an engagement groove 75, and the lower end portion of the transport shaft 4 A is inserted into the engagement groove 75. A stopper (not shown) is attached and fixed to the slit groove 74. Accordingly, the lower joint 73 is connected and fixed to the transport shaft 4A.

上記下継ぎ手７３には連結軸７６が設けられている。この連結軸７６は下部支持板３に設けられた下部支持体７７に挿通され、一対の軸受７８によって回転可能に支持されている。 The lower joint 73 is provided with a connecting shaft 76. The connecting shaft 76 is inserted into a lower support 77 provided on the lower support plate 3 and is rotatably supported by a pair of bearings 78.

上記下部支持体７７から突出した連結軸７６の端部には第１の伝達歯車８１が外嵌固定されている。この第１の伝達歯車８１には従動プーリ８２が一体的に設けられた第２の伝達歯車８３が噛合している。上記第２の伝達歯車８３は上記下部支持板３に取り付けられたブラケット８４に回転可能に支持されている。 A first transmission gear 81 is fitted and fixed to the end of the connecting shaft 76 protruding from the lower support 77. The first transmission gear 81 meshes with a second transmission gear 83 that is integrally provided with a driven pulley 82. The second transmission gear 83 is rotatably supported by a bracket 84 attached to the lower support plate 3.

上記下部支持板３には上記第２の駆動源６１が上下方向の取り付け位置の調整可能に設けられている。この第２の駆動源６１の出力軸８５には駆動プーリ８６が嵌着されている。この駆動プーリ８６と上記従動プーリ８２とにはタイミングベルト８７が張設されている。したがって、上記第２の駆動源６１が作動すれば、上記搬送軸４Ａが回転駆動されるようになっている。
なお、搬送軸４Ａは、その搬送軸４Ａに設けられた搬送ローラ５の回転速度が上記駆動ローラ１１の周速度と同じになるよう上記第２の駆動源６１によって回転駆動される。 The lower support plate 3 is provided with the second drive source 61 so that the vertical mounting position can be adjusted. A drive pulley 86 is fitted to the output shaft 85 of the second drive source 61. A timing belt 87 is stretched between the drive pulley 86 and the driven pulley 82. Therefore, when the second drive source 61 is operated, the transport shaft 4A is rotationally driven.
The transport shaft 4A is rotationally driven by the second drive source 61 such that the rotational speed of the transport roller 5 provided on the transport shaft 4A is the same as the peripheral speed of the drive roller 11.

上記チャンバ１の上記連結軸７６が貫通した部分には内筒８８がチャンバ１に対して液密に設けられている。この内筒８８は上記下継ぎ手７３に設けられた外筒８９によって覆われている。それによって、上記内筒７８と外筒７９とでラビリンスを構成し、チャンバ１内の洗浄液が連結軸７６を伝わって外部に流出するのを阻止している。 An inner cylinder 88 is liquid-tightly provided with respect to the chamber 1 at a portion of the chamber 1 through which the connecting shaft 76 passes. The inner cylinder 88 is covered with an outer cylinder 89 provided at the lower joint 73. Accordingly, the inner cylinder 78 and the outer cylinder 79 constitute a labyrinth, and the cleaning liquid in the chamber 1 is prevented from flowing out through the connecting shaft 76.

つぎに、一対のブラシユニット２８，２９の各一対のロールブラシ３１，３２の押し当て量を調整する上部間隔調整機構４１と下部間隔調整機構５５について図３乃至図５を参照しながら説明する。なお、上部間隔調整機構４１と下部間隔調整機構５５は同じ構造であるので、主要な構成については一方について説明する。 Next, the upper interval adjustment mechanism 41 and the lower interval adjustment mechanism 55 that adjust the pressing amount of each pair of roll brushes 31 and 32 of the pair of brush units 28 and 29 will be described with reference to FIGS. In addition, since the upper space | interval adjustment mechanism 41 and the lower space | interval adjustment mechanism 55 are the same structures, one main structure is demonstrated.

すなわち、上部支持板２と下部支持板３には図４と図５に示すようにリニアガイド９１がチャンバ１の前後方向に沿って設けられている。このリニアガイド９１には第１の可動部材９２と第２の可動部材９３とに設けられたそれぞれ一対のスライダ９４がスライド可能に支持されている。なお、下部間隔調整機構５５のリニアガイド９１は下部取り付け板３に高さ位置を調整するための架台９０を介して取り付けられている。 That is, the upper support plate 2 and the lower support plate 3 are provided with linear guides 91 along the front-rear direction of the chamber 1 as shown in FIGS. A pair of sliders 94 provided on the first movable member 92 and the second movable member 93 are slidably supported on the linear guide 91. In addition, the linear guide 91 of the lower space | interval adjustment mechanism 55 is attached to the lower attachment plate 3 via the mount 90 for adjusting a height position.

上下一対の第１の可動部材９２の先端は上ロールブラシ３１を支持した上部支持体３９及び下部支持体４９にそれぞれ連結固定されている。上下一対の第２の可動部材９３の先端は下ロールブラシ３２を支持した上部支持体３９及び下部支持体４９にそれぞれ連結固定されている。 The ends of the pair of upper and lower first movable members 92 are connected and fixed to an upper support 39 and a lower support 49 that support the upper roll brush 31, respectively. The distal ends of the pair of upper and lower second movable members 93 are connected and fixed to an upper support 39 and a lower support 49 that support the lower roll brush 32, respectively.

第１の可動部材９２と第２の可動部材９３との中途部の外側面にはそれぞれ連結部材９５が設けられている。各連結部材９５にはリンク９６の一端が枢着されている。リンク９６はチャンバ１の前後方向後方へ導出されている。 A connecting member 95 is provided on each outer side surface of the first movable member 92 and the second movable member 93 in the middle. One end of a link 96 is pivotally attached to each connecting member 95. The link 96 is led out to the rear in the front-rear direction of the chamber 1.

チャンバ１の背面側には第１の連動軸９８と第２の連動軸９９とが所定の間隔で軸線を平行にして配置されている。各連動軸９８，９９の上端部と下端部は、上記上部支持板２と下部支持板３とにそれぞれ設けられたラジアル軸受１０１によって回転可能に支持されている。各連動軸９８，９９の上下端には回転体１０２が設けられている。各回転体１０２の偏心位置には上記リンク９６の他端が枢着されている。このリンク９６の偏心量を図５にｅで示す。 A first interlocking shaft 98 and a second interlocking shaft 99 are arranged on the back side of the chamber 1 with the axes parallel to each other at a predetermined interval. The upper and lower ends of each interlocking shaft 98, 99 are rotatably supported by radial bearings 101 provided on the upper support plate 2 and the lower support plate 3, respectively. A rotating body 102 is provided at the upper and lower ends of each interlocking shaft 98,99. The other end of the link 96 is pivotally attached to the eccentric position of each rotating body 102. The amount of eccentricity of the link 96 is indicated by e in FIG.

したがって、第１、第２の連動軸９８，９９が回転駆動されれば、リンク９６が図５に矢印で示す方向に直線移動するから、その移動に第１の可動部材９２と第２の可動部材９３がリニアガイド９１に沿って連動する。つまり、第１、第２の連動軸９８，９９によって上部間隔調整機構４１と下部間隔調整機構５５の第１の可動部材９２と第２の可動部材９３が連動するようになっている。 Therefore, if the first and second interlocking shafts 98 and 99 are rotationally driven, the link 96 moves linearly in the direction indicated by the arrow in FIG. 5, and accordingly, the first movable member 92 and the second movable member are moved. The member 93 is interlocked along the linear guide 91. In other words, the first movable member 92 and the second movable member 93 of the upper interval adjusting mechanism 41 and the lower interval adjusting mechanism 55 are interlocked by the first and second interlocking shafts 98 and 99.

第１の可動部材９２と第２の可動部材９３がリニアガイド９１に沿って移動すれば、各可動部材９２，９３の先端に連結された上部支持体３９と下部支持体４９を介して上ロールブラシ３１と下ロールブラシ３２とがチャンバ１の前後方向に移動する。したがって、上ロールブラシ３１と下ロールブラシ３２とが基板Ｗを挟持する位置及び基板Ｗの板面に対する接触強さである、押し当て量を設定することができるようになっている。 If the first movable member 92 and the second movable member 93 move along the linear guide 91, the upper roll is connected via the upper support 39 and the lower support 49 connected to the distal ends of the movable members 92 and 93. The brush 31 and the lower roll brush 32 move in the front-rear direction of the chamber 1. Therefore, it is possible to set the pressing amount, which is the position where the upper roll brush 31 and the lower roll brush 32 sandwich the substrate W and the contact strength with respect to the plate surface of the substrate W.

上ロールブラシ３１と下ロールブラシ３２とによる基板Ｗを挟持する位置を調整すれば、搬送ローラ５にガイドされて搬送される基板Ｗが搬送ローラ５の外周面から浮き上がったり、搬送ローラ５の外周面に強く押し当てられるのを防止できる。つまり、基板Ｗを搬送ローラ５の外周面の高さに合わせた位置で挟持することができる。 By adjusting the position where the upper roll brush 31 and the lower roll brush 32 sandwich the substrate W, the substrate W guided and transported by the transport roller 5 floats up from the outer peripheral surface of the transport roller 5 or the outer periphery of the transport roller 5. It can be prevented from being strongly pressed against the surface. That is, the substrate W can be held at a position that matches the height of the outer peripheral surface of the transport roller 5.

上ロールブラシ３１と下ロールブラシ３２が基板Ｗを挟持する位置及び押し当て量の調整、つまり各ロールブラシ３１，３２の位置調整はそれぞれ位置決め操作機構１０５によって操作して調整できるようになっている。 The position where the upper roll brush 31 and the lower roll brush 32 hold the substrate W and the adjustment of the pressing amount, that is, the position adjustment of each roll brush 31, 32 can be adjusted by operating the positioning operation mechanism 105. .

上記位置決め操作機構１０５は第１の連動軸９８と第２の連動軸９９との下端部、つまり各連動軸９８，９９の下側のラジアル軸受１０１から突出した下端部に設けられたギアボックス１０６を有する。 The positioning operation mechanism 105 is a gear box 106 provided at a lower end portion of the first interlocking shaft 98 and the second interlocking shaft 99, that is, a lower end portion protruding from the radial bearing 101 on the lower side of each interlocking shaft 98, 99. Have

図３に示すように、ギアボックス１０６の入力軸１０７には減速機１０８の出力軸１０９が連結されている。この減速機１０８は上記下部支持板３に取り付け固定されていて、その入力軸１１１にはハンドル１１２が取り付けられている。 As shown in FIG. 3, the output shaft 109 of the speed reducer 108 is connected to the input shaft 107 of the gear box 106. The speed reducer 108 is attached and fixed to the lower support plate 3, and a handle 112 is attached to the input shaft 111.

ハンドル１２を回転すれば、その回転が減速機１０８で減速されてギアボックス１０６に伝達される。ギアボックス１０６には、図示しないが、各連動軸８９，９８に取り付けられた第１のヘリカルギアと、上記入力軸１０７に取り付けられ第１のヘリカルギアに噛合した第２のヘリカルギアが設けられている。それによって、ハンドル１１２によって入力軸１１を回転させ、その回転がギアボックス１０６に入力されると、入力軸１１１と軸線を直交させた第１、第２の連動軸９８，９９が回転駆動されるようになっている。 When the handle 12 is rotated, the rotation is decelerated by the speed reducer 108 and transmitted to the gear box 106. Although not shown, the gear box 106 is provided with a first helical gear attached to each of the interlocking shafts 89 and 98 and a second helical gear attached to the input shaft 107 and meshed with the first helical gear. ing. Accordingly, when the input shaft 11 is rotated by the handle 112 and the rotation is input to the gear box 106, the first and second interlocking shafts 98 and 99 whose axes are orthogonal to the input shaft 111 are rotationally driven. It is like that.

したがって、それぞれの位置決め操作機構１０５のハンドル１１２を回転操作すれば、第１の連動軸９８と第２の連動軸９９を回転させることができるから、各連動軸９８，９９の回転に連動する回転体１０２、リンク９６及び上下一対の第１、第２の可動部材９２，９３を介して上ロールブラシ３１と下ロールブラシ３２との位置を調整できる。 Therefore, if the handle 112 of each positioning operation mechanism 105 is rotated, the first interlocking shaft 98 and the second interlocking shaft 99 can be rotated. Therefore, the rotation interlocking with the rotation of the interlocking shafts 98 and 99 is performed. The positions of the upper roll brush 31 and the lower roll brush 32 can be adjusted via the body 102, the link 96, and the pair of upper and lower first and second movable members 92 and 93.

すなわち、上ロールブラシ３１と下ロールブラシ３２は、それぞれ別々の位置決め操作機構１０５によって位置決め調整可能である。しかも、第１の連動軸９８と第２の連動軸９９とによって上部間隔調整機構４１と下部間隔調整機構５５とが連動するから、各ロールブラシ３１，３２の上下端を連動させて同時に位置決め調整することができる。つまり、各ロールブラシ３１，３２の上下端を連動させて移動するため、それぞれのロールブラシ３１，３２を軸線を傾けることなく平行に移動させることができる。 That is, the upper roll brush 31 and the lower roll brush 32 can be positioned and adjusted by separate positioning operation mechanisms 105. In addition, since the upper interval adjusting mechanism 41 and the lower interval adjusting mechanism 55 are interlocked by the first interlocking shaft 98 and the second interlocking shaft 99, the upper and lower ends of the roll brushes 31 and 32 are interlocked to adjust the positioning simultaneously. can do. That is, since the upper and lower ends of the roll brushes 31 and 32 are moved in conjunction with each other, the roll brushes 31 and 32 can be moved in parallel without tilting the axis.

このような構成の処理装置によれば、チャンバ１内に所定の角度である、７５度の角度で傾斜して供給された基板Ｗは、下端が駆動ローラ１１に支持され、傾斜方向の下側の面が搬送ローラ５によって支持される。そして、駆動ローラ１１が第１の駆動源２１によって回転駆動されることで、この駆動ローラ１１によってチャンバ１内を搬送ローラ５にガイドされて搬送される。 According to the processing apparatus having such a configuration, the lower end of the substrate W supplied to the chamber 1 by being inclined at a predetermined angle of 75 degrees is supported by the driving roller 11 and the lower side in the inclination direction. Is supported by the conveying roller 5. The drive roller 11 is rotationally driven by the first drive source 21, so that the drive roller 11 is guided and conveyed by the conveyance roller 5 in the chamber 1.

基板Ｗはブラシ洗浄部７に到達すると、まず、第１のブラシユニット２８の上ロールブラシ３１と下ロールブラシ３２との間に入り込む。基板Ｗの両面と各ロールブラシ３１，３２には図示せぬノズルによって洗浄液が供給される。したがって、一対のロールブラシ３１，３２間に入り込んだ基板Ｗは両面がこれらのロールブラシ３１，３２によってブラッシング洗浄される。 When the substrate W reaches the brush cleaning unit 7, first, the substrate W enters between the upper roll brush 31 and the lower roll brush 32 of the first brush unit 28. A cleaning liquid is supplied to both surfaces of the substrate W and the roll brushes 31 and 32 by nozzles (not shown). Therefore, both sides of the substrate W that has entered between the pair of roll brushes 31 and 32 are brushed and cleaned by the roll brushes 31 and 32.

第１のブラシユニット２８でブラッシング洗浄された基板Ｗは第２のブラシユニット２９に搬送され、ここでも一対のロールブラシ３１，３２間に送り込まれ、これらロールブラシ３１，３２によって両面がブラッシング洗浄されることになる。 The substrate W that has been brushed and cleaned by the first brush unit 28 is transported to the second brush unit 29 and again sent between the pair of roll brushes 31 and 32, and both surfaces are brushed and cleaned by the roll brushes 31 and 32. Will be.

第２のブラシユニット２９でブラッシング洗浄された基板Ｗは乾燥処理部８に送られ、この乾燥処理部８に設けられた一対のエアーナイフ５９から噴射される気体によって両面に付着した洗浄液が除去される乾燥処理が行われる。乾燥処理された基板Ｗは上記チャンバ１から搬出され、次工程に搬送される。 The substrate W brushed and cleaned by the second brush unit 29 is sent to the drying processing unit 8, and the cleaning liquid adhering to both surfaces is removed by the gas sprayed from the pair of air knives 59 provided in the drying processing unit 8. The drying process is performed. The dried substrate W is unloaded from the chamber 1 and transferred to the next process.

基板Ｗが第１、第２のブラシユニット２８，２９の一対のロールブラシ３１，３２間に送り込まれたり、一対のロールブラシ３１，３２間から送り出される際、基板Ｗは各ロールブラシ３１，３２から搬送方向或いは搬送方向と逆方向に作用する力を受ける。基板Ｗがロールブラシ３１，３２から受ける力の方向はこれらロールブラシの回転方向によって異なる。 When the substrate W is sent between the pair of roll brushes 31, 32 of the first and second brush units 28, 29, or is sent out from between the pair of roll brushes 31, 32, the substrate W is transferred to each roll brush 31, 32. Receives a force acting in the transport direction or in the direction opposite to the transport direction. The direction of the force that the substrate W receives from the roll brushes 31 and 32 varies depending on the rotation direction of these roll brushes.

基板Ｗがロールブラシ３１，３２から力を受けると、その力によって基板Ｗに作用する駆動力が変動する。つまり、基板Ｗには駆動ローラ１１による駆動力以外の力が作用する。そのため、ブラシ洗浄部７を搬送される基板Ｗの搬送速度が変動し、一対のロールブラシ３１，３２による洗浄速度が一定とならず、洗浄むらが生じる虞がある。 When the substrate W receives a force from the roll brushes 31 and 32, the driving force acting on the substrate W varies due to the force. That is, a force other than the driving force by the driving roller 11 acts on the substrate W. Therefore, the transport speed of the substrate W transported through the brush cleaning unit 7 varies, the cleaning speed by the pair of roll brushes 31 and 32 is not constant, and cleaning unevenness may occur.

しかしながら、一対のブラシユニット２８，２９の入り口側と出口側に配置された複数の搬送軸４Ａは搬送ローラ５とともに第２の駆動源６１によって強制的に回転駆動される。 However, the plurality of transport shafts 4 A arranged on the entrance side and the exit side of the pair of brush units 28 and 29 are forcibly rotated by the second drive source 61 together with the transport roller 5.

そのため、基板Ｗがブラシ洗浄部７を搬送されるとき、この基板Ｗには駆動ローラ１１による駆動力と、搬送ローラ５による駆動力とが作用するから、基板Ｗはこれら両者の駆動力によって安定した速度で搬送されることになる。つまり、基板Ｗにロールブラシ３１，３２の力が作用しても、基板Ｗをその力にほとんど影響されることなく、ほぼ一定の速度で搬送することができる。それによって、基板Ｗに洗浄むらが生じるのを防止できる。 Therefore, when the substrate W is transported through the brush cleaning unit 7, the driving force by the driving roller 11 and the driving force by the transport roller 5 act on the substrate W, so that the substrate W is stabilized by the driving force of both. It will be transported at the specified speed. That is, even if the force of the roll brushes 31 and 32 acts on the substrate W, the substrate W can be transported at a substantially constant speed without being substantially affected by the force. Thereby, it is possible to prevent the cleaning unevenness from occurring on the substrate W.

一方、基板Ｗが乾燥処理部８に送り込まれるとき、この基板Ｗはエアーナイフ５９から噴射される気体の圧力によって搬送方向と逆方向の力を受け、その力によって基板Ｗの搬送速度が減速される虞がある。つまり、搬送速度が変動することがある。 On the other hand, when the substrate W is fed into the drying processing unit 8, the substrate W receives a force in the direction opposite to the transport direction due to the pressure of the gas sprayed from the air knife 59, and the transport speed of the substrate W is reduced by the force. There is a risk. That is, the conveyance speed may vary.

しかしながら、乾燥処理部８の入り口側の２本の搬送軸４Ａは第２の駆動源６１によって搬送ローラ５とともに回転駆動されている。つまり、乾燥処理部８に送り込まれる基板Ｗには駆動ローラ１１と搬送ローラ５との駆動力が作用する。 However, the two conveying shafts 4 A on the entrance side of the drying processing unit 8 are rotationally driven together with the conveying roller 5 by the second driving source 61. That is, the driving force of the driving roller 11 and the transport roller 5 acts on the substrate W sent to the drying processing unit 8.

そのため、基板Ｗがエアーナイフ５９から噴射される気体の圧力を受けても、その圧力の影響を受けることなく、駆動ローラ１１と搬送ローラ５との駆動力によって基板Ｗをほぼ一定の速度で搬送することができる。その結果、基板Ｗを乾燥むらが生じることなく、乾燥処理することが可能となる。 Therefore, even if the substrate W receives the pressure of the gas injected from the air knife 59, the substrate W is transported at a substantially constant speed by the driving force of the driving roller 11 and the transport roller 5 without being affected by the pressure. can do. As a result, the substrate W can be dried without causing uneven drying.

つまり、ブラシ処理部７と乾燥処理部８とで基板Ｗが処理される際、基板Ｗが搬送速度を変化させる力を受けても、基板Ｗにはその力以上の搬送力、つまり駆動ローラ１１だけでなく、搬送軸４Ａの搬送ローラ５による搬送力が作用する。そのため、基板Ｗを処理部７，８で受ける力にほとんど影響されることなく、ほぼ一定の速度で搬送することが可能となる。 That is, when the substrate W is processed by the brush processing unit 7 and the drying processing unit 8, even if the substrate W receives a force that changes the transport speed, the substrate W has a transport force that is greater than that force, that is, the driving roller 11. In addition, the conveying force by the conveying roller 5 of the conveying shaft 4A acts. Therefore, the substrate W can be transported at a substantially constant speed without being substantially affected by the force received by the processing units 7 and 8.

上記ブラシ処理部７の第１、第２のブラシユニット２８，２９に設けられた上ロールブラシ３１と下ロールブラシ３２は、上部間隔調整機構４１と下部間隔調整機構５５によって上端部と下端部との間隔及び基板Ｗを挟持する位置を調整することができる。 The upper roll brush 31 and the lower roll brush 32 provided in the first and second brush units 28 and 29 of the brush processing unit 7 are connected to an upper end portion and a lower end portion by an upper interval adjusting mechanism 41 and a lower interval adjusting mechanism 55, respectively. And the position where the substrate W is sandwiched can be adjusted.

しかも、位置決め調整機構１０５のハンドル１１２を回転操作することで、上部間隔調整機構４１と下部間隔調整機構５５のそれぞれ一対の第１の可動部材９２及び第２の可動部材９３を、第１の連動軸９８と第２の連動軸９９を介して連動させることができる。 In addition, by rotating the handle 112 of the positioning adjustment mechanism 105, the pair of first movable member 92 and second movable member 93 of the upper distance adjustment mechanism 41 and the lower distance adjustment mechanism 55 are respectively connected to the first interlocking mechanism. The shaft 98 and the second interlocking shaft 99 can be interlocked.

つまり、上ロールブラシ３１の上下端を支持した一対の第１の可動部材９２を同期させて同時に位置決め調整でき、また下ロールブラシ３２の上下端を同期させて同時に位置決め調整できる。そのため、各ロールブラシ３１，３２の基板Ｗの板面に対する接触強さである押し当て量及び基板Ｗを挟持する位置調整を、迅速かつ精度よく行うことができる。 That is, the pair of first movable members 92 supporting the upper and lower ends of the upper roll brush 31 can be simultaneously positioned and adjusted, and the upper and lower ends of the lower roll brush 32 can be simultaneously synchronized and adjusted. Therefore, the pressing amount, which is the contact strength of the roll brushes 31 and 32 with respect to the plate surface of the substrate W, and the position adjustment for clamping the substrate W can be performed quickly and accurately.

一方のロールブラシ、たとえば上ロールブラシ３１の前後方向の位置を位置決め操作機構１０５によって搬送ローラ５の外周面の高さ位置に合わせて位置決めした後、この上ロールブラシ３１に対して下ロールブラシ３２を位置決めすれば、一対のロールブラシ３１，３２による基板Ｗの挟持位置を、搬送ローラ５の外周面の高さに一致させることができる。 After positioning the position of one roll brush, for example, the upper roll brush 31 in the front-rear direction according to the height position of the outer peripheral surface of the transport roller 5 by the positioning operation mechanism 105, the lower roll brush 32 with respect to the upper roll brush 31. Is positioned, the holding position of the substrate W by the pair of roll brushes 31 and 32 can be matched with the height of the outer peripheral surface of the transport roller 5.

それによって、第１、第２のブラシユニット２８，２９で基板Ｗを処理する際、基板Ｗが搬送ローラ５から浮いたり、搬送ローラ５に強く接触するのを防止できるから、そのことによっても基板Ｗの搬送を円滑に行うことが可能となる。 Accordingly, when the substrate W is processed by the first and second brush units 28 and 29, it is possible to prevent the substrate W from floating from the transport roller 5 or coming into strong contact with the transport roller 5. It becomes possible to carry W smoothly.

各ロールブラシ３１，３２は、上端に設けられた上支軸３３が上継ぎ手３５に吊り下げられて支持され、下端の下支軸３４に設けられた下継ぎ手４３はブラシ用駆動源５３によって回転駆動される連結軸４７に対して軸方向に移動可能かつ一体的に回転するよう連結されている。 Each roll brush 31, 32 is supported by an upper support shaft 33 provided at the upper end suspended from an upper joint 35, and a lower joint 43 provided at the lower support shaft 34 at the lower end is rotated by a brush drive source 53. It is connected to the driven connecting shaft 47 so as to move in the axial direction and rotate integrally.

各ロールブラシ３１，３２を吊り下げ構造とすれば、自重による座屈荷重が加わることがほとんどない。そのため、各ロールブラシ３１，３２には軸線方向と交差する方向に撓みが生じ難くいので、基板Ｗの板面の上下方向に対し、均一な押し当て量で接触させることができる。 If each roll brush 31 and 32 is a suspended structure, a buckling load due to its own weight is hardly applied. Therefore, the roll brushes 31 and 32 are unlikely to bend in the direction intersecting the axial direction, and can be brought into contact with the vertical direction of the plate surface of the substrate W with a uniform pressing amount.

この発明は上記一実施の形態に限定されず、たとえば基板を搬送する傾斜角度は７５度に限られず、それ以外の角度であってもよく、要は搬送軸や基板に生じる撓みを減少させることができる角度であればよい。 The present invention is not limited to the above-described embodiment. For example, the tilt angle for transporting the substrate is not limited to 75 degrees, and may be any other angle. In short, the deflection generated on the transport shaft and the substrate is reduced. Any angle can be used.

チャンバに設けられる処理部はブラシ洗浄部と乾燥処理部に限られず、たとえばエッチングや剥離などの薬液処理部など、洗浄以外の処理部あってもよく、その点も限定されるものでない。 The processing unit provided in the chamber is not limited to the brush cleaning unit and the drying processing unit, and may be a processing unit other than cleaning, such as a chemical processing unit such as etching or peeling, and the point is not limited.

乾燥処理部の入り口側の搬送軸だけを強制的に回転駆動するようにしたが、出口側の搬送軸も強制的に回転駆動すれば、基板の搬送速度をさらに安定させることが可能となる。 Only the transport shaft on the entrance side of the drying processing unit is forcibly rotated, but if the transport shaft on the exit side is forcibly rotated, the transport speed of the substrate can be further stabilized.

この発明の一実施の形態の処理装置の内部構造を示す正面図。The front view which shows the internal structure of the processing apparatus of one Embodiment of this invention. 上記処理装置の側面図。The side view of the said processing apparatus. 上記処理装置のブラシユニットが設けられラブ分を示す側面図。The side view in which the brush unit of the said processing apparatus is provided and shows a love part. チャンバの背面の第１の連動軸と第２の連動軸が設けられた部分の正面図。The front view of the part in which the 1st interlocking shaft and the 2nd interlocking shaft of the back surface of the chamber were provided. 上下部の間隔調整機構の平面図。The top view of the space | interval adjustment mechanism of an upper part and a lower part. 回転駆動される搬送軸の上部の取り付け構造を示す断面図。Sectional drawing which shows the attachment structure of the upper part of the conveyance axis driven rotationally. 上記搬送軸の下部の取り付け構造及び駆動ローラが設けられた駆動軸の取り付け構造を示す断面図。Sectional drawing which shows the attachment structure of the lower part of the said conveyance shaft, and the attachment structure of the drive shaft provided with the drive roller. ロールブラシの上部の取り付け構造を示す断面図。Sectional drawing which shows the attachment structure of the upper part of a roll brush. ロールブラシの下部の取り付け構造を示す断面図。Sectional drawing which shows the attachment structure of the lower part of a roll brush.

Explanation of symbols

１…チャンバ、４，４Ａ…搬送軸、５…搬送ローラ、７…ブラシ洗浄部、８…乾燥処理部、１１…駆動ローラ、１２…駆動軸、２１…第１の駆動源、２８…第１のブラシユニット、２９…第２のブラシユニット、３１…上ロールブラシ、３２…下ロールブラシ、４１…上部間隔調整機構、５３…ブラシ要駆動源、５５…下部間隔調整機構、５９…エアーナイフ、６１…第２の駆動源、１０５…位置決め操作機構。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Chamber, 4 and 4A ... Conveyance shaft, 5 ... Conveyance roller, 7 ... Brush washing part, 8 ... Drying process part, 11 ... Drive roller, 12 ... Drive shaft, 21 ... 1st drive source, 28 ... 1st Brush unit, 29 ... second brush unit, 31 ... upper roll brush, 32 ... lower roll brush, 41 ... upper spacing adjustment mechanism, 53 ... brush drive source, 55 ... lower spacing adjustment mechanism, 59 ... air knife, 61: Second drive source, 105: Positioning operation mechanism.

Claims

A processing apparatus for processing a substrate while conveying the substrate at a predetermined inclination angle,
A chamber;
A transport shaft provided in the chamber and provided with a transport roller for supporting and transporting the substrate at a predetermined inclination angle;
A drive shaft provided with a drive roller for supporting the lower end of the substrate conveyed by the conveyance roller;
A driving source for rotating the driving shaft to apply a driving force to the substrate by the driving roller and conveying the substrate along the conveying roller;
A brush cleaning unit for cleaning the substrate transported in the chamber;
The brush cleaning part
A pair of roll brushes for brushing one plate surface and the other plate surface of the substrate which are arranged and conveyed facing an axis in a direction intersecting the conveyance direction of the substrate;
An upper interval adjustment mechanism that is provided at the upper end of each roll brush and adjusts the amount of pressing against the plate surface of the substrate on the upper end side in the axial direction of the roll brush;
A lower gap adjusting mechanism that is provided at the lower end of each roll brush and adjusts the amount of pressing against the plate surface of the substrate on the lower end side in the axial direction of the roll brush;
A first interlocking shaft for interlocking adjustment of the pressing amount of the upper and lower ends of one roll brush against the plate surface of the substrate by the upper interval adjusting mechanism and the lower interval adjusting mechanism;
A second interlocking shaft that interlocks the adjustment of the pressing amount of the other roll brush with respect to the plate surface of the substrate by the upper spacing adjusting mechanism and the lower spacing adjusting mechanism ;
The roll brush is rotatably supported in a state where the upper end is suspended, and is connected so as to be axially displaceable and to rotate integrally with the connecting shaft to which the lower end is rotationally driven. A substrate processing apparatus.