KR100471683B1 - Device for feeding and cleaning of wafers - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 FPD 제조공정에서 액정표시장치(LCD) 또는 평판표시장치(PDP) 등에서 사용되는 유리 기판과 같은 기판을 이송 또는 세정하기 위한 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a device for transferring or cleaning a substrate such as a glass substrate used in a liquid crystal display (LCD) or a flat panel display (PDP) or the like in an FPD manufacturing process.
FPD의 유리 기판이나 반도체 웨이퍼 기판 등의 기판을 제조하는 공정에는 기판의 표면에 기계적 또는 화학적 처리를 하는 공정이 수반되며, 또한 처리된 기판은 기판 이송장치에 의해 세정장치를 연속적으로 통과하면서 세정공정이 이루어지며, 또한 대부분의 공정과 공정 사이에 기판의 이송이 연속적으로 이루어진다.The process of manufacturing a substrate such as a glass substrate or a semiconductor wafer substrate of an FPD involves a process of mechanically or chemically treating the surface of the substrate, and the processed substrate is cleaned while continuously passing the cleaning apparatus by a substrate transfer device. This is also done, and the transfer of the substrate is continuous between most processes.
기판과의 마찰을 피하고 기판을 지지, 이송하기 위한 수단을 공지하고 있는 한국등록특허공보 "제375743호", 한국등록실용신안공보 "제327347호", 한국공개특허공보 "제2002-69479호", 일본공개특허공보 "제1998-209096", 일본공개특허공보 "제2000-286320호" 등 종래의 대부분 기판이송장치는 도 1에 도시된 바와 같은 롤러 이송방식을 채택하고 있다.Korean Patent Publication No. 375743, Korean Utility Model Publication No. 327347, Korean Patent Application Publication No. 2002-69479, which disclose a means for avoiding friction with the substrate and supporting and transporting the substrate. Most of the conventional substrate transfer apparatuses, such as Japanese Unexamined Patent Publication No. 1998-209096 and Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-286320, employ a roller transfer method as shown in FIG.
그러나 롤러 이송방식은 유리기판의 대형화에 따른 축의 장축화로 인하여 롤러축(2) 조립상에 미스얼라인먼트가 크게 발생하고 롤러축(2)의 처짐량이 증가하는 등의 이유로 회전시 롤러축(2) 및 롤러(1)들의 진동이 크게 발생하여 축의 양단에서 축을 지지하는 회전요소의 수명을 단축하여 잦은 보수에 의해 생산성이 크게 저하되는 문제가 있었다.However, in the roller conveying method, the roller shaft 2 and the roller during rotation are caused due to large misalignment on the assembly of the roller shaft 2 due to the lengthening of the shaft due to the enlargement of the glass substrate, and the amount of deflection of the roller shaft 2 increasing. Vibration of the (1) is greatly generated, there is a problem that the productivity is greatly reduced by frequent maintenance by shortening the life of the rotating element supporting the shaft at both ends of the shaft.
더구나, 롤러축(2) 및 롤러(1)의 처짐으로 인해 대형 유리기판에 국부적 처짐과 집중 응력이 발생하고 부정확한 이송으로 인하여 주변부품과의 충돌 및 마찰을 증대하여 이송 중에 유리기판의 손상이 자주 발생하는 문제가 있으며 유리기판의 대형화에 따라 축 및 구동 부품이 동반하여 대형화하므로 이송장비의 제작 비용이 크게 상승하는 문제점이 있다.In addition, the deflection of the roller shaft 2 and the roller 1 causes localized deflection and concentrated stress on the large glass substrate, and due to inaccurate transport, collision and friction with peripheral parts are increased, thereby damaging the glass substrate during transportation. There is a problem that often occurs, and as the size of the glass substrate increases along with the shaft and the driving parts, there is a problem in that the manufacturing cost of the transfer equipment increases significantly.
또한 도 2에 도시된 바와 같이 롤러 이송방식을 채택하고 있는 세정장치는 기판의 세정 시 롤러(1) 및 롤러축(2)의 입체방해로 인하여 기판 배면의 세정이 효율적이지 못하고, 이를 극복하기 위하여 세정용 노즐(3)의 위치 및 노즐의 분사형태의 조절을 위한 설계를 시도하는 등 다양한 설계를 시도하고 있으나, 롤러와 롤러축의 입체장해가 존재하는 한 본질적으로 세정효율의 한계를 극복하기는 어려운 실정이다. 또한 롤러축을 잡아주기 위한 옆면 프레임(4)이 힘을 받도록 구비해야 하므로 이송 또는 세정장치의 형태, 구성에 있어서 여러 제한이 따르며, 하나의 롤러만이라도 작동이상이 오면 그 롤러가 속한 롤러 축을 분해하여 롤러 축에 결합된 모든 롤러를 분해, 조립해야만 하는 번거로움이 있어, 유지보수의 문제점도 존재한다.In addition, as shown in FIG. 2, the cleaning apparatus adopting the roller conveying method is not efficient to clean the back surface of the substrate due to the three-dimensional interference of the roller 1 and the roller shaft 2 when the substrate is cleaned. Various designs have been attempted such as the design of the position of the cleaning nozzle 3 and the adjustment of the nozzle spray type. However, it is difficult to overcome the limitation of the cleaning efficiency as long as there are three-dimensional obstacles between the roller and the roller shaft. It is true. In addition, the side frame (4) for holding the roller shaft must be provided to receive a force, so there are various restrictions in the form and configuration of the conveying or cleaning device, and if only one roller comes to malfunction, the roller shaft to which the roller belongs belongs to disassemble the roller There is a problem of having to disassemble and assemble all the rollers coupled to the shaft, and there is a problem of maintenance.
한편 상기의 문제점을 극복하기 위하여 롤러이송 방식을 탈피하고자 많은 연구들이 이루어져 공기 부상식 이송 장치가 개발되었으나, 공기 부상식은 고가일 뿐만 아니라 기술적 난이도가 크고 유지 보수도 문제점이 있어 상용화에 여러 제한이 따르고 있는 실정이다.In order to overcome the above problems, many researches have been made to escape the roller conveying method, but the air-floating conveying device has been developed. However, the air-floating type is not only expensive but also has a technical difficulty and a maintenance problem. There is a situation.
따라서 본 발명의 목적은 상기의 문제점들을 본질적으로 극복하기 위하여 롤러 이송방식을 탈피하여 이송 시 기판과의 구름마찰을 최소화 및 균일화되어 기판의 안정된 이송이 가능하며, 롤러 및 롤러축의 입체방해가 없어 세정이 용이하고, 이송 또는 세정장치의 형태, 구성에 있어서 여러 제한이 없고, 장치의 유지보수가 용이한 기판의 이송 및 세정장치를 제공하는 것이다. Therefore, the object of the present invention is to avoid the roller conveying method in order to overcome the above problems intrinsically and minimize and friction cloud friction with the substrate at the time of transport to ensure stable transport of the substrate, there is no three-dimensional interference of the roller and roller shaft cleaning The present invention provides an apparatus for transferring and cleaning substrates which is easy, without limitations in the form and configuration of the conveying or cleaning apparatus, and which is easy to maintain the apparatus.
상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 기판의 이송 및 세정장치는 다수의 볼 구름 홀더(10), 상기 볼 구름 홀더(10)들을 결합하여 고정시키는 홀더 고정부(30), 및 상기 볼 구름 홀더(10)들과 접촉하는 기판(100)이 이송되도록 하는 회전 구동부(40)를 포함하며, 상기 볼 구름 홀더(10)는 기판(100)과 접촉하며 구름 회전하는 구름볼(11), 상기 구름볼(11)이 안착되어 구름 회전되도록 하는 다수의 지지볼(12) 및 상기 다수의 지지볼(12)들을 지지하는 볼 지지부(13)가 구비되며, 본 발명에 따른 기판의 이송 및 세정장치는 추가로 기판 세정유닛, 세정액 흡입유닛 또는 기판 건조유닛으로부터 선택된 하나 이상이 부착된 것을 특징한다.In order to achieve the above object, the substrate transport and cleaning apparatus according to the present invention is a plurality of ball rolling holder 10, the holder fixing portion 30 for coupling and fixing the ball rolling holder 10, and the ball It includes a rotation drive unit 40 for transporting the substrate 100 in contact with the rolling holder 10, the ball rolling holder 10 is rolling ball 11 in contact with the substrate 100 and rolling rotation, The rolling ball 11 is seated is provided with a plurality of support balls 12 for rolling the clouds and a ball support portion 13 for supporting the plurality of support balls 12, the transfer and cleaning of the substrate according to the present invention The apparatus is further characterized by one or more selected from a substrate cleaning unit, a cleaning liquid suction unit or a substrate drying unit.
본 발명에 따른 기판의 이송 및 세정장치는 롤러 이송방식을 탈피하여 볼구름 방식을 채택한 것으로서, 볼 구름방식은 다수의 지지볼(12) 위에 구름볼(11)이 안착되도록 하여 상기 안착된 구름볼(11)의 안정되고 마찰이 없는 구름회전에 의하여 기판의 이송 시 미끄럼 마찰을 최소화하도록 하는 볼 구름 홀더(10)를 사용한 것에 특징이 있다. The substrate transporting and cleaning apparatus according to the present invention adopts a ball cloud method by removing a roller conveying method, and the ball rolling method allows the rolling ball 11 to be seated on a plurality of support balls 12 so that the seated rolling ball It is characterized by using the ball rolling holder 10 to minimize the sliding friction during transport of the substrate by the stable, frictionless rolling of the (11).
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 3은 본 발명에 따른 기판의 이송 및 세정장치의 사시도이고, 도 4는 본 발명의 기판 이송 및 세정장치에 사용하는 볼 구름 홀더(10)의 구성도이며, 도 5는 본 발명의 기판 이송 및 세정장치에 사용하는 볼 구름 홀더(10)의 외관도이고, 도 6은 본 발명에 따른 기판의 이송 및 세정장치의 측면도이며, 도 7은 본 발명에 따른 기판의 이송 및 세정장치의 평면도이고, 도 8은 롤러 이송방식과 볼 구름방식의 세정장치에서의 입체장애 비교도이고, 도 9는 기판을 경사지게 이송하기 위한 일 실시예를 도시한 구성도이다.3 is a perspective view of a substrate transfer and cleaning apparatus according to the present invention, Figure 4 is a block diagram of a ball rolling holder 10 used in the substrate transfer and cleaning apparatus of the present invention, Figure 5 is a substrate transfer of the present invention And an external view of the ball rolling holder 10 used in the cleaning apparatus, FIG. 6 is a side view of the substrate transport and cleaning apparatus according to the present invention, and FIG. 7 is a plan view of the substrate transport and cleaning apparatus according to the present invention. FIG. 8 is a view illustrating a three-dimensional obstacle in a roller conveying method and a ball rolling method, and FIG. 9 is a block diagram showing an embodiment for inclining the substrate.
본 발명에 따른 장치에 있어서, 구름 롤러를 대체하는 구성으로서 가장 중요한 부분인 볼 구름 홀더(10)는 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이 다수의 지지볼(12) 위에 구름볼(11)이 안착되도록 하여 상기 안착된 구름볼(11)의 안정되고 마찰이 최소화된 구름회전에 의하여 기판의 이송 시 미끄럼 마찰을 최소화하도록 하는 구성을 포함한다.In the device according to the invention, the ball rolling holder 10, which is the most important part as a configuration for replacing the rolling roller, has a rolling ball 11 on a plurality of support balls 12 as shown in Figs. It includes a configuration to minimize the sliding friction during the transfer of the substrate by the stable and friction-minimized rolling rotation of the seated rolling ball 11 to be seated.
구름볼(11)은 어떤 재질이건 가능하나, 구름볼(11)은 기판과 접촉하며 기판을 지지하는 부분이므로 기판의 이송시 기판이 구름볼(11)로 인한 표면손상이나 파손을 방지하기 위하여 상기의 기판과 접촉하는 구름볼(11)은 기판보다 경도가 약한 플라스틱 볼인 것이 바람직하다.The rolling ball 11 may be made of any material, but the rolling ball 11 is in contact with the substrate and supports the substrate, so that the substrate may prevent surface damage or damage caused by the rolling ball 11 when the substrate is transferred. The rolling ball 11 in contact with the substrate is preferably a plastic ball having a weaker hardness than the substrate.
구름볼(11)은 원활한 구름회전을 위하여 다수의 지지볼(12) 위에 지지되며, 구름볼(11)의 안정적 지지를 위하여 지지볼(12)은 3개 이상 구비하는 것이 바람직하다.The rolling ball 11 is supported on the plurality of support balls 12 for smooth rolling rotation, it is preferable to provide three or more support balls 12 for the stable support of the rolling ball (11).
지지볼(12)의 재질은 어느 것이건 가능하나 세정환경에 강한 세라믹볼이 바람직하다. 상기 다수의 지지볼(12)의 하측에는 상기 지지볼(12)을 지지하기위한 볼 지지부(13)가 구비되며, 상기 볼 지지부(13)는 복수의 지지볼(12)이 흩어지지 않고 서로 맞닿아 구름볼(11)을 안정적으로 지지하도록 지지볼 안착홈(14)을 구비하는 것이 바람직하다. The support ball 12 may be made of any material, but a ceramic ball strong in the cleaning environment is preferable. The lower side of the plurality of support balls 12 is provided with a ball support portion 13 for supporting the support ball 12, the ball support portion 13 is a plurality of support balls 12 do not scatter with each other It is preferable to have a support ball seating groove 14 to stably support the rolling ball 11 in contact.
도 4에 도시된 바와 같이 구름볼(11)이 이탈되지 않고 지지볼(12)위에 안정적인 안착을 위하여 구름볼(11)의 직경보다 작은 구름볼 안내홈(15)이 구비된 상측 케이스(16) 내에 복수의 지지볼(12)이 구비된 볼 지지부(13)와 구름볼(11)이 위치하며, 상기 상측 케이스(16)는 볼 구름 홀더(10)를 고정시키는 결합수단(22)을 구비한 홀더 결합부(20)와 체결된다. 상측 케이스(16)와 홀더 결합부(20)의 체결은 체결나사(17)(21) 수단 등을 포함하여 어느 것이건 가능하다.As shown in FIG. 4, the upper case 16 is provided with a rolling ball guide groove 15 smaller than the diameter of the rolling ball 11 for stable seating on the support ball 12 without being detached from the rolling ball 11. The ball support 13 and the rolling ball 11 is provided with a plurality of support balls 12 therein, the upper case 16 is provided with a coupling means 22 for fixing the ball rolling holder 10 It is fastened to the holder coupling portion 20. The fastening of the upper case 16 and the holder coupling portion 20 can be any including fastening screws 17 and 21 means.
홀더 결합부(20)의 결합수단(22)은 볼 구름 홀더(10)를 홀더 고정부(30)에 고정시키는 역할을 하며, 상기 결합수단(22)은 나사를 구비하여 볼 구름 홀더(10)의 높이를 조정하는 기능도 함께 부여할 수 있다.The coupling means 22 of the holder coupling portion 20 serves to fix the ball rolling holder 10 to the holder fixing portion 30, the coupling means 22 is provided with a screw ball rolling holder 10 It can also be given the ability to adjust the height of the.
홀더 결합수단(22)을 구비하여 상기 볼 구름 홀더(10)들을 결합하여 고정시키는 홀더 고정부(30)는 어떤 형태이건 가능하나 기판 이송 및 세정장치는 기판의 진행방향이 더 길게 구성되는 것이 일반적이므로 기판을 지지하는 볼 구름 홀더(10)로부터 받는 힘을 고려하여 기판 진행방향의 직각방향으로 구비하여 장치의 측면에 고정시키는 것이 바람직하다.The holder fixing part 30 having the holder coupling means 22 to couple and fix the ball rolling holders 10 may be any shape, but the substrate transfer and cleaning device is generally configured to have a longer traveling direction of the substrate. Therefore, in consideration of the force received from the ball rolling holder 10 for supporting the substrate, it is preferable to be provided in the direction perpendicular to the substrate traveling direction to be fixed to the side of the device.
또한 본 발명에 따른 기판의 이송 및 세정장치에 있어서 기판을 이동시키는 구동원을 제공하는 회전 구동부(40)는 기판의 양 측면에서 기판에 접촉되도록 위치하도록 하며, 구동부는 구동 모터(미도시), 구동모터의 구동력을 전달하는 구동전달 수단(미도시), 구동력을 전달받아 기판의 양 측부 배면에 접촉하여 회전하는 구동롤러(41)로 구성된다. In addition, in the apparatus for transferring and cleaning the substrate according to the present invention, the rotation driving unit 40 which provides a driving source for moving the substrate is positioned to be in contact with the substrate on both sides of the substrate, and the driving unit is a driving motor (not shown). Drive transmission means (not shown) for transmitting the driving force of the motor, it is composed of a drive roller 41 which receives the driving force and rotates in contact with the rear surface of both sides of the substrate.
이송되는 기판은 볼구름 홀더(10)에 의해 지지되고 구동롤러(41)에 의해서만 이동되므로 기판의 이송이 적절히 이루어지도록 구동롤러(41)의 재질은 적절한 마찰력을 갖고 있는 것이 바람직하다.Since the substrate to be conveyed is supported by the ball cloud holder 10 and is moved only by the driving roller 41, the material of the driving roller 41 preferably has an appropriate frictional force so that the substrate is properly transported.
상기의 구동부(40)와 관련된 구성들은 당 분야의 통상의 지식을 가진자라면 종래의 기판이송장치에서 구현되는 바를 바탕으로 용이하게 적용이 가능한 것으로서 상세한 기재는 생략한다.Configurations related to the driving unit 40 may be easily applied based on what is realized in a conventional substrate transfer apparatus by those skilled in the art, and a detailed description thereof will be omitted.
이송되는 기판은 다수의 볼구름 홀더(10)에 의하여 지지되므로 상기 구동롤러(41)를 지지하는 구동롤러 지지부(42)는 기판이 대형화 되어도 특별히 강하게 구비할 필요가 없다. Since the substrate to be transported is supported by a plurality of ball cloud holders 10, the driving roller support portion 42 for supporting the driving roller 41 does not need to be particularly strongly provided even if the substrate is enlarged.
도 6 및 도 7에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 기판의 이송 및 세정장치는 추가로 기판 세정유닛, 세정액 흡입유닛 또는 기판 건조유닛으로부터 선택된 하나 이상이 부착된 것을 포함한다.As shown in Figures 6 and 7, the substrate transport and cleaning apparatus according to the present invention further includes one or more selected from a substrate cleaning unit, a cleaning liquid suction unit or a substrate drying unit.
세정유닛은 린싱용 분사유닛, 브러시 유닛, 세정용 분사 유닛, 초음파 유닛 등으로부터 선택된 하나 이상으로 구성되며, 상기의 세정유닛은 기판에 순수와 세정액을 분사하고 브러시로 닦아내며 초음파를 가하는 등의 작업을 통해 기판의 표면 및 배면으로부터 이물질을 제거한다.The cleaning unit is composed of one or more selected from a rinsing spray unit, a brush unit, a cleaning spray unit, an ultrasonic unit, and the like. Through this, foreign substances are removed from the surface and back of the substrate.
세정공정의 다음에는 기판의 표면에 워터마크가 발생되는 것을 방지하는 샤워유닛과 고압의 공기를 기판의 표면으로 분사하여 기판의 표면 및 배면에 잔류하는 세정액 또는 샤워유닛으로부터 분사된 순수를 제거하는 에어나이프 유닛 등의 건조유닛이 설치된다.After the cleaning process, the shower unit and high pressure air are sprayed to the surface of the substrate to prevent watermarks from being generated on the surface of the substrate, and the air to remove the pure water sprayed from the cleaning liquid or shower unit remaining on the surface and back of the substrate is removed. Drying units such as knife units are installed.
세정유닛은 기판의 이송방향을 따라 소정의 간격으로 배치되며, 기판의 세정유닛이 포함된 장치의 하단에는 세정액의 회수가 가능하도록 세정액 흡입유닛이 구비된다.The cleaning units are arranged at predetermined intervals along the transport direction of the substrate, and a cleaning liquid suction unit is provided at the lower end of the apparatus including the cleaning unit of the substrate to recover the cleaning liquid.
도 8에 도시된 바와 같이 본 발명에 따른 기판의 이송 및 세정장치는 롤러이송방식에서 롤러 및 롤러축에 의하여 분사 세정액(L)에 발생하는 입체장애가 거의 없어 세정효과가 뛰어나고, 세정관련 유닛의 구비가 용이하다.As shown in FIG. 8, the substrate transport and cleaning apparatus according to the present invention has almost no steric hindrance caused by the spray cleaning liquid L by the roller and the roller shaft in the roller transport method, and thus has an excellent cleaning effect, and includes a cleaning related unit. Is easy.
한편, 기판의 세정유닛을 통과하는 구간에서는 도 9에 도시된 바와 같이 기판의 폭방향으로 기판이 소정의 각도로 기울어지도록 하여 세정액이 한 방향으로 흐르도록 하여 효과적인 세정과 건조 및 세정액의 적절한 회수를 위하여 다수의 볼 구름 홀더(10)의 높이가 이송방향의 직각으로 각각 다르게 구비되는 것도 본 발명의 범위 내이며, 다만 기판의 경사가 너무 심하면 기판에 가해지는 응력(stress)으로 인하여 기판이 파손될 우려가 있으므로 기판의 경사는 1 내지 10°가 바람직하다.Meanwhile, in the section passing through the cleaning unit of the substrate, as shown in FIG. 9, the substrate is inclined at a predetermined angle in the width direction of the substrate so that the cleaning liquid flows in one direction so that effective cleaning, drying, and proper recovery of the cleaning liquid are achieved. For the purpose of the present invention, the height of the plurality of ball rolling holders 10 is different from each other at right angles to the conveying direction. However, if the inclination of the substrate is too severe, the substrate may be damaged due to stress applied to the substrate. Therefore, the inclination of the substrate is preferably 1 to 10 degrees.
이송 시 기판과의 구름마찰이 최소화 및 균일화되어 기판의 안정된 이송이 가능하며, 롤러 및 롤러축의 입체방해가 없어 세정이 용이하고, 이송 또는 세정장치의 형태, 구성에 있어서 여러 제한이 없고, 장치의 유지보수가 용이한 장점이 있다. 특히 기판이 대형화 되어도 기판을 안정적으로 이송 및 세정할 수 있는 장점이 있다. Cloud friction with the substrate is minimized and uniformized during transfer, so that stable transfer of the substrate is possible, and there is no three-dimensional interference of rollers and roller shafts, so cleaning is easy, and there are no various restrictions in the form or configuration of the transfer or cleaning apparatus. There is an advantage of easy maintenance. In particular, even when the substrate is enlarged, there is an advantage that the substrate can be stably transported and cleaned.
도 1. 종래의 롤러 이송방식의 기판이송장치.Figure 1. A substrate transfer apparatus of the conventional roller transfer method.
도 2. 종래의 롤러 이송방식의 기판 이송 및 세정장치의 측면도.Figure 2. Side view of a substrate transfer and cleaning apparatus of a conventional roller transfer method.
도 3. 본 발명에 따른 기판의 이송 및 세정장치의 사시도.Figure 3 is a perspective view of the substrate transport and cleaning apparatus according to the present invention.
도 4. 본 발명의 기판 이송 및 세정장치에 사용하는 볼 구름 홀더(10)의 구성도.4. A block diagram of the ball rolling holder 10 used in the substrate transfer and cleaning apparatus of the present invention.
도 5. 본 발명의 기판 이송 및 세정장치에 사용하는 볼 구름 홀더(10)의 외관도.5. Appearance of the ball rolling holder 10 used for the board | substrate conveyance and washing | cleaning apparatus of this invention.
도 6. 본 발명에 따른 기판의 이송 및 세정장치의 측면도.6. Side view of the substrate transfer and cleaning apparatus according to the present invention.
도 7. 본 발명에 따른 기판의 이송 및 세정장치의 평면도.Figure 7 is a plan view of the substrate transfer and cleaning apparatus according to the present invention.
도 8. 롤러 이송방식과 볼 구름방식의 세정장치에서의 입체장애 비교도.8. Comparison of three-dimensional obstacles in the roller conveying method and the ball rolling method cleaning device.
도 9. 기판을 경사지게 이송하기 위한 일 실시예를 도시한 구성도.Figure 9 is a block diagram showing an embodiment for transferring the substrate inclined.
-도면의 주요부분에 대한 부호의 설명-Explanation of symbols on the main parts of the drawing
10 - 볼구름 홀더 11 - 구름볼10-Ball Cloud Holder 11-Cloud Ball
12 - 지지볼 13 - 볼 지지부12-Support Ball 13-Ball Support
14 - 지지볼 안착홈 15 - 구름볼 안내홈14-Support Ball Seating Groove 15-Cloud Ball Guideway
16 - 상측 케이스 17, 21 - 체결나사16-Upper case 17, 21-Tightening screw
20 - 홀더결합부 22 - 결합수단20-holder coupling part 22-coupling means
30 - 홀더 고정부 40 - 회전 구동부30-holder fixture 40-rotary drive
41 - 구동 롤러 42 - 구동홀더지지부41-Drive Roller 42-Drive Holder Support
50 - 세정부 51, 53 - 세정유닛50-Cleaning unit 51, 53-Cleaning unit
52, 54 - 흡입유닛 55 - 샤워유닛52, 54-Suction unit 55-Shower unit
56 - 건조유닛 100 - 기판56-Drying Unit 100-Substrate
L - 분사 세정액L-Spray Cleaning Liquid
Claims (5)
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020040017767A KR100471683B1 (en) | 2004-03-16 | 2004-03-16 | Device for feeding and cleaning of wafers |
| PCT/KR2004/000898 WO2004097928A1 (en) | 2003-04-30 | 2004-04-20 | Support holder of the substrate and device for centering or feeding using the same |
| TW93111608A TW200424105A (en) | 2003-04-30 | 2004-04-26 | Support holder of the substrate and device for centering or feeding using the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020040017767A KR100471683B1 (en) | 2004-03-16 | 2004-03-16 | Device for feeding and cleaning of wafers |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR100471683B1 true KR100471683B1 (en) | 2005-03-14 |
Family
ID=37228326
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020040017767A KR100471683B1 (en) | 2003-04-30 | 2004-03-16 | Device for feeding and cleaning of wafers |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR100471683B1 (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101594860B1 (en) * | 2014-08-13 | 2016-02-17 | 박호석 | Transfer device of glass substrate drier for display |
| CN109449105A (en) * | 2018-11-19 | 2019-03-08 | 四川英发太阳能科技有限公司 | A kind of plug-in sheet machine supporting block improvement structure |
-
2004
- 2004-03-16 KR KR1020040017767A patent/KR100471683B1/en not_active IP Right Cessation
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| KR101594860B1 (en) * | 2014-08-13 | 2016-02-17 | 박호석 | Transfer device of glass substrate drier for display |
| CN109449105A (en) * | 2018-11-19 | 2019-03-08 | 四川英发太阳能科技有限公司 | A kind of plug-in sheet machine supporting block improvement structure |
| CN109449105B (en) * | 2018-11-19 | 2020-11-06 | 四川英发太阳能科技有限公司 | Improved structure of supporting block of sheet inserting machine |
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