JP2010212268A - Substrate conveying apparatus - Google Patents
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Description
本発明は、被処理基板を平流し方式で水平方向に搬送する基板搬送装置に関し、特に被処理基板としてFPD(フラットパネルディスプレイ)等に用いる被処理基板を搬送する基板搬送装置に関する。 The present invention relates to a substrate transport apparatus that transports a substrate to be processed in a horizontal direction by a flat flow method, and more particularly to a substrate transport apparatus that transports a substrate to be processed used in an FPD (flat panel display) or the like as a substrate to be processed.
近年、FPD製造におけるレジスト塗布現像処理システムでは、FPD用基板(たとえばガラス基板)の大型化に有利に対応できる現像方式として、コロを水平方向に敷設した搬送路上で基板を搬送しながら現像、リンス、乾燥等の一連の現像処理工程を行うようにした、いわゆる平流し方式が普及している。このような平流し方式は、基板を回転運動させるスピンナ方式と較べて、大型基板の取扱いが簡単であり、ミストの発生ないし基板への再付着が少ない等の利点がある。 In recent years, in resist coating and developing processing systems in FPD manufacturing, development and rinsing are carried out while transporting a substrate on a transport path in which rollers are laid in a horizontal direction as a development method that can advantageously cope with an increase in size of an FPD substrate (for example, a glass substrate) A so-called flat-flow method in which a series of development processing steps such as drying is performed has become widespread. Such a flat flow method has advantages such as easier handling of a large substrate and less occurrence of mist or reattachment to the substrate, compared to a spinner method that rotates the substrate.
前記平流しの搬送方式においては、従来、例えば図9の平面図に示すように丸棒状の搬送コロ201を搬送方向に一定間隔で敷設してなる。各コロ201は、それぞれ一定の太さ(径)を有する剛体(例えばSUS製)のシャフトを有している。各コロ201の両端は、フレーム203に固定された左右一対の軸受204に水平姿勢で回転可能に支持されている。
各コロ201をそれぞれ駆動するための搬送駆動部は、駆動源の電気モータ202と、この電気モータ202の回転駆動力を各コロ201に伝えるための伝動機構とを有する。この伝動機構は、電気モータ202の回転軸に無端ベルト205を介して接続された搬送方向に延びる回転駆動シャフト206と、各コロ201とを作動結合する交差軸型のギア207とで構成されている。
In the above-described flat-flow conveying method, conventionally, for example, as shown in the plan view of FIG. 9, round bar-
The conveyance driving unit for driving each
この構成において、電気モータ202が駆動すると、前記伝動機構により各コロ201が一方向に回転し、コロ201上の基板Gが搬送されるようになされている。
しかしながら、そのように複数の搬送コロ201を敷設した構成の場合、搬送される基板Gの下面が複数の搬送コロ201によって隠れるため、基板Gを搬送しながら、その下面に対し所定の処理(例えば洗浄、熱処理等)を施すことができず、処理効率が低下するという課題があった。また、使用する搬送コロ201の本数が多いために、コストが嵩むという課題があった。
In this configuration, when the
However, in the case of a configuration in which a plurality of
前記課題を解決するものとして、本願出願人が特許文献1に開示した加熱モジュールの基板搬送構造がある。図10に、特許文献1に開示された加熱モジュールの構成を斜視図により示す。図10に示す加熱モジュール250においては、被処理基板であるウエハWを平流し搬送するための搬送路部251を備える。
As a solution to the above-described problem, there is a substrate transport structure for a heating module disclosed in Patent Document 1 by the present applicant. In FIG. 10, the structure of the heating module disclosed by patent document 1 is shown with a perspective view. The
前記搬送路部251は、水平軸周りに回動し、回動軸が互いに平行となるように前後に配置された一対のプーリ252、253を有し、これら相対向するプーリ252、253の間には、一対のタイミングベルト254、255が掛け回されている。前記一対のタイミングベルト254、255の間には、多数のワイヤ256が並列に設けられている。
前記プーリ252は、モータ257により回転駆動され、それに掛け回されたタイミングベルト254、255が周回軌道に沿って移動し、ワイヤ256上に載置されたウエハWが搬送される構成となされている。
The
The
この加熱モジュール250にあっては、平流し搬送しながら加熱処理を行うモジュールであるため、搬送路部251における搬送経路に沿って、ウエハWを冷却する第一の冷却プレート258、ウエハWを加熱する熱板259、熱板259によって加熱されたウエハWを冷却する第二の冷却プレート260が順に設けられている。
したがって、被処理基板でありウエハWを搬送しながら、その下面に対しても熱処理を施すことができ、ウエハWに対する処理を効率的に行うことができる。
Since the
Accordingly, while the wafer W, which is the substrate to be processed, is transported, the lower surface thereof can be heat treated, and the wafer W can be processed efficiently.
しかしながら、特許文献1に開示された加熱モジュール250の搬送路部251にあっては、基板処理後の被処理基板を基板搬送アーム(図示せず)に受け渡す際に、タイミングベルト254、255の駆動を一旦停止する必要があり、効率が悪かった。
即ち、被処理基板の搬入出のために搬送路部251の搬送駆動を停止すると、搬送路上にある他の被処理基板に対する処理に影響が生じるため、加熱モジュール250に連続的に被処理基板を投入することができず、スループット向上が望めないという課題があった。
However, in the
That is, if the conveyance drive of the
本発明は、上記のような従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、被処理基板に所定の処理を施すために被処理基板を平流し搬送する基板搬送装置において、基板処理を効率的に行い、スループットを向上することのできる基板搬送装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and in a substrate transfer apparatus that flows and transfers a substrate to be processed in order to perform a predetermined process on the substrate to be processed, the substrate processing is efficiently performed. It is an object of the present invention to provide a substrate transfer apparatus that can improve the throughput.
前記した課題を解決するために、本発明に係る基板搬送装置は、被処理基板を平流し搬送する基板搬送装置であって、水平方向に軸支され、且つ平行に配置された一対の回転軸と、前記一の回転軸において所定間隔を空けて軸周りに回動自在に設けられた一対の第一滑車部材と、前記他の回転軸において所定間隔を空けて軸周りに回動自在に設けられた一対の第二滑車部材と、基板搬送方向に相対向する前記第一滑車部材と第二滑車部材との間に掛け回され、前記第一滑車部材及び第二滑車部材の回転により基板搬送路の左右両側において周回軌道に沿って移動自在に設けられ、前記被処理基板の左右両縁部がそれぞれ載置される一対の第一無端駆動部材と、前記一対の第一無端駆動部材間に並列して架設され、前記被処理基板の中央部を支持する複数の線状部材と、前記回転軸を軸周りに回転させる駆動部と、基板搬送路の前端部に設けられ、複数の基板支持部材により前記被処理基板を所定位置に支持し、前記被処理基板を前記第一無端駆動部材上に受け渡す基板受け渡し機構とを備えることに特徴を有する。 In order to solve the above-described problems, a substrate transport apparatus according to the present invention is a substrate transport apparatus that flatly transports a substrate to be processed, and is a pair of rotary shafts that are pivotally supported in a horizontal direction and arranged in parallel. And a pair of first pulley members provided to be rotatable around the axis at a predetermined interval on the one rotating shaft, and to be rotatable about the axis at a predetermined interval on the other rotating shaft. A pair of second pulley members and the first pulley member and the second pulley member facing each other in the substrate transfer direction, and the substrate is transferred by the rotation of the first pulley member and the second pulley member. Between the pair of first endless drive members and the pair of first endless drive members provided on the left and right sides of the path so as to be movable along a circular track, and the left and right edges of the substrate to be processed are respectively mounted. It is installed in parallel and supports the central part of the substrate to be processed. A plurality of linear members, a drive unit that rotates the rotating shaft around the axis, and a front end portion of the substrate transport path, and the substrate to be processed is supported at a predetermined position by a plurality of substrate support members, And a substrate transfer mechanism for transferring the processing substrate onto the first endless drive member.
また、前記した課題を解決するために、本発明に係る基板搬送装置は、被処理基板を平流し搬送する基板搬送装置であって、水平方向に軸支され、且つ平行に配置された一対の回転軸と、前記一の回転軸において所定間隔を空けて軸周りに回動自在に設けられた一対の第一滑車部材と、前記他の回転軸において所定間隔を空けて軸周りに回動自在に設けられた一対の第二滑車部材と、基板搬送方向に相対向する前記第一滑車部材と第二滑車部材との間に掛け回され、前記第一滑車部材及び第二滑車部材の回転により基板搬送路の左右両側において周回軌道に沿って移動自在に設けられ、前記被処理基板の左右両縁部がそれぞれ載置される一対の第一無端駆動部材と、前記一対の第一無端駆動部材間に並列して架設され、前記被処理基板の中央部を支持する複数の線状部材と、前記回転軸を軸周りに回転させる駆動部と、基板搬送路の後端部に設けられ、前記第一無端駆動部材に載置されている前記被処理基板を受け取り、複数の基板支持部材により前記被処理基板を所定位置に支持する基板受け渡し機構とを備えることに特徴を有する。
尚、前記基板受け渡し機構は、基板搬送方向下流側の前記一の回転軸において、前記一対の第一滑車部材間に設けられた複数の第三滑車部材と、前記第三滑車部材よりも基板搬送方向上流側において、前記一の回転軸と平行な軸周りに回転自在に設けられた複数の第四滑車部材と、基板搬送方向に相対向する前記第三滑車部材と前記第四滑車部材との間にそれぞれ掛け回され、周回軌道に沿って移動自在に設けられた複数の第二無端駆動部材と、前記複数の第二無端駆動部材上に基板搬送方向に沿って設けられた複数の前記基板支持部材とを備え、前記被処理基板を支持する基板支持部材の先端は、前記第一無端駆動部材の基板載置面よりも突出していることが望ましい。
In order to solve the above-described problems, a substrate transport apparatus according to the present invention is a substrate transport apparatus that flatly transports a substrate to be processed, and is a pair of shafts that are horizontally supported and arranged in parallel. A rotary shaft, a pair of first pulley members provided so as to be rotatable around the axis at a predetermined interval on the one rotary shaft, and rotatable about the axis at a predetermined interval on the other rotary shaft And a pair of second pulley members provided between the first pulley member and the second pulley member opposed to each other in the board transfer direction, and the rotation of the first pulley member and the second pulley member. A pair of first endless driving members provided on the left and right sides of the substrate transfer path so as to be movable along a circular path, and on which the left and right edges of the substrate to be processed are respectively mounted, and the pair of first endless driving members In the middle of the substrate to be processed A plurality of linear members that support the substrate, a drive unit that rotates the rotary shaft around the axis, and a substrate to be processed that is provided at the rear end of the substrate transport path and is placed on the first endless drive member And a substrate transfer mechanism for supporting the substrate to be processed at a predetermined position by a plurality of substrate support members.
The substrate delivery mechanism includes a plurality of third pulley members provided between the pair of first pulley members on the one rotation shaft on the downstream side in the substrate conveyance direction, and substrate conveyance more than the third pulley members. A plurality of fourth pulley members rotatably provided around an axis parallel to the one rotation axis, and the third pulley member and the fourth pulley member facing each other in the substrate transport direction A plurality of second endless drive members that are respectively hung between and provided to be movable along a circular path, and a plurality of the substrates provided on the plurality of second endless drive members along a substrate transport direction. It is preferable that the front end of the substrate support member that includes the support member and supports the substrate to be processed protrudes beyond the substrate placement surface of the first endless drive member.
このように構成することにより、基板搬送路の前端部においては、第一無端駆動部材の周回移動を継続した状態で、基板受け渡し機構上の所定位置に基板を保持し、所定のタイミングで基板を一対の第一無端駆動部材上に受け渡すことができる。
また、基板搬送路の後端部においては、一対の第一無端駆動部材によって搬送されてきた被処理基板を基板支持部材により上方に持ち上げ、前記基板支持部材上で支持し、第一無端駆動部材の周回移動を継続した状態で、基板受け渡し機構上の所定位置において基板を保持することができる。
したがって、この基板搬送装置において、基板搬送を停止することなく被処理基板の受け渡しが可能となり、基板搬送装置における他の基板処理に影響を与えないため、スループットを向上することができる。
With this configuration, at the front end portion of the substrate transport path, the substrate is held at a predetermined position on the substrate transfer mechanism while the circular movement of the first endless driving member is continued, and the substrate is held at a predetermined timing. It can be delivered on a pair of first endless drive members.
Further, at the rear end portion of the substrate transport path, the substrate to be processed transported by the pair of first endless drive members is lifted upward by the substrate support member and supported on the substrate support member, and the first endless drive member The substrate can be held at a predetermined position on the substrate transfer mechanism in a state where the circular movement of the substrate is continued.
Therefore, in this substrate transfer apparatus, the substrate to be processed can be delivered without stopping the substrate transfer, and the other substrate processes in the substrate transfer apparatus are not affected, so that the throughput can be improved.
また、前記第三滑車部材及び第四滑車部材は共に、前記第一滑車部材及び第二滑車部材よりも小径であることが望ましい。
このように構成することにより、前記第三滑車部材と第四滑車部材とに掛け回された第二無端駆動部材が前記線状部材に干渉することを防止することができる。
The third pulley member and the fourth pulley member are preferably smaller in diameter than the first pulley member and the second pulley member.
By comprising in this way, it can prevent that the 2nd endless drive member hung around the said 3rd pulley member and the 4th pulley member interferes with the said linear member.
また、前記一対の無端駆動部材の表面には、載置される被処理基板の後端角部を支持するガイド部材が設けられていることが望ましい。
このように構成することにより、被処理基板が基板支持部材によって上方に持ち上げられる際に、ガイド部材が基板後端部を支持し、被処理基板が後方に滑らないようにして、確実に基板を基板受け渡し機構上に移動させることができる。
Moreover, it is desirable that a guide member for supporting a rear end corner portion of the substrate to be placed is provided on the surface of the pair of endless driving members.
With this configuration, when the substrate to be processed is lifted upward by the substrate support member, the guide member supports the substrate rear end portion, and the substrate to be processed is prevented from slipping backward so that the substrate is securely mounted. It can be moved onto the substrate delivery mechanism.
また、前記被処理基板を支持する基板支持部材の先端は、当接する基板面に対し回転自在な回転体であることが望ましく、前記回転体は球体であることが望ましい。
また、前記基板支持部材は、前記第二無端駆動部材の表面に、その周回移動方向に対し直交方向に立設された棒体であって、前記棒体の先端に前記回転体が設けられていることが望ましい。
また、前記基板受け渡し機構は、前記基板支持部材により支持された被処理基板の先端部に当接する基板受け部材を備えることが望ましい。
このように構成することにより、第一無端駆動部材の周回移動を継続しつつ、また、被処理基板を、その振動を抑制しながら基板受け渡し機構上の所定位置において保持することができる。
The tip of the substrate support member that supports the substrate to be processed is preferably a rotating body that is rotatable with respect to the contacting substrate surface, and the rotating body is preferably a sphere.
Further, the substrate support member is a rod body standing on the surface of the second endless drive member in a direction orthogonal to the circumferential movement direction, and the rotating body is provided at the tip of the rod body. It is desirable.
The substrate transfer mechanism preferably includes a substrate receiving member that abuts on a front end portion of the substrate to be processed supported by the substrate support member.
With this configuration, the substrate to be processed can be held at a predetermined position on the substrate delivery mechanism while continuing the circular movement of the first endless drive member and suppressing the vibration.
また、基板搬送方向に沿って複数設けられ、前記被処理基板が載置される前記一対の第一無端駆動部材の裏側を支持する回転自在な支持滑車を備えることが望ましい。
このように構成することにより、被処理基板が載置される第一無端部材の撓みを防止することができる。
It is preferable that a plurality of support pulleys are provided along the substrate transport direction and support the back sides of the pair of first endless drive members on which the substrate to be processed is placed.
By comprising in this way, the bending of the 1st endless member by which a to-be-processed substrate is mounted can be prevented.
また、前記支持滑車を他の支持滑車より高い位置に配置し、前記第一無端駆動部材の移動経路を山なりに形成し、前記基板受け渡し機構に対して被処理基板を受け渡すことが望ましい。
このように構成することにより、第一無端駆動部材から基板受け渡し機構への上り傾斜状の搬送路を滑らかに形成することができ、第一無端駆動部材に載置されていた基板を、基板受け渡し機構上に移動し易くすることができる。
Further, it is preferable that the support pulley is arranged at a higher position than the other support pulleys, the movement path of the first endless drive member is formed in a mountain shape, and the substrate to be processed is delivered to the substrate delivery mechanism.
With this configuration, an upwardly inclined conveying path from the first endless drive member to the substrate transfer mechanism can be formed smoothly, and the substrate placed on the first endless drive member can be transferred to the substrate transfer It can be easily moved on the mechanism.
また、隣り合う前記支持滑車の間に配置され、前記第一無端駆動部材の周回軌道を変換する変換滑車を備え、前記変換滑車により、前記隣り合う支持滑車の間に前記第一無端駆動部材が下方に凹状に屈曲する区間が形成されることが望ましい。
このように構成することにより、搬送される被処理基板の上下方向に基板処理に必要なスペースを確保することができる。
In addition, a conversion pulley is disposed between the adjacent support pulleys and converts a circular orbit of the first endless drive member, and the first endless drive member is interposed between the adjacent support pulleys by the conversion pulley. It is desirable to form a section that bends downward in a concave shape.
With this configuration, a space necessary for substrate processing can be secured in the vertical direction of the substrate to be processed being conveyed.
本発明によれば、被処理基板に所定の処理を施すために被処理基板を平流し搬送する基板搬送装置において、基板処理を効率的に行い、スループットを向上することのできる基板搬送装置を得ることができる。 According to the present invention, in a substrate transfer apparatus that transfers and transfers a substrate to be processed in order to perform a predetermined process on the substrate to be processed, a substrate transfer device that can efficiently perform substrate processing and improve throughput is obtained. be able to.
以下、本発明の基板搬送装置にかかる実施の形態につき、図に基づいて説明する。本発明の基板搬送装置は、たとえばFPD用のガラス基板を被処理基板(以下、基板と呼ぶ)とし、FPD製造プロセスにおいてフォトリソグラフィ工程の中の洗浄、レジスト塗布、プリベーク、現像およびポストベーク等の各処理を行う塗布現像処理システムの一部構成に適用することができる。即ち、塗布現像処理システムにおいて、従来、平流し搬送を例えばコロ搬送により行っていた基板搬送装置に適用することができる。 Hereinafter, an embodiment of a substrate transfer apparatus according to the present invention will be described with reference to the drawings. The substrate transfer apparatus according to the present invention uses, for example, a glass substrate for FPD as a substrate to be processed (hereinafter referred to as a substrate), and includes cleaning, resist coating, pre-baking, development, post-baking, and the like in a photolithography process in the FPD manufacturing process. The present invention can be applied to a partial configuration of a coating and developing processing system that performs each processing. In other words, in the coating and developing processing system, it is possible to apply to a substrate transfer apparatus that has conventionally performed flat flow transfer by roller transfer, for example.
以下、図を参照して本発明の実施形態を説明する。図1の斜視図に、この実施形態における基板搬送装置1の全体構成を模式的に示す。また、図2に図1のA−A矢視断面図、図3に図1のB−B矢視断面図を示す。
基板搬送装置1は、基板搬送方向(X軸方向)に直交するY軸方向に沿って平行に対配置された2本の回転軸2,3を備え、これら回転軸2、3は、この基板搬送装置1の前端及び後端位置において、それぞれ軸受10、11に軸支されている。
各回転軸2,3には基板Gの幅程の間隔を空けて一対のタイミングプーリ4,5(第一滑車部材、第二滑車部材)がそれぞれ軸周りに回動自在に設けられている。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view schematically showing the overall configuration of the substrate transfer apparatus 1 in this embodiment. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 1, and FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG.
The substrate transfer apparatus 1 includes two
A pair of timing
図1に示すように2本の回転軸2,3の間で基板搬送方向(X軸方向)に相対向するタイミングプーリ4、5間には、タイミングベルト6、7(第一無端駆動部材)が掛け回されている。即ち、基板搬送路の左右両側において、タイミングベルト6,7は、タイミングプーリ4,5の回転によって周回軌道に沿って移動するように設けられている。尚、タイミングプーリ4,5の回転方向は、タイミングベルト6,7の上面部が基板搬送方向に移動する方向となされている。
また、基板搬送方向に沿って平行に設けられた前記一対のタイミングベルト6,7間には、線状部材である多数のロッド部材8がY軸方向に並列に架設されている。尚、このロッド部材8は、弾性を有する部材、例えばカーボンファイバーにより形成され、その直径は例えば10mmとなされている。
基板Gは、搬送方向に移動する前記タイミングベルト6,7及びロッド部材8上で搬送されるが、タイミングベルト6、7上に基板Gの左右両側縁部が載置され、基板Gの中央部は前記ロッド部材8によって支持されるようになされている。
As shown in FIG. 1, the
Further, between the pair of
The substrate G is transported on the
また、タイミングプーリ4,5の間に張架されたタイミングベルト6,7(基板Gを支持する部分の裏側)には、図1に示すように複数のアイドラプーリ12(支持滑車)が回転自在に設けられ、下方に撓むことのないようになされている。
また、一方の回転軸3は駆動軸となるため、図2、図3に示すようにカップリング13を介して駆動部であるモータ14が連結されている。即ち、モータ14により回転軸3が回転駆動され、タイミングプーリ5が回転することによってタイミングベルト6,7が一方向に周回移動するようになされている。
Further, a plurality of idler pulleys 12 (support pulleys) are freely rotatable on the
Moreover, since one
また、この基板搬送装置1にあっては、タイミングベルト上に基板Gの側縁部が載置されると共に、基板Gの中央部はロッド部材8により支持されるため、従来のコロ部材のように多数敷設する必要がなく、ロッド部材8間に所定の間隔を空けて配置することができる。その結果、図4に示すように搬送される基板Gの上下方向に基板処理に必要なスペースSを確保することができる。
例えば、この基板搬送装置1を基板洗浄装置に適用する場合、図5に示すように基板Gが載置されるタイミングベルト6(7)の裏側を支持するアイドラプーリ15a(支持滑車)の間に、タイミングベルト6(7)の周回軌道を変換するアイドラプーリ15b(変換滑車)が配置される。このアイドラプーリ15bによりタイミングベルト6(7)が下方に凹状に屈曲する迂回路(区間)が形成され、基板洗浄のためのクリーニングローラ16を基板上下に対配置した構造とすることができる。
したがって、基板Gを安定して搬送しながら、その上下面に対し効率的にクリーニングローラ16によるクリーニング処理を施すことができる。
Moreover, in this board | substrate conveyance apparatus 1, since the side edge part of the board | substrate G is mounted on a timing belt and the center part of the board | substrate G is supported by the
For example, when this substrate transport apparatus 1 is applied to a substrate cleaning apparatus, as shown in FIG. 5, between
Therefore, the cleaning process by the cleaning
また、本発明に係る基板搬送装置1にあっては、前記のように基板Gに対し所定の処理(熱処理、洗浄処理等)を行った後に、基板Gを搬送アーム(図示せず)に受け渡すための機構を有する。具体的には、図1に示すように、この基板搬送装置1の後端部(基板搬送路の後端部)において、タイミングベルト6,7の間に配置された基板受け渡し機構20を備える。この基板受け渡し機構20について、さらに図6の平面図、及び図7の側面図を用いて説明する。
In the substrate transfer apparatus 1 according to the present invention, the substrate G is received by a transfer arm (not shown) after performing predetermined processing (heat treatment, cleaning process, etc.) on the substrate G as described above. Has a mechanism for passing. Specifically, as shown in FIG. 1, a
基板受け渡し機構20は、回転軸3において前記一対のタイミングプーリ5の間に設けられ、タイミングプーリ5の回転と同期して軸周りに回転する複数(図では3つ)のタイミングプーリ21(第三滑車部材)を備える。さらに、タイミングプーリ21よりも上流側において基板搬送方向に沿って各タイミングプーリ21と相対向して設けられ、回転軸3と平行な回転軸24によって回転自在に設けられた複数のタイミングプーリ22(第四滑車部材)を備える。前記回転軸24は、軸受23に軸支されている。
The
前記対配置されたタイミングプーリ21、22間には、それぞれタイミングベルト25(第二無端駆動部材)が掛け回され、タイミングプーリ21、22の回転によって、周回軌道に沿って移動するようになされている。
ここで、回転軸3に設けられたタイミングプーリ21の回転駆動は、モータ14の駆動によってなされるため、基板Gが載置されるタイミングベルト6,7の周回移動と共に、タイミングベルト25も同期して周回移動するようになされている。
尚、タイミングプーリ21、22は、タイミングプーリ4,5よりも小径であり、それに掛け回されたタイミングベルト25がロッド部材8に干渉しないようになされている。
A timing belt 25 (second endless drive member) is wound between the paired timing pulleys 21 and 22, and is moved along a circular path by the rotation of the timing pulleys 21 and 22. Yes.
Here, since the rotation of the timing
The timing pulleys 21 and 22 are smaller in diameter than the timing pulleys 4 and 5, and the
また、前記複数のタイミングベルト25の表面には、図示するようにベルト表面に対し(即ち周回移動方向に対し)直交方向に延びる棒状の基板支持部材26が、基板搬送方向に沿って所定間隔毎に立設されている。
これら複数の基板支持部材26は、図7に示すように、その先端の回転部材27(回転体)上で基板Gを支持するものであり、前記回転部材27は、タイミングベルト6、7における基板搬送高さよりも突出し、所定高さ寸法h高くなるように設けられている。
前記回転部材27は、具体的には基板支持部材26の棒体26aの先端に回転自在に設けられたボールベアリング(球体)からなる。
Further, on the surfaces of the plurality of
As shown in FIG. 7, the plurality of
Specifically, the rotating
タイミングベルト25に対し基板支持部材26を取り付ける構造としては、例えば図8(a)に示すように、先端に回転体27が設けられた棒体26aを、タイミングベルト25に一体形成されたボス28に(例えばエンザートを介して)ねじ込むことにより固定し、設けることができる。
あるいは、図8(b)に示すように、棒体26aのねじ切りされた先端26bを、タイミングベルト25を貫通させて、タイミングベルト25の裏側からナット29により固定してもよい。
またあるいは、図8(c)に示すようにタイミングベルト25(図では正面からの断面)を一対の板部材30、31により上下から挟み込み、螺子32により固定してもよい。この場合、ベルト表側の板部材30上に棒体26aが一体形成されていることが望ましい。
As a structure for attaching the
Alternatively, as shown in FIG. 8B, the threaded
Alternatively, as shown in FIG. 8C, the timing belt 25 (in the drawing, a cross section from the front) may be sandwiched from above and below by a pair of
このようにタイミングベルト25に対し、基板支持部材26は搬送方向に沿って所定間隔毎に設けられており、タイミングベルト25の周回移動と共に(ベルトに対し)直立した状態で移動するようになされている。尚、タイミングベルト6,7間に架設されたロッド部材8と、タイミングベルト25上の基板支持部材26とは、それぞれが干渉しないよう配置されている。
このように構成されることにより、基板支持部材26の先端の回転体27もまた周回軌道に沿って移動し、図7に示すように、タイミングベルト6,7から基板受け渡し機構20に基板Gが受け渡される区間においては、前記基板支持部材26(先端の回転体27)によって上りエスカレータのようにタイミングベルト6,7の高さから徐々に上昇軌道となる基板搬送路が形成される。
In this way, the
With this configuration, the rotating
したがって、タイミングベルト6,7によって搬送されてきた基板Gは、基板受け渡し機構20に差し掛かると、基板支持部材26によって、基板先端から徐々に上方に持ち上げられ、最終的には図7に示すように基板全体が複数の基板支持部材26の先端の回転体27によって支持される。
Accordingly, when the substrate G transported by the
尚、タイミングベルト6,7の表面には、凸状に形成され、その側面で基板Gの後端角部を支持するガイド部35(ガイド部材)が設けられている。このため、基板Gが基板支持部材26によって上方に持ち上げられる際に、ガイド部35が基板後端部を支持し、基板Gが後方に滑らないようにして、確実に基板Gを基板受け渡し機構20上に移動させることができる。
また、前記したようにタイミングベルト6,7の裏側に設けられたアイドラプーリ12のうち、図7に示すようにタイミングベルト6,7から基板受け渡し機構20に基板Gが受け渡される区間に設けられたアイドラプーリ12aは、他より高い位置に配置されている。この配置によりアイドラプーリ12aに掛かったタイミングベルト6,7は山なりとなって、上りエスカレータ状の搬送路がより滑らかに形成され、タイミングベルト6,7に載置されていた基板Gを、基板受け渡し機構20上に移動し易くすることができる。
Note that the surface of the
Further, as described above, the
また、図7に示すように基板受け渡し機構20の下流側端部において、基板支持部材26によって支持された基板Gの先端部に当接し、基板Gの移動を停止するためのストッパ部材36(基板受け部材)が設けられている。このストッパ部材36は例えばチャンバ内壁37等に設けられている。
前記したように、基板支持部材26の先端はボールベアリング構造の回転体27であるため、基板Gの移動がストッパ部材36によって停止されても、基板支持部材26は基板Gの下面を周回軌道に沿って滑らかに移動する。また、基板Gの振動も抑制される。
したがって、タイミングベルト6,7の周回移動を停止することなく、所定の基板処理が完了した基板Gは基板受け渡し機構20の所定位置に保持され、この状態で搬送アーム(図示せず)に基板Gが受け渡される。
Further, as shown in FIG. 7, a stopper member 36 (a substrate for stopping the movement of the substrate G by contacting the tip end portion of the substrate G supported by the
As described above, since the tip of the
Accordingly, the substrate G that has been subjected to the predetermined substrate processing is held at a predetermined position of the
以上のように、本発明に係る実施の形態によれば、タイミングベルト6,7によって搬送されてきた基板Gを基板受け渡し機構20により受け取り、基板支持部材26の回転体27上で支持することにより、タイミングベルト6,7の周回移動を継続した状態で、基板受け渡し機構20上の所定位置において基板Gを保持することができる。
したがって、基板搬送装置1において、基板搬送を停止することなく搬送アームへの基板Gの受け渡しが可能となり、基板搬送装置1における他の基板処理に影響を与えないため、スループットを向上することができる。
As described above, according to the embodiment of the present invention, the substrate G transported by the
Therefore, in the substrate transfer apparatus 1, the substrate G can be transferred to the transfer arm without stopping the substrate transfer, and other substrate processing in the substrate transfer apparatus 1 is not affected, so that the throughput can be improved. .
尚、前記実施の形態においては、基板支持部材26の先端に設けられる回転体として、ボール部材を例に説明したが、それに限定されず、滑車形状の回転体でもよい。
また、基板支持部材26は棒体の形状に限定されるものではなく、基板Gに当接する回転体を回転自在に保持することができれば、他の形状であってもよい。
また、線状部材として、例えばカーボンファイバーからなるロッド部材8を示したが、本発明の基板搬送装置にあっては、それに限定されず、線状部材として弾性を有するワイヤ部材(SUS等により形成)を用いてもよい。
また、無端駆動部材としてタイミングベルト6,7、21を用いたが、それに限定されず、無端駆動部材としてチェーンを用いてもよい。
In the above-described embodiment, the ball member is described as an example of the rotating body provided at the tip of the
Further, the
Further, the
Further, although the
また、前記実施の形態においては、基板受け渡し機構を基板搬送装置1(基板搬送路)の後端部に設け、基板Gに対し所定の処理(熱処理、洗浄処理等)を行った後に、基板Gを搬送アーム(図示せず)に受け渡すものとした。
しかしながら、本発明に係る基板搬送装置においては、その構成に限定されず、基板受け渡し機構を基板搬送装置1(基板搬送路)の前端部に設け、搬送アーム(図示せず)から基板Gを受け取って所定位置に支持し、所定のタイミングでタイミングベルト6,7上に受け渡すように構成してもよい。その場合、基板支持部材26によって支持された基板Gの先端部に当接し、基板Gの移動を停止するためのストッパ部材36(基板受け部材)を基板先端に対して進退移動させ、基板Gの移動を制御することが望ましい。
また、この基板受け渡し機構は、基板搬送装置1(基板搬送路)の前端部と後端部のいずれか一方、或いは、その両方に設けられる構成であってもよい。
In the above-described embodiment, the substrate transfer mechanism is provided at the rear end of the substrate transfer apparatus 1 (substrate transfer path), and the substrate G is subjected to predetermined processing (heat treatment, cleaning processing, etc.), and then the substrate G Was transferred to a transfer arm (not shown).
However, the substrate transfer apparatus according to the present invention is not limited to the configuration, and a substrate transfer mechanism is provided at the front end of the substrate transfer apparatus 1 (substrate transfer path) to receive the substrate G from the transfer arm (not shown). It may be configured so that it is supported at a predetermined position and delivered onto the
In addition, the substrate delivery mechanism may be configured to be provided at one or both of the front end portion and the rear end portion of the substrate transfer apparatus 1 (substrate transfer path).
1 基板搬送装置
2 回転軸
3 回転軸
4 タイミングプーリ(第一滑車部材)
5 タイミングプーリ(第二滑車部材)
6 タイミングベルト(第一無端駆動部材)
7 タイミングベルト(第一無端駆動部材)
8 ロッド部材(線状部材)
9 ガイド部材
12 アイドラプーリ(支持滑車)
12a アイドラプーリ(支持滑車)
13 カップリング
14 モータ(駆動部)
15a アイドラプーリ(支持滑車)
15b アイドラプーリ(変換滑車)
16 クリーニングローラ
20 基板受け渡し機構
21 タイミングプーリ(第三滑車部材)
22 タイミングプーリ(第四滑車部材)
25 タイミングベルト(第二無端駆動部材)
26 基板支持部材
27 回転部材(回転体)
36 ストッパ部材(基板受け部材)
G ガラス基板(被処理基板)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
5 Timing pulley (second pulley member)
6 Timing belt (first endless drive member)
7 Timing belt (first endless drive member)
8 Rod member (Linear member)
9
12a idler pulley (support pulley)
13
15a idler pulley (support pulley)
15b idler pulley (conversion pulley)
16
22 Timing pulley (fourth pulley member)
25 Timing belt (second endless drive member)
26
36 Stopper member (substrate receiving member)
G Glass substrate (substrate to be processed)
Claims (12)
水平方向に軸支され、且つ平行に配置された一対の回転軸と、
前記一の回転軸において所定間隔を空けて軸周りに回動自在に設けられた一対の第一滑車部材と、前記他の回転軸において所定間隔を空けて軸周りに回動自在に設けられた一対の第二滑車部材と、
基板搬送方向に相対向する前記第一滑車部材と第二滑車部材との間に掛け回され、前記第一滑車部材及び第二滑車部材の回転により基板搬送路の左右両側において周回軌道に沿って移動自在に設けられ、前記被処理基板の左右両縁部がそれぞれ載置される一対の第一無端駆動部材と、
前記一対の第一無端駆動部材間に並列して架設され、前記被処理基板の中央部を支持する複数の線状部材と、
前記回転軸を軸周りに回転させる駆動部と、
基板搬送路の前端部に設けられ、複数の基板支持部材により前記被処理基板を所定位置に支持し、前記被処理基板を前記第一無端駆動部材上に受け渡す基板受け渡し機構とを備えることを特徴とする基板搬送装置。 A substrate transfer device for transferring and transferring a substrate to be processed,
A pair of rotating shafts that are supported in a horizontal direction and arranged in parallel;
A pair of first pulley members provided to be rotatable around an axis at a predetermined interval on the one rotation shaft, and provided to be rotatable around an axis at a predetermined interval on the other rotation shaft. A pair of second pulley members;
It is hung between the first pulley member and the second pulley member facing each other in the substrate conveyance direction, and along the circular orbit on both the left and right sides of the substrate conveyance path by the rotation of the first pulley member and the second pulley member. A pair of first endless drive members that are movably provided and on which the left and right edges of the substrate to be processed are respectively mounted;
A plurality of linear members that are laid in parallel between the pair of first endless drive members and support a central portion of the substrate to be processed;
A drive unit for rotating the rotary shaft around the axis;
A substrate transfer mechanism provided at a front end portion of the substrate transfer path, supporting the substrate to be processed at a predetermined position by a plurality of substrate support members, and transferring the substrate to be processed onto the first endless drive member; A substrate transfer device.
水平方向に軸支され、且つ平行に配置された一対の回転軸と、
前記一の回転軸において所定間隔を空けて軸周りに回動自在に設けられた一対の第一滑車部材と、前記他の回転軸において所定間隔を空けて軸周りに回動自在に設けられた一対の第二滑車部材と、
基板搬送方向に相対向する前記第一滑車部材と第二滑車部材との間に掛け回され、前記第一滑車部材及び第二滑車部材の回転により基板搬送路の左右両側において周回軌道に沿って移動自在に設けられ、前記被処理基板の左右両縁部がそれぞれ載置される一対の第一無端駆動部材と、
前記一対の第一無端駆動部材間に並列して架設され、前記被処理基板の中央部を支持する複数の線状部材と、
前記回転軸を軸周りに回転させる駆動部と、
基板搬送路の後端部に設けられ、前記第一無端駆動部材に載置されている前記被処理基板を受け取り、複数の基板支持部材により前記被処理基板を所定位置に支持する基板受け渡し機構とを備えることを特徴とする基板搬送装置。 A substrate transfer device for transferring and transferring a substrate to be processed,
A pair of rotating shafts that are supported in a horizontal direction and arranged in parallel;
A pair of first pulley members provided to be rotatable around an axis at a predetermined interval on the one rotation shaft, and provided to be rotatable around an axis at a predetermined interval on the other rotation shaft. A pair of second pulley members;
It is hung between the first pulley member and the second pulley member facing each other in the substrate conveyance direction, and along the circular orbit on both the left and right sides of the substrate conveyance path by the rotation of the first pulley member and the second pulley member. A pair of first endless drive members that are movably provided and on which the left and right edges of the substrate to be processed are respectively mounted;
A plurality of linear members that are laid in parallel between the pair of first endless drive members and support a central portion of the substrate to be processed;
A drive unit for rotating the rotary shaft around the axis;
A substrate delivery mechanism that is provided at a rear end portion of the substrate transport path, receives the target substrate placed on the first endless drive member, and supports the target substrate at a predetermined position by a plurality of substrate support members; The board | substrate conveyance apparatus characterized by the above-mentioned.
基板搬送方向下流側の前記一の回転軸において、前記一対の第一滑車部材間に設けられた複数の第三滑車部材と、前記第三滑車部材よりも基板搬送方向上流側において、前記一の回転軸と平行な軸周りに回転自在に設けられた複数の第四滑車部材と、
基板搬送方向に相対向する前記第三滑車部材と前記第四滑車部材との間にそれぞれ掛け回され、周回軌道に沿って移動自在に設けられた複数の第二無端駆動部材と、
前記複数の第二無端駆動部材上に基板搬送方向に沿って設けられた複数の前記基板支持部材とを備え、
前記被処理基板を支持する基板支持部材の先端は、前記第一無端駆動部材の基板載置面よりも突出していることを特徴とする請求項1または請求項2に記載された基板搬送装置。 The substrate delivery mechanism is
A plurality of third pulley members provided between the pair of first pulley members on the one rotation shaft on the downstream side in the substrate conveyance direction, and the first rotation shaft on the upstream side in the substrate conveyance direction with respect to the third pulley member. A plurality of fourth pulley members rotatably provided around an axis parallel to the rotation axis;
A plurality of second endless drive members that are respectively hung between the third pulley member and the fourth pulley member facing each other in the substrate transport direction, and are movably provided along a circular path;
A plurality of the substrate support members provided along the substrate transport direction on the plurality of second endless drive members;
3. The substrate transfer apparatus according to claim 1, wherein a tip of a substrate support member that supports the substrate to be processed protrudes from a substrate mounting surface of the first endless drive member.
前記基板支持部材により支持された被処理基板の先端部に当接する基板受け部材を備えることを特徴とする請求項1乃至請求項8のいずれかに記載された基板搬送装置。 The substrate delivery mechanism is
The substrate transport apparatus according to claim 1, further comprising a substrate receiving member that abuts on a front end portion of the substrate to be processed supported by the substrate support member.
前記変換滑車により、前記隣り合う支持滑車の間に前記第一無端駆動部材が下方に凹状に屈曲する区間が形成されることを特徴とする請求項10または請求項11に記載された基板搬送装置。 Arranged between adjacent support pulleys, comprising a conversion pulley that converts the orbit of the first endless drive member;
12. The substrate transfer apparatus according to claim 10, wherein a section where the first endless driving member is bent downward is formed between the adjacent support pulleys by the conversion pulley. .
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2010286342A (en) * | 2009-06-11 | 2010-12-24 | Lasertec Corp | Substrate holding device, defect inspection device and defect correction device |
JP6043871B2 (en) * | 2013-05-21 | 2016-12-14 | ヤマハ発動機株式会社 | Substrate transport apparatus, surface mounter, and substrate transport method |
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