JP2012232269A - Slit coat type coating apparatus for substrate floating type transportation mechanism - Google Patents

Slit coat type coating apparatus for substrate floating type transportation mechanism Download PDF

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    • B05C5/0254Coating heads with slot-shaped outlet

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a slit coat type coating apparatus provided with a cleaning mechanism for a slit like opening part which is suitable for an air floating transportation process.SOLUTION: In the slit coat type coating apparatus for a substrate floating type transportation mechanism which forms a coating layer on a substrate by discharging a coating liquid from a slit like opening part to the substrate floated by air jetted from an air jetting device and moving in a predetermined direction by a slider, the coating apparatus is provided with at least a coating head provided with the slit like opening, a coating head moving mechanism for moving the coating head in the nearly vertical direction and a wiping mechanism floated by air jetted from the air jetting device and moving in the predetermined direction by the slider. The wiping mechanism is configured to clean the slit like opening part by moving a rubber pad along the opening part as being in contact with the opening part.

Description

本発明は、浮上搬送方式で搬送される角型ガラス基板にカラーフィルタのような塗布膜を形成するためのスリットコート方式の塗布装置に係わり、特にはスリットコート用ヘッドの残留インクの洗浄装置に関するものである。   The present invention relates to a slit coat type coating apparatus for forming a coating film such as a color filter on a square glass substrate conveyed by a floating conveyance system, and more particularly to a cleaning device for residual ink of a slit coating head. Is.

近年、各種電子機器の情報表示用として使用されるカラー液晶ディスプレイには、カラーフィルタやフォトスペーサ等のフォトレジストパターンが形成されたガラス基板が使用されている。フォトレジストはガラス基板上に塗布された上でパターン化されるのであるが、ガラス基板上にフォトレジストを塗布する技術としては、従来はスピンコート法、インクジェット法が用いられてきたが、ガラス基板の幅寸法と同程度の長さを有するスリット状の開口部(以下、単にノズルとも記す。)からフォトレジストを吐出しつつ、ノズルあるいはガラス基板のいずれかを移動させてレジスト皮膜を形成する技術にスリットコート法がある。   In recent years, a glass substrate on which a photoresist pattern such as a color filter or a photo spacer is formed is used in a color liquid crystal display used for displaying information in various electronic devices. Photoresist is coated on a glass substrate and then patterned. Conventionally, as a technique for applying a photoresist on a glass substrate, a spin coat method or an ink jet method has been used. Of forming a resist film by moving either the nozzle or the glass substrate while discharging the photoresist from a slit-like opening (hereinafter, also simply referred to as a nozzle) having a length comparable to the width dimension of There is a slit coat method.

このスリットコート式塗布装置は、塗布ヘッドと被塗布基板間の一度の相対的な変位で均一な塗布膜を得る方式である。吐出される塗布液をスリット幅の全長にわたって均一に吐出する必要があるが、ノズルに微小な異物が存在すると、吐出量が不均一になり塗布ムラが発生する。例えば、塗布後にノズル先端に滞留したフォトレジスト液から溶媒が揮発すると、ノズル先端部に凝集したレジストが固着するなどが原因で、塗布ムラが発生する。このため一般的には、1回の塗布動作が終了するたびに、ノズル先端部をゴム製のパッドで拭き取るなどの洗浄処理を施す必要がある。   This slit coat type coating apparatus is a method of obtaining a uniform coating film by a single relative displacement between a coating head and a substrate to be coated. Although it is necessary to uniformly discharge the discharged coating liquid over the entire length of the slit width, if a minute foreign substance exists in the nozzle, the discharge amount becomes non-uniform and uneven coating occurs. For example, when the solvent is volatilized from the photoresist liquid staying at the tip of the nozzle after application, uneven coating occurs due to adhesion of the aggregated resist to the tip of the nozzle. For this reason, it is generally necessary to perform a cleaning process such as wiping the tip of the nozzle with a rubber pad each time one application operation is completed.

一方、近年、画面の大型化と低コスト化のためにガラス基板の大型化が進んでおり、現在では一辺が2mを超えるサイズが取り扱われ、今後も大型化が進むと見込まれている。大型化しても基板一枚当たりのタクトタイムは中小型基板のそれと同等以下であることが必要で、大型化且つ高速搬送が必須となっている。一方、液晶ディスプレイを軽量にするためにガラス基板の厚みはわずか0.7mmという薄さであって、手作業でハンドリングするのは困難となっている。   On the other hand, in recent years, the size of glass substrates has been increasing due to the increase in size and cost of screens. Currently, the size of one side exceeding 2 m is handled, and it is expected that the size will increase in the future. Even if the size is increased, the tact time per substrate needs to be equal to or less than that of a small and medium-sized substrate. On the other hand, in order to reduce the weight of the liquid crystal display, the thickness of the glass substrate is only 0.7 mm, which is difficult to handle manually.

従来は、ガラス基板はローラコンベアや多関節ロボットで搬送されてきたが、これらの搬送方式では、搬送装置とガラス基板とが接触するためガラス面に微小な擦り傷がつくという問題がある。また、周期的に基板に加わる振動や基板中央部の撓みにより、基板の平行度が保てないことで塗布ムラを誘引することもある。ガラス基板を支柱を用いて下から支持することも可能であるが、支柱の熱伝導の問題などでこの場合も塗布ムラの原因となる場合がある。   Conventionally, the glass substrate has been transported by a roller conveyor or an articulated robot. However, these transport methods have a problem that the glass surface is minutely scratched because the transport device and the glass substrate are in contact with each other. In addition, due to vibrations periodically applied to the substrate and bending of the central portion of the substrate, unevenness in coating may be induced because the parallelism of the substrate cannot be maintained. Although it is possible to support the glass substrate from below using a support, this case may also cause coating unevenness due to the problem of heat conduction of the support.

このため薄くて割れやすいガラス基板を高速で安定に平行性を保って搬送したり支持する技術として空気浮上搬送技術がある(特許文献1、特許文献2)。これはガラス基板と搬送装置の間に薄い空気膜を形成し、基板をわずかに搬送面から浮上させて非接触で搬送あるいは支持する技術である。基板と搬送装置が直接接触しないようにできるため、低振動且つ高速搬送が可能である。また、基板をステージに吸着させたり、乗り継ぎ工程でピンアップさせたりする動作を省略できるため、全体的にタクトタイムが短かくなるという利点がある。   For this reason, there is an air levitation transport technique as a technique for transporting and supporting a thin and easily broken glass substrate at high speed while maintaining parallelism (Patent Document 1, Patent Document 2). This is a technique in which a thin air film is formed between a glass substrate and a transfer device, and the substrate is slightly lifted from the transfer surface and transferred or supported in a non-contact manner. Since the substrate and the transfer device can be prevented from coming into direct contact, low vibration and high-speed transfer is possible. Further, since the operation of adsorbing the substrate to the stage or pinning up in the connecting process can be omitted, there is an advantage that the tact time is shortened as a whole.

特開2009−16654号公報JP 2009-16654 A 特開2010−34382号公報JP 2010-34382 A

ところで、空気浮上搬送方式されたガラス基板についてスリットコート方式を適用する場合にも塗布液を吐出した後のノズル先端の清浄化は必要である。空気浮上搬送ではインキ吐出中はノズルを固定してガラス基板を移動させるが、ノズル直下にはガラス基板を浮上させる浮上ユニットが多数備え付けられているため、ノズル先端の清浄化動作を行うには、図6に矢印で示すように塗布ヘッド6を別途設置されている清浄化ユニット9のある位置まで移動させる必要があった。この移動の工程がスリットコート工程のタクトタイム短縮を阻害する要因となっている。また、洗浄ユニット9周辺の装置機構を複雑にしておりにハンドリングとメンテナンス効率を低下させていた。
そこで本発明は、空気浮上搬送方式に好適なスリットコート装置のノズル近傍の清浄化機構を備えたスリットコート塗布装置を提供することを課題とした。
By the way, even when the slit coating method is applied to a glass substrate that is air-lifted and conveyed, it is necessary to clean the nozzle tip after discharging the coating liquid. In air levitation transport, the nozzle is fixed and the glass substrate is moved during ink discharge. As indicated by the arrows in FIG. 6, it is necessary to move the coating head 6 to a position where the cleaning unit 9 separately installed is located. This movement process is a factor that hinders the reduction of tact time in the slit coating process. In addition, the device mechanism around the cleaning unit 9 is complicated, and handling and maintenance efficiency are reduced.
Then, this invention made it the subject to provide the slit coat coating apparatus provided with the cleaning mechanism of the nozzle vicinity of the slit coat apparatus suitable for an air floating conveyance system.

上記課題を達成するための請求項1に記載の発明は、エアー噴出装置から噴出するエアーによって浮上した状態でスライダーにより所定方向に移動する基板に対し、スリット状開口部から塗布液を吐出して前記基板上に塗布層を形成する基板浮上型搬送機構用スリットコート式塗布装置であって、前記塗布装置は、少なくとも、スリット状の開口部を備える塗布ヘッドと、前記塗布ヘッドを略上下方向に移動させる塗布ヘッド移動機構と、前記エアー噴出装置から噴出するエアーによって浮上した状態でスライダーにより所定方向に移動し、塗布ヘッドのスリット状の開口部周囲に残存する塗布液を洗浄する洗浄機構と、を備えることを特徴とする基板浮上型搬送機構用スリットコート式塗布装置としたものである。   In order to achieve the above object, the invention according to claim 1 is characterized in that a coating liquid is discharged from a slit-shaped opening to a substrate that moves in a predetermined direction by a slider in a state of being floated by air ejected from an air ejection device. A slit coating type coating apparatus for a substrate floating type transport mechanism for forming a coating layer on the substrate, wherein the coating apparatus includes at least a coating head having a slit-shaped opening, and the coating head in a substantially vertical direction. A moving mechanism for moving the coating head, a cleaning mechanism for cleaning the coating liquid remaining around the slit-shaped opening of the coating head, moved in a predetermined direction by a slider in a state of being floated by the air ejected from the air ejection device, The slit coat type coating apparatus for a substrate floating type transport mechanism is provided.

請求項2に記載の発明は、前記洗浄機構は、ゴムパッドがスリット状の開口部に当接したまま開口部に沿って移動することで開口部周囲に残存する塗布液を洗浄する機構であること特徴とする請求項1に記載の基板浮上型搬送機構用スリットコート式塗布装置としたものである。   According to a second aspect of the present invention, the cleaning mechanism is a mechanism for cleaning the coating liquid remaining around the opening by moving along the opening while the rubber pad is in contact with the slit-shaped opening. The slit coat type coating apparatus for a substrate floating type transport mechanism according to claim 1, wherein the coating apparatus is a slit coat type coating apparatus.

請求項3に記載の発明は、前記洗浄機構は、洗浄用ノズルがスリット状の開口部に洗浄用溶剤を吹き付けた状態で開口部に沿って移動することで開口部周囲に残存する塗布液を洗浄する機構であること特徴とする請求項1に記載の基板浮上型搬送機構用スリットコート式塗布装置としたものである。   According to a third aspect of the present invention, in the cleaning mechanism, the cleaning nozzle moves the coating liquid remaining around the opening by moving along the opening while the cleaning solvent is sprayed on the slit-shaped opening. The slit coating type coating apparatus for a substrate floating type transport mechanism according to claim 1, wherein the slit coating type coating apparatus is a cleaning mechanism.

請求項4に記載の発明は、前記洗浄機構は、洗浄用ノズルがスリット状の開口部に洗浄用溶剤と空気の二流体を吹き付けた状態で開口部に沿って移動することで開口部周囲に残存する塗布液を洗浄する機構であること特徴とする請求項1に記載の基板浮上型搬送機構用スリットコート式塗布装置としたものである。   According to a fourth aspect of the present invention, the cleaning mechanism moves around the opening by moving the cleaning nozzle along the opening in a state where two fluids of cleaning solvent and air are sprayed on the slit-shaped opening. The slit coating type coating apparatus for a substrate floating type transport mechanism according to claim 1, wherein the mechanism is a mechanism for cleaning the remaining coating liquid.

請求項5に記載の発明は、前記洗浄機構は、ノズルがスリット状の開口部にドライエアーを吹き付けた状態で開口部に沿って移動することでスリット状開口部を乾燥する乾燥機構を備えること特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の基板浮上型搬送機構用スリットコート式塗布装置としたものである。   According to a fifth aspect of the present invention, the cleaning mechanism includes a drying mechanism that dries the slit-shaped opening by moving along the opening while the nozzle blows dry air to the slit-shaped opening. The slit coat type coating apparatus for a substrate floating type transport mechanism according to any one of claims 1 to 4, characterized in that it is a feature.

従来のスリットコート塗布装置の塗布ヘッドノズルの洗浄は、塗布ヘッドを上下水平方向に移動させることが必要であるのに対して本発明は、塗布ヘッドの移動距離が略上下方
向の至近距離だけと短いため、ノズルの洗浄に要する時間が短縮される。その結果、高速で基板搬送が可能となり塗布工程全体のタクトタイムが低減され生産性が向上する。
塗布ヘッドの移動機構とノズル拭き取り機構の駆動機構の構成が単純化されハンドリングとメンテナンスが容易となる。その結果、多様な拭き取り機構の導入と乾燥機構の導入まで可能となり、塗布工程の生産性が向上する。
The cleaning of the coating head nozzle of the conventional slit coat coating apparatus requires that the coating head be moved in the vertical and horizontal directions, whereas the present invention is such that the movement distance of the coating head is only the closest distance in the vertical direction. Since it is short, the time required for cleaning the nozzle is shortened. As a result, the substrate can be conveyed at high speed, the takt time of the entire coating process is reduced, and the productivity is improved.
The structure of the moving mechanism of the coating head and the drive mechanism of the nozzle wiping mechanism is simplified, and handling and maintenance become easy. As a result, it is possible to introduce various wiping mechanisms and a drying mechanism, thereby improving the productivity of the coating process.

本発明に関与する装置で主要なもののスリットコート開始前の位置関係を説明する斜視概念図である。It is a perspective conceptual diagram explaining the positional relationship before the start of slit coating of the main apparatus related to the present invention. スリットコート時の様子を説明する斜視概念図である。It is a perspective conceptual diagram explaining the mode at the time of slit coating. スリットコート後の塗布ヘッドと洗浄ユニットの動きを説明する斜視概念図である。It is a perspective conceptual diagram explaining the movement of the coating head and the cleaning unit after slit coating. 洗浄時の洗浄ユニットと塗布ヘッドの位置関係を説明する斜視概念図と断面視の図である。It is the perspective conceptual diagram and sectional drawing explaining the positional relationship of the washing | cleaning unit and coating head at the time of washing | cleaning. 洗浄後の基板の搬入搬出を説明する斜視概念図である。It is a perspective conceptual diagram explaining carrying in / out of the board | substrate after washing | cleaning. 従来技術における洗浄時の塗布ヘッドの動きを説明する斜視概念図である。It is a perspective conceptual diagram explaining the motion of the coating head at the time of the washing | cleaning in a prior art. 浮上ユニットを敷設してエアー浮上ステージを構成する様子を説明する斜視概念図である。It is a perspective conceptual diagram explaining a mode that laying a levitation unit and comprising an air levitation stage.

以下、本装置の概略を図面を用いて説明する。   Hereinafter, an outline of the present apparatus will be described with reference to the drawings.

図1は本装置の塗布が始まる前の被塗布基板1、エアー浮上ステージ2、塗布ヘッド6、ノズル洗浄ユニット8等の相対的な位置関係を説明する概略の斜視図である。被塗布基板1を駆動するチャック付スライダー、空気供給用ポンプ等は図示しておらず、また塗布ヘッド6とエアー浮上ステージ2の構成、塗布ヘッド6と洗浄ユニットの駆動用スライダーの詳細も省略されている。   FIG. 1 is a schematic perspective view for explaining the relative positional relationship of the substrate 1 to be coated, the air floating stage 2, the coating head 6, the nozzle cleaning unit 8 and the like before the coating of the apparatus starts. The slider with chuck for driving the substrate 1 to be coated, the air supply pump, etc. are not shown, and the details of the configuration of the coating head 6 and the air floating stage 2 and the slider for driving the coating head 6 and the cleaning unit are also omitted. ing.

洗浄ユニット8の洗浄機構としては、図4に模式的に示すようにノズル7周辺を挟み込むようにゴム製のパッド14を押し付けて拭き取るタイプのものと、洗浄用溶剤をノズル7周囲に吹き付けるタイプのいずれか又は併用することが可能である。更に、洗浄後ドライエアーを吹き付けて乾燥させることができる。図4で示す上部にV字状の切れ込みがある洗浄ユニット8の図は、これら全てを抽象的に示す図であって、ゴム製パッド14があることも切れ込まれた斜面に溶剤噴出用、空気噴出用の孔(図示せず)が形成されたそれぞれの洗浄ユニットを代表して示している。   As a cleaning mechanism of the cleaning unit 8, as shown schematically in FIG. 4, there are a type of pressing the rubber pad 14 so as to sandwich the periphery of the nozzle 7 and wiping, and a type of spraying a cleaning solvent around the nozzle 7. Either or a combination of these can be used. Furthermore, it can dry by spraying dry air after washing | cleaning. The drawing of the cleaning unit 8 having a V-shaped cut at the top shown in FIG. 4 is an abstract view of all of these, and the presence of the rubber pad 14 is also for solvent ejection on the cut slope. Each cleaning unit in which air ejection holes (not shown) are formed is shown as a representative.

エアー浮上ステージ2の構成は図からは読み取れないが、一例として図7のような構成を例示できる。これは、適当な大きさの浮上ユニット3を被搬送基板1の大きさに合わせてマトリックス状に敷設したものである。浮上ユニット3の表面には所定の間隔でエアー噴出用のピンホール5が形成されており、配管を通じて送られたエアーを上方に噴出する。エアー源としては、高圧ブロワや空調用ファンユニットを使用することができる。浮上ユニット3は上部端面が土手状に突出しており、被搬送基板1が直接浮上ユニット3に触れることを防止するとともにエアーの抜け道としてエアー圧力を調整するようになっている。   Although the structure of the air levitation stage 2 cannot be read from the drawing, a structure as shown in FIG. 7 can be illustrated as an example. This is a floating unit 3 of an appropriate size laid in a matrix in accordance with the size of the substrate 1 to be transported. Air jetting pinholes 5 are formed on the surface of the levitation unit 3 at predetermined intervals, and the air sent through the piping is jetted upward. As the air source, a high-pressure blower or an air conditioning fan unit can be used. The levitation unit 3 has an upper end surface protruding like a bank, and prevents the substrate 1 to be conveyed from directly touching the levitation unit 3 and adjusts the air pressure as an air escape path.

浮上ユニット3の別の構成例としては、無数の微細な孔の開いた板状物質の下部に中空空間を設け、この中空空間にエアーを加えることによって均一な上向きの空エアー流を形成するものであってもよい。エアー流調整用として吸引孔を別に設けた態様としても構わない(図示せず)。   As another example of the structure of the levitation unit 3, a hollow space is provided in the lower part of a plate-like substance having numerous fine holes and a uniform upward air flow is formed by adding air to the hollow space. It may be. A mode in which a suction hole is separately provided for air flow adjustment (not shown) may be used.

浮上ユニットは、基板搬送のためだけでなく、後述するように、洗浄時には洗浄ユニットを浮上させるためにも使用するから洗浄装置の底面の大きさとマッチング可能な大きさとするのが好ましい。基板を加速、走行、停止させるためには、基板の端部を吸引するか把持しながら基板移動方向に移動するスライダー機構(図示せず)を使用する。   Since the levitation unit is used not only for transporting the substrate but also for levitation of the cleaning unit during cleaning as described later, it is preferable that the levitation unit has a size that can match the size of the bottom surface of the cleaning apparatus. In order to accelerate, run, and stop the substrate, a slider mechanism (not shown) that moves in the substrate moving direction while sucking or grasping the end of the substrate is used.

いずれの方式の浮上ユニットであれ、浮上ユニットは被搬送体であるガラス基板により上部が覆われると、基板とユニットで閉じた空間を形成するようになっており、囲われた空間にエアーを閉じ込めることで浮上の圧力を形成する。この矩形状の浮上ユニットをマトリック状に配置することで、薄くて変形しやすいガラス基板に均一な圧力を加えて基板の平行性を保つことができる。   Regardless of the type of levitation unit, the levitation unit forms a closed space between the substrate and the unit when the upper part is covered with a glass substrate, which is the carrier, and traps air in the enclosed space. This creates a rising pressure. By arranging the rectangular floating units in a matrix shape, it is possible to apply a uniform pressure to a thin and easily deformable glass substrate to maintain the parallelism of the substrate.

図2は、塗布液を塗布ヘッドが吐出しているときの状態を説明する図である。被塗布基板1は浮上ステージ2から噴出されるエアーによって浮上しており、且つ基板の進行方向に平行な端部両側をチャック付スライダーで吸着保持された状態で移動する。スリットコータノズルから吐出される塗布液により基板上に厚みが均一の塗布膜が形成されるものである。   FIG. 2 is a diagram illustrating a state when the coating head is discharging the coating liquid. The substrate 1 to be coated is levitated by the air ejected from the levitating stage 2 and moves in a state where both sides of the end parallel to the traveling direction of the substrate are adsorbed and held by a slider with a chuck. A coating film having a uniform thickness is formed on the substrate by the coating liquid discharged from the slit coater nozzle.

基板が所定の距離だけ浮上搬送されて塗布が終了すると、基板はスライダーの吸着を外れ、スライダーは次の基板に対応できるように所定の位置に戻る。塗布液の吐出が終わるとノズル内に塗布液を引き込むと同時にノズル先端に付着した残留塗布液をできるだけ速く拭き取って塊りにならないようにする必要がある。   When the substrate is lifted and conveyed by a predetermined distance and the application is completed, the substrate is removed from the slider, and the slider returns to a predetermined position so that it can correspond to the next substrate. When the discharge of the coating solution is finished, it is necessary to draw the coating solution into the nozzle and at the same time wipe off the remaining coating solution adhering to the nozzle tip as quickly as possible so as not to become a lump.

本発明は、そこで図3に示すように洗浄ユニット8が浮上ステージ2と塗布ヘッド6の間に入れるように塗布ヘッド2は上方向に退避する。洗浄ユニット8は架台に支えられつつ退避位置から浮上ステージ2上に移動し、当該架台が浮上ユニット3から噴出するエアーで浮上するようになっている。洗浄ユニット8は、基板の浮上に使用される同じ浮上ユニット3で浮上させて使用する。洗浄ユニット8の底面積はガラス基板より狭いので使われる浮上ユニット3の数は少なくて済む。また、洗浄ユニットの重量に応じて、浮上エアーの流量を増加させて洗浄ユニットを浮上させても良い。洗浄ユニット8を残留した吐液を拭き取るためにノズル開口部に沿って移動させるのにはスライダー機構を利用する。エアー浮上を使わずスライダー機構だけで浮かして駆動することも可能である。   In the present invention, as shown in FIG. 3, the coating head 2 is retracted upward so that the cleaning unit 8 is inserted between the floating stage 2 and the coating head 6. The cleaning unit 8 is moved from the retracted position onto the levitation stage 2 while being supported by the gantry, and the gantry is levitated by the air ejected from the levitation unit 3. The cleaning unit 8 is used by being levitated by the same levitating unit 3 used for levitating the substrate. Since the bottom area of the cleaning unit 8 is smaller than that of the glass substrate, the number of the floating units 3 used can be small. Further, the cleaning unit may be lifted by increasing the flow rate of the floating air according to the weight of the cleaning unit. A slider mechanism is used to move the cleaning unit 8 along the nozzle opening in order to wipe off the remaining discharged liquid. It is also possible to drive by floating using only the slider mechanism without using air levitation.

塗布ヘッドのノズル部と当接しつつ塗布液を拭き取る洗浄部の一態様としては、図4に示すV字型の切れ込みにゴムパッド14を装着して架台に搭載したものを挙げられる。切れ込み部のゴムパッド14上面がノズル7の開口部と側面と接するようになっている。   As one mode of the cleaning unit that wipes off the coating liquid while coming into contact with the nozzle portion of the coating head, there can be mentioned a configuration in which a rubber pad 14 is attached to a V-shaped notch shown in FIG. The upper surface of the rubber pad 14 at the notch is in contact with the opening and the side surface of the nozzle 7.

従来技術では、洗浄ユニット8は、図6に示すように塗布ヘッド6の直下を略上下に移動するのではなく、塗布ヘッド8の基板進行方向の前方か後方の浮上ユニット2の上方に備え付けられている別の洗浄装置9上で行われるので、塗布ヘッド6をその位置まで移動させる必要があった。本発明では移動距離が短く、略上下方向の移動だけで済むので移動距離も短く機械的な構成が簡略化されるという特長がある。   In the prior art, the cleaning unit 8 is not moved substantially up and down just below the coating head 6 as shown in FIG. 6, but is provided above the floating unit 2 in front of or behind the coating head 8 in the substrate traveling direction. Since this is performed on another cleaning device 9, it is necessary to move the coating head 6 to that position. The present invention has a feature that the moving distance is short and only the movement in the vertical direction is sufficient, so that the moving distance is short and the mechanical configuration is simplified.

また、ノズル周辺が洗浄されている間に次に塗布される基板1が搬送機構から所定の位置に受け渡される。この際には、浮上ユニットに敷設形成された基板受け渡し用のピン12がピンアップすることでなされる。洗浄ユニット8は洗浄処理が終われば元の退避位置に戻り、洗浄後の塗布ヘッド8が下方向に降りて基板1への塗布液吐出の準備が整うことになる。塗布が終了した基板1は、ロボットハンド等で次工程に引き渡される。   Further, the substrate 1 to be applied next is transferred from the transport mechanism to a predetermined position while the periphery of the nozzle is being cleaned. At this time, the board transfer pins 12 laid and formed on the floating unit are pinned up. When the cleaning process is completed, the cleaning unit 8 returns to the original retracted position, and the cleaned application head 8 descends downward and preparation for discharging the coating liquid onto the substrate 1 is completed. The substrate 1 that has been applied is delivered to the next step by a robot hand or the like.

上記記載の手順でスリットコートとノズルの洗浄が基板ごとに繰り返されるが、この拭き取り動作だけでは徐々に拭き取り跡がノズル周辺に蓄積して汚れていく。そのためには
、上記工程とは異なる洗浄処理を定期的あるいはオプションとして導入する必要がある。
The slit coating and nozzle cleaning are repeated for each substrate in the above-described procedure, but the wiping traces gradually accumulate around the nozzles and become dirty only with this wiping operation. For that purpose, it is necessary to introduce a cleaning process different from the above-mentioned process periodically or as an option.

この場合の洗浄は開口部周辺の拭き取りではなく、溶剤をヘッド周囲に吹きかけて拭き取った後の洗浄痕を溶解させて洗い流す洗浄である。これは単純な溶剤洗浄であってもよいし、溶剤とエアーを同時に吹き付ける二流体洗浄のような洗浄方法であってもよい。この際、溶剤が周囲に飛散しないように排気を取りながらノズル開口部に沿って洗浄ユニット8を移動させてもよいし、ドライエアーを噴出しながら移動させることもできる。これらの洗浄ユニットもまた、エアー浮上機構とスライダー動力を利用する。   In this case, the cleaning is not wiping around the opening, but is performed by dissolving and cleaning the cleaning marks after the solvent is sprayed around the head and wiped off. This may be simple solvent cleaning, or a cleaning method such as two-fluid cleaning in which solvent and air are blown simultaneously. At this time, the cleaning unit 8 may be moved along the nozzle opening while exhausting air so that the solvent does not scatter around, or it can be moved while jetting dry air. These cleaning units also utilize an air levitation mechanism and slider power.

従来技術では、塗布ヘッド6が塗布位置と洗浄ユニット位置行き来するためには、上方向と横方向にそれぞれ約50cm程度往復移動する必要があり、その移動の為に10秒程度の時間が掛かってしまってた。一方、本発明では上下方向への20から30cm程度の移動だけで済む為、約3秒程度の移動時間で済み、約7秒もの処理時間の短縮が可能になった。   In the prior art, in order for the coating head 6 to move back and forth between the coating position and the cleaning unit position, it is necessary to reciprocate about 50 cm in each of the upward and lateral directions, which takes about 10 seconds. I was shut up. On the other hand, in the present invention, since it is only necessary to move about 20 to 30 cm in the vertical direction, a movement time of about 3 seconds is sufficient, and a processing time of about 7 seconds can be shortened.

1、ガラス基板(一般に被塗布基板)
2、エアー浮上ステージ
3、エアー浮上ユニット
4、スライダー
5、ピンホール
6、塗布ヘッド
7、ノズル(開口部)及びその周辺
8、洗浄ユニット(拭き取り)
9、洗浄ユニット(溶剤)
10、洗浄ユニット(二流体)
11、別付け洗浄ユニット
12、ピン
13、ドライエアー
14、ゴムパッド
1. Glass substrate (generally substrate to be coated)
2, air levitation stage 3, air levitation unit 4, slider 5, pinhole 6, coating head 7, nozzle (opening) and its periphery 8, cleaning unit (wiping)
9. Cleaning unit (solvent)
10. Cleaning unit (two fluid)
11. Separate cleaning unit 12, pin 13, dry air 14, rubber pad

Claims (5)

エアー噴出装置から噴出するエアーによって浮上した状態でスライダーにより所定方向に移動する基板に対し、スリット状開口部から塗布液を吐出して前記基板上に塗布層を形成する基板浮上型搬送機構用スリットコート式塗布装置であって、前記塗布装置は、少なくとも、スリット状の開口部を備える塗布ヘッドと、前記塗布ヘッドを略上下方向に移動させる塗布ヘッド移動機構と、前記エアー噴出装置から噴出するエアーによって浮上した状態でスライダーにより所定方向に移動し、塗布ヘッドのスリット状の開口部周囲に残存する塗布液を洗浄する洗浄機構と、を備えることを特徴とする基板浮上型搬送機構用スリットコート式塗布装置。   A substrate floating type transport mechanism slit for discharging a coating liquid from a slit-like opening to form a coating layer on a substrate that is moved in a predetermined direction by a slider while floating by air blown from an air blowing device. A coating-type coating apparatus, wherein the coating apparatus includes at least a coating head having a slit-shaped opening, a coating head moving mechanism that moves the coating head in a substantially vertical direction, and air ejected from the air ejection device. And a cleaning mechanism for cleaning the coating liquid remaining around the slit-shaped opening of the coating head while being lifted by the slider. Coating device. 前記洗浄機構は、ゴムパッドがスリット状の開口部に当接したまま開口部に沿って移動することで開口部周囲に残存する塗布液を洗浄する機構であること特徴とする請求項1に記載の基板浮上型搬送機構用スリットコート式塗布装置。   2. The cleaning mechanism according to claim 1, wherein the cleaning mechanism is a mechanism for cleaning the coating liquid remaining around the opening by moving along the opening while the rubber pad is in contact with the slit-shaped opening. Slit coat type coating device for floating substrate transfer mechanism. 前記洗浄機構は、洗浄用ノズルがスリット状の開口部に洗浄用溶剤を吹き付けた状態で開口部に沿って移動することで開口部周囲に残存する塗布液を洗浄する機構であること特徴とする請求項1に記載の基板浮上型搬送機構用スリットコート式塗布装置。   The cleaning mechanism is a mechanism for cleaning the coating liquid remaining around the opening by moving along the opening while the cleaning nozzle sprays the cleaning solvent on the slit-shaped opening. The slit coat type coating apparatus for a substrate floating type transport mechanism according to claim 1. 前記洗浄機構は、洗浄用ノズルがスリット状の開口部に洗浄用溶剤と空気の二流体を吹き付けた状態で開口部に沿って移動することで開口部周囲に残存する塗布液を洗浄する機構であること特徴とする請求項1に記載の基板浮上型搬送機構用スリットコート式塗布装置。   The cleaning mechanism is a mechanism that cleans the coating liquid remaining around the opening by moving the cleaning nozzle along the opening with two fluids of the cleaning solvent and air sprayed on the slit-shaped opening. The slit coat type coating apparatus for a substrate floating type transport mechanism according to claim 1. 前記洗浄機構は、ノズルがスリット状の開口部にドライエアーを吹き付けた状態で開口部に沿って移動することでスリット状開口部を乾燥する乾燥機構を備えること特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の基板浮上型搬送機構用スリットコート式塗布装置。   The said washing | cleaning mechanism is equipped with the drying mechanism which dries a slit-shaped opening part by moving along an opening part in the state which sprayed the dry air to the slit-shaped opening part, The Claim 1 characterized by the above-mentioned. 5. A slit coat type coating apparatus for a substrate floating type transport mechanism according to any one of 4.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013118550A1 (en) * 2012-02-10 2013-08-15 東京エレクトロン株式会社 Wiping pad, nozzle maintenance device using pad, and coating processing device
JP2014231043A (en) * 2013-05-29 2014-12-11 東京エレクトロン株式会社 Coating applicator and washing method for encapsulation part
CN104338643A (en) * 2013-08-06 2015-02-11 罗巴泰克股份公司 Apparatus for dispensing flowable substances
US9394097B2 (en) 2013-08-06 2016-07-19 Robatech Ag Apparatus for dispensing flowable substances
CN107138344A (en) * 2017-03-31 2017-09-08 云南自然空间门窗有限公司 A kind of outdoor glass outer wall work high above the ground automatic gluing device

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013118550A1 (en) * 2012-02-10 2013-08-15 東京エレクトロン株式会社 Wiping pad, nozzle maintenance device using pad, and coating processing device
JP2013165137A (en) * 2012-02-10 2013-08-22 Tokyo Electron Ltd Wiping pad, nozzle maintenance device using the pad, and coating processing device
US9468946B2 (en) 2012-02-10 2016-10-18 Tokyo Electron Limited Wiping pad, and nozzle maintenance apparatus and coating treatment apparatus using wiping pad
JP2014231043A (en) * 2013-05-29 2014-12-11 東京エレクトロン株式会社 Coating applicator and washing method for encapsulation part
CN104338643A (en) * 2013-08-06 2015-02-11 罗巴泰克股份公司 Apparatus for dispensing flowable substances
EP2835180A1 (en) * 2013-08-06 2015-02-11 Robatech AG Device for dispensing flowing substances
US9394097B2 (en) 2013-08-06 2016-07-19 Robatech Ag Apparatus for dispensing flowable substances
US9487341B2 (en) 2013-08-06 2016-11-08 Robatech Ag Apparatus for dispensing flowable substances
CN104338643B (en) * 2013-08-06 2018-12-04 罗巴泰克股份公司 For exporting the device of flowable materials
CN107138344A (en) * 2017-03-31 2017-09-08 云南自然空间门窗有限公司 A kind of outdoor glass outer wall work high above the ground automatic gluing device

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