KR20100049351A - 흡광 장치, 흡광 장치를 이용한 정착 유닛 및 화상 형성 장치 - Google Patents
흡광 장치, 흡광 장치를 이용한 정착 유닛 및 화상 형성 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20100049351A KR20100049351A KR1020080108470A KR20080108470A KR20100049351A KR 20100049351 A KR20100049351 A KR 20100049351A KR 1020080108470 A KR1020080108470 A KR 1020080108470A KR 20080108470 A KR20080108470 A KR 20080108470A KR 20100049351 A KR20100049351 A KR 20100049351A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- light
- nano
- dielectric
- rods
- dielectric layer
- Prior art date
Links
- 239000002073 nanorod Substances 0.000 claims abstract description 69
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 claims abstract description 37
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 74
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 16
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 claims description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 9
- 238000002347 injection Methods 0.000 abstract 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 abstract 2
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 abstract 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 11
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 11
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 9
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 8
- 238000002198 surface plasmon resonance spectroscopy Methods 0.000 description 8
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 3
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 3
- 206010028980 Neoplasm Diseases 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 2
- 239000003550 marker Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229920005560 fluorosilicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006015 heat resistant resin Polymers 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229920002631 room-temperature vulcanizate silicone Polymers 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/20—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat
- G03G15/2003—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat
- G03G15/2007—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat using radiant heat, e.g. infrared lamps, microwave heaters
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G15/00—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
- G03G15/20—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat
- G03G15/2003—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat
- G03G15/2014—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for fixing, e.g. by using heat using heat using contact heat
- G03G15/2053—Structural details of heat elements, e.g. structure of roller or belt, eddy current, induction heating
- G03G15/2057—Structural details of heat elements, e.g. structure of roller or belt, eddy current, induction heating relating to the chemical composition of the heat element and layers thereof
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G21/00—Arrangements not provided for by groups G03G13/00 - G03G19/00, e.g. cleaning, elimination of residual charge
- G03G21/16—Mechanical means for facilitating the maintenance of the apparatus, e.g. modular arrangements
- G03G21/1661—Mechanical means for facilitating the maintenance of the apparatus, e.g. modular arrangements means for handling parts of the apparatus in the apparatus
- G03G21/1685—Mechanical means for facilitating the maintenance of the apparatus, e.g. modular arrangements means for handling parts of the apparatus in the apparatus for the fixing unit
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G2215/00—Apparatus for electrophotographic processes
- G03G2215/20—Details of the fixing device or porcess
- G03G2215/2003—Structural features of the fixing device
- G03G2215/2048—Surface layer material
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Fixing For Electrophotography (AREA)
Abstract
흡광 장치, 흡광 장치를 이용한 정착 유닛 및 화상 형성 장치가 개시되어 있다. 개시된 흡광 장치는, 유전상수가 서로 다른 복수의 유전체층에 나노-로드가 분산된 광흡수층을 포함하는 것으로, 각 유전체층의 유전상수에 대응되는 소정 파장의 광의 표면 플라즈면 공진에 의해, 열 복사하는 광을 열원으로 삼는 정착 유닛과 같은 가열 장치의 흡광 효율을 향상시킬 수 있다.
Description
본 발명은 열효율을 향상시킨 흡광 장치, 흡광 장치를 이용한 정착 유닛 및 화상 형성 장치에 관한 것이다.
흡광 장치는, 광원에서 방출되는 광을 흡수하는 장치로, 흡수된 광에너지를 이용하여 가열하는 장치로 사용될 수 있다. 이러한 흡광 장치는, 예를 들어 전자사진방식의 화상 형성 장치의 정착 유닛 등에 사용되고 있다.
전자 사진 방식의 화상 형성 장치는, 감광체 드럼을 거의 균일하게 대전시킨 후, 상기 감광체 드럼을 광주사장치(laser scanning unit; LSU) 등으로 노광하여 화상 신호에 따른 정전잠상(electrostatic latent image)을 형성한 후, 현상기에 의해 대전된 토너를 상기 감광체 드럼 상에 공급하여 토너상(toner image)을 형성하고, 상기 토너상을 기록매체에 전사한다. 기록매체에 전사된 토너상은, 상기 기록매체 상에 담지(擔持)되어 있을 뿐이며 고정되어 있지 않기 때문에, 화상 형성 장치에 구비된 정착 유닛으로 상기 토너상을 가열 가압함으로써, 토너상을 열용융 정착시켜 기록매체 상에 고정된 화상을 형성한다. 예를 들어, 롤러 방식의 정착 유닛에 의하면, 가열롤러와 가압롤러가 서로 압접되어 형성된 닙부에 토너상을 담지하는 기록매체를 반송시킴으로써, 기록매체 위의 토너상이 가열롤러의 열에 의해 가열됨과 동시에, 가열롤러와 가압롤러의 압접에 의해 가압되어 기록매체에 정착된다. 여기서, 가열롤러는, 할로겐 램프(즉, 열원)에 의해 가열되는 통 형상의 금속제 롤러로, 흡광 장치의 일례이다.
본 발명의 실시예들에서는, 열효율을 향상시킨 흡광 장치, 흡광 장치를 이용한 정착 유닛 및 화상 형성 장치를 제공한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 흡광 장치는 광원에서 방출되는 광을 흡수하는 것으로, 나노-로드가 분산된 복수의 유전체층이 구비된 흡광 소자를 포함한다.
여기서 나노-로드는 Ag, Au, Pt, Pd, Fe, Ni, Al, Sb, W, Tb, Dy, Gd, Eu, Nd, Pr, Sr, Mg, Cu, Zn, Co, Mn, Cr, V, Mo, Zr, Ba 중 적어도 하나의 금속을 포함할 수 있다.
일례로, 복수의 유전체층은, 나노-로드가 분산된 제1유전체층; 및 제1유전체층 상에 형성되며 나노-로드가 분산된 제2유전체층;을 포함할 수 있다. 이때, 제1유전체층에 분산된 나노-로드와 제2유전체층에 분산된 나노-로드는 실질적으로 같은 종횡비를 가질 수 있다. 또한, 제1유전체층의 유전상수와 제2유전체층의 유전상수는 서로 다를 수 있다.
다른 예로, 나노-로드는 제1 및 제2 유전체층 사이의 경계면에 분산되어 있을 수 있다.
또한, 본 발명의 다른 실시예에 따른 흡광 장치는 흡광 소자에 광을 조명하는 광원을 더 포함할 수 있다. 이때, 광원은 다파장의 광을 방출할 수 있다. 또한, 제1유전체층의 유전상수와 상기 제2유전체층의 유전상수는, 상기 나노-로드의 흡수 스펙트럼의 피크 파장이 상기 광원에서 방출되는 광의 파장 영역대에 속하도록 설정될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 정착 유닛은 광원과; 광원에서 방출된 광을 흡수하여 기록매체에 토너화상을 융착시키는 열을 발생하는 것으로, 나노-로드가 분산된 복수의 유전체층을 포함하는 광흡수층을 구비하는 가열부재와; 가열부재와 대면되어 정착닙을 형성하는 가압부재;를 포함할 수 있다.
가열부재는 롤러 또는 벨트 타입일 수 있다.
광원은 가열부재의 외부에 배치되며, 광흡수층은 가열부재의 외주면에 마련될 수 있다. 또는, 광원은 가열부재의 내부에 배치되며, 광흡수층은 가열부재의 내주면에 마련될 수도 있다.
가열부재는, 광원의 적어도 일부를 둘러싸고 광원에서 방출되는 광을 흡수하여 생성된 열을 상기 가열부재에 전달하는 열가이드 부재를 포함하며, 광흡수층은 광가이드부재의 상기 광원에 대면되는 면에 마련될 수도 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 화상 형성 장치는 전자사진방식에 의해 기록매체에 토너화상을 전사시키는 인쇄 유닛과; 전술한 정착 유닛;을 포함할 수 있다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하면서 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 그러나 아래에 예시되는 실시예는 본 발명의 범위를 한정하는 것이 아니며, 본 발명을 이 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 충분히 설명하기 위해 제공되는 것이다. 이하의 도면들에서 동일한 참조부호는 동일한 구성요소를 지칭하며, 도면상에서 각 구성요소의 크기는 설명의 명료성과 편의상 과장되어 있을 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 흡광 장치의 개략적인 구성을 도시하는 구성도이다.
도 1을 참조하면, 본 실시예의 흡광 장치는 흡광 소자(100)와 광원(180)을 포함한다.
흡광 소자(100)는 기판(150)과 기판 위에 마련된 광흡수층(110)을 포함한다. 기판(150)은 광흡수층(110)이 도포된 층으로, 피가열체가 될 수도 있고, 열을 전달하는 부재가 될 수도 있다. 광흡수층(110)은 입사되는 광(L)의 에너지를 흡수하여, 열 에너지로 변환하는 층으로, 다수의 나노-로드(140)가 각각 분산된 제1 및 제2 유전체층(120, 130)을 포함한다. 광흡수층(110)은 기판(130) 상에 형성될 수 있다.
광원(180)은 복수의 유전체층(110)에 광(L)을 조사하는 것으로서, 예를 들어 할로겐 램프와 같은 다파장 광원이 채용될 수 있다.
나노-로드는 나노 사이즈의 막대로, 수 nm 내지 수백 nm의 크기를 가질 수 있다. 표면 플라즈몬 공진 현상은, 양의 유전 특성을 갖는 통상의 유전물질과 음의 유전특성을 갖는 물질이 접촉시, 그 경계면에서 발생된다는 것이 알려져 있다. 이러한 표면 플라즈몬 공진 현상은, 특히 음 유전(negative dielectric) 특성이 큰 금속에 잘 알어난다는 것이 알려져 있다. 본 실시예에 사용되는 나노-로드는 이러한 표면 플라즈몬 공진 현상을 갖는 금속으로 형성된다. 예를 들어 나노-로드는 Ag, Au, Pt, Pd, Fe, Ni, Al, Sb, W, Tb, Dy, Gd, Eu, Nd, Pr, Sr, Mg, Cu, Zn, Co, Mn, Cr, V, Mo, Zr, Ba 중 어느 하나의 금속이거나 이들 금속들의 혼합물로 형성될 수 있다. 이러한 금속 나노-로드에 대한 표면 플라즈몬 공진 현상은 당해 분 야에 이미 잘 알려져 있으므로, 이에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.
나노-로드에 표면 플라즈몬 공진 현상이 발생하면, 나노-로드에 입사되는 광의 반사나 산란은 억제되고, 나노-로드의 광에너지 흡수율이 피크를 이루게 되며, 이에 따라 광-열 에너지 변환(photothermal energy conversion)이 효율적으로 이루어지게 된다. 이러한 나노-로드는, 기본적으로 종횡비에 따라 표면 플라즈몬 공진 현상을 일으키는 광의 파장이 달라지며, 또한 나노-로드의 종회비가 같더라도 나노-로드 주위 매질의 유전상수가 달라지면 공진을 일으키는 광의 파장이 변하게 된다. 도 2는 종횡비가 일정한 나노-로드가 분산된 유전체층들의 유전상수를 달리함으로써, 나노-로드의 광에너지 흡수율이 최대가 되는 파장이 달라지는 것을 보여준다.
다시 도 1을 참조하면, 광흡수층(110)은 입사되는 광(L)의 에너지를 흡수하여, 열 에너지로 변환하는 층으로, 다수의 나노-로드(140)가 분산되어 있다. 광흡수층(110)을 구성하는 제1 및 제2 유전체층(120, 130)은 서로 다른 유전상수를 가지고 있다. 본 실시예의 광원(180)으로 채용될 수 있는 할로겐 램프의 경우, 방출되는 광의 파장대가 다소 넓은 편이다. 따라서, 나노-로드(140)의 흡수 스펙트럼의 피크 파장이 할로겐 램프에서 방출되는 광의 파장대에 속할 수 있도록, 나노-로드(140)가 분산된 제1 및 제2 유전체층(120, 130)의 유전상수를 변경하여, 광에너지 흡수율을 효과적으로 높일 수 있다.
도 3은 본 실시예에 사용된 광흡수층(도 1의 110)에 할로겐 램프를 조사한 경우에 대한 각 파장대의 광 흡수율을 나타내는 그래프이다. 도 3에서 곡선 A는 광 흡수층(110)에 흡수되는 광의 파장대별 흡수도를 나타내며, 곡선 B는 조명되는 할로겐 램프의 파장대별 광세기를 나타낸다. 광흡수층(110)의 재질은, 제1 유전체층(120)이 유리이며, 제2 유전체층(130)이 플린트 유리(Flint Glass, 납70%)이고, 이때 유전상수는 각각 1.5와 1.8이다. 상기 광흡수층(110)에 분산된 나노-로드(140)는, 재질이 금(Au)이며, 크기는 지름 10nm이고 길이 50nm 인 원기둥 형상이다. 그리고, 제1 및 제2 유전체층(120, 130)의 단위 mm2 당 분산된 나노-로드(140)의 개수는 1.5×108 다. 도3을 참조하면, 파장 950nm 부근의 첫번째 피크는 상기 본 실시예에서 사용한 나노-로드(140)와 제1 유전체층(120)의 조합에 해당하는 피크이며, 파장 약 1100nm 부근의 두번째 피크는 상기 본 실시예에서 사용한 나노-로드(140)와 제2유전체층(130)의 조합에 해당하는 피크이다. 이와 같이 두개의 피크를 할로겐 램프의 파장 스펙트럼 내에 위치시킴으로써 광 흡수율을 높일 수 있다.
본 실시예는 광흡수층(110)이 2개의 유전체층(120, 130)으로 구성된 경우를 예로 들어 설명하고 있으나, 이에 한정되는 것은 아니고, 광흡수층(110)은 3개 이상의 유전체층으로 구성될 수도 있다. 이와 같이 3개 이상의 유전체층으로 광흡수층(110)이 구성되는 경우에도, 흡수되는 광에너지의 피크 피장을 광원(180)의 파장 스펙트럼 내에 위치하도록 각 유전체층의 유전상수를 조절함으로써, 광흡수율을 높일 수 있다.
본 실시예는, 제1 및 제2 유전체층(120, 130)의 유전상수를 변경하여 광에너지 흡수율이 최대가 되는 파장을 조절하기에, 제1 유전체층(120)에 분산되는 나노- 로드(140)의 종횡비와 제2 유전체층(130)에 분산되는 나노-로드(140의 종횡비는 실질적으로 같을 수 있다. 여기서, 나노-로드(140)의 종횡비가 실질적으로 같다는 의미는, 제조 공정상의 오차범위내에서 서로 같다는 의미로서, 동일한 공정조건하에서 제조될 수 있는 나노-로드(140)는 실질적으로 같은 종횡비를 가진다고 볼 수 있다. 본 실시예는 나노-로드(140)의 종횡비가 실질적으로 같은 경우를 예로 들어 설명하고 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 서로 다른 종횡비를 갖는 나노-로드가 함께 제1 및 제2 유전체층(120, 130)에 분산되어 있을 수 있으며, 이 경우라도 제1 및 제2 유전체층(120, 130)의 유전상수를 적절히 변경함으로써, 광에너지 흡수율이 최대가 되는 파장을 조절할 수 있다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 흡광장치를 도시한다. 도 4를 참조하면, 본 실시예의 흡광 장치(200)는 기판(250)과, 기판(250)에 마련된 광흡수층(210)을 포함하며, 광흡수층(210)은 제1 및 제2 유전체층(220, 230)과 상기 제1 및 제2 유전체층(220, 230)의 경계면에 분산된 나노-로드(240)를 포함한다. 본 변형예는 나노-로드(240)가 분산된 위치가 다르다는 점을 제외하고는 전술한 실시예와 실질적으로 동일하므로 중복되는 구성요소에 대한 설명은 생략하기로 한다.
전술한 바와 같이 나노-로드(240)의 주위의 매질의 유전상수에 따라 흡수되는 광에너지의 피크 파장이 달라질 수 있다. 따라서 본 실시예와 같이 나노-로드(240)가 제1 및 제2 유전체층(220, 230)의 경계면에 위치하더라도, 제1 및 제2 유전체층(220, 230)의 유전상수를 조절함으로써, 흡수되는 광에너지의 피크 파장을 조절할 수 있다.
본 실시예는, 2층 구조의 광흡수층(210)을 예로 들어 설명하고 있으나, 3층 이상의 유전체층으로 광흡수층(210)이 이루어질 수도 있다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 정착 유닛을 보여준다.
도 5를 참조하면, 본 실시예의 정착 유닛(300)은 가열 롤러(310), 가압 롤러(370) 및 광원(380)을 포함한다.
가열 롤러(310)는 일방향으로 축 회전 가능한 원주 형상의 부재로서, 내부관(320)과, 탄성층(330)과, 광흡수층(340)을 포함한다.
상기 내부관(320)은 가열 롤러(310)의 외형을 지지하며, 회전축이 되는 것으로, 예를 들어 철이나 강, 스테인레스강, 알루미늄, 동 등의 금속 및 합금, 세라믹스, FRM등으로 된 코어파이프가 채용될 수 있다. 이러한 내부관(320)은 일례이고 본 실시예를 제한하지 않는다. 가령, 상기 내부관(320)을 대신하여 봉 형상의 샤프트가 사용될 수도 있다.
상기 내부관(320)의 외주면에는 탄성층(330)이 마련되어 있다. 이러한 탄성층(330)의 재료로는 실리콘고무, 불소고무 등이 사용될 수 있다. 실리콘고무는 RTV 실리콘고무, HTV실리콘고무 등을 사용할 수 있으며, 구체적으로는 폴리 디메틸 실리콘고무, 메탈 비닐 실리콘 고무, 메탈 페닐 실리콘고무, 플루오르 실리콘고무 등을 사용할 수 있다.
상기 광흡수층(340)은 다수의 나노-로드가 분산되어 있는 복수의 유전체층(341, 342)으로 구성되어 있다. 도 5에는 2층 구조의 유전체층(341, 342)이 도시되어 있으나, 3층 이상의 유전체층으로 이루어질 수도 있다. 전술한 바와 같이, 나 노-로드는 입사되는 광에 대해 표면 플라즈몬 공진 현상을 갖는 것으로서, 이러한 표면 플라즈몬 공진 현상에 의해 광-열 에너지 변환(photothermal energy conversion)이 효율적으로 이루어지게 된다. 이러한 광흡수층(340)은 도 1을 참조하여 설명한 광흡수층(110)이나 도 4를 참조하여 설명한 광흡수층(210)과 실질적으로 동일하므로, 중복적인 설명은 생략하기로 한다.
상기 광흡수층(340)의 외주면에는 불소고무, 실리콘고무, 불소수지와 같은 이형성 수지로 된 이형층(미도시)이 더 마련될 수 있다. 이와 같이 이형층은, 정착 과정에서 기록매체(P)가 가열 롤러(310)로부터 용이하게 분리될 수 있도록 한다. 광흡수층(340)의 최외곽 유전체층으로 이형성 특성을 지닌 유전체 물질을 사용할 수도 있다.
가압 롤러(370)은 일방향으로 축 회전 가능한 원주 형상의 부재로서, 금속제의 심재(芯材)(371)에 실리콘 고무 등의 내열 탄성층(373)이 둘러싸인 구조로 이루어진다. 상기 가압 롤러(370)와 가열 롤러 (310) 사이에는 정착닙부가 형성된다. 가령 롤러(310)에서 제공되는 열과 가압 롤러(310)와 가열 롤러 (260) 사이의 압력은, 정착닙부를 지나는 기록매체(P)에 형성된 토너 화상(T)이 기록매체(P)에 고정될 수 있도록 한다.
광원(380)은 복사열을 방출하는 것으로서, 예를 들어 할로겐 램프가 채용될 수 있다. 참조번호 390은 광원(380)에서 방출되는 광을 가열 롤러(310)쪽으로 집광시키는 반사 부재이다.
상기 광원(380)은 가열 롤러(310)의 바깥에 위치하여, 가열 롤러(310)의 외 주면에 직접 복사열을 조사한다. 가열 롤러(310)의 외주면에 직접 복사열을 조사하고, 나아가 가열 롤러(310)의 외주면에 광흡수층(320)을 마련함으로써, 가열 롤러(310) 표면의 온도를 보다 빠르게 상승시킬 수 있다. 이와 같이 가열 롤러(310)의 표면 온도를 예를 들어 180 내지 200도의 정착 온도까지 빠른 시간안에 상승시킴으로써, 인쇄과정에서 첫 인쇄매체가 출력되는 시간(First Page Out Time; FPOT)를 단축시킬 수 있으며, 나아가 인쇄속도를 향상시킬 수 있다.
할로겐 램프의 경우, 방출되는 광의 파장대가 다소 넓은 편이다. 따라서, 나노-로드의 흡수 스펙트럼의 피크 파장이 전술한 바와 같이 할로겐 램프에서 방출되는 광의 파장대에 속할 수 있도록, 나노-로드가 분산된 복수의 유전체층의 유전상수를 변경하여, 광에너지 흡수율을 효과적으로 높일 수 있다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 정착 유닛을 보여준다.
도 6을 참조하면, 본 실시예의 정착 유닛(301)은 가열 롤러(311), 가압 롤러(370) 및 광원(380)을 포함한다. 도 5를 참조하여 전술한 실시예와 실질적으로 동일한 구성요소에는 동일한 참조부호를 붙이고, 그에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.
상기 광원(380)은 가열 롤러(311)의 내부에 장착된다. 이를 위해 가열 롤러(311)의 내부관(320)은 관상의 코어파이프가 채용된다. 한편, 광원(380)이 내부관(320) 내부에 장착되므로, 광흡수층(350)은 내부관(320)의 내주면에 마련되어, 광원(380)에서 방출된 광을 직접적으로 흡수할 수 있도록 한다. 한편, 상기 가열 롤러(301)의 외주면에는 이형층(360)이 마련될 수 있다.
상기 광흡수층(350)은 다수의 나노-로드가 분산되어 있는 복수의 유전체층(351, 352)으로 구성되어 있다. 도 6에는 2층 구조의 유전체층(351, 352)이 도시되어 있으나, 3층 이상의 유전체층으로 이루어질 수도 있다. 이러한 광흡수층(350)은 도 1을 참조하여 설명한 광흡수층(110)이나 도 4를 참조하여 설명한 광흡수층(210)과 실질적으로 동일하므로, 중복적인 설명은 생략하기로 한다.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 정착 유닛을 보여준다.
도 7을 참조하면, 본 실시예의 정착 유닛(302)은 가열 롤러(312), 가압 롤러(370) 및 광원(380)을 포함한다. 본 실시예의 정착 유닛(302)은, 가열 롤러(312) 내부에 광원(380)의 일부를 감싸는 열가이드 부재(370)를 포함하며 가열 롤러(312)의 내주면에 광흡수층이 빠져 있다는 점을 제외하고는, 도 6을 참조하여 전술한 실시예와 실질적으로 동일하다.
상기 열 가이드 부재(370)는 지지대(371)와 상기 지지대(371)의 광원(380)에 대면되는 면에 마련된 광흡수층(372)을 포함한다. 상기 광흡수층(372)은 다수의 나노-로드가 분산되어 복수의 유전체층(373, 374)을 포함한다. 이러한 광흡수층(372)은 도 1을 참조하여 설명한 광흡수층(110)이나 도 4를 참조하여 설명한 광흡수층(210)과 실질적으로 동일하므로, 중복적인 설명은 생략하기로 한다. 상기 지지대(371)는 광흡수층(372)에서 흡수된 광에너지, 즉 열을 전달하기 위해서 열도전성이 좋은 금속과 같은 물질로 형성할 수 있다. 상기 광가이드 부재(370)의 일 끝단은 가열 롤러(312)의 내주면에 맞닿아 있어, 광원(380)으로부터 열을 전달한다. 광가이드 부재(370)와 가열 롤러(312)의 내주면이 맞닿은 위치는 정착닙부가 형성되 는 근방일 수 있다.
상기 광가이드 부재(370)는 광원(380)의 전부 또는 일부를 감쌀 수 있다. 본 실시예는, 기록매체(P)가 진입하는 상류측 부위의 내측이 광원(380)에 의해 직접적으로 가열될 수 있도록, 상기 광가이드 부재(370)가 광원(380)의 기록매체(P)가 진입하는 상류측 쪽이 오픈되어 있다. 이와 같이 가열 롤러(312)의 기록매체(P)가 진입하는 상류측 부위는 광원(380)의 직접적 조사에 의해 예비적으로 가열되고, 가열 롤러(360)의 정착 닙부 근방은 광가이드 부재(370)에 의해 집중적으로 가열됨으로써, 열효율을 향상시킬 수 있다.
본 실시예에서 가열 롤러(312)의 내주면에는 광흡수층이 마련되지 않고 있으나, 광흡수층을 추가적으로 마련하여 흡광 효율을 더욱 향상시킬 수도 있다.
도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 정착 유닛을 보여준다.
본 실시예의 정착 유닛(400)은 가열 벨트(410), 가압 롤러(470) 및 광원(480)을 포함한다. 전술한 실시예들에서는 가열 부재로 가열 롤러가 채용된 경우를 설명하고 있으나, 본 실시예는 가열 벨트(410)를 가열 부재로 채용하고 있다.
가압 롤러(470) 및 광원(480)은 도 5 내지 도 7을 참조하여 전술한 실시예의 정착장치의 대응되는 구성요소와 실질적으로 동일하므로, 상세한 설명은 생략하기로 한다.
가열 벨트(410)는 길이 방향이 기록매체(P)의 폭보다 길며, 외력을 받지 않은 상태에서 대략 원통 형상의 얇은 두께를 갖는 부재이다. 상기 가열 벨트(410)의 내부에는 구동 롤러(451)와 가이드 롤러(452)가 마련되어 있으며, 가열 벨트(410) 의 외부에는 핀치 롤러(461, 462)가 마련되어 있다. 상기 구동 롤러(451) 및 가이드 롤러(452)는 각각 핀치롤러(461, 462)와 함께 가열 벨트(410)를 협지하고 있다.
상기 가열 벨트(410)는, 예컨대, 수십㎛~150㎛ 정도의 두께를 가진 금속 또는 내열 수지 필름으로 이루어진 기층(基層)(420) 내주면에 광흡수층(430)이 마련되어 있다. 상기 광흡수층(430)은 다수의 나노-로드가 분산되어 복수의 유전체층(431, 432)을 포함한다. 이러한 광흡수층(430)은 도 1을 참조하여 설명한 광흡수층(110)이나 도 4를 참조하여 설명한 광흡수층(210)과 실질적으로 동일하므로, 중복적인 설명은 생략하기로 한다. 상기 기주(420) 외주면에는, 실리콘 등의 내열 고무로 이루어진 탄성층(미도시)을 추가적으로 적층시킬 수 있다. 나아가, 상기 탄성층의 표면에 테프론 등으로 형성되는 이형층을 더 적층시킬 수도 있다.
가열 벨트(410)는, 내측면이 구동 롤러(451)에 마찰 접촉되어 있고, 축 방향으로 회전하는 구동 롤러(451)에 종동하여 둘레 방향으로 이동된다. 또한, 가이드 롤러(452)(상류측의 지지부재)는 둘레 방향 이동에 대한 저항을 가열 벨트(410)에 부여하기 있기 때문에, 가열 벨트(410)의 정착닙부 근방은 인장 상태로 가설되어 있다.
정착 유닛(400)은 반사부재(480)를 더 포함할 수 있다. 상기 반사부재(480)는 광원(480)에 방출된 광, 즉 복사열이 가열 벨트(410)의 정착닙부 근방에 집중될 수 있도록 한다.
본 실시예는 광원(480)이 가열 벨트(410) 안쪽에 마련된 경우를 설명하고 있으나, 도 5를 참조하여 전술한 실시예와 유사하게, 광원(480)이 가열 벨트(410)의 바깥쪽에 설치될 수도 있다. 이 경우, 광흡수층은 가열 벨트(410)의 외주면에 마련될 것이다. 또한, 본 실시예는 반사부재(410)를 구비한 경우를 예로 들어 설명하고 있으나, 도 7에서 전술한 실시예와 같이 광가이드 부재를 마련할 수도 있다.
도 9는 전술한 실시예들에 따른 정착 유닛을 이용한 화상 형성 장치의 일 실시예를 도시한다.
도 9를 참조하면, 본 실시예의 화상 형성 장치(500)는, 광 주사 유닛(510), 현상 유닛(520), 감광 드럼(530), 대전 롤러(531), 중간 전사 벨트(540), 전사 롤러(545) 및 정착 유닛(550)을 포함할 수 있다. 여기서, 정착 유닛(550)으로는, 도 5 내지 도 8을 참조하여 전술한 정착 유닛이 사용될 수 있다.
광 주사 유닛(510)은 화상정보에 따라 변조된 광을 감광 드럼(530)에 주사하는 장치이다. 감광 드럼(530)은 감광체의 일 예로서, 원통형 금속 파이프의 외주면에 소정 두께의 감광층이 형성된 것이다. 감광 드럼(530)의 외주면은 광 주사 유닛(530)에서 주사되는 광이 결상되는 피주사면에 해당된다. 감광체로서, 벨트 형태의 감광 벨트가 적용될 수도 있다. 현상 유닛(520) 내부에는 토너가 수용된다. 토너는 현상 유닛(520)과 감광 드럼(530) 사이에 인가되는 현상 바이어스에 의하여 감광 드럼(530)으로 이동되어, 정전 잠상을 가시적인 토너 화상으로 현상시킨다. 칼라화상을 인쇄하기 위하여, 광 주사 유닛(510), 현상 유닛(520) 및 감광 드럼(530)은 각 칼라별로 마련될 수 있다. 광 주사 유닛(510)은 4개의 광을 4개의 감광 드럼(520)에 각각 주사한다. 4개의 감광 드럼(520)에는 각각 흑색(K), 마젠타(M), 엘로우(Y), 시안(C) 색상의 화상정보에 대응되는 정전 잠상이 형성된다. 4 개의 현상 유닛(500)은 각각 흑색(K), 마젠타(M), 엘로우(Y), 시안(C)의 색상의 토너를 감광 드럼(530)에 공급하여 흑색(K), 마젠타(M), 엘로우(Y), 시안(C)의 색상의 토너화상을 형성시킨다. 대전 롤러(531)는 감광 드럼(530)에 접촉되어 회전되면서 그 표면을 균일한 전위로 대전시키는 대전기의 일 예이다. 대전 롤러(531)에는 대전 바이어스(Vc)가 인가된다. 대전 롤러(531) 대신에 코로나 대전기(미도시)가 사용될 수도 있다.
감광 드럼들(530)에 형성된 흑색(K), 마젠타(M), 엘로우(Y), 시안(C)의 색상의 토너 화상은 중간 전사 벨트(540)로 전사된다. 토너 화상은 전사 롤러(545)에 인가되는 전사 바이어스에 의하여 전사 롤러(545)와 중간 전사 벨트(540) 사이로 이송되는 기록매체(P)로 전사된다. 기록매체(P)로 전사된 토너 화상은 정착 유닛(550)로부터 열과 압력을 받아 기록매체(P)에 정착됨으로써 화상 형성이 완료된다.
이와 같은 화상 형성 장치에 있어서, 본 실시예들에 따른 흡광 장치를 정착 유닛에 이용함으로써 열효율을 향상시키고, 나아가 빠르게 승온시킴으로써 FPOT를 줄이고, 인쇄속도를 향상시킬 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 흡광 장치는 정착 장치외에도 복사열을 열원으로 삼는 다양한 기구에 사용될 수 있다. 가령, 복사열을 이용한 난방장치에 사용될 수 있다. 그밖에, 나노-로드를 포함된 표식자에 광을 집중 조명함으로써 열을 국소적으로 가열할 수 있는 장치에도 적용될 수 있다. 이러한 국소적 가열 장치로, 인쇄회로기판에 전자부품을 실장하는 장치부터 인체 내부의 종양에 표식자를 심어 국소적 으로 열을 가함으로써 종양을 파괴하는 치료기기에 이르기까지 다양한 분야에 적용될 수 있을 것이다.
전술한 본 발명인 흡광 장치, 흡광 장치를 이용한 정착 유닛 및 화상 형성 장치는 이해를 돕기 위하여 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 분야에서 통상적 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 의해 정해져야 할 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 흡광 장치의 개략적인 구성을 도시하는 구성도이다.
도 2는 나노-로드가 분산된 유전체층의 유전상수를 달리함으로써, 나노-로드의 광에너지 흡수율이 최대가 되는 파장이 달라지는 것을 보여주는 그래프이다.
도 3 본 실시예에 사용된 복수의 유전체층에 할로겐 램프를 조사한 경우에 대한 각 파장대의 광 흡수율을 나타내는 그래프이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 흡광 장치의 개략적인 구성을 도시하는 구성도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 정착 유닛을 개략적으로 도시한 도면이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 정착 유닛을 개략적으로 도시한 도면이다.
도 7은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 정착 유닛을 개략적으로 도시한 도면이다.
도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 정착 유닛을 개략적으로 도시한 도면이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 화상 형성 장치의 개략적인 구성을 도시하는 구성도이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
100, 200...흡광 소자
110, 210, 340, 350, 357, 430...광흡수층
120, 130, 220, 230...유전체층 140, 240...나노-로드
180, 380, 480...광원 300, 301, 302, 400...정착 유닛
310, 311, 312...가열 롤러 310...내부관
320...탄성층 370, 470...가압 롤러
355...광가이드 부재 500...화상 형성 장치
510...광 주사 유닛 520...현상 유닛
530...감광 드럼 540...중간 전사 벨트
550...정착 유닛 560...가열 롤러
Claims (22)
- 광원에서 방출되는 광을 흡수하는 것으로, 나노-로드가 분산된 복수의 유전체층이 구비된 흡광 소자를 포함하는 흡광 장치.
- 제1 항에 있어서,상기 나노-로드는 Ag, Au, Pt, Pd, Fe, Ni, Al, Sb, W, Tb, Dy, Gd, Eu, Nd, Pr, Sr, Mg, Cu, Zn, Co, Mn, Cr, V, Mo, Zr, Ba 중 적어도 하나의 금속을 포함하는 흡광 장치.
- 제1 항에 있어서,상기 복수의 유전체층은,나노-로드가 분산된 제1유전체층; 및상기 제1유전체층 상에 형성되며 나노-로드가 분산된 제2유전체층;을 포함하는 흡광 장치.
- 제3 항에 있어서,상기 제1유전체층에 분산된 나노-로드와 상기 제2유전체층에 분산된 나노-로드는 실질적으로 같은 종횡비를 갖는 흡광 장치.
- 제3 항에 있어서,상기 제1유전체층의 유전상수와 상기 제2유전체층의 유전상수는 서로 다른 흡광 장치.
- 제1 항에 있어서,상기 복수의 유전체층은 서로 다른 유전상수를 갖는 제1 및 제2 유전체층을 포함하며,상기 나노-로드는 상기 제1 및 제2 유전체층 사이의 경계면에 분산된 흡광 장치.
- 제3 항 내지 제6 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 흡광 소자에 광을 조명하는 광원을 더 포함하는 포함하는 흡광 장치.
- 제7 항에 있어서,상기 광원은 다파장의 광을 방출하는 흡광 장치.
- 제8 항에 있어서,상기 제1유전체층의 유전상수와 상기 제2유전체층의 유전상수는, 상기 나노-로드의 흡수 스펙트럼의 피크 파장이 상기 광원에서 방출되는 광의 파장 영역대에 속하도록 설정되는 흡광 장치.
- 광원과;상기 광원에서 방출된 광을 흡수하여 기록매체에 토너화상을 융착시키는 열을 발생하는 것으로, 나노-로드가 분산된 복수의 유전체층을 포함하는 광흡수층을 구비하는 가열부재와;상기 가열부재와 대면되어 정착닙을 형성하는 가압부재;를 포함하는 정착 유닛.
- 제10 항에 있어서,상기 나노-로드는 Ag, Au, Pt, Pd, Fe, Ni, Al, Sb, W, Tb, Dy, Gd, Eu, Nd, Pr, Sr, Mg, Cu, Zn, Co, Mn, Cr, V, Mo, Zr, Ba 중 적어도 하나의 금속을 포함하는 정착 유닛.
- 제10 항에 있어서,상기 복수의 유전체층은나노-로드가 분산된 제1유전체층; 및상기 제1유전체층 상에 형성되며 나노-로드가 분산된 제2유전체층;을 포함하는 정착 유닛.
- 제12 항에 있어서,상기 제1유전체층에 분산된 나노-로드와 상기 제2유전체층에 분산된 나노-로드는 실질적으로 같은 종횡비를 갖는 정착 유닛.
- 제12 항에 있어서,상기 제1유전체층의 유전상수와 상기 제2유전체층의 유전상수는 서로 다른 정착 유닛.
- 제12 항에 있어서,상기 광원은 다파장의 광을 방출하는 정착 유닛.
- 제15 항에 있어서,상기 제1유전체층의 유전상수와 상기 제2유전체층의 유전상수는, 상기 나노-로드의 흡수 스펙트럼의 피크 파장이 상기 광원에서 방출되는 광의 파장 영역대에 속하도록 설정되는 정착 유닛.
- 제10 항에 있어서,상기 복수의 유전체층은 서로 다른 유전상수를 갖는 제1 및 제2 유전체층을 포함하며,상기 나노-로드는, 상기 제1 및 제2 유전체층 사이의 경계면에 분산된 정착 유닛.
- 제10 항에 있어서,상기 가열부재는 롤러 또는 벨트 타입인 정착 유닛.
- 제10 항에 있어서,상기 광원은 상기 가열부재의 외부에 배치되며,상기 광흡수층은 상기 가열부재의 외주면에 마련된 정착 유닛.
- 제10 항에 있어서,상기 광원은 상기 가열부재의 내부에 배치되며,상기 광흡수층은 상기 가열부재의 내주면에 마련된 정착 유닛.
- 제10 항에 있어서,상기 가열부재는, 상기 광원의 적어도 일부를 둘러싸고 상기 광원에서 방출되는 광을 흡수하여 생성된 열을 상기 가열부재에 전달하는 열가이드 부재를 포함하며,상기 광흡수층은 상기 광가이드부재의 상기 광원에 대면되는 면에 마련된 정착 유닛.
- 전자사진방식에 의해 기록매체에 토너화상을 전사시키는 인쇄 유닛과;제10 항 내지 제21 항 중 어느 한 항에 따른 정착 유닛;을 포함하는 화상 형성 장치.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020080108470A KR20100049351A (ko) | 2008-11-03 | 2008-11-03 | 흡광 장치, 흡광 장치를 이용한 정착 유닛 및 화상 형성 장치 |
| US12/604,105 US8045910B2 (en) | 2008-11-03 | 2009-10-22 | Light absorption device, fixing unit comprising the light absorption device and image forming apparatus comprising the fixing unit |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020080108470A KR20100049351A (ko) | 2008-11-03 | 2008-11-03 | 흡광 장치, 흡광 장치를 이용한 정착 유닛 및 화상 형성 장치 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20100049351A true KR20100049351A (ko) | 2010-05-12 |
Family
ID=42131559
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020080108470A KR20100049351A (ko) | 2008-11-03 | 2008-11-03 | 흡광 장치, 흡광 장치를 이용한 정착 유닛 및 화상 형성 장치 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8045910B2 (ko) |
| KR (1) | KR20100049351A (ko) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20100019223A (ko) * | 2008-08-08 | 2010-02-18 | 삼성전자주식회사 | 흡광 코팅 부재, 가열 장치, 정착 유닛 및 정착 유닛을 이용한 화상 형성 장치 |
| KR20100060278A (ko) * | 2008-11-27 | 2010-06-07 | 삼성전자주식회사 | 흡광 장치, 흡광 장치를 이용한 정착 유닛 및 화상 형성 장치 |
| JP5608177B2 (ja) * | 2009-02-10 | 2014-10-15 | オセ−テクノロジーズ ビーブイ | 記録材料を媒体に融合する方法及び機器 |
| JP2011059473A (ja) * | 2009-09-11 | 2011-03-24 | Konica Minolta Business Technologies Inc | 定着装置およびそれを備えた画像形成装置 |
| JP7024230B2 (ja) * | 2017-07-10 | 2022-02-24 | コニカミノルタ株式会社 | 画像形成方法、画像形成装置及びトナー像定着装置 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4842944A (en) * | 1984-11-07 | 1989-06-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Elastic rotatable member |
| US5055884A (en) | 1989-12-20 | 1991-10-08 | Eastman Kodak Company | Electrostatographic equipment with multiplex fuser |
| US6344272B1 (en) | 1997-03-12 | 2002-02-05 | Wm. Marsh Rice University | Metal nanoshells |
| US20020011475A1 (en) | 1998-05-12 | 2002-01-31 | Satoshi Haneda | Fixing roller member and fixing apparatus |
| JP4348720B2 (ja) | 2002-02-25 | 2009-10-21 | 三菱マテリアル株式会社 | 光学フィルターとその製造方法 |
| JP4348719B2 (ja) | 2002-12-17 | 2009-10-21 | 三菱マテリアル株式会社 | 光吸収材とその形成用組成物 |
| JP4521652B2 (ja) | 2002-02-25 | 2010-08-11 | 三菱マテリアル株式会社 | 金属ナノロッド含有組成物およびその用途 |
| US20050007001A1 (en) * | 2003-01-24 | 2005-01-13 | Imholt Timothy James | Process and apparatus for energy storage and release |
| US6838140B1 (en) | 2003-06-13 | 2005-01-04 | Xerox Corporation | Fuser member having platinum catalyzed addition cured silicone layer |
| JP4332610B2 (ja) | 2003-07-15 | 2009-09-16 | 三菱マテリアル株式会社 | 金属ナノロッドおよび金属酸化物粉末を含有する組成物とその用途 |
| JP2005097581A (ja) | 2003-08-25 | 2005-04-14 | Mitsubishi Materials Corp | 短軸が小さい金属ナノロッドとその含有組成物ならびに用途 |
| US20060292360A1 (en) * | 2005-06-28 | 2006-12-28 | Xerox Corporation | Fuser and fixing members and process for making the same |
| JP4795054B2 (ja) * | 2006-02-28 | 2011-10-19 | キヤノン株式会社 | 画像加熱装置 |
| US7629124B2 (en) | 2006-06-30 | 2009-12-08 | Canon U.S. Life Sciences, Inc. | Real-time PCR in micro-channels |
| KR101207303B1 (ko) | 2007-03-06 | 2012-12-03 | 삼성전자주식회사 | 화상형성장치 |
-
2008
- 2008-11-03 KR KR1020080108470A patent/KR20100049351A/ko not_active Application Discontinuation
-
2009
- 2009-10-22 US US12/604,105 patent/US8045910B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20100111580A1 (en) | 2010-05-06 |
| US8045910B2 (en) | 2011-10-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2008033240A (ja) | 画像定着装置と画像形成装置 | |
| US7242896B2 (en) | Fixing device and image forming apparatus | |
| JP4674081B2 (ja) | 定着装置、及び画像形成装置 | |
| JP5031477B2 (ja) | 定着装置 | |
| JP6160227B2 (ja) | 定着装置およびこれを備えた画像形成装置 | |
| US8918041B2 (en) | Fixing device including a belt holder configured to maintain a shape of a fixing belt and image forming apparatus incorporating same | |
| US6345169B1 (en) | Fixing apparatus with heat ray generating device | |
| JP2003223064A (ja) | 定着装置及びこの定着装置を備える画像形成装置 | |
| KR20100049351A (ko) | 흡광 장치, 흡광 장치를 이용한 정착 유닛 및 화상 형성 장치 | |
| JP2003186322A (ja) | 定着装置及び画像形成装置 | |
| JP2004094146A (ja) | 定着装置 | |
| JP2004062053A (ja) | 加熱装置および画像形成装置 | |
| KR20100019223A (ko) | 흡광 코팅 부재, 가열 장치, 정착 유닛 및 정착 유닛을 이용한 화상 형성 장치 | |
| JP2004055395A (ja) | 加熱装置および画像形成装置 | |
| KR20100060278A (ko) | 흡광 장치, 흡광 장치를 이용한 정착 유닛 및 화상 형성 장치 | |
| JP5184604B2 (ja) | 光定着装置および画像形成装置 | |
| JPH07121041A (ja) | 画像形成装置 | |
| JP2010224287A (ja) | 定着装置、定着方法及びそれらを用いる画像形成装置 | |
| JP2010164787A (ja) | 加熱装置 | |
| JP2018041065A (ja) | 定着装置及び画像形成装置 | |
| JP5402434B2 (ja) | 定着装置及び画像形成装置 | |
| CN1278195C (zh) | 定影装置 | |
| JP2024077410A (ja) | 加熱装置、定着装置及び画像形成装置 | |
| JP2001022210A (ja) | 定着装置 | |
| JP2012181560A (ja) | 定着装置及びこの定着装置を備える画像形成装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E601 | Decision to refuse application |