KR20100007217A - 육방정계 질화붕소의 합성 시 마그네슘화합물 첨가를통한 입자성장 제어 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 결정체로 이루어진 육방정계 질화붕소(hexagonal boron nitride, h-BN) 분말의 합성 시 첨가제를 이용하여 육방정계 질화붕소의 입자크기를 제어하여 성장시키는 것에 관한 것으로서,

기존의 탄화연소(carbothermic)법을 사용하여 제조하는 육방정계 질화붕소는 입자의 크기를 성장시키는데 어려움이 있고, 고온과 장시간에도 마이크로단위로 성장하기 어려운 단점이 있었으며, 이러한 단점을 보완하기 위해 활성화 에너지를 증가시킬 수 있는 촉매제를 사용하여 입자의 크기를 성장시키는 방법에 관한 것이다.

이와 같은 방법은, 출발물질로 붕산(B₂O₃)과 탄소(C)을 사용하여 이를 혼합하고, 붕화마그네슘(MgB₆), 염화마그네슘(MgCl₂), 마그네슘 금속분말, 산화마그네슘(MgO) 등 마그네슘화합물을 첨가하여 질소(N₂) 분위기하에서 탄화 연소법으로 합성하였고, 이러한 방법으로 제조된 분말은 기존의 탄화 연소법으로 제조된 육방정계 질화붕소에 비하여 큰 입자를 갖게 되어 다양한 방면으로 응용이 가능하게 된다.

입방정계질화붕소, 탄화연소법, 붕화마그네슘, 염화마그네슘, 마그네슘 금속분말, 산화마그네슘, 마그네슘계 화합물

Description

육방정계 질화붕소의 합성 시 마그네슘화합물 첨가를 통한 입자성장 제어 방법 {Grain growth control method through Mg compound addition when synthesis of hexagonal born nitride}

본 발명은 육방정계 질화붕소 분말을 탄화연소법(carbothermic)으로 합성시, 육방정계 질화붕소의 입자 성장에 관한 것이며, 보다 구체적으로, 출발물질로 수화물(H₂O)을 제거한 붕산(B₂O₃)과 탄소와 마그네슘계 화합물을 혼합하여 탄화연소 방법으로 합성한 육방정계 질화붕소 분말의 입자성장과 관련된 것이다.

육방정계 질화붕소는 백색 그라파이트(white graphite)로 불리우며 윤활성이 좋고, 내열성, 기계적 특성이 우수하여 연마재, 디스플레이 방열판, 화장품, 반도체 방열판, 이형제, 윤활제, 원자력 발전소의 반응도 조절용, 기타 전자부품용 소재 등으로 널리 사용되고, 친환경적 소재로 인정되어 활용도가 높다.

위와 같은 넓은 산업분야에서 사용되고 있는 육방정계 질화붕소는 입자의 크기는 작게는 수백나노에서 크게는 수십 마이크로까지 다양한 입자크기를 필요로 하나, 합성이 어렵고, 설비관리가 어려우며, 합성된 분말 역시 고결정성의 큰 입자가 형성되기 힘든, 고비용의 물질이다.

종래 육방정계 질화붕소의 합성방법에는 자가연소법을 많이 사용하고 있었다. 이 방법은 짧은 시간에 합성이 가능한 장점은 있으나 관리가 필요한 암모니아 가스를 사용하고 장치에 있어 복잡함이 있으며 합성된 시료의 결정형상이 원활하지 못한 단점이 있다. 또한 본 실험에서 사용하고자 하는 탄화연소법은 입자의 결정성을 향상 시킬 수 있으나 입자의 크기에 제한적으로 작용한다.

따라서 본 발명에서는 작은 입자뿐만 아니라 다양한 용도로 사용이 가능할 수 있도록 큰 입자를 제조하기 위해 첨가제 중 폭발성이 있는 마그네슘의 특성을 이용하여 활성화 에너지를 높여 큰 입자를 제조하였다.

육방정계 질화붕소를 제조하기 위해서는 원료에 탄소를 사용하여 그대로 질소 분위기에서 합성하는 과정에서 붕소(B)와 질소(N)의 가스가 반응하는 탄화연소법과 저온에서 암모니아를 사용하여 합성하는 저온합성법, 순간적인 전류를 통해 폭발을 이용하는 자가폭발법 등이 있는데 이 중 저온합성법이 일반적으로 사용되며 저온합성법은 암모니아 가스를 사용하기 때문에 설비가 복잡하고 저온에서 합성을 하게 되나 침전에 벤젠을 사용하는 등 다량의 폐수가 발생하는 단점이 있다. 또한 자가폭발법을 사용한 합성에 있어서는 짧은 시간 연소가 가능하나 입자성장이 어렵고, 설비에 비용이 많이 드는 단점이 있다. 또한 탄화연소법을 사용하게 되면 설비가 간편하나 일정크기 이상 합성되기가 어려우며, 또한 큰 입자를 제조하기 위해서는 고온에 매우 장시간 유지해야하기 때문에 고온을 유지하는데 드는 비용과 분위기를 유지하는데 드는 비용이 과다하게 되는 단점이 있다.

따라서 본 발명에서는 설비가 간편한 탄화연소법을 사용하여 합성할 때 위와 같은 문제점을 해결하기 위해서 출발원료에 마그네슘계 화합물을 첨가함으로써 동일과정에서 첨가제 없이 제조하는 것에 비해 더 짧은 반응시간에 입자크기가 큰 육방정계 질화붕소를 제조하는 것을 기술과제로 하였다.

이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은,

육방정계 질화붕소의 용도 중 윤활제와 화장품용 분말, 육방정계 질화붕소(C-BN)용 분말 등은 요구되는 입자의 크기가 마이크로 수준으로 탄화연소법을 통해 붕산과 탄소만을 사용하여 육방정계 질화붕소를 제조하였을 때의 나노 수준의 입자크기보다 마그네슘을 포함하는 화합물을 첨가하여 합성하였을 때 2~10배 이상의 큰 입자를 제조할 수 있는데,

본 발명을 통해 일반적으로 알려진 탄화연소법으로 제조하는 육방정계 질화붕소에 첨가제의 종류 및 첨가량을 조장하여 다양한 크기의 육방정계 질화붕소 입자를 생성하는 것을 과제해결 수단으로 하였다.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명에서 탄화연소법으로 합성 시 마그네슘계 화합물의 첨가를 통해 육방정계 질화붕소의 입자크기를 성장시켜 다양한 크기의 육방정계 질화붕소를 제조하는 합성법에 관한 것이다. 기존의 탄화연소법으로 합성하는 육방정계 질화붕소는 입자크기의 한계가 있고 충분한 성장을 위해 고온에서 장시간 처리해야하는 단점이 있었으며, 이를 보완하고자 마그네슘계 화합물을 10wt%이하의 양으로 첨가하여 입자크기를 크게 하는데, 첨가제가 없는 동일조건의 물질에 비하여 성장이 2~10배 정도 증가시키는 효과가 있다.

이하 본 발명에서의 실시를 위한 구체적인 내용을 설명하면

(a) 무수붕산과 탄소를 붕산:탄소=1:3에 1~10wt%의 마그네슘 화합물을 혼합하는 공정,

(b) 얻어진 혼합물을 디스크형으로 성형하는 공정,

(c) 얻어진 성형물을 질소 분위기 하에서 1400~1600℃에서 3~10시간 반응시켜 분말로 합성하는 공정,

(d) 합성된 분말에서 불순물을 제거하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 육방정계 질화붕소 탄화연소합성 방법 및 입도 제어 방법을 제공한다.

또한 본 발명에 의하면 상기 혼합물로 제조된 육방정계 질화붕소의 합성물의 순도를 높이기 위한 처리 방법을 제공한다.

이하 본 발명을 보다 상세히 설명하면 다음과 같다.

본 발명에 따르는 육방정계 질화붕소 탄화연소 합성방법에 의하여 붕산과 탄소를 출발물질로 하여 이들을 일정 비율로 혼합한다. 바람직한 혼합비는 몰 비로 붕산:탄소=1~2 : 3이다.

또한 상기 출발물질의 혼합 시에 출발물질의 무게를 100%로 보았을 때 마그네슘 화합물을 1~10wt%로 첨가한다. 이와 같은 물질의 첨가에 의하면 탄화연소법에 의하여 제조되는 육방정계 질화붕소의 입자형상을 조정 할 수 있다.

상기 첨가의 예로는 첨가제로서 붕화마그네슘, 염화마그네슘, 마그네슘 금속분말, 산화마그네슘 등이 있으며 그 바람직한 첨가량은 붕산과 탄소의 혼합물에 대한 중량비로 1~10wt.%이다. 이와 같은 물질의 첨가에 의하면 최종산화물의 입자크기를 2~10배까지 향상시킬 수 있게 된다.

상기한 혼합공정에서 얻어진 혼합물은 (b)공정에 따라 프레스(press)를 이용하여 디스크형으로 제작한다. 바람직한 압력조건은 1kgf/cm²으로 하는 것이다.

상기 성형체를 최종 산화물로 합성한다. 이때의 바람직한 반응조건은 질소분위기하에서 1450~1550℃에서 3~10시간 유지시키는 것이다.

합성을 통해 얻어진 최종산화물은 염산(HCl):증류수(H₂O)를 혼합한 용액에 침전반응(leaching)시켜 불순물을 제거한다.

이하에 실시 예에 의한 본 발명을 구체적으로 설명하는데, 본 발명은 이들의 실시 예에 한정되지 않는 것은 물론이다.

(실시 예 1)

붕산과 탄소를 1:3으로 혼합시켰다. 상기 혼합된 혼합분말을 프레스를 통하여 디스크형으로 성형하였다. 이때 압력은 1kgf/cm²이었다. 얻어진 성형체를 질소 분위기의 분위기로를 사용하여 1550℃에서 10시간동안 반응시켜 생성물을 합성하였다.

합성이 끝난 분말을 염산 대 증류수를 1:1의 부피비로 혼합한 용액에 분말과 용액의 비율을 2:1로 하여 50℃에서 1시간가량 교반하여 불순물을 녹인 후 필터에 걸러 침전시켰다. 이렇게 불순물 중 일부를 걸러낸 후 Air 분위기의 로에 넣고 700℃에서 1시간동안 반응시켜 탄소 및 탄화붕소(B₄C) 등을 제거한 후 90℃가량의 증류수에 1시간가량 교반하여 필터에 걸러 순수한 육방정계 질화붕소를 얻었다.

최종 분말을 입자의 형상과 크기 및 결정상을 확인하기 위하여 입도분석기(particle size analysis)와 미세구조분석기(SEM), 회절분석기(XRD)를 통하여 측정하였고, 각각 입자크기를 표 1에, 본 예의 입자 형상을 도 1에, 결정상을 도 2에 나타내었다.

(실시 예 2)

상기 실시 예 1의 붕_산와 C의 혼합물에 첨가제로 마그네슘계 화합물을 중량비 5wt%을 첨가한 것을 제외하고는 실시 예 1과 동일한 절차를 반복하였다. 본 예의 입자크기는 표 1에 제시된다. 또한 본 예의 입자 형상은 도 1에, 결정상을 도 2에 나타내었다.

(실시 예 3)

상기 실시 예 1의 붕_산와 C의 혼합물에 첨가제로 마그네슘계 화합물을 중량비 10wt%을 첨가한 것을 제외하고는 실시 예 1과 동일한 절차를 반복하였다. 본 예의 입자크기는 표 1에 제시된다. 또한 본 예의 결정상을 도 2에 나타내었다.

(실시 예 4)

상기 실시 예 2의 붕산과 탄소, 첨가제의 혼합물을 합성온도를 1500~1600℃로 합성한 것을 제외하고 실시 예 2와 동일한 절차를 반복하였다. 본 예의 입자크기는 표 1에 제시된다. 또한 본 예의 결정상을 도 2에 나타내었다.

(실시 예 5)

상기 실시 예 1의 붕산과 탄소, 첨가제의 혼합물을 합성온도 1550℃에서 유지시간을 1~10시간 유지한 것을 제외하고 실시 예 2과 동일한 절차를 반복하였다. 본 예의 입자크기는 표 1에 제시된다. 또한 본 예의 결정상을 도 2에 나타내었다.

(비교 예 1)

불순물을 제거하는 공정을 제외하고 실시 예 1과 동일한 절차를 반복하였다. 본 예의 입자크기는 표 1에 제시 된다. 또한 본 예의 입자 형상은 도 1에, 결정상을 도 2에 나타내었다.

표 1

구분	입자크기(D50, ㎛)
비교 예 1	0.6
실시 예 1	0.6
실시 예 2	9~12
실시 예 3	6
실시 예 4	0.1~0.5
실시 예 5	7~9

상기 표 1의 결과로부터 본 발명에 의하면 종래의 탄화연소합성 방법에 의한 육방정계 질화붕소의 입자 크기를 다양하게 조정하여 생산이 가능하며, 또한 첨가제를 넣었을 때 입자 크기에 비약적인 향상을 가져올 수 있음을 알 수 있다.

도1은 실시예 1,2와 비교예 1에 의해 제조된 분말의 입자형태.

도2는 실시예 1,2,3,4,5와 비교예 1에 의해 제조된 결정상태 그래프.

Claims (3)

1. 무수붕산과 탄소의 분말비를 1~2:3으로 하고 여기에 1~10wt%의 마그네슘 화합물을 혼합하는 공정;

   상기 혼합물을 질소 분위기 하에서 1400~1600℃에서 3~10시간 반응시켜 분말로 합성하는 공정으로 이루어지는 육방정계 질화붕소의 합성시 마그네슘 화합물 첨가를 통한 입자 성장제어 방법
2. 제 1항에 있어 합성된 분말에서 불순물을 제거하는 공정이 포함되는 것을 특징으로 하는 육방정계 질화붕소의 합성시 마그네슘 화합물 첨가를 통한 입자 성장제어 방법
3. 제 2항에 있어서 합성된 분말에서 불순물을 제거하는 과정은 염산과 증류수를 1:1의 비율 혼합한 용액에 분말과 용액의 비율을 2:1로 하여 40~60℃에서 0.5내지 2시간 교반하여 불순물을 녹인 후 필터링 하는 것을 특징으로 하는 육방정계 질화붕소의 합성시 마그네슘 화합물 첨가를 통한 입자 성장제어 방법

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