KR20100006663A - 불휘발성 메모리 장치 및 그 프로그램/소거 방법 - Google Patents

불휘발성 메모리 장치 및 그 프로그램/소거 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20100006663A
KR20100006663A KR1020080066878A KR20080066878A KR20100006663A KR 20100006663 A KR20100006663 A KR 20100006663A KR 1020080066878 A KR1020080066878 A KR 1020080066878A KR 20080066878 A KR20080066878 A KR 20080066878A KR 20100006663 A KR20100006663 A KR 20100006663A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
voltage
output
program
erase
unit
Prior art date
Application number
KR1020080066878A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100965028B1 (ko
Inventor
장채규
장승호
박영수
김재윤
박세천
Original Assignee
주식회사 하이닉스반도체
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 하이닉스반도체 filed Critical 주식회사 하이닉스반도체
Priority to KR1020080066878A priority Critical patent/KR100965028B1/ko
Priority to US12/493,288 priority patent/US7872918B2/en
Publication of KR20100006663A publication Critical patent/KR20100006663A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100965028B1 publication Critical patent/KR100965028B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/10Programming or data input circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/10Programming or data input circuits
    • G11C16/12Programming voltage switching circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/04Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS
    • G11C16/0483Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS comprising cells having several storage transistors connected in series
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/10Programming or data input circuits
    • G11C16/14Circuits for erasing electrically, e.g. erase voltage switching circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/30Power supply circuits
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/34Determination of programming status, e.g. threshold voltage, overprogramming or underprogramming, retention
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/06Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
    • G11C16/26Sensing or reading circuits; Data output circuits
    • G11C16/28Sensing or reading circuits; Data output circuits using differential sensing or reference cells, e.g. dummy cells

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Read Only Memory (AREA)

Abstract

본원 발명의 불휘발성 메모리장치는 샘플 메모리 셀 스트링의 특정 노드들에서 출력되는 전압과 기준전압의 크기를 비교하는 비교부와, 상기 비교부의 비교결과에 따라 메모리 셀의 상태정보를 저장하는 상태저장부와, 상기 상태저장부에 저장된 데이터에 따라 프로그램 시작전압을 변화시키는 고전압 발생부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한 본원 발명의 불휘발성 메모리 장치의 프로그램 방법은 선정된 프로그램 시작전압에 따라 프로그램 동작을 수행하는 단계와, 샘플 메모리 셀의 특정노드들에서 출력되는 출력전압들과 기준전압을 각각 비교하는 단계와, 상기 각 출력전압들이 상기 기준전압보다 모두 커질 때까지 프로그램 전압을 스텝전압만큼 증가시켜 프로그램 동작을 반복수행하는 단계와, 선정된 프로그램/소거 횟수에 도달할 때마다 상기 각 출력전압들이 상기 기준전압보다 모두 커졌음을 나타내는 상태 정보를 저장시키는 단계와, 상기 저장된 상태 정보에 따라 프로그램 시작전압의 레벨을 변경시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
프로그램/소거 횟수, 시작전압

Description

불휘발성 메모리 장치 및 그 프로그램/소거 방법{None volatile memory device and programming method and erasing method thereof}
본원 발명은 불휘발성 메모리 장치 및 그를 이용한 프로그램 방법, 소거 방법에 관한 것이다.
최근 들어 전기적으로 프로그램(program)과 소거(erase)가 가능하고, 일정 주기로 데이터를 재작성해야하는 리프레시(refresh) 기능이 필요 없는 불휘발성 메모리 소자에 대한 수요가 증가하고 있다.
상기 불휘발성 메모리 셀은 전기적인 프로그램/소거 동작이 가능한 소자로서 얇은 산화막에 인가되는 강한 전기장에 의해 전자가 이동하면서 셀의 문턱전압을 변화시켜 프로그램 및 소거 동작을 수행한다.
상기 불휘발성 메모리 장치는 통상적으로 데이터가 저장되는 셀들이 매트릭스 형태로 구성된 메모리 셀 어레이, 상기 메모리 셀 어레이의 특정 셀들에 대하여 메모리를 기입하거나 특정 셀에 저장되었던 메모리를 독출하는 페이지 버퍼를 포함한다. 상기 페이지 버퍼는 특정 메모리 셀과 접속된 비트라인 쌍, 메모리 셀 어레이에 기록할 데이터를 임시저장하거나, 메모리 셀 어레이로부터 특정 셀의 데이터 를 독출하여 임시 저장하는 레지스터, 특정 비트라인 또는 특정 레지스터의 전압 레벨을 감지하는 감지노드, 상기 특정 비트라인과 감지노드의 접속여부를 제어하는 비트라인 선택부를 포함한다.
이러한 불휘발성 메모리 장치의 메모리 셀은 프로그램/소거 횟수가 증가함에 따라 소거 동작에도 불구하고 전하가 산화막과 플로팅 게이트사이에 트랩되는 현상이 발생한다. 프로그램/소거 횟수가 증가할수록 상기 트랩되는 전하의 양도 증가하게 되며, 이는 불휘발성 메모리 셀의 문턱전압을 상승시킨다. 따라서 프로그램 속도도 증가하게 된다. 이러한 프로그램/소거 횟수 증가에 따른 트랩전하의 증가 현상, 또는 프로그램 속도의 증가현상을 보상하기 위하여 프로그램 전압, 또는 소거 전압을 변화시킬 필요가 있다.
전술한 문제점에 따라 본원 발명이 해결하고자 하는 과제는 프로그램/소거 횟수의 증가에 따라 상이한 프로그램 전압 또는 소거 전압을 인가시킬 수 있는 불휘발성 메모리 장치를 제공하는 것이다.
전술한 과제를 해결하기 위한 본원 발명의 불휘발성 메모리장치는 샘플 메모리 셀 스트링의 특정 노드들에서 출력되는 전압과 기준전압의 크기를 비교하는 비교부와, 상기 비교부의 비교결과에 따라 메모리 셀의 상태정보를 저장하는 상태저장부와, 상기 상태저장부에 저장된 데이터에 따라 프로그램 시작전압을 변화시키는 고전압 발생부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한 본원 발명의 불휘발성 메모리 장치의 프로그램 방법은 선정된 프로그램 시작전압에 따라 프로그램 동작을 수행하는 단계와, 샘플 메모리 셀의 특정노드들에서 출력되는 출력전압들과 기준전압을 각각 비교하는 단계와, 상기 각 출력전압들이 상기 기준전압보다 모두 커질 때까지 프로그램 전압을 스텝전압만큼 증가시켜 프로그램 동작을 반복수행하는 단계와, 선정된 프로그램/소거 횟수에 도달할 때마다 상기 각 출력전압들이 상기 기준전압보다 모두 커졌음을 나타내는 상태 정보를 저장시키는 단계와, 상기 저장된 상태 정보에 따라 프로그램 시작전압의 레벨을 변경시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한 선정된 소거 시작전압에 따라 소거 동작을 수행하는 단계와, 샘플 메모 리 셀의 특정노드들에서 출력되는 출력전압들과 기준전압을 각각 비교하는 단계와, 상기 각 출력전압들이 상기 기준전압보다 모두 커질 때까지 소거 전압을 스텝전압만큼 증가시켜 소거 동작을 반복수행하는 단계와, 선정된 프로그램/소거 횟수에 도달할 때마다 상기 각 출력전압들이 상기 기준전압보다 모두 커졌음을 나타내는 상태 정보를 저장시키는 단계와, 상기 저장된 상태 정보에 따라 소거 시작전압의 레벨을 변경시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
전술한 본원 발명의 구성에 따라 프로그램/소거 횟수의 증가에 따라 상이한 프로그램 전압 또는 소거 전압을 인가시킬 수 있는 불휘발성 메모리 장치를 제공할 수 있다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본원 발명의 바람직한 실시예를 상세히 살펴보기로 한다. 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다.
도 1은 통상적인 불휘발성 메모리 장치에서의 프로그램/소거 횟수 증가에 따른 전하트랩현상을 도시한 도면이다.
불휘발성 메모리 장치의 통상적인 소거동작은 (a)에 도시된 바와 같이, 워드 라인에 0V의 전압을 인가하고 벌크에 20V의 고전압을 인가하여 플로팅 게이트에 충전된 전하를 채널로 방전시켜 이루어진다. 이때 ISPE(Incremental step pulse erase) 소거 방법에 따라 상기 고전압을 펄스 형태로 반복적으로 인가하는 방법도 있다. 이렇게 소거동작이 수행되면 (b)에 도시된 바와 같이 플로팅 게이트에 충전되었던 전하가 모두 채널로 방전되게 된다. 그러나 프로그램/소거 횟수가 증가함에 따라 소거 동작에도 불구하고 전하가 산화막과 플로팅 게이트사이에 트랩되는 현상이 발생한다. 프로그램/소거 횟수가 증가할수록 상기 트랩되는 전하의 양도 증가하게 되며, 이는 불휘발성 메모리 셀의 문턱전압을 상승시킨다. 따라서 프로그램 속도도 증가하게 된다. 즉 낮은 프로그램 전압이 인가되더라도 문턱전압이 기준전압이상으로 프로그램된다. ISPP(Incremental step pulse program) 프로그램 방법에 따르면, 적은 프로그램 펄스가 인가되더라도 프로그램이 완료된다. 이러한 프로그램/소거 횟수 증가에 따른 트랩전하의 증가 현상, 또는 프로그램 속도의 증가현상을 보상하기 위하여 프로그램 전압, 또는 독출/검증 기준 전압을 변화시킬 필요가 있다.
도 2는 본원 발명의 일 실시예에 따른 불휘발성 메모리 장치를 도시한 블록도이다.
상기 불휘발성 메모리 장치(200)는 샘플 메모리 셀 블록(210), 기준 전압 발생부(220), 상기 샘플 메모리 셀 블록(210)에 포함된 메모리 셀 스트링의 특정노드에 인가되는 전압과 상기 기준 전압 발생부(220)의 기준전압의 크기를 비교하는 비 교부(230), 상기 비교부(230)의 비교결과를 전달받아 메모리 셀의 상태정보를 저장하는 상태 저장부(240), 상기 상태 저장부(240)에 저장된 메모리 셀의 상태정보에 따라 프로그램 전압, 소거 전압등의 전압레벨을 제어하는 고전압 발생부(250)를 포함한다.
상기 샘플 메모리 셀 블록(210)에 포함된 메모리 셀 들은 불휘발성 메모리 셀 장치에 포함된 메모리 셀과 동일한 특성을 갖는다. 도면을 참조하여 상세하게 설명하기로 한다.
도 3는 본원 발명의 일실시예에 따른 샘플 메모리 셀 블록에 포함된 메모리 셀 스트링을 도시한 회로도이다.
상기 메모리 셀 스트링은 일반적인 낸드(NAND)형 불휘발성 메모리 장치에 포함되는 메모리 셀 스트링과 유사한 구성을 갖는다. 즉, 직렬로 접속되는 복수의 메모리 셀(MC0, MC1, ..., MCn), 메모리 셀(MCn)과 비트라인을 선택적으로 접속시키는 드레인 선택 트랜지스터(DST), 메모리 셀(MC0)과 공통소스라인(CSL)을 선택적으로 접속시키는 소스 선택 트랜지스터(SST)를 포함한다. 또한, 본원 발명의 실시예에 따라 메모리 셀간의 접속노드에 인가되는 전압을 출력시키는 출력단(Vx1, Vy1, Vz1)이 포함된다.
한편, (a)는 소거 동작시 상기 출력단의 전압을 측정하는 방법을 도시한 것이고, (b)는 프로그램 동작시 상기 출력단의 전압을 측정하는 방법을 도시한 것이다. 각 워드라인에 인가되는 전압이 소거검증 전압(Verasex, Verasey, Verasez)인지 패스전압(Vpassx, Vpassy, Vpassz)인지가 다를 뿐 전체 구성은 거의 동일하다.
소거 동작이 완료되거나 프로그램 동작이 완료된 상태인 경우를 상기 출력단을 통해확인할 수 있다. (a)의 경우 비트라인을 하이레벨(VDD)로 프리차지시킨 상태에서, 상기 소거검증 전압(Verasex, Verasey, Verasez)이 인가되는데, 전체 셀이 모두 소거된 상태라면, 각 셀의 문턱전압이 상기 소거검증 전압보다 낮게 될 것이므로, 각 셀은 모두 턴온되고, 상기 출력단(Vx1, Vy1, Vz1)에 인가되는 전압은 모두 하이 레벨이 될 것이다. 그러나 소거되지 않은 셀이 있는 경우에는 그 상태에 따라 상기 출력단(Vx1, Vy1, Vz1)의 레벨이 상이해 질 것이다.
(b)의 경우도 마찬가지로 비트라인을 하이레벨(VDD)로 프리차지시킨 상태에서, 상기 패스 전압(Vpassx, Vpassy, Vpassz)이 인가되는데, 전체 셀이 모두 프로그램된 상태라면, 각 셀의 문턱전압이 상기 패스 전압보다 낮게 될 것이므로, 각 셀은 모두 턴온되고, 상기 출력단(Vx1, Vy1, Vz1)에 인가되는 전압은 모두 하이 레벨이 될 것이다. 그러나 프로그램 되지 않은 셀이 있는 경우에는 그 상태에 따라 상기 출력단(Vx1, Vy1, Vz1)의 레벨이 상이해 질 것이다.
상기 기준 전압 발생부(220)는 상기 샘플 메모리 블록(210)에서 출력되는 출력단(Vx1, Vy1, Vz1)의 전압과 비교대상이 될 기준전압을 출력한다. 도면을 통해 상세 구성을 살펴보기로 한다.
도 4는 본원 발명의 일 실시예에 따른 기준전압 발생부를 도시한 회로도이다.
상기 기준전압 발생부(220)로서 두 가지 실시예가 도시되어 있다. 첫 번째 실시예(a)에서는 전원전압단자(VDD)와 기준전압 출력단(Vref) 사이에 직렬접속된 다이오드(D222, D224)들을 포함한다. 상기 다이오드의 문턱전압 레벨에 따라 다소 상이할 수 있으나, 전원전압단자(VDD)의 레벨이 2.0~1.4V라 할 때, 기준전압 출력단(Vref)의 전압은 1.0~0.7V 정도가 된다.
두 번째 실시예(b)에서는 불휘발성 메모리 장치의 셀 스트링을 이용한다. 즉, 전체 메모리 셀을 소거시킨 상태에서, 각 메모리 셀의 워드라인에 0V의 전압을 인가한다. 또한 비트라인에 전원전압(VDD)을 인가시킨다. 각 메모리 셀은 소거상태이므로, 각 셀이 턴온되어, 임의의 메모리 셀간의 접속노드에서 출력되는 전압(Vref)은 하이레벨 상태가 된다. 이러한 전압을 기준전압으로 이용한다.
상기 비교부(230)는 상기 샘플 메모리 셀 블록(210)에서 전달되는 셀 스트링의 출력단(Vx1, Vy1, Vz1) 전압과 상기 기준전압 발생부(220)에서 전달되는 기준전압의 크기를 비교한다. 도면을 통해 상세 구성을 살펴보기로 한다.
도 5는 본원 발명의 일 실시예에 따른 비교부를 도시한 회로도이다.
상기 비교부(230)는 상기 샘플 메모리 셀 블록(210)에서 전달되는 제1 출력전압(Vx1)과 상기 기준전압 발생부(220)에서 전달되는 기준전압(Vref)의 크기를 비교하는 제1 차동증폭부(232), 제2 출력전압(Vy1)과 상기 기준전압(Vref)의 크기를 비교하는 제2 차동증폭부(234), 제3 출력전압(Vz1)과 상기 기준전압(Vref)의 크기를 비교하는 제3 차동증폭부(236), 구동신호(A)에 따라 접지전압을 공급하는 구동부(238)를 포함한다.
상기 제1 차동증폭부(232)는 전원전압 단자(VDD)와 상기 구동부(238)사이에 직렬 접속된 PMOS 트랜지스터(P232)와 NMOS 트랜지스터(N232), 상기 PMOS 트랜지스터(P232), NMOS 트랜지스터(N232)와 병렬 접속되며 전원전압 단자(VDD)와 상기 구동부(238)사이에 직렬 접속된 PMOS 트랜지스터(P233)와 NMOS 트랜지스터(N233)를 포함한다. 상기 PMOS 트랜지스터(P232)와 NMOS 트랜지스터(N232)의 접속노드에서 비교결과(X)가 출력된다. 즉, 제1 출력전압(Vx1)이 상기 기준전압(Vref) 보다 크면, 로우레벨의 비교결과(X)가 출력된다.
상기 제2 차동증폭부(234) 및 제3 차동증폭부(236)도 상기 제1 차동증폭부(232)와 유사한 구성을 갖는다. 즉 제1 차동증폭부(234)의 PMOS 트랜지스터(P233)와 NMOS 트랜지스터(N233)를 공유하여 구성된다. 또한, 상기 PMOS 트랜지스터(P234)와 NMOS 트랜지스터(N234)의 접속노드에서 비교결과(Y)가 출력되고, 상기 PMOS 트랜지스터(P236)와 NMOS 트랜지스터(N236)의 접속노드에서 비교결과(Z)가 출력된다. 마찬가지로, 제2 출력전압(Vy1)이 상기 기준전압(Vref) 보다 크면, 로우레벨의 비교결과(Y)가 출력되고, 제3 출력전압(Vz1)이 상기 기준전압(Vref) 보다 크면, 로우레벨의 비교결과(Z)가 출력된다. 따라서 샘플 메모리 블록(210)에 포함된 셀 스트링이 소거가 완료되거나, 프로그램이 완료된 경우에는 상기 각 비교결과(X, Y, Z)가 모두 로우 레벨이 된다.
상기 상태 저장부(240)는 비교부(230)에서 전달받는 비교결과(X, Y, Z)에 따라 디지털 코드 데이터를 저장한다. 도면을 통해 상세 구성을 살펴보기로 한다.
도 6은 본원 발명의 일 실시예에 따른 상태 저장부를 도시한 회로도이다.
상기 상태 저장부(240)는 상기 각 비교결과(X, Y, Z)에 따라 전원전압을 전달하는 제1 내지 제3 풀업부(610, 620, 630), 상기 각 풀업부의 출력을 논리조합하여 출력하는 논리조합부(640), 상기 논리조합부(640)의 출력에 따라 하이레벨 전압(B)을 전달하는 데이터 설정부(650), 상기 데이터 설정부(650)의 출력을 복수의 레지스터중 어느 하나에 선택적으로 저장시키는 디먹스(660), 상기 디먹스(660)와 접속되어 상기 데이터 설정부(650)의 출력이 순차적으로 저장되는 복수의 레지스터(670, 680, 690)를 포함한다.
상기 각 풀업부(610, 620, 630)는 전원전압단자와 상기 논리조합부(640)사이에 접속되며, 비교결과(X, Y, Z)에 따라 턴온되는 PMOS 트랜지스터(P610, P620, P630)를 포함한다. 따라서 상기 비교결과(X, Y, Z)가 모두 로우 레벨인 경우, 즉 소거가 완료되거나 프로그램이 완료된 경우에 상기 논리조합부(640)에 하이레벨의 비교결과(X, Y, Z)를 전달한다.
상기 논리 조합부(640)는 상기 각 풀업부(610, 620, 630)의 출력을 반전시키는 인버터(IV642, IV644, IV646), 상기 인버터(IV642, IV644, IV646)의 출력을 부정논리합하는 NOR 게이트(NOR640)를 포함한다. 따라서 상기 비교결과(X, Y, Z)가 모두 하이레벨인 경우에 한하여 상기 NOR 게이트(NOR640)가 하이레벨의 신호를 출력한다.
상기 데이터 설정부(650)는 상기 논리조합부(640)의 출력신호를 반전시키는 인버터(IV650), 상기 논리조합부(640)의 출력신호에 따라 하이레벨 전압(B)을 전달 하는 전송게이트(T650)를 포함한다. 따라서 상기 NOR 게이트(NOR640)가 하이레벨 신호를 출력하는 경우에 한하여 상기 데이터 설정부(650)는 하이레벨 전압(B)을 상기 디먹스(660)로 전달할 수 있다.
상기 디먹스(660)는 데이터 설정부(650)에서 전달되는 하이레벨 전압(B)을 순차적으로 상기 각 레지스터(670, 680, 690)에 전달한다. 상기 디먹스(660)는 데이터 설정부(650)에서 전달되는 신호를 프로그램/소거 횟수에 따라 각 레지스터에 선택적으로 전달한다. 예를 들어 제1 프로그램/소거 횟수에는 제1 레지스터(670)에 저장하고, 제2 프로그램/소거 횟수에는 제2 레지스터(680)에 저장한다.
상기 각 레지스터(670, 680, 690)는 인버터들(IV672, IV674)로 구성된 래치를 각각 포함한다. 따라서 상기 디먹스(660)로부터 하이레벨 전압(B)을 전달받은 경우 각 레지스터의 출력단(Reg)에 로우레벨 전압이 저장된다.
정리하면, 특정 메모리 셀 스트링이 모두 소거 완료되거나 프로그램 완료된 경우, 비교부(230)의 비교결과(X, Y, Z)가 모두 로우레벨이 되고 그에 따라 상기 논리조합부(640)는 하이레벨 신호를 출력한다. 이에 의하여 특정 레지스터에 로우레벨 데이터가 저장된다.
상기 고전압 발생부(250)는 상기 상태 저장부(240)에 저장된 메모리 셀의 상태정보에 따라 프로그램 전압, 소거 전압등의 전압레벨을 제어한다. 도면을 참조하여 상세 구성을 살펴보기로 한다.
도 7은 본원 발명의 일 실시예에 따른 고전압 발생부의 구성을 도시한 회로 도이다.
상기 고전압 발생부(250)는 일정한 고전압을 공급하는 밴드갭 전압 공급부(252), 상기 밴드갭 전압 공급부의 출력인 고전압을 상기 상태 저장부(240)의 각 레지스터에 저장된 데이터에 따라 상기 고전압을 전압 분배하는 제1 내지 제n 전압 제어부(254, 256, 258), 저항(Ra)를 포함한다. 제n 전압 제어부는 제n 저항, 상기 제n 저항과 병렬 접속되며, 제n 레지스터에 저장된 데이터에 따라 상기 제n 저항의 양단을 단락시키는 제n 스위칭소자(N258)를 포함한다. 또한 각 전압 제어부(254, 256, 258)는 상기 밴드갭 전압 공급부(252)의 출력단과 상기 저항(Ra)사이에 직렬접속된다.
따라서 제n 전압 제어부(258)는 제n 레지스터에 하이레벨 데이터가 저장된 경우, 제n 스위칭소자(N258)가 턴온되어 상기 제n 저항의 양단을 단락시킨다.
이와 같은 구성에 따르면, 상태 저장부(240)의 각 레지스터에 저장된 데이터에 따라 밴드갭 전압 공급부(252)의 출력전압의 분배비율이 상이해지며, 이에 따라 출력전압(Vout)의 레벨도 상이해진다.
이제 지금 까지 설명한 본원 발명의 불휘발성 메모리 장치를 이용한 소거 방법, 프로그램 방법에 대하여 살펴보기로 한다.
도 8은 본원 발명의 일 실시예에 따른 불휘발성 메모리 장치의 소거 방법 또는 프로그램 방법을 도시한 순서도이다.
먼저 프로그램 동작 또는 소거 동작을 수행한다(단계 810). 본 발명의 방법 을 프로그램 방법 또는 소거 방법에 선택적으로 적용할 수 있다.
다음으로, 상기 비교부(230)를 이용하여 샘플 메모리 셀의 출력단 전압(Vx1, Vy1, Vz1)과 기준전압(Vref)의 크기를 비교한다(단계 820). 앞서 설명한 바와 같이 프로그램이 다 완료되거나, 소거가 다 완료된 상태에서 비교부(230)의 비교결과(X, Y, Z)는 모두 로우레벨, 즉 ‘0’이 된다.
다음으로, 상기 비교결과(X, Y, Z)가 모두 로우레벨인지 확인하고, 그렇지 않은 경우에는 스텝전압만큼 프로그램 전압 또는 소거전압을 증가시켜 ISPP에 의한 프로그램 동작 또는 ISPE에 의한 소거 동작을 반복 수행한다(단계 830, 832, 810).
다음으로, 상기 비교결과(X, Y, Z)가 모두 로우레벨인 경우에는 프로그램/소거 횟수에 따라 상태 저장부(240)에 상태정보를 저장시킨다(단계 830, 840). 즉 제1 프로그램/소거횟수인 경우에는 제1 레지스터에 상태 정보를 저장시키고, 제2 프로그램/소거횟수인 경우에는 제2 레지스터에 상태 정보를 저장시킨다.
다음으로, 상기 상태 저장부(240)에 저장된 데이터에 따라 프로그램/소거 시작 전압을 재설정한다(단계 850).
즉, 상태 저장부(240)의 레지스터에 저장된 데이터에 따라 고전압 발생부(250)의 전압분배 비율이 상이해져 출력전압(Vout)의 레벨이 변화한다. 최초 동작시에는 상기 상태 저장부(240)의 각 레지스터에 하이레벨 데이터가 저장되도록 설정한다. 따라서 상기 출력전압(Vout)은 고전압 발생부(250)의 출력전압과 동일한 레벨을 갖게된다. 이후 프로그램/소거횟수가 증가할수록 상기 상태 저장부(240)의 각 레지스터에 로우레벨 데이터가 저장되면서, 전압분배부의 저항이 커져 상기 출 력전압(Vout)의 레벨이 감소한다. 바람직하게는 제1 프로그램/소거 횟수에서 출력되는 출력전압이 제1 프로그램/소거 횟수보다 큰 제2 프로그램/소거 횟수에서 출력되는 출력전압보다 커지도록 한다. 이는 프로그램/소거 횟수가 증가할수록 프로그램 속도가 증가하게 되므로, 이를 보상하기 위하여 최초 동작시에는 프로그램 시작전압을 높은 전압으로 인가하고, 프로그램/소거 횟수가 증가할수록 프로그램 시작전압을 낮은 전압으로 인가하기 위함이다. 한편 소거 동작시에는 프로그램/소거 횟수가 증가할수록 소거 시작전압이 커지도록 설정한다. 즉, 프로그램/소거 횟수가 증가할수록 프로그램속도가 커져 소거동작이 일어나기 어려워지므로, 소거 시작전압을 증가시킨다.
도 1은 통상적인 불휘발성 메모리 장치에서의 프로그램/소거 횟수 증가에 따른 전하트랩현상을 도시한 도면이다.
도 2는 본원 발명의 일 실시예에 따른 불휘발성 메모리 장치를 도시한 블록도이다.
도 3는 본원 발명의 일실시예에 따른 샘플 메모리 셀 블록에 포함된 메모리 셀 스트링을 도시한 회로도이다.
도 4는 본원 발명의 일 실시예에 따른 기준전압 발생부를 도시한 회로도이다.
도 5는 본원 발명의 일 실시예에 따른 비교부를 도시한 회로도이다.
도 6은 본원 발명의 일 실시예에 따른 상태 저장부를 도시한 회로도이다.
도 7은 본원 발명의 일 실시예에 따른 고전압 발생부의 구성을 도시한 회로도이다.
도 8은 본원 발명의 일 실시예에 따른 불휘발성 메모리 장치의 소거 방법 또는 프로그램 방법을 도시한 순서도이다.
<도면의 주요 부분에 대한 설명>
200: 불휘발성 메모리 장치 210: 샘플 메모리 셀 블록
220: 기준 전압 발생부 230: 비교부
240: 상태 저장부 250: 고전압 발생부

Claims (11)

  1. 샘플 메모리 셀 스트링의 특정 노드들에서 출력되는 전압과 기준전압의 크기를 비교하는 비교부와,
    상기 비교부의 비교결과에 따라 메모리 셀의 상태정보를 저장하는 상태저장부와,
    상기 상태저장부에 저장된 데이터에 따라 프로그램 시작전압을 변화시키는 고전압 발생부를 포함하는 불휘발성 메모리 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 비교부는 상기 특정 노드들에서 출력되는 전압과 상기 기준전압의 크기를 각각 비교하는 복수의 차동증폭부를 포함하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 메모리 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 상태저장부는 상기 비교결과에 따라 전원전압을 전달하는 복수의 풀업부와,
    상기 각 풀업부의 출력을 논리조합하여 출력하는 논리조합부와,
    상기 논리조합부의 출력에 따라 하이레벨 전압을 전달하는 데이터 설정부와, 상기 데이터 설정부의 출력을 복수의 레지스터 중 어느 하나에 선택적으로 저장시키는 디먹스와,
    상기 디먹스와 접속되어 상기 데이터 설정부의 출력이 순차적으로 저장되는 복수의 레지스터를 포함하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 메모리 장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 논리 조합부는 상기 각 풀업부의 출력을 반전시키는 복수의 인버터들과,
    상기 각 인버터들의 출력을 부정논리합하는 NOR 게이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 메모리 장치.
  5. 제3항에 있어서, 상기 데이터 설정부는 상기 논리조합부의 출력을 반전시키는 인버터와,
    상기 논리조합부의 출력 및 상기 인버터의 출력에 따라 하이레벨 전압을 상기 디먹스로 전달하는 전달게이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 메모리 장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 고전압 발생부는 일정한 고전압을 공급하는 밴드갭 전압 공급부와,
    상기 밴드갭 전압 공급부의 출력인 고전압을 상기 상태 저장부의 각 레지스터에 저장된 데이터에 따라 상기 고전압을 전압 분배하는 제1 내지 제n 전압 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 메모리 장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 제n 전압 제어부는 제n 저항과,
    상기 제n 저항과 병렬 접속되며, 상기 상태 저장부에 포함된 레지스터에 저장된 데이터에 따라 상기 제n 저항의 양단을 단락시키는 제n 스위칭소자를 포함하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 메모리 장치.
  8. 선정된 프로그램 시작전압에 따라 프로그램 동작을 수행하는 단계와,
    샘플 메모리 셀의 특정노드들에서 출력되는 출력전압들과 기준전압을 각각 비교하는 단계와,
    상기 각 출력전압들이 상기 기준전압보다 모두 커질 때까지 프로그램 전압을 스텝전압만큼 증가시켜 프로그램 동작을 반복수행하는 단계와,
    선정된 프로그램/소거 횟수에 도달할 때마다 상기 각 출력전압들이 상기 기준전압보다 모두 커졌음을 나타내는 상태 정보를 저장시키는 단계와,
    상기 저장된 상태 정보에 따라 프로그램 시작전압의 레벨을 변경시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 메모리 장치의 프로그램 방법.
  9. 제8항에 있어서, 상기 프로그램 시작전압의 레벨을 변경시키는 단계는 상기 프로그램/소거 횟수가 증가함에 따라 상기 프로그램 시작전압의 레벨을 감소시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 메모리 장치의 프로그램 방법.
  10. 선정된 소거 시작전압에 따라 소거 동작을 수행하는 단계와,
    샘플 메모리 셀의 특정노드들에서 출력되는 출력전압들과 기준전압을 각각 비교하는 단계와,
    상기 각 출력전압들이 상기 기준전압보다 모두 커질 때까지 소거 전압을 스텝전압만큼 증가시켜 소거 동작을 반복수행하는 단계와,
    선정된 프로그램/소거 횟수에 도달할 때마다 상기 각 출력전압들이 상기 기준전압보다 모두 커졌음을 나타내는 상태 정보를 저장시키는 단계와,
    상기 저장된 상태 정보에 따라 소거 시작전압의 레벨을 변경시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 메모리 장치의 소거 방법.
  11. 제10항에 있어서, 상기 소거 시작전압의 레벨을 변경시키는 단계는 상기 프로그램/소거 횟수가 증가함에 따라 상기 소거 시작전압의 레벨을 증가시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 불휘발성 메모리 장치의 프로그램 방법.
KR1020080066878A 2008-07-10 2008-07-10 불휘발성 메모리 장치 및 그 프로그램/소거 방법 KR100965028B1 (ko)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080066878A KR100965028B1 (ko) 2008-07-10 2008-07-10 불휘발성 메모리 장치 및 그 프로그램/소거 방법
US12/493,288 US7872918B2 (en) 2008-07-10 2009-06-29 Nonvolatile memory device and program or erase method using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080066878A KR100965028B1 (ko) 2008-07-10 2008-07-10 불휘발성 메모리 장치 및 그 프로그램/소거 방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20100006663A true KR20100006663A (ko) 2010-01-21
KR100965028B1 KR100965028B1 (ko) 2010-06-21

Family

ID=41505016

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020080066878A KR100965028B1 (ko) 2008-07-10 2008-07-10 불휘발성 메모리 장치 및 그 프로그램/소거 방법

Country Status (2)

Country Link
US (1) US7872918B2 (ko)
KR (1) KR100965028B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180054315A (ko) * 2016-11-15 2018-05-24 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 메모리 장치 및 그것의 동작 방법

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101655306B1 (ko) * 2010-02-24 2016-09-07 삼성전자주식회사 메모리 시스템 및 그것의 액세스 방법
US8819503B2 (en) 2010-07-02 2014-08-26 Stec, Inc. Apparatus and method for determining an operating condition of a memory cell based on cycle information
US8737141B2 (en) * 2010-07-07 2014-05-27 Stec, Inc. Apparatus and method for determining an operating condition of a memory cell based on cycle information
US8737136B2 (en) 2010-07-09 2014-05-27 Stec, Inc. Apparatus and method for determining a read level of a memory cell based on cycle information
US9047955B2 (en) 2011-03-30 2015-06-02 Stec, Inc. Adjusting operating parameters for memory cells based on wordline address and cycle information
US9195586B2 (en) 2012-02-23 2015-11-24 Hgst Technologies Santa Ana, Inc. Determining bias information for offsetting operating variations in memory cells based on wordline address

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10241388A (ja) * 1996-12-29 1998-09-11 Sony Corp 電圧供給回路および半導体不揮発性記憶装置
US7782674B2 (en) * 2007-10-18 2010-08-24 Micron Technology, Inc. Sensing of memory cells in NAND flash

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180054315A (ko) * 2016-11-15 2018-05-24 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 메모리 장치 및 그것의 동작 방법

Also Published As

Publication number Publication date
US7872918B2 (en) 2011-01-18
US20100008137A1 (en) 2010-01-14
KR100965028B1 (ko) 2010-06-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100953063B1 (ko) 불휘발성 메모리 장치의 소거 방법
US7558117B2 (en) Nonvolatile semiconductor memory device
KR100996040B1 (ko) 불휘발성 메모리 장치의 동작 방법
US7986559B2 (en) Method of operating nonvolatile memory device
KR100965028B1 (ko) 불휘발성 메모리 장치 및 그 프로그램/소거 방법
KR100865552B1 (ko) 플래시 메모리소자의 프로그램 검증방법 및 프로그램 방법
US6058042A (en) Semiconductor nonvolatile memory device and method of data programming the same
US8238163B2 (en) Nonvolatile memory device
KR100967000B1 (ko) 불휘발성 메모리 장치의 프로그램 방법
JPH07169284A (ja) 不揮発性半導体記憶装置
KR20090015278A (ko) 불휘발성 메모리 장치의 소프트 프로그램 방법
KR101005184B1 (ko) 불휘발성 메모리 장치 및 그 동작 방법
JP2012119019A (ja) 不揮発性半導体記憶装置
TW201435879A (zh) 非揮發性半導體記憶裝置及其讀出方法
KR101044488B1 (ko) 불휘발성 메모리 장치와 그를 이용한 불휘발성 메모리 장치의 프로그램 방법 및 검증 방법
US20060104125A1 (en) Method of reading a flash memory device
KR20030023523A (ko) 데이터 재기입이 고속인 불휘발성 반도체 기억 장치
KR100938044B1 (ko) 불휘발성 메모리 장치 및 그 멀티 레벨 셀 프로그램 방법
KR100965077B1 (ko) 불휘발성 메모리 장치의 페일 비트 카운터
KR20100006666A (ko) 불휘발성 메모리 장치 및 그 멀티 레벨 셀 프로그램 방법
KR100943139B1 (ko) 불휘발성 메모리 장치의 비트라인 센싱전압 공급부
KR20100027782A (ko) 불휘발성 메모리 장치의 동작 방법 및 포스트 프로그램 방법
KR20100010673A (ko) 비휘발성 메모리 장치, 그의 독출 및 구동방법
KR100967005B1 (ko) 불휘발성 메모리 장치의 드레인 선택 라인 전압 공급 장치 및 그 독출/검증 방법
JP3884420B2 (ja) 不揮発性半導体記憶装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee