KR20090132874A - 강유전체 메모리 소자 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 강유전체 메모리 소자에 관한 것이다. 강유전체 메모리 소자에 있어서, 탄소 함유 물질을 포함하는 채널; 상기 채널 상에 형성된 강유전체층; 상기 강유전체층 상에 형성된 게이트 전극층; 및 상기 채널 양측에 각각 연결된 소스 및 드레인;을 포함하는 강유전체 메모리 소자를 제공한다.
Description
본 발명은 강유전체 메모리 소자에 관한 것으로, 보다 상세하게는 강유전체 메모리 소자의 채널을 비실리콘 물질을 사용함으로서, 강유전체 메모리 소자의 열화를 방지한 강유전체 메모리 소자에 관한 것이다.
반도체 산업이 발전하면서 단위 면적 당 높은 밀도를 지니는 메모리 소자가 요구되고 있다. 비휘발성 메모리 소자의 하나인 FRAM(Ferroelectric Random Access Memory : 강유전체 메모리)은 캐패시터 부분에 강유전 물질을 포함하는 비휘발성 메모리이다.
강유전체 메모리 소자의 동작 원리는 일반적인 플래쉬 메모리 소자(flash memory)와 유사하다. 다만, 플래쉬 메모리 소자의 경우 플로팅 게이트 또는 차지 트랩층의 전자의 농도에 의해 문턱 전압(Vth) 쉬프트를 야기하는 반면, 강유전체 메모리 소자의 경우 강유전체층의 분극(polarization) 방향에 따라 문턱 전압의 쉬프트가 야기된다.
도 1a은 종래 기술에 의한 일반적인 강유전체 메모리 소자의 구조를 나타낸 단면도이다.
도 1a를 참조하면, 소스(12a) 및 드레인(12b)이 형성된 실리콘 기판(11) 상에 소스(12a) 및 드레인(12b)과 접촉하며, 게이트 구조체가 형성되어 있다. 게이트 구조체는 버퍼층(13), 강유전체층(14) 및 게이트 전극(15)을 포함하는 구조로 형성되어 있다. 실리콘 기판(11) 상에 강유전체층(14)이 직접 형성될 수 있으나, 실리콘 기판(11)과의 화학적 반응을 방지하고, 누설 전류를 억제하기 위하여 통상 산화물 또는 질화물로 형성된 버퍼층(13)을 더 포함하는 구조가 일반적이다.
도 1b는 도 1a 구조의 강유전체 메모리 소자의 시리즈 캐패시터(series capacitor)의 개념을 나타낸 도면이다. 도 1a 및 도 1b를 참조하면, 버퍼층(13)을 실리콘 기판(11) 및 강유전체층(14) 사이에 형성함으로써, 버퍼층(13)과 강유전체층(14)은 시리즈 캐패시터(series capacitor)를 형성하게 되고, 강유전체층(14)의 다이 폴(dipole) 방향을 역전시키려는 depolarization field 성분이 크게 증가하는 결과를 낳게 된다. 이에 따라, 강유전체 메모리 소자의 리텐션 특성을 열화시켜 안정된 메모리 소자의 구동이 어려워지는 문제가 발생하게 된다.
본 발명에서는 비실리콘 기판 상에 탄소 함유 물질로 채널을 형성함으로써 리텐션 특성을 향상시킨 강유전체 메모리 소자를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명에서는 상기 목적을 달성하기 위하여,
강유전체 메모리 소자에 있어서,
탄소 함유 물질을 포함하는 채널;
상기 채널 상에 형성된 강유전체층;
상기 강유전체층 상에 형성된 게이트 전극층; 및
상기 채널 양측에 각각 연결된 소스 및 드레인;을 포함하는 강유전체 메모리 소자를 제공한다.
본 발명의 일 측면에 있어서, 상기 탄소 함유 물질은 바이폴라 특성을 지닌 물질일 수 있다.
본 발명의 일 측면에 있어서, 상기 채널은 CNT 또는 그라핀으로 형성된 것일 수 있다.
본 발명의 일 측면에 있어서, 상기 소스 및 드레인은 전도성 물질로 형성된 것일 수 있다.
본 발명의 일 측면에 있어서, 상기 전도성 물질은 금속 또는 전도성 금속 산화물일 수 있다.
본 발명의 일 측면에 있어서, 상기 채널은 비실리콘 기판 상에 형성된 것일 수 있다.
본 발명의 일 측면에 있어서, 상기 기판은 산화물 또는 질화물로 형성된 것일 수 있다.
본 발명의 일 측면에 있어서, 상기 기판은 투광성 기판이나 가요성 기판인 것일 수 있다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 의한 강유전체 메모리 소자에 대해 상세하게 설명하고자 한다. 참고로, 도면에 도시된 각 층의 두께 및 폭은 설명을 위하여 다소 과장되게 표현되었음을 명심하여야 한다.
도 2는 본 발명의 실시예에 의한 강유전체 메모리 소자의 구조를 나타낸 도면이다.
도 2를 참조하면, 기판(21) 상에 소스(21a) 및 드레인(21b)가 형성되어 있으며, 소스(21a) 및 드레인(21b) 사이에는 채널(22)이 형성되어 있으며, 채널(22) 상에는 강유전체층(23) 및 게이트 전극(24)이 순차적으로 형성되어 있다.
이하, 본 발명의 실시예에 의한 강유전체 메모리 소자의 각 층을 형성하는 물질을 설명하면 다음과 같다.
먼저, 기판(21)은 실리콘 기판이 아닌 절연체 물질인 산화물 또는 질화물을 사용 가능하며, 글래스, 투명 산화물 등의 투광성 기판이나 플라스틱 등의 가요성(flexible) 기판 또한 사용 가능하다. 소스(21a) 및 드레인(21b)는 Al, Pt, Ag, Au, Ir, Zr, Ti 또는 W 등의 금속 또는 전도성 금속 화합물 등으로 형성할 수 있다. 본 발명의 실시예에 의한 강유전체 메모리 소자의 경우, 실리콘 물질을 기판 또는 채널로 사용하지 않기 때문에 소스(21a) 및 드레인(21b)을 형성하기 위하여 별도의 불순물 도핑 공정을 사용하지 않고, 전도성 물질을 기판(21) 상에 형성하여 소스(21a) 및 드레인(21b)을 형성한다. 강유전체층(23)은 강유전성 물질로 형성된 것으로, 일반적으로 강유전체 캐패시터에 강유전성 물질로 사용되는 것이면 제한이 없다. 구체적으로 Pb-Zr-Ti(PZT, PbZrTiO3), Sr-Bi-Ta(SBT, SrBiTa2O9), Bi-La-Ti(BLT, (BiLa)4Ti3O12) 또는 Ba-Sr-Ti(BST, BaSrTiO3) 등의 물질로 형성된 것일 수 있다.
본 발명의 실시예에 의한 강유전체 메모리 소자의 경우, CNT 또는 그라핀 등의 탄소 함유 물질을 채널(22)로 사용하며, 소스(21a) 및 드레인(21b)은 전도성 물질로 형성한 것을 특징으로 한다. 일반적인 강유전체 메모리 소자의 경우, 버퍼층을 채널 및 강유전층 사이에 형성함으로써, 버퍼층이 자체로 유전층이 되어 강유전체층과 함께 시리즈 캐패시터를 형성하게 되어, 강유전체층의 다이폴 방향을 역전시키는 depolarization field가 증가한다. 반면 본 발명의 실시예에 의한 강유전체 메모리 소자의 경우, 채널(22)을 탄소 함유 물질을 사용함을써, 채널(22)과 강유전체층(23) 사이의 반응성이 거의 없으므로, 버퍼층을 별도로 형성할 필요가 없어 리텐션 특성이 크게 향상된다.
그리고, 종래의 강유전체 메모리 소자의 경우, 기판을 n형 또는 p형으로 도 핑된 Si으로 형성하고, 소스 및 드레인에 p형 또는 n형 도펀트로 도핑하는 경우, 채널에서의 캐리어(carrier)는 전자 또는 정공 중 하나로 한정이 되어 유니 폴라(uni-polar) 특성을 지닌다. 이에 따라, 강유전체층의 분극 방향(polarization direction)에 따라 채널에서의 캐리어의 밀도가 크게 차이가 나는 단점이 발생한다. 반면, 본 발명의 실시예에 의한 강유전체 메모리 소자의 경우, 전도성이며, 바이폴라(bi-polar) 특성을 지닌 탄소 함유 물질로 채널(22)이 형성된다. 이에 따라 강유전체층(23)의 분극 방향에 따른 채널(22)에서의 캐리어 농도의 변화가 없어 안정적인 동작 특성을 지닌 강유전체 메모리 소자를 제공할 수 있다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 의한 강유전체 메모리 소자의 제조 방법에 대해 설명하고자 한다. 도 3a 내지 도 3e는 본 발명의 실시예에 의한 강유전체 메모리 소자의 제조 방법을 나타낸 도면이다.
도 3a를 참조하면, 먼저 기판(21)을 마련한다. 기판(21)은 통상적인 반도체 소자에서 사용하는 실리콘 기판이 아닌 일반적인 절연체 물질인 Al2O3, SiO2 등의 산화물, 질화물 또는 가요성 물질 등으로 형성할 수 있다.
도 3b를 참조하면, 기판(21) 상에 탄소 함유 물질을 도포하여 채널(22a)을 형성한다. 탄소 함유 물질로 탄소 나노튜브(carbon nanotube) 또는 그라핀(graphene) 등을 사용할 수 있다. 탄소 나노튜브는 CVD 공정에 의해 기판(21) 상에 직접 성장시키는 방법이나, 탄소 함유 물질을 유기물 또는 무기물 용액에 혼합한 페이스트(paste)를 기판(21) 상에 인쇄하여 노광하는 방법으로 형성 할 수 있다.
도 3c를 참조하면, 채널(22) 상에 강유전체 물질층(23a) 및 전도성 물질층(24a)를 도포한다. 강유전체 물질층(23a)은 Pb-Zr-Ti(PZT, PbZrTiO3), Sr-Bi-Ta(SBT, SrBiTa2O9), Bi-La-Ti(BLT, (BiLa)4Ti3O12) 또는 Ba-Sr-Ti(BST, BaSrTiO3)와 같은 강유전 물질을 도포하여 형성할 수 있다. 그리고, 전도성 물질층(24a)은 Al, Pt, Ag, Au, Ir, Zr, Ti 또는 W 등의 금속 또는 전도성 금속 화합물 등으로 형성할 수 있다.
도 3d를 참조하면, 강유전체 물질층(23a) 및 전도성 물질층(24a)의 양측부를 제거함으로써 강유전체층(23) 및 게이트 전극층(24)을 형성한다. 그리고, 채널(22) 및 게이트 전극(24) 상에 절연성 물질을 도포하여 층간 절연막(26)을 형성하고 채널(22)을 노출시킨 뒤, 도 3e에 나타낸 바와 같이, 전도성 물질을 채널(22)에 도포하여 소스(21a) 및 드레인(21b)을 형성한다.
상기한 설명에서 많은 사항이 구체적으로 기재되어 있으나, 그들은 발명의 범위를 한정하는 것이라기보다, 바람직한 실시예의 예시로서 해석되어야 한다. 따라서, 본 발명의 범위는 설명된 실시예에 의하여 정하여 질 것이 아니고 특허 청구범위에 기재된 기술적 사상에 의해 정하여져야 한다.
도 1a는 종래 기술에 의해 강유전체 메모리 소자의 구조를 나타낸 단면도이다.
도 1b는 도 1a 구조의 강유전체 메모리 소자의 시리즈 캐패시터(series capacitor)의 개념을 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 의한 강유전체 메모리 소자의 구조를 나타낸 단면도이다.
도 3a 내지 도 3e는 본 발명의 실시예에 의한 강유전체 메모리 소자의 제조 방법을 나타낸 도면이다.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 >
11, 21... 기판 12a, 21a... 소스
12b, 21b... 드레인 13... 버퍼층
14, 23... 강유전체층 15, 24... 게이트 전극
22... 채널
Claims (8)
- 강유전체 메모리 소자에 있어서,탄소 함유 물질을 포함하는 채널;상기 채널 상에 형성된 강유전체층;상기 강유전체층 상에 형성된 게이트 전극층; 및상기 채널 양측에 각각 연결된 소스 및 드레인;을 포함하는 강유전체 메모리 소자.
- 제 1항에 있어서,상기 탄소 함유 물질은 바이폴라 특성을 지닌 물질인 강유전체 메모리 소자.
- 제 1항에 있어서,상기 채널은 CNT 또는 그라핀으로 형성된 강유전체 메모리 소자.
- 제 1항에 있어서,상기 소스 및 드레인은 전도성 물질로 형성된 강유전체 메모리 소자.
- 제 4항에 있어서,상기 전도성 물질은 금속 또는 전도성 금속 산화물인 강유전체 메모리 소자.
- 제 1항에 있어서,상기 채널은 비실리콘 기판 상에 형성된 강유전체 메모리 소자.
- 제 6항에 있어서,상기 기판은 산화물 또는 질화물로 형성된 강유전체 메모리 소자.
- 제 6항에 있어서,상기 기판은 투광성 기판이나 가요성 기판인 강유전체 메모리 소자.
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