KR20090126202A - 미소 기포 생성 장치, 미소 기포 생성 방법 및 기판 처리 장치 - Google Patents

미소 기포 생성 장치, 미소 기포 생성 방법 및 기판 처리 장치 Download PDF

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KR20090126202A
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Abstract

미소 기포를 포함하는 액체(23)를 생성하는 미소 기포 생성 장치(10)는, 미소 기포를 포함하는 액체(23)를 생성하는 미소 기포액 생성부(12)와, 미소 기포액 생성부(12)로부터 공급되는 미소 기포를 포함하는 액체(23)로부터, 이물을 제거하는 이물 제거 기구부(30)를 구비한다.

Description

미소 기포 생성 장치, 미소 기포 생성 방법 및 기판 처리 장치{MICROBUBBLE GENERATING DEVICE, MICROBUBBLE GENERATING METHOD, AND SUBSTRATE PROCESSING DEVICE}
본 발명은, 미소 기포 생성 장치, 미소 기포 생성 방법 및 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 예를 들면, 미소 기포를 포함하는 세정용의 액체를 생성하는 미소 기포 생성 장치 및 미소 기포 생성 방법이나, 미소 기포를 포함하는 세정용의 액체를 이용하여 기판을 처리하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
일례로서 기판 처리 장치는, 기판의 제조 공정에서 기판에 대해 순수나 약액 등의 액체를 공급하여 처리를 행한다. 이런 종류의 기판 처리 장치에서는, 기판에 부착된 파티클이나 액체 중에 부유하는 파티클을 제거할 필요가 있다.
기판의 파티클을 제거하기 위해, 특허 문헌 1에서는, 기판 처리 장치에 대해 마이크로 버블 발생부를 접속하여, 마이크로 버블 발생부로부터 마이크로 버블을 포함하는 순수를 처리조 내의 기판으로 공급하는 것이 제안되어 있다.
이 마이크로 버블 발생부의 구조는, 특허 문헌 1의 도 9에 기재되어 있고, 마이크로 버블 발생부는, 케이싱 중에 송수관과, 이 송수관을 둘러싸는 송기로를 형성한 구조가 되어 있다. 송기로는 질소 가스 공급부와 진공 펌프에 접속되어 있고, 송기로를 흐르는 질소 가스의 압력은 진공 펌프의 작동에 의해 조정되고, 케이싱 내가 가감압(加減壓)된다.
이에 의해, 케이싱 내를 감압한 경우에는, 송수관을 흐르는 순수로부터 여분의 기체가 과포화가 되어 석출해, 그 기체는 중공자 분리막을 통해 송기로로 유출한다. 또, 케이싱 내를 가압했을 경우에는, 송기로를 흐르는 질소 가스가, 중공자 분리막을 통해 송수관 내의 순수 중에 가압 용융하도록 되어 있다.
[특허 문헌 1: 일본국 특허 공개 2006－179765호 공보]
그런데, 특허 문헌 1에 기재되어 있는 마이크로 버블 발생부를 이용해 미소 기포를 포함하는 액체를 생성할 때에는, 마이크로 버블 발생부는 금속 부품을 이용하여 구성하는 것이 일반적이다. 그러나, 금속 부품을 이용하면, 미소 기포를 포함하는 액체 내에는 반도체 웨이퍼를 세정할 때에 악영향을 주는 금속 이온이, 금속 부품으로부터 용출하여 포함되게 된다. 이 때문에, 기판을 세정 처리할 때에, 기판에 금속 이온이 부착하게 되고, 기판 처리 후의 후 공정에서의 문제가 생길 우려가 있다. PN접합에서의 전류 리크나 산화막의 내력(耐力) 불량이 있어, 캐리어 라이프 타임의 저하 등을 초래하고, 반도체 디바이스의 전기적 특성을 치명적으로 열화시키게 된다.
본 발명은, 상기에 감안하여 이루어진 것으로서, 그 목적은 금속 이온 등의 이물을 확실히 제거할 수 있는 미소 기포 생성 장치, 미소 기포 생성 방법 및 기판 처리 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 미소 기포 생성 장치는, 미소 기포를 포함하는 액체를 생성하는 미소 기포 생성 장치로서, 상기 미소 기포를 포함하는 액체를 생성하는 미소 기포액 생성부와, 상기 미소 기포액 생성부로부터 공급되는 상기 미소 기포를 포함하는 액체로부터, 이물을 제거하는 이물 제거 기구부를 구비하는 것을 특징으로 한다.
또, 본 발명의 미소 기포 생성 방법은, 미소 기포를 포함하는 액체를 생성하는 미소 기포액 생성부와, 미소 기포액 생성부로부터 공급되는 미소 기포를 포함하는 액체로부터 이물을 제거하는 이물 제거 기구부를 이용해, 미소 기포를 포함하는 액체를 생성하는 미소 기포 생성 방법으로서, 미소 기포액 생성부에 의해 상기 미소 기포를 포함하는 액체를 생성하여 상기 이물 제거 기구부에 의해 상기 미소 기포액 생성부로부터 공급되는 상기 미소 기포를 포함하는 액체로부터 이물을 제거하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 기판 처리 장치는, 미소 기포를 포함하는 액체를 생성하는 미소 기포 생성 장치를 구비하는 기판 처리 장치이고, 상기 미소 기포 생성 장치는, 상기 미소 기포를 포함하는 액체를 생성하는 미소 기포액 생성부와, 상기 미소 기포액 생성부로부터 공급되는 상기 미소 기포를 포함하는 액체로부터 이물을 제거하는 이물 제거 기구부를 구비하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 실시 형태에 대해 도면을 참조해 설명한다.
<제1 실시 형태>
도 1은, 본 발명의 미소 기포 생성 장치의 제1 실시 형태를 나타낸다.
도 1에 나타낸 바와 같이, 미소 기포 생성 장치(10)는, 물 공급부(11)와, 기체 공급부(20)와, 미소 기포수 생성부(12)와, 이물 제거 기구부(30)를 가진다.
이물 제거 기구부(30)는, 금속 이온 제거 필터(13)와 유기 오염 제거 장치(14)와 용존 가스 제거 기구(15) 및 파티클 제거부(16)의 적어도 하나를 포함하 고, 이러한 요소의 배열 순서는, 특별히 한정되지 않는다.
도 1에 나타내는 물 공급부(11)는, 밸브(11B)를 개방함으로써, 액체의 일예로서 물을 미소 기포수 생성부(12)에 공급할 수 있다. 기체 공급부(20)는, 밸브(20B)를 개방함으로써, 기체의 일례로서 질소 가스를 미소 기포수 생성부(12)에 공급할 수 있다.
도 1에 나타내는 미소 기포수 생성부(12)는, 미소 기포액 생성부의 일례이고, 기체 공급부(20)로부터 공급된 질소 가스(21)를 예를 들면 제1 다공질 필터를 통과시키고, 또한, 물 공급부(11)로부터 공급된 물(22)을 예를 들면 제2 다공질 필터에 통과시킴으로써, 물 속에 다수의 미소 기포를 생성하여 포함시킨다. 이에 의해, 미소 기포수 생성부(12)는, 기체와 물로부터 다수의 미소 기포를 포함하는 물(23)을 생성할 수 있다. 생성된 미소 기포를 포함하는 액체(23)는, 금속 이온 제거 필터(13)에 공급되도록 되어 있다.
도 1에 나타내는 이물 제거 기구부(30)의 금속 이온 제거 필터(13)는, 미소 기포를 포함하는 물(23) 중의 금속 불순물을 제거하기 위한 필터이고, 예를 들면 바람직하게는 이온 교환 수지를 이용해 형성되어 있다. 이온 교환 수지로서는, 음이온 교환 수지 또는 양이온 교환 수지의 단상(單床), 혹은 양자의 혼상(混床) 등을 이용할 수 있다.
이물 제거 기구부(30)의 유기 오염 제거 장치(14)는, 유기계의 오염물을 제거하는 부분이고, 예를 들면 자외선(UV)을, 미소 기포를 포함하는 물(23)에 조사하도록 되어 있다. 이에 미소 기포를 포함하는 물(23) 중의 유기 오염물을 제거하는 것이 가능해진다. 유기물 오염은, 산화막의 전기 특성에 영향을 미치기 때문에 제거된다.
자외선의 파장 또는 에너지 강도를 제어함으로써, 미소 기포를 압괴하지 않고, 미소 기포를 포함하는 액체 중의 유기물의 제거가 가능해진다. 또, 상기 제어를 행함으로써 효율적으로 미소 기포를 포함하는 액체로부터 유기물을 제거할 수 있다.
이물 제거 기구부(30)의 용존 가스 제거 기구(15)는, 미소 기포를 포함하는 물(23) 중의 용존 가스, 예를 들면 산소 가스나 탄산 가스 등 용존 가스를 제거하는 탈기막이다. 예를 들면, 산소 가스가 용존하고 있으면, 기판의 산화를 촉진하기 때문에, 그 산소 가스를 제거할 필요가 있다.
이물 제거 기구부(30)의 파티클 제거부(16)는, 미소 기포를 포함하는 물(23) 중의 파티클 등의 고체 이물을 제거하는 필터이다. 파티클은 기판에 부착하면, 기판의 배선이 쇼트하거나 해서, 반도체 디바이스의 전기 특성에 영향을 미치기 때문에, 미소 기포를 포함하는 물(23) 중의 파티클 등의 고체 이물은 제거된다. 파티클 제거부(16)를 통과한 미소 기포를 포함하는 액체(23)는, 세정 장치(100)에 공급하도록 되어 있다.
또한, 미소 기포가 금속 이온 제거 필터(13)나 파티클 제거부(16)를 통과해도, 미소 기포는 부정형이므로 파열하지 않는다. 종래에서는 세정 장치에 미소 기포를 공급할 때에 필터 등이 복수개 필요하지만, 상기 구성으로 함으로써 필터를 하나로 할 수 있어 구성을 간단화할 수 있다.
도 2는, 도 1에 나타내는 미소 기포 생성 장치(10)와, 세정 장치(100)의 일례로서 기판 처리 장치를 나타낸다.
도 2에 나타내는 세정 장치(100)는, 기판 유지부(71)와, 공급 노즐(75) 용의 조작부(72)와, 다운 플로우 용의 필터가 부착된 팬(73)과, 컵(74)과, 공급 노즐(75)과, 처리실(76)을 가진다.
기판 유지부(71)는, 원판의 베이스 부재(77)와, 회전축(78)과, 모터(79)를 가지고, 베이스 부재(77) 위에는 기판 W가 착탈 가능하게 고정되어 있다. 처리실(76) 내에는, 컵(74)과 공급 노즐(75)과 베이스 부재(77)와 회전축(78)이 수용되어 있다. 모터(79)가 제어부(80)의 지령에 의해 동작함으로써, 베이스 부재(77)는 R방향으로 연속 회전할 수 있다. 밸브(11B)와 밸브(20B)는, 제어부(80)의 지령에 의해 개폐량을 제어할 수 있다.
도 2에 나타내는 공급 노즐(75)은, 기판 W의 상부에 배치되어 있고, 공급 노즐(75)은, 조작부(72)의 동작에 의해, Z방향(상하 방향)과 X방향(기판의 반지름 방향)으로 이동 가능하다.
도 2에 나타내는 미소 기포 생성 장치(10)의 파티클 제거부(16)는, 튜브(81)를 통해 공급 노즐(75)에 접속되어 있다. 따라서, 미소 기포를 포함하는 물(23)은 튜브(81)를 통해 공급 노즐(75)에 공급되므로, 그 미소 기포를 포함하는 물(23)은 공급 노즐(75)을 통해 기판 W의 표면에 분사된다. 이와 같이 미소 기포를 포함하는 물(23)을 기판 W의 표면에 분사함으로써, 미소 기포가 가지는 마이너스 전위로, 플러스에 차지된 파티클과 같은 오염물을 감싸고, 이 오염물을 미소 기포와 함께 기 판 W의 표면으로부터 제거할 수 있다.
미소 기포를 포함하는 물(23)을 생성할 때에, 비록 금속 이온이나 파티클 등의 이물이 물에 용해한다고 해도, 이물 제거 기구부(30)는 금속 이온이나 파티클 등의 이물을 확실히 제거할 수 있다. 따라서, 기판 W를 세정 처리할 경우에, 기판 W에 대해 이물에 의한 악영향이 생기지 않는다.
<제2 실시 형태>
도 3은, 본 발명의 미소 기포 생성 장치의 제2 실시 형태를 나타낸다.
도 3에 나타내는 제2 실시 형태의 미소 기포 생성 장치(10B)가, 도 1과 도 2에 나타내는 제1 실시 형태의 미소 기포 생성 장치(10)와 다른 점은, 파티클 제거부(16)로부터 미소 기포수 생성부(12)에 대해 순환용의 배관(31)이 배치되어 있는 것이다. 그리고, 순환용의 배관(31)의 도중에는, 도 2에 나타내는 각 세정 장치(100)측의 튜브(81)가 접속되어 있다. 이러한 세정 장치(100)는, 도 2에 나타내는 세정 장치(100)와 같은 것이다. 또, 미소 기포수 생성부(12)는, 미소 기포를 포함하는 물(23)의 일부를 필요에 따라 배수하기 위한 탱크(40)를 구비한다.
도 3에 나타내는 제2 실시 형태의 미소 기포 생성 장치(10B)의 그 외의 구성 요소는, 도 1과 도 2에 나타내는 제1 실시 형태의 미소 기포 생성 장치(10)의 대응하는 구성 요소와 같으므로, 제2 실시 형태에서는, 제1 실시 형태와 같은 부호를 부여해 그 설명을 생략한다.
도 3에 나타낸 바와 같이, 파티클 제거부(16)로부터 미소 기포수 생성부(12)에 대해 순환용의 배관(31)이 배치되어 있으므로, 1대의 미소 기포 생성 장치(10B) 로부터 복수의 세정 장치(100)의 기판에 대해, 이물(오염물)을 포함하지 않는 미소 기포를 포함하는 물(23)을 확실히 공급할 수 있다. 또, 미소 기포를 포함하는 물(23)의 일부 혹은 전부를 반복하여 재이용할 수 있으므로, 기체와 물의 이용 효율이 향상한다.
게다가, 미소 기포 생성 장치(10B)에서는, 미소 기포수 생성부(12)에서 새로운 미소 기포를 포함하는 물(23)을 생성한다. 또, 파티클 제거부(16)로부터 미소 기포수 생성부(12)에 대해 순환하여 돌아온 미소 기포를 포함하는 물(23)의 일정량은, 탱크(40)에 배수하고, 나머지의 미소 기포를 포함하는 물(23)에 대해 새로운 미소 기포를 포함하는 물(23)을 더할 수 있다. 이에 의해 미소 기포를 포함하는 물(23) 중의 미소 기포의 양과, 미소 기포를 포함하는 물(23)의 청정도를 제어할 수 있다.
상술한 각 본 발명의 실시 형태에서는, 이물 제거 기구부(30)를, 금속 불순물 필터, 유기 오염 제거 장치, 용존 가스 제거 기구, 그리고 파티클 제거부의 적어도 하나를 포함하도록 구성할 수 있다. 게다가, 이물 제거 기구부(30)의 각 요소의 배열 순서는, 특별히 한정되지 않는다.
또한, 본 발명의 실시 형태에서는, 액체로서 순수를 이용하지 않아도 통상의 물을 이용할 수 있다.
본 발명의 미소 기포 생성 장치는, 미소 기포를 포함하는 액체를 생성하는 미소 기포 생성 장치로서, 미소 기포를 포함하는 액체를 생성하는 미소 기포액 생성부와, 미소 기포액 생성부로부터 공급되는 미소 기포를 포함하는 액체로부터 이 물을 제거하는 이물 제거 기구부를 구비한다. 이에 의해, 미소 기포를 포함하는 액체로부터 금속 이온 등의 이물을 확실히 제거할 수 있다.
이물 제거 기구부는, 미소 기포를 포함하는 액체로부터 금속 불순물을 제거하는 금속 불순물 필터를 포함한다. 이에 의해, 미소 기포를 포함하는 액체로부터 금속 불순물을 확실히 제거할 수 있다.
이물 제거 기구부는, 미소 기포를 포함하는 액체로부터 유기계의 오염물을 제거하는 유기 오염 제거 장치를 포함한다. 이에 의해, 미소 기포를 포함하는 액체로부터 유기계의 오염물을 확실히 제거할 수 있다.
이물 제거 기구부는, 미소 기포를 포함하는 액체로부터 용존 가스를 제거하는 용존 가스 제거 기구를 포함한다. 미소 기포를 포함하는 액체로부터 용존 가스를 확실히 제거할 수 있다.
이물 제거 기구부는, 미소 기포를 포함하는 액체로부터 파티클을 제거하는 파티클 제거부를 포함한다. 미소 기포를 포함하는 액체로부터 파티클을 확실히 제거할 수 있다.
이물 제거 기구부는, 금속 불순물 필터, 유기 오염 제거 장치, 용존 가스 제거 기구, 그리고 파티클 제거부의 적어도 하나를 포함한다. 이에 의해, 필요에 따라 임의로 그들을 조합하여 이물 제거 기구부를 구성할 수 있다.
미소 기포액 생성부와 이물 제거 기구부는, 이물 제거 기구부를 통과한 미소 기포를 포함하는 액체를 미소 기포액 생성부에 되돌리기 위한 순환용의 배관에 의해 접속되어 있다. 이에 의해, 미소 기포 생성 장치로부터 복수의 세정 장치의 기 판에 대해, 이물(오염물)을 포함하지 않는 미소 기포를 포함하는 물을 확실히 공급할 수 있다. 또, 미소 기포를 포함하는 물의 일부 혹은 전부를 반복해서 재이용할 수 있으므로, 기체와 물의 이용 효율이 향상한다.
도 4는, 미소 기포 생성 장치의 운전 시간과 미소 기포수의 관계예를 나타내는 그래프이다. 도 4에서는, 세로축이 미소 기포수이고, 가로축은 운전 시간을 나타낸다. 도 4에 나타내는 곡선에서의 포인트 P1은, 도 1에 나타내는 제1 실시 형태의 미세 기포 생성 장치(10)에서의 미소 기포수를 나타내고, 도 4에 나타내는 곡선에서의 포인트 P2, P3, P4는, 도 3에 나타내는 제2 실시 형태의 미소 기포 생성 장치(10B)에서의 미소 기포수를 나타낸다.
도 4에 나타내는 예로 분명하지만, 도 3에 나타내는 제2 실시 형태의 미소 기포 생성 장치(10B)와 같이, 미소 기포를 포함하는 물(23)을 순환 이용함으로써, 도 1에 나타내는 제1 실시 형태의 미소 기포 생성 장치(10)에 비해, 미소 기포수를 증가시키면서 미소 기포 생성 장치(10B)의 운전 시간을 늘릴 수 있고, 미소 기포를 포함하는 물(23)의 이용 효율을 향상시킬 수 있다. 또, 미소 기포 생성 장치를 연속 운전할 수 있으므로, 미소 기포 생성 장치의 운전 개시, 운전 종료시의 불안정한 상태를 없애는 것이 가능하게 되고, 안정된 미소 기포를 포함하는 물(23)을 세정 장치(100)측에 공급하는 것이 가능해진다.
그런데, 본 발명에서는, 미소 기포란, 미세 기포 혹은 마이크로·나노 버블이라고도 하고, 마이크로 버블(MB), 마이크로 나노 버블(MNB), 나노 버블(NB)을 포함하는 개념이다. 마이크로 버블(MB)이란, 그 발생시에 기포의 직경이 10㎛~수십㎛ 이하의 미소한 기포를 하고, 마이크로 나노 버블(MNB)이란, 그 발생시에 기포의 직경이 수백㎚~10㎛ 이하의 미소한 기포를 한다. 또한, 나노 버블(NB)이란, 수백㎚이하의 미소한 기포를 한다.
기체로서는, 질소 가스에 대신하여 오존 가스나 공기를 이용할 수 있다. 액체로서는, 순수 외에 산성액이나 알칼리액을 이용할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시 형태에 개시되어 있는 복수의 구성 요소를 적절히 조합함으로써 여러 가지의 발명을 형성할 수 있다. 예를 들면, 본 발명의 실시 형태에 나타내는 전구성 요소로부터 여러 구성 요소를 삭제해도 된다. 또한, 다른 실시 형태에 걸쳐 구성 요소를 적절히 조합해도 된다.
이상, 본 발명의 실시 형태를 설명했지만, 구체적인 예를 예시하는 것에 불과하고, 특별히 본 발명을 한정하는 것은 아니고, 각부의 구체적 구성 등은, 적절히 변경 가능하다. 또, 실시 형태에 기재된 작용 및 효과는, 본 발명으로부터 생기는 가장 적합한 작용 및 효과를 열거한 것에 불과하고, 본 발명에 의한 작용 및 효과는, 본 발명의 실시 형태에 기재된 것으로 한정되지 않는다. 본 발명은, 예를 들면, 미소 기포를 포함하는 액체(예를 들면 세정용의 액체)를 생성하는 미소 기포 생성 장치 및 미소 기포 생성 방법, 또한, 미소 기포를 포함하는 액체(예를 들면 세정용의 액체)를 이용하여 기판을 처리하는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 등으로 이용된다.
도 1은, 본 발명의 미소 기포 생성 장치의 제1 실시 형태를 나타내는 도면이다.
도 2는, 도 1에 나타내는 세정 장치의 예를 나타내는 도면이다.
도 3은, 본 발명의 미소 기포 생성 장치의 제2 실시 형태를 나타내는 도면이다.
도 4는, 본 발명의 미소 기포 생성 장치의 실시 형태에서의 미소 기포 생성 장치의 운전 시간과 미소 기포수의 관계예를 나타내는 도면이다.

Claims (9)

  1. 미소 기포를 포함하는 액체를 생성하는 미소 기포 생성 장치로서,
    상기 미소 기포를 포함하는 액체를 생성하는 미소 기포액 생성부와,
    상기 미소 기포액 생성부로부터 공급되는 상기 미소 기포를 포함하는 액체로부터, 이물을 제거하는 이물 제거 기구부를 구비하는 것을 특징으로 하는 미소 기포 생성 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 이물 제거 기구부는, 상기 미소 기포를 포함하는 액체로부터 금속 불순물을 제거하는 금속 불순물 필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 미소 기포 생성 장치.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 이물 제거 기구부는, 상기 미소 기포를 포함하는 액체로부터 유기계의 오염물을 제거하는 유기 오염 제거 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 미소 기포 생성 장치.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 이물 제거 기구부는, 상기 미소 기포를 포함하는 액체로부터 용존 가스 를 제거하는 용존 가스 제거 기구를 포함하는 것을 특징으로 하는 미소 기포 생성 장치.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 이물 제거 기구부는, 상기 미소 기포를 포함하는 액체로부터 파티클을 제거하는 파티클 제거부를 포함하는 것을 특징으로 하는 미소 기포 생성 장치.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 이물 제거 기구부는, 상기 미소 기포를 포함하는 액체로부터 금속 불순물을 제거하는 금속 불순물 필터, 상기 미소 기포를 포함하는 액체로부터 유기계의 오염물을 제거하는 유기 오염 제거 장치, 상기 미소 기포를 포함하는 액체로부터 용존 가스를 제거하는 용존 가스 제거 기구, 그리고 상기 미소 기포를 포함하는 액체로부터 파티클을 제거하는 파티클 제거부의 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 미소 기포 생성 장치.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 미소 기포액 생성부와 상기 이물 제거 기구부는, 상기 이물 제거 기구부를 통과한 상기 미소 기포를 포함하는 액체를 상기 미소 기포액 생성부에 되돌리기 위한 순환용의 배관에 의해 접속되어 있는 것을 특징으로 하는 미소 기포 생성 장치.
  8. 미소 기포를 포함하는 액체를 생성하는 미소 기포액 생성부와, 상기 미소 기포액 생성부로부터 공급되는 상기 미소 기포를 포함하는 액체로부터, 이물을 제거하는 이물 제거 기구부를 이용하여, 상기 미소 기포를 포함하는 액체를 생성하는 미소 기포 생성 방법으로서,
    상기 미소 기포액 생성부에 의해, 상기 미소 기포를 포함하는 액체를 생성하고,
    상기 이물 제거 기구부에 의해, 상기 미소 기포액 생성부로부터 공급되는 상기 미소 기포를 포함하는 액체로부터 이물을 제거하는 것을 특징으로 하는 미소 기포 생성 방법.
  9. 미소 기포를 포함하는 액체를 생성하는 미소 기포 생성 장치를 구비하는 기판 처리 장치로서,
    상기 미소 기포 생성 장치는,
    상기 미소 기포를 포함하는 액체를 생성하는 미소 기포액 생성부와,
    상기 미소 기포액 생성부로부터 공급되는 상기 미소 기포를 포함하는 액체로부터, 이물을 제거하는 이물 제거 기구부를 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
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