KR20090119569A - Apparatus for coating photoresist on substrate - Google Patents

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KR20090119569A
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floating
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이준석
박춘성
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주식회사 디엠에스
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Abstract

PURPOSE: An apparatus for coating a photoresist on a substrate is provided to coat a liquid chemical such as photoresist easily through a slit nozzle in transferring the substrate. CONSTITUTION: An apparatus for coating a photoresist on a substrate is composed of a worktable, a transport unit, a slit nozzle, and a support. A transferring unit(4) includes a lifting stage which lifts the substrate from the worktable and transfers it to the other. The slit nozzle(6) has an outlet of a slip-shape and coats a liquid chemical on one side of the substrate moved by the transport unit and is installed on a worktable.

Description

약액도포장치{apparatus for coating photoresist on substrate}Apparatus for coating photoresist on substrate}

본 발명은 약액도포장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 평판표시소자용 기판의 이송 중에 포토리소그라피용 포토레지스트와 같은 약액을 균일하게 도포할 수 있는 약액도포장치에 관한 것이다.The present invention relates to a chemical liquid applying apparatus, and more particularly, to a chemical liquid applying apparatus capable of uniformly applying a chemical liquid such as a photoresist for photolithography during transfer of a flat panel display element substrate.

평판표시소자용 기판의 기능성 박막들은 대부분 포토리소그라피(photolithography) 작업에 의해 소정의 패턴을 가지도록 형성된다.Most of the functional thin films of the substrate for flat panel display devices are formed to have a predetermined pattern by photolithography.

상기 포토리소그라피 작업은, 기판에 포토레지스트와 같은 약액을 일정 두께로 도포한 다음, 약액층을 노광 및 현상, 에칭하는 일련의 공정들을 포함하며, 특히 기판의 박막 위에 일정 두께로 균일하게 약액을 도포하는 작업이 매우 중요하다.The photolithography operation includes a series of processes of applying a chemical liquid, such as photoresist, to a substrate to a predetermined thickness, and then exposing, developing, and etching the chemical layer, and in particular, uniformly applying the chemical liquid to a thin film of the substrate. To do is very important.

이러한 도포 작업은, 주로 기판의 이송 중에 약액을 도포할 수 있는 약액도포장치에 의해 진행되며, 이 약액도포장치는 부상스테이지를 구비하여 에어 압력으로 기판을 부상시킨 상태로 이송하는 부상 방식의 이송 구조를 갖는다.This coating operation is mainly carried out by a chemical liquid applying apparatus capable of applying the chemical liquid during the transfer of the substrate, and the chemical liquid applying apparatus is provided with a floating stage and floated to transfer the substrate in a state where the substrate is floated by air pressure. Has

하지만, 상기한 약액도포장치는, 고가(高價)이면서 구조가 복잡한 부상스테이지를 기판의 전체 이송 구간 내에 설치해야 하므로 제작비가 과다하게 소요되는 단점이 있다.However, the above-mentioned chemical liquid applying apparatus has a disadvantage in that an expensive manufacturing cost is required because an expensive and complicated structured floating stage must be installed within the entire transfer section of the substrate.

그리고, 상기와 같이 기판의 전체 이송 구간과 대응하도록 부상스테이지들을 설치한 구조로는 만족할 만한 도포 품질을 얻기가 어렵다.In addition, it is difficult to obtain satisfactory coating quality with the structure in which the floating stages are installed to correspond to the entire transfer section of the substrate as described above.

예를들어, 에어 부상 방식은 기판의 이송 중에 기판 전체면의 평탄도(flatness)를 균일하게 유지하기가 어려우므로 특히, 약액 도포 지점에서 슬릿 노즐로 약액을 도포할 때 약액이 비정상으로 기판에 도포될 수 있다.For example, the air flotation method makes it difficult to maintain the flatness of the entire surface of the substrate uniformly during the transfer of the substrate. In particular, when the chemical liquid is applied with the slit nozzle at the chemical liquid application point, the chemical liquid is abnormally applied to the substrate. Can be.

이처럼, 기판의 이송 중에 약액이 비정상으로 도포되는 현상은 적어도 기판 이송 구간 내에 위치되는 약액 도포 지점에 기판 저면을 슬릿 노즐과 대응하는 상태로 평탄(평행)하게 지지할 수 있는 수단이나 장치가 구비되어 있지 않기 때문이다.As such, the phenomenon in which the chemical liquid is abnormally applied during the transfer of the substrate is provided with means or an apparatus capable of supporting the bottom of the substrate flatly (parallel) at a state corresponding to the slit nozzle at least at the chemical liquid application point located in the substrate transfer section. Because it is not.

본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로서,The present invention has been proposed to solve the above problems,

본 발명의 목적은, 기판의 이송 중에 도포 작업을 간편하게 진행할 수 있으며, 특히 약액 도포 지점에서 기판의 평탄도를 균일하게 유지하여 한층 향상된 도포 품질을 얻을 수 있는 약액도포장치를 제공하는데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a chemical liquid applying apparatus which can easily perform a coating operation during transport of a substrate, and in particular, maintain flatness of the substrate uniformly at the chemical liquid application point to obtain an improved coating quality.

상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위하여,In order to achieve the object as described above,

작업대;bench;

상기 작업대 상에서 기판을 부상시킨 상태로 일측에서 타측으로 이송하는 부 상스테이지로 구성되는 이송부;A conveying unit configured of a floating stage for conveying from one side to the other side with the substrate floating on the work table;

슬릿형의 토출구를 구비하고 상기 이송부에 의해 이동되는 기판의 일면에 약액을 도포할 수 있도록 상기 작업대 상에 설치되는 슬릿 노즐;A slit nozzle having a slit-shaped discharge port and installed on the worktable to apply a chemical to one surface of the substrate moved by the transfer unit;

상기 이송부의 기판 이송 구간 내에서 상기 슬릿 노즐의 슬릿형 토출구와 대응하는 기판 저면 부분을 선(線) 접촉 상태로 지지하는 지지수단;Support means for supporting a portion of the bottom surface of the substrate corresponding to the slit-type discharge port of the slit nozzle in a line contact state within a substrate transfer section of the transfer unit;

을 포함하는 약액도포장치를 제공한다.It provides a chemical liquid applying device comprising a.

이와 같은 본 발명은, 상기 이송부에 의해 기판을 부상 방식으로 이송시키면서 기판의 이송 중에 슬릿 노즐로 포토레지스트와 같은 약액을 간편하게 도포할 수 있다.The present invention can easily apply a chemical liquid such as a photoresist to the slit nozzle during the transfer of the substrate while transferring the substrate in a floating manner by the transfer unit.

특히, 기판의 부상 이송 구간 내에는 상기 슬릿 노즐의 토출구와 평행하게 기판 저면을 선(線) 접촉 상태로 지지할 수 있는 지지수단을 구비하고 있으므로 기판의 이송 중에 이 기판의 전체면 중에서 약액 도포 지점의 슬릿 노즐과 대응하는 부분을 평탄하게 지지할 수 있다.Particularly, in the floating conveyance section of the substrate, support means for supporting the bottom surface of the substrate in a line contact state in parallel with the discharge port of the slit nozzle are provided. It is possible to flatten the portion corresponding to the slit nozzle.

이와 같은 구조에 의하면, 상기 작업대 상에서 부상 이송 방식으로 기판을 이송하면서 도포 작업을 진행할 때 상기 슬릿 노즐로 약액을 균일하게 도포할 수 있도록 약액 도포 지점에서 기판의 평탄도를 대폭 높일 수 있다.According to such a structure, the flatness of the substrate can be significantly increased at the chemical liquid application point so that the chemical liquid can be uniformly applied to the slit nozzle when the application operation is carried out while transferring the substrate in the floating transfer method on the work table.

이하, 첨부된 도면에 의거하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 실시예들은 당 업계에서 평균적인 지식을 가진 자들이 본 발명의 실시가 가능한 범위 내에서 설명된다.Embodiments of the present invention are described to the extent that those of ordinary skill in the art can practice the present invention.

따라서, 본 발명의 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있는 것이므로 본 발명의 특허청구범위는 아래에서 설명하는 실시예들로 인하여 한정되는 것은 아니다.Therefore, since the embodiments of the present invention may be modified in various other forms, the claims of the present invention are not limited to the embodiments described below.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 약액도포장치의 전체 구조를 나타낸 도면으로서, 도면 부호 2는 작업대를 지칭한다.1 is a view showing the overall structure of the chemical liquid applying apparatus according to an embodiment of the present invention, 2 denotes a work table.

상기 작업대(2)는 기판(G)에 포토레지스트와 같은 약액(W)을 도포하기 위한 작업면을 제공할 수 있도록 형성된다.The work table 2 is formed to provide a working surface for applying a chemical liquid W such as a photoresist to the substrate G.

즉, 상기 작업대(2)는 도 1을 기준으로 할 때 좌/우로 연장 형성된 금속 프레임 형태로 이루어져서 기판(G)을 좌측에서 우측으로 이송시키면서 약액(W)의 도포 작업을 진행할 수 있는 작업 면적을 제공한다.That is, the work table 2 is formed in the form of a metal frame extending to the left / right when based on Figure 1 to move the substrate (G) from left to right while the work area for proceeding the application of the chemical liquid (W) to provide.

상기 작업대(2) 상에는 부상(浮上) 방식으로 기판(G)을 이송하는 이송부(4)가 설치된다.On the work table 2, a transfer part 4 for transferring the substrate G in a floating manner is installed.

상기 이송부(4)는 제1 및 제2 부상스테이지(S1, S2)와, 이송레일(S3)로 구성되며, 기판(G)을 부상시킨 상태로 상기 작업대(2) 일측(좌측)에서 타측(우측)으로 이송할 수 있도록 셋팅된다.The transfer part 4 is composed of first and second floating stages S1 and S2 and a transfer rail S3, and the other side (left side) from one side (left side) of the work table 2 with the substrate G floating thereon. It is set so that it can be transferred to the right side.

즉, 상기 제1 및 제2 부상스테이지(S1, S2)는 상기 작업대(2) 윗면의 가운데 지점을 사이에 두고 도 1 및 도 2에서와 같이 일측편과 타측편에 설치된다.That is, the first and second floating stage (S1, S2) is installed on one side and the other side as shown in Figures 1 and 2 with the middle point between the upper surface of the work table (2).

상기 제1 및 제2 부상스테이지(S1, S2)는 복수 개의 에어 분사홀(H1, H2)들이 형성되어 이 에어 분사홀(H1, H2)들을 통해 분사되는 에어 압력으로 기판(G)의 저면을 비접촉 상태로 지지하면서 수평하게 부상시키는 통상의 부상용 스테이지 구조로 이루어진다.The first and second floating stages S1 and S2 have a plurality of air injection holes H1 and H2 formed therein, and the bottom surface of the substrate G is formed by air pressure injected through the air injection holes H1 and H2. It consists of the normal floating stage structure which floats horizontally, supporting in a non-contact state.

상기 제1 부상스테이지(S1)는 상기 작업대(2)에서 기판(G)을 도포 지점으로 이송하는 인렛 이송 구간(L1, inlet transfer zone)을 형성하고, 상기 제2 부상스테이지(S2)는 아울렛 이송 구간(L2, outlet transfer zone)을 형성한다.The first floating stage S1 forms an inlet transfer zone L1 for transferring the substrate G from the work table 2 to an application point, and the second floating stage S2 is an outlet transfer. An outlet transfer zone (L2) is formed.

그리고, 상기 이송레일(S3)은 도 2에서와 같이 상기 제1 및 제2 부상스테이지(S1, S2)를 사이에 두고 상기 작업대(2) 양쪽에 배치된다.In addition, the transfer rail S3 is disposed on both sides of the work table 2 with the first and second floating stages S1 and S2 interposed therebetween as shown in FIG. 2.

상기 이송레일(S3)은 복수 개의 진공척(C, vacuum chuck)을 구비하고, 이 진공척(C)들은 기판(G)의 양측 테두리부를 한 군데 이상 흡착 고정할 수 있도록 도 2에서와 같이 위치된다.The transfer rail S3 includes a plurality of vacuum chucks C, and the vacuum chucks C are positioned as shown in FIG. 2 so as to suction and fix at least one edge portion of both sides of the substrate G. do.

상기 진공척(C)들은 기판(G)의 양쪽 테두리부를 척킹한 상태로 상기 이송레일(S3)의 레일 구간을 따라 이동 가능한 통상의 구조로 이루어진다.The vacuum chucks C have a conventional structure which is movable along a rail section of the transfer rail S3 while chucking both edge portions of the substrate G.

이와 같은 이송부(4) 구조에 의하면, 상기 작업대(2)의 인렛 이송 구간(L1) 측에서 상기 아울렛 이송 구간(L2)을 향하여 부상 이송 방식으로 기판(G)을 간편하게 이송할 수 있다.(도 1참조)According to the structure of the transfer part 4, the substrate G can be easily transferred by the floating transfer method from the inlet transfer section L1 side of the work table 2 toward the outlet transfer section L2. 1)

이처럼, 에어 압력을 이용하여 기판(G)을 부상시킨 상태로 이송하는 구조는 해당 분야에서 이미 널리 알려지고 사용되는 구조를 일예로 설명한 것이므로 더욱 상세한 설명은 생략한다.As such, the structure for transporting the substrate G in the floating state by using the air pressure has been described as an example of a structure that is already widely known and used in the art, and thus a detailed description thereof will be omitted.

상기 본 발명의 일실시예에 따른 약액도포장치는, 슬릿 노즐(6)을 포함한다.The chemical liquid applying apparatus according to the embodiment of the present invention includes a slit nozzle (6).

상기 슬릿 노즐(6)은 기판(G)의 이송 중에 포토레지스트와 같은 약액(W)을 도포할 수 있도록 상기 작업대(2) 상에 설치된다.The slit nozzle 6 is installed on the work table 2 so as to apply a chemical liquid W, such as a photoresist, during the transfer of the substrate G.

즉, 상기 슬릿 노즐(6)은 슬릿형(sit type)의 토출구(N)를 구비하고, 상기 이송부(4)의 제1 및 제2 부상스테이지(S1, S2) 사이에서 상기 토출구(N)의 립(lip) 부분이 아래를 향하는 상태로 도 1 및 도 2에서와 같이 배치된다.That is, the slit nozzle 6 has a slit type discharge port N, and between the first and second floating stages S1 and S2 of the transfer part 4, The lip portion is disposed as shown in Figs. 1 and 2 with the bottom facing down.

상기 슬릿 노즐(6)은 예를들어, 게이트형(gate type)의 겐트리(8, gantry) 일측에 고정되어 상기 작업대(2) 상에서 상기 이송부(4)를 따라 이송되는 기판(G)의 일면(윗면)에 포토레지스트와 같은 약액(W)을 도포할 수 있도록 설치될 수 있다.The slit nozzle 6 is fixed to one side of a gate type gantry 8, for example, and has one surface of the substrate G transferred along the transfer part 4 on the work table 2. It can be installed so as to apply a chemical solution (W) such as a photoresist (on the top).

그리고, 상기 슬릿 노즐(6)은 상기 겐트리(8) 측에서 도 1에서와 같이 가이드 레일(U, 예: LM 가이드)을 따라 상/하로 위치 조절이 가능하게 설치될 수 있다.In addition, the slit nozzle 6 may be installed to be positioned up and down along the guide rail U (eg, an LM guide) as shown in FIG. 1 on the gantry 8 side.

상기 슬릿 노즐(6)은 도면에는 나타내지 않았지만 포토레지스트와 같은 약액(W)이 일정량 저장된 약액 탱크와 관체로 연결되어 약액(W)을 통상의 방법으로 공급받아서 상기 토출구(N)로 토출할 수 있도록 셋팅된다.Although not shown in the drawing, the slit nozzle 6 is connected to a chemical liquid tank such as a photoresist that is stored in a predetermined amount in a tubular body so that the chemical liquid W can be supplied in a conventional manner and discharged to the discharge port N. Is set.

한편, 상기 본 발명의 일실시예에 따른 약액도포장치는, 지지수단(10)을 포함한다.On the other hand, the chemical applying device according to an embodiment of the present invention, includes a support means (10).

상기 지지수단(10)은 상기 슬릿 노즐(6)과 대응하는 기판(G) 이송 지점에서 토출구(N)의 길이 방향과 대응하는 선(線) 접촉 상태로 기판(G) 저면을 지지할 수 있도록 구성된다.The support means 10 may support the bottom surface of the substrate G in a line contact state corresponding to the longitudinal direction of the discharge port N at the transfer point of the substrate G corresponding to the slit nozzle 6. It is composed.

이를 위하여 본 실시예에서는 도 3에서와 같이 상기 슬릿 노즐(6) 아래쪽에 지지용 로울러(R)를 설치하여 이 지지용 로울러(R)의 외부면에 의해 기판(G) 저면 이 선 접촉 상태로 지지되도록 하고 있다.To this end, in this embodiment, as shown in FIG. 3, a support roller R is installed below the slit nozzle 6, and the bottom surface of the substrate G is brought into line contact state by the outer surface of the support roller R. FIG. To be supported.

상기 지지용 로울러(R)는 일정 크기의 직경을 가지며 축선이 상기 슬릿 노즐(6)의 토출구(N) 길이 방향과 대응하도록 배치된 상태로 회전 가능하게 설치된다.The supporting roller (R) has a diameter of a predetermined size and is rotatably installed in a state in which an axis line is disposed so as to correspond to the longitudinal direction of the discharge port (N) of the slit nozzle (6).

즉, 상기 지지용 로울러(R)는 상기 제1 및 제2 부상스테이지(S1, S2) 사이에서 상기 슬릿 노즐(6)과 대응하는 상태로 도 2에서와 같이 배치되고, 양단이 통상의 베어링 블록(B)에 끼워져서 축선을 중심으로 회전 가능한 상태로 상기 작업대(2) 상에 고정 설치될 수 있다.That is, the supporting roller R is disposed as shown in FIG. 2 in a state corresponding to the slit nozzle 6 between the first and second floating stages S1 and S2, and both ends thereof are the usual bearing blocks. (B) can be fixedly installed on the work table (2) in a state rotatable about an axis.

상기 지지용 로울러(R)는 전체 둘레 외부면 중에서 위쪽 외부면이 상기 제1 및 제2 부상스테이지(S1, S2)들과 대응하는 높이로 위치되고, 상기 슬릿 노즐(6)의 노즐 립 부분과 평행한 상태로 셋팅된다.The supporting roller R has an upper outer surface of the entire circumferential outer surface at a height corresponding to the first and second floating stages S1 and S2, and the nozzle lip portion of the slit nozzle 6. It is set in parallel.

상기 지지용 로울러(R)의 재질은 형태 변형(예: 처짐 현상)을 방지할 수 있는 금속이나 합성수지를 선정하여 사용하고, 다양한 작업 여건(예: 기판 사이즈나 형태)과 부합하는 형태 및 사이즈를 갖는 로울러 형태로 이루어질 수 있다.The material of the support roller R is selected by using a metal or a synthetic resin that can prevent a shape deformation (e.g. sagging), and the shape and size corresponding to various working conditions (e.g., substrate size or shape). It may have a roller shape having.

그리고, 상기 지지용 로울러(R)는 상기 작업대(2) 상에서 축선을 중심으로 자유 회전이 가능하게 고정되거나 이외에도 도면에는 나타내지 않았지만 예를들어, 구동원(예: 모터)의 구동시 동력전달부재(예: 벨트/풀리, 체인/스프라켓)로부터 동력을 전달받아서 일방향으로 회전되도록 셋팅될 수 있다.In addition, the support roller R may be freely rotated about an axis on the worktable 2 or may be fixed, but not shown in the drawings. It can be set to rotate in one direction by receiving power from the belt / pulley, chain / sprocket).

도 3을 참조하면, 상기 지지용 로울러(R)는 상기 작업대(2) 상에 설치될 때 좌/우로 인접된 상기 제1 및 제2 부상스테이지(S1, S2) 단부와 일정 길이의 이격 거리(L)를 두고 배치된다.Referring to FIG. 3, the support roller R may have a predetermined distance from the end of the first and second floating stages S1 and S2 adjacent to the left / right side when installed on the work table 2. L).

상기 이격 거리(L)는 상기 이송부(4)에 의해 이송되는 기판(G)의 전/후 테두리변 사이의 길이를 100으로 기준 할 때 10 내지 30 길이 범위로 형성하면 좋다.The separation distance L may be formed in a range of 10 to 30 lengths when the length between the front and rear edges of the substrate G transferred by the transfer part 4 is 100.

예를들어, 상기 이격 거리(L)가 상기한 길이 범위보다 더 짧으면 상기 지지용 로울러(R)로 기판(G)의 저면을 선 접촉 상태로 지지할 때 상기 제1 및 제2 부상스테이지(S1, S2)의 에어 압력에 의해 간섭이 발생하여 기판(G) 저면이 비정상으로 지지될 수 있다.For example, when the separation distance L is shorter than the length range, the first and second floating stages S1 are supported when the bottom surface of the substrate G is supported by the supporting roller R in a line contact state. , The interference may occur due to the air pressure of S2, and the bottom surface of the substrate G may be abnormally supported.

그리고, 상기한 길이 범위보다 더 길면 기판(G)의 이송 중에 이 기판(G)의 전방 측 단부가 아래로 처지면서 비정상으로 이송될 수 있다.And, if it is longer than the above-described length range, the front side end portion of the substrate G sags downward during the transfer of the substrate G, and may be abnormally transferred.

도 4를 참조하면, 상기 지지용 로울러(R)의 외부면에는 고무링(R1, 또는 고무벨트)이 더 설치될 수 있다.Referring to Figure 4, the outer ring of the support roller (R) may be further provided with a rubber ring (R1, or rubber belt).

상기 고무링(R1)은 상기 지지용 로울러(R) 외부면에 기판(G)이 얹혀질 때 접촉 충격이나 마찰 및 슬립이 발생하는 현상을 방지할 수 있다.The rubber ring R1 may prevent a phenomenon in which contact shock, friction and slippage occur when the substrate G is placed on the outer surface of the support roller R. FIG.

따라서, 상기한 지지용 로울러(R)는 상기 이송부(4)에 의해 기판(G)이 상기 작업대(2) 일측에서 타측으로 부상 이송될 때 상기 슬릿 노즐(6)이 설치된 지점(도포 구간)에서 상기 토출구(N)의 길이 방향과 대응하는 기판(G) 저면 부분을 로울러 외부면으로 받쳐서 선(線) 접촉 상태로 지지할 수 있다.(도 5참조)Therefore, the support roller R is formed at the point where the slit nozzle 6 is installed (application section) when the substrate G is lifted and transferred from one side of the work table 2 to the other side by the transfer part 4. A lower portion of the bottom surface of the substrate G corresponding to the lengthwise direction of the discharge port N may be supported by the outer surface of the roller to support it in a line contact state (see FIG. 5).

이와 같은 구조에 의하면, 도 5에서와 같이 이동 중인 기판(G)의 전체면 중에서 상기 슬릿 노즐(6)의 토출구(N)와 대응하는 기판(G)의 저면 부분을 항상 평탄하게 지지할 수 있다.According to this structure, as shown in FIG. 5, the bottom surface portion of the substrate G corresponding to the discharge port N of the slit nozzle 6 can be always flattened out of the entire surface of the substrate G being moved. .

그러므로, 상기 작업대(2) 상에서 기판(G)을 부상 방식으로 이동시키면서 약액(W)을 도포할 때 기판(G) 측에 더욱 균일하게 약액(W)을 도포할 수 있다.Therefore, when applying the chemical liquid W while moving the substrate G on the work table 2 in a floating manner, the chemical liquid W can be applied more uniformly to the substrate G side.

특히, 상기와 같이 약액(W)의 도포 지점에서 상기 슬릿 노즐(6)의 토출구(N)와 대응하도록 기판(G)의 저면 부분을 선 접촉 상태로 지지하는 구조는 예를들어, 기판(G) 저면 전체 또는 일부면을 면(面) 접촉 상태로 지지하는 구조와 비교할 때 약액(W)의 도포 지점 내에서 기판(G)의 평탄도(flatness)를 더욱 높일 수 있다.In particular, the structure for supporting the bottom portion of the substrate G in a line contact state to correspond to the discharge port N of the slit nozzle 6 at the application point of the chemical liquid W as described above, for example, the substrate G ) Flatness of the substrate G can be further increased in the application point of the chemical liquid W as compared with the structure for supporting the whole or part of the bottom surface in a surface contact state.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 약액도포장치의 전체 구조를 나타낸 도면이다.1 is a view showing the overall structure of the chemical liquid applying apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 약액도포장치의 이송부 구조를 설명하기 위한 도면이다.2 is a view for explaining the structure of the transfer unit of the chemical liquid applying apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 약액도포장치의 요부를 확대하여 나타낸 도면이다.Figure 3 is an enlarged view showing the main portion of the chemical liquid applying apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 약액도포장치의 지지수단의 세부 구조를 설명하기 위한 도면이다.4 is a view for explaining the detailed structure of the support means of the chemical liquid applying apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 약액도포장치의 지지수단의 작용을 설명하기 위한 도면이다.5 is a view for explaining the action of the support means of the chemical liquid applying apparatus according to an embodiment of the present invention.

[도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명][Description of Symbols for Main Parts of Drawing]

2: 작업대 4: 이송부 6: 슬릿 노즐2: worktable 4: conveying part 6: slit nozzle

8: 겐트리 10: 지지수단 S1, S2 : 제1 및 제2 부상스테이지8: gantry 10: supporting means S1, S2: first and second floating stages

R: 지지용 로울러 G: 기판 W: 약액R: Supporting Roller G: Substrate W: Chemical

N: 슬릿형 토출구 L: 이격 거리N: slit discharge port L: separation distance

Claims (5)

작업대;bench; 상기 작업대 상에서 기판을 부상시킨 상태로 일측에서 타측으로 이송하는 부상스테이지로 구성되는 이송부;A transfer unit configured to include a floating stage for transferring from one side to the other side with the substrate floating on the work table; 슬릿형의 토출구를 구비하고 상기 이송부에 의해 이동되는 기판의 일면에 약액을 도포할 수 있도록 상기 작업대 상에 설치되는 슬릿 노즐;A slit nozzle having a slit-shaped discharge port and installed on the worktable to apply a chemical to one surface of the substrate moved by the transfer unit; 상기 이송부의 기판 이송 구간 내에서 상기 슬릿 노즐의 슬릿형 토출구와 대응하는 기판 저면 부분을 선(線) 접촉 상태로 지지하는 지지수단;Support means for supporting a portion of the bottom surface of the substrate corresponding to the slit-type discharge port of the slit nozzle in a line contact state within a substrate transfer section of the transfer unit; 을 포함하는 약액도포장치.Chemical liquid coating device comprising a. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 이송부는,The transfer unit, 상기 슬릿 노즐을 사이에 두고 상기 작업대에 이격 배치되는 제1 및 제2 부상스테이지로 구성되는 것을 특징으로 하는 약액도포장치.And a first and second floating stages spaced apart from the work table with the slit nozzle therebetween. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 지지수단은,The support means, 지지용 로울러로 구성되며 이 지지용 로울러의 외부면으로 기판 저면을 선 접촉 상태로 받쳐서 지지할 수 있도록 상기 이송부의 기판 이송 구간 내에 셋팅되 는 약액도포장치.A chemical liquid applying device which is composed of a supporting roller and is set in a substrate transfer section of the transfer part so as to support the bottom of the substrate in a line contact state with the outer surface of the supporting roller. 청구항 3에 있어서,The method according to claim 3, 상기 지지용 로울러는,The support roller, 상기 이송부의 부상스테이지 사이에서 이 부상스테이지들의 일단과 일정 길이의 이격 거리를 두고 고정 설치되며,Between the floating stage of the transfer unit is fixedly installed at a distance of one end and a predetermined length of the floating stage, 상기 이격 거리는,The separation distance is, 상기 이송부에 의해 이송되는 기판 전/후 테두리변 사이의 길이를 100으로 기준 할 때,When the length between the edges before and after the substrate transferred by the transfer unit is based on 100, 10 내지 30 길이 범위 내로 이루어지는 약액도포장치.Chemical liquid coating device made in the range of 10 to 30 lengths. 청구항 3에 있어서,The method according to claim 3, 상기 지지용 로울러는,The support roller, 외부면 둘레를 감싸는 상태로 고무링이나 고무벨트가 설치되는 것을 특징으로 하는 약액도포장치.A chemical applying device, characterized in that the rubber ring or rubber belt is installed in a state surrounding the outer surface.
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KR101350950B1 (en) * 2011-10-31 2014-01-15 세메스 주식회사 Nozzle unit, substrate treating apparatus and substrate treating method
KR20180027065A (en) * 2016-09-06 2018-03-14 주식회사 케이씨텍 Substrate treating apparatus and substrate processing system

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