KR20090108612A - 광학 필름, 및 화상 표시 장치 - Google Patents

광학 필름, 및 화상 표시 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20090108612A
KR20090108612A KR1020097016232A KR20097016232A KR20090108612A KR 20090108612 A KR20090108612 A KR 20090108612A KR 1020097016232 A KR1020097016232 A KR 1020097016232A KR 20097016232 A KR20097016232 A KR 20097016232A KR 20090108612 A KR20090108612 A KR 20090108612A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
integer
optical film
rth
substituted
Prior art date
Application number
KR1020097016232A
Other languages
English (en)
Other versions
KR101155832B1 (ko
Inventor
도시유끼 이이다
유따까 오오모리
미유끼 구로끼
Original Assignee
닛토덴코 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 닛토덴코 가부시키가이샤 filed Critical 닛토덴코 가부시키가이샤
Publication of KR20090108612A publication Critical patent/KR20090108612A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101155832B1 publication Critical patent/KR101155832B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G02B5/3083—Birefringent or phase retarding elements
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18—Manufacture of films or sheets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1039—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors comprising halogen-containing substituents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1042—Copolyimides derived from at least two different tetracarboxylic compounds or two different diamino compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1067—Wholly aromatic polyimides, i.e. having both tetracarboxylic and diamino moieties aromatically bound
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/12—Unsaturated polyimide precursors
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/12—Unsaturated polyimide precursors
    • C08G73/123—Unsaturated polyimide precursors the unsaturated precursors comprising halogen-containing substituents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/12—Unsaturated polyimide precursors
    • C08G73/126—Unsaturated polyimide precursors the unsaturated precursors being wholly aromatic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L79/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon only, not provided for in groups C08L61/00 - C08L77/00
    • C08L79/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08L79/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08L79/085—Unsaturated polyimide precursors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/13363—Birefringent elements, e.g. for optical compensation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2379/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C08J2361/00 - C08J2377/00
    • C08J2379/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08J2379/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/13363—Birefringent elements, e.g. for optical compensation
    • G02F1/133634—Birefringent elements, e.g. for optical compensation the refractive index Nz perpendicular to the element surface being different from in-plane refractive indices Nx and Ny, e.g. biaxial or with normal optical axis
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/13363—Birefringent elements, e.g. for optical compensation
    • G02F1/133637—Birefringent elements, e.g. for optical compensation characterised by the wavelength dispersion
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31721—Of polyimide

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

본 발명은, 위상차값이 단파장측일수록 작은 파장 분산을 나타내고, 비교적 얇게 형성할 수도 있는 광학 필름을 제공한다. 본 발명의 광학 필름은, 하기 화학식 I로 표시되는 폴리이미드계 중합체를 포함하는 광학 필름이다. 단, 화학식 I에 있어서, m은 40몰％ 이상 100몰％ 이하이다. 또한, R1 및 R2는, 탄소-탄소 이중 결합 또는 삼중 결합을 갖는 치환기이다. A, A', B, B', E, G 및 H는 치환기를 나타내고, 대응하는 알파벳 소문자는, 그 치환수를 나타내고, X 및 Y는, 공유 결합 등 결합부를 나타내고, R1 및 R2의 탄소-탄소 이중 결합 또는 삼중 결합을 갖는 치환기는, 치환 또는 비치환의 아릴기, 치환 또는 비치환의 비닐기, 또는 치환 또는 비치환의 에티닐기이다.
<화학식 I>
Figure 112009047381231-PCT00027
광학 필름, 폴리이미드계 중합체, 아릴기, 비닐기, 에티닐기, 역분산, 위상차판

Description

광학 필름, 및 화상 표시 장치{OPTICAL FILM AND IMAGE DISPLAY DEVICE}
본 발명은, 위상차값이 단파장측일수록 작은 파장 분산을 나타내는 광학 필름 및 상기 광학 필름을 구비하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.
위상차판은, 예를 들어 액정 표시 장치의 광시야각화 등을 실현하기 위해 이용되는 광학 필름이다. 위상차판의 위상차값은, 파장에 의존하고 있고, 그 위상차값의 파장 분산은, 크게 구별하여 다음의 3종류로 나누어진다. 첫째는, 위상차값이 단파장측일수록 큰 파장 분산(이하,「정분산」이라 함)을 나타내는 위상차판, 둘째는, 위상차값이 단파장측으로부터 장파장측에 걸쳐 거의 바뀌지 않는 파장 분산(이하,「플랫 분산」이라 함)을 나타내는 위상차판, 셋째는, 위상차값이 단파장측일수록 작은 파장 분산(이하,「역분산」이라 함)을 나타내는 위상차판이다.
상기 3종류 중에서는, 역분산을 나타내는 위상차판이 바람직하다. 역분산을 나타내는 위상차판은, 넓은 파장 대역에 있어서 소정의 위상차(λ/2나 λ/4 등)를 갖기 때문이다.
그러나, 통상 수지 필름으로 형성되는 위상차판의 대부분은 정분산을 나타낸다.
종래, 플루오렌 골격을 갖는 폴리카보네이트의 연신 필름으로 형성된 위상차 판이 알려져 있다(특허 문헌 1).
이 위상차판은, 연신 처리에 의해 위상차가 발현된다. 그러나, 상기 플루오렌 골격을 갖는 폴리카보네이트는 매우 높은 유리 전이점을 갖고 있으므로, 연신 온도를 매우 고온으로 설정해야만 한다.
한편, 폴리이미드를 포함하는 위상차판은, 기재 상에 폴리이미드를 포함하는 용액을 코팅함으로써 형성할 수 있고, 소정의 위상차값을 나타내는 것이 알려져 있다(특허 문헌 2). 코팅에 의해 형성하면, 비교적 얇은 위상차판이 얻어질 수 있다. 그러나, 폴리이미드를 포함하는 위상차판은, 통상 정분산을 나타낸다(즉, 역분산으로는 되지 않음).
[특허 문헌 1] 일본 특허 공개 제2002-221622호 공보
[특허 문헌 2] 일본 특허 공표 제2000-511296호 공보
본 발명의 목적은, 파장 분산이 역분산을 나타내고, 또한 비교적 얇게 형성할 수도 있는 광학 필름 및 이것을 사용한 화상 표시 장치를 제공하는 것이다.
본 발명은, 하기 화학식 I로 표시되는 폴리이미드계 중합체를 포함하는 광학 필름을 제공한다.
Figure 112009047381231-PCT00001
단, 화학식 I에 있어서, m은 40몰％ 이상 100몰％ 이하이다(m+n≤100몰％). A, A', B 및 B'는, 각각 치환기를 나타내고, a 및 a'는 대응하는 A 및 A'의 치환수(0 내지 4까지의 정수)를, b 및 b'는 대응하는 B 및 B'의 치환수(0 내지 3까지의 정수)를 나타낸다. A, A', B 및 B'는, 각각 독립하여, 할로겐 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 나타내고, 복수의 경우, 각각 동일하거나 또는 상이하다. R1 및 R2는, 각각 독립하여, 탄소-탄소 이중 결합 또는 삼중 결합을 갖는 치환기를 나타낸다. X 및 Y는, 각각 독립하여, 공유 결합, 또는 CH2기, C(CH3)2기, C(CZ3)2기(Z는 할로겐임), CO기, O 원자, S 원자, SO2기, Si(CH2CH3)2기, 및 N(CH3)기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 원자 또는 기를 나타낸다. E는 치환기이고, e는 그 치환수(0 내지 3까지의 정수)를 나타낸다. E는 할로겐, 탄소수 1 내지 3의 알킬기, 탄소수 1 내지 3의 할로겐화 알킬기, 페닐기, 및 치환 페닐기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 원자 또는 기를 나타내고, 복수의 경우, 각각 동일하거나 또는 상이하다. G 및 H는 치환기이고, g는 G의 치환수(0 내지 4까지의 정수)를, h는 H의 치환수(0 내지 4까지의 정수)를 나타낸다. G 및 H는, 각각 독립하여, 할로겐, 알킬기, 치환 알킬기, 니트로기, 시아노기, 티오알킬기, 알콕시기, 아릴기, 치환 아릴기, 알킬에스테르기, 및 치환 알킬에스테르기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 원자 또는 기를 나타내고, 복수의 경우, 각각 동일하거나 또는 상이하다. q1은 0 내지 3까지의 정수를, q2는 1 내지 3까지의 정수를 나타낸다.
상기 화학식 I로 표시되는 폴리이미드계 중합체는, 디에티닐플루오렌 골격의 공액계가, 그 에티닐기에 결합한 탄소-탄소 이중 결합 또는 삼중 결합을 갖는 치환기(R1 및 R2)에 의해 크게 확대되어 있다. 또한, 이 폴리이미드계 중합체는, 디에티닐플루오렌 골격을 갖는 반복 단위가 40몰％ 이상 포함되어 있다. 이러한 폴리이미드계 중합체를 포함하는 광학 필름은 역분산을 나타낸다.
이러한 역분산의 광학 필름은, 예를 들어 넓은 파장 대역에 있어서 원하는 위상차(λ/2이나 λ/4 등)를 갖는다. 따라서, 본 발명의 광학 필름은, 각 파장에서의 편광의 형태가 대략 동일해지고, 예를 들어 화상 표시 장치의 위상차판으로서 적절하게 이용할 수 있다.
또한, 상기 폴리이미드계 중합체는, 용액 상태로 하여 도공함으로써 제막할 수 있으므로, 비교적 얇은 광학 필름을 형성할 수도 있다.
상기 R1 및 R2로 표시되는, 탄소-탄소 이중 결합 또는 삼중 결합을 갖는 치환기로서는, 치환 또는 비치환의 아릴기, 치환 또는 비치환의 비닐기, 또는 치환 또는 비치환의 에티닐기 등을 들 수 있다.
또한, 본 발명은, 하기 화학식 Ia로 표시되는 폴리이미드계 중합체를 포함하는 광학 필름을 제공한다.
Figure 112009047381231-PCT00002
단, 화학식 Ia에 있어서, m은 70몰％ 이상 100몰％ 이하이다(m+n≤100몰％). R3 및 R4는, 각각 독립하여, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 또는 CR6R7(OH)(R6 및 R7은, 각각 탄소수 1 내지 4의 알킬기임)를 나타낸다. Aa, A'a', Bb, B'b', X, Y, Gg, Hh, q1, q2 및 Ee는 상기 화학식 I과 마찬가지이다.
상기 화학식 Ia로 표시되는 폴리이미드계 중합체는, 디에티닐플루오렌 골격의 에티닐기에 결합한 R3 및 R4가 공액계 치환기는 아니다. 이로 인해, 상기 화학식 I의 폴리이미드계 중합체에 비해, 측쇄에 있어서의 공액계의 확대가 작다. 그러나, 화학식 Ia로 표시되는 폴리이미드계 중합체는, 디에티닐플루오렌 골격을 갖는 반복 단위를 비교적 많이 포함하고 있다(m이 70몰％ 이상). 이로 인해, 화학식 Ia로 표시되는 폴리이미드계 중합체를 포함하는 광학 필름은 역분산을 나타낸다.
이 화학식 Ia로 표시되는 폴리이미드계 중합체도 마찬가지로, 용액 상태로 하여 도공함으로써 제막할 수 있으므로, 비교적 얇은 광학 필름을 형성할 수도 있다.
본 발명의 바람직한 광학 필름은 Rth(450)/Rth(550)≤0.98을 나타낸다.
본 발명의 바람직한 광학 필름은 Rth(650)/Rth(550)≥1.02를 나타낸다.
본 발명의 바람직한 광학 필름은, 상기 폴리이미드계 중합체를 기재 상에 도공하여 얻어진 코팅막으로 구성되어 있다.
본 발명의 바람직한 광학 필름은 두께 20㎛ 이하이다.
본 발명의 바람직한 광학 필름은, 굴절률 타원체가 nx≒ny>nz의 관계를 만족 한다.
본 발명의 바람직한 광학 필름은, 굴절률 타원체가 nx>ny>nz의 관계를 만족한다.
또한, 본 발명은, 상기 광학 필름을 갖는 화상 표시 장치, 바람직하게는 상기 광학 필름을 갖는 액정 표시 장치를 제공한다.
본 발명의 광학 필름을 갖는 화상 표시 장치는 시야각 특성이 우수하고, 또한 박형이고 또한 경량으로 된다.
도 1은 실시예 1 내지 2 및 비교예 1의 파장 분산을 나타내는 그래프.
도 2는 실시예 3 내지 4 및 비교예 2의 파장 분산을 나타내는 그래프.
<발명을 실시하기 위한 최선의 형태>
본 명세서의 주된 용어의 의미는, 다음과 같다.
「nx」라 함은, 필름면 내의 굴절률이 최대로 되는 방향(X축 방향)에 있어서의 굴절률을 나타내고,「ny」라 함은, 필름면 내에서 X축 방향에 대해 직교하는 방향(Y축 방향)에 있어서의 굴절률을 나타내고,「nz」라 함은, X축 및 Y축에 직교하는 방향(두께 방향)에 있어서의 굴절률을 나타낸다. 단, nx≥ny이다.
「Δnxz」라 함은, 23℃에서 파장 λ(㎚)에 있어서의 필름의 두께 방향의 복굴절률을 나타낸다. Δnxz는, Δnxz=nx-nz에 의해 구할 수 있다.
「면내의 위상차값[Re(λ)]」이라 함은, 23℃에서 파장 λ(㎚)에 있어서의 필름의 면내의 위상차값을 의미한다. Re(λ)는, 필름의 두께를 d(㎚)로 했을 때, Re(λ)=(nx-ny)×d에 의해 구할 수 있다.
「두께 방향의 위상차값[Rth(λ)]」이라 함은, 23℃에서 파장 λ(㎚)에 있어서의 필름의 두께 방향의 위상차값을 의미한다. Rth(λ)는, 필름의 두께를 d(㎚)로 했을 때, Rth(λ)=(nx-nz)×d에 의해 구할 수 있다.
「중합체」라 함은, 중합도(당해 중합체가, 복수의 반복 단위를 포함하는 경우에는, 각 단위의 합계의 중합도)가 20 이상인 고중합체를 포함하고, 또한 중합도가 2 이상 20 미만인 저중합체(올리고머라고도 함)를 포함한다.
본 발명자들은, 화학식 I 또는 화학식 Ia로 표시되는 폴리이미드계 중합체를 제막한 필름이, 파장 450 내지 750㎚의 가시광 영역에 있어서의 위상차값의 파장 분산이 역분산으로 될 수 있는 것을 발견하였다. 본 발명은 오로지 상기 중합체의 성질을 이용하여, 역분산을 나타내는 광학 필름(즉, 위상차값이 단파장측일수록 작은 광학 필름)을 제공한다.
<화학식 I>
Figure 112009047381231-PCT00003
단, 화학식 I에 있어서, m은 40몰％ 이상 100몰％ 이하이다(m+n≤100몰％). A, A', B 및 B'는, 각각 치환기를 나타내고, a 및 a'는 대응하는 A 및 A'의 치환수(0 내지 4까지의 정수)를, b 및 b'는 대응하는 B 및 B'의 치환수(0 내지 3까지의 정수)를 나타낸다. A, A', B 및 B'는, 각각 독립하여, 할로겐 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 나타내고, 복수의 경우, 각각 동일하거나 또는 상이하다. R1 및 R2는, 각각 독립하여, 탄소-탄소 이중 결합 또는 삼중 결합을 갖는 치환기를 나타낸다. X 및 Y는, 각각 독립하여, 공유 결합, 또는 CH2기, C(CH3)2기, C(CZ3)2기(Z는 할로겐임), CO기, O 원자, S 원자, SO2기, Si(CH2CH3)2기, 및 N(CH3)기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 원자 또는 기를 나타낸다. E는 치환기이고, e는 그 치환수(0 내지 3까지의 정수)를 나타낸다. E는 할로겐, 탄소수 1 내지 3의 알킬기, 탄소수 1 내지 3의 할로겐화 알킬기, 페닐기, 및 치환 페닐기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 원자 또는 기를 나타내고, 복수의 경우, 각각 동일하거나 또는 상이하다. G 및 H는 치환기이고, g는 G의 치환수(0 내지 4까지의 정수)를, h는 H의 치환수(0 내지 4까지의 정수)를 나타낸다. G 및 H는, 각각 독립하여, 할로겐, 알킬기, 치환 알킬기, 니트로기, 시아노기, 티오알킬기, 알콕시기, 아릴기, 치환 아릴기, 알킬에스테르기, 및 치환 알킬에스테르기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 원자 또는 기를 나타내고, 복수의 경우, 각각 동일하거나 또는 상이하다. q1은 0 내지 3까지의 정수를, q2는 1 내지 3까지의 정수를 나타낸다.
<화학식 Ia>
Figure 112009047381231-PCT00004
단, 화학식 Ia에 있어서, m은 70몰％ 이상 100몰％ 이하이다(m+n≤100몰％). 또한, R3 및 R4는, 각각 독립하여, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 또는 CR6R7(OH)(R6 및 R7은, 각각 탄소수 1 내지 4의 알킬기)를 나타낸다. Aa, A'a', Bb, B'b', X, Y, Gg, Hh, q1, q2 및 Ee는 화학식 I과 마찬가지이다.
종래의 폴리이미드계 중합체를 제막한 필름은 정분산을 나타내는 것이 알려져 있다.
이러한 점에서, 상기 화학식 I로 표시되는 폴리이미드계 중합체는, 측쇄로서 디에티닐플루오렌 골격을 갖는다. 이 디에티닐플루오렌 골격은, 플루오렌 골격의 공액계가 에티닐기의 공액 삼중 결합에 의해 연장되어 있다. 또한, 상기 디에티닐플루오렌 골격의 공액계는, 상기 에티닐기에 결합한 탄소-탄소 이중 결합 또는 삼중 결합을 갖는 치환기(R1 및 R2)에 의해 크게 확대되어 있다. 그리고, 상기 화학식 I로 표시되는 폴리이미드계 중합체는, 디에티닐플루오렌 골격(측쇄)이 주쇄가 연장되는 방향에 대해 대략 직교 형상으로 배향되어 있다. 이와 같이 배향된 디에티닐플루오렌 골격(측쇄)이 큰 분산 성분으로 되기 때문에, 화학식 I의 폴리이미드계 중합체를 포함하는 광학 필름은 역분산을 나타낸다. 또한, 화학식 I의 폴리이미드계 중합체는, 디에티닐플루오렌 골격을 갖는 반복 단위의 도입량이 비교적 적어도(m이 40몰％ 이상), 역분산을 나타내는 광학 필름을 형성할 수 있다.
상기 화학식 I의 R1 및 R2는, 예를 들어 치환 또는 비치환의 아릴기, 치환 또는 비치환의 비닐기, 및 치환 또는 비치환의 에티닐기로 이루어지는 군으로부터 선택된다. 디에티닐플루오렌의 공액계를 보다 크게 확대할 수 있기 때문에, 화학식 I의 R1 및 R2는, 바람직하게는 치환 또는 비치환의 아릴기(바람직하게는 방향환을 1개 내지 3개 갖는 아릴기), 또는 아릴기를 치환기로서 갖는 비닐기이고, 보다 바람직하게는 치환 또는 비치환의 아릴기(바람직하게는 방향환을 1개 또는 2개 갖는 아릴기)이다.
한편, 상기 화학식 Ia의 R3 및 R4는 공액계 치환기는 아니다. 이로 인해, 화학식 Ia의 폴리이미드계 중합체는, 상기 화학식 I의 폴리이미드계 중합체에 비해, 측쇄에 있어서의 공액계의 확대가 작다. 따라서, 화학식 Ia의 폴리이미드계 중합체는, 중합체 전체에서 점유하는 디에티닐플루오렌 골격의 공액계의 작용이 작지만, 화학식 Ia의 폴리이미드계 중합체는, 디에티닐플루오렌 골격을 갖는 반복 단위의 도입량이 비교적 많다(m이 70몰％ 이상). 따라서, 화학식 Ia의 폴리이미드계 중합체를 포함하는 광학 필름은 역분산을 나타낸다.
상기 화학식 I로 표시되는 폴리이미드계 중합체 중에서, 하기 화학식 II로 표시되는 폴리이미드계 중합체가 바람직하다. 또한, 상기 화학식 Ia로 표시되는 폴리이미드계 중합체 중에서, 하기 화학식 IIa로 표시되는 폴리이미드계 중합체가 바람직하다.
화학식 II 또는 화학식 IIa의 폴리이미드계 중합체는, 디에티닐기의 공액계(플루오렌 골격으로부터 양측으로 각각 연장된 에티닐기의 공액계)가, 주쇄가 연장되는 방향에 대해 대략 직교 형상으로 되고 또한 주쇄의 양측으로 크게 나와 있다. 이로 인해, 화학식 II 또는 화학식 IIa의 폴리이미드계 중합체는, 역분산을 나타내는 광학 필름의 형성 재료로서 적절하다.
Figure 112009047381231-PCT00005
Figure 112009047381231-PCT00006
화학식 II 및 화학식 IIa에 있어서, R8 내지 R11은, 각각 독립하여, 수소 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기(바람직하게는 메틸기)를 나타낸다. 화학식 II 및 화학식 IIa에 있어서, X, Y, Gg, Hh, q1, q2 및 Ee는 화학식 I과 마찬가지이다. 또한, 화학식 II에 있어서, R1 및 R2는 화학식 I과 마찬가지이다. 화학식 IIa에 있어서, R3 및 R4는 화학식 Ia와 마찬가지이다.
바람직하게는, 화학식 II 및 화학식 IIa의 R8 및 R9 중 적어도 어느 한쪽이 메틸기이고, 또한 R10 및 R11 중 적어도 어느 한쪽이 메틸기이다. 이러한 폴리이미드계 중합체는 투명성이 우수하고, 또한 용제 용해성이 우수하다.
상기 화학식 I 및 화학식 II의 m(디에티닐플루오렌 골격을 갖는 반복 단위의 도입량)은 중합체 전체의 40몰％ 이상이고, 바람직하게는 50몰％ 이상이다. 또한, 화학식 I 및 화학식 II의 m은 100몰％ 이하이다. 화학식 I 또는 화학식 II로 표시되는 폴리이미드계 중합체는, 디에티닐플루오렌 골격을 갖는 반복 단위의 도입량이 많을수록, 급준한 역분산을 나타내는 광학 필름을 형성할 수 있다.
또한, 화학식 I 및 화학식 II의 n은 60몰％ 이하이고, 바람직하게는 50몰％ 이하이다. 또한, 상기 n은 0몰％ 이상이다.
상기 화학식 Ia 및 화학식 IIa의 m(디에티닐플루오렌 골격을 갖는 반복 단위의 도입량)은 중합체 전체의 70몰％ 이상이고, 바람직하게는 75몰％ 이상이다. 또한, 화학식 Ia 및 화학식 IIa의 m은 100몰％ 이하이다. 화학식 Ia 또는 화학식 IIa로 표시되는 폴리이미드계 중합체는, 디에티닐플루오렌 골격을 갖는 반복 단위의 도입량이 많을수록, 급준한 역분산을 나타내는 광학 필름을 형성할 수 있다.
또한, 화학식 Ia 및 화학식 IIa의 n은 30몰％ 이하이고, 바람직하게는 25몰％ 이하이다. 또한, 상기 n은 0몰％ 이상이다.
또한, 상기 화학식 I 및 화학식 Ia 중의 하기 화학식 a로 표시되는 구성 단위는, 하기 화학식 b로 표시되는 구성 단위인 것이 바람직하다. 화학식 b의 구성 단위를 갖는 폴리이미드계 중합체는 투명성이 우수하다.
Figure 112009047381231-PCT00007
Figure 112009047381231-PCT00008
화학식 b에 있어서, E는 화학식 I과 마찬가지이고, 바람직하게는 염소 등의 할로겐이다.
또한, 상기 화학식 I 및 화학식 Ia 중의 하기 화학식 c로 표시되는 구성 단위는, 하기 화학식 d로 표시되는 구성 단위인 것이 바람직하다.
Figure 112009047381231-PCT00009
Figure 112009047381231-PCT00010
화학식 d에 있어서, G 및 H는 화학식 I과 마찬가지이고, 바람직하게는 할로겐화 알킬기(CF3 등) 등의 치환 알킬기이다.
상기 화학식 I로 표시되는 폴리이미드계 중합체 중에서, 하기 화학식 III으로 표시되는 폴리이미드계 중합체가 보다 바람직하다. 또한, 상기 화학식 Ia로 표시되는 폴리이미드계 중합체 중에서, 하기 화학식 IIIa로 표시되는 폴리이미드계 중합체가 보다 바람직하다.
Figure 112009047381231-PCT00011
화학식 III에 있어서, R1, R2, E, G 및 H는 화학식 I과 마찬가지이고, R8 내지 R11은 화학식 II와 마찬가지이다.
Figure 112009047381231-PCT00012
화학식 IIIa에 있어서, R3, R4, E, G 및 H는 화학식 Ia와 마찬가지이고, R8 내지 R11은 화학식 IIa와 마찬가지이다.
본 발명의 폴리이미드계 중합체는, 상기 디에티닐플루오렌 골격을 갖는 반복 단위를 소정량 갖고 있다(화학식 I에서는 40몰％ 이상. 화학식 Ia에서는 70몰％ 이상). 본 발명의 폴리이미드계 중합체는, 이 반복 단위 이외에, 그 밖의 반복 단위를 갖고 있어도 된다. 상기 그 밖의 반복 단위로서는, 예를 들어 하기 화학식 e로 표시되는 반복 단위 등을 들 수 있다.
Figure 112009047381231-PCT00013
화학식 e에 있어서, R12 및 R13은, 각각 독립하여, 수소 원자, 할로겐, 페닐기, 치환 페닐기, 알킬기, 및 치환 알킬기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 원자 또는 기이다. 그 중에서도, R12 및 R13은, 각각 독립하여, 할로겐화 알킬기인 것이 바람직하다.
본 발명의 폴리이미드계 중합체의 중량 평균 분자량(Mw)은 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 1,000 내지 1,000,000이고, 보다 바람직하게는 2,000 내지 500,000이다. 이러한 분자량의 폴리이미드계 중합체는, 용제 용해성이 우수하고, 또한 신축이나 왜곡 등에 의한 균열이 발생하기 어렵고 또한 충분한 강도의 광학 필름을 형성할 수 있다.
또한, 본 발명의 폴리이미드계 중합체의 유리 전이 온도는, 화학식 I 또는 화학식 Ia의 측쇄 및 주쇄의 종류, 각 반복 단위의 도입량 등을 조정함으로써, 적 절하게 설정할 수 있다. 폴리이미드계 중합체의 유리 전이 온도는 100℃ 이상이고, 바람직하게는 130℃ 이상이다. 이러한 유리 전이 온도의 폴리이미드계 중합체를 제막한 필름은 충분한 내열성을 갖는다. 또한, 유리 전이 온도는 JIS K 7121(1987)에 준한 DSC법에 의해 구해진다.
상기 화학식 I로 표시되는 폴리이미드계 중합체는, 폴리이미드에, 하기 화학식 f로 표시되는 디에티닐플루오렌을 소정량 도입함으로써 얻을 수 있다. 상기 화학식 Ia로 표시되는 폴리이미드계 중합체는, 폴리이미드에, 하기 화학식 fa로 표시되는 디에티닐플루오렌을 소정량 도입함으로써 얻을 수 있다.
또한, 상기 화학식 II로 표시되는 폴리이미드계 중합체는, 폴리이미드에, 하기 화학식 g로 표시되는 디에티닐플루오렌을 소정량 도입함으로써 얻을 수 있다. 상기 화학식 IIa로 표시되는 폴리이미드계 중합체는, 폴리이미드에, 하기 화학식 ga로 표시되는 디에티닐플루오렌을 소정량 도입함으로써 얻을 수 있다.
Figure 112009047381231-PCT00014
Figure 112009047381231-PCT00015
단, 화학식 f 및 화학식 fa에 있어서, D 및 D'는, 각각 독립하여, OH기, NHR기(여기서, R은 수소 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 나타냄), COOH기, 또는 NCO기를 나타낸다. 화학식 f의 R1, R2, Aa, A'a', Bb 및 B'b'는 화학식 I과 마찬가지이다. 화학식 fa의 R3, R4, Aa, A'a', Bb 및 B'b'는 화학식 Ia와 마찬가지이다.
Figure 112009047381231-PCT00016
Figure 112009047381231-PCT00017
단, 화학식 g 및 화학식 ga에 있어서, D 및 D'는, 각각 독립하여, OH기, NHR기(여기서, R은 수소 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 나타냄), COOH기, 또는 NCO기를 나타낸다. 화학식 g의 R1, R2, Aa, A'a', Bb 및 B'b'는 화학식 II와 마찬가지이다. 화학식 ga의 R3, R4, Aa, A'a', Bb 및 B'b'는 화학식 IIa와 마찬가지이다.
상기 화학식 f 등의 D 및 D'는 결합기이다. 이 D 및 D'는, 예를 들어 산과 반응하여 용이하게 이미드 결합을 형성할 수 있기 때문에, 바람직하게는 NH2기이다.
디에티닐플루오렌으로서는, 예를 들어 알킬에티닐기를 갖는 플루오렌; 페닐에티닐기, 비페닐에티닐기, 나프틸에티닐기, 안트릴에티닐기, 페난트릴에티닐기 등의 아릴에티닐기를 갖는 플루오렌; 비닐에티닐기를 갖는 플루오렌 등을 들 수 있다.
알킬에티닐기를 갖는 플루오렌의 구체예로서는, 9,9-비스(4-아미노페닐)-2,7-디헥실에티닐플루오렌, 9,9-비스(4-아미노페닐)-2,7-디펜틸에티닐플루오렌, 9,9-비스(4-아미노페닐)-2,7-디헵틸에티닐플루오렌 등을 들 수 있다.
아릴에티닐기를 갖는 플루오렌의 구체예로서는, 9,9-비스(4-아미노페닐)-2,7-비스(페닐에티닐)플루오렌 등을 들 수 있다.
그 밖에, 디에티닐플루오렌으로서는, 9,9-비스(3-메틸-4-아미노페닐)-2,7-비스(2-히드록시-2-메틸-3-부티닐)플루오렌 등을 들 수 있다.
상기 각 디에티닐플루오렌은, 예를 들어 다음의 방법에 의해 제조할 수 있다.
2,7-디브로모플루오렌을 산 촉매하에서 아닐린 유도체와 반응시킨다. 이 반응 중간체를 팔라듐(0) 촉매하에서 에티닐 화합물과 반응시킴으로써, 아미노기를 갖는 디에티닐플루오렌을 얻을 수 있다(하기 반응식 A).
또한, 상기 아닐린 유도체를, 페놀 유도체로 바꿈으로써, 수산기를 갖는 디에티닐플루오렌을 얻을 수 있다(하기 반응식 B).
또한, 반응식 A 및 B의 R1을 R3으로, 또한 상기 R2를 R4로 각각 바꾸면, 화학식 fa 및 화학식 ga로 표시되는 디에티닐플루오렌이 얻어진다.
Figure 112009047381231-PCT00018
Figure 112009047381231-PCT00019
상기 폴리이미드계 중합체는, 예를 들어 상기 디에티닐플루오렌, 산 이무수물 및 디아민을 반응시킴으로써 얻을 수 있다. 구체적으로는, 디에티닐플루오렌, 산 이무수물 및 디아민을 소정의 몰비로 적당한 용매에 용해시키면서 혼합한 후, 실온에서 소정 시간 교반하여 폴리아믹산을 생성한다. 다음에, 무수 아세트산 및 피리딘을 첨가하고, 필요에 따라서 가열하고, 교반하면서 폴리아믹산을 이미드화한다. 얻어진 폴리이미드를 실온까지 냉각하고, 적당한 용제로 정제한다. 정제물을 세정 건조함으로써, 본 발명의 폴리이미드계 중합체를 얻을 수 있다.
산 이무수물로서는, 예를 들어 방향족 테트라카르복실산 이무수물을 들 수 있다. 방향족 테트라카르복실산 이무수물로서는, 예를 들어 피로멜리트산 이무수물, 벤조페논테트라카르복실산 이무수물, 나프탈렌테트라카르복실산 이무수물, 복소환식 방향족 테트라카르복실산 이무수물, 2,2'-치환 비페닐테트라카르복실산 이무수물 등을 들 수 있다. 피로멜리트산 이무수물로서는, 예를 들어 피로멜리트산 이무수물, 3,6-디페닐피로멜리트산 이무수물, 3,6-비스(트리플루오로메틸)피로멜리트산 이무수물, 3,6-디브로모피로멜리트산 이무수물, 3,6-디클로로피로멜리트산 이무수물 등을 들 수 있다. 상기 벤조페논테트라카르복실산 이무수물로서는, 예를 들어 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실산 이무수물, 2,3,3',4'-벤조페논테트라카르복실산 이무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르복실산 이무수물 등을 들 수 있다. 상기 나프탈렌테트라카르복실산 이무수물로서는, 예를 들어 2,3,6,7-나프탈렌-테트라카르복실산 이무수물, 1,2,5,6-나프탈렌-테트라카르복실산 이무수물, 2,6-디클로로-나프탈렌-1,4,5,8-테트라카르복실산 이무수물 등을 들 수 있다. 상기 복소환식 방향족 테트라카르복실산 이무수물로서는, 예를 들어 티오펜-2,3,4,5-테트라카르복실산 이무수물, 피라진-2,3,5,6-테트라카르복실산 이무수물, 피리딘-2,3,5,6-테트라카르복실산 이무수물 등을 들 수 있다. 상기 2,2'-치환 비페닐테트라카르복실산 이무수물로서는, 예를 들어 2,2'-디브로모-4,4',5,5'-비페닐테트라카르복실산 이무수물, 2,2'-디클로로-4,4',5,5'-비페닐테트라카르복실산 이무수물, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4',5,5'-비페닐테트라카르복실산 이무수물 등을 들 수 있다.
또한, 방향족 테트라카르복실산 이무수물의 그 밖의 예로서는, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)메탄 이무수물, 비스(2,5,6-트리플루오로-3,4-디카르복시페닐)메탄 이무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판 이무수물, 4,4'-비스(3,4-디카르복시페닐)-2,2-디페닐프로판 이무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)에테르 이무수물, 4,4'-옥시디프탈산 이무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)술폰산 이무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르복실산 이무수물, 4,4'-[4,4'-이소프로필리덴-디(p-페닐렌옥시)]비스(프탈산 무수물), N,N-(3,4-디카르복시페닐)-N-메틸아민 이무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)디에틸실란 이무수물 등을 들 수 있다.
이들 중에서도, 상기 방향족 테트라카르복실산 이무수물은, 바람직하게는 치환 비페닐테트라카르복실산 이무수물이고, 보다 바람직하게는 1,1'-디클로로-3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물이다.
상기 디아민으로서는, 예를 들어 방향족 디아민을 들 수 있다. 방향족 디아민으로서는, 벤젠디아민, 디아미노벤조페논, 나프탈렌디아민, 복소환식 방향족 디아민 등을 들 수 있다.
벤젠디아민으로서는, 예를 들어 o-, m- 및 p-페닐렌디아민, 2,4-디아미노톨루엔, 1,4-디아미노-2-메톡시벤젠, 1,4-디아미노-2-페닐벤젠, 1,3-디아미노-4-클로로벤젠 등을 들 수 있다. 디아미노벤조페논으로서는, 예를 들어 2,2'-디아미노벤조페논, 3,3'-디아미노벤조페논 등을 들 수 있다. 나프탈렌디아민으로서는, 예를 들어 1,8-디아미노나프탈렌, 1,5-디아미노나프탈렌 등을 들 수 있다. 복소환식 방향족 디아민으로서는, 예를 들어 2,6-디아미노피리딘, 2,4-디아미노피리딘, 2,4-디아미노-S-트리아진 등을 들 수 있다.
또한, 방향족 디아민의 그 밖의 예로서는, 4,4'-디아미노비페닐, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-(9-플루오레닐리덴)-디아닐린, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노비페닐, 3,3'-디클로로-4,4'-디아미노디페닐메탄, 2,2'-디클로로-4,4'-디아미노비페닐, 2,2',5,5'-테트라클로로벤지딘, 2,2-비스(4-아미노페녹시페닐)프로판, 2,2-비스(4-아미노페닐)프로판, 2,2-비스(4-아미노페닐)-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 1,3-비스(3-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 4,4'-비스(3-아미노페녹시)비페닐, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]-1,1,1,3,3,3-헥사플루오로프로판, 4,4'-디아미노디페닐티오에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰 등을 들 수 있다.
이들 중에서도, 디아민은 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노비페닐 등이 바람직하다.
본 발명의 광학 필름은, 폴리이미드계 중합체를 포함하는 형성 재료를 제막함으로써 얻을 수 있다.
또한, 광학 필름의 형성 재료에는, 본 발명의 폴리이미드계 중합체 이외에, 구조가 상이한 다른 중합체가 포함되어 있어도 된다. 단, 상기 다른 중합체는, 폴 리이미드계 중합체의 배향성이 현저하게 저하되지 않는 범위에서 배합된다.
상기 다른 중합체로서는, 예를 들어 범용 수지, 엔지니어링 플라스틱, 열가소성 수지, 열경화성 수지 등을 들 수 있다. 범용 수지로서는, 예를 들어 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 폴리메틸메타크릴레이트, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 수지, 아크릴로니트릴-스티렌 수지 등을 들 수 있다. 엔지니어링 플라스틱으로서는, 예를 들어 폴리아세테이트, 폴리카보네이트, 폴리아미드(나일론), 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등을 들 수 있다. 열가소성 수지로서는, 예를 들어 폴리페닐렌술피드, 폴리에테르술폰, 폴리케톤, 폴리이미드, 폴리시클로헥산디메탄올테레프탈레이트, 폴리아릴레이트, 액정 중합체 등을 들 수 있다. 열경화성 수지로서는, 예를 들어 에폭시 수지, 페놀노볼락 수지 등을 들 수 있다. 이들 다른 중합체의 배합량은, 형성 재료 중, 예를 들어 0 내지 50질량％이고, 바람직하게는 0 내지 30질량％이다.
또한, 필요에 따라서, 상기 형성 재료에는, 예를 들어 안정제, 가소제, 금속류 등의 다양한 첨가제를 배합해도 된다.
본 발명의 광학 필름의 두께는 특별히 한정되지 않고, 통상 200㎛ 이하이다. 화상 표시 장치를 박형화할 수 있기 때문에, 광학 필름의 두께는 20㎛ 이하가 바람직하고, 15㎛ 이하가 보다 바람직하고, 10㎛ 이하가 특히 바람직하다. 한편, 광학 필름의 두께의 하한은, 원하는 위상차값을 갖도록 적절히 설정된다. 통상, 광학 필름의 두께는 1㎛ 이상, 바람직하게는 2㎛ 이상이다. 본 발명의 폴리이미드계 중합체는 도공에 의해 제막할 수도 있다. 따라서, 본 발명의 폴리이미드계 중합체를 포함하는 광학 필름은 비교적 얇게 형성할 수 있다.
본 발명의 광학 필름의 제조 방법은 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 상기 폴리이미드계 중합체를 포함하는 형성 재료를 제막하고, 필요에 따라서 연신(또는 수축)하는 방법 등을 들 수 있다. 제막은, 상기 형성 재료를 적절한 기재에 도공함으로써 실시할 수 있다.
상기 형성 재료의 도공은, 예를 들어 상기 형성 재료를 가열 용융시키고, 이것을 기재 상에 도공하는 방법이나, 상기 형성 재료를 용매에 용해시킨 중합체 용액을 기재 상에 도공하는 방법 등을 들 수 있다. 제조 효율, 분자 배향 제어 및 광학 이방성 제어의 점 등에서, 중합체 용액을 도공하는 방법이 바람직하다.
특히, 본 발명의 폴리이미드계 중합체를 포함하는 중합체 용액을 기재 상에 도공함으로써, 마이너스의 일축성(굴절률 타원체가 nx≒ny>nz)을 나타내는 코팅막을 형성할 수 있다.
구체적으로는, 본 발명의 폴리이미드계 중합체를 포함하는 중합체 용액을 기재 상에 도공한 후, 건조하는 과정에서, 코팅막의 면내(X축 방향 및 Y축 방향)에 수축력이 가해지고, 마이너스의 일축성을 나타내는 코팅막을 형성할 수 있다. 이와 같이, 본 발명의 폴리이미드계 중합체는, 기재의 배향의 유무에 관계없이, 기재에 도공함으로써, 광학적 일축성을 나타내는 코팅막을 형성할 수 있다.
또한,「nx≒ny」라 함은, nx와 ny가 완전히 동일한 경우뿐만 아니라, 실질적으로 동일한 경우도 포함된다. nx와 ny가 실질적으로 동일한 경우라 함은, 예를 들어 Re(590)이 0㎚ 내지 10㎚이고, 바람직하게는 0㎚ 내지 5㎚이다.
상기 중합체 용액은, 본 발명의 폴리이미드계 중합체(필요에 따라서 다른 중합체 및 각종 첨가제 등도 배합)를, 적절한 용매에 용해시킴으로써 제조할 수 있다. 본 발명의 폴리이미드계 중합체는 용제 용해성이 우수하기 때문에, 상기 중합체 용액을 용이하게 제조할 수 있다.
상기 용매는, 본 발명의 폴리이미드계 중합체 등을 용해할 수 있으면 특별히 제한은 없고, 적절하게 선택할 수 있다. 용매는, 예를 들어 유기 용매를 들 수 있다. 유기 용매로서는, 예를 들어 클로로포름, 디클로로메탄, 사염화탄소, 디클로로에탄, 테트라클로로에탄, 트리클로로에틸렌, 테트라클로로에틸렌, 클로로벤젠, 오르토디클로로벤젠 등의 할로겐화 탄화수소류; 페놀, 파라클로로페놀 등의 페놀류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메톡시벤젠, 1,2-디메톡시벤젠 등의 방향족 탄화수소류 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 시클로펜타논, 2-피롤리돈, N-메틸-2-피롤리돈 등의 케톤류; 아세트산 에틸, 아세트산 부틸 등의 에스테르류; t-부틸알코올, 글리세린, 에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 2-메틸-2,4-펜탄디올 등의 알코올류; 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드 등의 아미드류; 아세토니트릴, 부티로니트릴 등의 니트릴류; 디에틸에테르, 디부틸에테르, 테트라히드로푸란 등의 에테르류; 이황화탄소; 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브 등을 들 수 있다. 이들 용매는 1종 단독으로, 또는 2종 이상을 병용해도 된다.
상기 중합체 용액은, 용매 100질량부에 대해, 폴리이미드계 중합체 등의 고형분이 5 내지 50질량부 배합되어 있는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10 내 지 40질량부이다. 상기 범위 농도의 중합체 용액은, 도공에 적합한 점도로 되므로 바람직하다.
또한, 중합체 용액의 도공 방법은, 스핀 코트법, 롤 코트법, 플로우 코트법, 프린트법, 딥 코트법, 유연 성막법, 바 코트법, 그라비아 인쇄법 등을 들 수 있다.
상기 중합체 용액을 기재 상에 도공하여 코팅막을 형성한 후, 상기 코팅막을 건조해도 된다. 건조 처리는, 예를 들어 자연 건조, 바람 건조, 가열 건조 등에 의해 행할 수 있다. 가열 건조의 경우, 그 온도는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 25℃ 내지 250℃이고, 바람직하게는 40℃ 내지 200℃이다.
최종적으로 얻어지는 코팅막(즉 광학 필름)에 잔존하는 용매량은 1질량％ 이하가 바람직하고, 0.5질량％ 이하가 보다 바람직하다. 잔존 용매량이 낮은 광학 필름은 치수 안정성이 우수하고, 광학 특성의 경시적인 변화가 일어나기 어려워지기 때문이다.
상기 형성 재료(중합체 용액 등)를 도공하는 기재는 특별히 한정되지 않는다. 상기 기재로서는, 예를 들어 합성 수지제 기재라도 되고, 또는 유리 기재나 실리콘 웨이퍼와 같은 무기 화합물제 기재라도 된다. 합성 수지제 기재로서는, 캐스트법으로 제막한 필름, 용융 중합체를 제막 후에 연신 처리를 실시한 필름 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 정밀하게 도공할 수 있는 것으로부터, 연신 처리를 실시한 필름이 바람직하다.
또한, 기재는 투명성이 우수한 것이 바람직하다. 투명성이 우수한 기재를 사용함으로써, 상기 기재 상에 형성된 광학 필름을, 기재로부터 박리하지 않고, 그 대로 사용할 수도 있다.
상기 합성 수지제 기재의 수지 성분으로서는, 예를 들어 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 등의 아세테이트 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리에테르술폰 수지, 폴리술폰 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리올레핀 수지, 아크릴 수지, 폴리노르보르넨 수지, 셀룰로오스 수지, 폴리아릴레이트 수지, 폴리스티렌 수지, 폴리비닐알코올 수지, 폴리염화비닐 수지, 폴리염화비닐리덴 수지, 액정 중합체, 및 이들의 혼합물 등을 들 수 있다. 또한, 상기 수지 성분은, 측쇄에 치환 이미드기 또는 비치환 이미드기를 갖는 열가소성 수지와, 측쇄에 치환 페닐기 또는 비치환 페닐기 및 니트릴기를 갖는 열가소성 수지와의 혼합물 등이라도 된다(이 혼합물은, 일본 특허 공개 제2001-343529호 공보에 개시되어 있음).
기재의 두께는, 예를 들어 12㎛ 내지 200㎛이고, 바람직하게는 20㎛ 내지 150㎛이고, 보다 바람직하게는 25㎛ 내지 100㎛이다. 기재의 두께가 12㎛ 이상이면, 중합체 용액을 정밀하게 도공할 수 있다. 한편, 기재의 두께가 200㎛ 이하이면, 광학 필름의 왜곡량을 한층 더 억제할 수 있다.
본 발명의 폴리이미드계 중합체를 포함하는 형성 재료를 기재 상에 도공함으로써, 광학적 일축성을 나타내는 코팅막을 형성할 수 있다. 이 코팅막이, 본 발명의 광학 필름이다. 본 발명의 광학 필름은 얇고, 또한 광학적 일축성(굴절률 타원체가 nx≒ny>nz)을 나타낸다. 상기 광학 필름은, 위상차판으로서 사용할 수 있다.
또한, 상기 코팅막을 연신 또는 수축하면, 광학적 이축성(굴절률 타원체가 nx>ny>nz)을 나타내는 광학 필름을 형성할 수도 있다.
코팅막의 연신 방법으로서는, 예를 들어 그 길이 방향으로 일축 연신하는 자유 단부 세로 연신, 또는 그 길이 방향을 고정하고 또한 폭 방향으로 일축 연신하는 고정 단부 가로 연신 등이 바람직하다. 그 밖의 연신 방법으로서는, 예를 들어 길이 방향 및 폭 방향의 양방으로 연신하는, 순차 또는 동시 이축 연신 등을 들 수 있다. 또한, 코팅막이 형성된 기재가 연신 가능한 기재인 경우, 그 기재를 연신하는 방법이 바람직하다. 이 방법에 따르면, 기재가 균일하게 연신되므로, 이 연신에 수반하여 코팅막을 간접적으로 균일하게 연신할 수 있다. 또한, 이 방법은, 연속 생산 공정에 적용 가능하고, 제품의 양산성이 높아지는 등의 점에서도 바람직하다. 또한, 상기 기재와 코팅막은 동시에 연신해도 된다.
또한, 코팅막이 형성된 기재가, 수축할 수 있는 기재인 경우, 기재를 수축시킴으로써, 코팅막을 간접적으로 수축시킬 수 있다. 기재를 수축시키는 경우, 연신기 등을 이용하여 기재의 수축률을 제어하는 것이 바람직하다. 그 제어 방법으로서는, 예를 들어 연신기의 클립을 일시적으로 개방하여, 기재의 이송 방향으로 기재를 이완시키는 방법, 또는 연신기 클립의 간격을 서서히 좁게 하는 방법 등을 들 수 있다.
본 발명의 광학 필름의 두께 방향의 위상차값[Rth(λ)]이나 면내의 위상차값[Re(λ)]은 적절하게 조정할 수 있다. 이 조정은, 예를 들어 사용하는 폴리이미드계 중합체의 구조 및 분자량의 선택, 광학 필름의 두께의 설정, 및 제막시의 연신 비율(또는 수축 비율)의 설정 등에 의해 행할 수 있다.
본 발명의 폴리이미드계 중합체를 포함하는 광학 필름은, 그 파장 분산이 역 분산으로 된다. 구체적으로는, 본 발명의 광학 필름은 Rth(450)/Rth(550)≤0.98, Rth(650)/Rth(550)≥1.02의 관계를 만족하고 있다. 특히, 폴리이미드계 중합체에 있어서, 디에티닐플루오렌의 반복 단위의 도입량을 늘림으로써, Rth(450)/Rth(550)≤0.8과 같은, 보다 급준한 역분산을 나타내는 광학 필름을 형성할 수 있다.
또한, 본 발명의 광학 필름은 0.4≤Rth(450)/Rth(550)≤0.98, 바람직하게는0.7≤Rth(450)/Rth(550)≤0.97을 나타낸다. 또한, 본 발명의 광학 필름은 1.50≥Rth(650)/Rth(550)≥1.02, 바람직하게는 1.30≥Rth(650)/Rth(550)≥1.10을 나타낸다.
종래 공지된 폴리이미드계 중합체를 포함하는 광학 필름은, 위상차값이 단파장측일수록 큰 파장 분산(정분산)을 나타낸다. 구체적으로는, 종래 공지된 폴리이미드계 중합체를 포함하는 광학 필름은, 통상 Rth(450)/Rth(550)>1.06이고, 또한 Rth(650)/Rth(550)<0.95를 나타낸다. 디에티닐기를 갖지 않는 플루오렌 골격이 도입되어 있는 폴리이미드계 중합체를 포함하는 광학 필름도 마찬가지로 정분산을 나타낸다.
그러나, 디에티닐기를 갖는 플루오렌 골격이 도입된 폴리이미드계 중합체를 포함하는, 본 발명의 광학 필름은 역분산을 나타낸다. 이와 같은 사실은, 본 발명자들이 처음으로 발견한 사항이다.
또한, 본 발명의 광학 필름의 굴절률 타원체가 nx>ny>nz의 관계를 만족하는 경우, 상기 광학 필름의 면내의 위상차값에 대해서도, Re(450)/Re(550)≤0.98, Re(650)/Re(550)≥1.02의 관계를 만족하고 있다.
본 발명의 광학 필름의 복굴절률은, 디에티닐플루오렌의 반복 단위의 도입량이나 폴리이미드 구성 단위의 구조 등에 의해 적절하게 설계할 수 있다. 본 발명의 광학 필름의 파장 550㎚에 있어서의 복굴절률[Δnxz(550)]은 0.001 이상이 바람직하고, 또한 0.003 내지 0.070이 보다 바람직하고, 0.005 내지 0.055가 특히 바람직하다.
본 발명의 광학 필름은, 임의의 적절한 용도로 사용될 수 있다. 본 발명의 광학 필름의 대표적인 용도는 위상차판이다. 위상차판은, 액정 표시 장치의 λ/4판, λ/2판, 시야각 확대 필름 등에 사용된다. 광학 필름의 다른 용도로서는, 화상 표시 장치의 반사 방지 필름 용도 등을 들 수 있다. 화상 표시 장치로서는, 액정 표시 장치, 유기 EL 디스플레이, 및 플라즈마 디스플레이 등을 들 수 있다.
본 발명의 광학 필름은, 다른 광학 부재를 적층한 광학 적층체의 형태로 사용할 수도 있다. 상기 광학 적층체로서는, 예를 들어 본 발명의 광학 필름에, 보호층을 갖는 편광자를 적층한 적층체(이 적층체는, 통상 편광판이라 불림), 본 발명의 광학 필름에 다른 위상차판을 적층한 적층체 등을 들 수 있다.
이들 적층체를 구성하는 각 층은, 통상 공지된 접착제(또는 점착제)를 사용하여 접착된다. 이 접착제로서는, 용제형 접착제, 에멀전형 접착제, 감압성 접착제, 재습성 접착제, 중축합형 접착제, 무용제형 접착제, 필름 형상 접착제, 핫 멜트형 접착제 등을 들 수 있다.
상기 편광자는, 자연광 또는 편광을 직선 편광으로 변환하는 광학 부재이다. 편광자는 특별히 한정되지 않고 적절한 것을 사용할 수 있다. 편광자로서는, 바람 직하게는 요오드 또는 2색성 염료를 함유하는 비닐알코올계 중합체를 주성분으로 하는 연신 필름을 들 수 있다. 편광자의 두께는, 통상 5㎛ 내지 50㎛이다. 상기 보호층은, 편광자가 수축이나 팽창되는 것을 방지하거나, 자외선에 의한 열화를 방지하기 위해 편광자에 부착된다. 보호층으로서는, 바람직하게는 셀룰로오스계 중합체 또는 노르보르넨계 중합체를 포함하는 중합체 필름을 들 수 있다. 보호층의 두께는, 통상 10㎛ 내지 200㎛이다. 또한, 본 발명의 광학 필름을 형성할 때의 기재가, 상기 보호층을 겸하고 있어도 된다.
본 발명의 화상 표시 장치는, 본 발명의 광학 필름을 갖는다.
본 발명의 화상 표시 장치는, 본 발명의 광학 필름이 액정 패널 등에 내장되어 있는 것을 제외하고, 종래 화상 표시 장치와 같은 구성을 채용할 수 있다.
본 발명의 화상 표시 장치는 임의의 적절한 용도로 사용된다. 상기 화상 표시 장치가 액정 표시 장치인 경우에는, 그 용도는, 예를 들어 퍼스널 컴퓨터 모니터, 노트북, 복사기 등의 OA 기기; 휴대 전화, 시계, 디지털 카메라, 휴대 정보 단말(PDA), 휴대 게임기 등의 휴대 기기; 비디오 카메라, 전자 렌지 등의 가정용 전자 기기; 백 모니터, 카 네비게이션 시스템용 모니터, 카 오디오 등의 차량 탑재용 기기; 상업 점포용 인포메이션용 모니터 등의 전시 기기; 감시용 모니터 등의 경비 기기; 개호용 모니터, 의료용 모니터 등의 개호ㆍ의료 기기 등이다.
본 발명의 광학 필름을 갖는 화상 표시 장치는, 액정 표시 장치, 유기 EL 디스플레이, 및 플라즈마 디스플레이 등을 포함하고, 그 바람직한 용도는 텔레비전이다. 텔레비전의 화면 사이즈는, 바람직하게는 와이드 17형(373㎜×224㎜) 이상이 고, 더욱 바람직하게는 와이드 23형(499㎜×300㎜) 이상이고, 특히 바람직하게는 와이드 32형(687㎜×412㎜) 이상이다.
<실시예>
다음에, 실시예 및 비교예를 나타내어, 본 발명을 상세하게 설명한다. 단, 본 발명은 하기 실시예에만 한정되는 것은 아니다.
또한, 실시예 및 비교예에서 이용한 각 분석 방법은, 이하와 같다.
(화학 구조의 특정)
화학 구조는, 핵자기 공명 스펙트럼 미터[브루커사제, 제품명:AVANCEⅡ300](측정 용매; 중클로로포름 또는 중DMSO, 주파수;300㎒, 관측핵;1H, 13C, 측정 온도; 25℃)를 사용하여 특정하였다. 이하, 이 방법을 NMR이라 기재한다.
(적외 흡수 스펙트럼의 측정)
적외 흡수 스펙트럼은, 적외 분광 광도계[니혼 분꼬(주)제, 제품명:FT/IR-470 플러스(plus)]를 사용하여 측정하였다.
(유리 전이 온도의 측정)
유리 전이 온도는 시차 주사 열량계[세이꼬(주)제, 제품명:DSC-6200]를 사용하여, JIS K 7121(1987)(플라스틱의 전이 온도 측정 방법)에 준한 방법에 의해 측정하였다. 구체적으로는, 3㎎의 측정용 시료를, 질소 분위기하(가스의 유량;50mL/분)에서 승온(가열 속도; 10℃/분)시키고, 그 유리 전이 온도를 2회 측정하고, 2회째의 데이터를 채용하였다. 열량계는, 표준 물질(인듐)을 사용하여 온도 보정을 행하였다.
(중량 평균 분자량의 측정)
분자량은, 측정용 시료를 0.1％ DMF 용액으로 제조하고, 이것을 0.45㎛ 멤브레인 필터로 여과한 후, 검출기(RI)가 내장된 GPC 본체(도소사제, HLC-8120GPC)를 사용하여 측정하였다. 구체적으로는, 측정 조건은, 칼럼 온도 40℃, 펌프 유량0.40mL/분으로 하고, 측정용 시료의 분자량은, 미리 분자량이 기지인 표준 폴리에틸렌옥사이드의 검량선을 이용하여, 폴리에틸렌옥사이드 환산 분자량으로서 산출하였다. 또한, 사용 칼럼은, 수퍼(super) AWM-H(직경 6.0㎜×15㎝), 수퍼 AW4000(직경 6.0㎜×15㎝) 및 수퍼 AW2500(직경 6.0㎜×15㎝)을 직렬로 연결한 것을 사용하고, 이동상은 10mmol의 LiBr 및 10mmol의 인산을 메스 플라스크에 넣고, DMF를 첨가하여 전체 양을 1L로 한 것을 사용하였다.
(Δnxz, Rth(λ)의 측정)
Δnxz 등은, 오오지 게이소꾸 기끼(주)제의 상품명「KOBRA-WPR」을 사용하여, 23℃, 파장 λ에서 측정하였다. Rth(λ)는, 파장 λ의 광을 샘플 법선으로부터 40도의 각도에서 입사시켜 측정한 값(R40λ)을, Rth(λ)로 환산하여 구하였다.
(굴절률의 측정)
굴절률은, 아베 굴절률계[아타고(주)제, 제품명「DR-M4」]를 사용하여 측정하였다.
(두께의 측정)
두께는, SLOAN사제, 상품명「덱탁(Dektak)」를 사용하여 측정하였다.
<실시예 1>
(디에티닐플루오렌의 합성)
0.43g의 비스(벤조니트릴)디클로로팔라듐(Ⅱ) 및 0.14g의 요오드화구리(I)를 질소 분위기하에서 디옥산 19mL에 용해시켰다. 그 용액에 트리(t-부틸포스핀) 4.70g, 디이소프로필아민 4.54g, 2-메틸-3-부틴-2-올 3.78g, 및 2,7-디브로모-9,9-비스(3-메틸-4-아미노페닐)플루오렌 10.0g을 첨가하고, 실온에서 24시간 교반하였다. 그 후, 용매를 감압하에서 제거하고, 그 잔사를 전개 용매(헥산 및 아세트산 에틸의 혼합 용매)를 사용한 실리카 겔 충전 칼럼에 의해 정제함으로써, 9.80g의 화합물을 얻었다. 얻어진 화합물은, NMR로 측정한 결과, 하기 화학식 1로 표시되는 9,9-비스(3-메틸-4-아미노페닐)-2,7-비스(2-히드록시-2-메틸-3-부티닐)플루오렌이었다.
Figure 112009047381231-PCT00020
(중합체의 합성)
질소 분위기하에서, 0.39g의 상기 9,9-비스(3-메틸-4-아미노페닐)-2,7-비스(2-히드록시-2-메틸-3-부티닐)플루오렌, 0.08g의 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노비페닐, 및 0.35g의 1,1'-디클로로비페닐-3,3',4,4'-테트라카르복실 산 이무수물을 1.91g의 DMAC에 용해시키고, 실온에서 7시간 교반하였다. 그 후, 5.46g의 DMAC를 첨가하고, 또한 0.18g의 피리딘, 및 0.24g의 무수 아세트산을 첨가하여, 16시간 교반하였다.
얻어진 반응 용액을 이소프로필알코올(IPA)에 적하하고, 재침전을 행하였다. 얻어진 중합체를 여과하고, IPA로 2회 세정함으로써 백색의 중합체를 0.57g 얻었다. 얻어진 중합체는, NMR로 측정한 결과, 하기 화학식 2(단, m:n=72:28)로 표시되는 폴리이미드이었다. 또한, 이 중합체의 중량 평균 분자량은 31,600이고, 유리 전이 온도는 177.9℃이었다.
Figure 112009047381231-PCT00021
(필름의 제작)
얻어진 중합체를 시클로헥사논에 용해시키고, 스핀 코트법에 의해 유리판 상에 도공하여, 80℃에서 5분간 건조한 후, 또한 150℃에서 30분 건조함으로써, 폴리이미드 필름을 제작하였다. 이 필름의 건조 두께는 8.39㎛이었다.
얻어진 필름의 550㎚에 있어서의 복굴절률(Δnxz)은 0.0079이었다(표 1 참조).
이 필름의 두께 방향의 위상차값의 파장 분산을 측정하였다. 그 결과를 도 1에 나타낸다.
실시예 1의 Rth(450)/Rth(550)=0.95이고, Rth(650)/Rth(550)=1.02이었다. 또한, 표 1에 있어서,「nd」는 나트륨 D선(589㎚)에서 측정한 굴절률을 나타낸다(이하, 각 실시예 및 비교예의「nd」도 마찬가지임).
Figure 112009047381231-PCT00022
<실시예 2>
실시예 1의 중합체의 합성에 있어서, 0.08g의 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노비페닐을 첨가하지 않은 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 중합체를 합성하였다. 또한, 이 중합체의 중량 평균 분자량은 34,600이고, 유리 전이 온도는 176.1℃이었다.
얻어진 중합체는, NMR로 측정한 결과, 상기 화학식 2(단, m:n=100:0)로 표시되는 폴리이미드이었다.
얻어진 중합체를, 실시예 1과 마찬가지로 하여 제막하였다(건조 두께:8.15㎛). 얻어진 필름의 550㎚에 있어서의 복굴절률(Δnxz)은 0.002이었다. 이 필름의 파장 분산을 측정하였다. 그 결과를 도 1에 나타낸다.
실시예 2의 Rth(450)/Rth(550)=0.50이고, Rth(650)/Rth(550)=1.17이었다.
<실시예 3>
(디에티닐플루오렌의 합성)
0.43g의 비스(벤조니트릴)디클로로팔라듐(Ⅱ) 및 0.14g의 요오드화구리(I)를 질소 분위기하에서 디옥산 19mL에 용해시켰다. 그 용액에 트리(t-부틸포스핀) 4.70g, 디이소프로필아민 4.54g, 페닐아세틸렌 4.59g, 및 2,7-디브로모-9,9-비스(3-메틸-4-아미노페닐)플루오렌 10.0g을 첨가하고, 실온에서 24시간 교반하였다. 그 후, 용매를 감압하에서 제거하고, 그 잔사를 전개 용매(헥산 및 아세트산 에틸의 혼합 용매)를 사용한 실리카 겔 충전 칼럼에 의해 정제함으로써, 8.70g의 화합물을 얻었다. 얻어진 화합물은, NMR로 측정한 결과, 하기 화학식 3으로 표시되는 9,9-비스(3-메틸-4-아미노페닐)-2,7-비스(페닐에티닐)플루오렌이었다.
Figure 112009047381231-PCT00023
(중합체의 합성)
질소 분위기하에서, 1.59g의 상기 9,9-비스(3-메틸-4-아미노페닐)-2,7-비스(페닐에티닐)플루오렌, 0.88g의 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노비페닐 및 2.00g의 1,1'-디클로로비페닐-3,3',4,4'-테트라카르복실산 이무수물을 1.91g의 DMAC에 용해시키고, 실온에서 7시간 교반하였다. 그 후, 5.46g의 DMAC를 첨가하 고, 또한 0.18g의 피리딘 및 0.24g의 무수 아세트산을 첨가하여, 16시간 교반하였다.
얻어진 반응 용액을 이소프로필알코올(IPA)에 적하하고, 재침전을 행하였다. 얻어진 중합체를 여과하고, IPA로 2회 세정함으로써 중합체를 얻었다.
또한, 이 중합체의 중량 평균 분자량은 15,300이고, 유리 전이 온도는 179.0℃이었다.
얻어진 중합체는, NMR로 측정한 결과, 하기 화학식 4(단, m:n=50:50)로 표시되는 폴리이미드이었다.
Figure 112009047381231-PCT00024
(필름의 제작)
얻어진 중합체를, 실시예 1과 마찬가지로 하여 제막하였다(건조 두께:5.37㎛). 이 필름의 550㎚에 있어서의 복굴절률(Δnxz)은 0.016이었다. 이 필름의 두께 방향의 위상차값의 파장 분산을 측정하였다. 그 결과를 도 2에 나타낸다.
실시예 3의 Rth(450)/Rth(550)=0.87이고, Rth(650)/Rth(550)=1.02이었다.
<실시예 4>
실시예 3의 9,9-비스(3-메틸-4-아미노페닐)-2,7-비스(페닐에티닐)플루오렌의 첨가량을「1.19g」으로, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노비페닐의 첨가 량을「0.22g」으로, 1,1'-디클로로비페닐-3,3',4,4'-테트라카르복실산 이무수물의 첨가량을「1.00g」으로 각각 바꾼 것 이외에는, 실시예 3과 마찬가지로 하여 중합체를 합성하였다. 또한, 이 중합체의 중량 평균 분자량은 14,400이고, 유리 전이 온도는 164.3℃이었다.
얻어진 중합체는, NMR로 측정한 결과, 상기 화학식 4(단, m:n=75:25)로 표시되는 폴리이미드이었다.
얻어진 중합체를, 실시예 1과 마찬가지로 하여 제막하였다(건조 두께:3.77㎛). 얻어진 필름의 550㎚에 있어서의 복굴절률(Δnxz)은 0.0037이었다. 이 필름의 두께 방향의 위상차값의 파장 분산을 측정하였다. 그 결과를 도 2에 나타낸다.
실시예 4의 Rth(450)/Rth(550)=0.40이고, Rth(650)/Rth(550)=1.50이었다.
<비교예 1>
실시예 1의 9,9-비스(3-메틸-4-아미노페닐)-2,7-비스(2-히드록시-2-메틸-3-부티닐)플루오렌의 첨가량을「0.34g」으로, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노비페닐의 첨가량을「0.60g」으로, 1,1'-디클로로비페닐-3,3',4,4'-테트라카르복실산 이무수물의 첨가량을「0.90g」으로 각각 바꾼 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 중합체를 합성하였다. 또한, 이 중합체의 중량 평균 분자량은 23,100이고, 유리 전이 온도는 185.3℃이었다.
얻어진 중합체는, NMR로 측정한 결과, 상기 화학식 2(단, m:n=25:75)로 표시되는 폴리이미드이었다.
얻어진 중합체를, 실시예 1과 마찬가지로 하여 제막하였다(건조 두께:5.6㎛ ). 얻어진 필름의 550㎚에 있어서의 복굴절률(Δnxz)은 0.043이었다. 이 필름의 두께 방향의 위상차값의 파장 분산을 측정하였다. 그 결과를 도 1에 나타낸다.
비교예 1의 Rth(450)/Rth(550)=1.05이고, Rth(650)/Rth(550)=0.97이었다.
<비교예 2>
실시예 3의 9,9-비스(3-메틸-4-아미노페닐)-2,7-비스(페닐에티닐)플루오렌의 첨가량을「0.79g」으로, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노비페닐의 첨가량을「1.32g」으로, 1,1'-디클로로비페닐-3,3',4,4'-테트라카르복실산 이무수물의 첨가량을「2.00g」으로 각각 바꾼 것 이외에는, 실시예 3과 마찬가지로 하여 중합체를 합성하였다.
또한, 이 중합체의 중량 평균 분자량은 16,000이고, 유리 전이 온도는 169.0℃이었다.
얻어진 중합체는, NMR로 측정한 결과, 상기 화학식 4(단, m:n=25:75)로 표시되는 폴리이미드이었다.
얻어진 중합체를, 실시예 1과 마찬가지로 하여 제막하였다(건조 두께:5.12㎛). 얻어진 필름의 550㎚에 있어서의 복굴절률(Δnxz)은 0.030이었다. 이 필름의 파장 분산을 측정하였다. 그 결과를 도 2 나타낸다.
비교예 2의 Rth(450)/Rth(550)=1.02이고, Rth(650)/Rth(550)=0.98이었다.

Claims (10)

  1. 하기 화학식 I로 표시되는 폴리이미드계 중합체를 포함하는 광학 필름.
    <화학식 I>
    Figure 112009047381231-PCT00025
    단, 화학식 I에 있어서, m은 40몰％ 이상 100몰％ 이하이다(m+n≤100몰％). A, A', B 및 B'는, 각각 치환기를 나타내고, a 및 a'는 대응하는 A 및 A'의 치환수(0 내지 4까지의 정수)를, b 및 b'는 대응하는 B 및 B'의 치환수(0 내지 3까지의 정수)를 나타낸다. A, A', B 및 B'는, 각각 독립하여, 할로겐 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 나타내고, 복수의 경우, 각각 동일하거나 또는 상이하다. R1 및 R2는, 각각 독립하여, 탄소-탄소 이중 결합 또는 삼중 결합을 갖는 치환기를 나타낸다. X 및 Y는, 각각 독립하여, 공유 결합, 또는 CH2기, C(CH3)2기, C(CZ3)2기(Z는 할로겐임), CO기, O 원자, S 원자, SO2기, Si(CH2CH3)2기, 및 N(CH3)기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 원자 또는 기를 나타낸다. E는 치환기이고, e는 그 치환수(0 내지 3까지의 정수)를 나타낸다. E는 할로겐, 탄소수 1 내지 3의 알킬기, 탄소수 1 내지 3의 할로겐화 알킬기, 페닐기, 및 치환 페닐기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 원자 또는 기를 나타내고, 복수의 경우, 각각 동일하거나 또는 상이하다. G 및 H는 치환기이고, g는 G의 치환수(0 내지 4까지의 정수)를, h는 H의 치환수(0 내지 4까지의 정수)를 나타낸다. G 및 H는, 각각 독립하여, 할로겐, 알킬기, 치환 알킬기, 니트로기, 시아노기, 티오알킬기, 알콕시기, 아릴기, 치환 아릴기, 알킬에스테르기, 및 치환 알킬에스테르기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 원자 또는 기를 나타내고, 복수의 경우, 각각 동일하거나 또는 상이하다. q1은 0 내지 3까지의 정수를, q2는 1 내지 3까지의 정수를 나타낸다.
  2. 하기 화학식 Ia로 표시되는 폴리이미드계 중합체를 포함하는 광학 필름.
    <화학식 Ia>
    Figure 112009047381231-PCT00026
    단, 화학식 Ia에 있어서, m은 70몰％ 이상 100몰％ 이하이다(m+n≤100몰％). A, A', B 및 B'는, 각각 치환기를 나타내고, a 및 a'는 대응하는 A 및 A'의 치환수(0 내지 4까지의 정수)를, b 및 b'는 대응하는 B 및 B'의 치환수(0 내지 3까지의 정수)를 나타낸다. A, A', B 및 B'는, 각각 독립하여, 할로겐 또는 탄소수 1 내지 4의 알킬기를 나타내고, 복수의 경우, 각각 동일하거나 또는 상이하다. R3 및 R4는, 각각 독립하여, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 또는 CR6R7(OH)(R6 및 R7은, 각각 탄소수 1 내지 4의 알킬기임)를 나타낸다. X 및 Y는, 각각 독립하여, 공유 결합, 또는 CH2기, C(CH3)2기, C(CZ3)2기(Z는 할로겐임), CO기, O 원자, S 원자, SO2기, Si(CH2CH3)2기, 및 N(CH3)기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 원자 또는 기를 나타낸다. E는 치환기이고, e는 그 치환수(0 내지 3까지의 정수)를 나타낸다. E는 할로겐, 탄소수 1 내지 3의 알킬기, 탄소수 1 내지 3의 할로겐화 알킬기, 페닐기, 및 치환 페닐기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 원자 또는 기를 나타내고, 복수의 경우, 각각 동일하거나 또는 상이하다. G 및 H는 치환기이고, g는 G의 치환수(0 내지 4까지의 정수)를, h는 H의 치환수(0 내지 4까지의 정수)를 나타낸다. G 및 H는, 각각 독립하여, 할로겐, 알킬기, 치환 알킬기, 니트로기, 시아노기, 티오알킬기, 알콕시기, 아릴기, 치환 아릴기, 알킬에스테르기, 및 치환 알킬에스테르기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 원자 또는 기를 나타내고, 복수의 경우, 각각 동일하거나 또는 상이하다. q1은 0 내지 3까지의 정수를, q2는 1 내지 3까지의 정수를 나타낸다.
  3. 제1항에 있어서, 상기 탄소-탄소 이중 결합 또는 삼중 결합을 갖는 치환기가, 치환 또는 비치환의 아릴기, 치환 또는 비치환의 비닐기, 또는 치환 또는 비치환의 에티닐기 중 어느 하나인, 광학 필름.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, Rth(450)/Rth(550)≤0.98[단, Rth(450) 및 Rth(550)은, 파장 450㎚ 및 파장 550㎚에 있어서의 두께 방향의 위상 차값을 나타냄]을 나타내는 광학 필름.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, Rth(650)/Rth(550)≥1.02[단, Rth(550) 및 Rth(650)은, 파장 550㎚ 및 파장 650㎚에 있어서의 두께 방향의 위상차값을 나타냄]를 나타내는 광학 필름.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 폴리이미드계 중합체를 기재 상에 도공하여 얻어진 코팅막으로 구성되어 있는 광학 필름.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 두께 20㎛ 이하인 광학 필름.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 굴절률 타원체가 nx≒ny>nz[단, nx는 필름면 내의 굴절률이 최대로 되는 방향(X축 방향)에 있어서의 굴절률을, ny는 필름면 내에서 X축 방향에 대해 직교하는 방향(Y축 방향)에 있어서의 굴절률을, nz는 두께 방향에 있어서의 굴절률을 각각 나타냄]의 관계를 만족하는, 광학 필름.
  9. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 굴절률 타원체가 nx>ny>nz[단, nx는 필름면 내의 굴절률이 최대로 되는 방향(X축 방향)에 있어서의 굴절률을, ny는 필름면 내에서 X축 방향에 대해 직교하는 방향(Y축 방향)에 있어서의 굴절률을, nz는 두께 방향에 있어서의 굴절률을 각각 나타냄]의 관계를 만족하는, 광학 필름.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름을 갖는 화상 표시 장치.
KR1020097016232A 2007-04-17 2008-04-03 광학 필름, 및 화상 표시 장치 KR101155832B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2007-107991 2007-04-17
JP2007107991A JP4995618B2 (ja) 2007-04-17 2007-04-17 光学フィルム、及び画像表示装置
PCT/JP2008/056665 WO2008132951A1 (ja) 2007-04-17 2008-04-03 光学フィルム、及び画像表示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20090108612A true KR20090108612A (ko) 2009-10-15
KR101155832B1 KR101155832B1 (ko) 2012-06-12

Family

ID=39925410

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020097016232A KR101155832B1 (ko) 2007-04-17 2008-04-03 광학 필름, 및 화상 표시 장치

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8722842B2 (ko)
JP (1) JP4995618B2 (ko)
KR (1) KR101155832B1 (ko)
TW (1) TWI382250B (ko)
WO (1) WO2008132951A1 (ko)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013170135A1 (en) * 2012-05-11 2013-11-14 Akron Polymer Systems, Inc. Thermally stable, flexible substrates for electronic devices
KR20150023728A (ko) * 2012-06-19 2015-03-05 신닛테츠 수미킨 가가쿠 가부시키가이샤 표시장치 및 그 제조방법, 그리고 표시장치 지지기재용 폴리이미드 필름 및 그 제조방법
JP6638654B2 (ja) * 2014-12-04 2020-01-29 コニカミノルタ株式会社 ポリイミドフィルムとその製造方法、フレキシブルプリント基板、フレキシブルディスプレイ用基材、フレキシブルディスプレイ用前面板、ｌｅｄ照明装置及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置
EP3138866A1 (en) 2015-08-28 2017-03-08 Samsung Electronics Co., Ltd. Monomer, polymer, compensation film, optical film, and display device
KR102369128B1 (ko) 2016-03-30 2022-02-28 니폰 제온 가부시키가이샤 광학 이방성층 및 그 제조 방법, 광학 이방성 적층체 및 그 제조 방법, 광학 이방성 전사체, 편광판, 그리고 화상 표시 장치
JP7405576B2 (ja) * 2019-11-21 2023-12-26 住友化学株式会社 光学異方性膜

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69434548T2 (de) * 1993-03-18 2006-08-03 Nippon Telegraph And Telephone Corp. Herstellungsverfahren eines polyimiden optischen wellenleiters
US5750641A (en) * 1996-05-23 1998-05-12 Minnesota Mining And Manufacturing Company Polyimide angularity enhancement layer
KR100519209B1 (ko) 1996-05-23 2006-01-27 미네소타 마이닝 앤드 매뉴팩춰링 캄파니 음의복굴절을나타내는각도개선층및액정디스플레이
JP2002221622A (ja) 2000-11-22 2002-08-09 Teijin Ltd 広視野角偏光フィルムおよびその製造方法
JP4356446B2 (ja) * 2002-12-20 2009-11-04 住友ベークライト株式会社 ビスアミノフェノール誘導体
JP4251024B2 (ja) * 2003-06-30 2009-04-08 住友ベークライト株式会社 芳香族カルボン酸とその酸塩化物、および合成法
JP4486854B2 (ja) * 2004-06-18 2010-06-23 日東電工株式会社 位相差フィルムの製造方法
JP4993581B2 (ja) * 2006-10-02 2012-08-08 日東電工株式会社 光学フィルム及び画像表示装置

Also Published As

Publication number Publication date
TWI382250B (zh) 2013-01-11
TW200903111A (en) 2009-01-16
JP4995618B2 (ja) 2012-08-08
JP2008268336A (ja) 2008-11-06
US8722842B2 (en) 2014-05-13
US20100110554A1 (en) 2010-05-06
KR101155832B1 (ko) 2012-06-12
WO2008132951A1 (ja) 2008-11-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100990563B1 (ko) 광학 필름, 화상 표시 장치, 디에티닐플루오렌 및 그의 폴리머
JP3974631B2 (ja) 光学フィルムおよびその製造方法、ならびに該光学フィルムを用いた画像表示装置
JP3811175B2 (ja) 光学フィルム、偏光板、液晶セル、液晶表示装置、画像表示装置及び光学フィルムの製造方法
KR101166617B1 (ko) 광학 필름, 화상 표시 장치, 디에티닐플루오렌 및 그의 중합체
WO2006019112A1 (ja) 光学フィルム、偏光板および液晶ディスプレイ
KR100718860B1 (ko) 복굴절 필름의 제조 방법, 그것을 사용한 광학 필름 및화상 표시 장치
JP2006221188A5 (ko)
KR101155832B1 (ko) 광학 필름, 및 화상 표시 장치
KR20070104622A (ko) 광학 필름의 제조 방법 및 그러한 제조 방법에 의해얻어지는 광학 필름을 이용한 화상 표시 장치
JP4794012B2 (ja) Ｖａ型液晶表示装置用重畳フィルムの製造方法、ｖａ型液晶表示装置用重畳フィルム及びｖａ型液晶表示装置
KR100962456B1 (ko) 편광 필름, 적층 필름 및 액정 표시 장치
KR100607427B1 (ko) 복굴절성 광학 필름, 이것을 사용한 타원 편광판, 및이들을 사용한 액정표시장치
KR20080072887A (ko) 액정 패널 및 액정 표시 장치
JP3976328B2 (ja) Ｖａモード液晶表示装置用光学フィルムの製造方法
JP2007331368A (ja) 光学フィルム、偏光板、液晶セル、液晶表示装置、画像表示装置及び光学フィルムの製造方法
KR100831192B1 (ko) 복굴절 필름의 제조 방법, 그것을 사용한 광학 필름 및화상 표시 장치
JP2005181451A (ja) 複屈折フィルムおよびその製造方法、ならびにそれを用いた光学フィルムおよび画像表示装置
JP2008003573A (ja) 光学フィルム、偏光板、液晶セル、液晶表示装置、画像表示装置及び光学フィルムの製造方法
JP2005049589A (ja) 複屈折層の製造方法、複屈折層、およびそれを用いた偏光板
JP2003231143A (ja) 負複屈折性ポリマーフィルムの製造方法
JP2005338425A (ja) 光学的二軸性複屈折フィルムの製造方法、光学的二軸性複屈折フィルム、ならびにそれを用いた光学フィルムおよび画像表示装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
AMND Amendment
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
J201 Request for trial against refusal decision
B701 Decision to grant
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150430

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160517

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170522

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180518

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190516

Year of fee payment: 8