KR20090086315A - 노광 헤드, 화상 형성 유닛 및, 화상 형성 장치 - Google Patents

Abstract

(과제) 발광 강도의 시간 경과에 따른 변화를 정확하게 파악할 수 있는 노광 헤드를 얻는다.

(해결 수단) 투광성 기판(301)과, 투광성 기판(301)의 한쪽 면에 배치된 복수의 발광 소자(310)와, 투광성 기판(301)에 배치된 발광 소자(310)로부터 사출되어 투광성 기판(301) 내를 전파하는 빛을 검출 가능한 1 또는 복수의 광검출 수단(320)을 포함하는 발광 기판(300)을 구비하고, 발광 소자(310)로부터 사출되어 투광성 기판(301)을 투과한 빛을, 발광 소자(310)와 투광성 기판(301)을 통하여 대향하는 상담지체(21; image carrier)상에 조사(project)하여, 상담지체(21)에 소정의 패턴을 형성하는 노광 헤드(29)로서, 투광성 기판(301) 내에는, 당해 투광성 기판(301) 내를 전파하는 빛을 난반사(diffusely reflect)시키는 복수의 개질점(330; reformation point)이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 노광 헤드(29).

투광성 기판, 발광 소자, 개질점

Description

노광 헤드, 화상 형성 유닛 및, 화상 형성 장치{EXPOSURE HEAD, IMAGE FORMING UNIT, AND IMAGE FORMING APPARATUS}

본 발명은, 복수의 발광 소자를 구비하는 노광 헤드, 당해 노광 헤드를 구비하는 화상 형성 유닛 및, 당해 노광 헤드를 구비하는 화상 형성 장치에 관한 것이다.

감광체 드럼을 노광하여 당해 감광체 드럼의 표면에 형성한 잠상(latent image)을, 1차 전사 롤러 등을 통하여 종이 등의 매체에 전사하여 화상을 형성하는 방식의 화상 형성 장치에 이용되는 노광 헤드의 하나로서, 기판상에 규칙적으로 배치한 발광 소자와 굴절률 분포형 렌즈를 이용하는 형(型)의 것이 있다. 1개의 발광 소자로부터 사출된 빛을 복수의 굴절률 분포형 렌즈의 각각이 감광체 드럼의 표면의 동일 위치에 겹치도록 결상(結像)함으로써, 당해 표면에 1개의 스폿(spot)이 형성된다. 이러한 스폿이 집합함으로써, 화상(잠상)이 된다.

이러한 방식의 노광 헤드에서 일어날 수 있는 문제로서, 복수의 발광 소자간의 광량(光量)의 불균일이 있다. 발광 빈도의 불균일 등에 의해, 동일한 전류 혹은 전압을 인가한 경우에 있어서의 각각의 발광 소자가 사출하는 빛의 강도가 시간 경과에 따라 변화하여 불균일해져, 양호한 화상(잠상)을 형성할 때에 방해가 된다. 이러한 현상을 억제하기 위해, 예를 들면 특허문헌 1에 기재된 노광 헤드에서는, 발광 기판상에 발광 소자와 함께 광검출 수단을 배치하여, 발광 소자마다의 광량을 측정하는 것이 가능하게 되어 있다.

도16 에, 이러한 방식, 즉 종래의 노광 헤드가 구비하는 발광 기판으로서, 발광 소자로 보텀 이미션(bottom emission)형의 유기 EL 소자(310)를 이용하는 발광 기판(300)을 개략적으로 나타낸다. (a)가 상면도(上面圖), (b)가 측면도, (c)가 B-B′선에 있어서의 단면도이다. 도시하는 바와 같이, 투광성 기판(301)상에 지그재그 형상으로 배치된 유기 EL 소자(310)의 주변에, 광검출 수단으로서의 포토다이오드(photodiode) 등의 수광(受光) 소자로 이루어지는 광검출 수단(320)이 배치되어 있다.

유기 EL 소자(310)로부터 사출된 빛의 일부가, 투광성 기판(301)의 표면과 이면에서 반사를 반복하면서 광검출 수단(320)에 도달하는 구성으로 되어 있어, 개개의 유기 EL 소자(310)를 순차 점등시켜 광량을 측정할 수 있다. 그리고, 이러한 측정 결과에 기초하여, 각각의 유기 EL 소자(310)에 인가하는 전류(또는 전압)치를 보정함으로써, 고정밀도의 화상(잠상)을 형성할 수 있다.

[특허문헌 1] 일본공개특허공보 2004-66758호

그러나, 상기 구성의 발광 기판에서는 유기 EL 소자(310)가 사출하는 빛 중 광검출 수단(320)으로 측정할 수 있는 빛의 비율이 적다는 과제가 있다. 즉, 도16(c) 에 나타내는 바와 같이, 광검출 수단(320)에 도달하는 빛은 각도 범위(θa)의 범위 내의 빛(L1)에 한정되어 있으며, 당해 각도 범위 외의 빛은 광검출 수단(320)에 도달하는 일 없이 발광 기판(300)의 외부로 사출된다. 따라서, 유기 EL 소자(310)의 발광 강도의 시간 경과에 따른 변화를 정확히 파악하는 것이 곤란하여, 복잡한 증폭 회로 혹은 노이즈 저감 회로 등을 이용하지 않는 경우, 전술의 보정의 정밀도가 저하될 수 있다는 문제점이 있다.

본 발명은, 상기 과제의 적어도 일부를 해결하기 위해 이루어진 것으로, 이하의 형태 또는 적용예로서 실현하는 것이 가능하다.

[적용예 1]

투광성 기판과, 상기 투광성 기판의 한쪽 면에 배치된 복수의 발광 소자와, 상기 투광성 기판에 배치된, 상기 발광 소자로부터 사출되어 상기 투광성 기판 내를 전파하는 빛을 검출 가능한 1 또는 복수의 광검출 수단을 포함하는 발광 기판을 구비하고, 상기 발광 소자로부터 사출되어 상기 투광성 기판을 투과한 빛을, 상기 발광 소자와 상기 투광성 기판을 통하여 대향하는 상담지체(image carrier)상에 조사(project)하여, 상기 상담지체에 소정의 패턴을 형성하는 노광 헤드로서, 상기 투광성 기판 내에는, 당해 투광성 기판 내를 전파하는 빛을 난반사(diffusely reflect)시키는 복수의 개질점(reformation point)이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 노광 헤드.

이러한 구성에 의하면, 상기 광검출 수단에 입사하는 빛의 양을 증가시킬 수 있다. 따라서, 전술의 보정을 높은 정밀도로 행할 수 있어, 고정밀도(high definition)의 화상(잠상)을 형성할 수 있다.

[적용예 2]

전술의 노광 헤드로서, 상기 투광성 기판의 표면에 있어서의, 상기 발광 소자가 배치되어 있는 영역과 당해 발광 소자와 대향하는 영역과 상기 광검출 수단이 배치되어 있는 영역을 제외한 영역의 적어도 일부에, 상기 발광 소자가 사출하는 빛을 반사하는 광반사층이 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 노광 헤드.

이러한 구성에 의하면, 상기 광검출 수단에 입사하는 빛의 양을 효율적으로 증가시킬 수 있다. 따라서, 전술의 보정을 보다 한층 높은 정밀도로 행할 수 있어, 보다 한층 고정밀도의 화상을 형성할 수 있다.

[적용예 3]

전술의 노광 헤드로서, 상기 발광 소자가 유기 EL 소자인 것을 특징으로 하는 노광 헤드.

이러한 구성에 의하면, 상기 투광성 기판상에 TFT 프로세스로 형성한 구동용 트랜지스터와 유기 EL 소자를 조합할 수 있어, 상기 노광 헤드의 제조 비용을 저감할 수 있다.

[적용예 4]

전술의 노광 헤드로서, 상기 개질점은 레이저광으로 형성된 것인 것을 특징으로 하는 노광 헤드.

레이저광을 이용하면 상기 투광성 기판 내의 임의의 위치에 상기 개질점을 형성할 수 있다. 따라서, 이러한 구성에 의하면, 상기 광검출 수단에 입사하는 빛의 양을 효율적으로 증가시킬 수 있어, 전술의 보정을 효율적으로 행할 수 있다.

[적용예 5]

전술의 노광 헤드로서, 상기 개질점의 형성 밀도가, 상기 투광성 기판 내의 위치에 따라 달라지는 것을 특징으로 하는 노광 헤드.

이러한 구성에 의하면, 예를 들면 상기 광검출 수단의 근방에 높은 밀도로 상기 개질점을 형성함으로써, 상기 광검출 수단에 입사하는 빛의 양을 효율적으로 증가시킬 수 있다. 따라서, 상기 노광 헤드의 제조 비용을 저감하면서, 전술의 보정을 효율적으로 행할 수 있다.

[적용예 6]

전술의 노광 헤드를 구비하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 유닛.

이러한 구성에 의하면, 상기 상담지체에 고정밀도의 화상(잠상)을 형성할 수 있기 때문에, 종이 등의 매체에 형성하는 화상의 품질을 향상할 수 있다.

[적용예 7]

전술의 노광 헤드를 구비하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.

이러한 구성에 의하면, 상기 상담지체에 고정밀도의 화상(잠상)을 형성할 수 있기 때문에, 종이 등의 매체에 형성하는 화상의 품질을 향상할 수 있다.

(발명을 실시하기 위한 최량의 형태)

이하, 도면을 참조하여, 본 발명을 구체화한 전기 광학 장치로서의 액정 장치의 실시 형태에 대해서 서술한다. 또한, 이하에 나타내는 각 도면에 있어서는, 각 구성 요소를 도면상에서 인식될 수 있는 정도의 크기로 하기 위해, 당해 각 구성 요소의 치수나 비율을 실제의 것과는 적절히 다르게 하고 있다.

(제1 실시 형태)

도1∼도4 에, 본 실시 형태에 따른 노광 헤드 및, 당해 노광 헤드를 구비하는 화상 형성 유닛 및, 당해 화상 형성 유닛을 구비하는 화상 형성 장치(1)를 나타낸다.

도1 은, 제1 실시 형태에 따른 노광 헤드(29)를 적용할 수 있는 화상 형성 장치(1)를 나타내는 도면이다. 또한, 도2 는, 도1 에 나타내는 화상 형성 장치(1)의 전기적 구성을 나타내는 도면이다. 이 장치는, 블랙(K), 시안(C), 마젠타(M), 옐로우(Y)의 4색의 토너를 서로 겹쳐서 컬러 화상을 형성하는 컬러 모드와, 블랙(K)의 토너만을 이용하여 흑백 화상을 형성하는 흑백 모드를 선택적으로 실행 가능한 화상 형성 장치(1)이다.

또한 도1 은, 컬러 모드 실행 시에 대응되는 도면이다. 이 화상 형성 장치(1)에서는, 호스트 컴퓨터 등의 외부 장치로부터 화상 형성 지령이 CPU나 메모리 등을 갖는 메인 컨트롤러(MC)에 부여되면, 이 메인 컨트롤러(MC)는 엔진 컨트롤 러(EC)에 제어 신호 등을 부여함과 아울러 화상 형성 지령에 대응하는 비디오 데이터(VD)를 헤드 컨트롤러(HC)에 부여한다. 또한, 이 헤드 컨트롤러(HC)는, 메인 컨트롤러(MC)로부터의 비디오 데이터(VD)와 엔진 컨트롤러(EC)로부터의 수직 동기 신호(Vsync) 및 파라미터(parameter)값에 기초하여 각 색의 노광 헤드(29)를 제어한다. 이에 따라, 엔진부(EG)가 소정의 화상 형성 동작을 실행하여, 복사지, 전사지, 용지 및 OHP용 투명 시트 등의 시트에 화상 형성 지령에 대응하는 화상을 형성한다.

이 실시 형태에 따른 화상 형성 장치가 갖는 하우징 본체(3) 내에는, 전원 회로 기판, 메인 컨트롤러(MC), 엔진 컨트롤러(EC) 및 헤드 컨트롤러(HC)를 내장하는 전장품 박스(5; electric component box)가 형성되어 있다. 또한, 화상 형성 유닛(7), 전사 벨트 유닛(8) 및 급지 유닛(11)도 하우징 본체(3) 내에 설치되어 있다. 또한, 도1 에 있어서 하우징 본체(3) 내 우측에는, 2차 전사 유닛(12), 정착 유닛(13), 시트 안내 부재(15)가 설치되어 있다. 또한, 급지 유닛(11)은, 화상 형성 장치(1) 본체에 대하여 착탈 자유롭게 구성되어 있다. 그리고, 당해 급지 유닛 및 전사 벨트 유닛(8)에 대해서는, 각각 떼어내어서 수리 또는 교환을 행하는 것이 가능한 구성으로 되어 있다.

화상 형성 유닛(7)은, 복수의 다른 색의 화상을 형성하는 4개의 화상 형성 스테이션 Y(옐로우용), M(마젠타(magenta)용), C(시안용), K(블랙용)을 구비하고 있다. 또한, 각 화상 형성 스테이션 Y, M, C, K은, 주(主)주사 방향(MD)(도3 참조)으로 소정 길이의 표면을 갖는 원통형의 감광체 드럼(21)을 형성하고 있다. 그 리고, 각 화상 형성 스테이션 Y, M, C, K 각각은, 대응하는 색의 토너상(像)을, 감광체 드럼(21)의 표면에 형성한다. 감광체 드럼(21)은, 축 방향이 주주사 방향(MD)과 대략 평행이 되도록 배치되어 있다. 또한, 각 감광체 드럼(21)은 각각 전용의 구동 모터에 접속되어, 회전 방향(D21)(도1 에 나타내는 화살표의 방향)의 방향으로 소정 속도로 회전 구동된다. 이에 따라 감광체 드럼(21)의 표면이, 주주사 방향(MD)과 대략 직교하는 부(副)주사 방향(SD)(도4 참조)으로 반송되게 된다. 또한, 감광체 드럼(21)의 주위에는, 회전 방향을 따라 대전부(23), 노광 헤드(29), 현상부(25; developing part) 및 감광체 클리너(27)가 설치되어 있다. 그리고, 이들 기능부에 의해 대전 동작, 잠상 형성 동작 및 토너 현상 동작이 실행된다. 따라서, 컬러 모드 실행 시는, 모든 화상 형성 스테이션 Y, M, C, K에서 형성된 토너상을 전사 벨트 유닛(8)이 갖는 전사 벨트(81)에 서로 겹쳐서 컬러 화상을 형성함과 아울러, 흑백 모드 실행 시는, 화상 형성 스테이션 K에서 형성된 토너상만을 이용하여 흑백 화상을 형성한다. 또한, 도1 에 있어서, 화상 형성 유닛(7)의 각 화상 형성 스테이션은 구성이 서로 동일하기 때문에, 도시(圖示)의 편의상 일부의 화상 형성 스테이션에만 부호를 붙이고, 다른 화상 형성 스테이션에 대해서는 부호를 생략한다.

대전부(23; charging part)는, 그 표면이 탄성 고무로 구성된 대전 롤러를 구비하고 있다. 이 대전 롤러는 대전 위치에서 감광체 드럼(21)의 표면과 맞닿아 종동(driven) 회전하도록 구성되어 있으며, 감광체 드럼(21)의 회전 동작에 수반하여 감광체 드럼(21)에 대하여 종동 방향으로 주속(circumferential velocity)으로 종동 회전한다. 또한, 이 대전 롤러는 대전 바이어스 발생부(도시 생략)에 접속되어 있으며, 대전 바이어스 발생부로부터의 대전 바이어스의 급전을 받아 대전부(23)와 감광체 드럼(21)이 맞닿는 대전 위치에서 감광체 드럼(21)의 표면을 대전시킨다.

노광 헤드(29)는, 그 길이 방향이 주주사 방향(MD)에 대응함과 아울러 그 폭 방향이 부주사 방향(SD)에 대응하도록, 감광체 드럼(21)에 대하여 배치되어 있다. 따라서, 노광 헤드(29)의 길이 방향은, 주주사 방향(MD)과 대략 평행하다. 그리고, 노광 헤드(29)는, 길이 방향으로 늘어세워 배치된 복수의 발광 소자를 구비함과 아울러, 감광체 드럼(21)으로부터 이간(spaced) 배치되어 있다. 그리고, 이들 발광 소자로부터, 대전부(23)에 의해 대전된 감광체 드럼(21)의 표면에 대하여 빛을 조사하여(즉, 노광하여) 당해 표면에 잠상을 형성한다. 또한, 이 실시 형태에서는, 각 색의 노광 헤드(29)를 제어하기 위해 헤드 컨트롤러(HC)가 형성되고, 메인 컨트롤러(MC)로부터의 비디오 데이터(VD)와, 엔진 컨트롤러(EC)로부터의 신호에 기초하여 각 노광 헤드(29)를 제어하고 있다. 즉, 이 실시 형태에서는, 화상 형성 지령에 포함되는 화상 데이터가 메인 컨트롤러(MC)의 화상 처리부(51)에 입력된다. 그리고, 당해 화상 데이터에 대하여 여러 종류의 화상 처리가 행해져 각 색의 비디오 데이터(VD)가 작성됨과 아울러, 당해 비디오 데이터(VD)가 메인측 통신 모듈(52)을 통하여 헤드 컨트롤러(HC)에 부여된다. 또한, 헤드 컨트롤러(HC)에서는, 비디오 데이터(VD)는 헤드측 통신 모듈(53)을 통하여 헤드 제어 모듈(54)에 부여된다. 이 헤드 제어 모듈(54)에는, 상기한 바와 같이 잠상 형성에 관련되는 파라미 터값을 나타내는 신호와 수직 동기 신호(Vsync)가 엔진 컨트롤러(EC)로부터 부여되고 있다. 그리고, 이들 신호 및 비디오 데이터(VD) 등에 기초하여 헤드 컨트롤러(HC)는 각 색의 노광 헤드(29)에 대하여 소자 구동을 제어하기 위한 신호를 작성하여, 각 노광 헤드(29)로 출력한다. 이렇게 함으로써, 각 노광 헤드(29)에 있어서 발광 소자의 작동이 적절히 제어되어 화상 형성 지령에 대응하는 잠상이 형성된다.

그리고, 이 실시 형태에 있어서는, 각 화상 형성 스테이션 Y, M, C, K의 감광체 드럼(21), 대전부(23), 현상부(25) 및 감광체 클리너(27)를 감광체 카트리지로서 유닛화하고 있다. 또한, 각 감광체 카트리지에는, 당해 감광체 카트리지에 관한 정보를 기억하기 위한 불휘발성 메모리가 각각 형성되어 있다. 그리고, 엔진 컨트롤러(EC)와 각 감광체 카트리지와의 사이에서 무선 통신이 행해진다. 이렇게 함으로써, 각 감광체 카트리지에 관한 정보가 엔진 컨트롤러(EC)에 전달됨과 아울러, 각 메모리 내의 정보가 갱신 기억된다.

현상부(25)는, 그 표면에 토너가 담지(carry)되는 현상 롤러(251)를 갖는다. 그리고, 현상 롤러(251)와 전기적으로 접속된 현상 바이어스 발생부(도시 생략)로부터 현상 롤러(251)에 인가되는 현상 바이어스에 의해, 현상 롤러(251)와 감광체 드럼(21)이 맞닿는 현상 위치에 있어서, 대전 토너가 현상 롤러(251)로부터 감광체 드럼(21)으로 이동하여 노광 헤드(29)에 의해 형성된 정전 잠상이 현재화(expose)된다.

이와 같이 상기 현상 위치에 있어서 현재화된 토너상은, 감광체 드럼(21)의 회전 방향(D21)으로 반송된 후, 뒤에 상세히 설명하는 전사 벨트(81)와 각 감광체 드럼(21)이 맞닿는 1차 전사 위치(TR1)에 있어서 전사 벨트(81)에 1차 전사된다.

또한, 이 실시 형태에서는, 감광체 드럼(21)의 회전 방향(D21)의 1차 전사 위치(TR1)의 하류측에서 그리고 대전부(23)의 상류측에, 감광체 드럼(21)의 표면에 맞닿아서 감광체 클리너(27)가 형성되어 있다. 이 감광체 클리너(27)는, 감광체 드럼의 표면에 맞닿음으로써 1차 전사 후에 감광체 드럼(21)의 표면에 잔류하는 토너를 클리닝 제거한다.

전사 벨트 유닛(8)은, 구동 롤러(82)와, 도1 에 있어서 구동 롤러(82)의 좌측에 설치되는 종동 롤러(83)(블레이드(blade) 대향 롤러)와, 이들 롤러에 팽팽하게 걸어져 도시의 화살표(D81)의 방향(반송 방향)으로 순환 구동되는 전사 벨트(81)를 구비하고 있다. 또한, 전사 벨트 유닛(8)은, 전사 벨트(81)의 내측에, 감광체 카트리지 장착 시에 있어서 각 화상 형성 스테이션 Y, M, C, K이 갖는 감광체 드럼(21) 각각에 대하여 1 대 1로 대향 배치되는, 4개의 1차 전사 롤러(85Y, 85M, 85C, 85K)를 구비하고 있다. 이들 1차 전사 롤러(85)는, 각각 1차 전사 바이어스 발생부(도시 생략)와 전기적으로 접속된다. 그리고, 뒤에 상세히 설명하는 바와 같이, 컬러 모드 실행 시는, 도1 에 나타내는 바와 같이 모든 1차 전사 롤러(85Y, 85M, 85C, 85K)를 화상 형성 스테이션 Y, M, C, K 측에 위치 결정함으로써, 전사 벨트(81)를 화상 형성 스테이션 Y, M, C, K 각각이 갖는 감광체 드럼(21)으로 밀어붙여 맞닿게 하여서, 각 감광체 드럼(21)과 전사 벨트(81)와의 사이에 1차 전사 위치(TR1)를 형성한다. 그리고, 적당한 타이밍에서 상기 1차 전사 바이어 스 발생부로부터 1차 전사 롤러(85)에 1차 전사 바이어스를 인가함으로써, 각 감광체 드럼(21)의 표면상에 형성된 토너상을, 각각에 대응하는 1차 전사 위치(TR1)에 있어서 전사 벨트(81) 표면에 전사하여 컬러 화상을 형성한다.

한편, 흑백 모드 실행 시는, 4개의 1차 전사 롤러(85) 중, 컬러 1차 전사 롤러(85Y, 85M, 85C)를 각각이 대향하는 화상 형성 스테이션 Y, M, C으로부터 이간시킴과 아울러 흑백 1차 전사 롤러(85K)만을 화상 형성 스테이션 K에 맞닿게 함으로써, 흑백 화상 형성 스테이션 K만을 전사 벨트(81)에 맞닿게 한다. 그 결과, 흑백 1차 전사 롤러(85K)와 화상 형성 스테이션 K과의 사이에만 1차 전사 위치(TR1)가 형성된다. 그리고, 적당한 타이밍에서 상기 1차 전사 바이어스 발생부로부터 흑백 1차 전사 롤러(85K)에 1차 전사 바이어스를 인가함으로써, 각 감광체 드럼(21)의 표면상에 형성된 토너상을, 1차 전사 위치(TR1)에 있어서 전사 벨트(81) 표면에 전사하여 흑백 화상을 형성한다.

또한, 전사 벨트 유닛(8)은, 흑백 1차 전사 롤러(85K)의 하류측에서 그리고 구동 롤러(82)의 상류측에 설치된 하류 가이드 롤러(86)를 구비한다. 또한, 이 하류 가이드 롤러(86)는, 흑백 1차 전사 롤러(85K)가 화상 형성 스테이션 K의 감광체 드럼(21)에 맞닿아서 형성하는 1차 전사 위치(TR1)에서의 1차 전사 롤러(85K)와 감광체 드럼(21)과의 공통 내접선(internal common tangent) 상에 있어서, 전사 벨트(81)에 맞닿도록 구성되어 있다.

구동 롤러(82)는, 전사 벨트(81)를 도시의 화살표(D81)의 방향으로 순환 구동함과 아울러, 2차 전사 롤러(121)의 백업 롤러를 겸하고 있다. 구동 롤러(82)의 둘레면에는, 두께 3㎜ 정도, 체적 저항률이 1000kΩ·cm 이하의 고무층이 형성되어 있으며, 금속제의 축을 통하여 접지함으로써, 도시를 생략하는 2차 전사 바이어스 발생부로부터 2차 전사 롤러(121)를 통하여 공급되는 2차 전사 바이어스의 도전 경로(conduction path)로 하고 있다. 이와 같이 구동 롤러(82)에 고(高)마찰 그리고 충격 흡수성을 갖는 고무층을 형성함으로써, 구동 롤러(82)와 2차 전사 롤러(121)와의 맞닿음 부분(2차 전사 위치(TR2))으로 시트가 진입할 때의 충격이 전사 벨트(81)에 전달되기 어려워, 화질의 열화를 방지할 수 있다.

급지 유닛(11)은, 시트를 적층 유지 가능한 급지 카세트(77)와, 급지 카세트(77)로부터 시트를 한 장씩 급지하는 픽업 롤러(79)를 갖는 급지부를 구비하고 있다. 픽업 롤러(79)에 의해 급지부로부터 급지된 시트는, 레지스트 롤러쌍(80)에 있어서 급지 타이밍이 조정된 후, 시트 안내 부재(15)를 따라 2차 전사 위치(TR2)에 급지된다.

2차 전사 롤러(121)는, 전사 벨트(81)에 대하여 이탈접촉이 자유롭게 형성되어, 2차 전사 롤러 구동 기구(도시 생략)에 의해 이탈접촉 구동된다. 정착 유닛(13)은, 할로겐 히터 등의 발열체를 내장하여 회전 자유로운 가열 롤러(131)와, 이 가열 롤러(131)를 누름 탄성지지하는 가압부(132)를 갖고 있다. 그리고, 그 표면에 화상이 2차 전사된 시트는, 시트 안내 부재(15)에 의해, 가열 롤러(131)와 가압부(132)의 가압 벨트(1323)로 형성하는 닙(nip)부로 안내되고, 당해 닙부에 있어서 소정의 온도로 화상이 열정착된다. 가압부(132)는, 2개의 롤러(1321, 1322)와, 이들에 팽팽하게 걸어지는 가압 벨트(1323)로 구성되어 있다. 그리고, 가압 벨 트(1323)의 표면 중, 2개의 롤러(1321, 1322)에 의해 팽팽해진 벨트 장면(belt expansion face)을 가열 롤러(131)의 둘레면에 밀어붙임으로써, 가열 롤러(131)와 가압 벨트(1323)로 형성하는 닙(nip)부가 넓게 취해질 수 있도록 구성되어 있다. 또한, 이렇게 하여 정착 처리를 받은 시트는 하우징 본체(3)의 상면부에 형성된 배지 트레이(4; paper discharge tray)로 반송된다.

또한, 이 장치에서는, 종동 롤러(83)에 대향하여 클리너부(71)가 설치되어 있다. 클리너부(71)는, 클리너 블레이드(711)와 폐(廢) 토너 박스(713)를 갖는다. 클리너 블레이드(711)는, 그 선단부를 전사 벨트(81)를 통하여 종동 롤러(83)에 맞닿게 함으로써, 2차 전사 후에 전사 벨트에 잔류하는 토너나 지분(paper powder) 등의 이물을 제거한다. 그리고, 이와 같이 제거된 이물은, 폐 토너 박스(713)에 회수된다. 또한, 클리너 블레이드(711) 및 폐 토너 박스(713)는, 종동 롤러(83)와 일체적으로 구성되어 있다. 따라서, 다음에 설명하는 바와 같이 종동 롤러(83)가 이동하는 경우는, 종동 롤러(83)와 함께 클리너 블레이드(711) 및 폐 토너 박스(713)도 이동하게 된다.

도3 은, 본 실시 형태에 따른 노광 헤드의 개략을 나타내는 사시도이다. 또한, 도4 는, 도3 에 나타낸 노광 헤드의 폭 방향 단면도이다. 전술한 바와 같이, 그 길이 방향(LGD)이 주주사 방향(MD)에 대응됨과 아울러, 그 폭 방향(LTD)이 부주사 방향(SD)에 대응되도록, 노광 헤드(29)는 감광체 드럼(21)에 대하여 배치되어 있다. 또한, 길이 방향(LGD)과 폭 방향(LTD)은, 서로 대략 직교한다. 본 실시 형태에 있어서의 노광 헤드(29)는, 케이스(291)를 구비함과 아울러, 이러한 케이 스(291)의 길이 방향(LGD)의 양단에는, 위치 결정핀(2911)과 나사 삽입 구멍(2912)이 형성되어 있다. 그리고, 이러한 위치 결정핀(2911)을, 감광체 드럼(21)을 덮음과 아울러 감광체 드럼(21)에 대하여 위치 결정된 감광체 커버(도시 생략)에 천공형성된 위치 결정 구멍(도시 생략)에 끼워넣음으로써, 노광 헤드(29)가 감광체 드럼(21)에 대하여 위치 결정된다. 그리고 추가로, 나사 삽입 구멍(2912)을 통하여 고정 나사를 감광체 커버의 나사 구멍(도시 생략)에 틀어박아 고정함으로써, 노광 헤드(29)가 감광체 드럼(21)에 대하여 위치 결정 고정된다.

케이스(291)는 감광체 드럼(21)의 표면에 대향하는 위치에 렌즈 어레이(299)를 유지함과 아울러, 내부에 당해 렌즈 어레이에 대향하도록 발광 기판(300)을 구비하고 있다. 렌즈 어레이(299)는 복수의 굴절률 분포형의 렌즈를 지그재그 형상으로 배치하여 구성되어 있으며, 후술하는 유기 EL 소자(310)가 사출하는 빛을, 감광체 드럼(21)상에 결상시키고 있다.

발광 기판(300)은 유리 등의 투광성 재료로 이루어지는 투광성 기판(301)(도5 참조)과, 당해 투광성 기판의 이면(렌즈 어레이(299)와 대향하는 면의 반대측의 면)에 (길이 방향으로) 지그재그 형상으로 배치된 복수의, 발광 소자로서의 유기 EL 소자(310) 등으로 이루어진다. 상기 이면에 배치된 도시하지 않는 구동 회로에 의해 구동되고, 렌즈 어레이(299)의 방향을 향해서 빛을 사출한다. 그리고, 이러한 빛이 렌즈 어레이(299)에 의해, 감광체 드럼(21)의 표면에 스폿으로서 결상된다.

또한, 렌즈 어레이(299)는, 복수의 동일 형상의 굴절률 분포형 렌즈를 2단으 로 엇갈려쌓기(piling)하여 구성되어 있다. 후술하는 발광 기판(300)상의 유기 EL 소자(310)의 배치에 대응시킨 구성이며, 광축(light axis)에 수직인 단면은, 원형 단면이 지그재그 형상으로 2열로 늘어선 상태이다.

도4(폭 방향 단면도)에 나타내는 바와 같이, 고정 기구(2914)에 의해, 뒷덮개(2913)가 발광 기판(300)을 통하여 케이스(291)로 가압되어 있다. 즉, 고정 기구(2914)는, 뒷덮개(2913)를 케이스(291)측으로 누르는 탄성력을 가짐과 아울러, 이러한 탄성력에 의해 뒷덮개(2913)를 누름으로써, 케이스(291)의 내부를 광밀하게(densely for light)(즉, 케이스(291) 내부로부터 빛이 새지 않도록, 및, 케이스(291)의 외부로부터 빛이 침입하지 않도록) 밀폐하고 있다. 또한, 고정 기구(2914)는, 케이스(291)의 길이 방향(LGD)으로 복수 개소 형성되어 있다. 또한, 유기 EL 소자(310)는, 봉지 부재(294)에 의해 덮여 있다.

도5 는, 본 실시 형태에 따른 발광 기판(300)을 개략적으로 나타내는 도면이다. 도5(a) 는 전술의 이면(rear face) 방향에서 본 평면도이며, 도5(b) 는 측면도이다. 그리고 도5(c) 는 도5(a) 의 A-A′선에 있어서의 단면을 확대하여 나타내는 도면이며, 도5(d) 는 후술하는 개질점(330)이 형성되어 있는 부분을 확대하여 나타내는 도면이다.

도5(a) 및 도5(b) 에 나타내는 바와 같이, 발광 기판(300)은, 투광성 기판(301)과, 당해 투광성 기판의 이면에 지그재그 형상으로 배치된 복수의 유기 EL 소자(310)와, 당해 유기 EL 소자의 주위에 배치된 복수의 (포토다이오드 등의 수광 소자로 이루어지는) 광검출 수단(320) 등으로 이루어져 있다. 또한, 상기 도5(a) ∼도5(d), 및, 뒤에 기재하는 도7 내지 도12 에 있어서, 유기 EL 소자(310)는 일부만 도시하고 있다.

투광성 기판(301)의 광검출 수단(320)이 배치되어 있는 영역의 두께 방향으로, 빛의 직진성을 방해하는 복수의 개질점(330)이 형성되어 있다. 이러한 개질점(330)은, 투광성 기판(301)의 형성 재료인 유리 등에 형성된 기포, 크랙(crack), 조직 결함 등으로, 조사된 빛의 직진성을 방해할 수 있다. 따라서, 도5(c) 에 나타내는 바와 같이, 각도 범위(θa)의 범위 외의 빛(L2), 즉 종래의 발광 기판에 있어서는 광검출 수단(320)에 입사하는 일이 없었던 빛을 반사 등을 시켜서, 진행 방향을 변화시킬 수 있다. 전술의 반사 등은 1회만이 아니라 연속하여 발생한다. 따라서, 전술의 광검출 수단(320)이 배치되어 있는 영역으로 조사된 빛은, 직진하지 않고 난반사를 반복한다.

도5(d) 는, 이러한 난반사의 형태를 나타내는 것이다. 개질점(330)은 복수개가 밀집되도록 형성되어 있기 때문에, 전술의 영역으로 입사한 빛(L2)은, 광검출 수단(320)에 입사하여 취입되거나, 혹은 전술의 영역 외에 도달하기까지는, 난반사를 계속한다. 따라서, 개질점(330)을 형성함으로써, 종래의 발광 기판에 있어서는 광검출 수단(320)에 입사하는 일이 없었던 빛 중의 적어도 일부를 광검출 수단(320)에 입사시킬 수 있어, 유기 EL 소자(310)로부터 사출되는 빛 중의 광검출 수단(320)에 입사하는 빛의 비율을 증가시킬 수 있다.

전술한 바와 같이, 길이 방향(LGD)(도3 참조)으로 배치한 유기 EL 소자(310)를 이용하여 감광체 드럼(21)상에 잠상을 형성하는 발광 기판(300)에 있어서는, 유 기 EL 소자(310)마다의 발광 빈도에 따라 시간 경과에 따른 열화의 정도에 불균일이 생긴다. 그 때문에, 고정밀도의 화상을 형성하기 위해서는 정기적으로 유기 EL 소자(310)마다의 발광 강도를 측정하여 보정할 필요가 있다. 본 실시 형태의 발광 기판(300)을 이용하는 화상 형성 유닛(7) 및, 화상 형성 장치(1)는, 유기 EL 소자(310) 및 광검출 수단(320) 등의 배치의 형태를, 종래의 발광 기판 등과 동일하게 한 경우에 있어서 광검출 수단에 입사하는 광량을 증가시킬 수 있다. 따라서 복잡한 증폭 회로 혹은 노이즈 저감 회로 등을 이용하는 일 없이, 유기 EL 소자(310)의 발광 강도의 시간 경과에 따른 변화를 보다 한층 정확하게 파악하여 보다 한층 정확하게 (각각의 유기 EL 소자에 인가하는 전류량 등을) 보정할 수 있어, 당해 시간 경과에 따른 변화에도 불구하고, 보다 한층 정확한 화상을 형성할 수 있다.

또한, 도시하는 바와 같이, 광검출 수단(320)은 1개의 발광 기판(300)에 복수개 배치되어 있다. 그리고, 1개의 유기 EL 소자가 사출하는 빛은, 이러한 복수개의 광검출 수단(320) 모두에 입사된다. (입사하는 광량은, 개개의 광검출 수단(320)의 위치에 따라 다르다.) 따라서, 광검출 수단(320)에 의한 측정치(후술하는 Phn)란, 모든 광검출 수단(320)의 측정치의 합계량이다.

상기 보정은 이하와 같이 실시된다. 우선, 노광 헤드(29)를 형성한 단계(화상 형성 장치에 조립하기 전의 단계)에서, 유기 EL 소자(310)로부터 빛을 사출시켜 감광체 드럼(21)의 표면에 상당하는 위치에 형성되는 스폿의 광량을, 각 유기 EL 소자(310)에 대해서 측정한다. 구체적으로는, 노광 헤드(29)를 검사 장치에 부착 한다. 검사 장치에는, 노광 헤드(29)의 각 유기 EL 소자(310)로부터 사출되는 빛의 광량을, 감광체 드럼(21)의 표면에 대응하는 상면(像面) 위치에서 검출하는 광량 검출기가 배치되어 있다. 이 광량 검출기는, 1개의 검출기를 이동시키면서 각 유기 EL 소자(310)로부터 사출되는 빛의 광량을 검출하는 것이라도 좋고, 유기 EL 소자(310)마다 검출기를 배치한 것이라도 좋다. 그리고, 각 유기 EL 소자(310)를 차례로 발광시켜, 검사 장치의 광량 검출기에서 검출한 값(Pgn)과, 노광 헤드(29)의 광검출 수단(320)에서 검출한 값(Phn)(n은 n번째의 발광 소자를 나타냄)을 얻음과 아울러, 각 유기 EL 소자(310)에 대해서 보정 계수(Pgn/Phn)를 산출한다. 이와 같이 하여 구한 보정 계수(Pgn/Phn)는, 예를 들면 도2 에 나타내는 엔진 컨트롤러(EC)에 기억해 둔다. 그리고, 다음에 설명하는 바와 같이, 보정 계수(Pgn/Phn)에 기초하여, 화상 형성 장치로서의 보정이 실시된다.

화상 형성 장치(1)로서의 보정은, 우선 유기 EL 소자(310)의 광량 불균일이 검출된다. 이러한 광량 불균일 검출은, 화상 형성 장치(1)의 전원 투입 시, 화상 형성 동작 개시 전 등의, 통상의 화상 형성 동작이 실행되고 있지 않는 동안에 행해진다. 구체적으로는, 각 유기 EL 소자(310)를 순서대로 발광시키면서, 광검출 수단(320)의 검출치가 측정된다. 그리고, 광검출 수단(320)의 측정치에 보정 계수(Pgn/Phn)를 곱함으로써, 각 유기 EL 소자(310)에 의해 감광체 드럼(21)의 표면에서 형성되는 스폿의 광량이 산출된다. 산출된 광량이 불균일하고, 소망의 광량이 실현되어 있지 않은 경우는, 소망의 광량이 얻어지도록 유기 EL 소자(310)의 구동을 제어한다. 즉, 소망의 광량과 산출된 광량을 비교하여, 산출된 광량이 소망 의 광량이 되도록, 유기 EL 소자(310)에 흘리는 전류 등을 조정한다. 그리고, 이러한 조정 동작을 모든 유기 EL 소자(310)에 대해서 실행함으로써, 복수의 유기 EL 소자(310)의 사이에서의 광량 불균일이 억제된다. 그 결과, 양호한 노광이 실현된다. 또한, 소망의 광량에 관한 정보나, 구동 제어 동작을 실행시키는 프로그램 등은, 예를 들면 엔진 컨트롤러(EC)에 미리 기억해 두어도 좋다.

다음으로, 개질점(330)의 형성 방법에 대해서 서술한다. 도6 은, 개질점(330)의 형성 방법의 일 예를 나타내는 것으로, 레이저광(355)을 이용하여 투광성 기판(301)에 개질점을 형성하는 형태를 나타내고 있다. 도6(a) 에 나타내는 바와 같이, 도시하지 않는 광원으로부터 사출되는 소정의 지름을 갖는 레이저광(355)을, 집광 렌즈(350)에 의해 투광성 기판(301) 내의 한 점에 집광시킴으로써, 주위의 형질(투광성 등)에 영향을 미치는 일 없이 이러한 한 점에 기포, 크랙 등을 형성하여, 개질점(330)으로 할 수 있다. 그리고 도시하지 않는 광원과 집광 렌즈(350)를 구비하는 유닛과, 투광성 기판(301)을 상대적으로 이동시킴으로써, 투광성 기판(301) 내부의 임의의 부분에 복수개의 개질점(330)을 형성할 수 있다.

도6(b) 는, 전술의 광원과 집광 렌즈(350)를 구비하는 유닛을 2조(set) 이용하여 개질점(330)을 형성하는 형태를 나타내는 도면이다. 2조의 레이저광(355)을 동일의 점에 집광함으로써, 보다 많은 에너지를 한 점에 집중할 수 있어, 보다 한층 주위의 형질에 영향을 미치는 일 없이, 또한 단시간으로, 투광성 기판 내의 한점을 개질할 수 있다. 또한, 상기 유닛을 3조 이상 이용하는 일도 가능하다. 또한, 개질점(330)의 형성은, 투광성 기판(301)상에 유기 EL 소자를 형성하기 전, 혹 은 후의 어느 시점이라도 가능하다.

레이저광(355)은, YAG 레이저의 제2 고조파(파장＝532nm) 혹은 YAG 레이저의 제3 고조파(파장＝355nm)가 바람직하다. 긴 펄스폭을 갖기 때문에, 형성되는 개질점(330)이 크랙 형상으로 되어, 유기 EL 소자로부터 사출되는 빛을 효율 좋게 반사할 수 있다. 또한, 티탄 사파이어 고체 펨토 초(femtosecond) 레이저(파장＝800nm)를 이용해도 좋다.

(제2 실시 형태)

계속해서, 제2 실시 형태에 대해서 설명한다. 제2 실시 형태의 발광 기판(300) 및, 후술하는 제3∼제7 실시 형태의 발광 기판(300)은, 제1 실시 형태의 발광 기판(300)과 동일하게, 렌즈 어레이(299) 등과 조합되어 노광 헤드(29)로 되고, 또한 화상 형성 유닛(7) 및, 화상 형성 장치(1)의 구성 요소로 된다. 그리고, 이러한 경우에 있어서의, 렌즈 어레이(299) 등의 구성 요소는, 발광 기판(300)을 제외하면 공통된다. 그래서, 본 실시 형태 및 제3∼제7 실시 형태에 대해서는, 발광 기판(300)에 대해서만 서술한다.

도7 은, 제2 실시 형태의 발광 기판(300)을 나타내는 도면이다. 도7(a) 가 평면도, 도7(b) 가 측면도이다. 발광 기판(300)의 구성은, 제1 실시 형태의 발광 기판(300)과, 후술하는 광반사층의 유무를 제외하면 공통되고 있다. 즉, 발광 기판(300)은, 투광성 기판(301)상에 지그재그 형상으로 배치된 발광 소자로서의 유기 EL 소자(310)와, 당해 유기 EL 소자의 주위에 배치된 광검출 수단(320) 등으로 이루어진다. 그리고, 투광성 기판(301)의 광검출 수단(320)이 배치되어 있는 영역의 두께 방향으로, 빛의 직진성을 방해하는 복수의 개질점(330)이 형성되어 있다. 그리고, 투광성 기판(301)의 하면의 광검출 수단(320)과 대향하는 영역에는, 광반사층(315)이 배치되어 있다. 광반사층(315)은 알루미늄 등의 반사성이 높은 금속으로 형성되어 있다. 형성 방법은 스퍼터법 등에 의한 성막이라도 좋고, 또한 금속판을 붙여도 좋다.

이러한 구성에 의하면, 개질점(330)에 의해 반사된 후, 투광성 기판(301)의 외부로 향하는 빛을, 재차 개질점(330)이 형성되어 있는 영역으로 되돌려서 난반사시킬 수 있다. 따라서, 광검출 수단(320)의 치수 등을 변화시키는 일 없이, 당해 광검출 수단에 입사하는 빛의 비율을 증가시킬 수 있다. 따라서, 유기 EL 소자(310)의 시간 경과에 따른 열화의 정도를 보다 한층 정확하게 파악하여 보다 한층 정확한 보정(조정)을 실시할 수 있어, 보다 한층 고품질의 화상을 형성할 수 있다. 또한, 광반사층(315)은 경면(鏡面) 반사층이라도 좋고, 또한 난반사층이라도 좋다.

도7 에 있어서는, 광반사층(315)의 형상(평면에서 볼 때의 형상)은, 광검출 수단(320)의 형상과 대략 일치하도록 도시되어 있지만, 광반사층(315)의 형상은, 이러한 형상에 한정되는 것은 아니다. 또한, 광반사층(315)의 배치 위치는 투광성 기판(301)의 하면(유기 EL 소자(310)가 형성되어 있는 면과 대향하는 면)에 한정되지 않는다. 유기 EL 소자(310)가 형성되어 있는 영역 및, 유기 EL 소자(310)로부터 사출되어 렌즈 어레이(299)에 입사하는 빛의 경로와 겹치는 영역을 제외한 전역에 배치할 수도 있다. 따라서, 투광성 기판(301)의 측면(상면(上面) 및 하면(下 面) 이외의 면)에도 배치할 수 있다.

(제3 실시 형태)

도8 은, 제3 실시 형태의 발광 기판(300)을 나타내는 도면이다. 도8(a) 가 평면도, 도8(b)가 측면도이다. 발광 기판(300)을 구성하는 요소는, 제2 실시 형태의 발광 기판(300)과 대략 공통되고 있다. 즉, 발광 기판(300)은, 투광성 기판(301)과, 투광성 기판(301)상에 지그재그 형상으로 배치된 발광 소자로서의 유기 EL 소자(310)와, 당해 유기 EL 소자(310)의 주위에 배치된 광검출 수단(320)과, 투광성 기판(301)의 광검출 수단(320)이 배치되어 있는 영역에 형성된 빛의 직진성을 방해하는 복수의 개질점(330)과, 광반사층(315) 등으로 이루어진다.

제2 실시 형태의 발광 기판과 다른 점은, 광검출 수단(320) 및 광반사층(315)의 위치이다. 투광성 기판(301)의 하면, 즉 유기 EL 소자(310)가 배치되어 있는 면(상면)의 반대측의 면에 광검출 수단(320)이 배치되어 있으며, 광반사층(315)은 상면에 배치되어 있다.

이러한 구성에 의하면, 유기 EL 소자(310)로부터 사출되어, 개질점(330)에 한번도 부딪히지 않고 하면에 도달하는 빛 중의 일부를, 광검출 수단(320)에 수광시킬 수 있다. 또한, 개질점(330)에 의해 난반사한 후, 상면으로 향하는 빛을 광반사층(315)에서 반사하여, 재차 개질점(330)이 밀집되어 있는 부분을 향하게 하여, 재차 난반사시킬 수 있다. 그리고, 재차 난반사시킨 빛의 일부를, 광검출 수단(320)에 입사시킬 수 있다. 그 때문에, 광검출 수단(320)의 치수 등을 변화시키는 일 없이, 당해 광검출 수단에 입사하는 빛의 비율을 증가시킬 수 있다. 따라 서, 유기 EL 소자(310)의 시간 경과에 따른 열화의 정도를 보다 한층 정확하게 파악하여 보다 한층 정확한 보정(조정)을 실시할 수 있어, 보다 한층 고품질의 화상을 형성할 수 있다.

(제4 실시 형태)

도9 는, 제4 실시 형태의 발광 기판(300)을 나타내는 도면이다. 도9(a) 가 평면도, 도9(b) 가 측면도이다. 본 실시 형태의 발광 기판(300)을 구성하는 요소는, 제2 실시 형태 및 제3 실시 형태의 발광 기판(300)과 대략 공통되고 있다. 즉, 발광 기판(300)은, 투광성 기판(301)과, 투광성 기판(301)상에 지그재그 형상으로 배치된 발광 소자로서의 유기 EL 소자(310)와, 당해 유기 EL 소자의 주위에 배치된 광검출 수단(320)과, 투광성 기판(301)의 광검출 수단(320)이 배치되어 있는 영역에 형성된 빛의 직진성을 방해하는 복수의 개질점(330)과, 광반사층(315)으로 이루어져 있다. 그리고 광검출 수단(320)이 배치되는 위치가, 제1 실시 형태의 발광 기판(300)과는 다르다.

본 실시 형태의 발광 기판(300)에 있어서는, 제1 실시 형태의 발광 기판(300)에 있어서 광검출 수단(320)이 배치되어 있던 영역 및, 당해 영역에 대향하는 영역에, 광반사층(315)이 배치되어 있다. 그리고 전술의 쌍방의 광반사층(315)의 사이(쌍방의 광반사층(315)으로 협지되는 영역)에 복수의 개질점(330)이 형성되어 있다. 그리고 광검출 수단(320)은, 투광성 기판(301)의 이러한 개질점(330)이 형성되어 있는 부분의 측면에 배치되어 있다.

대향하는 광반사층의 사이에, 개질점(330)이 밀집되도록 형성되어 있기 때문 에, 개질점(330)에 부딪혀서 난반사한 후에, 투광성 기판(301)의 상면 혹은 하면으로 향하는 빛은, 어느 쪽인가의 광반사층(315)에서 반사되어 재차 개질점(330)으로 향한다. 그리고, 개질점(330)에 부딪혀서 난반사한 후에, 투광성 기판(301)의 측면으로 향하는 빛은 광검출 수단(320)에 입사한다. 따라서, 광검출 수단(320)에 입사하는 빛의 비율을 보다 한층 증가시킬 수 있다. 그 결과, 보다 한층 정확한 보정(조정)을 실시할 수 있어, 보다 한층 고품질의 화상을 형성할 수 있다.

(제5 실시 형태)

도10 은, 제5 실시 형태의 발광 기판(300)을 나타내는 도면이다. 본 실시 형태의 발광 기판(300)의 구성은, 제2 실시 형태의 발광 기판(300)의 구성과 대략 일치하고 있다. 즉, 발광 기판(300)은, 투광성 기판(301)과, 투광성 기판(301)상에 지그재그 형상으로 배치된 발광 소자로서의 유기 EL 소자(310)와, 당해 유기 EL 소자의 주위에 배치된 광검출 수단(320)과, 투광성 기판(301)의 광검출 수단(320)이 배치되어 있는 영역에 형성된 빛의 직진성을 방해하는 복수의 개질점(330)과, 광반사층(315)으로 이루어지며, 광검출 수단(320)은 투광성 기판(301)의 상면에 배치되어 있다.

본 실시 형태의 발광 기판(300)은, 개질점(330)의 (투광성 기판(301)에 있어서의) 두께 방향의 배치에 특징이 있다. 그래서, 평면도는 생략하고 측면도만을 나타낸다. 본 실시 형태의 발광 기판(300)은, 개질점(330)이, 전술의 두께 방향에서는 겹치지 않도록 형성되어 있는 것이 특징이다. 개질점(330)에서 반사되어 광검출 수단(320)의 방향으로 향하는 빛이 다른 개질점(330)에 부딪혀서 반사하는 것 이 억제되기 때문에, 광검출 수단(320)에 입사하는 빛의 비율을 증가시킬 수 있다. 그 결과, 보다 한층 정확한 보정(조정)을 실시할 수 있어, 보다 한층 고품질의 화상을 형성할 수 있다.

(제6 실시 형태)

도11 은, 제6 실시 형태의 발광 기판(300)을 나타내는 도면이다. 본 실시 형태의 발광 기판(300)의 구성은, 제2 실시 형태의 발광 기판(300)의 구성과 대략 일치하고 있다. 즉, 발광 기판(300)은, 투광성 기판(301)과, 투광성 기판(301)상에 지그재그 형상으로 배치된 발광 소자로서의 유기 EL 소자(310)와, 당해 유기 EL 소자의 주위에 배치된 광검출 수단(320)과, 투광성 기판(301)의 광검출 수단(320)이 배치되어 있는 영역에 형성된 빛의 직진성을 방해하는 복수의 개질점(330)과, 광반사층(315)으로 이루어지며, 광검출 수단(320)은 투광성 기판(301)의 상면에 배치되어 있다.

본 실시 형태의 발광 기판(300)은, 제5 실시 형태의 발광 기판(300)과 동일하게, 개질점(330)의 (투광성 기판(301)에 있어서의) 두께 방향의 배치에 특징이 있다. 그래서, 평면도는 생략하고 측면도만을 나타낸다.

본 실시 형태의 발광 기판(300)은, 개질점(330)이, 전술의 두께 방향에서 밀도에 차이가 생기도록 형성되어 있는 것이 특징이다. 즉, 개질점(330)은 상면에 가까워질수록 고밀도로 되도록 형성되어 있다. 이러한 구성에 의하면 광검출 수단(320)에 가까운 영역에서 난반사가 높은 빈도로 발생하기 때문에, 유기 EL 소자(310)로부터 사출되어 광검출 수단(320)의 근방을 투과하는 빛을, 높을 비율로 광검출 수단(320)에 입사시킬 수 있다. 또한, 효과가 적은 개질점(330)을 형성하는 것을 억제할 수 있기 때문에, 제조 비용을 저감할 수 있다.

(제7 실시 형태)

도12 는, 제7 실시 형태의 발광 기판(300)을 나타내는 도면이다. 도12(a) 가 평면도, 도12(b) 가 측면도이다. 본 실시 형태의 발광 기판(300)을 구성하는 요소는, 제2 실시 형태 등의 발광 기판(300)과 대략 공통되고 있다. 즉, 발광 기판(300)은, 투광성 기판(301)과, 투광성 기판(301)상에 지그재그 형상으로 배치된 발광 소자로서의 유기 EL 소자(310)와, 당해 유기 EL 소자의 주위에 배치된 광검출 수단(320)과, 투광성 기판(301)의 광검출 수단(320)이 배치되어 있는 영역에 형성된 빛의 직진성을 방해하는 복수의 개질점(330)과, 광반사층(315)으로 이루어져 있다. 그리고, 광검출 수단(320) 등의 수가 증가하고 있는 점에서, 제2 실시 형태의 발광 기판(300) 등과 다르다.

본 실시 형태의 발광 기판(300)에 있어서는, 투광성 기판(301)의 중앙부의 유기 EL 소자(310)가 지그재그 형상으로 배치되어 있는 영역의 주변을 둘러싸도록 광검출 수단(320)이 배치되어 있다. 그리고 투광성 기판(301)의 하면의, 평면에서 볼 때 광검출 수단(320)과 겹치는 영역에는 광반사층(315)이 배치되어, 당해 광반사층과 광검출 수단(320)과의 사이에는 개질점(330)이 형성되어 있다.

유기 EL 소자(310)의 주위가, 평면에서 볼 때, 광검출 수단(320)과 개질점(330)과 광반사층(315)으로 둘러싸여 있기 때문에, 유기 EL 소자(310)로부터 사출되는 빛은 높은 확률로 어느 하나의 광검출 수단(320)에 입사한다. 따라서, 광 검출 수단(320)에 입사하는 빛의 비율을 보다 한층 증가시킬 수 있어, 보다 한층 정확한 보정(조정)을 실시하여, 보다 한층 고품질의 화상을 형성할 수 있다.

또한, 광반사층(315)은 완전하게 연속시켜서 고리 형상으로 해도 좋다. 또한, 광검출 수단(320)도 투광성 기판(301)상에 TFT(박막 트랜지스터) 혹은 TFD(박막 다이오드) 등을 형성해 넣음으로써, 고리 형상으로 배치할 수도 있다.

(변형예)

다음으로 변형예로서, 투광성 기판(301)상에 형성된 발광 소자로서의 유기 EL 소자(310)와 당해 유기 EL 소자의 근처에 배치된 광검출 수단(320)과 당해 광검출 수단의 근처에 형성된 개질점(330)을 갖는 발광 기판(300)을 구비하는 유기 EL 장치 및 당해 유기 EL 장치를 갖는 전자 기기에 대해서 서술한다.

도13 은, 상기의 유기 EL 장치를 갖는 전자 기기로서의 퍼스널 컴퓨터를 나타내는 도면이다. 퍼스널 컴퓨터(1200)는 키보드(1202)를 구비한 본체부(1204)와, 광검출 수단과 당해 광검출 수단의 근처에 형성된 개질점을 갖는 발광 기판을 구비하고, 표시 영역(1208)에 화상 표시 가능한 유기 EL 장치(1206)를 구비하고 있다.

도14 는, 변형예에 따른 유기 EL 장치(1206)의 표시 영역(1208)에 있어서의 화소의 배치 등을 나타내는 도면이다. 도14(a) 는 화소(P)의 배치를 나타내고, 도14(b) 및 도14(c) 는 화소(P) 내의 서브 화소 및 광검출 수단의 배치의 일 예를 나타내고 있다. 유기 EL 장치(1206)는 컬러 표시 가능하며, 유기 EL 장치(1206)의 표시 영역(1208)에는, 도14(a) 에 나타내는 바와 같이 화소(P)가 규칙적으로 배치되어 있다. 각각의 화소가, (발광의) 강도 및 색채 등이 개별로 제어된 빛을 사출 함으로써 표시 영역(1208)에 컬러 화상을 표시할 수 있다. 또한 상기의 도면에 있어서 화소(P)는 매트릭스 형상으로 배치되어 있지만, 지그재그 형상 등의 다른 배치로 할 수도 있다.

각각의 화소(P)는, 서브 화소인, 적색광을 사출하는 적화소(R)와 녹색광을 사출하는 녹화소(G)와 청색광을 사출하는 청화소(B) 및, 적어도 1개의 광검출 수단으로서의 센서 TFT(321)를 각 1개씩 구비하고 있다. 각각의 서브 화소는, 유기 EL 소자(310)와 후술하는 구동용 TFT(620)(도15 참조)를 구비하고 있다. 상기 서브 화소 등의 배치는, 도14(b) 에 나타내는 바와 같이 일렬로 늘어세워 배치되어도 좋고, 또한, 도14(c) 에 나타내는 바와 같이, 센서 TFT(321)가 각 서브 화소와 서로 이웃하도록 배치되어도 좋다.

본 실시 형태의 유기 EL 장치(1206)는 상기의 화상 형성 장치(1)와 동일하게, 전원 투입 시 등에 표시 영역에 배치된 모든 서브 화소를 순차 발광시켜, 각각의 화소마다 센서 TFT(321)로 광량을 측정할 수 있다. 그리고, 이러한 측정치와, 유기 EL 장치(1206)의 제조 시에 있어서 동일한 수법으로 측정하여 얻은 값과 비교함으로써 각각의 서브화소마다의 시간 경과에 따른 열화의 정도를 산출하여, 화상을 표시할 때에는 보정할 수 있다. 즉, 바람직한 광량이 얻어지도록, 각각의 유기 EL 소자(310)에 흘리는 전류 등을 보정할 수 있다.

그리고, 후술하는 바와 같이, 광검출 수단으로서의 센서 TFT(321)가 형성되어 있는 영역에 복수의 개질점(330)(도15 참조)이 형성되어 있기 때문에, 유기 EL 소자(310)로부터 사출되는 빛 중의 센서 TFT(321)에 입사하는 빛의 비율을 증가시 킬 수 있다. 그 결과, 상기 보정을 보다 한층 높은 정밀도로 실시할 수 있어, 보다 한층 고품질의 화상을 표시할 수 있다.

또한, 유기 EL 장치(1206)는, 화상 표시 시에는, 개개의 화소마다 각각 다른 값의 전류 등을 공급하여 임의의 광량을 얻고 있지만, 전술의 광량 측정 시에는 모든 화소(서브 화소)가 구비하는 유기 EL 소자에 동일한 전류량 등을 공급한다. 따라서, 상기 측정치는, 각각의 유기 EL 소자(310)에 대하여 동일한 전류를 공급한 경우에 있어서의, 각각의 유기 EL 소자(310)가 사출하는 광량의 측정치이다. 이하, 본 변형예에 따른 유기 EL 장치(1206)의 구성에 대해서 서술한다.

도15 는, 본 변형예의 유기 EL 장치(1206)가 구비하는 발광 기판(300)에 있어서의, 1개의 화소(P)를 구성하는 영역의 개략 단면도이다. 발광 기판(300)은, 투광성 기판(301) 및, 당해 투광성 기판상에 형성된 구동용 TFT(620) 및 유기 EL 소자(310) 등으로 이루어진다. 그리고 발광 기판(300)이 후술하는 바와 같이 접착층(656)에 의해 대향 기판(302)과 접합되어 유기 EL 장치(1206)로 된다. 도시하는 바와 같이 화소(P)는, 투광성 기판(301)과 대향 기판(302)과의 사이에 형성된 유기 EL 소자(310) 등으로 이루어진다. 전술한 바와 같이, 화소(P)는 3종류의 서브 화소와 광검출 수단으로서의 센서 TFT(321)로 이루어진다. 전술한 바와 같이 각각의 서브 화소는 유기 EL 소자(310)와 당해 유기 EL 소자를 구동하는 구동용 TFT(620) 및, 도시하지 않는 유지 용량 등으로 이루어진다.

도시하는 바와 같이, 투광성 기판(301)상에는 구동용 TFT(620)에 서로 이웃하도록 센서 TFT(321)가 형성되어 있다. 센서 TFT(321)는 유기 EL 소자(310)가 사 출하는 빛의 일부를 수광하여, 각각의 유기 EL 소자(310)의 발광 강도를 측정할 수 있다. 이러한 측정 결과에 기초하여 각각의 유기 EL 소자(310)에 공급하는 전류량을 보정(조정)함으로써 고품질의 화상을 표시(형성)할 수 있다.

그리고, 본 실시 형태의 유기 EL 장치(1206)가 구비하는 발광 기판(300)의, 센서 TFT(321)가 형성되어 있는 영역의 투광성 기판(301) 내에는, 복수의 개질점(330)이 밀집하도록 형성되어 있다. 전술의 노광 헤드(29)와 동일하게, 본 실시 형태의 유기 EL 장치(1206)의 센서 TFT(321)는, 유기 EL 소자가 사출하는 빛을, 개질점(330)에 의해 보다 높은 비율로 수광할 수 있어, 전술의 보정을 보다 한층 유효하게 실시할 수 있다. 유기 EL 소자(310) 및 구동용 TFT(620)의 구성은, 이하와 같다.

투광성 기판(301)상에는, 다결정 실리콘층을 섬(island) 형상으로 패터닝하여 형성된 반도체층(610), SiO₂ 등의 절연 재료로 이루어지는 게이트 절연막(608) 및, 크롬 등의 고융점 금속으로 이루어지는 게이트 전극(612)이, 차례로 형성되어 있다. 반도체층(610)의 평면에서 볼 때 게이트 전극(612)과 겹치는 영역이 채널 영역(602)이며, 당해 영역의 양측은 P(인(燐)) 등의 불순물이 도입되어 소스 영역(604) 및 드레인 영역(606)으로 되어 있다. 이러한 요소에 의해, 구동용 TFT(620)가 구성되어 있다. 또한, 투광성 기판(301)과 반도체층(610)과의 사이에, SiO₂ 등으로 이루어지는 버퍼층(buffer layer)을 형성해도 좋다.

게이트 전극(612)상에는 SiO₂ 등으로 이루어지는 제1 층간절연막(632)이 형 성되어 있다. 그리고, 반도체층(610)의 소스 영역(604) 및 드레인 영역(606)에 대응하는 위치에 제1 콘택트홀(641) 및 제2 콘택트홀(643)이 형성되어 있다. 상기 쌍방의 콘택트홀에는 알루미늄 등으로 이루어지는 소스 전극(642) 및 드레인 전극(644)이 형성되고, 당해 쌍방의 전극상에는 SiO₂ 등으로 이루어지는 제2 층간절연막(634)이 형성되어 있다. 그리고, 제2 층간절연막(634)의 드레인 전극(644)에 대응하는 위치에는, 제3 콘택트홀(645)이 형성되고, 당해 제3 콘택트홀을 통하여 드레인 전극(644)과 접속하는 화소 전극(양극)(650)이 형성되어 있다. 화소 전극(650)은 ITO(산화 인듐·주석) 등의 투광성 도전 재료층을 섬 형상으로 패터닝하여 형성되어 있으며, 후술하는 기능층에 통전됨과 아울러 기능층 내에서 생긴 빛을 투하시켜 투광성 기판(301)을 통하여 발광 기판(300)의 외부로 사출할 수 있다. 또한, 본 실시 형태의 유기 EL 장치(1206)가 구비하는 유기 EL 소자(310)는, 투광성 기판(301)측에 빛을 사출하는 보텀 이미션형이다. 각각의 화소 전극(650)은 폴리이미드 등의 절연성 유기 재료층, 또는 절연성 무기 재료층을 화소 전극(650)이 노출하도록 패터닝하여 형성된 격벽(partition wall; 636)에 의해 구획되어 있다.

격벽(636)과 화소 전극(650)으로 이루어지는 오목부에는, 각각의 서브 화소가 구비하는 유기 EL 소자(310)가 사출하는 빛에 대응하는 기능층이 형성되어 있다. 즉, 적화소(R)에는 적색광에 대응하는 적색 기능층(652R)이, 녹화소(G)에는 녹색광에 대응하는 녹색 기능층(652G)이, 청화소(B)에는 청색광에 대응하는 청색 기능층(652B)이 각각 형성되어 있다. 또한(도시는 생략하고 있지만) 각 기능층은, 정공 주입 수송층과 발광층과 전자 주입 수송층을 적층하여 형성되어 있다. 상기 3요소 중에서 서브 화소간에서 다른 요소는 발광층뿐이며, 정공 주입 수송층과 전자 주입 수송층은 서브 화소간에서 공통된다.

상기 각 기능층 및 격벽(636)의 위에는, 발광 기판(300)상의 전면(全面)에 알루미늄, 마그네슘·은 합금 등으로 이루어지는 음극(654)이 형성되어 있다. 화소 전극(650), 음극(654) 및, 당해 한 쌍의 전극간의 기능층으로 유기 EL 소자(310)가 된다. 화소 전극(650)과 음극(654)과의 사이에 전압을 인가하여 기능층(에 포함되는 발광층)에 전류를 흘림으로써, 화소 전극(650)으로부터 공급되는 정공과 음극으로부터 공급되는 전자가 발광층 내에서 결합한다. 그리고, 결합에 의한 에너지로 여기(excite)된 발광층(내의 발광 재료)이, 여기 상태(excited state)로부터 재차 기저 상태(ground state)로 되돌아갈 때에 빛을 발생한다. 발광 기판(300)은 이러한 빛을 투광성 기판(301)으로부터 사출함으로써 화상을 형성한다. 그리고, 음극(654)의 형성에 의해 발광 기판(300)이 완성되고, 당해 발광 기판이 접착층(656)에 의해 대향 기판(302)과 접합되어, 유기 EL 장치(1206)로 된다.

투광성 기판(301)상에는 상기의 서브 화소와 나란히, 광검출 수단으로서의 센서 TFT(321)가 형성되어 있다. 센서 TFT(321)의 구성은 (치수를 제외하고) 구동용 TFT(620)와 동일하며, 용도가 다르다. 따라서, 다른 공정을 추가하는 일 없이, 구동용 TFT(620)와 동시에 형성할 수 있다.

전술의 전원 투입 시 등에 있어서의 광량 측정에 있어서, 센서 TFT(321)는, 서로 이웃하는 서브 화소가 사출하는 빛의 일부를 수광하여, 수광한 빛의 강도, 즉 열화의 정도에 따른 전류 또는 전압을 출력한다. 그리고, 이러한 전류치 또는 전압치는, 매트릭스 형상으로 배치된 화소(P)의 주위에 배치되어 있는 제어 회로에 전달되어 기억된다. 센서 TFT(321)는 서브 화소로 이루어지는 화소(P)마다 배치되어 있기 때문에, 개개의 서브 화소의 열화의 정도를 검출할 수 있다. 따라서, 전술의 제어 회로는, 화상 표시 시에 각각의 서브 화소마다 (당해 각각의 서브 화소의 열화의 정도에 따른) 다른 전류를 공급하여, 당해 열화에 따른 광량의 저하를 보정할 수 있다. 그 결과, 본 실시 형태의 유기 EL 장치(1206)는, 유기 EL 소자(310)의 시간 경과에 따른 열화에도 불구하고, 항상 고품질의 화상을 표시할 수 있다.

여기에서 전술의 유기 EL 소자가 사출하는 빛은, 도15 의 화살표로 나타내는 바와 같이, 투광성 기판(301)에 대하여 수직의 방향으로 많은 비율로 향한다. 따라서, 전술의 제1 실시 형태에서 서술한 바와 같이, 투광성 기판(301)에 소정의 범위의 각도로 조사되는 일부(투광성 기판과 외부와의 계면)는 당해 표면에서 반사되어 투광성 기판(301)으로 향하고, 그 중의 또다시 일부는 센서 TFT(321)의 반도체층(610)에 입사한다.

그리고, 센서 TFT(321)가 형성되어 있는 영역에는, 복수의 개질점(330)이 밀집되도록 형성되어 있다. 따라서, 전술의 제1 실시 형태에서 서술한 바와 같이, 투광성 기판(301)의 센서 TFT(321)와 평면에서 볼 때 겹치는 영역에 입사한 빛을 효율 좋게 수광할 수 있다. 따라서, 유기 EL 소자(310)의 시간 경과에 따른 열화 를 보다 한층 정확하게 파악할 수 있어, 보다 한층 바람직한 조정(보정)을 실시할 수 있다. 따라서, 유기 EL 장치(1206)를 구비하는 전자 기기로서의 퍼스널 컴퓨터(1200)에 있어서, 보다 한층 고품질의 화상을 표시할 수 있다.

도1 은 제1 실시 형태에 따른 노광 헤드를 적용할 수 있는 화상 형성 장치를 나타내는 도면이다.

도2 는 제1 실시 형태에 따른 화상 형성 장치의 전기적 구성을 나타내는 도면이다.

도3 은 제1 실시 형태에 따른 노광 헤드의 개략을 나타내는 사시도이다.

도4 는 제1 실시 형태에 따른 노광 헤드의 폭 방향 단면도이다.

도5 는 제1 실시 형태에 따른 발광 기판을 개략적으로 나타내는 도면이다.

도6 은 개질점의 형성 방법의 일 예를 나타내는 도면이다.

도7 은 제2 실시 형태에 따른 발광 기판을 개략적으로 나타내는 도면이다.

도8 은 제3 실시 형태에 따른 발광 기판을 개략적으로 나타내는 도면이다.

도9 는 제4 실시 형태에 따른 발광 기판을 개략적으로 나타내는 도면이다.

도10 은 제5 실시 형태에 따른 발광 기판을 개략적으로 나타내는 도면이다.

도11 은 제6 실시 형태에 따른 발광 기판을 개략적으로 나타내는 도면이다.

도12 는 제7 실시 형태에 따른 발광 기판을 개략적으로 나타내는 도면이다.

도13 은 변형예에 따른 전자 기기로서의 퍼스널 컴퓨터를 나타내는 도면이다.

도14 는 변형예에 따른 유기 EL 장치의 표시 영역에 있어서의 화소의 배치 등을 나타내는 도면이다.

도15 는 변형예에 따른 유기 EL 장치가 구비하는 발광 기판에 있어서의, 화 소의 개략 단면도이다.

도16 은 종래의 노광 헤드가 구비하는 발광 기판을 개략적으로 나타내는 도면이다.

(도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명)

1 : 화상 형성 장치 본체

3 : 하우징 본체

4 : 배지 트레이(paper discharge tray)

5 : 전장품 박스(electric component box)

7 : 화상 형성 유닛

8 : 전사 벨트 유닛

11 : 급지 유닛

12 : 2차 전사 유닛

13 : 정착 유닛

15 : 시트 안내 부재

21 : 상담지체로서의 감광체 드럼

23 : 대전부(charging part)

25 : 현상부(developing part)

27 : 감광체 클리너

29 : 노광 헤드

51 : 화상 처리부

52 : 메인측 통신 모듈

53 : 헤드측 통신 모듈

54 : 헤드 제어 모듈

71 : 클리너부

77 : 급지 카세트

79 : 픽업 롤러

80 : 레지스트 롤러쌍

81 : 전사 벨트

82 : 구동 롤러(driving roller)

83 : 종동 롤러(driven roller)

85 : 1차 전사 롤러

86 : 하류 가이드 롤러

121 : 2차 전사 롤러

131 : 가열 롤러

132 : 가압부

251 : 현상 롤러

291 : 케이스

294 : 봉지(sealing) 부재

299 : 렌즈 어레이

300 : 발광 기판

301 : 투광성 기판

302 : 대향 기판

310 : 발광 소자로서의 유기 EL 소자

315 : 광반사층

320 : 광검출 수단

321 : 광검출 수단으로서의 센서 TFT

330 : 개질점(reformation point)

350 : 집광 렌즈

355 : 레이저광

602 : 채널 영역

604 : 소스 영역

606 : 드레인 영역

608 : 게이트 절연막

610 : 반도체층

612 : 게이트 전극

620 : 구동용 TFT

632 : 제1 층간절연막

634 : 제2 층간절연막

641 : 제1 콘택트홀

642 : 소스 전극

643 : 제2 콘택트홀

644 : 드레인 전극

645 : 제3 콘택트홀

650 : 화소 전극

652B : 청색 기능층

652G : 녹색 기능층

652R : 적색 기능층

654 : 음극

656 : 접착층

711 : 클리너 블레이드

713 : 폐(廢) 토너 박스

1200 : 퍼스널 컴퓨터

1202 : 키보드

1204 : 본체부

1206 : 유기 EL 장치

1208 : 표시 영역

1321 : 롤러

1322 : 롤러

1323 : 가압 벨트

2911 : 위치 결정핀

2912 : 나사 삽입 구멍

2913 : 뒷덮개

2914 : 고정 기구

B : 청화소

G : 녹화소

R : 적화소

Claims (7)

1. 투광성 기판과,

   상기 투광성 기판의 한쪽의 면에 배치된 복수의 발광 소자와,

   상기 투광성 기판에 배치된, 상기 발광 소자로부터 사출되어 상기 투광성 기판 내를 전파하는 빛을 검출 가능한 1 또는 복수의 광검출 수단을 포함하는 발광 기판을 구비하고,

   상기 발광 소자로부터 사출되어 상기 투광성 기판을 투과한 빛을, 상기 발광 소자와 상기 투광성 기판을 통하여 대향하는 상담지체(image carrier) 상에 조사하여, 상기 상담지체에 소정의 패턴을 형성하는 노광 헤드로서,

   상기 투광성 기판 내에는, 상기 투광성 기판 내를 전파하는 빛을 난반사시키는 복수의 개질점(reformation point)이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 노광 헤드.
2. 제1항에 있어서,

   상기 투광성 기판의 표면에 있어서의, 상기 발광 소자가 배치되어 있는 영역과 당해 발광 소자와 대향하는 영역과 상기 광검출 수단이 배치되어 있는 영역을 제외한 영역의 적어도 일부에, 상기 발광 소자가 사출하는 빛을 반사하는 광반사층이 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 노광 헤드.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서,

   상기 발광 소자가 유기 EL 소자인 것을 특징으로 하는 노광 헤드.
4. 제1항 또는 제2항에 있어서,

   상기 개질점은 레이저광으로 형성된 것인 것을 특징으로 하는 노광 헤드.
5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,

   상기 개질점의 형성 밀도가, 상기 투광성 기판 내의 위치에 따라 달라지는 것을 특징으로 하는 노광 헤드.
6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 노광 헤드를 구비하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 유닛.
7. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 노광 헤드를 구비하는 것을 특징으로 하는 화상 형성 장치.

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