JP2009034944A - ラインヘッドおよび該ラインヘッドを用いた画像形成装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】複数の発光素子の間における光量のばらつきに起因した露光不良を抑制して、良好な露光を実現できる技術の提供する。
【解決手段】第1面と第1面に対向する第2面とを有するとともに光を透過する基板と、基板の第1面に設けられた複数の発光素子と、基板の第2面側で発光素子に対向するとともに発光素子から射出された光ビームを像面に結像する複数の屈折率分布型レンズを有するレンズアレイと、基板に設けられた光センサと、基板の第2面に設けられた反射部材とを備え、複数の発光素子から射出された光ビームのうち複数の屈折率分布型レンズに入射して像面に結像される光ビームの第2面における通過領域の外側に、反射部材は設けられている。
【選択図】図8
【解決手段】第1面と第1面に対向する第2面とを有するとともに光を透過する基板と、基板の第1面に設けられた複数の発光素子と、基板の第2面側で発光素子に対向するとともに発光素子から射出された光ビームを像面に結像する複数の屈折率分布型レンズを有するレンズアレイと、基板に設けられた光センサと、基板の第2面に設けられた反射部材とを備え、複数の発光素子から射出された光ビームのうち複数の屈折率分布型レンズに入射して像面に結像される光ビームの第2面における通過領域の外側に、反射部材は設けられている。
【選択図】図8
Description
この発明は、発光素子から射出された光ビームを複数の屈折率分布型レンズにより結像するラインヘッドおよび該ラインヘッドを用いた画像形成装置に関するものである。
このようなラインヘッドとして、いわゆるボトムエミッション型の有機EL(Electro-Luminescence)素子を、発光素子に用いたものが知られている。例えば特許文献1に記載のラインヘッド(同文献の露光ヘッド)では、ガラス基板の裏面に複数の発光素子(有機EL素子)が形成されており、各発光素子から出た光ビームはガラス基板を透過して、このガラス基板の表面から射出される。ガラス基板の表面から射出された光ビームは、ガラス基板の表面側から発光素子に対向する複数の屈折率分布型レンズにより結像される。そして、このような屈折率分布型レンズを用いるラインヘッドでは、1つの発光素子から出た光ビームを複数の屈折率分布型レンズのそれぞれが、像面の同一位置に重ね合わせて結像することで、像面に1つのスポットが形成される。このようにしてスポットが形成された部分が露光される。
ところで、上述のラインヘッドで起こりうる問題として、複数の発光素子の間における光量のばらつきがある。かかる光量ばらつきの原因としては、例えば、複数の発光素子の間における発光頻度のばらつきが挙げられる。つまり、複数の発光素子の間で発光頻度にばらつきがあると、一部の発光素子が比較的早く寿命に達して、他の発光素子に比べてその光量が低下してしまう場合がある。その結果、良好な露光が実現できない可能性があった。
こうした光量ばらつきの問題に対応するために、特許文献1に記載のラインヘッドでは、発光素子が形成されたガラス基板に光センサが設けられており、この光センサを用いて発光素子の光量ばらつきが求められている。具体的には、像面の露光動作を実行していない間に、発光素子が順次発光されるとともに、各発光素子から射出された光ビームの光量が光センサにより検出される。このとき、各発光素子から出た光ビームはガラス基板の表面と裏面とで反射を繰り返しながら光センサに到達するが、光センサの検出精度を上げるという観点からは、光センサに到達する光ビームの光量はできるだけ多い方が良い。
しかしながら、発光素子から射出された光ビームの全部がガラス基板の表面で反射されるわけではなく、例えば、ガラス基板の表面に対して臨界角より小さい入射角で入射する光ビームの一部は、ガラス基板の表面で反射されずにガラス基板を透過してしまう。したがって、従来このようにガラス基板の表面を透過していた光ビームを、ガラス基板の表面で反射させることができれば、光センサに到達する光ビームの光量が増大して、光センサの検出精度を向上させることができる。その結果、より高精度に光量ばらつき求めることが可能となる。
この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、光センサに到達する光ビームの光量を増大させて、高精度に光量ばらつきを求めることを可能とする技術の提供を目的とする。
この発明にかかるラインヘッドは、上記目的を達成するために、第1面と第1面に対向する第2面とを有するとともに光を透過する基板と、基板の第1面に設けられた複数の発光素子と、基板の第2面側で発光素子に対向するとともに発光素子から射出された光ビームを像面に結像する複数の屈折率分布型レンズを有するレンズアレイと、基板に設けられた光センサと、基板の第2面に設けられた反射部材とを備え、複数の発光素子から射出された光ビームのうち複数の屈折率分布型レンズに入射して像面に結像される光ビームの第2面における通過領域の外側に、反射部材は設けられていることを特徴としている。
また、この発明にかかる画像形成装置は、上記目的を達成するために、潜像担持体と、第1面と第1面に対向する第2面とを有するとともに光を透過する基板と、基板の第1面に設けられた複数の発光素子と、基板の第2面側で発光素子に対向するとともに発光素子から射出された光ビームを潜像担持体に結像する複数の屈折率分布型レンズを有するレンズアレイと、基板に設けられた光センサと、基板の第2面に設けられた反射部材とを備え、複数の発光素子から射出された光ビームのうち複数の屈折率分布型レンズに入射して像面に結像される光ビームの第2面における通過領域の外側に、反射部材は設けられていることを特徴としている。
このように構成された発明(ラインヘッド、画像形成装置)では、次のようにして露光動作が実行される。つまり、発光素子から射出された光ビームは、基板の第1面から第2面に透過してレンズアレイに入射する。レンズアレイに入射した光ビームは、このレンズアレイが有する複数の屈折率分布型レンズにより像面に結像される。このように光ビームを結像することで像面にスポットが形成されるとともに、このスポットが形成された位置が露光される。
また、上記目的を達成するために、この発明では、基板の第2面に反射部材が設けられている。かかる反射部材を備えた構成においては、基板の第2面のうち反射部材が設けられた範囲に入射した光ビームは、第2面に対する入射角に依らずにこの反射部材によってほとんど反射される。したがって、このような反射部材を備えない従来技術と比較して、この発明では、光センサに到達する光ビームの光量を増大させることができ、光センサの検出精度が向上されている。その結果、高精度に光量ばらつきを求めることが可能となり、上記目的が達成される。
しかも、この発明では、複数の発光素子から射出された光ビームのうち複数の屈折率分布型レンズに入射して像面に結像される光ビームの第2面における通過領域の外側に、反射部材は設けられている。したがって、後述するように、この発明は、露光動作においては像面に結像される光ビームに反射部材が干渉するとの問題の発生を抑制し、なおかつ、光量検出においては多くの光ビームを光センサに到達させることを可能としており、極めて好適である。
また、反射部材は、通過領域に隣接して設けられても良い。このように構成した場合、光量検出において、より多くの光ビームを光センサに到達させることが可能となり好適である。
また、第1面に反射機能部を備えるようにラインヘッドを構成しても良い。かかる構成においては、この反射機能部によって光ビームを第1面で反射することが可能となり、光センサへ到達する光ビームの光量を増大させることができる。その結果、光センサの検出精度が向上して、光量のばらつきをより高精度に求めることが可能となり、かかる構成は好適である。
また、レンズアレイは、移動方向に移動する像面に向けて光ビームを結像し、基板は、移動方向に対応する方向を短軸方向と、短軸方向に直交する方向を長軸方向とするラインヘッドにおいては、次のように構成しても良い。つまり、光センサは、複数の発光素子の短軸方向側に設けられるように構成しても良い。このように発光素子に対して短軸方向側に光センサを設けることで、発光素子から光センサまでの距離を比較的短くでき、光センサに到達する光量を多くすることができる。その結果、光ビームの検出精度が向上して、光量ばらつきを高精度に求めることが可能となる。
また、光センサが第2面に設けられているラインヘッドにおいては、反射部材は通過領域から光センサまで延設されているように構成してもよい。このように構成された発明では、より多くの光ビームを光センサに到達させることが可能となる。その結果、光センサの検出精度を向上して、より高精度に光量ばらつきを求めることが可能となり、かかる構成は好適である。
また、光センサが第1面と第2面とを接続する面に設けられているラインヘッドにおいては、反射部材は通過領域から光センサまで延設されているように構成しても良い。このように構成された発明では、より多くの光ビームを光センサに到達させることが可能となる。その結果、光センサの検出精度を向上して、より高精度に光量ばらつきを求めることが可能となり、かかる構成は好適である。
また、光センサが第1面に設けられているラインヘッドにおいては、反射部材は通過領域から第2面のうち光センサの対向領域まで、該対向領域を含むように延設されているように構成しても良い。このように構成された発明では、より多くの光ビームを光センサに到達させることが可能となる。その結果、光センサの検出精度を向上して、より高精度に光量ばらつきを求めることが可能となり、かかる構成は好適である。
第1実施形態
図1は本発明にかかるラインヘッドの第1実施形態を適用できる画像形成装置を示す図である。また、図2は図1の画像形成装置の電気的構成を示す図である。この装置は、ブラック(K)、シアン(C)、マゼンダ(M)、イエロー(Y)の4色のトナーを重ね合わせてカラー画像を形成するカラーモードと、ブラック(K)のトナーのみを用いてモノクロ画像を形成するモノクロモードとを選択的に実行可能な画像形成装置である。なお図1は、カラーモード実行時に対応する図面である。この画像形成装置では、ホストコンピューターなどの外部装置から画像形成指令がCPUやメモリなどを有するメインコントローラMCに与えられると、このメインコントローラMCはエンジンコントローラECに制御信号などを与えるとともに画像形成指令に対応するビデオデータVDをヘッドコントローラHCに与える。また、このヘッドコントローラHCは、メインコントローラMCからのビデオデータVDとエンジンコントローラECからの垂直同期信号Vsyncおよびパラメータ値とに基づき各色のラインヘッド29を制御する。これによって、エンジン部EGが所定の画像形成動作を実行し、複写紙、転写紙、用紙およびOHP用透明シートなどのシートに画像形成指令に対応する画像を形成する。
図1は本発明にかかるラインヘッドの第1実施形態を適用できる画像形成装置を示す図である。また、図2は図1の画像形成装置の電気的構成を示す図である。この装置は、ブラック(K)、シアン(C)、マゼンダ(M)、イエロー(Y)の4色のトナーを重ね合わせてカラー画像を形成するカラーモードと、ブラック(K)のトナーのみを用いてモノクロ画像を形成するモノクロモードとを選択的に実行可能な画像形成装置である。なお図1は、カラーモード実行時に対応する図面である。この画像形成装置では、ホストコンピューターなどの外部装置から画像形成指令がCPUやメモリなどを有するメインコントローラMCに与えられると、このメインコントローラMCはエンジンコントローラECに制御信号などを与えるとともに画像形成指令に対応するビデオデータVDをヘッドコントローラHCに与える。また、このヘッドコントローラHCは、メインコントローラMCからのビデオデータVDとエンジンコントローラECからの垂直同期信号Vsyncおよびパラメータ値とに基づき各色のラインヘッド29を制御する。これによって、エンジン部EGが所定の画像形成動作を実行し、複写紙、転写紙、用紙およびOHP用透明シートなどのシートに画像形成指令に対応する画像を形成する。
この実施形態にかかる画像形成装置が有するハウジング本体3内には、電源回路基板、メインコントローラMC、エンジンコントローラECおよびヘッドコントローラHCを内蔵する電装品ボックス5が設けられている。また、画像形成ユニット7、転写ベルトユニット8および給紙ユニット11もハウジング本体3内に配設されている。また、図1においてハウジング本体3内右側には、2次転写ユニット12、定着ユニット13、シート案内部材15が配設されている。なお、給紙ユニット11は、装置本体1に対して着脱自在に構成されている。そして、該給紙ユニット11および転写ベルトユニット8については、それぞれ取り外して修理または交換を行うことが可能な構成になっている。
画像形成ユニット7は、複数の異なる色の画像を形成する4個の画像形成ステーションY(イエロー用)、M(マゼンダ用)、C(シアン用)、K(ブラック用)を備えている。また、各画像形成ステーションY,M,C,Kは、主走査方向MDに所定長さの表面を有する円筒形の感光体ドラム21を設けている。そして、各画像形成ステーションY,M,C,Kそれぞれは、対応する色のトナー像を、感光体ドラム21の表面に形成する。感光体ドラムは、軸方向が主走査方向MDに略平行となるように配置されている。また、各感光体ドラム21はそれぞれ専用の駆動モータに接続され図中矢印D21の方向に所定速度で回転駆動される。これにより感光体ドラム21の表面が、主走査方向MDに略直交する副走査方向SDに搬送されることとなる。また、感光体ドラム21の周囲には、回転方向に沿って帯電部23、ラインヘッド29、現像部25および感光体クリーナ27が配設されている。そして、これらの機能部によって帯電動作、潜像形成動作及びトナー現像動作が実行される。したがって、カラーモード実行時は、全ての画像形成ステーションY,M,C,Kで形成されたトナー像を転写ベルトユニット8が有する転写ベルト81に重ね合わせてカラー画像を形成するとともに、モノクロモード実行時は、画像形成ステーションKで形成されたトナー像のみを用いてモノクロ画像を形成する。なお、図1において、画像形成ユニット7の各画像形成ステーションは構成が互いに同一のため、図示の便宜上一部の画像形成ステーションのみに符号をつけて、他の画像形成ステーションについては符号を省略する。
帯電部23は、その表面が弾性ゴムで構成された帯電ローラを備えている。この帯電ローラは帯電位置で感光体ドラム21の表面と当接して従動回転するように構成されており、感光体ドラム21の回転動作に伴って感光体ドラム21に対して従動方向に周速で従動回転する。また、この帯電ローラは帯電バイアス発生部(図示省略)に接続されており、帯電バイアス発生部からの帯電バイアスの給電を受けて帯電部23と感光体ドラム21が当接する帯電位置で感光体ドラム21の表面を帯電させる。
ラインヘッド29は、その長手方向が主走査方向MDに対応するとともに、その幅方向が副走査方向SDに対応するように、感光体ドラム21に対して配置されている。したがって、ラインヘッド29の長手方向は、主走査方向MDと略平行である。そして、ラインヘッドは、長手方向に並べて配置された複数の発光素子を備えるとともに、感光体ドラム21から離間配置されている。そして、これらの発光素子から、帯電部23により帯電された感光体ドラム21の表面に対して光を照射して(つまり、露光して)該表面に潜像を形成する。なお、この実施形態では、各色のラインヘッド29を制御するためにヘッドコントローラHCが設けられ、メインコントローラMCからのビデオデータVDと、エンジンコントローラECからの信号とに基づき各ラインヘッド29を制御している。すなわち、この実施形態では、画像形成指令に含まれる画像データがメインコントローラMCの画像処理部51に入力される。そして、該画像データに対して種々の画像処理が施されて各色のビデオデータVDが作成されるとともに、該ビデオデータVDがメイン側通信モジュール52を介してヘッドコントローラHCに与えられる。また、ヘッドコントローラHCでは、ビデオデータVDはヘッド側通信モジュール53を介してヘッド制御モジュール54に与えられる。このヘッド制御モジュール54には、上記したように潜像形成に関連するパラメータ値を示す信号と垂直同期信号VsyncがエンジンコントローラECから与えられている。そして、これらの信号およびビデオデータVDなどに基づきヘッドコントローラHCは各色のラインヘッド29に対して素子駆動を制御するための信号を作成し、各ラインヘッド29に出力する。こうすることで、各ラインヘッド29において発光素子の作動が適切に制御されて画像形成指令に対応する潜像が形成される。
そして、この実施形態においては、各画像形成ステーションY,M,C,Kの感光体ドラム21、帯電部23、現像部25および感光体クリーナ27を感光体カートリッジとしてユニット化している。また、各感光体カートリッジには、該感光体カートリッジに関する情報を記憶するための不揮発性メモリがそれぞれ設けられている。そして、エンジンコントローラECと各感光体カートリッジとの間で無線通信が行われる。こうすることで、各感光体カートリッジに関する情報がエンジンコントローラECに伝達されるとともに、各メモリ内の情報が更新記憶される。
現像部25は、その表面にトナーが担持する現像ローラ251を有する。そして、現像ローラ251と電気的に接続された現像バイアス発生部(図示省略)から現像ローラ251に印加される現像バイアスによって、現像ローラ251と感光体ドラム21とが当接する現像位置において、帯電トナーが現像ローラ251から感光体ドラム21に移動してラインヘッド29により形成された静電潜像が顕在化される。
このように上記現像位置において顕在化されたトナー像は、感光体ドラム21の回転方向D21に搬送された後、後に詳述する転写ベルト81と各感光体ドラム21が当接する1次転写位置TR1において転写ベルト81に1次転写される。
また、この実施形態では、感光体ドラム21の回転方向D21の1次転写位置TR1の下流側で且つ帯電部23の上流側に、感光体ドラム21の表面に当接して感光体クリーナ27が設けられている。この感光体クリーナ27は、感光体ドラムの表面に当接することで1次転写後に感光体ドラム21の表面に残留するトナーをクリーニング除去する。
転写ベルトユニット8は、駆動ローラ82と、図1において駆動ローラ82の左側に配設される従動ローラ83(ブレード対向ローラ)と、これらのローラに張架され図示矢印D81の方向(搬送方向)へ循環駆動される転写ベルト81とを備えている。また、転写ベルトユニット8は、転写ベルト81の内側に、感光体カートリッジ装着時において各画像形成ステーションY,M,C,Kが有する感光体ドラム21各々に対して一対一で対向配置される、4個の1次転写ローラ85Y,85M,85C,85Kを備えている。これらの1次転写ローラ85は、それぞれ1次転写バイアス発生部(図示省略)と電気的に接続される。そして、後に詳述するように、カラーモード実行時は、図1に示すように全ての1次転写ローラ85Y,85M,85C,85Kを画像形成ステーションY,M,C,K側に位置決めすることで、転写ベルト81を画像形成ステーションY,M,C,Kそれぞれが有する感光体ドラム21に押し遣り当接させて、各感光体ドラム21と転写ベルト81との間に1次転写位置TR1を形成する。そして、適当なタイミングで上記1次転写バイアス発生部から1次転写ローラ85に1次転写バイアスを印加することで、各感光体ドラム21の表面上に形成されたトナー像を、それぞれに対応する1次転写位置TR1において転写ベルト81表面に転写してカラー画像を形成する。
一方、モノクロモード実行時は、4個の1次転写ローラ85のうち、カラー1次転写ローラ85Y,85M,85Cをそれぞれが対向する画像形成ステーションY,M,Cから離間させるとともにモノクロ1次転写ローラ85Kのみを画像形成ステーションKに当接させることで、モノクロ画像形成ステーションKのみを転写ベルト81に当接させる。その結果、モノクロ1次転写ローラ85Kと画像形成ステーションKとの間にのみ1次転写位置TR1が形成される。そして、適当なタイミングで前記1次転写バイアス発生部からモノクロ1次転写ローラ85Kに1次転写バイアスを印加することで、各感光体ドラム21の表面上に形成されたトナー像を、1次転写位置TR1において転写ベルト81表面に転写してモノクロ画像を形成する。
さらに、転写ベルトユニット8は、モノクロ1次転写ローラ85Kの下流側で且つ駆動ローラ82の上流側に配設された下流ガイドローラ86を備える。また、この下流ガイドローラ86は、モノクロ1次転写ローラ85Kが画像形成ステーションKの感光体ドラム21に当接して形成する1次転写位置TR1での1次転写ローラ85Kと感光体ドラム21との共通内接線上において、転写ベルト81に当接するように構成されている。
駆動ローラ82は、転写ベルト81を図示矢印D81の方向に循環駆動するとともに、2次転写ローラ121のバックアップローラを兼ねている。駆動ローラ82の周面には、厚さ3mm程度、体積抵抗率が1000kΩ・cm以下のゴム層が形成されており、金属製の軸を介して接地することにより、図示を省略する2次転写バイアス発生部から2次転写ローラ121を介して供給される2次転写バイアスの導電経路としている。このように駆動ローラ82に高摩擦かつ衝撃吸収性を有するゴム層を設けることにより、駆動ローラ82と2次転写ローラ121との当接部分(2次転写位置TR2)へのシートが進入する際の衝撃が転写ベルト81に伝達しにくく、画質の劣化を防止することができる。
給紙ユニット11は、シートを積層保持可能である給紙カセット77と、給紙カセット77からシートを一枚ずつ給紙するピックアップローラ79とを有する給紙部を備えている。ピックアップローラ79により給紙部から給紙されたシートは、レジストローラ対80において給紙タイミングが調整された後、シート案内部材15に沿って2次転写位置TR2に給紙される。
2次転写ローラ121は、転写ベルト81に対して離当接自在に設けられ、2次転写ローラ駆動機構(図示省略)により離当接駆動される。定着ユニット13は、ハロゲンヒータ等の発熱体を内蔵して回転自在な加熱ローラ131と、この加熱ローラ131を押圧付勢する加圧部132とを有している。そして、その表面に画像が2次転写されたシートは、シート案内部材15により、加熱ローラ131と加圧部132の加圧ベルト1323とで形成するニップ部に案内され、該ニップ部において所定の温度で画像が熱定着される。加圧部132は、2つのローラ1321,1322と、これらに張架される加圧ベルト1323とで構成されている。そして、加圧ベルト1323の表面のうち、2つのローラ1321,1322により張られたベルト張面を加熱ローラ131の周面に押し付けることで、加熱ローラ131と加圧ベルト1323とで形成するニップ部が広くとれるように構成されている。また、こうして定着処理を受けたシートはハウジング本体3の上面部に設けられた排紙トレイ4に搬送される。
また、この装置では、ブレード対向ローラ83に対向してクリーナ部71が配設されている。クリーナ部71は、クリーナブレード711と廃トナーボックス713とを有する。クリーナブレード711は、その先端部を転写ベルト81を介してブレード対向ローラ83に当接することで、2次転写後に転写ベルトに残留するトナーや紙粉等の異物を除去する。そして、このように除去された異物は、廃トナーボックス713に回収される。また、クリーナブレード711及び廃トナーボックス713は、ブレード対向ローラ83と一体的に構成されている。したがって、次に説明するようにブレード対向ローラ83が移動する場合は、ブレード対向ローラ83と一緒にクリーナブレード711及び廃トナーボックス713も移動することとなる。
図3は、本発明にかかるラインヘッドの概略を示す斜視図である。また、図4は、図3に示したラインヘッドの幅方向断面図である。上述の通り、その長手方向LGDが主走査方向MDに対応するとともに、その幅方向LTDが副走査方向SDに対応するように、ラインヘッド29は感光体ドラム21に対して配置されている。なお、長手方向LGDと幅方向LTDは、互いに略直交する。本実施形態におけるラインヘッド29は、ケース291を備えるとともに、かかるケース291の長手方向LGDの両端には、位置決めピン2911とねじ挿入孔2912が設けられている。そして、かかる位置決めピン2911を、感光体ドラム21を覆うとともに感光体ドラム21に対して位置決めされた感光体カバー(図示省略)に穿設された位置決め孔(図示省略)に嵌め込むことで、ラインヘッド29が感光体ドラム21に対して位置決めされる。そして更に、ねじ挿入孔2912を介して固定ねじを感光体カバーのねじ孔(図示省略)にねじ込んで固定することで、ラインヘッド29が感光体ドラム21に対して位置決め固定される。
ケース291は、感光体ドラム21の表面に対向する位置にレンズアレイ299を保持するとともに、その内部に、該レンズアレイ299に対向するヘッド基板293を備えている。ヘッド基板293は、光ビームを透過可能な材料(例えばガラス)により形成されている。また、ヘッド基板293の裏面(ヘッド基板293が有する2つの面のうちレンズアレイ299と逆側の面)には、複数の発光素子2951が長手方向LGDに並んで配置されている。
本実施形態は、発光素子としてボトムエミッション型の有機EL(Electro-Luminescence)素子を用いる。発光素子2951として用いられる有機EL素子は、ヘッド基板293の裏面293Bに配置されている。この発光素子2951の発光面はいわゆる完全拡散面光源であり、発光面から射出される光ビームはランバートの余弦則に従う。ヘッド基板293の裏面293Bには駆動回路D295が配置されるとともに、この駆動回路D295と発光素子2951とは配線WLにより接続されている。この駆動回路D295としては、例えばTFT(Thin Film Transistor)を用いることができる。駆動回路D295によって各発光素子2951が駆動されると、該発光素子2951から感光体ドラム21の方向に光ビームが射出される。この光ビームは、ヘッド基板293の裏面293Bから表面293Aに透過してレンズアレイ299に向うとともに、このレンズアレイ299によって感光体ドラム21の表面にスポットとして結像されることとなる。
図4に示すように、固定器具2914によって、裏蓋2913がヘッド基板293を介してケース291に押圧されている。つまり、固定器具2914は、裏蓋2913をケース291側に押圧する弾性力を有するとともに、かかる弾性力により裏蓋を押圧することで、ケース291の内部を光密に(つまり、ケース291内部から光が漏れないように、及び、ケース291の外部から光が侵入しないように)密閉している。なお、固定器具2914は、ケース291の長手方向に複数箇所設けられている。また、発光素子2951は、封止部材294により覆われている。
図5は、レンズアレイの概略を示す斜視図である。レンズアレイ299は、複数の屈折率分布型レンズLSを俵積みした構成を有する。詳述すると、レンズアレイ299は、所定個数の屈折率分布型レンズLSを長手方向LGDに一直線上に並べたものを、幅方向LTDに2段積んだ構成を有する。レンズアレイ299は幅方向LTDに幅Wlsのレンズ対向面299Fを有し、このレンズ対向面299Fに入射した光が感光体ドラム21の表面に結像される。
図6は、表面側から見た場合におけるヘッド基板の構成を示す図である。図7は、ヘッド基板およびレンズアレイの構成を示す側面図であり、長手方向LGDから見た場合に相当する。ヘッド基板293は、長手方向LGDを長軸方向と、幅方向LTDを短軸方向とする。このヘッド基板293にレンズアレイ299が対向配置されており、レンズアレイ299のレンズ対向面299Fはヘッド基板293の表面293Aに対向している。ヘッド基板293の表面293Aには、幅方向LTDに膜幅Wrfを有する反射膜RFが形成されている。反射膜RFは、光ビームを反射する機能を有し、アルミニウムをヘッド基板表面293Aに蒸着して形成することができる。この反射膜RFは複数の発光素子2951が対向する領域を避けて形成されている。つまり、発光素子2951が対向する範囲に、反射膜スリットRFslが反射膜RFに対して設けられている。この反射膜スリットRFslは幅方向LTDに幅Wrsを有する。図6では反射膜スリットRFslを介してヘッド基板裏面293Bの複数の発光素子2951が見えている。同図が示すように、ヘッド基板裏面293Bには、複数の発光素子2951が長手方向LGDに千鳥状に並んで配置されている。
ヘッド基板表面293Aには、複数の光センサSCが配置されている。これら複数の光センサSCは、複数の発光素子2951が形成された素子形成領域FAの短軸方向(幅方向LTD)の両側に分散して配置されている。各光センサSCの受光面SCFは、ヘッド基板表面293Aに対向するとともに、透明な光学接着剤によりヘッド基板表面293Aに接着されている。同図が示すようにこれら複数の光センサSCにまで上述の反射膜RFは延設されている。図示は省略するが、各光センサSCには配線が接続されており、かかる配線を介して光センサSCの検出値がエンジンコントローラECへと出力される。
ヘッド基板裏面293Bの各発光素子2951から射出された光ビームの一部は、レンズアレイ299のレンズ対向面299Fに入射して、レンズアレイ299により感光体表面にスポットとして結像される。そして、このスポットが形成された範囲が露光される。ここで、本明細書では、発光素子2951から射出された光ビームのうち、レンズ対向面299Fに入射して感光体表面に結像されて、スポット形成に寄与する光ビームを、特に
「被結像光ビームIML」と称することとする。
「被結像光ビームIML」と称することとする。
図7が示すように、発光素子2951aから射出された被結像光ビームIMLaは、レンズ対向面299Fに入射して、レンズアレイ299により感光体表面の位置IPSaに結像される。このとき、レンズアレイ299は、正立等倍で被結像光ビームIMLaを結像する。
ところで上述の通り、ヘッド基板表面293Aには反射膜RFが形成されており、この反射膜RFは光ビームを反射する機能を有する。したがって、被結像光ビームIMLが通過する範囲に反射膜RFがあると、被結像光ビームIMLの一部が反射膜RFに反射されてしまって、本来入射すべきレンズ対向面299Fに入射しない可能性がある。その結果、被結像光ビームIMLがレンズアレイ299により良好に結像されない場合がある。このような、反射膜RFと被結像光ビームIMLとの干渉を防止するために、本実施形態では、被結像光ビームIMLが通過する範囲に対して反射膜RFは次のように形成されている。
図8は、被結像光ビームが通過する範囲と反射膜との関係を示す図であり、ヘッド基板表面293A側からヘッド基板293を見た場合に相当する。同図の「素子光通過範囲」の欄に示すように、各発光素子2951から射出された被結像光ビームIMLは、ヘッド基板表面293Aの素子光通過範囲EPAを通過する。具体的には、例えば発光素子2951bから射出された被結像光ビームIMLは、ヘッド基板表面293Aの素子光通過範囲EPAbを通過する。なお、全ての発光素子2951それぞれについて素子光通過範囲EPAは定義できるが、同図では4個の発光素子2951についてのみ素子光通過範囲EPAが図示されている。
上述の通り、ヘッド基板裏面293Bには複数の発光素子2951が形成されており、これら全ての発光素子2951について素子光通過範囲EPAが定義できる。ここで、素子光通過範囲EPAの全部を接合した領域を、光通過領域GPRと定義する(同図の「光通過領域」の欄)。換言すれば、光通過領域GPRは、ヘッド基板裏面293Bに形成された複数の発光素子2951から射出される被結像光ビームIMLのヘッド基板表面293Aにおける通過領域である。このように、本実施形態では、光通過領域GPRが、本発明の「通過領域」に相当している。
ヘッド基板裏面293Bに形成された複数の発光素子2951から射出される全ての被結像光ビームIMLは、光通過領域GPRの内側を通過して、光通過領域GPRの外側を通過しない。そこで、本実施形態は、反射膜RFと被結像光ビームIMLとの干渉を防止するために、光通過領域GPRの外側に反射膜RFを形成している。特に本実施形態では、反射膜RFは、光通過領域GPRに対して、該光通過領域GPRの外側から隣接するように形成されている(同図の「反射膜」の欄)。詳述すると、反射膜RFは、幅方向LTDの両側から光通過領域GPRに隣接している。その結果、同図が示すように、光通過領域GPRを含む反射膜スリットRFslが、反射膜RFに形成されたような恰好となっている。
ところで、上述のようなラインヘッド29では、複数の発光素子2951の間で光量がばらつくとの問題が発生する場合がある。かかる光量ばらつきの原因としては、例えば、複数の発光素子2951の間における発光頻度のばらつきが挙げられる。つまり、複数の発光素子2951の間で発光頻度にばらつきがあると、一部の発光素子2951が比較的早く寿命に達して、他の発光素子2951に比べてその光量が低下してしまう場合がある。特に、有機EL素子はLED素子等と比べて寿命が短いため、上記実施形態のように発光素子2951として有機ELを用いたような場合、かかる問題が顕著となる。
このような問題に対応するために、本実施形態では、各発光素子2951から射出された光ビームを光センサSCにより検出して、複数の発光素子2951の間での光量のばらつきを検出するとともに、該検出結果に基づいて光量ばらつきが解消するように各発光素子2951の駆動を制御する。そこで、この駆動制御動作について以下に説明するが、駆動制御動作は、例えばラインヘッド29の組立時や出荷時等のタイミングで予め求められた補正係数に基づいて実行される。したがって、以下の説明では、まず補正係数の求め方について説明した後に、駆動制御動作について説明する。
上述の通り、まず、例えばラインヘッド29の組立時や出荷時等のタイミングで、発光素子2951から光ビームを射出させて感光体ドラム21の表面に相当する位置に形成されるスポットの光量を、各発光素子2951について測定する。具体的には、ラインヘッド29を検査ジグに取り付ける。検査ジグには、ラインヘッド29の各発光素子2951から射出された光ビームの光量を、感光体ドラム21の表面に対応する像面位置で検出する光量検出器が配置されている。この光量検出器は、1個の検出器を移動させつつ各発光素子2951からの光ビームの光量を検出するものでも良いし、発光素子2951毎に検出器を配置したものでも良い。そして、各発光素子2951を順に発光させて、検査ジグの光量検出器で検出した値Pgnと、ラインヘッド29の光センサSCで検出した値Phn(nはn番目の発光素子を表す)とを得るとともに、各発光素子2951について補正係数Pgn/Phnを算出する。このようにして求めた補正係数Pgn/Phnは、例えば図2に示すエンジンコントローラECに記憶しておく。そして、次に説明するように、補正係数Pgn/Phnに基づいて駆動制御動作が実行される。
図9は、駆動制御動作実行中におけるラインヘッドを示す側面図であり、長手方向LGDから見た場合に相当する。駆動制御動作では、まず発光素子2951の光量ばらつきが検出される。かかる光量ばらつき検出は、画像形成装置の電源投入時、画像形成動作開始前、或いは紙間等の、通常の画像形成動作が実行されていない間に行なわれる。具体的には、各発光素子2951を順番に発光させながら、光センサSCの検出値が測定される。図9は、同図の最左端にある発光素子2951aを発光させた場合に相当する。発光素子2951aから射出された光ビームLBは、ヘッド基板表面293Aと裏面293Bとの間で反射を繰り返しつつ、ヘッド基板293の内部を進行して、光センサSCに到達する。ヘッド基板表面293Aには反射膜RFが設けられており、この反射膜RFに入射した光ビームLBのほとんどは、ヘッド基板裏面293Bに向けて反射される。
そして、光センサSCの測定値に補正係数Pgn/Phnを乗じることによって、各発光素子2951により感光体ドラム21の表面で形成されるスポットの光量が算出される。算出された光量がばらついており、所望の光量が実現されていない場合は、所望の光量が得られるように発光素子2951の駆動を制御する。つまり、所望の光量と算出された光量とを比較して、算出された光量が所望の光量となるように、発光素子2951に流す電流等を調整する。そして、このような調整動作を全ての発光素子2951について実行することで、複数の発光素子2951の間での光量ばらつきが抑制される。その結果、良好な露光が実現される。なお、所望の光量に関する情報や、駆動制御動作を実行させるプログラム等は、例えばエンジンコントローラECに予め記憶しておいても良い。
上述のように本実施形態のラインヘッド29は、ヘッド基板293の表面293Aに光センサSCを設けている。そして、上記実施形態は、各発光素子2951から射出される光ビームを光センサSCにより検出することで、複数の発光素子2951の間における光量のばらつきを検出することが可能であり、良好な露光を実現するにあたって有利である。つまり、上述の通り、上記実施形態では、各発光素子2951から射出される光ビームを光センサSCにより検出するとともに、光センサSCの検出値に基づいて発光素子2951の駆動を制御している。その結果、各発光素子2951により形成されるスポットの光量ばらつきが抑制されて、良好な露光が実現される。さらに本実施形態では、ヘッド基板293の表面293Aに反射膜RFが形成されており、高精度に光量ばらつきを求めることが可能となっている。この理由について、図9を用いつつ説明する。
反射膜RFを備えた本実施形態の効果を説明するために、まず、反射膜RFを備えない場合の光ビームの軌跡について説明する。反射膜RFを備えない構成においては、ヘッド基板表面293Aへの入射角が臨界角θcより大きい光ビームLBaは、ヘッド基板表面293Aで全反射される。しかしながら、臨界角θc以下の入射角で入射する光ビームLBbは、その一部がヘッド基板表面293Aで反射されずに透過してしまう。なお、同図に示す臨界角θcは、ヘッド基板表面293Aに反射膜RFが存在せず、ヘッド基板表面293Aは空気の層に晒されていると仮定した場合の臨界角である。これに対して、本実施形態では、ヘッド基板表面293Aに反射膜RFが形成されている。したがって、この反射膜RFに入射した光ビームは、入射角に依存すること無く、そのほとんどが反射される。つまり、同図に示す光ビームLBaのみならず光ビームLBbも高い反射率でもって、ヘッド基板裏面293Bに向けて反射することができる。その結果、光センサSCに到達する光ビームの光量が増大して、高精度の光量ばらつき検出を実現することが可能となっている。
しかも、本実施形態では、ヘッド基板裏面293Bに設けられた複数の発光素子2951から射出された光ビームのうちレンズアレイ299のレンズ対向面299Fに入射して感光体表面に結像される光ビームのヘッド基板表面293Aにおける通過領域、すなわち光通過領域GPRの外側に、上記反射膜RFは設けられている。したがって、図8等を用いて説明したように、通常の露光動作において、被結像光ビームIMLに対して反射膜RFが干渉するという問題の発生が抑制されている。このように上記実施形態では、露光動作においては、感光体表面に結像される被結像光ビームIMLに反射膜RFが干渉するという問題の発生を抑制しつつ、なおかつ、光量検出においては多くの光ビームを光センサSCに到達させることが可能となっており、極めて好適である。
また、光センサSCに到達する光ビームの光量を増大させるとの観点からは、露光動作で露光に寄与する被結像光ビームIML以外の光ビームは、出来るだけヘッド基板表面293Aで反射されることが望まれる。これに対して、本実施形態では反射膜RFは光通過領域GPRに隣接して設けられており、好適である。なんとなれば、このように構成することで、被結像光ビームIML以外の光ビームを効率的にヘッド基板表面293Aで反射して、光センサSCに到達する光ビームの光量を増大させることができるからである。
特に、本実施形態での発光素子2951から射出される光ビームは、ランバートの余弦側に従う。つまり、発光素子2951から射出される光ビームのうち、この発光素子2951からヘッド基板裏面293Bの法線方向に向う光ビームの光量が最も多い。換言すれば、ヘッド基板表面293Aに入射する光ビームの光量は、該光ビームの入射角が小さいほど大きい。具体的に説明すると、例えば図9において、光ビームLBaの光量よりも光ビームLBbの光量の方が大きい。したがって、光センサSCに到達する光ビームの光量を増大するとの観点からは、ヘッド基板表面293Aに対する入射角が小さい光ビームを、ヘッド基板293の表面293Aで反射することが望ましい。これに対して、本実施形態では反射膜RFは光通過領域GPRに隣接して設けられており、好適である。なんとなれば、このように構成することで、ヘッド基板表面293Aに対する入射角が小さい光ビームを、ヘッド基板表面293Aで効率的に反射して、光センサSCに到達する光ビームの光量を増大させることができるからである。
また、上述の通り、光センサSCは、複数の発光素子2951に対してヘッド基板293の短軸方向側(幅方向LTD側)に設けられるている(図6,図7,図9)。したがって、発光素子2951から光センサSCまでの距離を比較的短くでき、光センサSCに到達する光量を多くすることが可能となっている。その結果、本実施形態では、光ビームの検出精度が向上して、光量ばらつきを高精度に求めることが可能となっている。
また、本実施形態では、反射膜RFは、光通過領域GPRから光センサSCまで延設されている(図6,図7,図9)。したがって、光通過領域GPRから光センサSCの方向に向う光ビームを、ヘッド基板表面293Aで効率的に反射することができる。したがって、より多くの光ビームを光センサSCに到達させることが可能となる。その結果、光センサSCの検出精度を向上して、より高精度に光量ばらつきを求めることが可能となり、本実施形態は好適である。
また、図9に示すように、ヘッド基板裏面293Bには配線WLが設けられている。したがって、ヘッド基板裏面293Bに入射した光ビームのうち配線WLに入射した光ビームは、この配線WLにより高い反射率で反射される。その結果、光センサSCへ到達する光ビームが増大して、光量ばらつきを高精度に求めることが可能となる。
また、反射膜RFは、通常の露光動作において、いわゆるゴーストの発生を抑制するとの機能を果たすことができる。つまり、通常の露光動作においては、スポット形成に寄与する光ビーム、すなわち被結像光ビームIMLのみがレンズ対向面299Fに入射することが、望まれる。換言すれば、被結像光ビームIML以外の光ビームは、ヘッド基板表面293Aで反射して、レンズ対向面299Fへ入射しないようにすることが好適である。なんとなれば、被結像光ビームIML以外の光ビームがレンズ対向面299Fに入射すると、この光ビームが意図しない場所に結像されて、いわゆるゴーストが発生する場合があるからである。これに対して、本実施形態では、ヘッド基板表面293Aに反射膜RFが設けられており、この反射膜RFにより被結像光ビームIML以外の光ビームを効率的に反射することが可能となっている。その結果、被結像光ビームIML以外の光ビームのレンズ対向面299Fへの入射を効率的に抑制して、ゴーストの発生が抑制されている。
このように、上記実施形態では、ヘッド基板293が本発明の「基板」に相当し、ヘッド基板293の裏面293Bが本発明の「第1面」に相当し、ヘッド基板293の表面293Aが本発明の「第2面」に相当している。また、上記実施形態では、反射膜RFが本発明の「反射部材」に相当し、配線WLが本発明の「反射機能部」に相当し、感光体ドラム21が本発明の「潜像担持体」に相当し、副走査方向SDが本発明の「移動方向」に相当し、感光体ドラム21の表面が本発明の「像面」に相当している。
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、上記実施形態では、光センサSCはヘッド基板表面293Aに配置されているが、光センサSCの配置態様はこれに限られない。
図10は、光センサの別の配置態様を示す側面図であり、長手方向LGDからラインヘッド29を見た場合に相当する。同図が示すように、光センサSCは、ヘッド基板293の両端面293Cに配置されている。この光センサSCの受光面SCFは、ヘッド基板端面293Cに対向するとともに、ヘッド基板端面293Cに対して光学接着剤により取り付けられている。ヘッド基板表面293Aには、上記実施形態と同様に反射膜RFが形成されている。この反射膜RFは、光通過領域GPRに隣接するとともに、光センサSCまで延設されている。したがって、同図に示す構成においても、上記実施形態と同様の効果が奏される。つまり、ヘッド基板表面293Aの反射膜RFに入射した光ビームLBは、その入射角に依らず、ヘッド基板表面293Aで反射される。したがって、より多くの光ビームを光センサSCに到達させることが可能となっている。しかも、光通過領域GPRから光センサSCにまで反射膜RFは延設されている。したがって、光通過領域GPRから光センサSCの方向に向う光ビームをヘッド基板表面293Aで効率的に反射して、より多くの光ビームを光センサSCに到達させることが可能となる。このように図10の構成においても、光センサSCの検出精度を向上して、より高精度に光量ばらつきを求めることが可能となっている。このように端面293Cが本発明の「第1面と第2面とを接続する面」に相当する。
図11は、光センサのさらに別の配置態様を示す側面図であり、長手方向LGDからラインヘッド29を見た場合に相当する。同図が示すように、光センサSCは、ヘッド基板293の裏面293Bに配置されている。この光センサSCの受光面SCFは、ヘッド基板裏面293Bに対向するとともに、ヘッド基板裏面293Bに対して光学接着剤により取り付けられている。ヘッド基板表面293Aには、上記実施形態と同様に反射膜RFが形成されている。ヘッド基板表面293Aのうちの光センサSCの受光面SCFが対向する領域を対向領域SFAとしたとき、この反射膜RFは、光通過領域GPRに隣接するとともに、対向領域SFAまで該対向領域SFAを含むように延設されている。したがって、同図に示す構成においても、上記実施形態と同様の効果が奏される。つまり、ヘッド基板表面293Aの反射膜RFに入射した光ビームLBは、その入射角に依らず、ヘッド基板表面293Aで反射される。したがって、より多くの光ビームを光センサSCに到達させることが可能となっている。しかも、光通過領域GPRから対向領域SFAにまで反射膜RFは延設されている。したがって、光通過領域GPRから光センサSCの方向に向う光ビームをヘッド基板表面293Aで効率的に反射して、より多くの光ビームを光センサSCに到達させることが可能となっている。このように図11の構成においても、光センサSCの検出精度を向上して、より高精度に光量ばらつきを求めることが可能となっている。
また、上記実施形態は、発光素子2951として有機EL素子を用いた。しかしながら、発光素子2951を次のように構成することもできる。つまり、例えば、特開2006−147218号公報に記載の多層反射膜(同公報における、光共振器)を有機EL素子に設けて発光素子2951を構成して、この発光素子2951をヘッド基板裏面293Bに配置しても良い。多層反射膜は、二酸化ケイ素SiO2と窒化ケイ素SiNとを積層して構成されており、有機EL素子からの光ビームを共振させて強めている。有機EL素子に多層反射膜を備えた発光素子は、多層反射膜を備えない発光素子と比較して、ヘッド基板裏面293Bの法線方向に向う光ビームの割合が多くなる。したがって、多層反射膜を備えた発光素子を用いる場合は、光通過領域GPRに隣接させて反射膜RFを設けることが、特に好適である。
上記実施形態では、反射膜RFは、アルミニウムをヘッド基板表面293Aに蒸着して形成されている。しかしながら、金や銀等のアルミニウム以外の金属を、ヘッド基板表面293Aに蒸着させて、反射膜RFを形成することもできる。特に発光素子2951から射出される光ビームの波長が赤色から近赤外にある場合は、金や銀はアルミニウムより高い反射率を有する。したがって、光ビームの波長が赤色から近赤外にある場合は、金や銀により反射膜RFを形成することが好適である。また、さらに反射膜RFの反射率を向上させたい場合は、反射膜RFを誘電体多層膜で形成しても良い。
また、上記実施形態では、配線WLを反射機能部として機能させたが、ヘッド基板裏面293Bのうち、発光素子2951が形成されていない領域に対して裏面反射膜RCを形成して、この裏面反射膜RCを反射機能部として機能させても良い。
図12は、ヘッド基板裏面に裏面反射膜を形成した構成を示す図である。同図に示すように、ヘッド基板裏面293Bのうち発光素子2951が形成されていない領域に対して、裏面反射膜RC(反射機能部)が形成されている。裏面反射膜RCの裏面(ヘッド基板293と逆の面)には、発光素子2951に繋がる配線WLが形成されている。この裏面反射膜RCは光ビームを反射する機能を有する。したがって、ヘッド基板裏面293Bに入射した光ビームは、その入射角に依らずヘッド基板裏面293Bで反射される。その結果、光センサSCに到達する光ビームの光量が増大して、光量ばらつきを高精度に求めることが可能となる。なお、配線WLと裏面反射膜RCとのショートを避けるため、裏面反射膜RCは誘電体多層膜で形成することが好適である。
また、上記実施形態では、ヘッド基板293の裏面293Bに駆動回路D295を設けているが、駆動回路D295の配設位置はヘッド基板293の裏面293Bに限られない。また、ヘッド基板293の裏面に駆動回路D295を配置しない場合は、例えば、フレキシブルプリント基板FPCを、ヘッド基板293の裏面に設けても良い。つまり、フレキシブルプリント基板FPCを発光素子2951に繋がる配線WLに接続するとともに、フレキシブルプリント基板FPCを介して、発光素子2951に駆動信号を与えても良い。
21Y、21K…感光体ドラム(潜像担持体)、 29…ラインヘッド、 2951…発光素子、 293…ヘッド基板(基板)、 293A…ヘッド基板の表面(第2面)、 293B…ヘッド基板の裏面(第1面)、 293C…ヘッド基板の端面、 299…レンズアレイ、 299F…レンズ対向面、 LS…屈折率分布型レンズ、 MD…主走査方向, SD…副走査方向、 LGD…長手方向(長軸方向)、 LTD…幅方向(短軸方向)、 SC…光センサ、 SCF…受光面、 RF…反射膜(反射部材)、 WL…配線(反射機能部),RC…裏面反射膜(反射機能部)、 GPR…光通過領域(通過領域)
Claims (8)
- 第1面と前記第1面に対向する第2面とを有するとともに光を透過する基板と、
前記基板の前記第1面に設けられた複数の発光素子と、
前記基板の前記第2面側で前記発光素子に対向するとともに前記発光素子から射出された光ビームを像面に結像する複数の屈折率分布型レンズを有するレンズアレイと、
前記基板に設けられた光センサと、
前記基板の前記第2面に設けられた反射部材と
を備え、
前記複数の発光素子から射出された光ビームのうち前記複数の屈折率分布型レンズに入射して前記像面に結像される光ビームの前記第2面における通過領域の外側に、前記反射部材は設けられていることを特徴とするラインヘッド。 - 前記反射部材は前記通過領域に隣接して設けられている請求項1記載のラインヘッド。
- 前記第1面に反射機能部を備えた請求項1または2記載のラインヘッド。
- 前記レンズアレイは、移動方向に移動する前記像面に向けて光ビームを結像し、
前記基板は、前記移動方向に対応する方向を短軸方向と、前記短軸方向に直交する方向を長軸方向とし、
前記光センサは、前記複数の発光素子の前記短軸方向側に設けられている請求項1ないし3のいずれかに記載のラインヘッド。 - 前記光センサは、前記第2面に設けられており、
前記反射部材は、前記通過領域から前記光センサまで延設されている請求項4記載のラインヘッド。 - 前記光センサは、前記第1面と前記第2面とを接続する面に設けられており、
前記反射部材は、前記通過領域から前記光センサまで延設されている請求項4記載のラインヘッド。 - 前記光センサは、前記第1面に設けられており、
前記反射部材は、前記通過領域から前記第2面のうち前記光センサの対向領域まで、該対向領域を含むように延設されている請求項4記載のラインヘッド。 - 潜像担持体と、
第1面と前記第1面に対向する第2面とを有するとともに光を透過する基板と、
前記基板の前記第1面に設けられた複数の発光素子と、
前記基板の前記第2面側で前記発光素子に対向するとともに前記発光素子から射出された光ビームを前記潜像担持体に結像する複数の屈折率分布型レンズを有するレンズアレイと、
前記基板に設けられた光センサと、
前記基板の前記第2面に設けられた反射部材と
を備え、
前記複数の発光素子から射出された光ビームのうち前記複数の屈折率分布型レンズに入射して前記像面に結像される光ビームの前記第2面における通過領域の外側に、前記反射部材は設けられていることを特徴とする画像形成装置。
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JP2010179464A (ja) * | 2009-02-03 | 2010-08-19 | Seiko Epson Corp | 露光ヘッド及び画像形成装置 |
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