KR20090076617A - 1,3-프로프-1-엔 설톤의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 반응공정이 간단하고 경제적인, 1,3-프로프-1-엔 설톤의 제조방법에 관한 것으로, 구체적으로 화학식 2의 화합물을 염소화반응시켜 화학식 3의 화합물을 제조하는 단계(단계 1); 상기 단계 1에서 제조된 화학식 3의 화합물을 고리화반응시켜 화학식 4의 2-할로-1,3-프로판 설톤을 제조하는 단계(단계 2); 및 상기 단계 2에서 제조된 화학식 4의 화합물에 할로겐수소 제거 반응시켜 화학식 1의 1,3-프로프-1-엔 설톤을 제조하는 단계(단계 3)를 포함하는 1,3-프로프-1-엔 설톤의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 1,3-프로프-1-엔 설톤의 제조방법은 종래기술에 비해 공업적으로 화학합성이 용이하고, 경제성이 있으며, 또한 복잡하고 위험한 화학반응을 배제할 수 있어 안전하며, 특별한 정제공정이 없이도 고순도의 1,3-프로프-1-엔 설톤을 생산할 수 있으므로 리튬2차전지의 전해액 등의 용도로 사용되는 1,3-프로프-1-엔 설톤의 제조에 효과적으로 적용될 수 있다.
1,3-프로프-1-엔 설톤, 전해액, 리튬 2차전지

Description

1,3-프로프-1-엔 설톤의 제조방법{Process for the preparation of 1,3-prop-1-ene sultone}
본 발명은 반응공정이 간단하고 경제적인, 1,3-프로프-1-엔 설톤의 제조방법에 관한 것이다.
리튬 2차전지는 에너지 밀도가 높고 자기방전률이 낮으며 경량이라는 장점을 가지고 있어, 노트북 컴퓨터, 켐코더, 휴대폰 등의 박형 및 경량화가 요구되는 휴대전자기기의 고성능 에너지원으로 각광받고 있다. 이러한 리튬 2차전지는 코인형, 원통형, 각형 등이 있는데, 일반적으로 양극 활물질로는 리튬 금속 혼합 산화물을 사용하고, 음극 재료로는 탄소 재료 또는 리튬 금속 등을 사용한다. 상기 리튬 전지의 3.6~3.7 V의 평균 방전 전압은 다른 알칼리 전지나 니켈-수소(Ni-MH) 전지 또는 니켈-카드뮴(Ni-Cd) 전지에 비하여 높은 전력을 얻을 수 있으며 이는 리튬전지의 가장 큰 장점 중 하나이다. 이러한 높은 구동 전압을 나타내기 위해서는 4 V 이상의 고전압에서 전기화학적으로 안정한 전해액 조성이 필요하다. 따라서 리튬 전지는 전해액의 용매로 탄산에틸렌(ethylene carbonate, EC), 탄산디메틸(dimethyl carbonate, DMC), 탄산메틸에틸(methyethyl carbonate, MEC), 탄산디에틸(diethyl carbonate, DEC) 등의 탄산염계 유기용매를 적절히 혼합한 비수계 유기전해액이 통상적으로 사용되고 있다. 전해액의 용질로는 통상 LiPF6, LiBF4, LiClO4, LiN(C2F5SO3)2 등의 리튬염을 사용하며, 이들은 전지 내에서 리튬이온의 공급원으로 작용하여 리튬 전지의 기본적인 작동을 가능하게 한다.
그러나 이러한 비수 전해액은 니켈-수소 전지 또는 니켈-카드뮴 전지에 사용되는 수계 전해액에 비하여 이온 전도도가 현저하게 낮기 때문에 고율 충방전 등에서 불리한 점으로 작용하기도 한다. 이에 전기전도효율 및 고온도영역에서 안전성이 뛰어나고, 화학적/전기화학적 안정성도 뛰어나며, 전지의 수명을 연장시킬 수 있는 전해액을 연구하던 중, 화학식 1로 표시되는 1,3-프로프-1-엔 설톤이 개발되어 널리 사용되었으며, 리튬 2차전지의 수요가 증가하면서 상기 1,3-프로프-1-엔 설톤의 대량생산 방법의 필요성이 대두되고 있다.
Figure 112008001883541-PAT00001
지금까지 알려진 상기 1,3-프로프-1-엔 설톤의 제조방법으로는 다음과 같다.
미국특허공개 제2006/223855호 및 Tetrahedron vol.55, p2245~2262(1999)에는 하기 반응식에 나타낸 바와 같이, 아릴브로마이드를 출발물질로 하여 염화 설파이트와 반응을 시켜 염화 프로프-2-엔 설포네이트를 만들고, 여기에 브롬을 사용하 여 2,3-디보로모-1-프로판 설포네이트를 합성한 후에 진한 염산으로 2-브로모-1,3-프로판 설톤을 만들고 여기에 염기로 트리에틸아민을 사용하여 최종화합물인 1,3-프로프-1-엔 설톤을 제조하는 방법이 개시되어 있다.
Figure 112008001883541-PAT00002
상기 방법에 의하면 1,3-프로프-1-엔을 합성하기 위해서는 2,3-디보로모-1-프로판 설포네이트를 합성하고 이를 고리화 반응시켜 2-브로모-1,3-프로판 설톤을 생성해야 한다. 이때, 2,3-디보로모-1-프로판 설포네이트를 합성 및 고리화 반응하는 단계에서는 2 mmHg 이하의 감압 및 130 ℃ 이상의 온도가 필요한데, 상기 반응 조건에서 2,3-디보로모-1-프로판 설포네이트 및 2-브로모-1,3-프로판 설톤은 분해 반응이 함께 나타나기 때문에 수율의 저하가 심화된다. 특히, 반응물의 양이 증가함에 따라 장시간 가열 조건이 심화되어 술폰에스테르 형태로 연결된 올리고머 및 고분자 물질이 함께 생성될 수 있으며, 이로부터 원하는 생성물인 2-브로모-1,3-프로판 설톤의 감압 증류 분리는 더욱 어려워지게 되어 전체 수율이 낮아지는 문제가 있다. 실제적으로 상기 방법을 사용시 전체 수율은 약 22.8%로 나타났다. 또한 강산, 브롬 등을 사용하기 때문에 인체에 해로운 문제가 있다. 따라서, 상기 방법을 대량생산에 이용하기에는 어려운 문제가 있다.
SYNTHESIS No.10, p1696~1712(2004)에는 비닐 설포닐 염소에 아릴 알콜을 반응시켜 불포화 설포네이트를 만들고 여기에 Grubbs 루테니움 촉매로 다섯 고리화 반응을 하여 최종화합물인 1,3-프로프-1-엔 설톤을 만드는 방법이 제시되어 있지만 중간물질인 비닐 설포닐 염소의 제조가 어렵고, Grubbs 루테니움 촉매의 가격이 고가이기 때문에 대량 생산을 하기에는 문제가 있다.
대한민국 공개특허 제2007-0101716호에는 하기 반응식과 같이, 1,3-프로판 설톤에 할로겐화 반응을 진행하여 할로겐-치환된 1,3-프로판 설톤을 준비하는 제1단계; 및 상기 할로겐-치환된 1,3-프로판 설톤에 할로겐수소 제거 반응을 진행하는 제2단계를 포함하는 1,3-프로펜설톤의 제조방법을 개시하고 있다. 그러나, 이 방법은 정제과정이 필요하다.
Figure 112008001883541-PAT00003
따라서 반응공정이 간단하면서 경제적인 1,3-프로프-1-엔 설톤을 만드는 새로운 제조방법이 요구된다.
이에 본 발명자들은 반응공정이 간단하고 경제적인 대량생산이 가능한 1,3-프로프-1-엔 설톤 제조방법을 개발하기 위하여 연구하던 중, 경제적인 아릴 설포닐 염소를 브로모단(Bromodan), NBS(N-Brmosuccinimide) 또는 NCS(N-Chlorosuccinimide) 등의 시약들을 사용하여 간단하고 안전한 반응공정으로써 특별한 정제공정 없이 고순도의 1,3-프로프-1-엔 설톤을 제조할 수 있음을 확인하고 본 발명을 완성하였다.
본 발명의 목적은 1,3-프로프-1-엔 설톤의 새로운 제조방법을 제공하는 데 있다.
본 발명은 안정성 및 수율이 향상된 고순도의 1,3-프로프-1-엔 설톤의 제조방법을 제공한다.
본 발명에 따른 1,3-프로프-1-엔 설톤의 제조방법은 종래기술에 비해 공업적으로 화학합성이 용이하고, 경제성이 있으며, 또한 복잡하고 위험한 화학반응을 배제할 수 있어 안전하며, 특별한 정제공정이 없이도 고순도의 1,3-프로프-1-엔 설톤을 생산할 수 있으므로 리튬2차전지의 전해액 등의 용도로 사용되는 1,3-프로프-1-엔 설톤의 제조에 효과적으로 적용될 수 있다.
본 발명은 하기 반응식 1과 같이,
화학식 2의 화합물을 염소화반응시켜 화학식 3의 화합물을 제조하는 단계(단계 1);
상기 단계 1에서 제조된 화학식 3의 화합물을 고리화반응시켜 화학식 4의 2-할로-1,3-프로판 설톤을 제조하는 단계(단계 2); 및
상기 단계 2에서 제조된 화학식 4의 화합물에 할로겐수소 제거 반응시켜 화학식 1의 1,3-프로프-1-엔 설톤을 제조하는 단계(단계 3)를 포함하는 1,3-프로프-1-엔 설톤의 제조방법을 제공한다.
Figure 112008001883541-PAT00004
(상기 반응식에서, X는 할로겐원소이다.)
이하, 본 발명을 단계별로 상세히 설명한다.
먼저, 단계 1은 화학식 2의 화합물을 염소화반응시켜 화학식 3의 아릴 설포닐 염소 화합물을 제조하는 단계이다.
상기 염소화반응은 상기 화학식 2로 표시되는 화합물에 POCl3 또는 PCl5를 반응시킴으로써 이루어지며, 상기 화학식 2의 화합물과 POCl3 또는 PCl5 반응몰비 는 1:1~3인 것이 바람직하다. 만일, 상기 화학식 2의 화합물과 POCl3 또는 PCl5 반응몰비가 1:1 미만이면 화학식 2의 화합물이 잔존하여 수율감소의 문제가 있고, 1:3을 초과하면 과량의 POCl3 또는 PCl5를 제거해야 하는 문제가 있다.
또한, 상기 반응은 용매를 사용하지 않고 POCl3 또는 PCl5를 단독으로 사용할 수 있으며, 용매를 사용할 경우에는 용매로서 디클로로 에틸렌(Ethylene dichloride; EDC)을 사용하는 것이 바람직하다. 상기 EDC는 반응시 용매가 증발되지 않고 반응을 끝까지 진행시키는 역할을 한다.
이때, 상기 반응은 80~130 ℃에서 2~4시간 동안 이루어지는 것이 바람직하다. 반응종료 후에는 적당한 물을 사용하여 과량의 POCl3 또는 PCl5를 제거함으로써 화학식 3의 아릴 설포닐 염소를 제조할 수 있다.
다음으로, 단계 2는 상기 단계 1에서 제조된 화학식 3의 화합물을 고리화반응시켜 화학식 4의 2-할로-1,3-프로판 설톤을 제조하는 단계이다.
상기 2-할로-1,3-프로판 설톤은 2-클로로-1,3-프로판 설톤 또는 2-브로모-1,3-프로판 설톤일 수 있다. 이때, 2-클로로-1,3-프로판 설톤은 1~3 몰당량의 NCS(N-Chlorosuccinimide)와 AIBN[2,2'-Azobis (2-methylpropionitrile)] 촉매량(0.01 내지 0.5 당량)을 디클로로메탄 용매에 희석하여 20~30 ℃에서 4~8시간 교반시켜 제조할 수 있다.
2-브로모-1,3-프로판 설톤인 경우에는 NCS(N-Chlorosuccinimide) 대신 NBS(N-Bromosuccinimide)를 사용하여 제조할 수 있으며, 또는 0.5~2 당량의 브로모단(Bromodan, 1,3-Dibromo-5,6-dimethylhydantoin)을 디클로로에틸렌 용매에 희석하여 20~30 ℃에서 4~8시간 교반시켜 제조할 수 있다.
다음으로, 단계 3은 상기 단계 2에서 제조된 화학식 4의 화합물에 할로겐수소 제거 반응시켜 화학식 1의 1,3-프로프-1-엔 설톤을 제조하는 단계이다.
상기 할로겐수소 제거 반응은 용매 하에서 상기 단계 2에서 제조된 화학식 4의 화합물을 염기(base)와 반응시킴으로써 성취할 수 있다.
이때, 사용하는 염기(base)는 약염기를 사용하는 것이 바람직하다. 강염기를 사용할 경우, 생성된 1,3-프로프-1-엔 설톤의 고리 열림 반응(ring opening reaction)이 일어날 수 있으므로 바람직하지 않다.
상기 염기(base)는 유기염기 또는 무기염기를 사용할 수 있다. 사용가능한 유기 염기로는 트리에티아민, 피리딘, 이미다졸, 디이소프로필아민, 피페리딘 등을 사용할 수 있으며, 무기염기로는 수산화칼륨, 수산화리튬, 수산화나트륨, 탄산수소나트륨 등을 사용할 수 있다. 바람직하게는 정제 단계를 거치지 않는다는 측면에서 무기염기를 사용할 수 있다. 상기 염기를 상온(20~30 ℃)에서 용매에 용해된 화학식 4의 2-할로-1,3-프로판 설톤에 0.5~3몰 당량 정도 적가하여 4~8시간 동안 교반하며 반응시킴으로써 할로겐수소 제거반응이 진행된다. 상온 이상의 온도에서는 부반응으로서 염기와 설포닐기와의 반응에 의한 고리 열림 반응이 진행될 수 있다.
상기 할로겐수소 제거 반응의 용매로는 방향족 화합물, 에테르, 에스테르 등을 사용할 수 있다. 방향족 화합물의 비제한적인 예로는 벤젠, 톨루엔 등이 있고, 에테르의 예로는 디에틸에테르, 테트라히드로퓨란(THF) 등이 있고, 에스테르의 예로는 에틸 아세테이트, 디메틸 카보네이트 등이 있으며, 이외에 클로로포름, 디클로로메탄, 사염화탄소, 디클로로에틸렌 등을 사용할 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 무기염기를 사용할 경우에는 유기용매와 물을 1:1 비율로 만든 용매에 희석하여 사용할 수 있다.
그러나 에탄올 등의 알코올은 2-할로겐-1,3-프로판 설톤과 반응을 일으킬 수 있으므로 용매로 사용할 수 없다.
유기염기를 사용하는 경우, 할로겐수소 제거 반응 후 반응 혼합물에는 1,3-프로프-1-엔 설톤, 미반응 3-할로겐-1,3-프로판 설톤, 1,3-프로판 설톤, 알킬암모늄 부산물과 여분의 염기가 포함될 수 있다. 반응에서 생성된 염화 알킬암모늄과 같은 염은 여과를 통해 제거하고 여과액을 농축한 후, 에틸아세테이트에 녹여 불용 성분을 여과로 제거하고 다시 농축한 후, 이를 클로로포름에서 재결정하면 흰색 고체로서 1,3-프로프-1-엔 설톤을 얻을 수 있다.
무기염기를 사용하는 경우에는 재결정의 과정 없이 유기층을 분리하여 감압 농축시켜 흰색 고체의 1,3-프로프-1-엔 설톤을 수득할 수 있다.
상기 수득한 1,3-프로프-1-엔 설톤은 NMR, 질량분석 등으로 확인할 수 있다.
본 발명에 따른 1,3-프로프-1-엔 설톤의 제조방법은 종래기술에 비해 공업적으로 화학합성이 용이하고, 경제성이 있으며, 또한 복잡하고 위험한 화학반응을 배제할 수 있어 안전하며, 특별한 정제공정이 없이도 고순도의 1,3-프로프-1-엔 설톤을 생산할 수 있으므로 리튬2차전지의 전해액 등의 용도로 사용되는 1,3-프로프-1-엔 설톤의 제조에 효과적으로 적용될 수 있다.
이하, 본 발명을 실시예를 통하여 상세히 설명한다. 단, 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 본 발명이 하기 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
< 실시예 1> 1,3- 프로프 -1-엔 설톤의 제조
단계 1 : 프로프 -2-인-1- 설포닐 염소의 제조
나트륨 프로프-2-인-1-설포네이트 13.5 g에 염화인옥사이드 27.3 g을 첨가하고 120 ℃까지 승온시킨 후 4시간 동안 가열 환류하였다. 이후 반응액을 0 ℃까지 냉각시키고 물 127 g을 첨가 한 후, 클로로포름 21 g으로 2회 추출한 다음 나트륨 설페이트로 건조하고 용매를 감압 증류하여 9.9g(수율 75%)의 프로프-2-인-1-설포닐 염소를 얻었다.
NMR(CDCl3) δ (ppm) : 6.03(m, 1H), 5.69(t, 2H), 4.34(d, 2H)
단계 2 : 2- 클로로 -1,3-프로판 설톤의 제조
상온에서 디클로로에틸렌 50 g, 물 50 g 혼합 용액에 상기 단계 1에서 제조 된 프로프-2-인-1-설포닐 염소 7.2 g을 희석하고 NCS(N-Chlorosuccinimide) 7.7 g과 AIBN[2,2'-Azobis (2-methylpropionitrile)] 0.5 g을 천천히 분할 투입한 후, 4시간 동안 교반하였다. 이후, 유기층을 분리하여 물로 세척한 후, 황산나트륨으로 건조시켰다. 다음으로 용매를 감압증류하여 목적물 6.4g(수율 79%)을 오일상으로 얻었다.
NMR(CDCl3) δ (ppm) : 4.80(dd, 2H), 4.52(m, 1H), 3.87(dd, 1H), 3.53(dd, 1H)
단계 3 : 1,3- 프로프 -1-엔 설톤의 제조
사염화탄소 34 g 및 물 34 g에 상기 단계 2에서 제조된 2-클로로-1,3-프로판 설톤 6.7 g과 수산화리튬 1.6 g을 첨가하고 상온에서 5시간 동안 교반하였다. 이후, 유기층을 분리하여 물로 세척하고 유기용매를 감압 농축하여 2.8g(수율 71%)의 1,3-프로프-1-엔 설톤을 흰색의 고체상으로 얻었다.
NMR(CDCl3) δ (ppm) : 7.05(d, 1H), 6.80(d, 1H), 5.11(d, 2H), mp : 83 ℃
< 실시예 2>
단계 1
나트륨 프로프-2-인-1-설포네이트 및 염화인옥사이드 대신 200 g에 나트륨 프로프-2-인-1-설포네이트 30 g에 펜타 클로로 포스페이트 39 g을 첨가하는 것을 제외하고는 실시예 1의 단계 1과 동일한 방법으로 수행하여 목적화합물 120.8 g(수율 71%)을 얻었다.
단계 2 및 단계 3
실시예 1의 단계 2 및 단계 3과 동일한 방법으로 수행하여 1,3-프로프-1-엔 설톤을 흰색의 고체상으로 얻었다.
< 실시예 3>
단계 1
실시예 1의 단계 1과 동일한 방법으로 수행하였다.
단계 2 : 2- 브로모 -1,3-프로판 설톤의 제조
상온에서 디클로로에틸렌 18 g, 물 18 g 혼합 용액에 상기 단계 1에서 제조된 프로프-2-인-1-설포닐 염소 7.2 g을 희석하고 브로모단 16.2 g을 천천히 분할 투입하는 것을 제외하고는 실시예 1의 단계 2와 동일한 방법으로 수행하여 목적화합물 8.8 g(수율 85%)을 오일상으로 얻었다.
단계 3
2-클로로-1,3-프로판 설톤 대신 상기 단계 2에서 제조된 2-브로모-1,3-프로판 설톤을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1의 단계 3과 동일한 방법으로 수행하 였다.
< 실시예 4>
단계 1
실시예 1의 단계 1과 동일한 방법으로 수행하였다.
단계 2 : 2- 브로모 -1,3-프로판 설톤의 제조
상온에서 디클로로에틸렌 18g, 물 18g 혼합 용액에 프로프-2-인-1-설포닐 염소 7.2 g을 넣고, 에테르 50 g과 물 50g을 넣어 희석하고 NBS(N-Bromosuccinimide) 9 g과 AIBN[2,2'-Azobis (2-methylpropionitrile)] 0.5 g을 천천히 분할 투입하는 것을 제외하고는 실시예 1의 단계 2와 동일한 방법으로 수행하여 목적화합물 7.0 g(수율 76%)을 오일상으로 얻었다.
단계 3
2-클로로-1,3-프로판 설톤 대신 상기 단계 2에서 제조된 2-브로모-1,3-프로판 설톤을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1의 단계 3과 동일한 방법으로 수행하였다.
< 실시예 5>
단계 1 및 단계 2
실시예 2의 단계 1 및 단계 2와 동일한 방법으로 수행하였다.
단계 3
디클로로에틸렌 34 g 및 물 34 g에 상기 단계 2에서 제조된 2-브로모-1,3-프로판 설톤 6.7 g과 수산화나트륨 1.6 g을 첨가하는 것을 제외하고는 실시예 1의 단계 3과 동일한 방법으로 수행하여 흰색 고체의 목적화합물을 2.9 g(수율 73%) 수득하였다.
< 실시예 6>
단계 1 및 단계 2
실시예 2의 단계 1 및 단계 2와 동일한 방법으로 수행하였다.
단계 3
수산화나트륨 대신 탄산수소나트륨 4.5 g을 첨가하는 것을 제외하고는 실시예 5의 단계 3과 동일한 방법으로 수행하여 흰색 고체의 목적화합물을 2.7 g(수율 68%) 수득하였다.
< 실시예 7>
단계 1 및 단계 2
실시예 2의 단계 1 및 단계 2와 동일한 방법으로 수행하였다.
단계 3
수산화나트륨 대신 수산화칼륨 2.2 g을 첨가하는 것을 제외하고는 실시예 1과 단계 3과 동일한 방법으로 수행하여 흰색 고체의 목적화합물을 2.7 g(수율 68%) 수득하였다.

Claims (14)

  1. 하기 반응식 1과 같이,
    화학식 2의 화합물을 염소화반응시켜 화학식 3의 화합물을 제조하는 단계(단계 1);
    상기 단계 1에서 제조된 화학식 3의 화합물을 고리화반응시켜 화학식 4의 2-할로-1,3-프로판 설톤을 제조하는 단계(단계 2); 및
    상기 단계 2에서 제조된 화학식 4의 화합물에 할로겐수소 제거 반응시켜 화학식 1의 1,3-프로프-1-엔 설톤을 제조하는 단계(단계 3)를 포함하는 1,3-프로프-1-엔 설톤의 제조방법.
    [반응식 1]
    Figure 112008001883541-PAT00005
    (상기 반응식에서, X는 할로겐원소이다.)
  2. 제1항에 있어서, 상기 단계 1은 용매 없이 또는 용매 하에서 상기 화학식 2로 표시되는 화합물에 POCl3 또는 PCl5를 반응시킴으로써 이루어지는 것을 특징으로 하는 1,3-프로프-1-엔 설톤의 제조방법.
  3. 제2항에 있어서, 상기 화학식 2의 화합물과 POCl3 또는 PCl5 반응몰비는 1:1~3인 것을 특징으로 하는 1,3-프로프-1-엔 설톤의 제조방법.
  4. 제2항에 있어서, 용매는 디클로로 에틸렌(Ethylene dichloride; EDC)을 사용하는 것을 특징으로 하는 1,3-프로프-1-엔 설톤의 제조방법.
  5. 제2항에 있어서, 상기 반응은 80~130 ℃에서 2~4시간 동안 이루어지는 것을 특징으로 하는 1,3-프로프-1-엔 설톤의 제조방법.
  6. 제1항에 있어서, 상기 단계 2의 2-할로-1,3-프로판 설톤은 2-클로로-1,3-프 로판 설톤 또는 2-브로모-1,3-프로판 설톤인 것을 특징으로 하는 1,3-프로프-1-엔 설톤의 제조방법.
  7. 제6항에 있어서, 상기 2-할로-1,3-프로판 설톤이 2-클로로-1,3-프로판 설톤인 경우, 상기 2-할로-1,3-프로판 설톤은 상기 단계 1에서 제조된 화학식 3의 화합물과 1~3 몰당량의 NCS(N-Chlorosuccinimide)와 AIBN[2,2'-Azobis (2-methylpropionitrile)] 촉매량(0.01에서 0.5 당량)을 디클로로메탄 용매에 희석하여 20~30 ℃에서 4~8시간 교반시켜 제조되는 것을 특징으로 하는 1,3-프로프-1-엔 설톤의 제조방법.
  8. 제6항에 있어서, 상기 2-할로-1,3-프로판 설톤이 2-브로모-1,3-프로판 설톤인 경우, 상기 2-할로-1,3-프로판 설톤은 상기 단계 1에서 제조된 화학식 3의 화합물과 1~3 몰당량의 NBS(N-Bromosuccinimide)와 AIBN[2,2'-Azobis (2-methylpropionitrile)] 촉매량(0.01 내지 0.5 당량)을 디클로로메탄 용매에 희석하여 20~30 ℃에서 4~8시간 교반시켜 제조되는 것을 특징으로 하는 1,3-프로프-1-엔 설톤의 제조방법.
  9. 제6항에 있어서, 상기 2-할로-1,3-프로판 설톤이 2-브로모-1,3-프로판 설톤인 경우, 상기 2-할로-1,3-프로판 설톤은 상기 단계 1에서 제조된 화학식 3의 화합물과 0.5~2 당량의 브로모단(Bromodan, 1,3-Dibromo-5,6-dimethylhydantoin)을 디클로로에틸렌 용매에 희석하여 20~30 ℃에서 4~8시간 교반시켜 제조되는 것을 특징으로 하는 1,3-프로프-1-엔 설톤의 제조방법.
  10. 제1항에 있어서, 상기 단계 3은 염기를 20~30 ℃에서 용매에 용해된 화학식 4의 2-할로-1,3-프로판 설톤에 0.5~3몰 당량 적가하여 4~8시간 동안 교반시킴으로써 이루어지는 것을 특징으로 하는 1,3-프로프-1-엔 설톤의 제조방법.
  11. 제10항에 있어서, 상기 염기는 유기염기 또는 무기염기인 것을 특징으로 하는 1,3-프로프-1-엔 설톤의 제조방법.
  12. 제11항에 있어서, 상기 유기염기는 트리에티아민, 피리딘, 이미다졸, 디이소프로필아민 또는 피페리딘인 것을 특징으로 하는 1,3-프로프-1-엔 설톤의 제조방법.
  13. 제11항에 있어서, 상기 무기염기는 수산화칼륨, 수산화리튬, 수산화나트륨 또는 탄산수소나트륨인 것을 특징으로 하는 1,3-프로프-1-엔 설톤의 제조방법.
  14. 제10항에 있어서, 상기 용매는 벤젠, 톨루엔, 디에틸에테르, 테트라히드로퓨란(THF), 에틸 아세테이트, 디메틸 카보네이트, 클로로포름, 디클로로메탄, 사염화탄소 및 디클로로에틸렌으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용하는 것을 특징으로 하는 1,3-프로프-1-엔 설톤의 제조방법.
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