KR20090028462A

KR20090028462A - 기판 측정용 스테이지

Info

Publication number: KR20090028462A
Application number: KR1020080090285A
Authority: KR
Inventors: 마사오 미즈타; 모토아키 하마다
Original assignee: 가부시키가이샤 호리바 세이샤쿠쇼
Priority date: 2007-09-13
Filing date: 2008-09-12
Publication date: 2009-03-18
Also published as: JP2009088477A; JP4234190B1; TW200913126A

Abstract

<과제> 지지핀(3)의 위치 재현성을 향상시키는 것 및 재치판(2)과 지지핀(3) 사이의 옮겨 놓음에 있어서 기판(W)의 수평방향의 벗어남을 방지하는 것이다.

<해결 수단> 기판(W)의 휨을 측정하는 휨 측정계(7) 및 해당 기판(W)의 휨 이외의 물리량 또는 화학량을 측정하는 통상측정계(6)에 이용되는 기판 측정용 스테이지(1)로서, 상기 통상측정계(6)의 통상측정위치(P1) 및 그 통상측정위치(P1)로부터 아래쪽으로 이간한 퇴피위치(P2)의 사이를 이동가능한 재치판(2)과, 상기 재치판(2)에 마련된 관통구멍(21)에 삽통 가능하고, 상기 휨 측정계(7)의 휨 측정위치(P3)에 고정된 복수의 지지핀(3)과, 상기 재치판(2)을 상기 통상측정위치(P1) 및 상기 퇴피위치(P2)의 사이에 승강이동시키는 구동기구를 구비하고, 상기 휨 측정위치(P3)가 상기 통상측정위치(P1) 및 퇴피위치(P2)의 사이에 설정되어 있다.

Description

기판 측정용 스테이지{SUBSTRATE MEASURING STAGE}

본 발명은 기판의 휨을 측정하기 위한 휨 측정계 및 휨 이외의 물리량 및/또는 화학량을 측정하기 위한 통상측정계에 이용되는 기판 측정용 스테이지에 관한 것이다.

이런 종류의 기판 측정용 스테이지는 기판이 실어 놓이는 재치판(載置板)과, 해당 재치판을 관통하도록 설치된 복수의 지지핀을 구비하고, 재치판을 고정해 지지핀을 움직이거나, 또는 재치판 및 지지핀의 양방을 작동시켜 지지핀이 재치판 아래로부터 돌출하는 구조로 하고 있다.

그렇지만, 지지핀을 움직이는 것에서는 측정마다의 지지핀의 높이위치의 재현성이 나빠진다고 하는 문제가 있다.

또, 복수의 지지핀마다 높이위치를 조절하는 것에서는 각 지지핀의 선단부를 동일 평면상에 위치시키는 것이 곤란하기 때문에, 예를 들면 특허문헌 1, 2에 나타내는 바와 같이, 각 지지핀을 공통의 부재에 고정하여, 모든 지지핀을 동시에 상하이동시키도록 한 것이 있다.

그렇지만, 복수의 지지핀을 평행하게 올리는 것이 곤란하고, 각 지지핀이 기 판에 접촉하는 타이밍이 벗어나는 결과, 재치판에 실어 놓이고 있던 기판의 위치와 지지핀에 지지되는 기판의 위치가 적어도 XY평면 내(수평방향)에 있어서 벗어나 버린다고 하는 문제가 있다.

또한, 막 두께 등의 측정결과와 휨 측정결과를 비교하는 경우 등에는 막 두께 측정의 측정위치와 휨 측정의 측정위치를 같은 높이로 할 필요가 있다고 생각되고 있다. 재치판 위의 기판과 지지핀 위의 기판과의 높이가 벗어나면 막 두께 측정계 및 휨 측정계의 각 초점이 벗어나 버려 측정결과에 악영향을 주어 버리기 때문이다. 그렇게 하면, 재치판으로부터 지지핀에 기판을 옮겨 놓을 때에 지지핀에 의해 기판을 지지한 후, 지지핀의 높이를 조절하여, 재치판에 실어 놓이고 있던 높이로 조절할 필요가 있다.

그렇지만, 상술한 바와 같이, 옮겨 놓을 경우에 기판이 수평방향으로 벗어나 버리고, 또, 지지핀을 이동시키는 것으로는 높이 재현성이 나쁘다고 하는 문제가 있다.

[특허문헌 1] 일본국 특개평6-97269호 공보

[특허문헌 2] 일본국 특개2006-332587호 공보

본원 발명자는 상기 문제점을 해소하기 위하여, 예의검토한 결과, 휨 측정의 기판의 높이가 막 두께 측정의 기판의 높이보다 아래쪽으로 벗어난다고 해도 측정결과에 영향을 미치지 않는 것을 발견했다.

즉, 본 발명은 상기 발견에 근거하여, 상기 문제점을 일거에 해결하기 위해서 이루어진 것으로, 지지핀의 위치 재현성을 향상시키는 것 및 재치판과 지지핀의 사이의 옮겨 놓음에 있어서 기판의 수평방향의 벗어남을 방지하는 것을 그 주된 소기 과제로 하는 것이다.

즉, 본 발명에 관한 기판 측정용 스테이지는 기판의 휨을 측정하는 휨 측정계 및 해당 기판의 휨 이외의 물리량 및/또는 화학량을 측정하는 통상측정계에 이용되는 기판 측정용 스테이지로서, 상기 기판이 실어 놓이고, 상기 통상측정계의 통상측정위치 및 그 통상측정위치에서 아래쪽(연직방향성분을 포함하는 방향이다.)으로 이간한 퇴피위치의 사이를 이동가능한 재치판과, 상기 기판을 지지하는 지지단을 가지고, 그 지지단이 상기 재치판의 이동에 관계없이, 상기 휨 측정계의 휨 측정위치에 고정된 복수의 지지부재와, 상기 재치판을 상기 통상측정위치 및 상기 퇴피위치의 사이에서 승강이동시키는 승강이동기구를 구비하며, 상기 휨 측정위치가 상기 통상측정위치 및 상기 퇴피위치의 사이에서 설정되어 있는 것을 특징으로 한다.

이와 같은 것으로 하면, 각 지지부재가 휨 측정위치에 고정되어 있으므로, 지지부재의 위치 재현성을 향상시킬 수 있고, 또, 재치판으로부터 지지부재에의 옮겨 놓음 또는 지지부재로부터 재치판으로의 옮겨 놓음시에 기판이 수평방향으로 벗어나는 것을 방지할 수 있다. 또한, 지지부재의 상하이동기구를 불필요하게 할 수 있고, 기판 측정용 스테이지를 소형화할 수 있음과 동시에 염가로 할 수 있다.

구체적인 동작으로서는 상기 재치판이 상기 통상측정위치에 있고, 상기 기판이 실어 놓여 있는 상태에 있어서, 상기 재치판이 상기 통상측정위치로부터 상기 퇴피위치로 이동함에 따라서, 상기 지지부재가 상기 재치판의 관통구멍을 통과하여, 상기 재치판의 상면으로부터 돌출하여 상기 기판을 지지한다. 한편, 상기 재치판이 상기 퇴피위치에 있고, 상기 지지부재가 상기 기판을 지지하고 있는 상태에 있어서, 상기 재치판이 상기 퇴피위치로부터 상기 통상측정위치로 이동함에 따라서, 상기 지지핀이 상기 재치판의 관통구멍을 통과하여, 상기 재치판의 상면으로부터 매몰하여, 상기 재치판이 상기 기판을 유지한다.

통상측정의 측정결과와 휨 측정의 측정결과의 비교를 실시하는 경우 등 측정의 편리성을 확보하기 위해서는 상기 휨 측정위치와 상기 통상측정위치와의 차이가 실질적으로 휨 측정에 영향을 주지 않는 범위인 것이 바람직하다.

측정 대상마다 지지부재의 높이를 조절 가능하게 하기 위해서는 상기 지지부재마다 해당 지지부재의 높이를 조절하는 높이조절기구를 구비하고 있는 것이 바람직하다.

재치판의 구체적인 실시의 양태로서는 상기 기판을 흡착하여 유지하는 척(chuck)판인 것을 생각할 수 있다.

관성에 의해서 상기 지지부재로부터 상기 기판이 벗어나지 않도록 하여, 상기 기판을 고속으로 수평방향으로 이동시킬 수 있도록 하고, 그 결과, 휨 측정에 관한 시간을 단축할 수 있도록 하는 데는 상기 지지부재가 휨 측정시에 있어서, 상기 기판이 벗어나는 것을 방지하는 벗어남 방지부를 구비한 것이면 좋다.특히, 기판이 수평방향으로 벗어나는 것을 방지하도록 한 것이 바람직하다.

상기 기판이 상기 지지부재로부터 관성에 의해서 벗어나지 않도록 하는 구체적인 실시양태로서는 상기 벗어남 방지부가 상기 기판을 흡착하여 유지하는 것을 생각할 수 있다.

순서 바꿈 등을 실시하지 않고, 상기 재치판의 동일한 위치에 상기 기판을 실어 놓고, 복수 종류의 크기의 기판에 대해서 휨 측정을 용이하게 실시할 수 있도록 함과 동시에 필요 최저한(最低限)의 지지부재에 의해서 기판을 지지하여, 휨 측정으로의 영향을 작게 하며, 기판의 오염을 적게 하는 데는 복수의 지지부재에 의해서, 지지하는 기판의 크기가 다른 지지부재군이 구성되고, 지지하는 기판이 작은 지지부재군은 지지하는 기판이 큰 지지부재군의 안쪽에 배치되며, 지지하는 기판이 작은 지지부재군의 휨 측정위치는 지지하는 기판이 큰 지지부재군의 휨 측정위치의 아래쪽에 설정되어 있으면 좋다.

통상측정계의 구체적인 실시양태로서는 기판 위의 막 두께를 측정하기 위한 에립소메터(ellipsometer)인 것을 생각할 수 있다.

또, 본 발명의 기판 측정용 스테이지를 기판측정장치에 이용하는 것에 의해, 기판의 고정밀도 그리고 고분해능의 측정이 가능하게 된다.

휨 측정시에 상기 기판에 상기 지지부재가 접촉하는 것에 의해 생기는 상처나 오염등을 최소한으로 하는 데는 상기 지지부재가 상기 기판의 외주부를 유지하는 것이면 좋다. 기판의 외주부는 칩으로 되지 않고 버려지는 부분이므로, 상처나 오염이 생겼다고 해도 문제가 되기 어렵기 때문이다.

상기 기판의 외주부를 유지하면서, 관성에 의해서 수평방향으로 벗어나는 것을 막기 위해서는 상기 지지부재가 그 지지단으로부터 상기 기판의 측면과 접촉하는 돌출부를 돌출시키게 한 것을 생각할 수 있다.

주변 외기의 온도변화에 의해서, 상기 지지부재에 열변형이 생겨 지지되어 있는 상기 기판이 기울어 버리는 경우가 있다. 기판이 기울어 버리면, 휨 측정시에 기판의 휨과 기판의 기울기가 합쳐진 측정결과가 되어 휨의 측정 정밀도가 악화되어 버린다. 이와 같은 온도변화의 영향이 상기 기판의 휨 측정에 나타나는 것을 억제하는 데는 상기 지지부재의 열변형을 저감하는 열변형 저감기구를 구비한 것이면 좋다.

온도변화가 생긴 주변 외기가 지지부재에 접촉하는 것을 방지하고, 열변형을 저감하는 데는 상기 열변형 저감기구가 상기 지지부재의 주위를 둘러싸는 차단벽을 구비한 것이면 좋다.

간단한 온도제어로 상기 지지부재의 열변형을 저감하고, 휨 측정에 주변 외기의 온도변화의 영향이 나타나지 않도록 하는 데는 상기 열변형 저감기구가 상기 지지부재를 주변 외기보다 높은 온도로 일정하게 유지하는 히터를 구비한 것이면 좋다.

이와 같이 구성한 본 발명에 의하면, 지지부재의 위치 재현성을 향상시키는 것 및 재치판과 지지부재의 사이의 옮겨 놓음에 있어서 기판의 수평방향의 벗어남을 방지할 수 있다.

<발명을 실시하기 위한 바람직한 형태>

이하에, 본 발명의 일실시형태에 대해서, 도면을 참조하여 설명한다. 또한, 도 1은 기판 측정용 스테이지(1)의 모식적 구성도이고, 도 2는 재치판(2)의 평면도이다. 도 3은 기판 측정용 스테이지(1)의 동작을 나타내는 도이고, 도 4는 기판 측정용 스테이지(1)를 이용한 위치 재현성의 실험결과를 나타내는 표이다.

<장치 구성>

본 실시형태에 관한 기판 측정용 스테이지(1)는 기판(W)의 휨을 측정하는 휨 측정계(7) 및 해당 기판(W)의 휨 이외의 물리량 및/또는 화학량을 측정하는 통상측정계(6)에 이용되는 것이다. 기판(W)으로서는 FPD용의 유리기판 또는 실리콘 기판으로 대표되는 반도체 웨이퍼 등을 생각할 수 있다. 또한, 기판 측정용 스테이지(1), 통상측정계(6) 및 휨 측정계(7)로부터 기판측정장치가 구성되어 있다.

본 실시형태에서는, 통상측정계(6)는 기판(W)의 휨 이외의 물리량 및/또는 화학량 가운데, 기판(W) 표면에 성막(成膜)된 막 두께, 기판의 두께를 측정하기 위한 것으로, 예를 들면 에립소메터를 이용하고 있다. 도 1 중, 61은 레이저 광원 또 는 백색광원이고, 62는 광검출기이다.

또, 휨 측정계(7)는 예를 들면 레이저 변위계를 이용하고 있고, 그 기기 구성은 He-Ne레이저 등의 레이저 광원 등으로 이루어진 광조사부와 위치검출센서(PSD) 등의 광검출부를 구비한 일체형의 것이다.

구체적으로 본 실시형태의 기판 측정용 스테이지(1)는 기판(W) 위에 성막된 막 두께를 측정함과 동시에 기판(W)의 휨을 측정하여, 성막에 의해 기판(W)에 관한 응력을 측정하는 스트레스 미터에 이용되는 것이고, 도 1에 나타내는 바와 같이, 상기 기판(W)이 실어 놓이고, 상기 통상측정계(6)의 통상측정위치(P1) 및 그 통상측정위치(P1)로부터 아래쪽으로 이간한 퇴피위치(P2)의 사이를 이동가능한 재치판(2)과, 상기 재치판(2)에 마련된 관통구멍(21)에 삽통(揷通) 가능하고, 상기 휨 측정계(7)의 휨 측정위치(P3)에 고정된 복수의 지지부재(3)와, 상기 재치판(2)을 상기 통상측정위치(P1) 및 상기 퇴피위치(P2)의 사이에서 승강이동시키는 승강이동기구(4)를 구비하고 있다. 또한 승강이동기구(4)의 하부에는 수평방향인 XY축 방향으로 이동가능한 도시하지 않은 수평이동기구가 설치되어 있고, 기판의 측정위치를 XY방향으로 변화시킬 수 있다.

이하, 재치판(2), 지지부재(3) 및 승강이동기구(4)에 대해 설명한다.

재치판(2)은 기판(W)이 실어 놓이고, 통상측정계(6)에 의해서 해당 기판(W)이 측정되는 통상측정위치(P1)와, 그 통상측정위치(P1)로부터 연직방향으로 아래쪽에 이간하여 설정된 퇴피위치(P2)와의 사이를 이동하는 것이다. 본 실시형태의 재치판(2)은 평면에서 볼 때에 있어서 원형 모양을 이루는 것이지만(도 2 참조), 평 면에서 볼 때에 있어서 직사각형 모양 등 그 외의 형상을 이루는 것이어도 좋다.

여기서, 「통상측정위치(P1)」란 기판(W)의 통상측정을 행하기 위한 재치판(2)의 상면의 위치를 말하고, 구체적으로는 재치판(2) 위에 기판(W)이 실어 놓일 때에 통상측정계(6)가 해당 기판(W)을 통상측정가능하게 되는 재치판(2)의 상면의 위치이다. 즉, 통상측정위치(P1)에 있는 재치판(2) 위에 기판(W)이 실어 놓여 있는 경우에는 통상측정계(6)의 광조사부(61)의 초점이 기판(W) 표면 위에 위치하고 있는 상태가 된다.

또, 「퇴피위치(P2)」란 재치판(2)의 상면이 통상측정위치(P1)로부터 아래쪽에 소정 거리 이간한 위치이고, 재치판(2)의 상면이 후술하는 휨 측정위치(P3)보다 아래쪽이 되는 위치이다. 상기 소정 거리 이간한 위치란, 지지부재(3)에 의해 지지되어 있는 기판(W)이 지지부재(3) 위에서 휘어져도 기판(W)의 하면이 재치판(2)의 상면에 접촉하지 않는 정도로 아래쪽의 위치이다.

또, 본 실시형태의 재치판(2)은 기판(W)을 흡착하여 유지하는 진공 척판이다. 또한, 재치판(2)은, 도 1 및 도 2에 나타내는 바와 같이, 후술하는 지지부재(3)와 대향하는 위치에 지지부재(3)의 수에 대응하여, 복수의 관통구멍(21)이 마련되어 있다. 본 실시형태에서는 재치판(2)의 중심에 대하여 동심원상으로 3개 마련되어 있다.

그리고, 재치판(2)은 후술하는 승강이동기구(4)에 의해서, 통상측정위치(P1) 및 퇴피위치(P2)의 사이를 연직방향으로 승강이동한다.

지지부재(3)는 휨 측정을 실시하기 위해서 기판(W)을 지지하는 것으로, 재치 판(2)의 이동에 관계없이 독립하여 그 지지단 선단이 휨 측정위치(P3)가 되도록 고정되어 있다. 본 실시형태의 지지부재(3)는 지지핀이고, 지지단은 지지핀의 선단이다. 지지핀(3)은 일단이 스테이지 기대(100)에 세워 설치된 부재를 통하여 스테이지 기대(100)에 고정되고, 타단의 선단이 휨 측정위치(P3)에 위치하도록 후술하는 높이조절기구(5)에 의해 지지핀(3)의 높이가 조절된다.

여기서, 「휨 측정위치(P3)」란, 지지핀(3)의 지지단 위에 기판(W)을 실어 놓았을 때에 휨 측정계(7)가 해당 기판(W)을 측정가능한 지지핀(3)의 지지단의 위치이다. 본 실시형태에서는, 지지단은 지지핀(3)의 선단이므로, 휨 측정위치(P3)는 지지핀(3)의 선단 위에 기판(W)을 배치했을 때에 휨 측정계(7)가 해당 기판(W)을 측정가능한 지지핀(3)의 선단의 위치가 된다. 그리고, 휨 측정위치(P3)는 재치판(2)의 통상측정위치(P1)와 퇴피위치(P2)와의 사이에 설정되어 있다. 재치판(2)을 통상측정위치(P1)와 퇴피위치(P2)와의 사이를 이동시켜 일련의 측정을 실시할 때에 있어서, 지지핀(3)의 높이는 변화하지 않기 때문에, 상기 일련의 측정을 실시할 때에 있어서, 휨 측정위치(P3)의 스테이지 기대(100)로부터의 높이도 변화하지 않고 일정하다.

이때, 통상측정위치(P1)와 휨 측정위치(P3)와의 높이의 차이는 실질적으로 휨 측정에 영향을 주지 않는 범위이고, 휨 측정계(7)가 가지는 광학계와의 관계로 결정되며, 예를 들면 400㎛이다. 또한, 상기 차이는 400㎛미만이어도 좋다.

또, 지지핀(3)은, 도 1에 나타내는 바와 같이, 그 선단부가 구면(球面) 형상을 이루고, 도 2에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태에서는 상기 재치판(2)의 중심 과 일치하는 중심을 가지는 정삼각형의 정점에 위치하도록 3개 설치되어 있다. 그리고, 지지핀(3)은 재치판(2)의 승강이동에 수반하여, 재치판(2)에 마련된 관통구멍(21)을 삽통하는 것이다.

각 지지핀(3)의 하단에는 해당 지지핀(3)의 높이를 조절하기 위한 높이조절기구(5)가 설치되어 있다.

높이조절기구(5)는 지지핀(3)의 하단에 육각부(53)를 통하여 연속해서 마련된 수나사부(51)와, 스테이지 기대(100)에 마련된 암나사부(52)로 이루어진다. 암나사부(52)는 스테이지 기대(100)에 세워 설치된 부재에 마련되어 있다. 그리고, 상기 육각부(53)를 회전시켜, 수나사부(51)를 암나사부(52)에 나사 맞춤시키는 것에 의해, 지지핀(3)의 선단을 상하로 조절한다.

구체적으로는 높이조절기구(5)를 이용하여, 지지핀(3)의 높이가 통상측정위치(P1)로부터 휨 측정에 영향을 주지 않는 정도, 본 실시형태에서는 통상측정위치(P1)로부터 400㎛ 아래의 위치가 되도록 조절한다.

승강이동기구(4)는 스테이지 기대(100)에 설치되어 스테이지 기대(100)에 대한 상기 재치판(2)의 높이를 변화시키는 부재로서, 상기 재치판(2)을 통상측정위치(P1)와 퇴피위치(P2)와의 사이에 승강이동시키는 것이다.

구체적으로는, 승강이동기구(4)는 스테이지 기대(100) 위에 수평방향으로 설치된 제1 리니어 가이드(41)와, 제1 리니어 가이드(41) 위에 설치되어 수평방향으로 이동가능한 쐐기부재(42)와, 스테이지 기대(100)에 설치되어 쐐기부재(42)를 진퇴이동시키는 구동기구(43)와, 상기 쐐기부재(42)의 경사면에 경사방향에 따라서 설치된 제2 리니어 가이드(44)와, 상기 스테이지 기대(100) 위에 연직방향으로 설치된 제3 리니어 가이드(45)와, 상기 제2 리니어 가이드(44) 및 상기 제3 리니어 가이드(45) 위에 설치되어 연직방향으로 이동가능한 승강부재(46)를 구비하고, 쐐기부재(42) 또는 승강부재(46) 중 적어도 한쪽이 쐐기부재(42)의 제2 리니어 가이드(44)가 설치되는 설치면을 제2 리니어 가이드(44)의 쐐기부재(42)가 설치되는 설치면에 따른 각도로 조절하거나, 또는 승강부재(46)의 제2 리니어 가이드(44)가 설치되는 설치면을 제2 리니어 가이드(44)의 승강부재(46)가 설치되는 설치면에 따른 각도로 조절하는 각도조절기구(462)를 가지고 있다. 승강부재(46)의 상면에는 상기 재치판(2)이 설치되어 있다.

상기 제1, 제2, 제3 리니어 가이드(41, 44, 45)는 각각 긴 모양의 제1, 제2, 제3 궤도레일(411, 441, 451)과, 이 궤도레일(411, 441, 451)에 대해서 슬라이드가 자유롭게 걸쳐 놓아서 이루어지는 제1, 제2, 제3 슬라이더(412, 442, 452)로 구성되는 크로스 롤러 가이드이다.

쐐기부재(42)는 후술하는 구동기구(43)에 의해 받는 수평방향의 힘을 연직방향의 힘으로 변환하는 부재로서, 도 1에 나타내는 바와 같이, 제1 리니어 가이드(41)의 제1 슬라이더(412) 위에 설치되어 있다. 쐐기부재(42)는 그 상면에는 진행방향에 따라서(선단부로 향함에 따라서) 경사져 아래쪽으로 내려가는 경사면을 구비하고 있다. 또, 쐐기부재(42)의 후단부에는 쐐기부재(42)를 제1 리니어 가이드(41) 위에서 슬라이드 이동시키는 구동기구(43)가 설치되어 있다.

구동기구(43)는 스테이지 기대(100) 위에 설치되어 있고, 볼 나사 기구를 이 용한 것으로, 홀더에 의해서 스테이지 기대(100) 위에 고정된 구동부(431)와, 이 구동부(431)의 출력 축에 커플링을 통하여 회전이 자유롭게 연결된 볼 나사 축(432)과, 쐐기부재(42)에 설치되고, 상기 볼 나사축(432)이 나사 맞춤하는 볼 나사 너트(도시하지 않음)를 구비하고 있다. 구동부(431)로서는 스텝 모터 등의 모터 또는 수동용 손잡이를 이용한 것을 생각할 수 있다.

이와 같은 구조에 의해, 구동부(431)에 의해 출력축을 회전시키는 것에 의해, 커플링을 통하여 볼 나사축(432)이 소정 각도 회전하여, 쐐기부재(42)가 스테이지 기대(100)에 대해서 수평방향(X축방향)으로 상대이동한다.

제2 리니어 가이드(44)는 쐐기부재(42)의 경사면 위에 해당 경사면의 경사방향에 따라서 설치되어 있다.

승강부재(46)는 연직방향(Z축방향)으로 승강하는 것으로, 제3 리니어 가이드(45)에 고정되는 승강부재 본체(461)와, 이 승강부재 본체(461)에 설치되어 제3 리니어 가이드(45)에 설치했을 때의 승강부재(46)의 제2 리니어 가이드(44)가 설치되는 설치면이 쐐기부재(42)에 고정된 제2 리니어 가이드(44)의 승강부재(46)가 고정되는 고정면(설치면)과 면접촉하도록 그 각도를 조절하는 각도조절기구(462)를 가지고 있다.

승강부재 본체(461)는 상기 제3 리니어 가이드(45)의 제3 슬라이더(452)에 부착되어, 스테이지 기대(100)에 대해서 연직방향으로 상대이동하는 것이다.

각도조절기구(462)는 제2 리니어 가이드(44)에 고정되는 중간체(4621)와, 승강부재 본체(461) 및 중간체(4621)의 사이에 설치되고, 제2 리니어 가이드(44)를 통하여 쐐기부재(42)에 의해 규정되는 중간체(4621)의 자세와, 제3 리니어 가이드(45)에 의해 규정되는 승강부재 본체(461)의 자세를 유지하여 고정하는 고정부(4622)를 구비하고 있다.

이와 같이, 본 실시형태의 승강부재(46)는 승강부재 본체(461)와 중간체(4621)로 분리되어, 중간체(4621)가 제2 리니어 가이드(44)에 이동가능하게 고정되어 있다. 여기서, 승강부재(46)의 제2 리니어 가이드(44)가 설치되는 설치면과, 중간체(4621)의 제2 리니어 가이드(44)가 설치되는 설치면은 동일하다. 따라서, 승강부재(46)의 제2 리니어 가이드(44)가 설치되는 설치면의 각도를 조절한다고 하는 것은 중간체(4621)와 승강부재(46)와의 자세를 유지하여 고정하는 것을 의미한다.

즉, 상술한 바와 같이, 승강부재 본체(461)에 중간체(4621)를 고정하면, 승강부재(46)를 제3 리니어 가이드(45)에 설치했을 때의 제2 리니어 가이드(44)가 설치되는 설치면을 제2 리니어 가이드(44)의 이동 스테이지가 설치되는 고정면(설치면)에 따른 각도로 조절하게 된다.

중간체(4621)는 상기 제2 리니어 가이드(44) 위, 구체적으로는 제2 리니어 가이드(44)의 제2 슬라이더(442) 위에 설치되고, 상기 쐐기부재(42)의 경사면에 대해서 상대이동하는 것이다.

본 실시형태의 고정부(4622)는 중간체(4621) 또는 승강부재 본체(461)의 한쪽에 설치되고, 중간체(4621) 또는 승강부재 본체(461)의 다른 쪽에 선단부가 가압접촉하여 협지(狹持)하는 복수의 가압자(加壓子)로 구성된다.

가압자(4622)는 고정할 때 중간체(4621) 또는 승강부재 본체(461)의 다른 쪽 에 대해서 진퇴이동하여, 설계상의 치수공차나 조립공차 등을 흡수하는 것으로, 도 1에 나타내는 바와 같이, 승강부재 본체(461)에 설치되며, 상기 중간체(4621)의 상면, 하면, 일단면 및 타단면에 접촉하여, 중간체(4621)를 승강부재 본체(461)에 대하여 고정하는 것이다. 각 가압자(4622)는 금속제의 나사로서, 그 선단부가 중간체(4621)의 평면부에 가압접촉하는 것이다. 가압자(4622)의 선단부는 구면(球面) 가공이 실시되어 있다.

다음에, 본 실시형태에 관한 기판 측정용 스테이지(1)의 동작을 기판 측정 순서와 함께, 도 3을 참조하여 설명한다.

(l) 「막 두께 측정」→「휨 측정」의 순서

우선, 기판 측정용 스테이지(1) 전체를 수평이동기구에 의해서 XY방향으로 위치조절을 실시한다. 또, 구동기구(43)에 의해서, 기판 측정용 스테이지(1)의 재치판(2)의 Z방향의 위치조절을 실시한다. 그리고, 재치판(2) 위에 실어 놓인 기판(W) 위에 형성된 막 두께를 통상측정계(6)(에립소메터)에 의해서 측정한다. 막압(膜壓)의 측정을 실시하기 위해서 재치판(2)에 기판이 흡착하고 있는 동안은 XY방향으로 움직이지 않고 측정을 실시한다. 이때, 재치판(2)의 Z축방향의 위치는 통상측정위치(P1)에 있다.

막 두께 측정 종료 후, 재치판(2)이 통상측정위치(P1)에 있고, 기판(W)이 실어 놓여 있는 상태에 있어서, 구동기구(43)에 의해, 재치판(2)이 통상측정위치(P1)로부터 퇴피위치(P2)로 이동함에 따라서, 지지핀(3)가 재치판(2)의 관통구멍(21)을 지나, 재치판(2)의 상면으로부터 돌출하여 기판(W)을 지지한다. 이와 같이 하여, 재치판(2)으로부터 지지핀(3)으로 기판(W)이 옮겨 놓인다. 그 후, 휨 측정계(7)(레이저 변위계)에 의해서, 지지핀(3)의 기판(W)의 휨을 측정한다.

(2) 「휨 측정」→「막 두께 측정」의 순서

기판 측정용 스테이지(1) 전체를 XY방향으로 위치조절한다. 또한, 지지핀(3)은 미리 휨 측정위치(P3)로 조절되어 있기 때문에, 측정마다의 조절이 불필요하다. 그리고, 지지핀(3)에 지지된 기판(W)의 휨을 휨 측정계(7)(레이저 변위계)에 의해서 측정한다. 이 휨 측정에 있어서는 기판 측정용 스테이지(1)를 수평이동기구에 의해서 XY방향으로 움직이고, 기판(W)의 표면에 레이저 광을 주사하면서 측정을 실시한다. 이때, 측정계(7)에 의해서 측정한 기판의 XY방향의 위치는 수평이동기구의 모터에 설치된 로터리 엔코더나 리니어 엔코더로부터 취득하고, 그 지점에서 측정된 휨과 함께 기억된다. 그리고, XY방향으로 기판을 이동시켜 기판(W)의 전면(全面)의 측정을 실시한다.

또한, 휨의 측정은 XY방향의 위치를 이산(離散)적으로 설정하여 측정을 실시하여도 좋고, 연속적으로 주사하여 측정하는 것이어도 좋다.

휨 측정 종료 후, 재치판(2)이 퇴피위치(P2)에 있고, 지지핀(3)가 기판(W)을 지지하고 있는 상태에 있어서, 구동기구(43)에 의해서, 재치판(2)이 퇴피위치(P2)로부터 통상측정위치(P1)로 이동함에 따라서, 지지핀(3)가 재치판(2)의 관통구멍(21)을 지나, 재치판(2)의 상면으로부터 매몰하여, 재치판(2)이 기판(W)을 유지한다. 이와 같이 하여, 지지핀(3)으로부터 재치판(2)으로 기판(W)이 옮겨 놓인다. 그 후, 통상측정계(6)(에립소메터)에 의해서, 재치판(2) 위에 실어 놓인 기판(W)에 성막된 막 두께를 측정한다.

다음에, 본 실시형태에 관한 기판 측정용 스테이지(1)를 이용한 옮겨 놓음에 있어서의 기판(W)의 위치 재현성의 실험결과에 대해 설명한다.

종래의 기판 측정용 스테이지(1), 즉 지지핀(3)가 승강이동하여 재치판(2)으로부터 기판(W)을 들어 올리는 것은 재치판(2) 위에 있어서의 기판(W)의 수평방향의 위치와, 지지핀(3) 위에 있어서의 기판(W)의 수평방향의 위치가 100 ~ 200㎛정도 벗어나 버린다.

한편, 본 실시형태에 있어서의 기판 측정용 스테이지(1)를 이용하여, 재치판(2)을 통상측정위치(P1) 및 퇴피위치(P2)의 사이에서 승강이동시키는 것에 의해, 기판(W)을 재치판(2)으로부터 지지핀(3)으로 옮겨 놓는다고 하는 동작을 합계 10회 실시한 결과를 도 4에 나타낸다.

도 4로부터 분명한 바와 같이, 재치판(2)으로부터 지지핀(3)으로의 옮겨 놓음 전후의 기판(W)의 X축방향의 차이가 평균 1.88(㎛), Y축방향의 위치의 벗어남 평균 3.25(㎛)이며, XY(수평) 방향으로의 벗어남이 종래의 것과 비교해서 현격히 작게 되어 있는 것을 알 수 있다.

<본 실시형태의 효과>

이와 같이 구성한 본 실시형태에 관한 기판 측정용 스테이지(1)에 의하면, 각 지지핀(3)을 휨 측정위치(P3)에 고정하고 있으므로, 지지핀(3)의 위치 재현성을 향상시킬 수 있고 또, 재치판(2)으로부터 지지핀(3)으로의 옮겨 놓을 때에 기판(W)이 수평방향으로 벗어나는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 휨 측정의 측정결과와 막 두께 측정 등의 통상측정의 측정결과를 비교하는 경우에 유효하게 양자의 측정결과를 이용할 수 있다. 또한, 지지핀(3)의 상하이동기구를 불필요하게 할 수 있어 기판 측정용 스테이지(1)를 소형화할 수 있어 염가로 할 수 있다.

또, 재치판(2)의 승강이동기구(4)에 있어서, 쐐기부재(42)가 제1 리니어 가이드(41) 위를 수평방향으로 이동하는데 수반하여, 승강부재(46)가 제3 리니어 가이드(45) 위를 연직방향으로 이동할 수 있도록 승강부재(46) 또는 쐐기부재(42)의 제2 리니어 가이드(44)가 설치되는 설치면의 각도를 조절할 수 있으므로, 각 리니어 가이드나 각 부재 등의 가공정밀도 및 부착정밀도 등에 관계없이, 쐐기부재(42) 및 승강부재(46)가 리니어 가이드에 대해서 심하게 구속되지 않고, 고정밀도 및 고분해능을 실현할 수 있다. 이것에 의해, 고정된 지지핀(3)의 휨 측정위치(P3)를 재치판(2)의 통상측정위치(P1)로 가급적으로 접근할 수 있게 된다. 또, 본 발명의 효과를 한층 현저하게 할 수 있다.

또, 에어 베어링 등의 고가의 가이드를 이용할 필요도 없으므로, 구조를 간단하게 할 수 있음과 동시에, 염가로 할 수 있다. 또한, 크로스 롤러 가이드를 이용하고 있으므로, 고강성을 실현할 수도 있다.

또한, 지지부재(3) 각각을 독립하여 스테이지 기대(100)에 설치하고 있고, 또한 높이조절기구(5)를 설치하고 있다. 전술한 특허문헌 1에서는 모든 핀을 평행하게 상하이동시키는 것이 곤란하기 때문에, 개개의 핀의 높이를 조절하여도 의미가 없지만, 본 실시형태에서는, 지지부재(3)는 스테이지 기대(100)에 고정되고 있어 움직이지 않기 때문에, 지지부재(3)각각의 높이를 개별적으로 변경할 수 있어 휨 측정위치(P3)를 조절할 수 있다.

<그외 다른 변형 실시형태>

또한, 본 발명은 상기 실시형태에 한정되는 것은 아니다. 이하의 설명에 있어서 상기 실시형태에 대응하는 부재에는 동일한 부호를 부여한다.

예를 들면, 상기 실시형태의 승강이동기구(4)는 쐐기부재(42)를 이용한 것이었지만, 그 외의 기구를 이용한 것이어도 좋다.

상기 실시형태에서는, 통상측정계(6)는 기판(W) 위의 막 두께를 측정하는 것이었지만, 그 외의 기판(W)의 물리량 또는 화학량을 측정하는 것이어도 좋다. 예를 들면, 기판(W)의 조성, 성질, 구조, 상태 등을 정성적(定性的) 또는 정량적으로 측정하는 것이고, 기판 표면 위의 결함이나 이물을 분석하는 것이나, 기판 표면 또는 기판 표면에 성막된 막성분을 분석하는 것을 생각할 수 있다.

또, 지지부재(3)는 핀으로 한정되지 않고, 용도에 따라, 예를 들면 긴 형상 등의 여러 가지의 형상으로 할 수 있다. 또한, 상기 실시형태에서는 지지부재(3)는 3개이었으나, 4이상이어도 좋으며, 긴 형상을 이루는 것이면 2개로 하여도 좋다.

또, 상기의 재치판(2)에 관통구멍(21)을 마련하고, 지지부재(3)가 그 관통구멍(21)을 삽통하는 것이었지만, 그 외, 재치판(2)의 측면 가장자리부에 평면에서 볼 때에 있어서 중심으로 향하여 오목한 오목부를 형성하고, 지지부재(3)가 그 오목부를 삽통하는 것이어도 좋다. 또, 재치판(2)에 관통구멍(21) 및 오목부를 형성하지 않고, 지지부재(3)가 재치판의 주위에 고정되어 있는 것이어도 좋다.

또, 각도조절기구를 쐐기부재(42)에 설치하도록 하여도 좋다. 이 경우, 쐐기 부재(42)가 제1 리니어 가이드(41)에 고정되는 쐐기본체와, 쐐기본체에 설치되고, 제2 리니어 가이드(44)가 설치되는 설치면을 승강부재(46)에 고정된 제2 리니어 가이드(44)에 따른 각도로 조절하는 각도조절기구를 구비하고 있다.

즉, 쐐기부재(42) 또는 승강부재(46)의 적어도 한쪽이 상기 쐐기부재(42)의 상기 제2 리니어 가이드(44)가 설치되는 설치면을 상기 제2 리니어 가이드의 상기 쐐기부재(42)가 설치되는 설치면에 따른 각도로 조절하고, 또는 상기 승강부재(46)의 상기 제2 리니어 가이드(44)가 설치되는 설치면을 상기 제2 리니어 가이드(44)의 상기 승강부재(46)가 설치되는 설치면에 따른 각도로 조절하는 각도조절기구를 가지고 있으면 좋다.

상기 실시형태에서는, 휨 측정시에는 기판(W)은 지지핀(3)의 선단에 실어 놓여 있을뿐이었지만, 이와 같은 것의 경우, 수평이동기구에 의해서 기판 측정용 스테이지(1)를 고속으로 이동시키면, 관성에 의해서 기판(W)이 지지핀(3)에서 지지되고 있던 위치로부터 벗어나 버려, 측정위치가 바뀌어 버리는 일이 있다. 그 때문에, 이동하는 속도에 제한을 가해야 하므로, 휨 측정을 단시간에 실시할 수 없게 되어 버린다.

이와 같은 문제를 해결하는 데는 지지핀(3)가 휨 측정시에 있어서, 기판(W)이 수평방향으로 벗어나는 것을 방지하는 벗어남 방지부(32)를 구비하고 있으면 좋다. 구체적으로는, 도 5에 나타내는 바와 같이 지지핀(3)의 선단에 개구한 관통구멍(32)을 형성하고, 그 관통구멍(32)으로부터 기판(W)을 흡착하여 기판(W)을 유지하도록 구성한다. 또, 지지핀(3)의 지지단의 마찰계수를 크게 하는 것에 의해, 기 판(W)이 수평이동기구의 가속도에 의해서 생기는 관성으로 벗어나지 않도록 해도 상관없다.

상기 실시형태에서는, 도 3에 나타내는 바와 같이, 기판(W)은 그 반경보다 작은 반경의 동심원상으로 설치하고 있는 3개의 지지핀(3)에 의해서 지지되어 있지만, 이 경우, 기판(W)의 칩으로 되는 부분에 지지핀(3)가 접촉하는 것에 의해, 상처나 오염이 생길 우려가 있다. 이와 같은 문제를 해결하는 데는 칩으로서 사용되지 않고 폐기되게 되는 기판(W)의 외주부를 지지핀(3)가 지지하도록 구성하면 좋다.

기판(W)을 외주부에 있어서 지지핀(3)가 지지하기 위해서, 기판(W)과 같은 반경을 가지는 동심원상에 있어서 3개의 지지핀(3)가 개략 정삼각형의 정점을 이루도록 배치하고 있다. 기판(W)을 지지하는 지지단으로부터, 도 6에 나타내는 바와 같이, 기판(W)의 측면과 합치하도록 지지단으로부터 개략 반원통형상의 돌출부(31)가 위쪽으로 향하여 형성하고 있다. 이와 같이 해 두면, 기판(W)의 중심을 3개의 지지핀(3)에 의해서 형성되는 정삼각형의 중심에 맞출 수 있으므로, 기판(W)을 측정에 적절한 위치에 배치하기 쉬워진다.

도 7에 나타내는 바와 같이 돌출부(31)의 기판(W)의 측면과 접촉하는 면이 테이퍼를 이루는 것이어도 상관없다. 이와 같은 것이면, 휨 측정위치(P3)보다 위쪽에서는 기판(W)보다 지지핀(3)가 수평면에 있어서 형성하는 원의 편이 크게 되므로 지지핀(3)에 기판(W)을 실어 놓기 쉬워져 테이퍼에 따라서 기판(W)이 끼워 들어 가므로, 기판(W)의 중심이 3개의 지지핀(3)에 의해서 규정되는 중심위치에 맞추는 것 이 용이하게 된다. 또, 3개의 지지핀(3)에 기판(W)의 외주부가 걸리게 되므로, 기판 측정용 스테이지(1)를 고속으로 움직여도 벗어나기 어려워진다고 하는 효과도 있다.

상기 실시형태에서는 스테이지 위에는 3개의 지지핀(3)을 이용하고 있었지만, 보다 복수의 지지핀(3)을 이용하여도 상관없다. 어떤 반경을 가지는 원주 위에 3개의 지지핀(3)가 개략 정삼각형 위에 배치되어 제1 지지부재군(A1)을 구성하고, 그 반경보다 작은 동심원의 원주 위에 3개의 지지핀(3)가 개략 정삼각형 위에 배치되어 제2 지지부재군(A2)를 구성하도록 하여도 상관없다. 여기서, 도 7에 나타내는 바와 같이, 제1 지지부재군(A1)의 지지단인 선단의 높이는 휨 측정위치(P3)로 하고 있고, 제2 지지부재군(A2)의 지지단인 선단의 높이는 휨 측정위치(P3)와 퇴피위치(P2)와의 사이에 있는 휨 측정위치(P4)로 하고 있다. 또한, 도 8에 있어서는 간단하기 때문에 중앙의 지지핀(3)의 도시를 생략하고 있다.

이와 같은 것이면, 재치판(2)의 중심에 기판(W)을 실어 놓이도록 해 두면, 재치판(2)을 아래쪽으로 이동시켰을 때에 기판(W)의 중심을 지지핀(3)가 배치하고 있는 동심원의 중심에 배치할 수 있고, 순서 바꿈 등을 실시하지 않고, 용이하게 복수 종류의 크기의 기판(W)을 휨 측정할 수 있다. 또, 휨 측정위치(P4)를 휨 측정위치(P3)보다 아래쪽으로 하고 있으므로, 기판(W)이 제1지지부재군(A1)에서 지지되어 있을 때에는 제2 지지부재군(A2)은 기판(W)에 접촉하지 않는다. 따라서, 지지부재군(A2)이 휨 측정위치(P3)에서의 휨 측정에 영향을 주거나 휨 측정위치(P3)에 있는 기판(W)에 접촉하여 콘타미네이션을 일으키게 하거나 하는 것을 막을 수 있다.

휨 측정시에 3개의 지지핀(3)가 주변 외기의 온도변화에 의해서 열변형을 일으키면, 1개의 지지핀(3)만이 늘어나는 등 실어 놓여 있는 기판(W)이 기울어 버리는 일이 있다. 이 상태에서 측정을 실시하면, 지지핀(3)의 열변형에 의해서 생긴 기판(W)의 기울기와 함께 기판(W)의 휨을 측정해 버리기 때문에, 휨의 측정 정밀도가 나빠져 버린다.

이와 같은 문제를 해결하는 데는 지지핀(3)의 주위에 온도변화가 생긴 주변 외기가 유입하지 않도록 열변형 저감기구로서 차단벽을 설치해 두면 좋다. 또, 승강이동기구(4)를 둘러싸도록 차단벽을 설치해도 좋다.

지지핀(3)에 히터를 설치하여, 주변 외기보다 높은 온도로 일정하게 유지하도록 해도 상관없다. 이 경우, 히터를 온오프 제어하는 것에 의해 용이하게 일정한 온도로 유지할 수 있고, 지지핀(3)의 열변형에 의해서, 기판(W)이 기우는 것을 방지할 수 있다.

열변형에 의한 측정 오차를 작게 하기 위해서, 지지핀(3)가 저열팽창율의 재료로 구성되어 있어도 상관없다. 보다 구체적으로는, 기판 측정용 스테이지(1)를 사용할 때의 온도에 있어서, 기판(W)을 지지핀(3) 위에 소정의 위치 결정 정밀도로 위치 결정 가능한 저열팽창율의 재료를 지지핀(3)에 이용하면 좋다. 구체적인 재료로서는, 슈퍼 인바(super invar)나 저열팽창율의 유리재료 등을 들 수 있다.

상기 실시형태에서는 XY방향으로 이동하는 수평이동기구에 의해서, 기판(W)의 휨 측정을 전체면에서 실시하도록 하고 있었지만, 수평이동기구 대신에 회전 스테이지를 이용하여, 측정계가 1축방향으로 움직일 수 있도록 구성하고, Rθ방향의 측정을 실시하도록 해도 상관없다.

그 외, 전술한 실시형태나 변형 실시형태의 일부 또는 전부를 적당 조합해도 좋고, 본 발명은 상기 실시형태에 한정되지 않으며, 그 취지를 일탈하지 않는 범위에서 여러 가지의 변형이 가능하다는 것은 말할 필요도 없다.

도 1은 본 실시형태에 관한 기판 측정용 스테이지의 모식적 구성도.

도 2는 동일한 실시형태에 있어서의 재치판의 평면도.

도 3은 동일한 실시형태에 있어서의 기판 측정용 스테이지의 동작을 나타내는 도.

도 4는 동일한 실시형태에 있어서의 기판 측정용 스테이지의 위치 재현성의 실험결과를 나타내는 도.

도 5는 다른 실시형태에 있어서의 지지부재의 선단의 형상을 나타내는 도.

도 6은 또 다른 실시형태에 있어서의 지지부재의 선단의 형상을 나타내는 도.

도 7은 다른 실시형태에 있어서의 지지부재의 선단의 형상을 나타내는 도.

도 8은 또 다른 실시형태에 있어서의 지지부재의 배치를 나타내는 도.

<부호의 설명>

W … 기판

1 … 기판 측정용 스테이지

2 … 재치판

21 … 관통구멍

3 … 지지부재(지지핀)

31 … 돌출부

32 … 벗어남 방지부

4 … 승강이동기구

5 … 높이조절기구

6 … 통상측정계

7 … 휨 측정계

P1 … 통상측정위치

P2 … 퇴피위치

P3 … 휨 측정위치

Claims

기판의 휨을 측정하는 휨 측정계 및 해당 기판의 휨 이외의 물리량 및/또는 화학량을 측정하는 통상측정계에 이용되는 기판 측정용 스테이지로서,

상기 통상측정계의 통상측정위치 및 그 통상측정위치로부터 아래쪽으로 이간한 퇴피위치의 사이를 이동가능한 재치판(載置板)과,

상기 기판을 지지하는 지지단을 가지고, 그 지지단이 상기 재치판의 이동에 관계없이, 선단이 상기 휨 측정계의 휨 측정위치에 고정된 지지부재와,

상기 재치판을 상기 통상측정위치 및 상기 퇴피위치의 사이에서 승강이동시키는 승강이동기구를 구비하고,

상기 휨 측정위치가 상기 통상측정위치 및 퇴피위치의 사이에서 설정되어 있는 기판 측정용 스테이지.
청구항 1에 있어서,

상기 휨 측정위치와 상기 통상측정위치와의 차이가 실질적으로 휨 측정에 영향을 주지 않는 범위인 기판 측정용 스테이지.
청구항 1에 있어서,

상기 지지부재마다, 해당 지지부재의 높이를 조절하는 높이조절기구를 구비하고 있는 기판 측정용 스테이지.
청구항 1에 있어서,

상기 재치판이 상기 기판을 흡착하여 유지하는 척(chuck)판인 기판 측정용 스테이지.
청구항 1에 있어서,

상기 지지부재가 휨 측정시에 있어서, 상기 기판이 벗어나는 것을 방지하는 벗어남 방지부를 구비한 것인 기판 측정용 스테이지.
청구항 5에 있어서,

상기 벗어남 방지부가 상기 기판을 흡착하여 유지하는 것인 기판 측정용 스테이지.
청구항 1에 있어서,

복수의 지지부재에 의해서 지지하는 기판의 크기가 다른 지지부재군(群)이 구성되고,

지지하는 기판이 작은 지지부재군은 지지하는 기판이 큰 지지부재군의 안쪽에 배치되며, 지지하는 기판이 작은 지지부재군의 휨 측정위치는 지지하는 기판이 큰 지지부재군의 휨 측정위치의 아래쪽에 설정되어 있는 기판 측정 스테이지.
청구항 1에 있어서,

상기 통상측정계가 상기 기판 위의 막 두께를 측정하기 위한 에립소메터(ellipsometer)인 기판 측정용 스테이지.
청구항 1에 기재한 기판 측정용 스테이지를 이용한 기판측정장치.