KR20090025234A - 반사 광학 시스템, 트래킹 시스템 및 홀로그래픽 투영 시스템 및 방법 - Google Patents

반사 광학 시스템, 트래킹 시스템 및 홀로그래픽 투영 시스템 및 방법 Download PDF

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아르민 슈베르트너
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Abstract

본 발명은 재구성 광파의 반사를 위한 반사 소자(14, 15), 상기 반사 소자(14, 15)로 입사하는 재구성 광파를 내보내는 입사 초점(28), 및 상기 반사 소자(14, 15)에 의해 반사된 재구성 광파가 향하는 반사 초점(26)을 포함하는 반사 광학 시스템(10, 11)에 관한 것이다. 본 발명은 또한 트래킹 시스템 및 상기 타입의 반사 광학 시스템을 포함하는 홀로그래픽 투영 시스템 및 상응하는 홀로그래픽 투영 방법에 관한 것이다. 본 발명의 목적은 수차 보정, 가시 거리의 트래킹 및 더 큰 재구성을 가능하게 하는 상기 타입의 반사 광학 시스템(10, 11)을 제공하는 것이다. 상기 목적을 위해, 본 발명에 따른 반사 광학 시스템(10, 11)은 광학적으로 제어되는 편향 특성을 가진 편향 소자(12, 13), 및 상기 반사 광학 시스템(10, 11)의 적어도 반사 초점(26)의 위치를 제어하기 위해 상기 편향 소자(12, 13)의 편향 특성을 광학적으로 제어하는 편향 제어 수단(42, 43)을 포함한다.
반사 소자, 입사 초점, 반사 초점, 편향 소자, 편향 제어 수단.

Description

반사 광학 시스템, 트래킹 시스템 및 홀로그래픽 투영 시스템 및 방법{REFLECTIVE OPTICAL SYSTEM, TRACKING SYSTEM AND HOLOGRAPHIC PROJECTION SYSTEM AND METHOD}
본 발명은 재구성 광파의 반사를 위한 반사 소자, 상기 반사 소자로 입사하는 재구성 광파를 내보내는 입사 초점, 및 상기 반사 소자에 의해 반사된 재구성 광파가 향하는 반사 초점을 포함하는 반사 광학 시스템에 관한 것이다. 본 발명은 또한 트래킹 시스템 및 상기 타입의 반사 광학 시스템을 구비한 홀로그래픽 투영 시스템 및 상응하는 홀로그래픽 투영 방법에 관한 것이다.
홀로그래픽 투영 장치는 공간 광 변조 수단으로 코히어런트 광을 변조시킨다. 공간 내에서 광 변조기의 표면의 전방에, 상에 그리고 후방에 광의 간섭에 의해 물체 광점이 생기며, 상기 물체 광점은 하나의 장면(scene)의 광학적 현상을 재구성한다. 모든 물체 광점의 광 전체는 파면(wave front)으로서 전파되므로, 하나 또는 다수의 관찰자는 이 물체 광점들을 3차원 장면의 형태로 인지한다. 즉, 스테레오스코픽 표시와는 달리, 홀로그래픽 재구성은 물체 치환을 실현하고, 스테레오스코피에 공지된 문제점, 예컨대 피로 또는 눈과 머리 아픔이 생기지 않는데, 그 이유는 원칙적으로 홀로그래픽으로 재구성된 장면과 자연의 장면의 관찰에 있어서 차이가 없기 때문이다.
본 출원인의 예전 특허 출원 DE 10 2005 023 743에는 홀로그래픽 투영 시스템이 공지되어 있다. 이 투영 시스템에서는, SLM에 의해 제공된 홀로그램의 푸리에 변환으로부터 사용될 회절 차수의 공간 필터로서 동공(pupil)이 공간 광 변조기(SLM)의 푸리에 평면에 있다. 상기 동공은 편향 소자 또는 적응성 거울에 의해 관찰자 평면에서 가시 거리에 이미지화되고, 이것에 의해 관찰자는 실제로 존재하는 물체 또는 장면의 확대된 홀로그래픽 재구성을 관찰할 수 있다. 달리 표현하면, 가시 거리는 관찰자 평면, 즉 관찰자의 눈 위치에 있는 평면에서 홀로그램의 예컨대 푸리에 변환(프레넬 변환도 가능)의 사용된 회절 차수의 이미지화이다. 적응성 거울의 크기는 재구성의 크기를 결정한다. 예컨대 약 20" 대각선의 적응성 거울의 크기가 바람직하다.
또한, 가시 거리가 커질수록, 사용된 SLM의 분해능도 높아져야 한다는 것에 주의해야 한다. 왜냐하면, 큰 가시 거리를 얻기 위해, SLM은 큰 회절 각을 형성하는 작은 픽셀 애퍼처를 가져야 한다. 즉, 픽셀 피치가 작아야 하고 따라서 픽셀 수가 커야 한다.
SLM의 필요한 분해능을 줄이기 위해, 가시 거리의 크기는 예컨대 눈의 동공 크기로 감소될 수 있다. 따라서, 관찰자가 움직이면, 관찰자를 따라 가시 거리를 트래킹할 필요가 있다. 적응성 거울은 동공을 가시 거리에 이미지화해야 한다.
선행 기술에는 소위 적응성 MEMS(Micro Electro Mechanical Systems) 거울이 공지되어 있다. 이 거울은 마이크로 거울 어레이로 이루어지며, 마이크로 거울은 틸팅 및 스트로크 운동을 실시할 수 있다. 따라서, 조절 범위 내에서 임의로 휘어진 면이 주어질 수 있다. 그러나, 이러한 마이크로 거울 어레이는 지금까지 최대 약 1" 대각선까지의 크기로만 존재한다. 홀로그래픽 투영 시스템에 필요한, 예컨대 20" 대각선의 크기를 가진 적응성 거울은 MEMS 기술로 제조하기 어렵고, 많은 수의 가동 거울을 포함할 것이다.
제어 가능한 회절 광학 소자(DOE)로서 전자적으로 어드레싱 가능한 공간 광 변조기(EASLM)는 큰 면 및 필요한 큰 회절 각으로 인해 매우 많은 수의 작은 픽셀을 갖기 때문에 기술적으로 구현될 수 없다. 예컨대 5 ㎛의 픽셀 피치의 경우, 20" 대각선을 가진 SLM은 5*109 픽셀을 가질 것이다. 이것은 최근 구매 가능한 EASLM 보다 약 3 차수 더 크다.
본 발명의 목적은 선행 기술에서보다 큰 재구성을 가능하게 하고 수차 보정 및 가시 거리의 트래킹을 가능하게 하는 반사 광학 시스템을 홀로그래픽 투영 시스템 내에 제공하는 것이다.
상기 목적은 광학적으로 제어 가능한 편향 특성을 가진 편향 소자, 및 반사 광학 시스템의 적어도 반사 초점의 위치를 제어하기 위해 편향 소자의 편향 특성을 광학적으로 제어하는 편향 제어 수단에 의해 달성된다.
또한, 상기 목적은 청구항 20에 따른 트래킹 시스템, 청구항 22에 따른 홀로그래픽 투영 시스템, 및 청구항 23에 따른 홀로그래픽 투영 방법에 의해 달성된다.
본 발명은 반사 광학 시스템이 타원 형태를 가짐으로써, 즉 반사 면이 타원 원주의 일부에 걸쳐 고정됨으로써(도 2 참고), 가시 거리에 파면의 이미지화 시에 수차가 방지될 수 있다는 사실을 기초로 한다. 타원은 2개의 초점(F1, F2)(여기서는 입사 초점 및 반사 초점이라 함)을 가지며, 상기 초점들은, F1로부터 나와 타원에서 반사된 모든 빔들이 F2를 통과하며 F2로부터 나와 타원에서 반사된 모든 빔들이 F1을 통과한다는 특성을 갖는다. 따라서, 반사 광학 시스템의 애퍼처가 큰 경우에도 F2 상에 F1의 거의 수차 없는 이미지화가 얻어진다. 동공이 F1에 있으면, 동공은 F2에 있는 가시 거리에 이미지화된다. 동공 및 가시 거리의 길이가 타원의 1/2 축보다 작으면, 이러한 이미지화는 거의 수차를 갖지 않는다. 동공 및 가시 거리가 관찰자와 반사 광학 시스템 사이의 거리 보다 작기 때문에, 이들은 점 형태로 보일 수 있다. 동공, 가시 거리 및 반사 광학 시스템 또는 F1, F2 및 반사 광학 시스템의 위치로부터 타원의 1/2 축의 길이 및 방향이 결정된다. 따라서, 동공 및 가시 거리의 고정 배치시, 가시 거리에 동공의 거의 수차 없는 이미지화가 가능하다. 그러나, 관찰자의 이동시, 타원의 1/2 축의 길이 및 방향이 변해야 한다. 이는 고정 거울로는 불가능하다.
따라서, 본 발명은 또한 반사 광학 시스템이 휘어진 베이스 거울과 더불어 광학적으로 어드레싱 가능한 공간 광 변조기(OASLM)를 포함한다는 사실을 기초로 한다. OASLM은 전형적으로 LC(액정) 층을 포함하고, 상기 LC 층에서는 LC 분자의 배향, 그에 따라 광 변조가 광학적으로 제어된다. 상기 OASLM 상에 제어 가능한 회절 구조가 형성됨으로써, 베이스 거울에서의 반사 및 제어 가능한 회절 구조에서의 광 회절은 공통으로 소정 표면 형태에 상응한다. OASLM의 굴절률 변동은 위상 및/또는 진폭 변조를 야기할 수 있다. 위상 변조는 바람직하게는 더 높은 회절 효율에 의해 이루어진다.
고정 타원 거울에 비한 중요한 장점은 이러한 적응성 거울은 제어 가능하다는 것이다. 관찰자의 이동시, OASLM 상에 기록된 구조는, 동공이 초점(F1)에 유지되고 초점(F2)을 가진 가시 거리가 관찰자의 눈 위치에 유지되도록, 변한다. 가시 거리의 위치는 초점(F2)에 의해 결정되고, 반사된 광의 방향으로 볼 때 초점(F2)의 전방 또는 후방에 연장될 수 있다. 가시 거리의 측방 크기는 예컨대 눈의 동공 크기로 감소될 수 있다.
베이스 거울은 OASLM의 작용을 지원한다. 휘어진 베이스 거울 및 회절 구조를 가진 OASLM은 차례로 접속되어 굴절력이 가산되는 2개의 렌즈와 같이 작용한다. 베이스 거울이 가시 거리의 표준 위치에 있어서 가시 거리에 동공의 이미지화를 발생시키도록 휘어지면, OASLM은 제어 가능한 보정 렌즈의 기능을 한다. 이러한 보정 렌즈는 한편으로는 관찰자를 따라 가시 거리를 트래킹하는 것을 가능하게 한다. 다른 한편으로는 이것은 가시 거리에 동공의 수차 없는 이미지화를 위해, 휨 거울의 이미지화의 보정을 가능하게 한다.
이러한 광학적으로 제어 가능한 굴절률 변동은 예컨대 OASLM 상에 제어 가능한 회절 구조를 발생시키기 위해 사용될 수 있다. 상기 회절 구조는, 예컨대 동공으로부터 나온 광이 OASLM에서 회절되고 가시 거리가 소정 위치를 갖도록, 설계된다.
EASLM에 비한 OASLM의 장점은 OASLM이 픽셀 구조를 갖지 않는다는 것이다. 이로 인해, 따로따로 스캔되지 않은, 연속하는 회절 구조가 OASLM 상에 표시될 수 있다. 따라서, 회절 패턴의 주기적 반복이 방지될 수 있다. 그러나, 이는 OASLM 상에 기록된 구조가 픽셀 구조를 갖지 않는 경우에만 가능하다. 예컨대 EASLM이 OASLM의 기록을 위해 사용되고 OASLM이 EASLM 픽셀들 간의 사이 영역을 차지하면, OASLM 상에서 구조의 주기적 스캐닝, 그에 따라 회절 패턴의 주기적 반복이 주어진다. 따라서, 이러한 주기적 반복을 피하기 위해, OASLM 상에 기록된 구조가 따로따로가 아니라 연속적으로 스캔되는 것이 바람직하다. 이는 예컨대 OASLM 상에 EASLM의 이미지화의 제한된 분해능에 의해 또는 OASLM 자체의 제한된 분해능에 의해 지원된다.
본 발명은 또한 선행 기술에서보다 큰 재구성을 가능하게 한다는 장점을 갖는데, 그 이유는 필요한 크기의 투영 디스플레이가 구현될 수 있기 때문이다. 또한, 본 발명에서는 반사 광학 시스템의 다이내믹 복잡성이 고정 소자 없는 순수한 다이내믹 반사 광학 시스템에 비해 감소함으로써 유연성이 증가하는데, 그 이유는 소정 굴절률 변동을 발생시키기 위한 굴절 복잡성이 선행 기술에 비해 감소하기 때문이다. 결국, 시스템의 복잡성도 감소한다.
본 발명의 실시예에서, 편향 제어 수단은 수차를 보정하기 위해 및/또는 입사 초점의 위치를 제어하기 위해 편향 소자의 편향 특성을 광학적으로 제어하기 위해 제공되는 것이 바람직하다. 이로 인해, 가시 거리가 더 큰 범위에서 편향 소자에 대한 낮은 제어 및 굴절 복잡성으로 트래킹될 수 있고, 빔 경로에서 가능한 수차가 보상될 수 있다.
또한, 적어도 반사 소자는 타원으로 휘어진 반사 면의 작용을 갖는 것이 바람직하다. 달리 표현하면, 반사 면은 타원 원주의 일부에 걸쳐 고정된다. 이는 전술한 바와 같이 입사 초점으로부터 입사하는 광이 반사 광학 시스템에서 거의 수차 없이 반사 초점으로 반사되는 장점을 갖는다. 타원 휘어짐은 특별한 경우에 원형일 수 있고, 다른 특별한 경우에 무한 곡률 반경까지 모든 형태를 가질 수 있다. 곡률 반경의 선택에 의해, 초점 위치의 예비 조절이 이루어질 수 있다. 예컨대, 트래킹 시스템에서 기본 배치시 관찰자의 눈 위치와 반사 광학 시스템의 반사 소자 방향으로 광파의 공간 필터링을 위한 동공의 위치가 큰 간격을 가지면, 타원으로 휘어진 반사 면이 상응하게 큰 곡률 반경을 가질 수 있다. 휘어짐은 반드시 기계적으로 형성될 필요는 없다. 광학 소자에 의해 실질적으로 타원으로 휘어진 반사 면의 효과만을 형성하는 것도 가능하다. 반사 광학 시스템의 전체 작용은 휘어진 반사 소자의 편향 특성과 편향 소자의 제어 가능한 편향 특성의 조합으로부터 얻어진다.
다른 바람직한 실시예에서, 반사 소자는 적어도 부분적으로 투명하게 형성된다. 이는 한편으로는 반사 소자가 부분 면에서만 또는 전체적으로 투명한 것을 포함한다. 다른 한편으로 이는 반사 소자가 예컨대 한 방향으로만 또는 특정 광 - 특정 파장, 편광 등- 에 대해 투명한 것을 포함한다. 이러한 가능성들 중 다수를 조합하는 것도 가능하다.
바람직하게는 반사 소자가 편향 소자 내에 통합된다. 이로 인해, 반사 광학 시스템의 공간적 크기가 감소한다. 또한, 이는 조립 공정에서의 조정을 용이하게 하는데, 그 이유는 제조 후에 편향 소자에 대한 반사 소자의 정렬이 이루어질 필요가 없기 때문이다.
또한, 편향 소자는 바람직하게 광학적으로 제어 가능한 회절 및/또는 굴절 구조를 갖는다. 이로 인해, 소정 파면을 얻기 위해, 편향 소자의 회절 및 굴절 특성이 변동될 수 있다. 이 경우, 편향 소자가 광학적으로 어드레싱 가능한 공간 광 변조기로서 형성되면 바람직하다. 상기 광 변조기는 바람직한 실시예에서 투명한 전극 구비한 제 1 유리 층, 광학적 제어에 의해 그 배향이 변할 수 있는 LC 분자를 포함하는 LC 층, 광 감지 반도체 층 및 제 2 유리 층을 포함한다. 다른 실시예에서, 광 감지 반도체 층은 적어도 부분적으로 투명하다. 반사 소자에 대해서 이미 설명한 바와 같이, 반사 소자가 반도체 층 또는 그 부분에 제공되거나 또는 특정 방향으로, 특정 파장의 광에 대해, 편광에 대해 투명성을 가질 수 있다. 또한, 반도체 층이 재구성 광파에 의해서가 아니라 편향 제어 수단에 의해 조절 가능한 스트립 구조를 갖는 것도 바람직하다. 이러한 실시예는 반도체 층이 재구성 광파에 의해 영향을 받는 것을 피하기 위한 여러 가지 가능성을 제공한다. 재구성 광파에 대해 투명한 반도체 층의 실시예는 예컨대 반사 소자가 반사 광학 시스템의 초점 방향으로부터 볼 때 반도체 층의 후방에 놓여서, 재구성 광파가 HL 층에 흡수되지 않는 경우에 필요하다.
바람직한 실시예에서, 입사 초점으로부터 반사 소자로 입사하여 이 반사 소자에서 반사되는, 재구성 광파는 반사 초점 전방에서 하나의 장면을 홀로그래픽으로 재구성한다.
또한, 편향 제어 수단은 편향 소자의 편향 특성을 제어하기 위해 입사 초점 및 반사 초점으로부터 먼 방향으로부터 형성된다. 편향 제어 수단은 또한 편향 소자에 기록 광을 이미지화하기 위한 전자적으로 어드레싱 가능한 공간 광 변조기로서 형성되거나 또는 편향 소자를 스캔하기 위한 강도 제어 가능한 스캔 레이저 빔으로서 형성될 수 있다. 다른 실시예에서, 편향 제어 수단은 2개의 서로 간섭하는 코히어런트 광원을 포함하고, 상기 광원들은 각각 입사 초점 및 반사 초점에 배치되고 그 간섭 패턴은 편향 소자의 편향 특성을 제어하기에 적합하다.
또한, 반사 광학 시스템은 추가로 2색 층을 포함할 수 있거나 또는 반사 소자가 2색 특성을 가질 수 있으며, 재구성 광파 및 편향 제어 수단에 의해 제공된 기록 광은 상이한 파장을 갖는다. 또한, 반사 광학 시스템이 반사 편광 필터를 포함할 수 있거나 또는 반사 소자가 편광 필터의 특성을 가질 수 있으며, 재구성 광파와 편향 제어 수단에 의해 제공된 기록 광은 상이한 편광 상태를 갖는다. 이러한 실시예에 의해, 반도체 층과 가시 거리의 바람직하지 않은 상호 영향을 피하기 위해, 기록 광 또는 재구성 광파가 필터링될 수 있다.
바람직하게 편향 제어 수단은 편향 소자의 편향 특성을 제어하기 위해 사람의 눈에 비가시되는 파장 범위의 기록 광을 제공한다. 이는 가시 거리로부터 기록 광의 필터링을 불필요하게 한다.
본 발명에 따른 트래킹 시스템은 바람직하게 동공의 위치 또는 반사 광학 시스템의 입사 초점 상의 동공의 동일한 이미지를 제어하기 위한 위치 제어 수단을 포함한다. 동공의 위치를 가상으로만 -예컨대 거울 등을 사용해서- 변경시키는 것도 가능하다. 동공의 위치 또는 이미지를 변경시킴으로써, 반사 초점을 트래킹하기 위한 굴절 복잡성 및 반사 광학 시스템의 다이내믹 특성에 대한 요구가 감소할 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 홀로그래픽 투영 방법은 반사 광학 시스템의 입사 초점에서 동공의 위치 설정을 포함한다.
이하, 본 발명의 실시예를 첨부한 도면을 참고로 상세히 설명한다.
도 1a, 1b는 본 발명의 제 1 실시예 및 제 2 실시예에 따른 반사 광학 시스템의 편향 소자 및 반사 소자의 구성을 나타낸 평면도.
도 2는 기하학적 관계를 도시한 제 2 실시예에 따른 반사 광학 시스템의 편향 소자 및 반사 소자를 나타낸 평면도.
도 3a 및 도 3b는 상이하게 배치된 편향 제어 수단을 포함하는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 반사 광학 시스템을 구비한 트래킹 시스템을 나타낸 평면도.
도 4a 내지 도 4d는 상이한 눈의 위치를 가진 본 발명의 제 2 실시예에 따른 반사 광학 시스템을 구비한 트래킹 시스템을 나타낸 개략도.
본 발명에 따른 반사 광학 시스템(10, 11)은 편향 소자(12, 13) 및 반사 소자(14, 15)를 포함한다. 반사 소자(14, 15)에 입사하는 광파는 상기 반사 소자에 의해 반사되고 편향 소자(12, 13)에 의해 그 경로가 조절된다. 이러한 조절은 수차의 보정 및 광파의 방향 변경을 포함한다.
도 1a는 편향 소자(12)로서 회절 구조 및 반사 소자(14)로서 고정 베이스 거울을 포함하는 광학적으로 어드레싱 가능한 공간 광 변조기(OASLM)를 구비한 본 발명의 제 1 실시예에 따른 반사 광학 시스템(10)의 편향 소자(12) 및 반사 소자(14)의 구성을 나타낸 평면도이다. 베이스 거울(14)은 예컨대 반사 표면을 가진 금속 거울일 수 있다.
초점 방향으로 볼 때 베이스 거울(14) 전방에 배치된 OASLM(12)은 투명한 전극을 구비한 제 1 유리 층(16), OASLM(12)의 회절 구조를 형성하는, LC 분자를 포함하는 LC-층(18), 투명한 광 감지 반도체 층(20) 및 기판으로서 제 2 유리 층(22)을 포함한다. 상기 제 1 실시예에서는, 광 감지 반도체 층(20)이 투명하기 때문에, 재구성 광파가 그 후방에 놓인 반사 소자(14)에 도달할 수 있다. 그러나, 기본적으로 재구성 광파가 반도체 층에 흡수되지 않아야 하고 반대로 반도체 층이 재구성 광파에 의해 영향을 받지 않아야 한다는 것에 주의해야 한다. 또한, 편향 제어 수단에 의해 제공된 기록 광은 가시 거리에서 관찰자에게 가시되지 않아야 한다.
도 1b는 반사 소자(15)가 반사 층의 형태로 통합된 편향 소자(13)로서 회절 구조를 포함하는 광학적으로 어드레싱 가능한 공간 광 변조기(OASLM)를 구비한 본 발명의 제 2 실시예에 따른 반사 광학 시스템(11)의 편향 소자(13) 및 반사 소자(15)의 구성을 나타낸 평면도이다.
제 2 실시예의 OASLM(13)은 투명한 전극을 구비한 유리 층(17), OASLM(13)의 회절 구조를 형성하는, LC 분자를 포함하는 LC 층(19), 광 감지 반도체 층(21) 및 기판으로서 유리 층(23)을 포함한다. 제 2 실시예에서 반사 소자(15)는 LC 층(19)과 반도체 층(21) 사이에 통합된다.
도 2를 참고로, 도 1b의 구성(도 1a에 따른 구성 또는 다른 대안의 대표로서)을 기초로 하는 본 발명에 따른 반사 광학 시스템에서 기하학적 관계를 설명한다.
반사 소자(15)는 2개의 초점 -입사 초점(28) 및 반사 초점(26)- 을 가진 타원으로 휘어진 반사면을 갖는다. 반사 광학 시스템(11)은 또한 광축(32)을 갖는다. 상기 광축(32)은 반사 광학 시스템(11) 또는 반사 소자(15) 상에 센터링되며 상기 반사 광학 시스템 또는 반사 소자에 대해 수직으로 배치된다. 입사 초점(28)과 반사 초점(26)의 연결선의 중심과 반사 소자(15)의 반사면 사이의 거리는 상기 반사 광학 시스템(11)이 갖는 형태 또는 작용을 나타내는 타원의 짧은 1/2 축(34)이다. 입사 초점(28) 및 반사 초점(26)으로부터 상기 짧은 1/2 축(34)까지의 거리(36)는 타원의 편심률을 나타낸다.
편향 소자의 광학적으로 제어 가능한 편향 특성의 제어는 편향 제어 수단(42, 43)(도 3a, 3b)에 의해 이루어진다. 광 감지 반도체 층(20, 21)과 투명한 전극을 구비한 제 1 유리 층(16, 17) 사이에 전계가 인가된다. 광 감지 반도체 층(20, 21)의 한 장소가 편향 제어 수단에 의해 제공된 기록 광으로 조명되면, 전계가 국부적으로 변한다. 따라서, LC 층(18, 19)에서 LC 분자의 배향, 그에 따라 국부적 굴절률이 변한다. OASLM(12, 13)의 굴절률 변동은 위상 및/또는 진폭 변조를 야기할 수 있다. 위상 변조는 바람직하게는 더 높은 회절 효율에 의해 이루어 진다.
기본적으로 이러한 변동은 단안정 또는 쌍안정할 수 있다. 단안정성의 경우, 반도체 층이 조명되는 경우에만 굴절률 변동이 주어진다. 쌍안정성의 경우, 굴절률 변동은 조명의 종료 후에도 반도체 층에 인가된 전압이 OASLM을 초기 상태로 리셋할 때까지 유지된다.
제 1 또는 제 2 실시예에 따른 반사 광학 시스템(10, 11)은 반사 초점의 위치를 트래킹하기 위한 및/또는 시스템에서 발생하는 수차를 보정하기 위한 트래킹 시스템에 또는 상응하는 홀로그래픽 투영 시스템에 사용될 수 있다.
도 3a는 재구성 광파를 반사 광학 시스템(11)으로 전송하기 위한, 공간 광 변조기(SLM)로서 형성된 홀로그래픽 재구성 수단(38), 및 편향 제어 수단(42)을 포함하는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 반사 광학 시스템(11)을 구비한 트래킹 시스템을 도시한다. 도 3b는 반사 광학 시스템(11)에 대한 편향 제어 수단(43)의 대안적 배치를 도시한다. 도 3a 및 도 3b는 하나의 푸리에 평면에서 재구성 수단(38)의 굴절 차수로 반사 광학 시스템(11)의 입사 초점(28)에 배치된 동공(30), 및 가시 거리(24) 내의 반사 초점(26)을 도시한다.
도 3a에 도시된 트래킹 시스템에서는, 여기에서 스캔 레이저 빔 형태의 기록 광을 제공하는 편향 제어 수단(42)이 반사 광학 시스템(11)의 초점(26, 28)과 동일한 반사 광학 시스템(11) 측면 상에 배치된다. 이 실시예에서는, OASLM(13)의 반도체 층(21)에 포커싱되어 이것을 스캔하는 스캔 레이저 빔의 사용으로 인해, LC 층(19)의 굴절률 변동이 쌍안정하게 이루어진다. 운동과 동기로, 레이저 빔의 강 도가 변조되기 때문에, 반도체 층(21)은 필요한 강도 분포로 노출된다. 이 방법은 쌍안정 OASLM의 사용해서만 가능하기 때문에, 전체적으로 회절 구조가 주어진다. 가시 거리(24)에 편향 제어 수단(42)에 의해 제공된 기록 광이 관찰자에 의해 인지되지 않도록 하기 위해, 사람의 눈에 비가시되는 파장 범위의 기록 광이 사용된다.
도 3a에 따른 트래킹 시스템에서, 변조된 광파는 재구성 수단(38)으로부터 나와 반사 광학 시스템(11)의 입사 초점(28)에 배치된 동공(30)을 통해 반사 광학 시스템(11)의 방향으로 전송된다. 동공(30)이 재구성 수단(38)의 굴절 차수로 위치 설정되기 때문에, 동공(30)은 이 굴절 차수의 광만을 투과시킨다. 동공(30)으로부터 나온 광은 홀로그래픽으로 3차원 장면을 재구성한다. 반사 광학 시스템(11)은 입사 초점(28) 또는 동공(30)으로부터 입사하는 광을 반사 초점(26) 또는 가시 거리(24)로 반사시킨다. 상기 반사 초점(26) 또는 가시 거리(24)는 눈 위치 검출 수단(도시되지 않음)에 의해 검출된 관찰자 눈 위치로 위치 설정된다. 이로 인해, 관찰자는 홀로그래픽으로 재구성된 장면을 관찰할 수 있다.
반사 광학 시스템(11)이 타원형 거울로서 작용하고, 타원의 입사 초점(28)이 동공(30)의 중심에 놓이며, 타원의 반사 초점(26)이 눈의 위치에 놓이면, 거의 수차 없는 이미지화가 가능하다. 반사 광학 시스템(11)의 OASLM(13)에 대한 다이내믹 요구를 가능한 적게 하기 위해, 전형적인 관찰자 위치에 있어서 동공(30)과 가시 거리(24)가 광축(32)과의 동일한 거리를 갖도록, 반사 소자(15)가 형성되고 재구성 수단(38)이 배치된다. 초기 위치라고도 할 수 있는 이 위치에서, 반사 광학 시스템(11)은 이상적인 타원 형태와 반사 소자(15)와의 편차를 보정하거나 또는 다 른 영향에 기인한 수차를 보정한다.
관찰자의 눈 위치를 따라 가시 거리를 트래킹하기 위해, 반사 광학 시스템(11)의 OASLM(13)에서 편향 제어 수단(42)에 의해, 반사 소자(15)와 LC 층(19)의 공통 작용이 가시 거리(24)의 트래킹을 위해 필요한 타원 휘어짐에 상응하는 회절 구조가 기록된다. 상기 필요한 타원 휘어짐은, 동공(30)의 중심이 타원의 입사 초점(28)에 놓이며 가시 거리(24)가 관찰자의 눈 위치에 놓인다는 조건으로부터 주어진다.
도 4a 내지 4d는 상이한 눈의 위치를 가진 본 발명의 제 2 실시예에 따른 반사 광학 시스템(11)을 구비한 트래킹 시스템을 도시한다. 편의상, 트래킹 방법을 설명하기 위해 중요한 소자만이 도시된다. 그러나, 기본 구성은 도 3a에 도시된 구성에 상응하고, 도 1a에 따른 반사 광학 시스템(10)의 구성을 대표한다.
도 4a는 입사 초점(28), 반사 초점(26) 및 반사 광학 시스템(11)으로 도 3a에 도시된 상황을 간단히 도시한다. 동공(30)의 중심에 있는 입사 초점(28) 및 반사 초점(26)은 초기 위치 -즉, 편향 소자에 의해 영향을 받지 않는 위치- 에 있고, 반사 광학 시스템(11)의 광축(32)에 대해 동일한 거리(36)를 갖는다. 전술한 바와 같이, 이 배치에서 반사 광학 시스템(11)은 이상적인 타원 형태와 반사 소자(15)와의 편차를 보정하거나 수차를 보정한다.
도 4b는 점선 화살표로 표시된 바와 같이, 관찰자가 광축(32)에 대해 수직으로 움직인 상황을 간단히 도시한다. 관찰자의 눈 위치는 입사 초점(28)에 중심을 갖는 동공(30)보다 광축(32)으로부터 더 멀리 떨어진다. 짧은 1/2 축(34')은 광 축(32)에 대해 평행하다. 반사 광학 시스템(11)은 상기 운동을 보상해야 하고 반사 초점(26')을 관찰자의 눈 위치에 맞춰야 한다. 즉, OASLM(13)은 편향 제어 수단에 의해, 가시 거리(24)의 중심에 있는 반사 초점(26')이 다시 관찰자의 이동된 눈 위치에 놓이도록, 제어되어야 한다. 이는, LC 층에서의 LC 분자의 배향이 전술한 바와 같이 변경됨으로써 이루어진다. 기본적으로 광의 편향 각은 LC 분자의 배향 또는 LC 층의 굴절률에 의존한다. 반사 광학 시스템(11)의 전체 작용은 짧은 1/2 축(34')과 편심률(36')을 가진 변경된 타원 휘어짐에 상응해야 한다. 이 경우, 짧은 1/2 축(34')이 광축(32) 상에 놓이지 않기 때문에, 반사 소자(15)의 기존 휘어짐을 부분적으로 저지하거나 트래킹 범위를 제한하기 위해, OASLM(13)의 더 높은 분해능이 필요하다.
도 4c는 관찰자가 광축(32)에 대해 수직으로 움직이는 상황을 도시한다. 그러나, 이 경우에는 관찰자의 눈 위치로 다시 위치 설정되는 반사 초점(26")과 더불어, 입사 초점(28")도 점선 화살표로 도시된 바와 같이, 광축(32)에 대해 동일한 거리만큼 이동되기 때문에, 짧은 1/2 축(34")이 광축(32) 상에 놓인다. 추가로, 위치 제어 수단(도시되지 않음)에 의해, 동공(30)의 중심이 이동된 입사 초점(28")에 위치 설정된다. 이 경우, 동공(30)이 반드시 실제로 물리적으로 이동되어야 하는 것이 아니라, 이동 효과만이 얻어지면 된다. 예컨대, 위치 제어 수단은 회전 거울과 고정 타원 거울과의 조합일 수 있다. 반사 광학 시스템(11)의 전체 작용은 짧은 1/2 축(34") 및 편심률(36")을 가진 변경된 타원 휘어짐에 상응해야 한다. 입사 초점(28")과 반사 초점(26")을 광축(32)에 대해 대칭 배치하면, 도 3b에 도시 된 비대칭 배치에서보다 낮은 OASLM(13)의 분해능이 필요한데, 그 이유는 반사 소자(15)의 기존 타원 휘어짐이 커지거나 또는 작아지기만 하면 되기 때문이다.
도 4d는 관찰자가 반사 광학 시스템(10)에 대해 수직 방향으로 이동하고 동공(30)이 고정된 상황을 도시한다. 따라서, OASLM(13)은 입사 초점(28")의 위치가 동공(30)의 중심에 유지되지만, 반사 초점(26")의 위치는 새로운 관찰자 위치에 맞춰지도록, 즉 반사 초점(26")이 관찰자의 눈 위치에 위치 설정되도록, 제어된다. 이 경우 타원 반사면의 가상 연장선 상에 수직선으로서 주어지는 짧은 1/2 축(34")은 더 이상 광축(32)에 대해 평행하지 않다. 관찰자의 눈 위치에 따라 반사 초점(26")을 트래킹하기 위해 OASLM(13) 상에 필요한 회절 구조는 여기서는 편심률(36"), 짧은 1/2 축(34")의 길이 및 광축(32)에 대한 짧은 1/2 축의 각(40)으로부터 주어진다. 관찰자와 반사 광학 시스템(11) 사이의 거리가 동공(30)과 반사 광학 시스템(11) 사이의 거리보다 작은, 이러한 배치는 또한 관찰자용 장면 확대의 광학 효과를 갖는다.
제 2 실시예에 따른 반사 광학 시스템을 구비한 트래킹 시스템 및 방법은 이미 설명되었다. 그 대신에 제 1 실시예에 따른 반사 광학 시스템 또는 대안 실시예가 사용될 수 있다. 이하에, 본 발명의 다른 실시 가능성이 제시되기 때문에 이 실시예로의 제한은 이루어지지 않는다. 당업자는 상이한 실시예들이 서로 조합될 수 있다는 것을 명확히 알 수 있다.
실시예에서 설명한 바와 같이, OASLM 상의 회절 구조에 의한 회절 광 변조와 유사하게, 예컨대 대안 실시예에서 편향 소자가 굴절 구조를 갖거나 또는 회절 및 굴절 구조의 조합을 가짐으로써, OASLM에서 굴절률 변동에 의한 굴절 광 변조도 가능하다.
도시된 실시예에서 반사 소자는 2개의 초점을 가진 타원형으로 휘어진 반사면을 갖지만, 반사 소자는 일종의 프레넬 렌즈의 세그먼트 형태로도 형성될 수 있고, 각각 다수의 초점들이 하나의 초점으로 보일 정도로 함께 모여서 놓인다.
실시예에 도시된 바와 같이 반사 소자의 기계적 휘어짐 대신에, 예컨대 플랫 홀로그래픽 광학 소자(HOE), 고정 회절 광학 소자(DOE) 또는 굴절률 변동에 의해 휘어진 반사 소자의 작용만이 발생될 수도 있다. 반사 소자의 기계적 휘어짐과 HOE, DOE 또는 굴절률 변동과의 조합도 가능하다.
대안적 실시예에서, 반사 소자가 반도체 층과 기판 사이에 또는 초점의 방향으로부터 볼 때 기판 후방에 통합되는 것도 가능하다. 그러나, 모든 실시예에서와 같이, 재구성 광파가 반도체 층에 흡수되지 않아야 하고, 반도체 층이 편향 제어 수단의 기록 광에 의해서만 영향을 받아야 하고, 기록 광이 가시 거리에서 관찰자에 의해 인지되지 않아야 한다는 것에 주의해야 한다. 이것을 달성하기 위해, 반사 소자는 예컨대 상이한 관점에서, 예컨대 부분 영역에서만, 한 방향으로만, 특정 파장에 대해서만 또는 특정 편광에 대해서만 또는 이들의 조합에 대해서만 적어도 부분적으로 투명하게 형성될 수 있다. 또한, 반사 소자가 2개의 방향으로 반사 작용을 하거나 또는 적어도 부분적으로 반사 작용을 하는 것이 가능하다. 대안으로서, 하나 또는 다수의 추가 층 또는 소자가 이러한 기능을 할 수 있다. 반도체 층이 반사 광학 시스템의 초점으로부터 먼 방향으로부터 기록되는 것도 가능하다. 즉, 편향 제어 수단(43)이 초점으로부터 먼, 반사 광학 시스템의 측면 상에 배치되는(도 3b) 것도 가능하다. 각각의 실시예에 따라, 상응하는 특성을 가진, 예컨대 상이한 편광 상태 또는 상이한 파장을 가진 재구성 광파 및 기록 광이 형성되어야 한다. 기록 광의 특정 입사 각의 선택에 의해, 기록 광이 가시 거리에서 관찰자에 의해 인지되는 것이 방지될 수도 있다.
또한, 반도체 층이 재구성 광파에 의해서가 아니라 기록 광에 의해서만 영향을 받을 수 있는 스트립 구조를 가질 수 있다. 즉, 재구성 광파 및 기록 광이 상이한 에너지 레벨을 가지며, 기록 광의 에너지 레벨만이 반도체 층에 영향을 줄 수 있다.
단일 스캔 레이저 빔의 사용에 대한 대안으로서, 각각 OASLM의 부분 영역만을 기록하는 다수의 스캔 레이저 빔이 사용될 수 있다. 단 하나의 스캔 레이저 빔만이 기록에 사용되면, 이것이 높은 요구를 충족시켜야 하는데, 그 이유는 이 스캔 레이저 빔이 작은 초점 및 큰 스캔 영역을 가져야 하기 때문이다.
또한, 편향 제어 수단은 편향 소자 상에 회절 구조를 기록하기 위해 전자적으로 어드레싱 가능한 공간 광 변조기(EASLM)로서 형성될 수 있다.
또한, 대안으로서, 예컨대 유리 섬유 케이블 또는 빔 스플리터를 통해 서로 연결되며, 서로 코히어런트하며, 입사 초점 및 반사 초점에 배치된 2개의 광원의 간섭에 의해 발생하는 간섭 패턴을 가진 노출에 의해 OASLM이 제어될 수 있다. 반도체 층 상의 상기 간섭 패턴은 OASLM에서 굴절률을 변동시킨다. 이 방법은 광 감지 필름의 홀로그래픽 노출과 유사하게 작용한다. OASLM에서 노출된 홀로그램은 입사 초점에서의 광원으로 후속하는 판독시 반사 초점에서의 광원을 재구성한다.
동공의 (경우에 따라 가상의) 위치 변경에 대한 대안으로서 또는 추가로, 관찰자의 눈 위치에 반사 초점의 위치 설정 및 동공에 입사 초점의 위치 설정을 위해, 반사 광학 시스템 또는 그 부분의 운동, 예컨대 틸팅 또는 회전이 이루어질 수 있다. 상기 운동도 예컨대 다른 제어 가능한 반사 소자에 의해 가상으로만 이루어질 수 있다.
관찰자가 반사 광학 시스템을 향해 수직으로 또는 그것으로부터 멀어지게 이동하는 경우에도 입사 초점의 위치는, 짧은 1/2 축이 반사 광학 시스템의 광축에 놓이고 동공의 위치가 적어도 가상으로 광학 보조 수단에 의해 입사 초점의 위치에 맞춰지도록, 제어될 수 있다. 또한, 홀로그래픽으로 재구성되는 장면을 관찰자에게 확대시키거나 또는 축소시키기 위해, 입사 초점의 위치가 반사 광학 시스템에 대해 수직으로 제어될 수 있다.
다른 실시예에서, 재구성 수단은 예컨대 광학 소자들로 이루어진 시스템을 포함할 수 있다.
또한, 하나 또는 다수의 관찰자의 눈에 대한 가시 거리를 순차적으로 발생시키기 위해, 상응하는 회절 구조를 순차적으로 OASLM에 기록하는 것이 가능하다. 컬러 홀로그래픽 재구성의 표시를 위해 부분 재구성이 기본 색으로 순차로 발생하고 각각의 파장에 상응하는 회절 구조가 순차로 OASLM에 기록된다.
본 발명에 의해, 한편으로는 시스템에 발생하는 수차의 보정을 가능하게 하고, 다른 한편으로는 홀로그래픽으로 재구성된 장면의 관찰자(들)이 특정 범위에서 움직이는 것을 가능하게 하는, 반사 광학 시스템이 제공되고, 이 경우 상기 관찰자(들)을 따라 눈 위치에 대한 가시 거리가 트래킹된다. 또한, 본 발명에 의해, 홀로그래픽 장면이 선행 기술에서보다 더 크게 재구성될 수 있고, 시스템의 광학 소자에 대한 요구가 감소한다.
본 발명에 따른 해결책은 다양한 산업상 이용 분야를 갖는다. 이 분야들은 개인적 분야 및 산업적 분야, 예컨대 레저 산업, 자동차 산업, 의료 산업 등에 장면의 3차원 표시를 위해 사용될 수 있다.

Claims (24)

  1. 재구성 광파의 반사를 위한 반사 소자(14, 15),
    상기 반사 소자(14, 15)로 입사하는 재구성 광파를 내보내는 입사 초점(28),
    상기 반사 소자(14, 15)에 의해 반사된 재구성 광파가 향하는 반사 초점(26),
    광학적으로 제어 가능한 편향 특성을 가진 편향 소자(12, 13), 및
    적어도 상기 반사 초점(26)의 위치를 제어하기 위해 상기 편향 소자(12, 13)의 편향 특성을 광학적으로 제어하는 편향 제어 수단을 포함하는, 반사 광학 시스템.
  2. 제 1항에 있어서, 상기 편향 제어 수단은 상기 입사 초점(28)의 위치를 제어하기 위해 상기 편향 소자(12, 13)의 편향 특성을 광학적으로 제어하도록 제공되는 것인, 반사 광학 시스템.
  3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 편향 제어 수단은 수차의 보정을 위해 상기 편향 소자(12, 13)의 편향 특성을 광학적으로 제어하도록 제공되는 것인, 반사 광학 시스템.
  4. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 적어도 상기 반사 소자(14, 15)는 타원으로 휘어진 반사 면의 작용을 갖는 것인, 반사 광학 시스템.
  5. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 반사 소자(14, 15)는 적어도 부분적으로 투명하게 형성되는 것인, 반사 광학 시스템.
  6. 제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 반사 소자(15)는 상기 편향 소자(13) 내에 통합되는 것인, 반사 광학 시스템.
  7. 제 1항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 편향 소자(12, 13)는 광학적으로 제어 가능한 회절 및/또는 굴절 구조를 갖는 것인, 반사 광학 시스템.
  8. 제 1항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 편향 소자(12, 13)는 광학적으로 어드레싱 가능한, 공간 광 변조기로서 형성되는 것인, 반사 광학 시스템.
  9. 제 8항에 있어서, 상기 광학적으로 어드레싱 가능한 공간 광 변조기(12, 13)는
    투명한 전극을 구비한 제 1 유리 층(16, 17),
    광학적 제어에 의해 배향이 변할 수 있는 LC(액정) 분자를 포함하는 LC 층(18, 19),
    광 감지 반도체 층(20, 21) 및
    제 2 유리 층(22, 23)을 포함하는 것인, 반사 광학 시스템.
  10. 제 9항에 있어서, 상기 광 감지 반도체 층(20)은 적어도 부분적으로 투명한 것인, 반사 광학 시스템.
  11. 제 9항 또는 제 10항에 있어서, 상기 반도체 층(20, 21)은 상기 편향 제어 수단에 의해 조절 가능한 스트립 구조를 갖는 것인, 반사 광학 시스템.
  12. 제 1항 내지 제 11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 입사 초점(28)으로부터 상기 반사 소자(14, 15)로 입사되어 상기 반사 소자에 의해 반사되는 상기 재구성 광파는 상기 반사 초점(26) 전방에 하나의 장면을 홀로그래픽으로 재구성하는 것인, 반사 광학 시스템.
  13. 제 1항 내지 제 12항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 편향 제어 수단은 상기 편향 소자(12, 13)의 편향 특성을 제어하기 위해 상기 입사 초점(28)과 상기 반사 초점(26)으로부터 먼 방향으로 배치되는 것인, 반사 광학 시스템.
  14. 제 1항 내지 제 12항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 편향 제어 수단은 2개의 서로 간섭하는 코히어런트 광원을 포함하고, 상기 광원들은 각각 상기 입사 초점(28) 및 상기 반사 초점(26)에 배치되며 그 간섭 패턴은 상기 편향 소자(12, 13) 의 편향 특성을 제어하기에 적합한 것인, 반사 광학 시스템.
  15. 제 1항 내지 제 13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 편향 제어 수단은 상기 편향 소자(12, 13)에 기록 광을 이미지화하기 위한 전자적으로 어드레싱 가능한 공간 광 변조기로서 형성되는 것인, 반사 광학 시스템.
  16. 제 1항 내지 제 13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 편향 제어 수단은 상기 편향 소자(12, 13)의 스캔을 위한 강도 제어 가능한 스캔 레이저 빔으로서 형성되는 것인, 반사 광학 시스템.
  17. 제 1항 내지 제 16항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 반사 광학 시스템(10, 11)은 2색 층을 포함하고 및/또는 상기 반사 소자(14, 15)는 2색 특성을 가지며, 재구성 광파와 상기 편향 제어 수단에 의해 제공된 기록 광은 상이한 파장을 갖는 것인, 반사 광학 시스템.
  18. 제 1항 내지 제 17항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 반사 광학 시스템(10, 11)은 반사 편광 필터를 포함하고 및/또는 상기 반사 소자(14, 15)는 편광 필터의 특성을 가지며, 재구성 광파와 상기 편향 수단에 의해 제공된 기록 광은 상이한 편광 상태를 갖는 것인, 반사 광학 시스템.
  19. 제 1항 내지 제 18항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 편향 제어 수단은 상기 편향 소자(12, 13)의 편향 특성을 제어하기 위해 사람의 눈에 비가시되는 파장 범위의 기록 광을 제공하는 것인, 반사 광학 시스템.
  20. 반사 광학 시스템(10, 11)의 반사 소자(14, 15)의 방향으로 재구성 광파를 필터링하기 위한 동공(30), 및
    관찰자 눈 위치를 검출하기 위한 눈 위치 검출 수단을 포함하고,
    편향 제어 수단은 상기 눈 위치 검출 수단에 의해 검출된 관찰자 눈의 위치로 반사 초점(26)의 위치를 제어하기 위해 편향 소자(12, 13)의 편향 특성을 제어하는
    제 1항 내지 제 19항 중 어느 한 항에 따른 반사 광학 시스템(10, 11)을 구비한 것인, 트래킹 시스템.
  21. 제 20항에 있어서, 상기 동공(30)의 위치 또는 상기 반사 광학 시스템(10, 11)의 상기 입사 초점(28) 상의 상기 동공(30)의 동일한 이미지를 제어하기 위한 위치 제어 수단을 포함하는, 트래킹 시스템.
  22. 재구성 광파를 발생시키기 위한 재구성 광원 수단, 및
    상기 재구성 광원 수단에 의해 발생한 재구성 광파를 변조하기 위한 그리고 공간 광 변조기(38)의 푸리에 평면에 배치된 동공(30)의 방향으로 변조된 재구성 광파을 전송하기 위한 하나 이상의 공간 광 변조기(38)를 포함하는
    제 20항 또는 제 21항에 따른 트래킹 시스템을 구비한 홀로그래픽 장면의 투영을 위한 홀로그래픽 투영 시스템.
  23. 변조된 재구성 광파의 발생 단계,
    동공(30)에 의해 반사 광학 시스템(10, 11)의 방향으로 변조된 재구성 광파의 필터링 단계,
    상기 반사 광학 시스템(10, 11)에서 상기 필터링된, 변조된 재구성 광파의 반사 및 상기 반사 광 시스템(10, 11)의 반사 초점(26) 전방에 하나의 장면의 홀로그래픽 재구성의 발생 단계,
    관찰자 눈 위치의 검출 단계 및
    눈 위치 검출 수단에 의해 검출된 관찰자 눈 위치로 상기 반사 광학 시스템(10, 11)의 반사 초점(26)을 제어하기 위해 상기 반사 광학 시스템(10, 11)의 편향 소자(12, 13)의 편향 특성의 제어 단계
    를 포함하는 홀로그래픽으로 재구성된 장면의 투영을 위한 홀로그래픽 투영 방법.
  24. 제 23항에 있어서, 상기 반사 광학 시스템(10, 11)의 입사 초점(28)에 상기 동공(30)의 위치 설정을 포함하는, 홀로그래픽 투영 방법.
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