KR20090017920A - 중공사막 모듈의 세정 장치 및 그 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 중공사막 모듈의 회복 세정시 소요되는 화학 약품의 소모를 최소화하고, 수 처리 탱크에서의 수 처리 작업을 전면적으로 중단하지 않으면서도 중공사막 모듈의 회복 세정 속도를 극대화할 수 있는 중공사막 모듈의 세정 장치 및 그 방법에 관한 것으로서, 본 발명의 세정 장치는, 수 처리 탱크로부터 반출되는 중공사막 모듈을 플러싱(flushing)하기 위한 제1 플러싱조(flushing bath); 및 플러싱이 완료되어 상기 제1 플러싱조로부터 반출되는 상기 중공사막 모듈을 제1 화학용액으로 세정하기 위한 제1 화학 세정조(chemical cleaning bath)를 포함한다.
중공사막, 회복세정, 세정조
Description
본 발명은 중공사막 모듈의 세정 장치 및 그 방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는, 중공사막 모듈의 회복 세정시 소요되는 화학 약품의 소모를 최소화하고, 수 처리 탱크에서의 수 처리 작업을 전면적으로 중단하지 않으면서도 중공사막 모듈의 회복 세정 속도를 극대화할 수 있는 중공사막 모듈의 세정 장치 및 그 방법에 관한 것이다.
가열이나 상변화를 이용하는 분리 방법에 비하여 분리막을 이용한 분리 방법은 많은 장점이 있다. 그 중 하나는 분리막의 세공 크기에 따라 원하는 수질을 안정적으로 얻을 수 있으므로 공정의 신뢰도를 높일 수 있다는 점이다. 또한, 분리막을 이용하면 가열 등의 조작이 필요 없기 때문에, 가열 등에 의해 영향을 받을 수 있는 미생물 등을 사용하는 분리 공정에 널리 이용될 수 있다는 장점이 있다.
분리막을 이용한 분리 방법 중 하나로는 중공사 형태의 막을 다발로 하여 형성한 중공사막 모듈을 이용하는 방법이 있다. 전통적으로 중공사막 모듈은 무균수, 음용수, 초순수 제조 등 정밀 여과 분야에 널리 사용되어 왔으나, 최근에는 하/폐 수 처리, 정화조에서의 고액 분리, 산업폐수에서의 부유 물질(SS: Suspended Solid) 제거, 하천수의 여과, 공업용수의 여과, 및 수영장 물의 여과 등으로 그 응용 범위가 확대되고 있다.
이러한 중공사막 모듈의 하나로는, 처리하고자 하는 유체의 수조에 중공사막 모듈을 직접 침지시키고 중공사막 내부에 음압(negative pressure)을 가하여 유체만을 선택적으로 중공사 내부로 투과시킴으로써 불순물 또는 슬러지 등의 고형 성분을 분리하는 침지형 중공사막 모듈이 있다. 이러한 침지형 중공사막 모듈은 여러개의 모듈이 프레임에 결합된 카세트(cassette) 단위로 주로 이용된다. 침지형 중공사막 모듈은 모듈의 제조 원가를 낮출 수 있고, 유체의 순환을 위한 설비가 필요 없어 시설비나 운전비의 절감을 가져올 수 있는 장점이 있다.
침지형 중공사막 모듈을 이용하여 고형 성분을 비롯한 막 오염 물질이 존재하는 하/폐수를 처리할 경우, 막 오염 물질에 의한 막 오염 현상이 야기되기 때문에 수 처리가 진행됨에 따라 막의 투과 성능이 크게 떨어지는 문제점이 발생한다. 다양한 형태의 막 오염 물질은 서로 다른 방식으로 막 오염을 유발하기 때문에 오염된 막을 세정하는 방법 역시 다양한 방식이 요구된다.
오염된 막의 세정은 그 세정 목적에 따라 유지 세정(maintenance cleaning)과 회복 세정(recovery cleaning)으로 분류될 수 있다.
유지 세정은 수 처리 탱크에서 중공사막 모듈에 의한 수 처리가 진행되는 동안 또는 수 처리를 중지한 상태에서 잠시 동안 행하여 지는 세정으로서 막의 투과 성능을 양호한 상태로 유지하는데 주요 목적이 있다. 이러한 유지 세정은 주로 물 리적 세정에 의해 수행된다. 물리적 세정은 백워싱(backwashing)과 산기(aeration) 방식으로 분류될 수 있다. 백워싱 방식은 수 처리를 잠시 중지한 상태에서 공기 또는 물을 막을 통해 역류시킴으로써 막 표면에 붙어 있는 이물질을 제거하는 세정 방식이다. 반면, 산기 방식은, 막 아래에서 거품을 발생시켜 거품이 솟아오르도록 함으로써 거품 자체에 의해 막 표면에 붙어 있는 이물질을 제거할 뿐만 아니라 수 처리 탱크에 담겨 있는 물의 상승 또는 순환을 야기시킴으로써 이물질을 제거한다.
한편, 회복 세정은 수 처리 탱크 내에서 장시간 수 처리를 진행함에 따라 막 오염이 누적되어 중공사막 모듈의 막 투과 성능이 심각하게 저하된 경우에 비교적 장시간 행하여 지는 세정으로서 막의 투과 성능을 회복하는데 주요 목적이 있다.
통상적으로, 회복 세정은 HCl, HNO3 또는 구연산(citric acid) 등의 산성 용액 및/또는 NaOH 또는 NaOCl 등의 염기성 용액을 이용한 화학적 세정에 의해 수행된다. 이와 같은 회복 세정의 전형적 예를 구체적으로 살펴보면 다음과 같다.
먼저, 수 처리 탱크에 침지된 복수 개의 카세트, 보다 구체적으로는 복수 개의 중공사막 모듈에 가해지던 음압이 차단됨으로써 수 처리 가동이 전면적으로 중단된다. 이어서 수 처리 탱크에 채워져 있던 원수가 전액 배출되고 중공사막 모듈에 대한 플러싱(flushing)이 약 30분간 수행된다. 플러싱이 완료되면 수 처리 탱크에 염기 및 산이 순차적으로 공급됨으로써 중공사막 모듈에 대한 화학적 세정이 수행된다. 염기 및 산에 의한 화학적 세정 각각은 약 6 시간 동안 수행된다. 이때, 산에 의한 화학적 세정을 시작하기 전에 염기성 용액 전부가 수 처리 탱크로부터 배출되어야 하는데, 환경 문제로 인해 배출되는 염기성 용액이 반드시 중화되어야 한다. 따라서, 염기성 용액의 배출시 염기성 용액을 중화시키기 위한 양의 중화용 산성 용액이 요구된다. 마찬가지로, 산에 의한 화학적 세정이 완료되면 세정에 사용된 산성 용액이 수 처리 탱크로부터 배출되어야 하는데 이를 중화시키기 위한 양의 중화용 염기성 용액이 요구되었다.
위와 같은 방식으로 화학적 세정이 끝나고 산성 용액이 수 처리 탱크로부터 완전히 배출되면 중공사막 모듈들에 대한 플러싱이 약 30분간 수행됨으로써 회복 세정이 완료된다.
이와 같은 방식의 회복 세정은 수 처리 탱크 내에 존재하는 모든 카세트의 중공사막 모듈에 대하여 일괄적으로 세정이 수행되기 때문에 전체 카세트에 대한 세정 시간을 상대적으로 단축시킬 수는 있으나, 회복 세정이 수행되는 동안에는 해당 수 처리 탱크에서의 수 처리 작업이 전면적으로 중단되어야 한다는 심각한 문제점이 있다.
더욱이, 염기 및 산에 의한 화학적 세정이 완료된 후 이들을 각각 중화시키기 위한 고가의 화학품이 추가적으로 더 요구된다는 점에서 고비용을 야기한다는 문제점이 있다.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 수 처리 탱크에서의 수 처리 작업을 중단하지 않으면서도 수 처리 탱크 내에 침지된 모든 카세트들의 중공사막 모듈들에 대한 회복 세정 속도를 극대화할 수 있는 중공사막 모듈의 회복 세정 장치 및 그 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은, 중공사막 모듈의 회복 세정시 소요되는 화학 약품의 소모를 최소화할 수 있는 중공사막 모듈의 회복 세정 장치 및 그 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은, 세정의 효과를 최대화할 수 있는 중공사막 모듈의 회복 세정 장치 및 그 방법을 제공하는 것이다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 측면으로서, 본 발명의 중공사막 모듈의 회복 세정 장치는, 수 처리 탱크로부터 반출되는 중공사막 모듈을 플러싱(flushing)하기 위한 제1 플러싱조(flushing bath); 및 플러싱이 완료되어 상기 제1 플러싱조로부터 반출되는 상기 중공사막 모듈을 제1 화학용액으로 세정하기 위한 제1 화학 세정조(chemical cleaning bath)를 포함한다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 측면으로서, 본 발명의 중공사막 모듈의 회복 세정 방법은, 수 처리 탱크로부터 중공사막 모듈을 반출하는 단계; 상기 수 처리 탱크로부터 반출된 상기 중공사막 모듈을 제1 플러싱조에서 플 러싱하는 단계; 및 상기 플러싱된 상기 중공사막 모듈을 상기 제1 플러싱조에서 반출하여 제1 화학 세정조에서 제1 화학용액으로 세정하는 단계를 포함한다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 또 다른 측면으로서, 본 발명의 중공사막 모듈의 회복 세정 방법은, 제1 중공사막 모듈을 수 처리 탱크로부터 반출하여 제1 플러싱조에서 플러싱하는 단계; 플러싱된 상기 제1 중공사막 모듈을 제1 화학 세정조에서 제1 화학용액으로 세정하는 단계; 및 상기 제1 중공사막 모듈이 상기 제1 화학 세정조에서 세정되는 동안, 상기 수 처리 탱크로부터 제2 중공사막 모듈을 반출하여 상기 제1 플러싱조에서 플러싱하는 단계를 포함한다.
본 발명의 중공사막 모듈의 세정 장치 및 그 방법에 의하면 수 처리 탱크에서의 수 처리 작업을 전면적으로 중단하지 않으면서도 중공사막 모듈의 회복 세정 속도를 극대화할 수 있는 효과를 갖는다.
또한, 본 발명의 중공사막 모듈의 세정 장치 및 그 방법에 의하면, 어느 하나의 중공사막 모듈 카세트의 화학 세정에 사용된 화학약품이 다른 중공사막 모듈 카세트의 화학 세정에도 활용될 수 있기 때문에 회복 세정 자체에 사용되는 화학약품의 양이 상대적으로 적을 뿐만 아니라, 중화 공정을 위한 추가적인 화학약품의 소모를 피할 수 있어 비용을 절감할 수 있는 효과를 갖는다. 더욱이, 회복 세정에 사용되는 화학약품의 배출시 반드시 요구되는 중화 공정을 횟수를 최소화함으로써 세정 작업의 효율성을 극대화 하고 세정 속도를 추가적으로 높일 수 있는 효과도 갖는다.
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 중공사막 모듈의 회복 세정 장치 및 그 방법의 바람직한 실시예를 상세하게 설명한다.
본 발명에 대한 설명의 편의를 위하여, 하나의 수 처리 탱크에 5개의 중공사막 모듈 카세트가 침지되어 수 처리 작업이 수행되는 것으로 가정하지만, 하나의 수 처리 탱크에 침지되는 중공사막 모듈 카세트의 개수는 탱크의 크기 및 처리될 원수(feed water)의 양에 따라 다양한 변화가 가능하다. 한편, 각각의 중공사막 모듈 카세트는 프레임에 복수 개의 중공사막 모듈이 장착된 것으로서, 본 발명의 실시예들에 따르면 중공사막 모듈의 수 처리 탱크로의 침지 및 수 처리 탱크로부터의 반출은 카세트 단위로 수행되지만, 개별 중공사막 모듈 단위로 침지 및 반출이 수행될 수도 있다.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 중공사막 모듈의 회복 세정 장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 중공사막 모듈의 회복 세정 장치는, 제1 플러싱조(flushing bath)(210), 제1 화학 세정조(chemical bath)(220), 제2 화학 세정조(240), 및 제2 플러싱조(250)를 포함한다. 이하에서는, 이와 같은 회복 세정 장치를 이용하여 중공사막 모듈의 회복 세정을 수행하는 방법을 구체적으로 살펴보도록 한다.
먼저, 수 처리 탱크(100) 내에 침지되어 수 처리 작업을 수행한 결과 막 오염이 심하게 발생된 제1 중공사막 모듈 카세트(101)를 수 처리 탱크(100)로부터 반 출한다. 반출된 제1 중공사막 모듈 카세트(101)를 제1 플러싱조(210)에서 약 30분간 플러싱한다. 30분의 플러싱 시간은 예시적인 것이며 플러싱 시간 및 아래에서 언급되는 화학 세정 시간은 중공사막 모듈의 개수 및 크기 등에 따라 조절되어야 한다.
플러싱이 완료되면, 제1 플러싱조(210)로부터 제1 중공사막 모듈 카세트(101)를 반출하여 제1 화학용액이 들어있는 제1 화학 세정조(220)에 약 6시간 정도 침지시킴으로써 제1 화학용액에 의한 세정을 수행한다. 본 발명의 실시예들에 따르면 중공사막 모듈에 대한 화학 세정이 침지 세정 방식에 의해 수행되지만 본 발명의 화학 세정이 침지 세정 방식에 국한되는 것은 아니며, 예를 들어 분사 세정 방식에 의해서도 수행될 수 있고, 이러한 분사 세정 방식도 본 발명의 범위 내에 속하는 것으로 이해되어야 한다.
한편, 제1 중공사막 모듈 카세트(101)가 제1 화학 세정조(220)에서 세정되는 동안, 수 처리 탱크(100) 내에 침지되어 수 처리 작업을 수행하던 제2 중공사막 모듈 카세트(102)를 수 처리 탱크(100)로부터 반출하여 제1 플러싱조(210)에서 약 30분간 플러싱한다.
이어서, 제1 중공사막 모듈 카세트(101)에 대한 화학 세정이 완료되면 제1 화학 세정조(220)로부터 제1 중공사막 모듈 카세트(101)를 반출하여 제2 화학용액이 들어있는 제2 화학 세정조(240)에 약 6시간 정도 침지시킴으로써 제2 화학용액에 의한 세정을 수행한다.
제1 중공사막 모듈 카세트(101)를 제2 화학 세정조(240)에서 세정하는 것과 동시에, 제1 플러싱조(210)에서 플러싱된 제2 중공사막 모듈 카세트(102)를 제1 화학 세정조(220)에서 제1 화학 용액으로 약 6시간 정도 세정한다. 또한, 제2 중공사막 모듈 카세트(102)가 제1 화학 세정조(220)에서 세정되는 동안, 수 처리 탱크(100) 내에 침지되어 수 처리 작업을 수행하던 제3 중공사막 모듈 카세트(103)를 수 처리 탱크(100)로부터 반출하여 제1 플러싱조(210)에서 약 30분간 플러싱한다.
이어서, 제2 화학용액에 의한 세정이 완료되면 제1 중공사막 모듈 카세트(101)를 제2 화학 세정조(240)로부터 반출하여 제2 플러싱조(250)에서 약 30분간 플러싱한다.
제1 중공사막 모듈 카세트(101)가 제2 플러싱조(250)에서 플러싱되는 동안, 제1 화학 세정조(220)에서 제1 화학용액으로 세정된 제2 중공사막 모듈 카세트(102)를 제2 화학 세정조(240)에서 제2 화학용액으로 약 6시간 정도 세정한다. 물론, 제2 플러싱조(250)에서의 제1 중공사막 모듈 카세트(101)에 대한 플러싱이 제2 화학 세정조(240)에서의 제2 중공사막 모듈 카세트(102)에 대한 화학 세정에 비해 빨리 완료된다.
한편, 제2 중공사막 모듈 카세트(102)를 제2 화학 세정조(240)에서 세정하는 것과 동시에, 제1 플러싱조(210)에서 플러싱된 제3 중공사막 모듈 카세트(103)를 제1 화학 세정조(220)에서 제1 화학 용액으로 약 6시간 정도 세정한다. 또한, 제3 중공사막 모듈 카세트(103)가 제1 화학 세정조(220)에서 세정되는 동안, 수 처리 탱크(100) 내에 침지되어 수 처리 작업을 수행하던 제4 중공사막 모듈 카세트(104)를 수 처리 탱크(100)로부터 반출하여 제1 플러싱조(210)에서 약 30분간 플러싱한 다.
위와 같은 단계들을 제5 중공사막 모듈 카세트(105)에 대한 회복 세정이 완료될 때까지 반복한다.
본 발명의 제1 실시예에 따르면, 제1 화학 세정조(220)에서의 화학 세정이 완료된 후 중공사막 모듈 카세트들(101...105)이 제2 화학 세정조(240)로 이동하기 전에 제1 또는 제2 플러싱조(210, 250)에서 약 30분간의 플러싱 과정을 각각 거칠 수도 있다.
한편, 상기 제1 화학용액은 NaOH 또는 NaOCl 등의 염기성 용액이고, 상기 제2 화학용액은 HCl, HNO3 또는 구연산(citric acid) 등의 산성 용액이다. 즉, 본 발명의 실시예에 따르면 염기 세정 후에 산 세정을 실시하지만 이 순서는 바뀌어도 무방하다.
도 2는 본 발명의 제2 실시예에 따른 중공사막 모듈의 회복 세정 장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제2 실시예에 따른 중공사막 모듈의 회복 세정 장치는, 플러싱조(flushing bath)(210), 제1 화학 세정조(chemical bath)(220), 및 제2 화학 세정조(340)를 포함한다. 이하에서는, 이와 같은 회복 세정 장치를 이용하여 중공사막 모듈의 회복 세정을 수행하는 방법을 구체적으로 살펴보도록 한다.
먼저, 수 처리 탱크(100) 내에 침지되어 수 처리 작업을 수행한 결과 막 오염이 심하게 발생된 제1 중공사막 모듈 카세트(101)를 수 처리 탱크(100)로부터 반 출한다. 반출된 제1 중공사막 모듈 카세트(101)를 플러싱조(210)에서 약 30분간 플러싱한다. 30분의 플러싱 시간은 예시적인 것이며 플러싱 시간 및 화학 세정 시간은 중공사막 모듈의 개수 및 크기 등에 따라 조절되어야 함은 위에서 언급한 바와 같다.
플러싱이 완료되면, 플러싱조(210)로부터 제1 중공사막 모듈 카세트(101)를 반출하여 제1 화학용액이 들어있는 제1 화학 세정조(220)에 약 6시간 정도 침지시킴으로써 제1 화학용액에 의한 세정을 수행한다. 본 발명의 화학 세정이 침지 세정 방식에 국한되는 것은 아니며, 예를 들어 분사 세정 방식에 의해서도 수행될 수 있고, 이러한 분사 세정 방식도 본 발명의 범위 내에 속하는 것은 위에서 언급한 바와 같다.
한편, 제1 중공사막 모듈 카세트(101)가 제1 화학 세정조(220)에서 세정되는 동안, 수 처리 탱크(100) 내에 침지되어 수 처리 작업을 수행하던 제2 중공사막 모듈 카세트(102)를 수 처리 탱크(100)로부터 반출하여 플러싱조(210)에서 약 30분간 플러싱한다.
이어서, 제1 중공사막 모듈 카세트(101)에 대한 화학 세정이 완료되면 제1 화학 세정조(220)로부터 제1 중공사막 모듈 카세트(101)를 반출하여 제2 화학용액이 들어있는 제2 화학 세정조(240)에 약 6시간 정도 침지시킴으로써 제2 화학용액에 의한 세정을 수행한다.
제1 중공사막 모듈 카세트(101)가 제2 화학 세정조(240)에서 세정되는 동안, 플러싱조(210)에서 플러싱된 제2 중공사막 모듈 카세트(102)를 제1 화학 세정 조(220)에서 제1 화학 용액으로 약 6시간 정도 세정한다. 또한, 제2 중공사막 모듈 카세트(102)가 제1 화학 세정조(220)에서 세정되는 동안, 수 처리 탱크(100) 내에 침지되어 수 처리 작업을 수행하던 제3 중공사막 모듈 카세트(103)를 수 처리 탱크(100)로부터 반출하여 플러싱조(210)에서 약 30분간 플러싱한다.
제2 화학용액에 의한 세정이 완료되면 제1 중공사막 모듈 카세트(101)를 제2 화학 세정조(240)로부터 반출하고, 제2 중공사막 모듈 카세트(102)를 제1 화학 세정조(220)로부터 반출하여 제2 화학 세정조(240)에 침지시키고, 제3 중공사막 모듈 카세트(103)를 플러싱조(210)로부터 반출하여 제1 화학 세정조(220)에 침지시킨다. 이어서, 제2 화학 세정조(240)로부터 반출된 제1 중공사막 모듈 카세트(101)를 플러싱조(210)에서 약 30분간 플러싱한다.
플러싱이 완료되면 제1 중공사막 모듈 카세트를 플러싱조(210)로부터 반출하고, 수 처리 탱크(100) 내에서 수 처리 작업을 수하던 제4 중공사막 모듈 카세트(104)를 수 처리 탱크(100)로부터 반출하여 플러싱조(210)에서 약 30분간 플러싱한다.
위와 같은 단계들을 제5 중공사막 모듈 카세트(105)에 대한 회복 세정이 완료될 때까지 반복한다.
한편, 제1 화학 세정조(220)에서의 화학 세정이 완료된 후 중공사막 모듈 카세트들(101...105)이 제2 화학 세정조(240)로 이동하기 전에 플러싱조(210)에서 약 30분간의 플러싱 과정을 각각 거칠 수도 있다.
도 3은 본 발명의 제3 실시예에 따른 중공사막 모듈의 회복 세정 장치를 개 략적으로 나타낸 도면이다.
도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제3 실시예에 따른 중공사막 모듈의 회복 세정 장치는, 제1 플러싱조(flushing bath)(210), 제1 화학 세정조(chemical bath)(220), 중간 플러싱조(230), 제2 화학 세정조(340), 및 제2 플러싱조(250)를 포함한다. 중공사막 모듈에 대한 회복 세정을 위하여 수 처리 탱크에서의 수 처리 작업이 전면적으로 중단되지 않아야 한다는 점을 감안할 경우, 상술한 본 발명의 제3 실시예에 따른 중공사막 모듈의 회복 세정 장치는 수 처리 탱크 내에서 최소 6개 이상의 중공사막 모듈 카세트가 수 처리 작업을 수행할 때 적용되는 것이 바람직하다. 이하에서는, 이와 같은 회복 세정 장치를 이용하여 중공사막 모듈의 회복 세정을 수행하는 방법을 구체적으로 살펴보도록 한다.
먼저, 수 처리 탱크(100) 내에 침지되어 수 처리 작업을 수행한 결과 막 오염이 심하게 발생된 제1 중공사막 모듈 카세트(101)를 수 처리 탱크(100)로부터 반출한다. 반출된 제1 중공사막 모듈 카세트(101)를 제1 플러싱조(210)에서 약 30분간 플러싱한다.
플러싱이 완료되면, 제1 플러싱조(210)로부터 제1 중공사막 모듈 카세트(101)를 반출하여 제1 화학용액이 들어있는 제1 화학 세정조(220)에 약 6시간 정도 침지시킴으로써 제1 화학용액에 의한 세정을 수행한다. 제1 중공사막 모듈 카세트(101)가 제1 화학 세정조(220)에서 세정되는 동안, 수 처리 탱크(100) 내에 침지되어 수 처리 작업을 수행하던 제2 중공사막 모듈 카세트(102)를 수 처리 탱크(100)로부터 반출하여 제1 플러싱조(210)에서 약 30분간 플러싱한다.
이어서, 제1 중공사막 모듈 카세트(101)에 대한 제1 화학 세정이 완료되면 제1 화학 세정조(220)로부터 제1 중공사막 모듈 카세트(101)를 반출하여 중간 플러싱조(230)에서 약 30분간 플러싱한다. 제1 중공사막 모듈 카세트(101)가 중간 플러싱조(230)에서 플러싱되는 동안, 제1 플러싱조(210)에서 플러싱된 제2 중공사막 모듈 카세트(102)를 제1 화학 세정조(220)에 약 6 시간 정도 침지시킴으로써 제1 화학용액에 의한 세정을 실시한다. 이때, 제1 중공사막 모듈 카세트(101)에 대한 중간 플러싱이 제2 중공사막 모듈 카세트(102)에 대한 제1 화학 세정보다 빨리 완료됨은 당연하다. 한편, 제2 중공사막 모듈 카세트(102)가 제1 화학 세정조(220)에서 세정되는 동안, 수 처리 탱크(100) 내에 침지되어 수 처리 작업을 수행하던 제3 중공사막 모듈 카세트(103)를 수 처리 탱크(100)로부터 반출하여 제1 플러싱조(210)에서 약 30분간 플러싱한다.
이어서, 제1 중공사막 모듈 카세트(101)에 대한 중간 플러싱이 완료되면 중간 플러싱조(230)로부터 제1 중공사막 모듈 카세트(101)를 반출하여 제2 화학용액이 들어있는 제2 화학 세정조(240)에 약 6시간 정도 침지시킴으로써 제2 화학용액에 의한 세정을 수행한다.
제1 중공사막 모듈 카세트(101)를 제2 화학 세정조(240)에서 세정하는 동안, 제1 화학 세정이 완료된 제2 중공사막 모듈 카세트(102)에 대한 플러싱을 중간 플러싱조(230)에서 약 30분간 수행한다. 제2 중공사막 모듈 카세트(102)가 중간 플러싱조(230)에서 플러싱되는 동안, 제1 플러싱조(210)에서 플러싱된 제3 중공사막 모듈 카세트(103)를 제1 화학 세정조(220)에 약 6 시간 정도 침지시킴으로써 제1 화 학용액에 의한 세정을 실시한다. 이때, 제2 중공사막 모듈 카세트(102)에 대한 중간 플러싱이 제3 중공사막 모듈 카세트(103)에 대한 제1 화학 세정보다 빨리 완료됨은 당연하다. 한편, 제3 중공사막 모듈 카세트(103)가 제1 화학 세정조(220)에서 세정되는 동안, 수 처리 탱크(100) 내에 침지되어 수 처리 작업을 수행하던 제4 중공사막 모듈 카세트(104)를 수 처리 탱크(100)로부터 반출하여 제1 플러싱조(210)에서 약 30분간 플러싱한다.
이어서, 제1 중공사막 모듈 카세트(101)에 대한 제2 화학 세정이 완료되면 제2 화학 세정조(240)로부터 제1 중공사막 모듈 카세트(101)를 반출하여 제2 플러싱조(250)에서 약 30분간 플러싱한다. 제1 중공사막 모듈 카세트(101)가 제2 플러싱조(250)에서 플러싱되는 동안, 중간 플러싱조(230)에서 플러싱된 제2 중공사막 모듈 카세트(102)를 제2 화학 세정조(240)에 약 6 시간 정도 침지시킴으로써 제2 화학용액에 의한 세정을 실시한다. 이때, 제1 중공사막 모듈 카세트(101)에 대한 플러싱이 제2 중공사막 모듈 카세트(102)에 대한 제2 화학 세정보다 빨리 완료됨은 당연하다. 한편, 제2 중공사막 모듈 카세트(102)가 제2 화학 세정조(240)에서 세정되는 동안, 제1 화학 세정이 완료된 제3 중공사막 모듈 카세트(103)에 대한 플러싱을 중간 플러싱조(230)에서 약 30분간 수행한다. 제3 중공사막 모듈 카세트(103)가 중간 플러싱조(230)에서 플러싱되는 동안, 제1 플러싱조(210)에서 플러싱된 제4 중공사막 모듈 카세트(104)를 제1 화학 세정조(220)에 약 6 시간 정도 침지시킴으로써 제1 화학용액에 의한 세정을 실시한다. 이때, 제3 중공사막 모듈 카세트(103)에 대한 중간 플러싱이 제4 중공사막 모듈 카세트(104)에 대한 제1 화학 세정보다 빨 리 완료됨은 당연하다. 한편, 제4 중공사막 모듈 카세트(104)가 제1 화학 세정조(220)에서 세정되는 동안, 수 처리 탱크(100) 내에 침지되어 수 처리 작업을 수행하던 제5 중공사막 모듈 카세트(105)를 수 처리 탱크(100)로부터 반출하여 제1 플러싱조(210)에서 약 30분간 플러싱한다.
위 단계들을 마지막 중공사막 모듈 카세트에 대한 회복 세정이 완료될 때까지 반복한다.
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명의 실시예들에 따르면 중공사막 모듈 카세트(101...105)들에 대한 회복 세정이 개별적으로 수행되기 때문에, 중공사막 모듈에 대한 회복 세정을 위하여 수 처리 탱크(100)에서의 수 처리 작업이 전면적으로 중단되지 않아도 되고, 따라서 수 처리 작업의 효율을 극대화할 수 있다.
한편, 중공사막 모듈 카세트들에 대한 회복 세정을 개별적으로 수행하기 위한 방법으로서, i) 수 처리 탱크 내에 격벽을 설치하여 각 중공사막 모듈 카세트를 물리적으로 분리하고 각각의 중공사막 모듈 카세트에 회복 세정을 개별적으로 수행하는 방법 및 ii) 수 처리 탱크와는 별개의 세정조 하나를 설치하고 각각의 중공사막 모듈 카세트를 차례대로 반출하여 그 하나의 세정조에서 회복 세정을 순차적으로 수행하는 방법도 있을 수 있다. 그러나, 이와 같은 방법들에 있어서는 어느 한 중공사막 모듈 카세트에 대한 회복 세정이 완료된 후에 비로소 다음 중공사막 모듈 카세트에 대한 회복 세정이 착수되기 때문에 수 처리 탱크 내에서 수 처리 작업을 수행하는 전체 중공사막 모듈 카세트들에 대한 회복 세정 속도가 지나치게 느리다는 단점이 있다.
이에 반하여, 상술한 본 발명의 제1 내지 제3 실시예에 의한 중공사막 모듈의 회복 세정 장치 및 그 방법에 의하면, 각 중공사막 모듈 카세트에 대한 회복 세정이 병렬적으로 수행될 수 있기 때문에 전체 중공사막 모듈 카세트에 대한 회복 세정의 총 소요시간이 위 방법들에 비해 상대적으로 줄어드는 효과를 나타낸다.
예를 들어, 수 처리 탱크에 총 5개의 중공사막 모듈 카세트가 수용되어 있고 각 중공사막 모듈 카세트에 대한 회복 세정이 30분의 플러싱 단계, 6시간의 염기 세정, 6시간의 산 세정, 및 30분의 플러싱 단계로 구성된다고 가정할 경우, 어느 한 중공사막 모듈 카세트에 대한 회복 세정이 완료된 후에 비로소 다음 중공사막 모듈 카세트에 대한 회복 세정이 착수되는 위 방법들의 경우에는 이론적으로 총 65시간(13시간 × 5개)의 회복 세정 시간이 소요된다. 이에 반하여, 본 발명의 제1 실시예에 의할 경우 총 37 시간만이 소요되는데, 이에 대하여 도 4를 참조하여 보다 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
도 4는 도 1에 도시된 본 발명의 제1 실시예에 따른 중공사막 모듈의 회복 세정 장치에 의해 회복 세정되는 각 중공사막 모듈 카세트의 세정 타이밍을 나타내는 도면이다.
도 4에 도시된 바와 같이, 제1 내지 제5 중공사막 모듈 카세트들(101...105) 각각에 대한 회복 세정은 총 13 시간이 각각 소요되지만, 이들에 대한 회복 세정이 병렬적으로 수행되기 때문에 제2 내지 제5 중공사막 모듈 카세트(102..105) 각각에 대하여 6 시간씩만이 추가적으로 소요되는데 그치고, 결과적으로 제1 내지 제5 중공사막 모듈 카세트(101...105) 전체의 회복 세정을 수행하는데 걸리는 시간은 총 37 시간이다.
따라서, 본 발명의 중공사막 모듈의 회복 세정 장치 및 그 방법에 의하면 수 처리 탱크에서의 수 처리 작업을 전면적으로 중단하지 않으면서도 중공사막 모듈의 회복 세정 속도를 극대화할 수 있는 효과를 갖는다.
한편, i) 수 처리 탱크 내에 격벽을 설치하여 각 중공사막 모듈 카세트를 물리적으로 분리하고 각각의 중공사막 모듈 카세트에 회복 세정을 개별적으로 수행하는 방법 및 ii) 수 처리 탱크와는 별개의 세정조 하나를 설치하고 각각의 중공사막 모듈 카세트를 차례대로 반출하여 그 하나의 세정조에서 회복 세정을 순차적으로 수행하는 방법의 경우에는, 종래 기술의 문제점 중 하나로 위에서 언급된 화학 약품의 과다 소비를 여전히 해결할 수 없다는 결정적인 문제점을 내포하고 있다.
즉, 어느 하나의 중공사막 모듈 카세트에 대하여 산 세정을 수행한 후 다음 단계를 진행하기 위해서는 산 세정에 사용되었던 산성 용액을 배출시켜야 하는데, 환경 규제로 인하여 산성 용액 자체를 그대로 버릴 수 없으므로 염기성 용액을 이용하여 산성 용액을 중화시키는 과정이 반드시 요구된다. 마찬가지로, 어느 하나의 중공사막 모듈 카세트에 대하여 염기 세정을 수행한 후 다음 단계를 진행하기 위해서는 세정에 사용되었던 염기성 용액을 배출시킬 때 산성 용액을 이용하여 염기성 용액을 중화시키는 과정이 반드시 요구된다. 즉, 회복 세정 자체에 사용되는 화학약품의 양 자체가 많을 뿐만 아니라 중화 공정을 위한 화학약품이 추가적으로 더 요구되는 문제점이 있는 것이다.
이에 반하여, 본 발명의 실시예에 의할 경우 회복 세정 자체에 사용되는 화 학약품의 양이 상대적으로 적을 뿐만 아니라, 중화 공정을 위한 추가적인 화학약품의 소모를 피할 수 있는데, 이에 대하여 도 5 및 도 6을 참조하여 보다 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
도 5 및 도 6은 본 발명의 실시예에 따라 회복 세정에 사용된 산 및 염기를 중화하기 위한 시스템을 개략적으로 각각 나타낸 도면이다.
본 발명의 일실시예에 따르면, 도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 회복 세정 장치는 전체 중공사막 모듈 카세트들(101...105)에 대한 회복 세정이 모두 완료된 후 제1 화학 세정조(220)의 제1 화학용액을 제2 화학용액이 들어 있는 제2 화학 세정조(240)로 펌핑하기 위한 중화용 펌프(270a)를 포함한다. 선택적으로, 제2 화학 세정조(240)의 제2 화학용액을 제1 화학용액이 들어 있는 제1 화학 세정조(220)로 펌핑할 수도 있다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 회복 세정 장치는 전체 중공사막 모듈 카세트들(101...105)에 대한 회복 세정이 모두 완료된 후 제1 및 제2 화학 세정조(220, 240) 내에 있던 제1 및 제2 화학용액을 서로 혼합하여 중화시키기 위한 중화조(neutralizing bath)(260)를 포함한다. 제1 및 제2 화학 세정조(220, 240) 내의 제1 및 제2 화학용액을 중화조(260)로 각각 펌핑하기 위한 중화용 펌프(270b)를 더 구비할 수 있다.
결과적으로, 본 발명의 중공사막 모듈의 회복 세정 장치 및 그 방법에 의하면, 어느 하나의 중공사막 모듈 카세트의 화학 세정에 사용된 화학약품이 다른 중공사막 모듈 카세트의 화학 세정에도 활용될 수 있기 때문에 회복 세정 자체에 사 용되는 화학약품의 양이 상대적으로 적을 뿐만 아니라, 화학 세정에 사용된 화학약품들끼리 중화시키기 때문에 중화 공정을 위한 추가적인 화학약품의 소모를 피할 수 있어 비용을 절감할 수 있는 효과를 갖는다. 더욱이, 회복 세정에 사용되는 화학약품의 배출시 반드시 요구되는 중화 공정을 횟수를 최소화함으로써 세정 작업의 효율성을 극대화하고 세정 속도를 추가적으로 높일 수 있는 효과도 갖는다.
도 7은 본 발명의 중공사막 모듈의 회복 세정 장치에 사용되는 화학용액 등의 유체를 순환시키기 위한 유체 순환부를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 7에 도시된 바와 같이, 본 발명의 회복 세정 장치의 화학 세정조(220)는 화학용액이 수용되는 내조(internal bath)(221) 및 이 내조(221)를 둘러싸는 외조(external bath)(222)로 구성될 수 있다. 내조(221)에 화학용액이 지속적으로 공급되어 오버플로우(overflow)되면 오버플로우된 화학용액은 외조(222)의 배출구(미도시)를 통해 배출된다. 이렇게 배출된 화학용액은 본 발명의 유체 순환부(280)에 의해 다시 내조(221)로 공급된다.
본 발명의 유체 순환부(280)의 구성을 보다 상세히 살펴보면, 본 발명의 유체 순환부(280)는 화학 세정조(220)로부터 배출되는 화학용액을 여과하기 위한 필터(281), 필터(281)에 의해 여과된 화학용액을 저장하기 위한 저장 수단(282), 및 저장 수단(282)에 저장된 화학용액을 화학 세정조(220)로 공급하기 위한 순환용 펌프(283)를 포함할 수 있다. 이와 같은 화학 세정조의 오버플로우 구조 및 유체 순환부(280)에 의해 회복 세정 중에 화학용액을 지속적으로 정화시킬 수 있다.
비록 도시하지는 않았으나, 본 발명의 유체 순환부(280)는 플러싱조에도 선 택적으로 적용될 수 있다. 즉, 본 발명의 회복 세정 장치는, 플러싱조로부터 배출되는 플러싱액을 여과하기 위한 여과 수단, 여과 수단을 통해 여과된 플러싱액을 저장하기 위한 저장 수단, 및 저장 수단에 저장된 플러싱액을 플러싱조로 공급하기 위한 펌프를 더 포함할 수 있다.
도 8은 본 발명의 일실시예에 따라 화학 세정조에 장착된 유체 진동 수단을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 8에 도시된 바와 같이, 본 발명의 회복 세정 장치는 화학 세정조(220) 내의 화학용액 또는 화학 세정조(220) 내로 분사되는 화학용액을 진동시키기 위한 유체 진동 수단(290)을 더 포함할 수 있다. 이와 같은 유체 진동 수단(290)은 화학 세정조(220)에 부착된 진동판 또는 초음파 발생기일 수 있다. 이와 같은 유체 진동 수단(290)에 의해 화학 세정조(220)에서 중공사막 모듈에 대한 세정 효과를 높일 수 있다.
비록 도시하지는 않았으나, 본 발명의 유체 진동 수단(290)는 플러싱조에도 선택적으로 적용될 수 있다. 즉, 본 발명의 회복 세정 장치는, 플러싱조 내에 수용된 플러싱액 또는 플러싱조 내로 분출되는 플러싱액을 진동시키기 위한 유체 진동 수단을 더 포함함으로써 플러싱 효과를 높일 수도 있다.
도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 중공사막 모듈의 세정 장치를 개략적으로 나타낸 도면이고,
도 2는 본 발명의 제2 실시예에 따른 중공사막 모듈의 세정 장치를 개략적으로 나타낸 도면이고,
도 3은 본 발명의 제3 실시예에 따른 중공사막 모듈의 세정 장치를 개략적으로 나타낸 도면이고,
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 중공사막 모듈의 세정 장치에 의해 회복 세정되는 각 중공사막 모듈 카세트의 세정 타이밍을 나타내는 도면이고,
도 5 및 도 6은 본 발명의 실시예에 따라 회복 세정에 사용된 산 및 염기를 중화하기 위한 시스템을 개략적으로 각각 나타낸 도면이고,
도 7은 본 발명의 중공사막 모듈의 세정 장치에 사용되는 화학용액 등의 유체를 순환시키기 위한 유체 순환부를 개략적으로 나타낸 도면이며,
도 8은 본 발명의 일실시예에 따라 화학 세정조에 장착된 유체 진동수단을 개략적으로 나타낸 도면이다.
<도면의 부호에 대한 간략한 설명>
100 : 수 처리 탱크 101 : 제1 중공사막 모듈 카세트
102 : 제2 중공사막 모듈 카세트 103 : 제3 중공사막 모듈 카세트
104 : 제4 중공사막 모듈 카세트 105 : 제5 중공사막 모듈 카세트
200 : 회복 세정 장치 210 : 제1 플러싱조
220 : 제1 화학 세정조 221 : 내조
222 : 외조 230 : 중간 플러싱조
240 : 제2 화학 세정조 250 : 제2 플러싱조
260 : 중화조 270a, 270b : 중화용 펌프
280 : 유체 순환부 281 : 필터
282 : 저장 수단 283 : 순환용 펌프
290 : 유체 진동 수단
Claims (29)
- 수 처리 탱크로부터 반출되는 중공사막 모듈을 플러싱(flushing)하기 위한 제1 플러싱조(flushing bath); 및플러싱이 완료되어 상기 제1 플러싱조로부터 반출되는 상기 중공사막 모듈을 제1 화학용액으로 세정하기 위한 제1 화학 세정조(chemical cleaning bath)를 포함하는 것을 특징으로 하는 중공사막 모듈의 세정 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 제1 화학용액으로 세정된 상기 중공사막 모듈을 플러싱하기 위한 제2 플러싱조를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중공사막 모듈의 세정 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 제1 화학용액으로 세정된 상기 중공사막 모듈을 제2 화학용액으로 세정하기 위한 제2 화학 세정조를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중공사막 모듈의 세정 장치.
- 제 3 항에 있어서, 상기 제2 화학 세정조에서 상기 제2 화학용액으로 세정된 상기 중공사막 모듈을 플러싱하기 위한 제2 플러싱조를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중공사막 모듈의 세정 장치.
- 제 3 항에 있어서, 상기 제1 화학용액으로 세정된 상기 중공사막 모듈을 상기 제2 화학용액으로 세정하기 전에 플러싱하기 위한 중간 플러싱조(intermediate flushing bath)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중공사막 모듈의 세정 장치.
- 제 3 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 화학용액은 각각 염기성 및 산성 용액이며, 상기 제1 및 제2 화학 세정조로부터 각각 배출되는 상기 제1 및 제2 화학용액을 서로 혼합하여 중화시키기 위한 중화조(neutralizing bath)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중공사막 모듈의 세정 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 제1 화학 세정조로부터 배출되는 제1 화학용액을 여과하기 위한 여과 수단;상기 여과 수단을 통해 여과된 상기 제1 화학용액을 저장하기 위한 저장 수단; 및상기 저장 수단에 저장된 상기 제1 화학용액을 상기 제1 화학 세정조로 공급하기 위한 펌프를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중공사막 모듈의 세정 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 제1 플러싱조로부터 배출되는 플러싱액을 여과하기 위한 여과 수단;상기 여과 수단을 통해 여과된 상기 플러싱액을 저장하기 위한 저장 수단; 및상기 저장 수단에 저장된 상기 플러싱액을 상기 제1 플러싱조로 공급하기 위한 펌프를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중공사막 모듈의 세정 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 제1 플러싱조 내의 플러싱액을 진동시키기 위한 진동 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중공사막 모듈의 세정 장치.
- 제 1 항에 있어서, 상기 제1 화학 세정조 내의 상기 제1 화학용액을 진동시키기 위한 진동 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중공사막 모듈의 세정 장치.
- 수 처리 탱크로부터 중공사막 모듈을 반출하는 단계;상기 수 처리 탱크로부터 반출된 상기 중공사막 모듈을 제1 플러싱조에서 플러싱하는 단계; 및상기 플러싱된 상기 중공사막 모듈을 상기 제1 플러싱조에서 반출하여 제1 화학 세정조에서 제1 화학용액으로 세정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 중공사막 모듈의 세정 방법.
- 제 11 항에 있어서, 상기 제1 화학용액으로 세정된 상기 중공사막 모듈을 플러싱하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중공사막 모듈의 세정 방법.
- 제 11 항에 있어서, 상기 제1 화학용액으로 세정된 상기 중공사막 모듈을 제2 플러싱조에서 플러싱하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중공사막 모듈의 세정 방법.
- 제 11 항에 있어서, 상기 제1 화학용액으로 세정된 상기 중공사막 모듈을 제2 화학 세정조에서 제2 화학용액으로 세정하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중공사막 모듈의 세정 방법.
- 제 14 항에 있어서, 상기 제2 화학용액으로 세정된 상기 중공사막 모듈을 플러싱하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중공사막 모듈의 세정 방법.
- 제 14 항에 있어서, 상기 제2 화학용액으로 세정된 상기 중공사막 모듈을 제2 플러싱조에서 플러싱하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중공사막 모듈의 세정 방법.
- 제 14 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 화학 세정조에서의 화학 세정 사이에 상기 중공사막 모듈을 중간 플러싱조에서 플러싱하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중공사막 모듈의 세정 방법.
- 제 14 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 화학용액은 각각 염기성 및 산성 용액 이며, 상기 제1 및 제2 화학 세정조의 상기 제1 및 제2 화학용액을 서로 혼합하여 중화시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중공사막 모듈의 세정 방법.
- 제 14 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 화학용액은 각각 염기성 및 산성 용액이며, 상기 제1 및 제2 화학 세정조로부터 각각 배출되는 상기 제1 및 제2 화학용액을 중화조에서 서로 혼합하여 중화시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중공사막 모듈의 세정 방법.
- 제 11 항에 있어서, 상기 제1 플러싱조로부터 배출되는 플러싱액을 여과하는 단계 및 상기 여과된 플러싱액을 상기 제1 플러싱조로 공급하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중공사막 모듈의 세정 방법.
- 제 11 항에 있어서, 상기 제1 화학 세정조로부터 배출되는 제1 화학용액을 여과하는 단계 및 상기 여과된 제1 화학용액을 상기 화학 세정조로 공급하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중공사막 모듈의 세정 방법.
- 제 11 항에 있어서, 상기 제1 플러싱조에서 상기 중공사막 모듈을 플러싱하는 단계는 상기 제1 플러싱조 내의 플러싱액을 진동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 중공사막 모듈의 세정 방법.
- 제 11 항에 있어서, 상기 제1 화학 세정조에서 상기 중공사막 모듈을 세정하는 단계는 상기 제1 화학 세정조 내의 상기 제1 화학용액을 진동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 중공사막 모듈의 세정 방법.
- 제1 중공사막 모듈을 수 처리 탱크로부터 반출하여 제1 플러싱조에서 플러싱하는 단계;플러싱된 상기 제1 중공사막 모듈을 제1 화학 세정조에서 제1 화학용액으로 세정하는 단계; 및상기 제1 중공사막 모듈이 상기 제1 화학 세정조에서 세정되는 동안, 상기 수 처리 탱크로부터 제2 중공사막 모듈을 반출하여 상기 제1 플러싱조에서 플러싱하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 중공사막 모듈의 세정 방법.
- 제 24 항에 있어서,상기 제1 화학용액으로 세정된 상기 제1 중공사막 모듈을 제2 플러싱조에서 플러싱하는 단계;상기 제1 중공사막 모듈이 상기 제2 플러싱조에서 플러싱되는 동안, 상기 제1 플러싱조에서 플러싱된 상기 제2 중공사막 모듈을 상기 제1 화학 세정조에서 상기 제1 화학용액으로 세정하는 단계; 및상기 제2 중공사막 모듈이 상기 제1 화학 세정에서 세정되는 동안, 상기 수 처리 탱크로부터 제3 중공사막 모듈을 반출하여 상기 제1 플러싱조에서 플러싱하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중공사막 모듈의 세정 방법.
- 제 25 항에 있어서,상기 제2 플러싱조에서 플러싱된 상기 제1 중공사막 모듈을 제2 화학 세정조에서 제2 화학용액으로 세정하는 단계;상기 제1 중공사막 모듈이 상기 제2 화학 세정조에서 세정되는 동안, 상기 제1 화학 세정조에서 세정된 상기 제2 중공사막 모듈을 상기 제2 플러싱조에서 플러싱하는 단계;상기 제2 중공사막 모듈이 상기 제2 플러싱조에서 플러싱되는 동안, 상기 제1 플러싱조에서 플러싱된 상기 제3 중공사막 모듈을 상기 제1 화학 세정조에서 상기 제1 화학용액으로 세정하는 단계; 및상기 제3 중공사막 모듈이 상기 제1 화학 세정조에서 세정되는 동안, 상기 수 처리 탱크로부터 제4 중공사막 모듈을 반출하여 상기 제1 플러싱조에서 플러싱하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중공사막 모듈의 세정 방법.
- 제 26 항에 있어서,상기 제2 화학용액으로 세정된 상기 제1 중공사막 모듈을 제3 플러싱조에서 플러싱하는 단계;상기 제1 중공사막이 상기 제3 플러싱조에서 플러싱되는 동안, 상기 제2 플러싱조에서 플러싱된 상기 제2 중공사막 모듈을 상기 제2 화학 세정조에서 상기 제2 화학용액으로 세정하는 단계;상기 제2 중공사막이 상기 제2 화학 세정조에서 세정되는 동안, 상기 제1 화학 세정조에서 세정된 상기 제3 중공사막 모듈을 상기 제2 플러싱조에서 플러싱하는 단계;상기 제3 중공사막 모듈이 상기 제2 플러싱조에서 세정되는 동안, 상기 제1 플러싱조에서 플러싱된 상기 제4 중공사막 모듈을 상기 제1 화학 세정조에서 상기 제1 화학용액으로 세정하는 단계; 및상기 제4 중공사막 모듈이 상기 제1 화학 세정조에서 세정되는 동안, 상기 수 처리 탱크로부터 제5 중공사막 모듈을 반출하여 상기 제1 플러싱조에서 플러싱하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중공사막 모듈의 세정 방법.
- 제 24 항에 있어서,상기 제1 화학용액으로 세정된 상기 제1 중공사막 모듈을 제2 화학 세정조에서 제2 화학용액으로 세정하는 단계;상기 제1 중공사막 모듈이 상기 제2 화학 세정조에서 세정되는 동안, 상기 제1 플러싱조에서 플러싱된 상기 제2 중공사막 모듈을 상기 제1 화학 세정조에서 상기 제1 화학용액으로 세정하는 단계; 및상기 제2 중공사막 모듈이 상기 제1 화학 세정조에서 세정되는 동안, 상기 수 처리 탱크로부터 제3 중공사막 모듈을 반출하여 상기 제1 플러싱조에서 플러싱하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중공사막 모듈의 세정 방법.
- 제 28 항에 있어서,상기 제2 화학용액으로 세정된 상기 제1 중공사막 모듈을 제2 플러싱조에서 플러싱하는 단계;상기 제1 중공사막이 상기 제2 플러싱조에서 플러싱되는 동안, 상기 제1 화학 세정조에서 세정된 상기 제2 중공사막 모듈을 상기 제2 화학 세정조에서 상기 제2 화학용액으로 세정하는 단계;상기 제2 중공사막 모듈이 상기 제2 화학 세정조에서 세정되는 동안, 상기 제1 플러싱조에서 플러싱된 상기 제3 중공사막 모듈을 상기 제1 화학 세정조에서 상기 제1 화학용액으로 세정하는 단계; 및상기 제3 중공사막 모듈이 상기 제1 화학 세정조에서 세정되는 동안, 상기 수 처리 탱크로부터 제4 중공사막 모듈을 반출하여 상기 제1 플러싱조에서 플러싱하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 중공사막 모듈의 세정 방법.
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