KR20090013175A - Method of forming partition and apparatus therefor - Google Patents
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Abstract
Description
이 발명은, 플라즈마 디스플레이 패널(이하, PDP라고 한다)의 제조방법 및 제조장치에 관하여, 특히, PDP의 격벽 형성방법 및 그 형성장치에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD This invention relates to the manufacturing method and manufacturing apparatus of a plasma display panel (henceforth PDP), and especially relates to the formation method of the partition wall of a PDP, and its formation apparatus.
일반적으로 PDP는, 2매의 대향하는 유리기판에 복수의 전극을 설치하고, 그 사이에 Ne, Xe 등을 주체로 하는 가스를 봉입한 구조로 되어 있다. 그리고, 방전셀을 획정(劃定:경계를 명확히 구별하여 정함)하는 복수의 전극간에 전압을 인가하여 방전을 발생시키는 것에 의해, 각 셀을 발광시켜서 표시를 행하도록 하고 있다. In general, a PDP has a structure in which a plurality of electrodes are provided on two opposing glass substrates, and a gas mainly containing Ne, Xe, or the like is enclosed therebetween. Then, a discharge is generated by applying a voltage between a plurality of electrodes that define the discharge cells to clearly define the boundary, thereby causing each cell to emit light to display.
PDP의 한쪽의 기판은, 어드레스전극과 격벽과 형광체층을 갖고 배면(背面)기판을 구성한다. 이와 같은 배면기판에 있어서의 격벽의 형성방법으로서는, 유리기판상의 어드레스전극을 감싼 유전체층 표면에 유리 페이스트(paste)(격벽 형성재료)를 소정의 두께로 도포하여 건조시키고, 그 위에 내샌드블러스트성(耐sand blast性)을 갖는 마스크를 패턴형상으로 형성한다. 그리고, 이 마스크를 통해서 샌드블러스트 가공을 행하는 것에 의해 격벽 형성재료층을 절삭하여 소망형상의 격벽을 패터닝한 후에 소성(燒成)하는 방법이 취해지고 있다. 또한, 샌드블러스트 가공에서는, 절삭재로서 입경이 2~50μm정도의 글래스비즈(glass beads:유리구슬), 스 텐레스강, SiC, SiO2, Al2O3, ZrO2 등의 무기(無機) 미입자(微粒子)가 이용되고 있다. 그리고, 격벽 단부(端部)의 저부(底部) 부분이 과잉으로 절삭되는, 이른바 사이드 컷트에 기용(起用)되는 레지스트의 벗겨짐, 격벽의 파열, 격벽의 절삭높이의 감소 등의 발생을 방지하기 위해서, 격벽 단부의 부근에 보조격벽을 형성하는 보조마스크를 설치하여 샌드블러스트 처리를 하는 것이 알려져 있다(예를 들면, WO2002/084689호 공보 참조).One substrate of the PDP has an address electrode, a partition, and a phosphor layer to form a back substrate. As a method of forming a partition wall in such a back substrate, a glass paste (partial partition material) is applied to a predetermined thickness on the surface of a dielectric layer covering an address electrode on a glass substrate, dried, and sand blast resistant thereon. A mask having (sandblasting) is formed in a pattern shape. Then, by performing sandblasting through this mask, a method of cutting the barrier rib forming material layer and patterning the desired barrier rib is then fired. In sandblasting, inorganic materials such as glass beads (glass beads), stainless steel, SiC, SiO 2 , Al 2 O 3 , ZrO 2, etc., having a particle diameter of about 2 to 50 μm as cutting materials are used. ) Fine particles are used. In order to prevent occurrence of peeling of resist used for a so-called side cut, tearing of partition walls, reduction of cutting height of partition walls, etc., in which the bottom portion of the partition end is excessively cut. It is known to provide a sand blast treatment by providing an auxiliary mask which forms an auxiliary partition near the end of the partition (for example, see WO2002 / 084689).
[발명이 해결하려고 하는 과제] [Problems that the invention tries to solve]
그렇지만, 이와 같은 종래의 기술에서는, 보조격벽의 과잉절삭을 막을 수 없기 때문에 주격벽의 단부 부분을 확실히 보호하는 것이 어렵다는 문제가 있었다.However, in such a conventional technique, there is a problem that it is difficult to reliably protect the end portion of the main bulkhead because overcutting of the auxiliary bulkhead cannot be prevented.
[과제를 해결하기 위한 수단][Means for solving the problem]
이 발명은, 기판상에 형성된 격벽 형성재료층의 내샌드블러스트용 마스크가 설치되어 있지 않은 부분을 절삭재에 의해서 절삭하고, 소망한 형상의 격벽을 형성하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성방법에 있어서, 상기 기판의 소망부분의 윗쪽에 기판의 반송방향으로 연장하는 소정높이의 보호판을 격벽 형성재료층의 표면 또는 기판의 표면에 접촉하도록 수직으로 설치하고, 기판 반송방향으로 직교하는 방향으로 이동하는 샌드블러스트 가공용 노즐로부터 분사되는 절삭재의 절삭으로부터 격벽 형성재료층의 소망부분을 보호하는 것을 특징으로 하는 격벽 형성방법을 제공하는 것이다.This invention is a partition wall formation method of the plasma display panel which cuts the part which is not provided with the mask for sandblasting of the partition formation material layer formed on the board | substrate with a cutting material, and forms the partition of desired shape. A sand having a predetermined height extending in the conveying direction of the substrate vertically above the desired portion of the substrate so as to contact the surface of the partition forming material layer or the surface of the substrate and moving in a direction orthogonal to the substrate conveying direction. A partition wall forming method is provided which protects a desired portion of a partition wall forming material layer from cutting of a cutting material injected from a blasting nozzle.
보호판의 격벽 형성재료층 또는 기판과 납접(摺接, slide contact)하는 부분은, 기판보다 낮은 경도의 재료로 형성되어도 좋다.The portion of the protective plate which is in contact with the barrier rib forming material layer or the substrate may be formed of a material having a lower hardness than the substrate.
보호판을, 폭이 다른, 다른 보호판과 교환하는 것에 의해 절삭작용을 제어해도 좋다.The cutting action may be controlled by replacing the protective plate with another protective plate having a different width.
또, 이 발명은, 다른 관점에서, 기판상에 형성된 격벽 형성재료층의 내샌드블러스트용 마스크가 설치되어 있지 않은 부분을 절삭재에 의해서 절삭하여 소망한 형상의 격벽을 형성하는 격벽 형성장치에 있어서, 격벽 형성재료층 및 내샌드블러스트용 마스크가 설치된 기판을 소정의 방향으로 반송하는 기판반송장치와, 절삭재를 분사하는 샌드블러스트 가공용 노즐과 그 노즐을 기판 반송방향으로 직교하는 방향으로 반송하는 노즐반송장치와, 반송되는 기판의 소망부분에 있어서 샌드블러스트 가공용 헤드와 기판과의 사이에서 격벽 형성재료층의 표면 또는 기판의 표면과 접촉하도록 수직으로 설치되고, 그리고 기판의 반송방향으로 연장하는 소정높이의 보호판을 구비하는 격벽 형성장치를 제공하는 것이다.Moreover, this invention is a partition forming apparatus which cuts the part which is not provided with the mask for sandblast of the partition formation material layer formed on the board | substrate with a cutting material from another viewpoint, and forms the partition of desired shape. A substrate conveying apparatus for conveying a substrate on which a partition forming material layer and a sandblast mask are provided in a predetermined direction, a sandblast processing nozzle for ejecting cutting material, and a nozzle in the direction perpendicular to the substrate conveying direction. The nozzle conveying apparatus to convey and the desired part of a board | substrate to be conveyed are installed vertically so that the surface of a partition formation material layer or the surface of a board | substrate may contact between the head of a sandblasting process, and a board | substrate, and a board | substrate conveyance direction It is to provide a partition forming apparatus having a protective plate of a predetermined height extending.
보호판을 지지(支持)하는 지지부재를 더 구비하고, 보호판은 평탄하고 띠(가늘고 긴)형상인 본체부재와, 샌드블러스트 가공의 절삭작용으로부터 본체부재를 보호하는 내마모성부재와, 기판보다 낮은 경도를 갖고 격벽 형성재료층 표면 또는 기판표면에 접촉하는 납접부재여도 좋다.The support plate further comprises a support member for supporting the protection plate, wherein the protection plate has a flat, strip-shaped body member, an abrasion resistant member that protects the body member from sandblasting cutting action, and a lower hardness than the substrate. It may be a soldering member which is in contact with the surface of the barrier rib material layer or the substrate surface.
지지부재는, 보호판을 폭이 다른, 다른 보호판과 교환할 수 있도록 지지해도 좋다. 지지부재는, 보호판을 샌드블러스트 가공용 노즐의 반송방향으로 변위 가능하게 지지해도 좋다.The supporting member may support the protective plate so that the protective plate can be replaced with another protective plate having a different width. The supporting member may support the protective plate so as to be displaceable in the conveying direction of the sandblasting nozzle.
[발명의효과] [Effects of the Invention]
이 발명에 의하면 절삭 데미지를 받기 쉬운 기판의 소망부분에 보호판이 수직으로 접촉한 상태에서 샌드블러스트 가공이 행해지므로, 절삭재에 의한 데미지, 레지스트의 벗겨짐, 격벽의 이지러짐 등의 발생이 확실히 방지된다.According to the present invention, sandblasting is performed in a state in which the protective plate is in vertical contact with a desired portion of the substrate which is susceptible to cutting damage, so that damage caused by the cutting material, peeling of the resist and cracking of the partition wall are reliably prevented. do.
도 1은 본 발명에 관한 PDP의 요부분해사시도이다.1 is a partial partial perspective view of a PDP according to the present invention.
도 2는 본 발명에 관한 피가공기판의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of a substrate to be processed according to the present invention.
도 3은 본 발명에 관한 샌드블러스트 가공실의 세로단면도이다.3 is a longitudinal sectional view of a sandblast processing chamber according to the present invention.
도 4는 도 3의 I-I 화살표시(矢視) 단면도이다.4 is a cross-sectional view taken along the line I-I of FIG. 3.
도 5는 본 발명에 관한 보호판의 표면도이다.5 is a surface view of a protective plate according to the present invention.
도 6은 본 발명에 관한 보호판의 측면도이다.6 is a side view of a protective plate according to the present invention.
도 7은 도 6의 II-II 화살표시 단면도이다.7 is a cross-sectional view taken along the line II-II of FIG. 6.
도 8은 도 6의 III-III 화살표시 단면도이다.8 is a cross-sectional view taken along the line III-III of FIG. 6.
도 9는 도 4의 요부확대도이다.9 is an enlarged view illustrating main parts of FIG. 4.
도 10은 본 발명의 변형예를 나타내는 도 4 대응도이다.Fig. 10 is a view corresponding to Fig. 4 showing a modification of the present invention.
도 11은 본 발명의 다른 변형예를 나타내는 도 4 대응도이다.Fig. 11 is a view corresponding to Fig. 4 showing another modification of the present invention.
도 12는 본 발명의 또 다른 변형예를 나타내는 도 4 대응도이다.12 is a view corresponding to FIG. 4 showing still another modification of the present invention.
도 13은 본 발명의 또 다른 변형예를 나타내는 도 4 대응도이다.FIG. 13 is a view corresponding to FIG. 4 showing still another modification of the present invention. FIG.
도 14는 본 발명의 보호판의 작용을 나타내는 설명도이다.It is explanatory drawing which shows the effect | action of the protective plate of this invention.
[부호의 설명][Description of the code]
11, 12 유리기판 11, 12 glass substrate
31 격벽 형성재료층 31 bulkhead forming material layer
32 내샌드블러스트용 마스크 32 Mask for Sandblast
32a 주격벽용 마스크 32a main bulkhead mask
32b 보조격벽용 마스크 32b Auxiliary Bulkhead Mask
33 피가공기판 33 Processed Board
34 격벽형성영역 34 Bulkhead Forming Area
34a 격벽형성영역 34a bulkhead forming area
34b 격벽형성영역 34b bulkhead forming area
50 배면기판50 backplane
50a 전면기판50a front panel
51 가공실(加工室)51 Processing Room
52 반송롤러52 conveying roller
53 피가공기판의 반송방향53 Transfer direction of the substrate to be processed
54, 55 샌드블러스트 가공용 노즐(분사총)54, 55 Sandblasting Nozzles
54a, 55a 반송장치54a, 55a Carriers
56 샌드블러스트 가공헤드의 이동방향 56 Movement direction of sandblasting head
57 회수(回收)장치57 Recovery Device
58~60 프레임58-60 frames
61~64 보호판61 ~ 64 Shield
65 본체부재65 Body member
66 내마모성부재66 Abrasion Resistant Member
67 납접(摺接, slide contact)부재67 Slide contact member
68, 69 브래킷(bracket)68, 69 bracket
70~ 75 체결(締結)부재70 ~ 75 fastening member
76, 77 긴 구멍(長穴)76, 77 Long hole
78 분수류(위쪽으로 뿜어오르는 흐름)78 Fountains (upward flow)
79 직분류(直噴流:곧은 유체의 흐름)79 Direct classification (flow of straight fluid)
80 영역80 zones
81 샌드블러스트 가공용 노즐의 이동방향81 Sandblasting nozzle movement direction
이하, 도면에 나타내는 실시형태를 이용하여 본 발명을 상세히 설명한다. 이것에 의해서 본 발명이 한정되는 것은 아니다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated in detail using embodiment shown in drawing. This does not limit the present invention.
본 발명이 적용되는 PDP는, 도 1에 나타내는 바와 같은 3전극 면방전형의 PDP이며, 한쌍의 기판 어셈블리, 즉 배면기판(50)과 전면기판(50a)으로 구성된다. 또한, 도에서는 1화소만큼을 나타내고 있다.The PDP to which the present invention is applied is a three-electrode surface discharge type PDP as shown in Fig. 1, and is composed of a pair of substrate assemblies, namely, the
전면기판(50a)에 있어서는, 유리기판(11)의 내면에, 기판면을 따라서 면방전을 일으키기 위한 횡방향으로 연장하는 전극 X, Y가, 표시 행(行)을 정하는 표시전극쌍(S)으로 배열된다. 전극 X, Y는, 각각 ITO박막으로 된 폭이 넓은 띠형상의 투명전극(41)과, 금속박막으로 된 폭이 좁은 띠형상의 버스전극(42)으로 구성된다. 버스전극(42)은, 적정한 도전성을 확보하기 위한 보조전극이다. 전극 X, Y를 피복하도록 유전체층(17)이 설치된다. 유전체층(17)의 표면에는 보호막(18)이 피복된다. 유전체층(17) 및 보호막(18)은 함께 투광성을 갖고 있다.In the
다음으로, 배면기판(50)에 있어서는, 유리기판(21)의 내면에, 표시전극쌍(S)과 직교하는 세로방향으로 어드레스전극(43)이 배열되고, 어드레스전극(43)을 피복하도록 유전체층(25)이 설치되고, 유전체층(25)상의 각 어드레스전극(43)의 사이에는, 직선형상의 리브(격벽)(29)가 1개씩 설치된다. 또한, 리브(29)는 격자형상으로 형성하는 것도 가능하다. 배면기판(50)에서는, 이들의 리브(29)에 의해서 방전공간(방전셀)(30)이 서브픽셀(단위발광영역)(EU)마다 구획되고, 그리고 방전공간(30)의 간격 치수가 규정된다.Next, in the
그리고, 유전체층(25)의 상부 및 리브(29)의 측면을 포함하여 배면측의 셀 벽면을 피복하도록, 컬러표시를 위한 R, G, B의 3색의 형광체층(28)이 설치된다. 리브(29)는 저융점유리(低融点glass:셀렌, 탈륨, 비소, 유황 따위를 첨가하여 녹는점을 130~350℃로 만든 유리)를 주체로하는 재료로 이루어지고, 첨가제의 종류에 의해서 투명 또는 불투명하게 형성된다. 또한, 리브(29)의 형성방법으로서는, 후술하는 바와 같이, 베타막 형상의 저융점유리층(격벽 형성재료층) 위에 절삭마스크를 설치하여, 샌드블러스트 가공으로 패터닝하는 공정이 이용된다. The phosphor layers 28 of three colors R, G, and B are provided for color display so as to cover the cell wall on the rear side including the upper side of the
매트릭스 표시에 있어서의 1행에는 표시전극쌍(S)이 대응하고, 1열에는 1개의 어드레스전극(A)이 대응한다. 그리고, 3열이 1픽셀(화소)(EG)에 대응한다. 즉, 1픽셀(EG)은 라인방향으로 나열하는 R, G, B의 3개의 서브픽셀(EU)로 구성된다. 어드레스전극(A)과 표시전극(Y)과의 사이의 대향 방전에 의해서, 표시해야할 선택된 셀 대응의 유전체층(17)에 벽전하가 형성된다. 표시전극 X, Y에 교호(交互)하게 펄스를 인가하면, 벽전하가 형성된 상기 선택 셀에서 면방전(주방전)이 생긴다. 면방전으로 생긴 자외선에 의해서 형광체층(28)이 여기(勵起)되어 소정 색의 가시광을 발한다. 이 가시광 중에, 전면(前面)측의 유리기판(11)을 투과하는 광이 표시광이 된다.The display electrode pair S corresponds to one row in the matrix display, and one address electrode A corresponds to one column. Three columns correspond to one pixel (EG). That is, one pixel EG is composed of three subpixels EU of R, G, and B arranged in the line direction. By counter discharge between the address electrode A and the display electrode Y, wall charges are formed in the
다음으로, PDP의 제조에 이용되는 샌드블러스트 처리에 대해서 설명한다. PDP의 제조에서는, 샌드블러스트 처리에 의해 격벽을 패터닝하는 방법이 채용된다.Next, the sandblasting process used for manufacture of PDP is demonstrated. In the production of the PDP, a method of patterning a partition by sandblasting is adopted.
우선, 도 2에 나타내는 바와 같이 어드레스전극(43)과 유전체층(25)이 형성된 유리기판(21)상의 격벽형성영역에 격벽용의 유리 페이스트를 도포하여 건조시키 는 것에 의해 격벽 형성재료층(31)을 형성한다. 다음으로, 격벽 형성재료층(31)상에 내샌드블러스트성을 갖는 감광성레지스트층을 설치한 후, 포토마스크를 통해서 활성광선을 선택적으로 조사하고, 계속해서 현상하는 것에 의해 내샌드블러스트용의 마스크(32)를 형성한다. 그 후, 격벽 형성재료층(31)과 내샌드블러스트용 마스크(32)가 설치된 유리기판(21)(이하, 설명의 편의상 피가공기판(33)으로 기술한다)에 대해서 샌드블러스트 처리를 행한다. 샌드블러스트 처리에 있어서는, 절삭재로서 입경이 2~50μm정도의 글래스비즈, 스텐레스강, SiC, Al203, ZrO2 등의 무기 미입자가 이용된다.First, as shown in FIG. 2, the barrier rib forming
다음으로, 샌드블러스트 처리에 의한 격벽 형성장치에 대해서 설명한다. 도 3은 샌드블러스트 처리에 의한 격벽 형성장치의 구성을 나타내는 세로단면도, 도 4는 도 3의 I-I 화살표시 단면도이다.Next, the partition forming apparatus by sandblasting process is demonstrated. FIG. 3 is a vertical sectional view showing the structure of a partition wall forming apparatus by sandblasting, and FIG. 4 is a sectional view taken along the line I-I of FIG.
이들의 도에 나타내는 바와 같이, 가공실(加工室)(51)의 내부에는 복수의 반송롤러(52)가 수평으로 평행 배열되고, 그 위를 피가공기판(33)이 화살표(53)의 방향으로 반송되도록 되어 있다. 반송되는 피가공기판(33)의 윗쪽에는 절삭재(切削材) 분사총(54, 55)이 배치되고, 총(gun)(54, 55)은, 각각 반송장치(54a, 55a)에 의해, 화살표(56)(도 4)의 방향, 즉 피가공기판(33)의 반송방향(화살표(53))으로 직교하는 방향으로 왕복 반송되도록 되어 있다. 또, 반송롤러(52)의 아래쪽에는 회수장치(57)(도 3)가 배치되고, 절삭재 분사총(54, 55)으로부터 분사된 절삭재가 회수되고, 절삭제 분사총(54, 55)으로의 절삭재 공급원(미도시)으로 되돌려져 재이용 되도록 되어 있다.As shown in these diagrams, a plurality of conveying
도 4에 나타내는 바와 같이, 가공실(51)에는 반송롤러(52)에 평행으로, 즉, 화살표(56)방향으로 프레임(58, 59, 60)이 설치된다. 그리고, 프레임(58, 59)간에 평탄한 띠형상의 보호판(61, 62)과, 프레임(59, 60)간에 평탄한 띠형상의 보호판(63, 64)이, 각각 기판(33)의 반송방향(화살표(53)방향)으로 평행으로 설치되어 있다.As shown in FIG. 4, the
도 5는 보호판(61~64)의 상세를 나타내는 표면도, 도 6은 보호판(61~64)의 상세를 나타내는 측면도, 도 7은 도 6의 II-II 화살표시 단면도, 도 8은 도 6의 III-III 화살표시 단면도이다. 이들의 도에 나타내는 바와 같이, 보호판(61~64)의 각각은, 상변에 절삭부를 갖는 띠형상의 스테인리스강판으로 된 본체부재(65)와 그 절삭부에 끼워넣어져서 본체부재(65)의 상변(上邊)을 덮고, 본체부재(65)의 측면에 체결(締結)부재(볼트, 너트, 워셔의 조합)(70, 71)로 고정되는 세라믹제의 내마모성(내샌드블러스트성)부재(66)를 구비한다. 보호판(61~64)은, 또한 하변(下邊)에 납접(摺接)부재(67)를 구비한다. 납접부재(67)는, 본체부재(65)의 측면에 접착제 또는 양면접착테이프 등을 이용하여 접착된다. 납접부재(67)는 본체부재(65)의 하변에서 아래쪽으로 1~2mm돌출하고, 후술하는 바와 같이 피가공기판(33)에 납접하도록(접촉하면서 접동한다) 되어 있다. 따라서, 납접부재(67)는, 피가공기판(33)에 상처를 내지 않도록 경도가 피가공기판(33)보다도 낮은 재료, 예를 들면, 폴리에틸렌(두께 0.5mm의 필름)에 의해 형성된다.5 is a surface view showing the details of the
보호판(61~64)의 각각은 양단(兩端)이 브래킷(68, 69)을 통해서 프레임(58, 59 또는 59 ,60)에 지지된다. 보호판(61~64)의 각각의 양단과 브래킷(68, 69 또는 59, 60)은 각각 체결부재(볼트, 너트, 워셔의 조합)(72, 73)에 의해 체결되고, 브래킷(68, 69)은, 각각 프레임(58, 59 또는 59, 60)에 체결부재(볼트)(74, 75)에 의해 체결된다. 또한, 브래킷(68, 69)은, 도 5에 나타내는 바와 같이, 각각 긴 구멍(76, 77)을 가지며, 프레임(58, 59 또는 59, 60)에 대해서 화살표(56)방향(절삭제 분사총의 이동방향)으로 변위(變位) 가능하게 고정된다.Each of the
이와 같은 구성에 있어서, 도 3, 4에 나타내는 바와 같이, 보호판(61~64)이 절삭 데미지를 받기 쉬운 피가공기판(33)의 소망부분(이 예에서는 보조격벽의 부근)에 세트되고, 이 상태로 가공실(51)에 피가공기판(33)이 반입되면, 피가공기판(33)은 반송롤러(52)에 의해 화살표(53)의 방향으로 일정한 속도로 반송된다. 도 9와 도 10은, 피가공기판(33)과 보호판(61, 62 또는 63, 64)과의 위치관계를 나타내는 표면도와 측면도이다.In such a configuration, as shown in Figs. 3 and 4, the
피가공기판(33)의 격벽형성영역(34)에는, 화살표(56)의 방향(절삭재 분사총의 이동방향)으로 평행하게 배열된 복수의 주격벽용 마스크(32a)와 화살표(53)의 방향(기판의 반송방향)으로 평행하게 배열된 복수의 보조격벽용 마스크(32b)가 격벽 형성재료층(31)을 감싸도록 설치되어 있다. 또한, 보조격벽은 주격벽의 단부의 저부 부분이 절삭되는, 이른바 사이드 컷트를 막기 위해 설치되어 있다. 도 10에 나타내는 바와 같이, 보호판(61, 62 및 63, 64)의 각각은, 본체부재(65)의 하측 엣지에서 아래쪽으로 연장하는 가소성(可燒性)부재(67)가 피가공기판(33)의 격벽 형성재료층(31)의 표면에 납접하도록 설정된다.In the
가공실(51)(도 3)의 안을 피가공기판(33)이, 예를 들면, 300mm/분의 속도로 화살표(53)를 따라서 반송되면, 그것에 맞춰서, 절삭재 분사총(54, 55)이, 예를 들면, 600mm/초의 속도로 화살표(56)를 따라서 절삭제를 분사하면서의 왕복운동을 반복한다. 이것에 의해서, 피가공기판(33)의 격벽 형성재료층(31)은, 절삭제에 의해 절삭되고, 마스크(32a, 32b)의 아래에 각각 격벽이 형성된다. 이 때, 도 14에 나타내는 바와 같이 보호판(61~64)이 보조격벽용 마스크(32b)의 부근위치에 있어서 피가공기판(33)에 대해서 직립한 상태에 있으므로, 절삭재 분사총(54 또는 55)가 위치 (A)에서 (B)로 화살표(81)의 방향으로 이동하여 보호판(61~64)에 접근하면, (A)의 위치의 절삭재 분사총(54 또는 55)의 절삭재 분사에 의해서 생긴 반사류(反射流)(분수류)(78)와, (B)의 위치에 있는 절삭재 분사총(54 또는 55)의 절삭재 분사에 의해서 생기는 직분류(直噴流)(79)가, 영역(80)에서 서로 부딪쳐 소멸된다. 따라서, 보호판(61~64)은, 주변영역(82)에 있는 보조격벽에 대한 직분류(79)의 절삭작용을 약하게 하고, 보조격벽의 과잉된 절삭을 방지하는 효과를 가져온다. 또, 보호판(61~64)을 피가공기판(33)의 격벽 형성재료층 표면에 접촉시키고 있으므로, 피가공기판(33)의 격벽 형성재료층에 충돌한 후에 방향을 바꾸어 격벽 형성재료층의 표면에 평행하게 움직이는 절삭재의 움직임을 멈출 수 있고, 결국 절삭재의 횡방향으로부터의 절삭작용에서 보조 및 주격벽이 효과적으로 보호되어, 손상을 입는 일이 없다. 따라서, 소망한 단면(斷面)형상의 격벽이 얻어진다.When the
이와 같이, 보호판(61~64)은, 피가공기판(33)에 접촉하여 수직으로 설치되는 것에 의해, 분사총(54, 55)에서 분출되는 절삭재가 피가공기판(33)의 소망부분에 과잉으로 닿지 않도록 하고, 또 절삭후의 기판면으로부터 반사하여 횡방향으로 달리는 절삭재가 닿지 않도록 보호하는 것이다. 따라서, 보호판(61~64)은, 피가공기판(33)의 격벽형성영역(34)(도 9)의 가장자리에 대응하도록 설치된다.As described above, the
고정된 보호판(61~64)에 이동하는 피가공기판(33)이 접촉하면, 보호판(61~64)이 피가공기판(33)의 격벽 형성재료층(31)의 표면에 납접하게 되고, 격벽 형성재료층(31)의 표면에 손상을 줄 위험성이 있다. 이것을 회피하기 위해, 전술한 바와 같이 보호판(61~64)은 피가공기판(33)보다 낮은 경도를 갖는 납접부재(67)를 통해서 피가공기판(33)의 격벽 형성재료층(31)에 접촉하도록 되어 있다.When the to-
또한, 보호판은 격벽 형성재료층을 피한 위치, 즉 격벽 형성재료층의 부근의 피가공기판(유리기판) 표면에 배치해도 좋다.The protective plate may be disposed on the surface of the substrate (glass substrate) near the partition forming material layer, that is, in the vicinity of the partition forming material layer.
보호판(61~64)에 대해서는, 폭(W)(도 6)이 예를 들어 10~40mm의 범위로 다른 것을 미리 복수종류 준비해 두는 것이 바람직하다. 그리고, 피가공기판(33)에 형성해야할 격벽의 형상이나 종류에 따라서 폭(W), 즉 보호판(61~64)의 피가공기판(33)으로부터의 높이를 변경하면, 보호판(61~64)의 보호범위나 보호작용을 제어할 수 있다. 또한, 이 때, 보호부재(61~64)의 설치위치도, 긴 구멍(76, 77)(도 5)을 이용하여 화살표(56)의 방향으로 변위할 수 있다.About protective plates 61-64, it is preferable to prepare two or more types by which width W (FIG. 6) differs, for example in the range of 10-40 mm previously. If the width W, that is, the height from the
도 11은, 도 4에 나타내는 실시형태에 있어서, 사이즈가 작은 패널에 대응해야할 보호판(63, 64)의 간격을 좁게하고, 보호판(63, 64)에 의한 피가공기판(33)상의 보호부분을 부분적으로 변경한 예를 나타낸다. 또, 도 12는, 도 4에 나타내는 실시형태에 있어서, 보호판 61과 62를 제거하고, 보호판 63과 64만에 의해 보호하 도록 한 예를 나타낸다. 또, 도 13은, 도 12에 나타내는 실시형태의 변형예이고, 피가공기판(33)이 2개의 격벽형성영역(34a, 34b)을 구비한 소위, 다면을 갖는 형식(이 경우는 2면을 갖는 형식)의 예를 나타내고 있다. 이 예에서는, 프레임 59와 60과의 사이에, 격벽형성영역(34a, 34b)의 각각에 대응하여, 보호판(61, 62) 및 보호판(63, 64)이 설치되어 있다. 그리고, 분사총(55)에서 분사되는 절삭재로부터 격벽형성영역(34a, 34b)의 가장자리부분(보조격벽)이 보호되도록 되어 있다. 이 다면을 갖는 형식에서는 절삭재의 횡방향의 절삭작용에 대해서 보호판(62, 63)의 보호가 현저하게 된다. 또한, 보호판(61~64)의 스테인리스 강판제의 본체부재(65)에 있어서, 절삭재의 분사를 직접받는 부분은, 도 8에 나타내는 바와 같이 세라믹제의 내마모성(내샌드블러스트성)부재(66)에서 보호되고 있다. 따라서, 본체부재(65)의 장기 수명화가 도모된다.In FIG. 11, in the embodiment shown in FIG. 4, the space | interval of the
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KR1020087026207A KR20090013175A (en) | 2008-10-27 | 2006-09-05 | Method of forming partition and apparatus therefor |
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