KR20080106215A - Ｄｕｖ 광원의 액티브 스펙트럼 컨트롤 - Google Patents

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KR20080106215A KR1020087021234A KR20087021234A KR20080106215A KR 20080106215 A KR20080106215 A KR 20080106215A KR 1020087021234 A KR1020087021234 A KR 1020087021234A KR 20087021234 A KR20087021234 A KR 20087021234A KR 20080106215 A KR20080106215 A KR 20080106215A
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표도르 비. 트린초우크
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사이머 인코포레이티드
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Abstract

개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템이 개시되고, 본 시스템은 광원에 의해 산출된 레이저 출력 광 펄스 빔의 대역폭을 측정하고, 대역폭 측정치를 제공하는 대역폭 측정 모듈; 대역폭 측정치, 및 대역폭 세트포인트를 수신하고, 대역폭 에러 신호를 제공하는 대역폭 에러 신호 제너레이터; 및 대역폭 에러에 응답하여 미세 대역폭 보정 액츄에이터 신호, 및 거친 대역폭 보정 액츄에이터 신호를 제공하는 액티브 대역폭 컨트롤러를 포함한다. 미세 대역폭 보정 액츄에이터, 및 상기 거친 대역폭 보정 액츄에이터는 각각 대역폭 에러를 감소하는 상기 광원 행동의 개별적인 조절을 유도할 수 있다. 거친 대역폭 보정 액츄에이터, 및 상기 미세 대역폭 보정 액츄에이터는 각각 복수의 대역폭 보정 액츄에이터를 포함할 수 있다.
Figure P1020087021234
대역폭 컨트롤 시스템, 대역폭 측정 모듈, 대역폭 에러 신호 제너레이터, 액티브 대역폭 컨트롤러, 미세 대역폭 보정 액츄에이터 신호, 거친 대역폭 보정 액츄에이터 신호.

Description

ＤＵＶ 광원의 액티브 스펙트럼 컨트롤{ACTIVE SEPCTRAL CONTROL OF DUV LIGHT SOURCE}
본 발명은, 예컨대, 포토리소그래피에서 집적회로 제조를 위한 레이저 광원과 같은, 예컨대, 라인 내로우드 어플리케이션에서 사용되는, 예컨대, DUV 가스방전 레이저 시스템, 예컨대, 엑시머 또는 분자 플루오르 레이저 시스템에서 대역폭의 액티브 컨트롤에 관한 것이다.
본 출원은 2006년 8월 25일에 출원된 "ACTIVE SPECTRAL CONTROL OF DUV LIGHT SOURCE"란 제목의, 미국특허 출원번호 제11/510,037호에 대한 우선권을 주장하고, 또한, 2006년 2월 17일에 출원된 "ACTIVE SPECTRAL CONTROL OF DUV LIGHT SOURCES FOR OPE MINIMIZATION"이란 제목의 미국 가특허 출원번호 제60/774,770에 대한 우선권을 주장하고; 또한 2005년 10월 20일에 출원된, 2006년 6월 6일에 공개된, 공개번호 US20060114958인 "METHOD AND APPARATUS FOR GAS DISCHARGE LASER BANDWIDTH AND CENTER WAVELENGTH CONTROL"이란 제목의 동시계류중인 미국특허 출원번호 제11/254,282호에 관한 것이고; 또한 2005년 12월 29일에 출원된 "MULTI-CHAMBER GAS DISCHARGE LASER BANDWIDTH CONTROL THROUGH DISCHARGE TIMING "이란 제목의 출원번호 11/323,604호에 관한 것이고; 또한 2005년 6월 30일에 출원된 "ACTIVE BANDWIDTH CONTROL FOR A TUNED LASER"란 제목의 출원번호 제11/173,988호 에 관한 것이고; "SPECTRAL METROLOGY FOR HIGH REPETITION RATE GAS DISCHARGE LASER"란 제목의 2005년 6월 27일에 출원된 출원번호 제11/169,202호에 관한 것이고; 또한 "METHOD AND APPARATUS FOR CONTROLLING THE OUTPUT OF A GAS DISCHARGE MOPA LASER SYSTEM"이란 제목의 2005년 1월 13일에 출원된 출원번호 제11/035,938호에 관한 것이고; 또한 "HIGH POWER HIGH PULSE REPETITION RATE GAS DISCHARGE LASER SYSTEM BANDWIDTH MANAGEMENT"란 제목의 2004년 11월 30일에 출원된 제11/000,571호에 관한 것이고; 그리고 "MULTI-CHAMBERED EXCIMER OF MOLECULAR FLUORINE GAS DISCHARGE LASER FLUORINE INJECTION CONTROL"이란 제목의 2005년 5월 5일에 출원된 출원번호 제10/953,100호에 관한 것이다.
예컨대, 스캐너 이미징 시스템에서, 예컨대, 피치를 가지고 프린팅되는 임계 치수("CD")의 변동, 그렇지 않다면 때때로 광 근접 효과(OPE)라 불리는 임의의 포토리소그래피 파라미터는 이미징 및 프로세스 상태의 특징이고, 이러한 상태의 변동에 민감한 행동을 나타낸다. 안정한 프로세스 상태를 유지하는 것은 마스크 광 근접 보정(OPC)의 유효성을 향상할 수 있다. OPE에 영향을 미치는 팩터 중 하나는 광원의 스펙트럼 대역폭이다. 지금까지, 패시브 대역폭 안정화 기술이 OPE 컨트롤 요구사항을 충족시키는데 효과적이였다. 그러나, 앞으로 더욱 타이트한 OPE 명세사항이 발전된 대역폭 컨트롤 기술을 요구할 것이다. 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 본 출원인은 본 출원인의 양수인의 'Cymer 7XXX' 레이저 시스템, 예컨대, 7010과 같은, 단일 챔버 레이저 시스템에서, 그리고/또는 Cymer XLA 1XX, 2XX, 또는 3XX 레이저 시스템과 같은 마스터 오실레이터-파워 증폭기("MOPA"), 또는 마스터 오실레이터 파워 오실레이터("MOPO") 레이저 시스템과 같은 듀얼 챔버 레이저 시스템에서, 대역폭의 액티브 안정화의 발전을 제안한다.
'Huggins et al."의 최근 연구, "Effects of laser bandwidth on OPE in a modern lithography tool", 'Optical Microlithography XVIII(2006)'는 초점 시프트, 강도(dose) 시프트, 및 부분적 코히어런스 시프트와 같은, 다른 컨트롤 파라미터로부터 이들에게 유사한 크기의 영향을 가진, 레이저 광의 스펙트럼 특성, 특히 E95 대역폭을 컨트롤하는 방법을 서술한다. 대역폭 메트릭스, E95는 적분된 스펙트럼 강도의 95%를 포함하는 스펙트럼의 폭(전형적으로 피코미터)으로 정의된다. 일반적으로 사용되는 제2대역폭 메트릭스는 반폭치(FWHM)이고, E95보다 측정하기 쉬우나, 그만큼 OPE에 영향을 주지 않는다.
상술된 바와 같이, 현재까지, 패시브 대역폭 안정화 기술은 OPE 컨트롤 요구사항을 충족하는데 효과적이였다. 그러나, 본 출원인은 OPE 컨트롤 명세사항이 점점 더 타이트해지고, E95 대역폭의 안정도를 개선함은 물론, E95 대역폭을 원하는 세트포인트로(즉, 선택된 매우 좁은 범위 내로) 조절하기 위해 액티브 컨트롤 기술이 요구될 것이라고 생각한다. 도 6은 예시의 방법으로 액티브 및 패시브 컨트롤에 대한 안정도 및 세트포인트의 개념에 관한 것이다. 가장 왼쪽의 플롯(노미널)은 시스템 기준선으로서 E95 변화도 대 시간을 도시한다. 중앙 플롯(패시브)은 패시브 개선과 함께, 예컨대, E95 안정도를 개선하고, E95 변화도를 줄이기 위한 목적 이고, 통상적으로 더 낮은 E95 세트포인트임을 도시한다. 가장 오른쪽의 플롯(액티브)은 예시의 방법으로 액티브 컨트롤 방법이 목적이 E95 안정도 및 변화도를 더 제한하고, E95 세트포인트의 다이나믹 선택을 가능하게 함을 도시한다.
'Lambda Physik AG' 특허 미국 제6,490,308호는 가스 수명 연장을 위한 다양한 수단을 서술한다.
개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 방법 및 장치가 개시되어 있고, 본 방법 및 장치는 광원에 의해 산출된 레이저 출력 광 펄스 빔 펄스의 대역폭을 측정하고, 대역폭 측정값을 제공하기 위한 대역폭 측정 모듈; 대역폭 측정값, 및 대역폭 세트포인트를 수신하고, 대역폭 에러 신호를 제공하는 대역폭 에러 신호 발생기; 대역폭 에러에 응답하여 미세 대역폭 보정 액츄에이터 신호, 및 거친(coarse) 대역폭 보정 액츄에이터 신호를 제공하는 액티브 대역폭 컨트롤러를 포함한다. 미세 대역폭 보정 액츄에이터, 및 거친 대역폭 보정 액츄에이터는 각각 대역폭 에러를 줄이는 광원 행동의 개별적인 조절을 포함할 수 있다. 미세 및 거친 대역폭 보정 액츄에이터는 각각 복수의 대역폭 보정 액츄에이터를 포함할 수 있다. 거친 대역폭 보정 액츄에이터는 저주파를 발생시키는 큰 크기의 디스터번스를 타겟으로 하고, 미세 대역폭 보정 액츄에이터는 고주파를 발생시키는 작은 크기의 디스터번스를 타겟으로 한다. 큰 크기의 디스터번스는 큰 E95 세트포인트의 변화, 가스 에이징 효과, 및 듀티 사이클 세트포인트의 큰 시간스케일 컴포넌트의 변화로 구성된 그룹 중 하나 이상을 포함하고, 작은 크기의 디스터번스는 레이저 시스템 출력 펄스 에너지 세트포인트, 및 듀티 사이클 세트포인트의 고속 컴포넌트 변화를 포함하는 그룹 중 하나 이상을 포함한다. 본 장치 및 방법은 최소 또는 최대값을 향한 미세 액츄에이터 컨트롤 출력 경향의 사용할 수 있고, 거친 액츄에이터 컨트롤은 미세 액츄에이터를 중앙값을 향해 되돌아가도록 이동시키는 방식으로 보정 액션을 적용한다. 중앙값은 컨트롤 주체가 양의 방향 및 음의 방향으로 모두 밸런싱된 명목적인 50%를 포함할 수 있다. 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 라인 내로우드 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 방법 및 장치가 개시되고, 본 방법 및 장치는 광원에 의해 산출된 레이저 출력 광 펄스 빔 펄스의 레이저 오퍼레이팅 파라미터를 측정하고, 레이저 오퍼레이팅 파라미터 측정값을 제공하는 레이저 오퍼레이팅 파라미터 측정 모듈; 레이저 오퍼레이팅 파라미터 측정값 및 레이저 오퍼레이팅 파라미터 세트포인트를 수신하고, 레이저 오퍼레이팅 파라미터 에러 신호를 제공하는 레이저 오퍼레이팅 파라미터 에러 신호 발생기; 및 레이저 오퍼레이팅 파라미터의 민감도에 따라 레이저 오퍼레이팅 파라미터 에러 신호를 실시간 추정 필터를 포함하는 다른 레이저 오퍼레이팅 파라미터로 수정하는 레이저 오퍼레이팅 파라미터 에러 신호 조절기를 포함한다. 레이저 오퍼레이팅 파라미터 에러 신호 조절기는 복수의 다른 레이저 오퍼레이팅 파라미터 각각에 대한 레이저 오퍼레이팅 시스템 파라미터의 민감도에 따라 레이저 오퍼레이팅 파라미터 에러 신호를 조절할 수 있다. 레이저 오퍼레이팅 파라미터는 대역폭(Exx), 대역폭(FWXM), 시드 레이저의 에너지 출력(EMO), 시드 레이저와 증폭기 이득 매체 간의 방전 시간차(dtMOPA), 전압(V)을 포함하는 그룹으로부터 선택될 수 있다. 다른 레이저 오퍼레이팅 파라미터는 듀티 사이크(DC), 및 레이저 시스템 출력 에너지(Esht), 및 전압(V)을 포함하는 그룹으로부터 선택될 수 있다. 에러 신호 조절기는 순환 필터, 예컨대, RLS 필터를 포함할 수 있고, 또한 다음을 구현할 수 있다:
Figure 112008061699261-PCT00001
여기서, d[n]는 레이저 파라미터 에러 신호의 현재값이고, w[n]은 다른 레이저 오퍼레이팅 파라미터에 관한 에러 신호의 민감도의 추정치이고, u[n], 및 P[n]은 함께 다른 레이저 파라미터의 역분산의 추정치를 형성하고, λ는 0.0에서 1.0까지의 망각 계수(forgetting factor)이고, 그리고, n은 샘플 인덱스이다. 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 라인 내로우드 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 플루오르 주입 컨트롤 방법 및 장치는 광원의 레이저 오퍼레이팅 파라미터를 측정하는 레이저 오퍼레이팅 파라미터 측정 메카니즘; 시간상의 레이저 오퍼레이팅 파라미터의 값의 대표값을 제공하는 레이저 오퍼레이팅 파라미터 트래킹 메카니즘; 제1비교적 일정한 정상 상태 경향 값, 및 극한값 사이의 레이저 오퍼레이팅 파라미터의 값의 경향을 기초로 가스 충진을 위한 시간을 예측하는 레이저 시스템 가스 리필 예측 메카니즘을 포함할 수 있다. 레이저 오퍼레이팅 파라미터는 전압(V), 및 방전 시간차(dtMOPA)를 포함하는 그룹으로부터 선택될 수 있다.
도 1은 대역폭 컨트롤 디바이스의 E95 민감도 곡선을 도시하고;
도 2는 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 이상적인 대역폭 컨트롤 디바이스 곡선에서의 레이저 시스템 오퍼레이션의 모델을 도시하고;
도 3은 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 예컨대, 시간에 따라 BCD 위치가 변하는 한 예시적인 E95 응답 플롯을 도시하고;
도 4는 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 컨트롤 액츄에이터로서, 예컨대, BCD를 사용하여 E95 세트포인트의 변화에 대한 한 예시적인 E95 응답 플롯을 도시하고;
도 5는 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, BCD 위치에 대한 레이저 시스템 오퍼레이션 곡선(예컨대, 전후 궤적)을 예시의 방법으로 도시하고;
도 6은 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 대역폭 컨트롤 없는 패시브 컨트롤 및 액티브 컨트롤을 가진 대역폭을 예시의 방법으로 도시하고;
도 7은 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따른 액티브 대역폭 컨트롤 회로를 블록 다이어그램 형태로 개략적으로 도시하고;
도 8은 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 디스터번스 타입, 타임 스케일, 및 크기를 도시하고;
도 9는 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 레이징 챔버 내의 플루오르 가스 함량의 변화와 e95 대역폭 변화의 예시적인 플롯을 도시하고;
도 10은 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따른 대역폭 컨트롤의 예시적인 플롯을 도시하고;
도 11은 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 시드 오실레이터/증폭기 이득 매체 레이저 시스템 내의 두 챔버 사이에 방전 시간차의 변화와 E95 대역폭의 변화의 예시적인 플롯을 도시하고;
도 12는 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 가스 리필 사이에 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따른 액티브 대역폭 컨트롤이 있을 때와 없을 때의 E95 대역폭의 한 예시적인 응답을 도시하고;
도 13은 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 한 레이저 파라미터 에러 신호를 다른 레이저 파라미터 변화로 노멀라이징하기 위한 컨트롤 시스템 에러 신호 조절 회로를 도시하고;
도 14는 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라 레이저 시스템 파라미터 에러를 실시간으로 노멀라이징하는 회로를 블록 다이어그램 형태로 개략적으로 도시하고;
도 15는 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따른 원(raw) 데이터의 노멀라이제이션의 한 예시적인 플롯을 도 시하고;
도 16은 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 시간에 따른 dΔtMOPA/dF2의 변화에 대한 한 예시적인 추세 곡선을 도시하고;
도 17은 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 시간에 따른 dV/dF2의 변화에 대한 한 예시적인 추세 곡선을 도시하고; 그리고
도 18은 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 시간에 따른 dEMO/dF2의 변화에 대한 한 예시적인 추세 곡선을 도시한다.
상기 언급된 동시계류중인 미국특허 출원 중 하나 이상에 서술된 바와 같이, E95 대역폭을 정밀하게 측정하기 위해 사용되는, 최신의 온보드 측정 방법은 새로운 어레이의 액티브 컨트롤 솔루션이 사용되는 것을 가능하게 하였다. 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따른, 정교한 컨트롤 알고리즘을 포함한, 진보된 스펙트럼 엔지니어링 기술은 다른 중요한 성능 명세사항을 유지하면서, 리소그래피 광원의 대역폭을 안정화시키고 조절하기 위해 사용되기 위해 개시된다.
개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 몇 가지 알고리즘, 예컨대, E95 피드백 알고리즘, 레이저 파워 피드 포워드 알고리즘, 디더링 컨트롤 알고리즘, 및 BCD 곡선 추적 알고리즘이 고려되었다. 본 출원인은 BCD 오퍼레이팅 곡선의 특정 사이드, 예컨대, 도 1에 예시적으로 도시된 바와 같이, BCD 곡선의 우측부 상에 머무르도록 하는 목적으로, BCD 위치에 대한 조절을 판단하기 위해 측정된 E95 신호 를 사용할 것을 제안한다. 예를 들어, 알고리즘은 기울기를 판단하기 위해 디더링과 조합하여 사용될 수 있고, 이 기울기로부터, 알고리즘은, 예컨대, 극한값, 예컨대, 최소의 레이저 시스템이 오퍼레이팅함을 판단할 수 있다. 음의 기울기 측에서, 알고리즘이 오퍼레이팅 곡선상에서 항상 우측으로 이동하도록 설정되어 있다면, 예컨대, 우측으로 이동하려 한다면, 양의 기울기 측에 머무른다. E95 피드 포워드 알고리즘에서, 예컨대, 레이저의 측정된 효율적인 파워는 2006년 6월 6일에 공개된, 공개번호 US20060114958, 2005년 10월 20일에 출원된, "METHOD AND APPAARATUS FOR GAS DISCHARGE LASER BANDWIDTH AND CENTER WAVELENGTH CONTROL"이란 제목의 상기 참조된 동시계류중인 특허 출원번호 제11/254,282호에 서술된 바와 같이, 예컨대, 이미 식별된 보정 상수를 사용하여, 피드 포워드 방식으로 BCD를 조절하기 위해, 몇몇 시간 인터벌에서, 예컨대, 단일 챔버 가스 방전 레이저 시스템에서, 레이저 시스템 전기 가스 방전의 횟수를 사용함으로써("방전된 샷"), 결정될 수 있다. E95 디더링 알고리즘이 레이저가 현재 오퍼레이팅하고 있는 기울기를 결정한 후, 예컨대, 기울기를 최소화하고, 그리고/또는 그 기울기의 부호를 바꾸거나, 그 기울기를 다른 선택된 기울기로 변경하기 위해, 적합한 방향으로 이동시키도록, 예컨대, 양 및 음의 변화 단계를 현재의 BCD 위치 및 측정 대역폭, 예컨대, E95에 적용하기 위해, 사용될 수 있다.
개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따른 최적화는, 예컨대, BCD 위치의 델타를 이동시키는 것, 및 E95 변화를 측정하는 것을 포함할 수 있다. 그 다음, 이러한 변화는, 예컨대, BCD 곡선의 기울기를 판정하기 위해 사용될 수 있다. 기 울기가, 예컨대, 몇몇 임계값 위에 있다면, BCD 위치는, 예컨대, 도 2에 예시적인 방법으로 도시된 바와 같이, 기울기를 최소화하도록, 즉, 기울기를 영(zero)으로 드라이빙하도록 이동될 수 있다. 예를 들어, 포인트 A에서 시작하여, 알고리즘은, 예컨대, E95를 측정하고, 그 다음, 예컨대, 그 BCD를 사용하여 격자의 굴곡 변화에 의해, 포인트 B로 이동하고, X는 시계방향 또는 반시계반향으로 돌고, 다시 E95를 측정하고, 예컨대, 몇몇 필터링을 사용하여, 예컨대, 셋팅 시간을 통해, 예컨대, BCD 위치로, 예컨대, 단계 변화 후 안정화를 허용하기 위해, 그리고 BCD 그 자체가 밴딩 포지션 변화의 스트레스를 줄이, 예컨대, n개의 샘플에 걸쳐 E95를 평균화한다. 그 다음, 계산된 기울기: DE1/DP1은 BCD 위치가 다시 증가되도록 사용될 수 있다, 예컨대, 상술된 오퍼레이션이, 예컨대, 시간, 및/또는 듀티 사이클 등의 변화와 함께 이동할 수 있는, BCD 곡선의 최소값을 계속 추적하기 위해, 반복될 수 있는 포인트 C로 이동한다.
또한 예시의 방법으로, 도 3에 도시된 바와 같은, 플롯은 대역폭이 대략 0.85pm, 예컨대, 대략 ±1.5fm로 안정화되어 있음으로 인해, BCD가 디더링이 이네이블인 동안, 예컨대, 대략 6턴 CW를, 예컨대, 패시브로 또는 액티브하게 조절되는 예를 도시한다. 최소값의 BCD 위치로의 리턴은, 예컨대, BCD 곡선이 점진적으로 감소하여 최소값으로 되돌아가는 증거이다. BCD 위치로의 단계적 변화에 대한 다른 예에서, 알고리즘은 예로서 도 4에 도시된 바와 같이, 예컨대, 더 낮은 듀티 사이클에서, BCD를 다시 그것의 최소값으로 디더링할 수 있다. BCD 추적과 함께, 알고리즘은 BCD 곡선, 예컨대, 특정 오퍼레이팅 모드에 대하여, BCD 위치를 최적화하 는데 유용할 수 있는, 특정 듀티 사이클에서, 예컨대, E95가 BCD 위치와 함께 어떻게 변하는지를 도시하는, 도 5에 예로서 도시된 바와 같이, 예컨대, E95 대 BCD 위치를 자동으로 추적할 수 있다.
E95 대역폭을 안정화시키는 것은 근래의 DUV 레이저 설계의 포커스였고, 대역폭 안정화를 위한 패시브 개선에, 즉, 측정된 신호를 센싱하고, 피드백 또는 피드 포워드 액츄에이션을 실행하는 것과 같은 액티브 컨트롤 방법을 사용하지 않는 개선에 상당한 노력이 투자되었다. DUV 레이저 기술에 대한 몇몇 패시브 개선은 방전 영역에서의 어쿠스틱(acoustic) 디스터번스를 댐핑시키는 베이스라인 시스템 조절, 및 광 파워 로딩에 대한 시스템 민감도를 줄이는 조절을 포함하였다. 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 본 출원인은 E95를 플라이(fly) 상에 원하는 세트포인트로 조절할 수 있는 능력을 도입할 것을 제안한다. 이 E95 세트포인트는 OPE를 최소화하도록, 또는 툴간 매칭 또는 다른 마이크로-포토리소그래피에 대한 유익한 결과를 제공하도록 선택될 수 있다. E95 대역폭을 정밀하게 측정하기 위해 사용되는, 최신의 온보드 측정법은 다른 주요 성능 명세사항을 유지하면서, 광원의 대역폭을 안정화시키고 조절하기 위해 새로운 어레이의 액티브 컨트롤 솔루션의 개발을 가능하게 하였다. 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 본 출원인은, 예컨대, 마이크로-포토리소그래피 광원, 및 다른 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 라인 내로우드 레이저 광원, 예컨대, XeCl, XeF, ArF, KrF, 및 F2 레이저 광원을 포함한, 예컨대, 상술된 타입의 라인 내로우드 DUV 레이저 시스템상에서 사용될 수 있는 대역폭의 액티브 안정화의 개발을 제안한다.
액티브 스펙트럼 컨트롤("ASC")을 실행함에 있어서, 본 출원인은, 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, (E95 모니터에 의해 실제로 센싱되고 있는, 측정기기의 에러에 대한 주어진 오차, 및 실제 E95를 절대 측정할 수 없는 결과를 측정하려고 시도하는 그 자신의 슬릿 기능 간섭을 인식하는)측정된 E95의 통계적 정확도, 및 E95(액츄에이션)에 대한 변화를 유효화하는 방법을 사용할 것을 제안한다.
지금부터, 도 7을 참조하면, 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따른 액티브 대역폭 컨트롤 시스템(40)을 블록 다이어그램 형태로 개략적으로 도시되어 있고, 여기서, (블록(42)에 도시된) 광학부재 및 레이저 챔버는 디스터번스(50)에 영향을 받고, 그러므로 측정된 대역폭, 예컨대, E95를 나타내는 출력(54)을 차례로 산출할 수 있는, 예컨대, E95 측정 모듈(44)로의 입력인 스펙트럼을 가진, 실제 레이저 광원 출력 레이저 광 펄스 빔(52)을 산출할 수 있는 명목상 출력(46)을 산출한다. 측정 모듈(44) 내의 센서의 출력(54)은, 예컨대, 측정된 E95 대역폭일 수 있다. 상기 언급된 동시계류중인 특허 출원에 서술되고, 'Rafac'의 "Overcoming limitations of etalon spectrometers used for spectral metrology of DUV excimer light sources", Potical Microlithography XVII, Bruce W. Smith, Editor, Proceedings of SPIE, Volume 5377(2004) pp. 846-858.에 서술된 바와 같은, 온보드 에탈론 스펙트로미터 기술의 최근 발전은, 예컨대, 최신의 높은 레졸루션의 에셀(Echelle) 격자 스펙트로미터의 정밀도와 비교가능한 정밀도를 가진, E95 대역폭의 측정을 가능하게 하였다.
외부 프로세스 모니터링을 위해 사용될 수 있는, 예컨대, 디스플레이된 레이저 진단값과 함께, 이 측정값(54)은 덧셈기(64) 내의 원하는 E95 대역폭 세트포인트(62)와 비교된 후 ASC 컨트롤러(60)로 피드백된다. 그 다음, ASC 컨트롤러(60)는, 예컨대, 두 개의 액츄에이터, 저주파수의 큰 진폭의 액츄에이터(72)와 고주파수의 작은 진폭의 액츄에이터(74)를 포함할 수 있는 액츄에이터 유닛(70)으로의 입력 신호를 계산하기 위해, 예컨대, 타겟 에너지 및 듀티 사이클 보상에 관련된, 예컨대 다른 레이저 신호로부터의 정보와 조합하여, 대역폭 에러 신호(66)를 사용할 수 있다. 그 다음, 액츄에이터(72, 74)는 측정된 E95를 E95 세트포인트를 향해 이동시키기 위해 레이저 작동에 대한 보정 액션을 유도할 수 있고, 그로 인해 피드백 루프가 닫힌다.
예컨대, 마이크로-포토리소그래피, 예컨대, DUV 레이저 시스템, 단일 또는 멀티 챔버에 대하여, 높은 평균 파워 높은 펄스 반복률 협대역 레이저 광원은 멀티-입력 멀티 출력(MIMO), 시변, 비선형 시스템이고, 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따른, 액츄에이터 방법의 선택은 각각이 대역폭 에러의 원하는 감소와 다른 레이저 성능에 다른 영향을 미칠 수 있을 때, 조심스럽게 선택될 수 있다. 이려한 영향은 바람직할 수도 있으나, 그들은 임의의 레이저 성능 명세사항에 악영향을 미칠 수도 있다. 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 본 출원인은 레이저 시스템(42)에 부가될 수 있는 넓은 어레이의 디스터번스를 감쇄할 수 있는 우수한 능력을 증명하기 위해 찾은, 임의의 멀티-스테이지, 예컨대, 듀얼 스테이지 액츄에이터 설계를 제안한다. 도 7은, 예시의 방법으로, 상이한 컨트롤 신호에 의해 구동되고, 예컨대, 개별 입력을 통해 레이저 시스템(40)의 동작에 영향을 미치는 듀얼 스테이지 액츄에이터 시스템을 도시한다. 이들 액츄에이터는, 예컨대, 함께 나란히 작동하도록 선택되고 설계될 수 있고, 또한 각각, 예컨대, 특정 클래스의 디스터번스에 응답하도록 최적화될 수 있다. 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 이러한 협동 및 협력은 레이저가 넓은 어레이의 디스터번스에 영향을 받고 있더라도, 원하는 세트포인트, 또는 적어도 세트포인트 부근 원하는 ±범위 내에 대역폭, 예컨대, E95 대역폭을 유지하기 위해, 사용될 수 있다.
몇몇 레이저 시스템 디스터번스는 또한 다른 온보드 컨트롤 시스템을 개선함으로써; 예컨대, 챔버 온도 및 압력 변화를 최소화함으로써 최소화되거나 적어도 감소될 수 있다. 그러나, 레이저 출력 에너지 및 듀티 사이클의 변화와 같은, 다른 디스터번스는 레이저가 어떻게 오퍼레이팅되는지의 특성이고, 그러므로, 최소화하는 것이 쉽지 않다. 컴포넌트의 에이징 및 배열 변화와 같은, 다른 장기간 디스터번스 팩터는 또한 이들 비가역 변화를 직접적으로 덜 또는 더 많이 줄이기 위한 매우 효율적인 메카니즘 없이, E95 대역폭에 영향을 줄 수 있다, 즉 컴포넌트 에이징은 교체하지 않고 되돌아갈 수 없고, 오배열 드리프트는 광 엘리먼트를 재배열하지 않고 변경될 수 없다.
개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 본 출원인은 디스터번스가 도 8 의 디스터번스 효과 차트에 예로서 도시된 바와 같이, 그들이 E95 대역폭에 영향을 미치는, 시간 스케일 및/또는 크기에 의해, 분류될 수 있음을 언급한다. 레이저 오퍼레이팅 파라미터, 예컨대, 출력 퍽스 에너지(90)의 세트포인트 변화는 매우 빠른 시간스케일, 전형적으로 msec 내지 sec, 즉, 미세 액츄에이션 범위(82)에서, E95에 영향을 줄 수 있는 작은 크기의 디스터번스를 구성할 수 있다. 다른 변화, 예컨대 듀티 사이클(92) 및 가스 에이징(94)(예컨대, 플루오르 가스 소비)의 변화는 큰 크기의 효과를 가진 예컨대, 초(예컨대, 듀티 사이클 세트포인트 변화의 높은 주파수 형태에 대하여) 내지 시간, 예컨대, (듀티 사이클 세트포인트의 변화의 낮은 주파수 형태)의 시간스케일 내의 E95 대역폭에 영향을 미칠 수 있다. 예컨대, 광 컴포넌트 에이징 등(96)의 효과로 인한, 다른 장기간 파라미터 변화는 일 내지 주, 또는 아마도 훨씬 더 긴 시간스케일에서 경험될 수도 있고, 또한, 예컨대 가장 큰 크기의 디스터번스일 수 있다. 후자의 두 개는 거친 액츄에이션 범위(84)일 수 있다.
개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 멀티-스테이지 액츄에이터, 예컨대, 듀얼 스테이지 액츄에이터 내에서, 프레임워크, 컨트롤 액션은, 예컨대, 거친 액츄에이션 및 미세 액츄에이션으로 분할될 수 있다. 거친 액츄에이터는, 예컨대 단독으로, 또는 다른 액츄에이터와 조합하여, 예컨대, 낮은 주파수에서 발생하는 큰 크기의 변화를 타겟으로 할 수 있다. 상술된 바와 같은 레이저 광원에서, 이것은 큰 E95 세트포인트 변화, 가스 에이징 효과, (예컨대, 느린 열적 로딩 변화, 레이저 컴포넌트의 에이지 증가 등으로부터 야기된) 듀티 사이클 변화의 긴 시간스케일 컴포넌트를 포함할 수 있다. 미세 액츄에이터는, 예컨대, 단독으로 또는 다른 액츄에이터와 조합하여, 레이저 시스템 출력 펄스 에너지, 및 (예컨대, 고속의 열부하 과도현상 등으로 야기된) 듀티 사이클 변화의 고속 컴포넌트와 같은 작은 크기의 고주파 디스터번스를 타겟으로 한다. 거친 액츄에이터는 또한, 예컨대, 그것의 컨트롤 범위 내로 미세 액츄에이터를 디-세츄레이트 또는 리-센터링하는 역할을 할 수 있다. 즉, 미세 액츄에이터의 컨트롤 출력이 그것의 최소값 또는 최대값을 향한 추세일 수 있을 때, 거친 액츄에이터는 미세 액츄에이터를 그것의 중심값, 예컨대, 컨트롤 주체가 양의 방향 및 음의 방향으로 모두 밸런싱되어 있다면, 예컨대, 명목적인 50%를 향해 다시 회복하는 방식으로 보정 액션을 적용할 수 있다.
거친 액츄에이션터에 대한 하나의 가능한 선택은, 예컨대, 상술된 동시 계류중인 특허출원에 서술된 방법으로, 예컨대, 레이저 챔버의 F2 농도를 조절할 수 있는 F2 가스 주입일 수 있다. 듀얼 챔버 시스템에 대하여, 하나의 가능한 미세 액츄에이터 선택은, 예컨대, 마스터-오실레이터("MO")와 파워-증폭기("PA") 또는 파워 오실레이터("MO") 펄스식-파워 서플라이(도시되지 않음)의 통신 사이의, 상대적 시간 지연, ΔtMOPA의 컨트롤일 수 있다. 단일 챔버 시스템에 대하여, 대안은 라인폭 내로우잉 모듈(LNM)의 격자면의 굴곡의 조절을 포함할 수 있다.
개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 레이저 챔버 내의 플루오르(F2) 가스 농도는, 예컨대, E95 대역폭의 거친 컨트롤의 효과적인 수단을 제공할 수 있다. 챔버는 완전 반사식 라인 내로우잉 모듈(LNM)과 부분 반사 출력 커플러(OC) 사이에 이득 매체를 포함할 수 있다, 즉 레이저 공진 오실레이터 캐비티를 형성한다. LNM은 OC로의 그리고 되돌아오는 각각의 왕복 트립 후 입사광의 스펙트럼을 점진적으로 내로우잉한다. 캐비티를 통한 각각의 왕복 트립은 광의 자극된(stimulated) 방출을 증가시키고, 그러므로, 광 출력 에너지를 증가시킨다. 결국, 자극된 방출은 오실레이터와 레이저 펄스 끝의 이득 매체에 저장된 모든 에너지를 고갈시킨다. 챔버의 F2 농도를 증가시키는 것은, 예컨대, 이득을 증가시켜, 캐비티 내 에너지의 빌드업을 빠르게 한다. 그 다음, 저장된 에너지는 더 많은 자극된 방출이 존재하기 때문에 더 신속하게 고갈될 수 있어, 레이저는 더 짧은 시간 동안 오실레이션 임계치 위에 있게 된다. 광의 유한한 속도로 인하여, 이것은 더 적은 왕복 트립과 동일할 수 있어, 광의 라인 내로우잉이 감소할 수 있고, 그러므로, E95 대역폭은 더 커질 수 있다. 챔버의 F2 농도를 감소시키는 것은 반대 효과를 가질 수 있다, 즉 E95 대역폭을 감소시킬 수 있다.
그러나, F2 농도를 변화시키는 효과는 조절될 수 있다. 예를 들어, 이러한 변화는 또한, 예컨대, 전압 및 에너지 안정도를 포함한 다른 레이저 성능 파라미터에 영향을 줄 수 있다. 이와 같이, F2 농도의 조절은 복수의 입력 최적의 컨트롤 문제를 포함한다. 도 9는 예시의 방법으로 F2 농도가 전형적인 MOPA 구성, 예컨대, Cymer XLA 1XX, 2XX, 또는 3XX 멀티-챔버 레이저 시스템 플랫폼("MOPA" 시스템) 상에서 MO 챔버 내에서 조절될 때, 또한, Cymer ELS-7010 레이저 시스템 플랫폼으로부터의 단일 챔버 레이저 시스템 응답과 유사한, 레이저 시스템을 빠져나가는 광의 E95 대역폭이 어떻게 변할 수 있는지를 도시한다. 도 9는, 예컨대, F2 농도를 사용하는 E95 대역폭 컨트롤 주체를 도시한다.
개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, E95 대역폭을 컨트롤하기 위해 거친 액츄에이터로서 F2 농도를 사용하는 것은, 예컨대, (1) 레이저 가스에 F2의 추가, 또는 레이저가 오퍼레이팅될 때 그것의 자연적 고갈이 다른 고속 컨트롤러(에너지, 파장, 타이밍 등)가, 예컨대, 효과적으로 디커플링될 수 있고, 그리고, 예컨대, 개별적인 고주파수 컨트롤 액츄에이터의 컨트롤 하에서, 에러없이 트래킹할 수 있을 만큼 충분히 느리게(예컨대 수분 이상) 다른 챔버 성능 파라미터에 영향을 줄 수 있고, (2) 액츄에이션의 가용 범위가 타겟팅된 대역폭 편차의 소스, 예컨대, 장기간의 듀티 사이클 변화, 가스 에이징, 및 컴포넌트 에이징을, 예컨대, 감쇄시킬 만큼 충분히 크다는 점을 포함한, 다수의 장점을 가진다. 느린 변화는 더 큰 다이나믹 범위를 가지는 경향이 있어, 더 큰 신호 디스터번스가 보정될 수 있으나, 더 빠른 응답을 요구하는 타입의 디스터번스에 대하여 더욱 빠르게 타겟팅될 수 있는 디스터번스에 대하여는 그 반대이다.
도 10은 예컨대, 단일 챔버 Cymer ELS-7010 플랫폼 상에서 E95 대역폭 상에 거친-액츄에이션으로서 사용된 상술된 F2 주입 기술의 효과를 도시한다. 차트에 디스플레이된 데이터는, 예컨대, 10시간 테스트 동안, 예컨대, 30초마다 취해진, 즉, 대략 5억 샷의 E95 대역폭 측정을 도시한다. 예시의 레이저는 75%의 듀티 사이클로 방전되었고, 출력 에너지는 10mJ이였다. 컨트롤러(60)는 E95를 0.84pm 세트포인트로 조절할 수 있고, 450Mshot 이상에 대하여 50fm 미만의 전체범위(TIR)를 가졌다. 도 12는, 예컨대, 'Toshihiko Ishihara', 'Rafac, et al.'의 "XLA-200:the third-generation ArF MOPA light source for immersion lithography", Opical Microlithography XVIII, Bruce W. Smith, Editor, Proceedings of SPIE, Volume 5754(2005) pp. 773-779.에 서술된 바와 같은, 예컨대, 듀얼 챔버 Cymer XLA 200 플랫폼에서, E95 대역폭의 거친 액츄에이션으로써 사용된 상술된 F2 주입 기술의 효과를 예시의 방법으로 도시한다. 도면상에 개시된 데이터는, 예컨대, 10시간 테스트 동안 예컨대, 매 30초마다 취해진, 즉 대략 1.10억 샷의 E95 대역폭 측정값을 도시한다. 예시의 레이저는 75%의 듀티 사이클로 방전되었고, 출력 에너지는 10mJ이였다. 컨트롤러(60)는 E95를 대략 0.275pm 세트포인트로 조절할 수 있고, 15fm 미만의 전체범위(TIR)를 가졌다. 이들 실험은 모두 F2 주입으로 달성가능한 극도로 타이트한 컨트롤을 도시한다.
듀얼 챔버 레이저에서, 예컨대, MOPA 구성에서, E95 대역폭은 MO와 PA 펄스 파워의 정류(commutation) 사이의, 상대 시간 지연, ΔtMOPA에 민감함을 볼 수 있 다. MO 펄스는 상술된 바와 같이 그것의 듀레이션 동안 점점 더 라인 내로우잉된다. 이것의 효과는 PA 챔버가 MO 챔버와 상대적으로 늦게 방전될 때, 그것은 MO 펄스의 더 라인 내로우잉된 부분을 선택하고, 레이저의 효과적인 E95 대역폭이 감소함을 볼 수 있다. 도 11은 E95 대역폭이, 예컨대, 전형적인 MOPA 구성의 듀얼 챔버 레이저 시스템 상에서 조절된 방전 시간차에 따라 어떻게 변하는지를 보여준다. 도 11은 ΔtMOPA를 사용하는, 예컨대, E95 대역폭 컨트롤 주체를 도시한다. E95 대역폭을 컨트롤하기 위한 미세 액츄에이터로서 방전 시간차를 사용하는 것은 다양한 장점을 가진다, 예컨대, (1) E95의 측정과 ΔtMOPA의 변경이 모두, 예컨대, 매우 높은 주파수의 디스터번스 리젝션을 허용하는, 예컨대, 대략 수십 펄스 시간 스케일 상에, 또는 더 짧은, 예컨대, 펄스-투-펄스에 발생할 수 있다. 즉, 디스터번스는 매우 빠르게 억제될 수 있고; 그리고 (2) 액츄에이션의 가용 범위는, 예컨대, 타겟팅된 대역폭 편차의 소스, 즉 레이저 에너지, 및 듀티 사이클 변동의 더 높은 주파수의 효과를 감쇄시키거나/억제할 만큼 충분히 큰 것으로 볼 수 있다. 도 12는, 예컨대, 듀얼 스테이지 컨트롤러(60) 내의 ΔtMOPA, 미세 액츄에이터, 및 F2 주입 거친 액츄에이터의 효과를 도시한다. 도면에 개시된 데이터는, 예컨대, 듀얼 스테이지 컨트롤없는 min E95 곡선(100) 및 듀얼 스테이지 컨트롤없는 max E95 곡선(102), 및 듀얼 스테이지 컨트롤(104)을 가진 min E95 곡선(104) 및 유사한 max E95 곡선(106)을, 예컨대, 7시간 테스트 동안, 매 30초마다 취해진, 최대 및 최소 E95 대역폭 측 정을 도시한다. 레이저는 75% 듀티 사이클로, 그리고 명목적으로 10mJ, 즉 곡선(104, 및 106) 에서의 스파이크에 의해, 그리고 곡선(100 및 102)에서 계단 변화에 의해 지시된 매 30분 마다 8mJ과 11mJ 사이에서 스위칭된 출력 에너지로 방전되었다. 더 낮은 세트의 곡선(102, 104)은, 예컨대, 하나의 액츄에이터만, 예컨대, 하나의 거친 액츄에이터, 예컨대, F2 주입 컨트롤이 적용된 때, 행동의 종류를 도시하고, 더 높은 곡선(104, 106)은, 예컨대, F2 주입 컨트롤과 함께, E95 대역폭을 안정화시키기 위해, 그리고 그것을 0.35pm의 세트포인트 값까지 시프팅시키기 위해, 예컨대, 미세 액츄에이터, 예컨대, 차등 정류 컨트롤이 사용된 때, 그 효과를 도시한다. 이 데이터는 드라마틱 개선을 도시하고, 그로 인해, 예컨대, 타이밍 컨트롤이 E95 측정의 한계 내에서 안정화된 E95 대역폭을 가진다.
또한, 광 파면을 조절하는 것, 및/또는 그 파면, 및, 예컨대, 격자면의 형상을 변경함으로써(또는 격자면 또는 광 트레인 상에 입사되는 파면 형상을 조절함으로써) 레이저의 라인 내로우잉 모듈 내의 라인 내로우잉 모듈 격자 사이의 상호작용을 조절하는 것은 비교적 빠른 시간 스케일, 예컨대, 초 단위 상의 미세 레졸루션을 가진, E95 대역폭을 조절하는데 효과적인 광학적 방법일 수 있다. 도 1은 대략적으로 이차식으로 볼 수 있는, E95 대역폭과 노멀라이징된 격자 곡선 사이의 관계를 도시한다. E95 대역폭을 컨트롤하기 위한 미세 액츄에이터로서 격자 곡선을 사용하는 것은 몇 가지 장점을 가질 수 있다, 예컨대, (1) 이 격자 곡선이 빠르게 변하될 수 있으므로, 디스터번스를 줄이기 위한 고속 광 파면 굴곡 보정을 허용하 고, E95 대역폭 세트포인트의 변화를 용이하게 하고, (2) 액츄에이션의 가용 범위가 듀티 사이클 변동과 같은, 대역폭 변동의 타게팅된 소스를 감쇄시키고/억제할 만큼 충분히 크다. 도 4는, 예컨대, Cymer ELS-7010 플랫폼 상의 E95 세트포인트 조절을 도시하고, 예컨대, 격자 파면 굴곡 변화를 사용하여, 두 E95 대역폭 세트포인트, 예컨대, 대략 0.875pm와 대략 0.710 pm 사이의 변동을 설명한다.
장래에 OPE 요구사항이 타이트해질수록, E95 대역폭을 컨트롤하기 위해 효율적인 대역폭 컨트롤 기술이 요구되고, 현재의 패시브 스킴을 보충하기 위해 더 액티브 컨트롤 방법을 필요로 할 것임이 예상된다. 결과적으로, 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 본 출원인은 이러한 니드를 충족시키기 위해 거친, 및 미세 액츄에이터의 어레이, 및 듀얼 스테이지 컨트롤 기술을 개발하였다. 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라 최근의 E95 대역폭 측정을 이러한 컨트롤 방법으로 보완하는 것은 다양한 오퍼레이팅 디스터번스의 영향 하에서도, 높은 성능의 E95 안정화 및 조절을 가능하게 한다.
가능한 듀얼 스테이지 액츄에이터 설계의 예는, 예컨대, 거친 액츄에이터로서 F2 주입 컨트롤러, 및 미세 액츄에이터로서, ΔtMOPA 컨트롤러 또는 라인 내로우잉 모듈 격자 굴곡 컨트롤러의 페어링을 포함한다. 본 출원인은 이러한 방법이 예컨대, 산업에 필요한 타이트한 E95 안정성 한계, 및 넓은 E95 세트포인트 조절을 생성하기 위해, 예컨대, DUV 레이저 광원 제품에 통합하기 적합할 수 있음을 증명하 였다.
F2 주입 컨트롤은, 예컨대, 하나 이상의 상기 참조된 동시계류중인 특허출원에 서술된 JAFFA 또는 AFI와 같은, 하나 이상의 알고리즘에 따라, 수행될 수 있고, BCD 컨트롤은, 그 세부사항이 하나 이상의 상기 참조된 동시계류중인 특허 출원에 서술되어 있는, 예컨대, BW 에러 피드백을 기초로 액티브 BCD 변형과 함께, 예컨대, 공기식(pneumatic) BCD 밴딩 메카니즘과 함께, 수행될 수 있고, 그리고 dtMOPA는 대역폭 에러 피드백을 기초로 dtMOPA를 컨트롤하기 위해, 예컨대, 본 출원인의 양수인에 의해 판매되는 기존의 XLA XXX 모델 레이저 시스템과 같은, 타이밍 및 에너지 컨트롤 모듈을 사용하여, 선택되고 조절될 수 있고, 이 또한 하나 이상의 상기 참조된 동시계류중인 특허출원에 서술되어 있다.
하나 이상의 상기 참조된 동시계류중인 특허출원에 서술된 바와 같이, 대역폭 컨트롤 시스템, 예컨대, F2 주입 컨트롤 시스템은, 예컨대, 파라미터의 측정치, 예컨대, E93으로 측정된 대역폭, FWHM으로 측정된 대역폭, dtMOPA, MO의 에너지 출력("EMO"), 전압, MO 오퍼레이팅 포인트 등을 다른 파라미터, 예컨대 에너지 타겟("E"), 및 듀티 사이클("DC")을 감감시킴으로써, 피드백 컨트롤 파라미터에 대한 측정된 에러 신호 상의 다른 레이저 오퍼레이팅 파라미터의 임팩트에 대하여 감감(desensitize)될 수 있다. 도 13은 이러한 시스템을 블록 다이어그램 형태로 개략적으로 도시한다. 도 13은, 예컨대, (예컨대, 측정의 신호대잡음비로 인한) 측정된 크기의 신뢰성을 반영한 "신뢰도" 계수, 및/또는, 예컨대, 각각의 레이저 시 스템 오퍼레이팅 파라미터의 주어진 변화에 대한 F2 농도의 변화(즉, 소비된 F2의 량)의 안정된/예측가능한 각각의 경험적으로 결정된 관계를 기초로, 예컨대, 레이저 시스템 챔버(또는 둘 이상의 각각의 레이저 시스템 챔버 중 하나)에서 소비된 F2의 량을 결정하기 위해 소위 "노멀라이징된", 그리고 적용된, 예컨대, E95로 측정된 대역폭, 전압, MOPA 타이밍("dtMOPA"), 및MO의 에너지 출력("EMO")(예컨대, E95)을 도시한다.
각각의 레이저 시스템 오퍼레이팅 파라미터, 예컨대, E95, V, dtMOPA, 및 EMO 측정된 에러 신호(선택된 세트포인트로부터의 변동)는 예시의 방법으로 도 13에 도시된 바와 같이, 몇몇 방식으로, 예컨대, 각각의 필터(112, 112', 112'', 및 112''') 내에서 E95에 대한 측정, 선택된 측정 횟수에 걸쳐 평균화함으로써, 로우 패스 필터로 필터링될 수 있다. 그 다음, 각각의 필터링된 에러 신호는 현재의 에너지 타겟, 예컨대, 레이저 시스템 전체 출력에서, 예컨대, 셔터에서 측정된 에너지에 대하여 조절될 수 있다. 그 다음, 필터링된 파라미터, 예컨대, E95는 예컨대, 그것으로부터 현재의 에너지 타겟, 예컨대, 각각의 파라미터, E95, V, dtMOPA, 및 EMO, 또는 다른 유사한 값, 예컨대, dV/dE, DE95/dE, DFWHM/dE 등에 대하여, 추정된 플루오르 소비의 변화, δ
Figure 112008061699261-PCT00002
2와 각각의 Etgt 보정 박스(114, 114', 114'', 및 114''')에서의 에너지 타겟의 변화, δEtgt 사이의 경험적으로 결정된 관계, 예컨 대, δ
Figure 112008061699261-PCT00003
2/δEtgt를 기초로 하는, 예컨대, 10mJ을 기초로 하는 값을 뺌으로써, 에너지 타겟, Etgt에 따라 조절될 수 있다. 각각의 DC 보정 박스(116, 116', 116'', 및 116''')에 후속하여, 레이저 오퍼레이팅 파라미터, 예컨대, E95 에러는, 예컨대, 듀티 사이클의 변화를 스케일링(scale)하기 위해 그것으로부터, 예컨대, 듀티 사이클에 대한 E95의 민감도, 또는 다른 유사한 값, 예컨대, dV/dE, dE95/dE, dFWHM/dE 등을 뺀 값, δ
Figure 112008061699261-PCT00004
2/δDC을 가진, 듀티 사이클에 대하여 노멀라이징될 수 있다.
예컨대, 가변 레이저 성능 파라미터, 예컨대, 듀티 사이클 및 셔터 에너지에 영향을 주는, 예컨대, E95, V, dtMOPA, 또는 EMO의 민감도에 대한 추정치는 에너지 또는 듀티 사이클을 변화시키고, 예컨대, E95, V, dtMOPA 또는 EMO의 변화를 측정하는 측정 테스트를 수행함으로써 추정될 수 있다.
그 다음, 각각의 블록(118, 118', 118'', 및 118''')에서, 각각의 추정된 플루오르 소비, δ
Figure 112008061699261-PCT00005
2는 주어진 노멀라이징된 에러 신호에 대하여, 예컨대, 식 (E95REF-E95N)×(dF2/dE95)에 따라 계산될 수 있고, 여기서, (E95REF-E95N)는, 예컨대, 두 개의 개별 파라미터 보정 박스(114, 116)의 조합의 출력이고, (dF2/dE95)는 dE95와 같은, 주어진 레이저 시스템 오퍼레이팅 파라미터 변화에 대한 추정된 플루오르 소비,
Figure 112008061699261-PCT00006
2의 경험적으로 결정된 민감도이다. 오퍼레이팅 파라미터, 예컨대, 도 13에 예시의 방법으로 도시된 바와 같은, E95, V, dtMOPA, 및 EMO의 집합적인 변화를 보정 하기 위한 각각의 추정된 주입량은 컨트롤 알고리즘에 의해 주입량이 결정된 때, 최종적인 플루오르 소비의 추정치를 얻기 위해, 또는 주입량을 결정하기 위해, 덧셈기(122)에서 더해질 수 있는 각각의 n개의 레이저 시스템 오퍼레이팅 파라미터 에러에 대하여 각각의
Figure 112008061699261-PCT00007
2를 얻기 위해, 각각의 박스(120, 120', 120'', 및 120''')에서 각각의 신뢰도 계수, 예컨대, C1, C2,..., Cn -1에 의해 곱해질 수 있다. 예를 들어, F2 주입 컨트롤 알고리즘은
Figure 112008061699261-PCT00008
2 TOT의 현재값을 injectmin과 비교하고, 예컨대, 마지막 주입 후 전체 플루오르 소비의 현재 추정치,
Figure 112008061699261-PCT00009
2 TOT가 injectmin 보다 작다면 주입을 지연시킬 수 있다.
도 14에 블록 다이어그램 포맷으로 개략적으로 도시되어 있는 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 플루오르 소비의 추정치를 결정하기 위한 수정되고 개선된 알고리즘(130)은, 예컨대, Etgt, 및/또는 DC 등에 대하여 노멀라이징된다. 반복 최소 제곱(RLS, Recursive Least Square) 필터가, 예컨대, 듀티 사이클 및 셔터 에너지 민감도를 실시간으로 추정하기 위해, 예컨대 박스(114 및 116)를 자동 식별하기 위해, LPF(112) 후에 사용될 수 있다. RLS 필터는, 예컨대, 아래 알고리즘을 구현할 수 있다:
Figure 112008061699261-PCT00010
여기서, d[n]는 에러 측정치의 현재값, 예컨대, 도 14에 도시된 바와 같은 MO 에너지 에러이고, w[n]은 입력 데이터에 관한 측정치의 민감도의 추정치 백터이고, u[n], 및 P[n]은 함께 입력 데이터 백터의 파라미터 추정치의 역분산의 추정치를 형성한다. 값, λ는, 예컨대, λ를 일정하게 세팅하는 것이 모든 데이터에 대하여 동일한 가중치를 제공하지만, λ에 더 낮은 값을 세팅하는 것은 더 오래된 데이터에 더 낮은 가중치를 적용하도록 하는 망각 계수이다. 항, n은 샘플 인덱스이다. 입력 데이터의 백터(예컨대, 전압 데이터)는, 예컨대, 알고리즘(130)의 성능을 개선시키기 위해 각각의 에러 측정(예컨대, 듀티 사이클 데이터), 및 (가능하다면) 다른 데이터(예컨대, 에너지 데이터)를 감감시키기 위한 데이터를 포함할 수 있다. k, e, w[n], 및 p[n]의 값은, 예컨대, DC 또는 에너지 타겟을 기초로, 예컨대, 신호를 조절하기 위해, 이러한 값을 사용함으로써, 에러 신호, 예컨대, EMO를 조절하기 위해 사용될 수 있다. 이들의 출력은, 예컨대, 각각의 박스(118, 118', 118'', 및 118''')에서 주입 추정치 크기 계산을 적용하기 전에 덧셈기(132 및 134)에서 음으로 더해질 수 있다. 실제로, 데이터 백터는 듀티 사이클 변화(116'''), 셔터 에너지 변화(114'''), 및 아래와 같은 오프셋을 포함한다:
Figure 112008061699261-PCT00011
본 출원인은 이 알고리즘이 실제로 매우 잘 동작할 수 있음을 증명하였다. 도 15는, 예컨대, 에너지 타겟이, 예컨대, 가스 리필 후, 매 30분마다 변하는 테스트 동안 전압에 대한, 이 알고리즘의 어플리케이션을 도시한다. 곡선(140)은 로(raw) 전압 측정치 데이터이고, 곡선(142)은 조절된 전압 측정치이다. 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 그리고 RLS 측정 보정 알고리즘과 같이 도 15에 도시된 바와 같이, 제1에너지 타겟 변화시, 그리고 그 후, RLS 필터(136)를 채용한 알고리즘(130)은 레이저 오퍼레이션 파라미터의 변화의 영향, 예컨대, 그것이 측정된 전압의 변화에 영향을 주는 에너지 타겟의 변화를 정확하게 식별하고 보상한다. 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 이 알고리즘은, 예컨대, E95, V, dtMOPA, 또는 EMO와 관련된 각각의 조절된 에러 신호로부터 가스 소비 및 주입 효과와 다른, 가스 소비 추정치와 관련되지 않은 레이저 오퍼레이팅 파라미터의 효과를 제거하기 위해 사용될 수 있다.
개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 본 출원인은 가스 수명의 길이의 발전된 예측을 위한 방법 및 장치를 제안하고, 본 방법 및 장치는 안정하게 유지되는 것이 바람직한 출력 파라미터, 예컨대, 출력 에너지 세트포인트가 유지될 수 있음을 보장하기 위해, 예컨대, 플루오르 함유물과 함께 전압 상에 더 이상 충분한 컨트롤 주체가 없고, 다른 파라미터가 스펙, 예컨대, 또한 출력 에너지가 세트포인트 아래로 강하된 후, 레이저가 셧 다운될 수 있는 상부 레일까지 상승하는 전압을 벗어날 수 있는, 예컨대, 레이저 오퍼레이션 포인트로, 본 발명의 목적을 위해, 편리하게 정의될 수 있다.
개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 레이저는 임의의 조건 하에서, 예시의 방법으로 단순하게 더 경험적으로 또는 덜 경험적으로 결정된 값, 예컨대, 레이저 리필 후 고정된 시간이 지난 후, 또는 고정된 샷 카운트 등일 수 있는 가변 가스 수명 길이에 대하여 오퍼레이팅하는 것이 가능할 수 있다. 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 리필을 수행하기 위한 이벤트 타임은, 예컨대, dE95/dF2, d(ΔtMOPA)/dF2, ddV/dE, dE95/dE, dFWHM/dE, dV/dF2 등과 같은, 임의의 가스 컨트롤 알고리즘 내부 상태 변수의 분석에 적용된 로직을 사용하여 예측될 수 있다.
이러한 장치 및 방법은, 예컨대, F2 주입 알고리즘의 민감도, 예컨대, dE95/dF2, d(ΔtMOPA)/dF2, dV/dF2, dFWHM/dF2, dEmo/dF2 등을 추정기에서 찾는 것, 및 그들이 특정값, 예컨대, 극한값, 예컨대, 최소값, 또는 최소값에 대한 그들의 근접도를 향하는, 예컨대, 속도를 평가하는 것을 채용할 수 있다. 도 16-18은 예시의 방법으로, 본 출원인의 양수인의 XLA XXX 레이저와 같은, XLA 시스템에서 취해진 실제 데이터를 도시한다. 도 16의 플롯은 dtMOPA/dF2로 표현된, 플루오르 농도에 관한, 레이저 오퍼레이팅 파라미터, 예컨대, 방전 시간차, dtMOPA의 변화의 민감도에 관한 것이다. 도시된 바와 같이, 시간에 따른 값은 결정가능한 기간 동안, 예컨대, 대략 최초의 10×107샷(100Mshots) 동안, 특정의 더 높은 또는 더 낮은 정상 상태 값까지, 예컨대, ~-200까지 수렴할 수 있고, 그 다음, 다른 값을 향할 수 있다, 결정가능한 시간까지, 예컨대, 대략 180Mshots까지, 예컨대, 최소 민감도 경계, 즉 50을 일정하게 향할 수 있다.
예컨대, 0으로의 이러한 수렴은 상술된 바와 같은 가스 수명과 연관될 수 있 다. 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 본 출원인은, 예컨대, 가스가 데이터의 리뷰를 기초로 민감도 관점에서 여전히 충분히 "양호한" 것으로 결정될 수 있다면, 가스 수명 스펙(예컨대, 100M shots)을 지나 지속적인 레이저 방전을 허용하기 위해, 레이저가 경계에 도달하거나 그 경계의 선택된 퍼센트, 예컨대, 그 경계의 90% 내에 값이 도달하지 않고 오퍼레이팅할 수 있는 샷의 개수 또는 시간을 예측할 수 있는 장치 및 방법을 제안한다. 이러한 동작은, 예컨대, 본 출원인의 양수인, 'Cymer, Inc.'의 XLA 및 유사하게 KrF(예컨대, 7XXX) 제품에서, 100M shots 내지 1B shots 범위의 가스 수명에 대하여 관측되었다. 이것은, 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 몇몇 허용공차 팩터가 가스 수명의 강화가, 예컨대, 그 경계가 도달되었거나, 그 경계의 몇몇 알람 한계 내에 있음을 보여주는 레이저 컨트롤 시스템으로 인해, 셧다운의 원치않은 알람을 야기하지 않음을 보장하기 위해 선택될 수 있도록, 예컨대, 시스템이 가스 수명의 끝, 즉, 경계값의 선택가능한 퍼센트 내, 그리고/또는 이러한 경계에 도달하는 시간 또는 샷 등의 선택가능한 퍼센트 내에 근접된 때를 결정하기 위한 다양한 민감도 및 레이저 신호를 사용하는 메트릭스로 구현될 수 있다.
당업자들은 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 개시된 라인 내로우드 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 방법 및 장치는 광원에 의해 산출된 레이저 출력 광 펄스 빔 펄스의 대역폭을 측정하고, 대역폭 측정값을 제공하는 대역폭 측정 모듈; 대역폭 측정값 및 대역폭 세트포인트를 수신하고, 대역폭 에러 신호를 제공하는 대역폭 에러 신호 제너레이터; 대역폭 에러에 응답하여 미세 대역폭 보정 액츄에이터 신호, 및 거친 대역폭 보정 액츄에이터 신호를 제공하는 액티브 대역폭 컨트롤러를 포함할 수 있음이 이해될 것이다. 미세 대역폭 보정 액츄에이터, 및 거친 대역폭 보정 액츄에이터는 각각 대역폭 에러를 줄이는 광원 동작의 개별적인 조절을 포함할 수 있다. 거친 및 미세 대역폭 보정 액츄에이터는 복수의 대역폭 보정 액츄에이터를 포함할 수 있다. 거친 대역폭 보정 액츄에이터는, 예컨대, 수 분 내지 수 개월의 낮은 주파수에서 발생하는 큰 크기의 디스터번스를 타겟으로 하고, 미세 대역폭 보정 액츄에이터는, 예컨대, 수 msec 내지 수 분의 고 주파수에서 발생하는 작은 크기의 디스터번스를 타겟으로 할 수 있다. 큰 크기의 디스터번스는, 제품마다 다를 수 있는, 큰 E95 세트포인트 변화, 가스 에이징 효과, 및, 예컨대, 대략 1분에 걸친 듀티 사이클 세트포인트 변화의 긴 시간스케일(예컨대, 수 분이상)의 그룹 중 하나 이상을 포함하고, 작은 크기의 디스터번스는, 예컨대, mJ세팅의 1%이상의 레이저 시스템 출력 펄스 에너지 세트포인트 변화, 및 예컨대, 1 분 미만의 듀티 사이클 세트포인트 변화의 고속 컴포넌트(수 분 이하)를 포함하는 그룹 중 하나 이상을 포함한다. 본 장치 및 방법은 최소 또는 최대값을 향하는 미세 액츄에이터 컨트롤 출력; 및 미세 액츄에이터 컨트롤을 다시 중앙값으로 이동시키는 방식으로 보정 동작을 적용하는 거친 액츄에이터 컨트롤을 포함할 수 있다. 중앙값은 컨트롤 주체가 양의 방향 및 음의 방향으로 모두 밸런싱된 명목적인 50%를 포함할 수 있다. 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 개시된 라인 내로우드 높은 출력, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 방법 및 장치는 광원에 의해 산출된 레이저 출력 광 펄스 빔 펄스의 레이저 오퍼레이팅 파라미터를 측정하고, 레이저 오퍼레이팅 파라미터 측정값을 제공하는 레이저 오퍼레이팅 파라미터 측정 모듈; 레이저 오퍼레이팅 파라미터 측정값, 및 레이저 오퍼레이팅 파라미터 세트포인트를 수신하고, 레이저 오퍼레이팅 파라미터 에러 신호를 제공하는 레이저 오퍼레이팅 파라미터 에러 신호 제너레이터; 실시간 추정 필터를 포함하는 다른 레이저 오퍼레이팅 파라미터에 대한 레이저 오퍼레이팅 파라미터의 민감도에 따라 레이저 오퍼레이팅 파라미터 에러 신호를 조절하는 레이저 오퍼레이팅 파라미터 에러 신호 조절기를 포함할 수 있다. 레이저 오퍼레이팅 파라미터 에러 신호 조절기는 각각의 복수의 다른 레이저 오퍼레이팅 파라미터에 대한 레이저 오퍼레이팅 시스템 파라미터의 민감도에 따라 레이저 오퍼레이팅 파라미터 에러 신호를 조절할 수 있다. 레이저 오퍼레이팅 파라미터는 대역폭(EXX, 스펙트럼의 전체 에너지의 XX% 부분의 적분), 대역폭(FWXM, 최대값의 X% 부분에서의 전체폭, 예컨대, FWH(alf)M, FW(25%)M, FW(75%)M 등), 시드 레이저의 에너지 출력(EMO), 시드 레이저와 증폭기 이득 매체 간의 방전 시간차(dtMOPA), 및 전압(V)을 포함하는 그룹으로부터 선택될 수 있다. 다른 레이저 오퍼레이팅 파라미터는 듀티 사이클(DC), 및, 예컨대, 출력 셔터에서의 레이저 시스템 출력 에너지(Esht), 및 전압(V)을 포함하는 그룹으로부터 선택될 수 있다. 에러 신호 조절기는 또한 다음을 구현할 수 있는 순환 필터, 예컨대, RLS 필터를 포함할 수 있다:
Figure 112008061699261-PCT00012
여기서, d[n]는 레이저 파라미터 에러 신호의 현재값이고, w[n]은 다른 레이저 오퍼레이팅 파라미터에 관한 에러 신호의 민감도의 추정치이고, u[n], 및 P[n]은 함께 다른 레이저 파라미터의 역분산의 추정치를 형성하고, λ는 0.0에서 1.0까지의 망각 계수이고, 그리고, n은 샘플 인덱스이다. 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태에 따라, 라인 내로우드 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 플루오르 주입 컨트롤 방법 및 장치는 광원의 레이저 오퍼레이팅 파라미터를 측정하는 레이저 오퍼레이팅 파라미터 측정 메카니즘; 시간상의 레이저 오퍼레이팅 파라미터의 값의 대표값을 제공하는 레이저 오퍼레이팅 파라미터 트래킹 메카니즘; 제1비교적 일정한 정상 상태 추세값, 및 극한값 사이의 레이저 오퍼레이팅 파라미터의 값의 추세를 기초로 가스 충진을 위한 시간을 예측하는 레이저 시스템 가스 리필 예측 메카니즘을 포함할 수 있다. 레이저 오퍼레이팅 파라미터는 전압(V), 및 방전 시간차(dtMOPA), 에너지 퍼센트 적분에서의 대역폭, 즉 E95 %, EXX % 등, 마스터 오실레이터의 에너지 출력, EMO, 증폭기 이득 매체, 예컨대, PA 또는 PO 또는 다른 타입의 증폭 이득 스테이지(예컨대, 듀얼 챔버 레이저 출력 에너지)의 에너지 출력, EPA, EPO, 또는 레이저 시스템의 출력 에너지, 예컨대, 셔터에서의 Esht의, 다른 증폭 이득 스테이지, 예컨대, 링 파워 증폭 스테이지의 Eout을 포함하는 그룹으로부터 선택될 수 있다.
당업자들은 상술된 본 발명의 실시예의 형태들이 각각의 청구항의 발명의 적어도 하나의 가능한 실시예를 개시하고자 한 것이고, 하나 이상의 이러한 예시적인 실시예이고자 한 것이고, 임의의 방법으로 임의의 청구항의 범위를 제한하지 않고, 특정의 개시된 실시예만으로 특정하고자 한 것이 아님이 이해될 것이다. 특히 동등론의 목적을 위해 청구항의 해석에 관하여, 다양한 변형 및 수정이 개시된 본 발명의 실시예의 개시된 형태에 대하여 이루어질 수 있음이, 당업자들은 이해될 것이다. 첨부된 청구항은 청구된 본 발명의 실시예의 개시된 형태는 물론, 당업자들에게 명백한 동등물 및 다른 변형을 커버하는 범위, 및 의미를 의도하였다. 상술된 개시된 본 발명의 개시된 본 발명의 개시되고 청구된 형태에 대한 변형 및 수정과 함께, 다른 것들이 구현될 수 있다.
35U.S.C. §112를 만족시키는 데에 필요한 본 특허 출원에서 상세히 기술되고 예시된 [타이틀]의 실시예의 특정한 형태들이 상술한 실시예의 형태에 의해 해결될 문제, 또는 그 목적을 위한 기타 다른 이유를 위한 상술한 목적을 완전히 달성할 수 있으나, 당업자들은 청구된 본 발명의 서술된 실시예의 현재 서술된 형태가 오직 청구된 본 발명에 의해 폭넓게 고려된 본 발명의 예시, 설명 및 대표일 뿐임을 이해해야 한다. 현재 서술되고 청구된 형태의 실시예의 범위는 본 명세서의 교시를 기초로 당업자들에게 현재 명백하거나 명백해질 수 있는 다른 실시예를 모 두 포함한다. 본 [타이틀]의 범위는 첨부된 청구항에 의해서만 단독으로 완전히 제한되며, 첨부된 청구항의 내용을 벗어나지 않는다. 단수의 이러한 청구한 내의 한 엘리먼트를 참조하는 것은 분명하게 명시되지 않았다면, 그 의미를 이러한 청구항을 "하나 이상"이 아니라, "하나 및 하나만"으로 해석해서는 안된다. 당업자들이 알고 있거나 차후에 알게 될 상술된 형태의 실시예의 임의의 엘리먼트에 대한 모든 구조적 및 기능적 동등물은 본 명세서에 참조로서 특별히 통합되고, 본 청구항에 의해 포함되는 것으로 의도되었다. 본 명세서 및/또는 청구항에 사용된 임의의 용어, 및 본 출원의 명세서 및/또는 청구항에 분명하게 주어진 의미는 임의의 사전적 의미, 또는 이러한 용어에 대하여 다른 일반적으로 사용되는 의미와 무관하게, 그 의미를 가진다. 이것은 본 청구항에 의해 포함되어야 할 것으로, 본 출원에 개시된 실시예의 형태에 의해 해결된 것으로 보여지는 모든 문제 및 각각의 문제를 해결하기 위한 임의의 형태의 실시예로서 본 명세서에 서술된 디바이스 또는 방법에 대하여 필수적인 것은 아니다. 본 명세서 내의 엘리먼트, 컴포넌트, 또는 방법 단계 중 어떤 것도 상기 엘리먼트, 컴포넌트, 또는 방법 단계가 상기 청구범위에서 명확하게 인용되는지 여부에 관계없이 공개되는 것을 의도하는 것은 아니다. 첨부된 청구범위의 엘리먼트는 그 엘리먼트가 문구 "~을 위한 수단"을 사용하여 명백하게 언급되지 않았다면, 또는 방법 청구항의 경우에, 그 엘리먼트가 "동작" 대신에 "단계"로 인용되지 않았다면, 35 U.S.C. §112, 6번째 단락의 규정에 따라 해석되지 않아야 한다.
또한, 당업자들은 미국 특허 법규에 따라, 본 출원인이 본 출원의 명세서에 첨부된 임의의 각각의 청구항, 및 아마도 몇몇 경우에 하나의 청구항에만 언급된 각각의 발명의 적어도 하나의 가능한 실시예를 개시하였음이 이해될 것이다. 특허 출원서의 분량 및 도면 작성 시간을 줄이고, 본 특허 출원을 발명자 및 다른 이들에게 이해하기 쉽게 하기 위한 목적으로, 본 출원인은 본 명세서에서 때때로, 개시된 본 발명의 한 실시예의 형태/피처/엘리먼트의 한 형태/피처/엘리먼트를 정의하고, 그 기능의 동작을 정의하거나, 그리고/또는 그것의 임의의 다른 정의를 설명하기 위해 한정적 동사(예컨대, "~이다", "~하다", "~을 포함하다" 등), 및/또는 다른 한정적 동사(예컨대, "산출하다", "야기하다", "샘플링하다", "판독하다", "시그널링하다" 등), 및/또는 동명사(예컨대, "산출하는", "사용하는", "취하는", "유지하는", "하게 하는", "판단하는", "측정하는", "계산하는" 등)을 사용하였다. 임의의 이러한 한정적 단어 또는 문구 등이 본 명세서에 개시된 임의의 하나 이상의 실시예의 형태/피처/엘리먼트, 즉, 임의의 피처, 엘리먼트, 시스템, 서브-시스템, 컴포넌트, 서브-컴포넌트, 프로세스 또는 알고리즘 단계, 특정 재료 등을 서술하기 위해 사용된 때마다, 그것은 본 출원인이 발명하고 청구한 발명의 범위를 해석하기 위해, 다음의 제한적 문구, "예시의 방법으로", "예를 들어", "일 예로서", "단지 예시적으로", "단지 예시의 방법으로" 중 하나 이상 또는 모두에 앞서고, 그리고, 문구 "~일 수 있다", "~할 수 있다" 등 중 임의의 하나 이상 또는 모두를 포함하는 것으로 해석되어야 한다. 모든 이러한 피처, 엘리먼트, 단계, 재료 등은 하나 이상의 개시된 실시예의 하나의 가능한 형태로서 서술된 것으로 해석되어야 하고, 청구된 본 발명의 임의의 실시예 및/또는 하나의 가능한 실시예의 임의의 하 나 이상의 형태/피처/엘리먼트의 유일한 가능하게 구현으로 해석되지 않아야 하고, 특허법의 요구사항에 따라, 본 출원인은 청구된 본 발명의 하나의 실시예, 또는 임의의 실시예의 임의의 이러한 형태/피처/엘리먼트의 하나의 가능한 예만 개시하였다.
본 명세서에 본 출원인이 청구된 본 발명의 임의의 개시된 실시예의 특정 형태/피처/엘리먼트, 또는 임의의 특정의 개시된 실시예가 청구된 본 발명 또는 임의의 이러한 청구항에 서술된 임의의 형태/피처/엘리먼트를 구현하기 위한 유리한 방법인 것으로 생각한다고 분명하고 특별하게 언급되어 있지 않다면, 본 출원인은 전제 실시예, 또는 본 명세서에 청구된 본 발명의 임의의 개시된 실시예의 임의의 개시된 형태/피처/엘리먼트의 임의의 설명이 청구된 본 발명, 또는 본 발명의 임의의 형태/피처/엘리먼트를 구현하기 위한 유일한 방법이고, 그러므로, 개시된 실시예의 개시된 형태/피처/엘리먼트 또는 개시된 실시예에 대하여, 청구된 본 발명의 다른 가능한 구현방법과 함께 임의의 이러한 개시된 구현 방법을 커버할 만큼 충분히 넓은 임의의 청구항을 제한하는 것으로 해석되고자 의도한 것은 아니다. 본 출원인은 직접적으로 또는 간접적으로 종속하는 모 청구항에 인용된 청구된 본 발명의 임의의 형태/피처, 엘리먼트, 단계 등의 임의의 추가 세부사항을 가진 종속항으로부터 그것을 종속하는 임의의 청구항이 모 청구항의 내용이 다른 구현방법과 함께 종속항에 추가 세부사항을 커버할 만큼 충분히 넓은 의미로 해석되어야 하고, 추가 세부사항은 임의의 모 청구항에 청구된 형태/피처/엘리먼트를 구현하기 위한 유일한 방법으로 해석되지 않아야 하고, 그러므로, 종속항의 추가 세부사항을 모 청구 항에 통합함으로써 포함하는, 임의의 모 청구항의 더 넓은 형태/피처/엘리먼트의 범위를 임의의 방법으로 제한하기 위해, 임의의 종속항에 서술된 임의의 형태/피처/엘리먼트의 추가 세부사항으로 제한되지 않음을 명확하게, 특별히, 그리고 명백하게 의도한다.

Claims (50)

  1. 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템으로서,
    상기 광원에 의해 산출된 레이저 출력 광 펄스 빔의 대역폭을 측정하고, 대역폭 측정치를 제공하는 대역폭 측정 모듈;
    상기 대역폭 측정치, 및 대역폭 세트포인트를 수신하고, 대역폭 에러 신호를 제공하는 대역폭 에러 신호 제너레이터; 및
    상기 대역폭 에러에 응답하여 미세 대역폭 보정 액츄에이터 신호, 및 거친 대역폭 보정 액츄에이터 신호를 제공하는 액티브 대역폭 컨트롤러를 포함하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 미세 대역폭 보정 액츄에이터, 및 상기 거친 대역폭 보정 액츄에이터는 각각 대역폭 에러를 감소하는 상기 광원 행동의 개별적인 조절을 유도하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 거친 대역폭 보정 액츄에이터, 및 상기 미세 대역폭 보정 액츄에이터는 각각 복수의 대역폭 보정 액츄에이터를 포함하는 것을 특징 으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  4. 제 2 항에 있어서, 상기 거친 대역폭 보정 액츄에이터, 및 상기 미세 대역폭 보정 액츄에이터는 각각 복수의 대역폭 보정 액츄에이터를 포함하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 거친 대역폭 보정 액츄에이터는 저주파수에서 발생하는 큰 진폭의 디스터번스를 타겟으로 하고, 상기 미세 대역폭 보정 액츄에이터는 고주파수에서 발생하는 작은 진폭의 디스터번스를 타겟으로 하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  6. 제 2 항에 있어서, 상기 거친 대역폭 보정 액츄에이터는 저주파수에서 발생하는 큰 진폭의 디스터번스를 타겟으로 하고, 상기 미세 대역폭 보정 액츄에이터는 고주파수에서 발생하는 작은 진폭의 디스터번스를 타겟으로 하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  7. 제 3 항에 있어서, 상기 거친 대역폭 보정 액츄에이터는 저주파수에서 발생하는 큰 진폭의 디스터번스를 타겟으로 하고, 상기 미세 대역폭 보정 액츄에이터는 고주파수에서 발생하는 작은 진폭의 디스터번스를 타겟으로 하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  8. 제 4 항에 있어서, 상기 거친 대역폭 보정 액츄에이터는 저주파수에서 발생하는 큰 진폭의 디스터번스를 타겟으로 하고, 상기 미세 대역폭 보정 액츄에이터는 고주파수에서 발생하는 작은 진폭의 디스터번스를 타겟으로 하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  9. 제 5 항에 있어서, 상기 큰 진폭의 디스터번스는 큰 E95 세트포인트 변화, 가스 에이징 효과, 및 듀티 사이클 세트포인트 변화의 긴 시간 스케일 컴포넌트의 그룹 중 하나 이상을 포함하고, 상기 작은 진폭의 디스터번스는 레이저 시스템 출력 펄스 에너지 세트포인트, 및 듀티사이클 세트포인트 변화의 고속 컴포넌트를 포함하는 그룹 중 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  10. 제 6 항에 있어서, 상기 큰 진폭의 디스터번스는 큰 E95 세트포인트 변화, 가스 에이징 효과, 및 듀티 사이클 세트포인트 변화의 긴 시간 스케일 컴포넌트의 그룹 중 하나 이상을 포함하고, 상기 작은 진폭의 디스터번스는 레이저 시스템 출력 펄스 에너지 세트포인트, 및 듀티사이클 세트포인트 변화의 고속 컴포넌트를 포함하는 그룹 중 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  11. 제 7 항에 있어서, 상기 큰 진폭의 디스터번스는 큰 E95 세트포인트 변화, 가스 에이징 효과, 및 듀티 사이클 세트포인트 변화의 긴 시간 스케일 컴포넌트의 그룹 중 하나 이상을 포함하고, 상기 작은 진폭의 디스터번스는 레이저 시스템 출력 펄스 에너지 세트포인트, 및 듀티사이클 세트포인트 변화의 고속 컴포넌트를 포함하는 그룹 중 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  12. 제 8 항에 있어서, 상기 큰 진폭의 디스터번스는 큰 E95 세트포인트 변화, 가스 에이징 효과, 및 듀티 사이클 세트포인트 변화의 긴 시간 스케일 컴포넌트의 그룹 중 하나 이상을 포함하고, 상기 작은 진폭의 디스터번스는 레이저 시스템 출력 펄스 에너지 세트포인트, 및 듀티사이클 세트포인트 변화의 고속 컴포넌트를 포함하는 그룹 중 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  13. 제 5 항에 있어서, 최소 또는 최대값을 향해 기울어진 미세 액츄에이터 컨트롤 출력; 및 상기 미세 액츄에이터를 다시 중앙값을 향하도록 이동시키는 방식으로 보정 액션을 적용하는 거친 액츄에이터 컨트롤을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  14. 제 6 항에 있어서, 최소 또는 최대값을 향해 기울어진 미세 액츄에이터 컨트롤 출력; 및 상기 미세 액츄에이터를 다시 중앙값을 향하도록 이동시키는 방식으로 보정 액션을 적용하는 거친 액츄에이터 컨트롤을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  15. 제 7 항에 있어서, 최소 또는 최대값을 향해 기울어진 미세 액츄에이터 컨트롤 출력; 및 상기 미세 액츄에이터를 다시 중앙값을 향하도록 이동시키는 방식으 로 보정 액션을 적용하는 거친 액츄에이터 컨트롤을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  16. 제 8 항에 있어서, 최소 또는 최대값을 향해 기울어진 미세 액츄에이터 컨트롤 출력; 및 상기 미세 액츄에이터를 다시 중앙값을 향하도록 이동시키는 방식으로 보정 액션을 적용하는 거친 액츄에이터 컨트롤을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  17. 제 9 항에 있어서, 최소 또는 최대값을 향해 기울어진 미세 액츄에이터 컨트롤 출력; 및 상기 미세 액츄에이터를 다시 중앙값을 향하도록 이동시키는 방식으로 보정 액션을 적용하는 거친 액츄에이터 컨트롤을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  18. 제 10 항에 있어서, 최소 또는 최대값을 향해 기울어진 미세 액츄에이터 컨트롤 출력; 및 상기 미세 액츄에이터를 다시 중앙값을 향하도록 이동시키는 방식으로 보정 액션을 적용하는 거친 액츄에이터 컨트롤을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소 그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  19. 제 11 항에 있어서, 최소 또는 최대값을 향해 기울어진 미세 액츄에이터 컨트롤 출력; 및 상기 미세 액츄에이터를 다시 중앙값을 향하도록 이동시키는 방식으로 보정 액션을 적용하는 거친 액츄에이터 컨트롤을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  20. 제 12 항에 있어서, 최소 또는 최대값을 향해 기울어진 미세 액츄에이터 컨트롤 출력; 및 상기 미세 액츄에이터를 다시 중앙값을 향하도록 이동시키는 방식으로 보정 액션을 적용하는 거친 액츄에이터 컨트롤을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  21. 제 13 항에 있어서, 상기 중앙값은 컨트롤 주체가 양의 방향 및 음의 방향으로 모두 밸런싱된 명목상 50%를 포함하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  22. 제 14 항에 있어서, 상기 중앙값은 컨트롤 주체가 양의 방향 및 음의 방향 으로 모두 밸런싱된 명목상 50%를 포함하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  23. 제 15 항에 있어서, 상기 중앙값은 컨트롤 주체가 양의 방향 및 음의 방향으로 모두 밸런싱된 명목상 50%를 포함하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  24. 제 16 항에 있어서, 상기 중앙값은 컨트롤 주체가 양의 방향 및 음의 방향으로 모두 밸런싱된 명목상 50%를 포함하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  25. 제 17 항에 있어서, 상기 중앙값은 컨트롤 주체가 양의 방향 및 음의 방향으로 모두 밸런싱된 명목상 50%를 포함하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  26. 제 18 항에 있어서, 상기 중앙값은 컨트롤 주체가 양의 방향 및 음의 방향 으로 모두 밸런싱된 명목상 50%를 포함하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  27. 제 19 항에 있어서, 상기 중앙값은 컨트롤 주체가 양의 방향 및 음의 방향으로 모두 밸런싱된 명목상 50%를 포함하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  28. 제 20 항에 있어서, 상기 중앙값은 컨트롤 주체가 양의 방향 및 음의 방향으로 모두 밸런싱된 명목상 50%를 포함하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  29. 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템으로서,
    상기 광원에 의해 산출된 레이저 출력 광 펄스 빔 펄스의 레이저 출력 파라미터를 측정하고, 레이저 오퍼레이팅 파라미터 측정값을 제공하는 레이저 오퍼레이팅 파라미터 측정 모듈;
    상기 레이저 출력 파라미터 측정값, 및 레이저 오퍼레이팅 파라미터 세트포 인트를 수신하고, 레이저 오퍼레이팅 파라미터 에러 신호를 제공하는 레이저 오퍼레이팅 파라미터 에러 신호 제너레이터; 및
    실시간 추정 필터를 포함한 다른 레이저 오퍼레이션 파라미터에 대한 상기 레이저 오퍼레이팅 파라미터의 민감도에 따라 상기 레이저 오퍼레이팅 파라미터 에러 신호를 조절하는 레이저 오퍼레이팅 파라미터 에러 신호 조절기를 포함하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  30. 제 29 항에 있어서, 상기 레이저 오퍼레이팅 파라미터 에러 신호 조절기는 각각의 복수의 다른 레이저 오퍼레이팅 파라미터에 대한 상기 레이저 오퍼레이팅 시스템 파라미터의 상기 민감도에 따라 상기 레이저 오퍼레이팅 파라미터 에러 신호를 조절하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  31. 제 29 항에 있어서, 상기 레이저 오퍼레이팅 파라미터는 대역폭(Exx), 대역폭(FWXM), 상기 시드 레이저의 에너지 출력(EMO), 상기 시드 레이저와 증폭기 이득 매체 사이의 방전 시간차(dtMOPA), 및 전압(V)을 포함하는 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  32. 제 30 항에 있어서, 상기 레이저 오퍼레이팅 파라미터는 대역폭(Exx), 대역폭(FWXM), 상기 시드 레이저의 에너지 출력(EMO), 상기 시드 레이저와 증폭기 이득 매체 사이의 방전 시간차(dtMOPA), 및 전압(V)을 포함하는 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  33. 제 29 항에 있어서, 상기 다른 레이저 오퍼레이팅 파라미터는 듀티 사이클(DC), 및 레이저 시스템 출력 에너지(Esht), 및 전압(V)을 포함하는 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  34. 제 30 항에 있어서, 상기 다른 레이저 오퍼레이팅 파라미터는 듀티 사이클(DC), 및 레이저 시스템 출력 에너지(Esht), 및 전압(V)을 포함하는 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  35. 제 31 항에 있어서, 상기 다른 레이저 오퍼레이팅 파라미터는 듀티 사이 클(DC), 및 레이저 시스템 출력 에너지(Esht), 및 전압(V)을 포함하는 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  36. 제 32 항에 있어서, 상기 다른 레이저 오퍼레이팅 파라미터는 듀티 사이클(DC), 및 레이저 시스템 출력 에너지(Esht), 및 전압(V)을 포함하는 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  37. 제 33 항에 있어서, 상기 에러 신호 조절기는 순환 필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  38. 제 34 항에 있어서, 상기 에러 신호 조절기는 순환 필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  39. 제 35 항에 있어서, 상기 에러 신호 조절기는 순환 필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크 로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  40. 제 36 항에 있어서, 상기 에러 신호 조절기는 순환 필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  41. 제 29 항에 있어서, 상기 에러 신호 조절기는 RLS 필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  42. 제 30 항에 있어서, 상기 에러 신호 조절기는 RLS 필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  43. 제 31 항에 있어서, 상기 에러 신호 조절기는 RLS 필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  44. 제 32 항에 있어서, 상기 에러 신호 조절기는 RLS 필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로 -포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  45. 제 29 항에 있어서, 상기 에러 신호 조절기는 다음을 구현하고:
    Figure 112008061699261-PCT00013
    여기서, d[n]은 상기 레이저 파라미터 에러 신호의 현재값이고, w[n]은 상기 다른 레이저 오퍼레이팅 파라미터에 관한 상기 에러 신호의 상기 민감도의 추정치이고, u[n] 및 p[n]은 모두 상기 다른 레이저 오퍼레이팅 파라미터의 역분산의 추정치를 형성하고, λ는 0.0에서 0.01가지의 망각 계수이고, 그리고 n은 샘플 인덱스인 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  46. 제 30 항에 있어서, 상기 에러 신호 조절기는 다음을 구현하고:
    Figure 112008061699261-PCT00014
    여기서, d[n]은 상기 레이저 파라미터 에러 신호의 현재값이고, w[n]은 상기 다른 레이저 오퍼레이팅 파라미터에 관한 상기 에러 신호의 상기 민감도의 추정치 이고, u[n] 및 p[n]은 모두 상기 다른 레이저 오퍼레이팅 파라미터의 역분산의 추정치를 형성하고, λ는 0.0에서 0.01가지의 망각 계수이고, 그리고 n은 샘플 인덱스인 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  47. 제 31 항에 있어서, 상기 에러 신호 조절기는 다음을 구현하고:
    Figure 112008061699261-PCT00015
    여기서, d[n]은 상기 레이저 파라미터 에러 신호의 현재값이고, w[n]은 상기 다른 레이저 오퍼레이팅 파라미터에 관한 상기 에러 신호의 상기 민감도의 추정치이고, u[n] 및 p[n]은 모두 상기 다른 레이저 오퍼레이팅 파라미터의 역분산의 추정치를 형성하고, λ는 0.0에서 0.01가지의 망각 계수이고, 그리고 n은 샘플 인덱스인 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  48. 제 32 항에 있어서, 상기 에러 신호 조절기는 다음을 구현하고:
    Figure 112008061699261-PCT00016
    여기서, d[n]은 상기 레이저 파라미터 에러 신호의 현재값이고, w[n]은 상기 다른 레이저 오퍼레이팅 파라미터에 관한 상기 에러 신호의 상기 민감도의 추정치이고, u[n] 및 p[n]은 모두 상기 다른 레이저 오퍼레이팅 파라미터의 역분산의 추정치를 형성하고, λ는 0.0에서 0.01가지의 망각 계수이고, 그리고 n은 샘플 인덱스인 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 대역폭 컨트롤 시스템.
  49. 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 플루오르 주입 컨트롤 시스템으로서,
    상기 광원의 레이저 오퍼레이팅 파라미터를 측정하는 레이저 오퍼레이팅 파라미터 측정 메카니즘;
    시간에 걸쳐 상기 레이저 오퍼레이팅 파라미터의 값의 대표값을 제공하는 레이저 오퍼레이팅 파라미터 트래킹 메카니즘; 및
    제1비교적 일정한 정상 상태 추세값 및 극한값 사이에 상기 레이저 오퍼레이팅 파라미터의 상기 값의 추세를 기초로 가스 충전을 위한 시간을 예측하는 레이저 시스템 가스 리필 예측 메카니즘을 포함하는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 플루오르 주입 컨트롤 시스템.
  50. 제 49 항에 있어서, 상기 레이저 오퍼레이팅 파라미터는 전압(V), 및 방전 시간차(dtMOPA), 에너지 퍼센트 적분에서의 대역폭, 예컨대, EXX %, 마스터 오실레이터의 에너지 출력, EMO, 증폭 이득 메체의 에너지 출력, 또는 셔터에서의 상기 레이저 시스템의 에너지 출력, Esht를 포함하는 그룹으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 라인 내로우드, 높은 평균 파워, 높은 펄스 반복률의 레이저 마이크로-포토리소그래피 광원의 플루오르 주입 컨트롤 시스템.
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