KR20080102011A - 포토리소그래피 설비 및 방법 - Google Patents

포토리소그래피 설비 및 방법 Download PDF

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KR20080102011A
KR20080102011A KR1020070048263A KR20070048263A KR20080102011A KR 20080102011 A KR20080102011 A KR 20080102011A KR 1020070048263 A KR1020070048263 A KR 1020070048263A KR 20070048263 A KR20070048263 A KR 20070048263A KR 20080102011 A KR20080102011 A KR 20080102011A
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박병철
전성훈
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삼성전자주식회사
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
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Abstract

본 발명은 반도체 제조 장치 및 방법을 개시한 것으로서, 인라인(In-line) 방식과 독립형(Stand-alone) 방식 간의 전환이 용이한 포토리소그래피 설비 및 방법을 제공한다.
Figure P1020070048263
포토리소그래피, 도포, 현상, 노광, 인라인 방식, 독립형 방식

Description

포토리소그래피 설비 및 방법{PHOTO LITHOGRAPHY APPARATUS AND METHOD}
도 1은 본 발명의 일 예에 따른 포토리소그래피 설비의 구조를 개략적으로 보여주는 도면,
도 2는 도 1의 포토리소그래피 설비를 독립형 방식의 구조로 이용하는 예를 보여주는 도면,
도 3은 본 발명의 다른 예에 따른 포토리소그래피 설비의 구조를 개략적으로 보여주는 도면,
도 4는 도 3의 포토리소그래피 설비를 독립형 방식의 구조로 이용하는 예를 보여주는 도면,
도 5는 본 발명의 또 다른 예에 따른 포토리소그래피 설비의 구조를 개략적으로 보여주는 도면이다.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 >
100 : 제 1 이송 모듈 120 : 제 1 이송 유닛
200 : 프로세스 모듈 220 : 도포 모듈
240 : 현상 모듈 300 : 제 2 이송 모듈
320 : 제 2 이송 유닛 330 : 로드 포트
400 : 노광 모듈
본 발명은 반도체 제조 장치 및 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 반도체 사진 공정이 진행되는 반도체 제조 설비 및 방법에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 소자는 실리콘 웨이퍼 상에 소정의 회로 패턴을 형성하도록 박막을 순차적으로 적층하는 과정을 반복함으로써 제조되며, 박막의 형성 및 적층을 위해서는 증착 공정, 사진 공정, 식각 공정 등 다수의 단위 공정들을 반복 수행해야만 한다.
이러한 다수의 단위 공정들 중 사진 공정은 웨이퍼 상에 패턴을 형성하기 위한 공정으로서, 감광액 도포(Coating) 공정, 노광(Exposuring) 공정, 그리고 현상(Developing) 공정 등으로 이루어지며, 현상 공정에 의해 웨이퍼 상에 형성된 패턴을 이용하여 웨이퍼의 최상단층을 식각함으로써 패턴에 따른 소자의 형성이 가능하게 된다.
감광액 도포 공정은 빛에 민감한 물질인 감광액(Photo-Resist; PR)을 코터(Coater)를 사용하여 웨이퍼 표면에 고르게 도포시키는 공정이고, 노광 공정은 스텝퍼(Stepper)를 사용하여 마스크에 그려진 회로 패턴에 빛을 통과시켜 감광막이 형성된 웨이퍼 상에 회로 패턴을 노광하는 공정이며, 그리고 현상 공정은 디벨로퍼(Developer)를 사용하여 노광 공정을 통해 웨이퍼의 표면에서 빛을 받은 부분의 막을 현상시키는 공정이다.
이러한 반도체 사진 공정을 수행하는 반도체 제조 설비는 도포 공정 및 현상 공정이 진행되는 스피너(Spinner) 설비와, 도포 공정을 마친 웨이퍼 상에 패턴을 전사하는 노광 공정이 진행되는 스캐너(Scanner) 설비와, 그리고 스피너 설비와 스캐너 설비의 사이에 배치되어 스피너 설비와 스캐너 설비 간에 웨이퍼를 이송하는 인터페이스부를 포함한다.
본 발명은 반도체 사진 공정을 효과적으로 진행할 수 있는 포토리소그래피 설비 및 방법을 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 목적은 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명에 의한 포토리소그래피 설비는, 도포 모듈 및 현상 모듈을 포함하는 프로세스 모듈과; 상기 프로세스 모듈의 일 측에 배치되며, 상기 도포 모듈에 기판을 반출입하는 제 1 이송 모듈과; 상기 제 1 이송 모듈과 마주보는 상기 프로세스 모듈의 타 측에 설치되며, 상기 현상 모듈에 기판을 반출입하는 제 2 이송 모듈;을 포함하되, 도포 공정을 수행하는 도포 유닛은 상기 도포 모듈에 설치되고, 현상 공정을 수행하는 현상 유닛은 상기 현상 모듈에 설치된다.
상술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의한 포토리소그래피 설비에 있어서, 상기 도포 모듈과 상기 현상 모듈은 분리 가능하게 설치될 수 있다.
상기 도포 모듈과 상기 현상 모듈은 일렬로 인접하게 배치되고, 상기 제 1 이송 모듈은 상기 도포 모듈 및 상기 현상 모듈의 배열 방향과 나란하게 상기 도포 모듈의 일 측에 배치되어 상기 도포 모듈에 기판을 반출입하고, 상기 제 2 이송 모듈은 상기 도포 모듈 및 상기 현상 모듈의 배열 방향과 나란하게 상기 현상 모듈의 일 측에 배치되어 상기 현상 모듈에 기판을 반출입할 수 있다.
상기 도포 모듈과 상기 현상 모듈 중 어느 하나의 모듈은 하층에 배치되고, 다른 하나의 모듈은 상층에 배치될 수 있다.
상기 도포 모듈 및 상기 현상 모듈 각각은 기판을 열처리하는 베이크 유닛들과; 상기 유닛들 간에 기판을 이송하는 이송 로봇;을 더 포함할 수 있다.
상기 제 2 이송 모듈은 상기 프로세스 모듈에 인접하게 배치되며, 기판을 이송하는 인터페이스 로봇이 제공되는 이송 유닛과; 상기 제 1 이송 모듈 및 상기 프로세스 모듈의 배열 방향에 수직하게 배열되도록 상기 이송 유닛의 측면에 설치되며, 기판이 수용된 용기가 놓이는 로드 포트;를 포함할 수 있다.
상기 제 2 이송 모듈은 상기 프로세스 모듈에 인접하게 배치되며, 기판을 이송하는 인터페이스 로봇이 제공되는 이송 유닛과; 상기 제 1 이송 모듈 및 상기 프로세스 모듈의 배열 방향과 나란하게 배열되도록 상기 이송 유닛의 측면에 탈부착 가능하게 설치되며, 기판이 수용된 용기가 놓이는 로드 포트;를 포함할 수 있다.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 의한 포토리소그래피 방법은, 도포 모듈과 현상 모듈이 설치된 프로세스 모듈과; 상기 프로세스 모듈의 일 측에 배치되며, 상기 도포 모듈에 기판을 반출입하는 제 1 이송 모듈과; 상기 제 1 이송 모듈과 마주보는 상기 프로세스 모듈의 타 측에 설치되며, 상기 현상 모듈에 기판 을 반출입하는 제 2 이송 모듈을 가지는 포토리소그래피 설비를 이용하여 포토리소그래피 공정을 수행하되, 상기 제 2 이송 모듈에 인접하게 노광 모듈을 설치하여 인라인(In-line) 방식으로 도포 공정, 노광 공정 및 현상 공정을 순차적으로 수행하거나, 상기 도포 모듈과 상기 현상 모듈을 독립형(Stand-alone) 방식으로 이용하여 도포 공정과 현상 공정을 독립적으로 진행한다.
상술한 바와 같은 특징을 가지는 본 발명에 의한 포토리소그래피 방법에 있어서, 독립형(Stand-alone) 방식으로 도포 공정과 현상 공정이 진행될 경우 상기 도포 모듈과 상기 현상 모듈은 분리 가능하게 설치되고, 상기 제 1 이송 모듈은 분리된 상기 도포 모듈에 기판을 반출입하고, 상기 제 2 이송 모듈은 분리된 현상 모듈에 기판을 반출입할 수 있다.
상기 도포 모듈과 상기 현상 모듈은 일렬로 인접하게 배치되며, 상기 제 1 이송 모듈은 상기 도포 모듈 및 상기 현상 모듈의 배열 방향과 나란하게 상기 도포 모듈의 일 측에 배치되어 상기 도포 모듈에 기판을 반출입하고, 상기 제 2 이송 모듈은 상기 도포 모듈 및 상기 현상 모듈의 배열 방향과 나란하게 상기 현상 모듈의 일 측에 배치되어 상기 현상 모듈에 기판을 반출입할 수 있다.
독립형(Stand-alone) 방식으로 도포 공정과 현상 공정이 진행될 경우 상기 도포 모듈과 상기 현상 모듈 중 어느 하나의 모듈은 하층에 배치되고, 다른 하나의 모듈은 상층에 배치되며, 상기 제 1 이송 모듈은 복층 구조의 모듈들 중 상기 도포 모듈에 기판을 반출입하고, 상기 제 2 이송 모듈은 복층 구조의 모듈들 중 상기 현상 모듈에 기판을 반출입할 수 있다.
인라인(In-line) 방식으로 공정이 진행될 경우 상기 제 2 이송 모듈은 상기 프로세스 모듈과 상기 노광 모듈 간에 기판을 이송할 수 있다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 포토리소그래피 설비 및 방법을 상세히 설명하기로 한다. 우선 각 도면의 구성 요소들에 참조 부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.
( 실시 예 )
본 발명의 포토리소그래피 설비(10)는 인라인(In-line) 방식으로 도포 공정, 노광 공정 및 현상 공정을 순차적으로 진행하거나, 독립형(Stand-alone) 방식으로 도포 공정, 노광 공정 및 현상 공정을 독립적으로 진행하는 것을 특징으로 가진다. 먼저, 인라인(In-line) 방식으로 배치된 포토리소그래피 설비에 대해 설명하고, 이를 이용하여 독립형(Stand-alone) 방식으로 공정을 진행하는 과정에 대해 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 예에 따른 포토리소그래피 설비(10)의 구조를 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 1을 참조하면, 포토리소그래피 설비(10)는 제 1 이송 모듈(100), 프로세스 모듈(200), 제 2 이송 모듈(300) 및 노광 모듈(400)을 가진다. 제 1 이송 모 듈(100), 프로세스 모듈(200), 제 2 이송 모듈(300) 및 노광 모듈(400)은 제 1 방향(12)을 따라 순차적으로 일렬로 배치된다.
제 1 이송 모듈(100)은 기판이 수납된 용기(112)가 놓이는 로드 포트(110)와, 로드 포트(110)에 놓인 용기(112)와 프로세스 모듈(200) 간에 기판을 이송하는 제 1 이송 유닛(120)을 가진다. 로드 포트(110)는 복수 개가 제공되며, 로드 포트(110)들은 제 1 이송 유닛(120)의 일 측면에 제 1 방향(12)과는 수직한 제 2 방향(14)을 따라 나란히 배치된다. 제 1 이송 유닛(120)은 로드 포트(110)와 프로세스 모듈(200) 사이에 배치된다. 제 1 이송 유닛(120)에는 용기(112)와 프로세스 모듈(200) 간에 기판을 이송하는 인덱스 로봇(122)과, 인덱스 로봇(122)이 제 2 방향(14)으로 직선 이동되도록 인덱스 로봇(122)의 이동을 안내하는 가이드 레일(124)이 제공된다.
프로세스 모듈(200)은 제 1 방향(12)을 따라 제 1 이송 모듈(100)의 일 측에 배치되며, 도포 모듈(220)과 현상 모듈(240)을 가진다. 도포 모듈(220)과 현상 모듈(240)은 제 1 방향(12)을 따라 일렬로 인접하게 배치된다. 그리고, 도포 모듈(220)과 현상 모듈(240)은 인라인(In-line) 방식에서 독립형(Stand-alone) 방식으로의 전환이 가능하도록 분리 가능하게 설치될 수 있다.
도포 모듈(220)에는 기판에 도포 공정이 진행되는 도포 유닛(222)과, 기판에 대한 가열 또는 냉각 공정을 수행하는 복수의 베이크 유닛들(224a,224b,224c)이 설치된다. 그리고, 현상 모듈(240)에는 기판에 현상 공정을 수행하는 현상 유닛(242)과, 기판에 대한 가열 또는 냉각 공정을 수행하는 복수의 베이크 유닛 들(244a,244b,244c)이 설치된다.
도포 모듈(220) 및 현상 모듈(240)의 중앙에는 제 1 방향(12)을 따라 직선으로 제공되는 이동 통로(226,246)가 마련된다. 이동 통로(226,246)에는 공정 로봇(228,248)과 가이드 레일(230,250)이 각각 제공된다. 공정 로봇(228)은 제 1 이송 모듈(100)과 도포 모듈(220), 그리고 도포 모듈(220)과 현상 모듈(240) 간에 기판을 이송하고, 공정 로봇(248)은 현상 모듈(240)과 도포 모듈(220), 그리고 현상 모듈(240)과 제 2 이송 모듈(300) 간에 기판을 이송한다. 또한, 공정 로봇(228,248)은 도포 모듈(220) 및 현상 모듈(240) 내에서 공정 유닛들 간에 기판을 이송한다. 가이드 레일(230,250)은 이동 통로(226,246) 내에 제 1 방향을 따라 일직선으로 배치되며, 공정 로봇(228,248)이 제 1 방향(12)을 따라 직선 이동되도록 공정 로봇(228,248)의 이동을 안내한다. 공정 로봇(228,248)과 인덱스 로봇(122), 그리고 공정 로봇(228,248)과 후술할 인터페이스 로봇(322)은 직접 기판을 주고받도록 형상 지어지거나, 기판이 놓이는 스테이지(미도시)를 매개로 하여 기판을 주고받을 수 있다.
이동 통로(226,246)의 양측에는 이동 통로(226,246)를 따라 복수의 공정 유닛들이 설치된다. 일 예에 의하면, 도포 유닛(222)들과 현상 유닛(242)들은 이동 통로(226,246)의 일 측에 제공되고, 베이크 유닛들은 이동 통로(226,246)의 타 측에 제공되며, 각각의 공정 유닛들은 이동 통로(226,246)를 따라 복수 개가 배치될 수 있다.
베이크 유닛들은 기판이 도포 유닛(222), 노광 모듈(400), 그리고 현상 유 닛(242)으로 이송되기 전 또는 이송된 후에 기판을 가열하고 냉각한다. 도포 모듈(220)에 구비되는 베이크 유닛들(224a,224b,224c)로는 포토 레지스트를 도포하기 전에 기판을 소정의 온도로 가열하여 기판 표면의 유기물이나 수분을 제거하는 프리 베이크(Pre-Baking) 공정을 수행하는 베이크 유닛(224a)과, 포토레지스트를 기판상에 도포한 후에 행하는 소프트 베이크(Soft-Baking) 공정을 수행하는 베이크 유닛(224b)과, 기판을 냉각하는 공정을 수행하는 베이크 유닛(224c) 등을 예로 들수 있다. 그리고, 현상 모듈(240)에 구비되는 베이크 유닛들(244a,244b,244c)로는 광이 조사되어 변형된 포토 레지스트를 현상한 이후에 행하는 하드 베이크(Hard-Baking) 공정을 수행하는 베이크 유닛(244a), 포토 레지스트를 광원으로 노광시킨 이후에 행하는 노광 후 베이크(Post Exposure Baking) 공정을 수행하는 베이크 유닛(244b), 그리고 기판을 냉각하는 공정을 수행하는 베이크 유닛(244c)들을 예로 들을 수 있다.
또한, 도포 모듈(220) 및 현상 모듈(240)에는 기판을 일시적으로 보관하도록 버퍼 유닛(미도시)이 설치될 수 있다. 버퍼 유닛(미도시)은 도포 모듈(220) 및 현상 모듈(240)에 에러가 발생할 때 베이크 유닛들에서 공정 진행 중인 기판을 일시적으로 보관할 수 있다.
제 2 이송 모듈(300)은 제 1 이송 모듈(100)과 마주보는 프로세스 모듈(200)의 타 측에 설치된다. 제 2 이송 모듈(300)은 현상 모듈(240)과 노광 모듈(400) 간에 기판을 이송하는 제 2 이송 유닛(320)을 가진다. 제 2 이송 유닛(320)에는 기판을 이송하기 위한 인터페이스 로봇(322)과, 인터페이스 로봇(322)이 제 2 방향(14) 으로 직선 이동되도록 인터페이스 로봇(322)의 이동을 안내하는 가이드 레일(324)이 제공된다.
노광 모듈(400)은 제 2 이송 유닛(320)을 중심으로 현상 모듈(240)과 마주보도록 제 2 이송 유닛(320)의 타측에 설치되며, 패턴이 형성된 마스크를 사용하여 기판에 형성된 포토레지스트로 광을 조사하는 공정을 수행한다. 노광 모듈(400)은 광원으로 원 자외선(Deep Ultra-Violet, DUV)을 사용할 수 있다. 예컨대, 광원으로는 불화 크립톤 엑시머 레이저(KrF Excimer Laser) 또는 불화 아르곤 엑시머 레이저(ArF Excimer Laser)가 사용된다.
이상에서 설명한 포토리소그래피 설비(10)는 도포 공정, 노광 공정 및 현상 공정을 인라인(In-line) 방식으로 진행할 수 있으며, 공정 진행 방식에 따라 인라인(In-line) 방식에서 독립형(Stand-alone) 방식으로 전환하여야 할 필요가 있다. 여기서 말하는 독립형(Stand-alone) 방식이란 포토리소그래피 설비(10)로부터 노광 모듈(400)을 분리한 후, 프로세스 모듈(200)을 독립적인 도포 모듈(220)과 현상 모듈(240)로 분리하여 도포 공정과 현상 공정을 별개의 독립된 공정으로 진행하는 방식을 말한다.
설비(10)를 독립형(Stand-alone) 방식으로 전환하기 위해서는 앞서 설명한 프로세스 모듈(200)의 도포 모듈(220)과 현상 모듈(240)을, 도 2에 도시된 바와 같이, 별개의 모듈들로 분리하여야 한다. 이때, 분리된 도포 모듈(220)은 제 1 이송 모듈(100)의 로드 포트(110)에 놓인 용기(112)로부터 기판이 제공되지만, 분리된 현상 모듈(240)은 기판을 공급받을 수 있는 수단이 제공되지 않는다. 이와 같이 인 라인(In-line) 타입의 설비를 이용하여 독립형(Stand-alone) 방식으로 도포 공정 및 현상 공정을 진행하기 위해서는 현상 모듈(240)에 기판을 제공하는 수단이 구비되어야 한다. 이를 위해 제 2 이송 모듈(300)의 제 2 이송 유닛(320)에는 기판이 수용된 용기(332)가 놓이는 로드 포트(330)가 구비된다. 로드 포트(330)는, 도 1에 도시된 바와 같이, 제 1 이송 모듈(100) 및 프로세스 모듈(200)의 배열 방향(제 1 방향)에 수직하게 배열되도록 제 2 이송 유닛(320)의 측면에 설치될 수 있다. 이러한 구성에 의해, 제 1 이송 모듈(100)은 도포 모듈(220)에 기판을 반출입하고, 제 2 이송 모듈(300)은 현상 모듈(240)에 기판을 반출입함으로써, 독립형(Stand-alone) 방식의 공정을 수행할 수 있게 된다.
또한, 로드 포트(330)는, 도 3에 도시된 바와 같이, 제 2 이송 유닛(320)의 일 측에 배치될 수 있다. 로드 포트(330)의 설치시, 제 2 이송 유닛(320)에 연결되어 있던 노광 모듈(400)을 분리시킨 후 제 2 이송 유닛(320)에 로드 포트(330)를 설치함은 당연하다. 로드 포트(330)는 복수 개가 제공될 수 있으며, 로드 포트(330)들은 제 2 방향(14)을 따라 일렬로 배열될 수 있다. 그리고, 로드 포트(330)는 인라인(In-line) 방식과 독립형(Stand-alone) 방식 간의 전환시 노광 모듈(400)의 설치 또는 분리를 위해서 제 2 이송 유닛(320)에 탈부착 가능하게 설치되는 것이 바람직하다. 상기와 같이 제 2 이송 유닛(320)에 로드 포트(330)를 설치하고, 도포 모듈(220)과 현상 모듈(240)을 분리함으로써, 도 4에 도시된 바와 같이 독립형(Stand-alone) 방식으로 도포 공정과 현상 공정을 진행할 수 있게 된다.
도 5는 본 발명의 또 다른 예에 따른 포토리소그래피 설비의 구조를 개략적 으로 보여주는 도면이다. 여기서, 도 1 내지 도 4에 도시된 구성 요소들과 동일한 구성 요소들은 참조 번호를 동일하게 기재하고, 이들에 대한 구체적인 설명은 생략한다.
프로세스 모듈(200)은, 도 5에 도시된 바와 같이, 상층과 하층의 복층 구조를 가질 수 있다. 상층에는 도포 모듈과 현상 모듈 중 어느 하나의 모듈이 배치될 수 있고, 하층에는 다른 하나의 모듈이 배치될 수 있다. 본 실시 예에서는 프로세스 모듈(200)의 하층에 도포 모듈(220')이 설치되고, 상층에 현상 모듈(240')이 설치된 경우를 예로 들어 설명한다. 도 5에 도시된 바와 같이, 도포 모듈(220')과 현상 모듈(240')을 상하층의 복층 구조로 배치하고, 도포 모듈(220')과 현상 모듈(240')에 기판을 반출입하기 위한 로드 포트(112,332)를 설치함으로써, 프로세스 모듈(200)을 별개의 모듈들로 분리하지 않은 상태에서 인라인(In-line) 방식으로부터 독립형(Stand-alone) 방식으로 쉽게 전환할 수 있다.
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
이상에서 설명한 바와 같이 본 발명에 의하면, 인라인(In-line) 방식과 독립형(Stand-alone) 방식 간의 전환을 용이하게 할 수 있다.
또한, 본 발명에 의하면, 인라인(In-line) 방식과 독립형(Stand-alone) 방식 간의 전환시 추가적인 설비 투자나 개조 작업을 요하지 않기 때문에, 생산 비용을 저감할 수 있다.

Claims (12)

  1. 도포 모듈 및 현상 모듈을 포함하는 프로세스 모듈과;
    상기 프로세스 모듈의 일 측에 배치되며, 상기 도포 모듈에 기판을 반출입하는 제 1 이송 모듈과;
    상기 제 1 이송 모듈과 마주보는 상기 프로세스 모듈의 타 측에 설치되며, 상기 현상 모듈에 기판을 반출입하는 제 2 이송 모듈;을 포함하되,
    도포 공정을 수행하는 도포 유닛은 상기 도포 모듈에 설치되고, 현상 공정을 수행하는 현상 유닛은 상기 현상 모듈에 설치되는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 설비.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 도포 모듈과 상기 현상 모듈은 분리 가능하게 설치되는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 설비.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 도포 모듈과 상기 현상 모듈은 일렬로 인접하게 배치되고,
    상기 제 1 이송 모듈은 상기 도포 모듈 및 상기 현상 모듈의 배열 방향과 나란하게 상기 도포 모듈의 일 측에 배치되어 상기 도포 모듈에 기판을 반출입하고,
    상기 제 2 이송 모듈은 상기 도포 모듈 및 상기 현상 모듈의 배열 방향과 나 란하게 상기 현상 모듈의 일 측에 배치되어 상기 현상 모듈에 기판을 반출입하는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 설비.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 도포 모듈과 상기 현상 모듈 중 어느 하나의 모듈은 하층에 배치되고, 다른 하나의 모듈은 상층에 배치되는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 설비.
  5. 제 2 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 도포 모듈 및 상기 현상 모듈 각각은,
    기판을 열처리하는 베이크 유닛들과;
    상기 유닛들 간에 기판을 이송하는 이송 로봇;을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 설비.
  6. 제 2 항 또는 제 4 항에 있어서,
    상기 제 2 이송 모듈은,
    상기 프로세스 모듈에 인접하게 배치되며, 기판을 이송하는 인터페이스 로봇이 제공되는 이송 유닛과;
    상기 제 1 이송 모듈 및 상기 프로세스 모듈의 배열 방향에 수직하게 배열되도록 상기 이송 유닛의 측면에 설치되며, 기판이 수용된 용기가 놓이는 로드 포트;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 설비.
  7. 제 2 항 또는 제 4 항에 있어서,
    상기 제 2 이송 모듈은,
    상기 프로세스 모듈에 인접하게 배치되며, 기판을 이송하는 인터페이스 로봇이 제공되는 이송 유닛과;
    상기 제 1 이송 모듈 및 상기 프로세스 모듈의 배열 방향과 나란하게 배열되도록 상기 이송 유닛의 측면에 탈부착 가능하게 설치되며, 기판이 수용된 용기가 놓이는 로드 포트;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 설비.
  8. 도포 모듈과 현상 모듈이 설치된 프로세스 모듈과; 상기 프로세스 모듈의 일 측에 배치되며, 상기 도포 모듈에 기판을 반출입하는 제 1 이송 모듈과; 상기 제 1 이송 모듈과 마주보는 상기 프로세스 모듈의 타 측에 설치되며, 상기 현상 모듈에 기판을 반출입하는 제 2 이송 모듈을 가지는 포토리소그래피 설비를 이용하여 포토리소그래피 공정을 수행하되,
    상기 제 2 이송 모듈에 인접하게 노광 모듈을 설치하여 인라인(In-line) 방식으로 도포 공정, 노광 공정 및 현상 공정을 순차적으로 수행하거나, 상기 도포 모듈과 상기 현상 모듈을 독립형(Stand-alone) 방식으로 이용하여 도포 공정과 현상 공정을 독립적으로 진행하는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 방법.
  9. 제 8 항에 있어서,
    독립형(Stand-alone) 방식으로 도포 공정과 현상 공정이 진행될 경우 상기 도포 모듈과 상기 현상 모듈은 분리 가능하게 설치되고,
    상기 제 1 이송 모듈은 분리된 상기 도포 모듈에 기판을 반출입하고, 상기 제 2 이송 모듈은 분리된 현상 모듈에 기판을 반출입하는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 방법.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 도포 모듈과 상기 현상 모듈은 일렬로 인접하게 배치되며,
    상기 제 1 이송 모듈은 상기 도포 모듈 및 상기 현상 모듈의 배열 방향과 나란하게 상기 도포 모듈의 일 측에 배치되어 상기 도포 모듈에 기판을 반출입하고,
    상기 제 2 이송 모듈은 상기 도포 모듈 및 상기 현상 모듈의 배열 방향과 나란하게 상기 현상 모듈의 일 측에 배치되어 상기 현상 모듈에 기판을 반출입하는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 방법.
  11. 제 8 항에 있어서,
    독립형(Stand-alone) 방식으로 도포 공정과 현상 공정이 진행될 경우 상기 도포 모듈과 상기 현상 모듈 중 어느 하나의 모듈은 하층에 배치되고, 다른 하나의 모듈은 상층에 배치되며,
    상기 제 1 이송 모듈은 복층 구조의 모듈들 중 상기 도포 모듈에 기판을 반 출입하고, 상기 제 2 이송 모듈은 복층 구조의 모듈들 중 상기 현상 모듈에 기판을 반출입하는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 방법.
  12. 제 8 항에 있어서,
    인라인(In-line) 방식으로 공정이 진행될 경우 상기 제 2 이송 모듈은 상기 프로세스 모듈과 상기 노광 모듈 간에 기판을 이송하는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 방법.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20170071809A (ko) * 2015-12-16 2017-06-26 세메스 주식회사 기판 처리 설비, 기판 처리 설비의 분리 방법
KR20170071807A (ko) * 2015-12-16 2017-06-26 세메스 주식회사 기판 처리 설비, 모듈 간 결합 및 분리 방법
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