KR20080094374A - Ｘ선 촬영장치용 그리드 및 그 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 X선 촬영장치용 그리드 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 X선 투과물질로 이루어지고, 네 가장자리를 따라 소정 높이를 갖는 프레임이 형성되어 있는 기판에 반도체 소잉 머신(sawing machine)을 이용하여 일측 프레임에서 타측 프레임까지 가로지르도록 다수 개의 홈을 일정 간격으로 형성한 후, X선 흡수물질로 구성된 얇고 긴 형태의 흡수체 스트립(strip)을 상기 홈에 삽입하여 고정시켜 별도의 충진재 없이도 흡수체 스트립을 일정 간격으로 고정할 수 있도록 구성함으로써 X선의 검출 효율을 향상시킨 X선 촬영용 그리드 및 그 제조방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 X선 촬영장치용 그리드는, X선 투과물질로 이루어지고, 몸체 전면에 네 가장자리를 따라 프레임이 형성되어 있으며, 상기 몸체를 일방향으로 가로지르는 형태로, 일측 프레임에서 타측 프레임에 걸쳐 서로 일정한 간격으로 다수 개의 홈이 형성되어 있는 기판과; X선 흡수물질로 이루어지고, 얇고 긴 형태로 이루어진 다수 개의 흡수체 스트립;을 포함하여 구성되며, 상기 흡수체 스트립은 상기 홈에 삽입되어 고정되되, 상기 흡수체 스트립의 양단이 상기 프레임에 형성된 홈에 완전히 삽입되고, 상기 프레임 내측에서는 상기 홈에 상기 흡수체 스트립 하부의 일부만 삽입되어 빗살 형태로 구성되는 것을 특징으로 한다.
그리드, 프레임, 공기층, 피폭량, X선 투과율, 조사선량
Description
도 1은 종래기술에 따른 디지털 X선 영상 시스템을 간략하게 도시한 구성도.
도 2는 종래기술에 따른 X선 촬영장치용 그리드의 구성을 보여주는 단면도.
도 3 내지 도 6은 본 발명에 따른 X선 촬영장치용 그리드의 제조방법에 의해 그리드를 제조하는 과정을 개략적으로 보여주는 도면.
도 7은 도 4에 표시된 A부분을 확대한 상태를 보여주는 도면.
도 8은 본 발명에 따른 X선 촬영장치용 그리드에 있어서, 홈이 형성되어 있는 기판에 X선 흡수체가 삽입된 상태를 보여주는 사진.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
10 : X선 흡수체 20 : 충진재
30, 120 : X선 110 : X선원
130 : 피사체 140 : 디지털 X선 검출기
142 : 그리드 150 : 마이크로 프로세서
200 : 기판 210 : 프레임
220 : 홈 230 : 흡수체 스트립
300 : 인서트 장비
본 발명은 X선 촬영장치용 그리드 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 X선 투과물질로 이루어지고, 네 가장자리를 따라 소정 높이를 갖는 프레임이 형성되어 있는 기판에 반도체 소잉 머신(sawing machine)을 이용하여 일측 프레임에서 타측 프레임까지 가로지르도록 다수 개의 홈을 일정 간격으로 형성한 후, X선 흡수물질로 구성된 얇고 긴 형태의 흡수체 스트립(strip)을 상기 홈에 삽입하여 고정시켜 별도의 충진재 없이도 흡수체 스트립을 일정 간격으로 고정할 수 있도록 구성함으로써 X선의 검출 효율을 향상시킨 X선 촬영용 그리드 및 그 제조방법에 관한 것이다.
최근 디지털 산업의 발전에 따라 의학영상장비들도 디지털 방식으로 전환 및 향상되어 가고 있다. 이러한 양상의 일환으로 최근에는 기존의 X선관과 디지털 방사선 영상 검출기를 이용하여 디지털 방식의 X선 영상을 획득하는 디지털 X선 영상장치(digital radiography, DR)가 개발되어 기존의 X선 필름을 대체하고 있으며, 진단 능력을 향상시키기 위하여 더욱 고품질의 X선 영상이 요구된다.
디지털 X선 영상장치에 있어서는 X선을 검출하여 영상화하는데 있어서, 기존의 필름 대신 디지털 방식의 X선 영상 검출기를 이용하는 시스템이 개발되어 사용되고 있다. 디지털 X선 영상 검출기는 매트릭스 형태의 배열을 이루고 있는 픽 셀(pixel) 타입의 소형 광 검출기들이 각각의 위치 별로 흡수되는 X선의 에너지를 직접 또는 간접적으로 검출하여 흡수된 X선의 에너지와 위치에 대한 정보를 디지털화하여 마이크로프로세서로 전송하여 저장 또는 영상화한다.
도 1은 종래기술에 따른 디지털 X선 영상 시스템을 개략적으로 도시한 구성도이다.
도 1을 참조하면, 피사체(130)가 X선관(110)과 디지털 X선 검출기(140) 사이에 위치하고, 마이크로프로세서(150)로부터의 신호에 따라 X선관(110)에서 방출되는 원추형 빔 타입의 X선(120)이 피사체(130)에 조사되고, 피사체(130)를 통과한 X선(120)이 디지털 X선 검출기(140)를 통해 검출되어 상기 디지털 X선 검출기(140)에 연결된 마이크로프로세서(150)의 디스플레이를 통해 영상을 획득하는 과정이 나타나 있다. 상기 디지털 X선 검출기(140)는 매트릭스 형태 배열로 이루어진 광 검출기(도시안됨)를 구비하고, 그 전면에 산란된 X선을 흡수하기 위한 그리드(142)를 구비한다.
상기한 바와 같이 종래기술에 따른 디지털 X선 검출기에서는 매트릭스 형태로 배열된 광 검출기 전면에 그리드(142)를 설치함으로써 X선이 피사체를 통과하면서 발생되는 산란된 X선이 예정된 위치의 광 검출기에 인접한 다른 광 검출기에서 검출되어 노이즈(noise)로 작용하는 것을 방지하여 X선 영상의 대조도가 저하되는 문제점을 해결하였다.
도 2에 도시된 바와 같이, 종래의 그리드는 산란선을 흡수하기 위하여 X선 흡수율이 높은 납을 이용하여 형성된 얇고 긴 형태의 X선 흡수체(10)가 일정 간격 으로 배열되고, 각 X선 흡수체(10) 사이에는 비교적 X선 흡수율이 낮은, 알루미늄 등의 물질로 구성된 충진재(20)가 개재되어 구성되었다. 이와 같이 X선 흡수체(10) 사이에 충진재(20)가 개재되는 이유는 X선 흡수체(10)로 사용되는 납은 연성이 크기 때문에, 상술한 구성과 같이 얇고 긴 형태로 구성한 경우 정밀한 형태의 배열을 유지하기가 어렵기 때문이다.
그러나, 이와 같은 구성 하에서는 비록 X선 흡수율이 낮은 충진재(20)를 사용한다 하더라도, X선(30)이 그리드를 통과하면서 사용된 충진재(20)에 의해 일정 부분 흡수되는 것을 피할 수 없으며, 이로 인하여 X선의 검출 효율이 저하되어 원하는 해상도의 영상을 얻기 위해서는 더 많은 X선의 조사선량이 요구되고 결과적으로 피사체의 방사선 피폭량을 더욱 증가시키는 요인으로 작용하고 있다.
이에 따라, X선 촬영장치용 그리드를 연구 개발하는 입장에서는 그리드에서 흡수되는 X선의 흡수율을 최소화하여 보다 적은 X선의 조사선량으로 양질의 X선 영상을 획득하려는 노력이 요구되고 있다. 이러한 노력중의 하나로 충진재(20)로 통상 사용되고 있는 알루미늄보다 X선 흡수율이 낮은 종이나 탄소를 충진재(20)로 개발하여 사용하고 있다.
그러나 이 경우에도 비록 종이나 탄소의 X선 흡수율이 종래의 충진재로 사용되어진 알루미늄보다는 낮다고 하지만 여전히 X선을 어느 정도 흡수하기 때문에, 바람직하게는 이와 같은 충진재가 전혀 개재되지 않은 그리드 모듈을 개발하는 것이 결국 X선 투과율을 향상시켜 조사선량을 감소시키는데 가장 이상적인 방법이 될 것이다.
이러한 방법 중에 하나로서, 열가소성 재료를 사출성형하여 X선 흡수체를 그물형태로 형성하는 방법이 일본공개특허 제2002-191596호에 개시되어 있다. 이 발명에서는 그리드의 X선 흡수체가 그물형태로 이루어져 X선 흡수체 사이가 충진되지 않은 상태로 형성되어 있으나, X선 흡수체가 사방으로 연결된 형태를 갖기 때문에 X선 흡수체가 차지하는 면적이 증가하여 그리드에서 흡수되는 X선의 선량이 증가함으로써 원하는 영상을 얻기 위해서는 X선의 조사선량을 증가시켜야 하고 그로 인하여 피사체에 피폭량을 증가시킨다는 문제점이 여전히 존재하게 된다.
한편, 이를 해결하기 위한 방법으로 기판에 광경화성 수지액을 넣고 레이저 광원으로 패터닝 노광을 반복하여 선형의 가이드를 형성하고, 가이드를 따라 X선 흡수체를 삽입한 다음, 표면에 커버를 부착한 후 X선 흡수체 사이의 충진물질인 가이드 및 기판을 제거하는 방법이 일본공개특허 제2004-93332호에 개시되어 있다. 그러나 이러한 방법은 가이드를 형성하기 위한 공정이 매우 복잡하고 공정기간이 길며, 공정을 수행하기 위한 작업라인의 증설이 필요하여 제조비용이 증가할 뿐만 아니라, 기판을 제거하기 위한 공정에 의해 X선 흡수체의 미세 앵글이 파괴될 가능성이 있다는 문제점이 있다.
따라서, 본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명에서는 네 가장자리를 따라 프레임이 형성되어 있는 탄소기판에 반도체 소잉 머신을 이용하여 기판을 일방향으로 가로지르는 형태로 다수 개의 홈을 서로 일정한 간격으로 형성한 후, 형성된 다수 개의 홈 각각에 흡수체 스트립(strip)을 삽입하여 장착함 으로써 흡수체 스트립 사이에 충진재를 개재하지 않고도 흡수체 스트립을 고정할 수 있으므로 X선의 검출효율을 향상시킬 수 있는 X선 촬영장치용 그리드 및 그 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 X선 촬영장치용 그리드는, X선 투과물질로 이루어지고, 몸체 전면에 네 가장자리를 따라 프레임이 형성되어 있으며, 상기 몸체를 일방향으로 가로지르는 형태로, 일측 프레임에서 타측 프레임에 걸쳐 서로 일정한 간격으로 다수 개의 홈이 형성되어 있는 기판과; X선 흡수물질로 이루어지고, 얇고 긴 형태로 이루어진 다수 개의 흡수체 스트립;을 포함하여 구성되며, 상기 흡수체 스트립은 상기 홈에 삽입되어 고정되되, 상기 흡수체 스트립의 양단이 상기 프레임에 형성된 홈에 완전히 삽입되고, 상기 프레임 내측에서는 상기 홈에 상기 흡수체 스트립 하부의 일부만 삽입되어 빗살 형태로 구성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명에 따른 X선 촬영장치용 그리드 제조방법은, X선 투과물질로 이루어지며, 몸체 전면에 네 가장자리를 따라 소정 높이의 프레임이 형성되어 있는 기판을 준비하는 단계와; 상기 기판에 반도체 소잉 머신을 이용하여 일측 프레임에서 타측 프레임에 걸쳐 다수 개의 홈을 일정한 간격으로 형성하는 단계와; 상기 다수 개의 홈 각각에 X선 흡수물질로 이루어진 흡수체 스트립을 삽입하여 장착하는 단계;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부 도면을 참고로 하여 상세하게 설명하면 다음과 같다.
도 2 내지 도 5는 본 발명에 따른 X선 촬영장치용 그리드의 제조방법에 의해 그리드를 제조하는 과정을 개략적으로 보여주는 도면이고, 도 6은 도 3에 표시된 A부분을 확대한 상태를 보여주는 도면이다. 도 7은 본 발명에 따른 X선 촬영장치용 그리드에 있어서, 홈이 형성되어 있는 기판에 X선 흡수체가 삽입된 상태를 보여주는 사진이다.
먼저, 도 5를 참조하면, 본 발명에 따른 X선 촬영장치용 그리드는, X선 투과물질로 이루어지고, 네 가장자리를 따라 소정 높이를 갖는 프레임(210)이 일체형으로 형성되어 있으며, 프레임(210)을 포함한 전면에 다수 개의 홈(220)이 서로 일정한 간격을 가지고 일방향으로 형성되어 있는 기판(200)과, X선 흡수물질로 이루어지고 기판(200)의 표면에 형성되어 있는 홈(220)에 삽입되어 고정되는 흡수체 스트립(230)을 포함하여 구성된다. 여기에서 기판(200)의 홈(220)에 장착되어 있는 흡수체 스트립(230)들은 일측 프레임(210) 가장자리에서 타측 프레임(210)의 가장자리에 걸쳐 장착되어 있으며, 프레임(210)에서는 매몰된 형태로 장착되고, 프레임(210) 내측에서는 빗살 형태로 이루어져 흡수체 스트립(230) 사이에는 고정 부위를 제외한 나머지 부분에 충진물질이 존재하지 않는다.
그리드를 구성하고 있는 기판(200)은 X선 투과율이 높은 플라스틱(plastic), 폴리머(polymer), 알루미늄(aluminum), 세라믹(ceramic), 그래파이트(graphite) 및 탄소섬유(carbon fiber) 등으로 이루어질 수 있는데, 본 발명에서는 그래파이트를 이용하였다. 또한, 기판(200)은 몸체 중심부, 즉 X선 투과영역의 소정 깊이를 제거하여 몸체 가장자리에 소정 높이의 프레임(210)을 형성함으로써 단차를 형성하였다.
기판(200) 전면에 형성되어 있는 홈(220)은 반도체 소잉 머신을 이용하여 형성된 것으로, 기판(200)의 일측 가장자리에 형성된 프레임(210)에서 타측 가장자리에 형성된 프레임(210)까지 가로지르도록 형성된다. 홈(220)은 프레임(210) 내측 기판(200)의 전면에서는 기판(200) 두께의 20% 내지 30%의 깊이로 형성되고, 프레임(210)에서는 1 : 10 내지 1 : 100의 종횡비(aspect ratio)를 갖도록 형성된다. 형성되는 홈(220)의 종횡비는 프레임(210)의 높이 및 홈(220)에 삽입될 흡수체 스트립(230)의 두께에 따라 적절한 값으로 결정될 수 있는데, 대개 1 : 40 내지 1 : 50의 종횡비를 갖게 된다. 이렇게 프레임(210)에 형성된 홈(220)의 종횡비를 프레임(210) 내측에 형성된 홈(220)에 비하여 크게 형성함으로써 흡수체 스트립(230)의 양단을 프레임(210)에 완전히 삽입하여 고정시킬 수 있다. 또한, 홈(220)은 기판(200)의 중심쪽으로 기울어지도록 소정의 각도(angle)를 갖도록 형성된다. 이는 X선원으로부터 방출되는 X선빔이 원추형으로 방사되기 때문에 X선 영상을 획득하는데 유효한 X선이 흡수체 스트립(230)에 의해 흡수되는 것을 방지하기 위함이다.
기판(200) 상에 형성된 홈(220)에 장착되는 흡수체 스트립(230)은 X선 흡수율이 높은 납(lead), 금(gold), 바륨(barium), 텅스텐(tungsten), 플라티늄(platinum), 니켈(nikel), 주석(tin)/비스무스(bismuth) 합금, 텅스텐/구리합금 및 구리(copper) 등으로 이루어질 수 있다. 텅스텐/구리합금의 경우 중량비는 텅스텐이 60% 내지 80%, 구리가 20% 내지 40%로 구성되며, 바람직하게는 텅스텐 70%, 구리 30%인 중량비로 구성하는 것이 X선 흡수율을 어느 정도 유지하면서 흡수체 스트립(230)의 가공을 용이하게 한다. 여기에서 흡수체 스트립(230)을 텅스텐/구리합금으로 이용한 것은 텅스텐이 X선 흡수율이 우수하나 매우 견고하여 미세한 두께로 제작하다 보면 깨어지기 쉬워, 순수한 텅스텐을 사용할 때보다는 X선 흡수율이 떨어지나 비교적 연성이 우수한 구리를 혼합함으로써 미세한 두께의 흡수체 스트립(230)의 제작을 가능하게 하였다. 또한, 일반적으로 사용되고 있는 납을 대체할 수 있기 때문에 환경문제에 대응할 수 있도록 하였다.
도 7을 참조하면, 기판(200) 상에 형성된 홈(220)에 장착된 흡수체 스트립(230)의 상태를 알 수 있는데, 흡수체 스트립(230)의 하부 일부만 홈(220)에 삽입되고 나머지 부분은 빗살 형태로 이루어지며, 홈(220)과 흡수체 스트립(230)이 서로 같은 각도로 이루어지는 것을 알 수 있다. 여기에서는 기판(200) 중심부로부터 일측을 보여주고 있으며, 그 타측에는 도시된 것과는 반대 방향의 각도를 갖도록 형성될 것임은 미루어 짐작할 수 있을 것이다. 이는 전술한 바와 같이 X선원으로부터 방사되는 X선빔이 콘형으로 이루어지기 때문이다.
본 발명에 따른 X선 촬영장치용 그리드는 X선 투과영역에서 흡수체 스트립(230)이 빗살 형태로 이루어져 있기 때문에 그리드의 전면에 X선 투과물질로 이루어진 박판(slice) 형태의 커버를 부착하여 흡수체 스트립(230)의 파손을 방지한다. 또한 그리드의 하측, 즉 기판(200)의 배면에도 X선 투과물질로 이루어진 박판 형태의 커버를 부착함으로써 전면에 홈(220)이 형성되어 강도가 약해진 기판(200)을 외부 충격으로부터 손상되는 것을 방지할 수도 있다. 여기에서 사용되는 커버는 X선 투과율이 우수한 재질로 이루어질 수 있으며, 본 발명에서는 에폭시와 같은 접착 부재를 프레임(210) 표면에 도포하고 박판 형태의 그래파이트를 부착하여 형성하였다.
이하, 본 발명에 따른 X선 촬영장치용 그리드의 제조방법에 대하여 설명한다.
먼저, 도 2를 참조하면, 직사각형 형태로 이루어지고 네 가장자리를 따라 프레임(210)이 형성된 기판(200)을 준비한다. (도 2 참조)
다음, 반도체 소잉 머신을 이용하여 기판(200)의 일 방향을 가로지르는 형태로 다수 개의 홈(220)을 일정 간격으로 형성한다. 이때, 홈(220)은 프레임(210)의 일측 가장자리에서 기판(200)의 전면을 따라 타측 가장자리에 걸쳐 형성하되, 프레임(210)에 형성되는 홈(220)은 1 : 10 내지 1 : 100의 종횡비를 갖도록 형성하고, 프레임(210) 내측에서의 홈(220)은 기판(200) 두께의 20% 내지 40%의 깊이로 형성할 수 있다. 반도체 소잉 머신을 이용하여 기판(200)에 홈(220)을 형성했을 때 프레임(210)이 형성되어 있는 기판(200) 가장자리에서 홈(220)의 종횡비가 더 크게 형성되기 때문에 흡수체 스트립(230)을 삽입했을 때 프레임(210)에서는 흡수체 스트립(230) 양단이 완전히 삽입되어 고정되고, 프레임(210) 내측의 기판(200)에서는 흡수체 스트립(230)이 빗살 형태로 이루어져 흡수체 스트립(230) 사이가 충진되지 않은 빈 공간으로 형성된다. (도 3 참조)
도 6은 도 3에 도시된 'A'부분을 확대하여 보여주는 도면으로서, D1은 기판(200)의 가장자리, 즉 기판(200)과 프레임(210)의 두께를 나타내고, D2는 홈(220)의 깊이를 나타내고, D3은 프레임(210) 내측의 기판(200) 두께를 나타내며, D4는 프레임(210) 내측의 기판(200)에 형성되는 홈(220)의 깊이를 나타낸다. 본 발명에 따르면 흡수체 스트립(230)이 X선 투과영역에서 D4만큼만 삽입되어 빗살 형태로 형성되기 때문에 흡수체 스트립(230)의 두께가 D2인 경우, 흡수체 스트립(230) 사이를 D2-D4 만큼의 빈 공간으로 남겨둘 수 있다.
기판(200)에 홈(220)이 형성되면, 인서트 장비를 이용하여 미리 제조된 흡수체 스트립(230)을 각각의 홈(220)에 장착 및 고정하여 그리드를 제조한다. 여기에서 사용되는 인서트 장비에는 CCD(Charge-Coupled Device) 카메라가 장착되어 있어 흡수체 스트립(230)을 미세하게 형성된 홈(220)에 정확하게 삽입할 수 있게 한다. (도 4 및 도 5 참조)
기판(200)에 흡수체 스트립(230)이 모두 삽입되어 그리드가 제조되면, 사용거리에 맞게 흡수체 스트립(230)의 각도를 검사하기 위한 테스트를 실시한다.
그리드의 테스트가 종료되면 그리드의 손상을 방지하기 위하여 그리드의 전면 또는 양면에 커버를 부착한다.
이와 같이, 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시예에 관해 설명하였으나, 본 발명의 범주에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 가지 변형이 가능함은 물론이다. 그러므로, 본 발명의 범위는 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 안되며, 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 이 청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 X선 촬영장치용 그리드 및 그 제조방법은 X선 투과물질로 이루어지고, 네 가장자리를 따라 프레임이 형성되어 단차를 갖는 기판에 반도체 소잉 머신을 이용하여 일정 간격으로 홈을 형성한 후 X선 흡수물질로 이루어진 얇고 긴 형태의 흡수체 스트립을 장착 및 고정하여 충진재 없이도 흡수체 스트립을 고정할 수 있으므로 X선 투과율을 향상시켜 X선 촬영 시 X선의 조사선량을 감소시키더라도 원하는 영상을 획득할 수 있기 때문에 피사체에 방사선 피폭량을 감소시킬 수 있는 효과가 있다.
Claims (12)
- X선 투과물질로 이루어지고, 몸체 전면에 네 가장자리를 따라 프레임이 형성되어 있으며, 상기 몸체를 일방향으로 가로지르는 형태로, 일측 프레임에서 타측 프레임에 걸쳐 서로 일정한 간격으로 다수 개의 홈이 형성되어 있는 기판과;X선 흡수물질로 이루어지고, 얇고 긴 형태로 이루어진 다수 개의 흡수체 스트립;을 포함하여 구성되며,상기 흡수체 스트립은 상기 홈에 삽입되어 고정되되, 상기 흡수체 스트립의 양단이 상기 프레임에 형성된 홈에 완전히 삽입되고, 상기 프레임 내측에서는 상기 홈에 상기 흡수체 스트립 하부의 일부만 삽입되어 빗살 형태로 구성되는 것을 특징으로 하는 X선 촬영장치용 그리드.
- 제 1 항에 있어서,상기 기판은 플라스틱(plastic), 폴리머(polymer), 알루미늄(aluminum), 세라믹(ceramic), 그래파이트(graphite) 및 탄소섬유(carbon fiber)로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 한 가지로 이루어지는 것을 특징으로 하는 X선 촬영장치용 그리드.
- 제 1 항에 있어서,상기 프레임에 형성된 홈은 1 : 10 내지 1 : 100의 종횡비를 갖도록 형성된 것을 특징으로 하는 X선 촬영장치용 그리드.
- 제 1 항에 있어서,상기 프레임 내측의 기판에 형성된 홈은 상기 기판 두께의 20% 내지 40%의 깊이로 형성된 것을 특징으로 하는 X선 촬영장치용 그리드.
- 제 1 항에 있어서,상기 흡수체 스트립은 납(lead), 금(gold), 바륨(barium), 텅스텐(tungsten), 플라티늄(platinum), 니켈(nikel), 주석(tin)/비스무스(bismuth) 합금, 텅스텐/구리합금 및 구리(copper)로 이루어지는 군에서 선택되는 한 가지로 이루어지는 것을 특징으로 하는 X선 촬영장치용 그리드.
- 제 5 항에 있어서,상기 흡수체 스트립은 텅스텐/구리합금으로 이루어지며, 상기 합금의 중량비는 텅스텐이 60% 내지 80%이고, 구리가 20% 내지 40%로 구성된 것을 특징으로 하는 X선 촬영장치용 그리드.
- 제 1 항에 있어서,상기 그리드는 전면 또는 양면에 X선 투과물질로 이루어지며, 접착 부재를 이용하여 부착된 커버를 추가로 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 X선 촬영장치용 그리드.
- 제 7 항에 있어서,상기 커버는 박판 형태의 그래파이트로 구성되는 것을 특징으로 하는 X선 촬영장치용 그리드.
- X선 투과물질로 이루어지며, 몸체 전면에 네 가장자리를 따라 소정 높이의 프레임이 형성되어 있는 기판을 준비하는 단계와;상기 기판에 반도체 소잉 머신을 이용하여 일측 프레임에서 타측 프레임에 걸쳐 다수 개의 홈을 일정한 간격으로 형성하는 단계와;상기 다수 개의 홈 각각에 X선 흡수물질로 이루어진 흡수체 스트립을 삽입하여 장착하는 단계;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 X선 촬영장치용 그리드 제조방법.
- 제 9 항에 있어서,상기 프레임에 형성된 홈은 1 : 10 내지 1 : 100의 종횡비를 갖도록 형성하는 것을 특징으로 하는 X선 촬영장치용 그리드 제조방법.
- 제 9 항에 있어서,상기 프레임 내측의 기판에 형성된 홈은 상기 기판 두께의 20% 내지 40%의 깊이로 형성하는 것을 특징으로 하는 X선 촬영장치용 그리드 제조방법.
- 제 9 항에 있어서,상기 프레임 내측의 기판에 형성된 홈은 상기 기판의 중심부쪽으로 소정 각도 기울어지도록 형성하는 것을 특징으로 하는 X선 촬영장치용 그리드 제조방법.
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