KR20080072509A - 노광용 광원 및 이것을 사용한 노광장치 - Google Patents
노광용 광원 및 이것을 사용한 노광장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20080072509A KR20080072509A KR1020070100211A KR20070100211A KR20080072509A KR 20080072509 A KR20080072509 A KR 20080072509A KR 1020070100211 A KR1020070100211 A KR 1020070100211A KR 20070100211 A KR20070100211 A KR 20070100211A KR 20080072509 A KR20080072509 A KR 20080072509A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- exposure
- lamp
- light source
- light
- lamp unit
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
- G03F7/70016—Production of exposure light, i.e. light sources by discharge lamps
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
본 발명은 레지스트층에 따른 노광이 가능하고, 더구나, 제품수명이 긴 노광용 광원 및 이것을 사용한 노광장치를 제공한다.
노광용 광원(10)은 내압이 다른 램프(24)를 각각 구비한 적어도 2종 이상의 램프 유닛(20(20a, 20b, 20c ···))과, 램프 유닛(20(20a, 20b, 20c ···))을 유지하는 램프 유닛 홀더(22)를 구비하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 내압이 다른 램프(24)를 각각 구비한 적어도 2종 이상의 램프 유닛(20(20a, 20b, 20c ···))을 구비하고 있기 때문에, 노광 대상물(X)을 노광하는 데 최적의 램프 유닛(20(20a, 20b, 20c ···))을 선택적으로 발광시키는 것이 가능해진다.
노광용 광원, 노광 장치, 발광부, 램프, 레지스트층, 점등장치, 반사경
Description
본 발명은, 예를 들면 기판상에 형성된 광 경화형 레지스트(resist)층이나 한 쌍의 기판끼리의 가장자리를 접착하기 위한 광(자외광 또는 가시광) 경화형 접착제 등의 노광 대상물을 노광하는 데 사용되는 노광용 광원 및 이것을 사용한 노광장치에 관한 것이다.
이 종류의 노광장치의 일례가 일본 공개특허공보 2006-350315호(특허문헌1)에 개시되어 있다.
이 종래의 노광장치는 노광용 광원인 대형 1등식(1燈式)의 수은 램프와, 노광 대상물을 지지하는 지지대(기판 유지부)와, 노광용 광원으로부터 조사된 광을 지지대의 바로 위로부터 조사하도록 유도하는 광학계를 갖고 있다. 그리고, 대형 1등식 노광용 광원으로부터 조사된 광을 노광 대상물인 레지스트층을 향하여 조사함으로써 노광 대상물(레지스트층)이 노광된다.
또한, 종래의 노광장치의 용도로서는, 예를 들면, 프린트 배선판 형성용을 들 수 있다. 일례로서, 프린트 배선판의 형성방법에 관해서 간단히 설명하여 두 면, 기판(절연판)의 표면에 구리 호일막, 그 위에 노광 대상물인 레지스트층과 같이 양자를 이 순서로 적층하고, 이어서 이 적층체를 노광장치의 지지대에 재치하고, 이후 레지스트층의 상면에 회로 패턴이 전사된 마스크를 재치 또는 비접촉으로 배치한다.
노광용 광원을 점등시켜 대형 1등식 노광용 광원으로부터의 자외광(피크 파장 365nm, 405nm, 436nm)이 마스크를 통해서 레지스트층에 조사되면, 레지스트층 중 자외광이 조사된 부분이 감광하여, 기판상에 형성된 레지스트층에 회로 패턴이 전사되게 된다(노광장치에서는, 레지스트층에 대한 회로 패턴의 전사까지가 행하여진다). 그 후, 레지스트층 중 미감광부분과, 구리 호일막 중 레지스트층의 미감광부분에 해당하는 부분을 약액으로 차례로 제거하고, 마지막에, 레지스트층의 감광부분을 제거하면, 기판상에 회로 패턴이 형성되어, 목적으로 하는 프린트 배선판을 얻을 수 있다.
[특허문헌 1] 일본 공개특허공보2006-350315호
최근에는, 대형 액정디스플레이나 플라즈마 디스플레이가 인기를 얻고 있고, 이들 대형 디스플레이에 사용되는 대형의 프린트 배선판의 수요가 급증하고 있다. 그리고, 프린트 배선판의 대형화에 따라, 이것을 노광하는 노광장치도 더욱 대형화되고 있고, 노광용 광원도 더욱 광범위하고 또한 균제도가 높은 노광면을 얻기 위해서 대단히 대형이 사용되고 있다.
노광용 광원은 구상(球狀)의 발광부를 갖는 램프와, 램프의 발광부에서 발생한 광을 전방에 반사시키는 주발(bowl)형의 리플렉터(reflector)로 대략 구성되어 있다. 이 노광용 광원을 대형화함에 있어서는, 램프 본체, 더욱 정확히 말하면 석영유리제 봉(棒)의 발광부의 기계적 강도상의 문제때문에 발광부 내부의 내압을 45기압 이하로 억제할 필요가 있었다. 왜냐하면, 램프를 대형화하면 할수록 구조상, 발광부의 기계적 강도는 저하되고, 발광부의 내압을 지나치게 높게 하면 발광부가 파열될 우려가 있어 대단히 위험하기 때문이다.
노광면적을 더욱 확대하기 위해서는, 노광용 광원의 램프를 더욱 대형화할 필요가 있지만, 상술한 바와 같이 구조상의 관계때문에 발광부의 내압을 45기압 이하로 해야만 하였다.
그런데, 발광부 내부의 압력이 45기압의 램프에서는, 그 발광 강도는 도 6에 도시하는 바와 같은 그래프가 되어, 상술한 바와 같이 365nm, 405nm, 436nm에서 그 피크가 나타나는 것을 알 수 있다. 그리고, 종래의 레지스트층은 45기압의 램프가 발하는 광의 피크 파장인 365nm 또는 405nm 부근의 파장의 광을 조사하였을 때에 경화하는 타입이 주였다.
그렇지만, 최근에는, 상기 피크 파장보다도 단파장측 또는 장파장측에서 경화하는 타입의 레지스트층(예를 들면, 380nm의 파장으로 경화하는 타입)이나, 현상 후의 레지스트 형상을 제어하는 것(예를 들면 365nm부터 405nm(중심 파장 380nm)에 감광감도를 갖고, 피흡수율이 높은 365nm의 자외광으로 레지스트 표면을 감광하여, 레지스트층의 표면에서 흡수되지 않은 405nm의 자외광으로 바닥부를 감광하는 타입)이 사용되게 되었다. 이러한 타입의 레지스트층에, 종래의 대형 1등식(내압은 45기압)의 수은 램프를 아무리 조사하였다고 해도, 전자의 경우는 피크 위치가 레지스트층의 경화 파장(380nm)과 어긋나 버리기 때문에 경화에 시간이 걸리고, 또한, 후자의 경우는 365nm과 405nm의 광의 강도가 일정하기 때문에 레지스트 형상을 제어할 수 없어, 어떤 경우에도 실용적이지 않다는 문제가 있었다.
또, 종래의 대형 1등식 노광장치에서는, 대형의 램프 1개로 광범한 노광면적을 커버하도록 설계되어 있기 때문에, 램프의 조도가 저하되거나, 또는 램프가 파손될 때마다 생산 라인을 멈추고 램프 교환을 할 필요가 생겨, 생산효율이 대폭으로 저하되어 버린다는 문제도 있다.
본원 발명은 이러한 종래의 문제점을 감안하여 이루어진 것으로, 노광 대상물의 종류에 따른 노광이 가능하고, 더구나, 램프 조도의 저하 또는 심하게는 램프가 파손된 경우에도 생산 라인을 멈추고 램프를 교환해야만 하는 경우가 없는 노광용 광원 및 이것을 사용한 노광장치를 제공하는 것이다.
청구항 1에 기재된 발명은「노광 대상물(X)을 노광하는 데 사용되는 노광용 광원(10)이고, 노광용 광원(10)은 내압이 다른 램프(24)를 각각 구비한 적어도 2종 이상의 램프 유닛(20a, 20b, 20c ···)과, 램프 유닛(20a, 20b, 20c ···)을 유지하는 램프 유닛 홀더(22)를 구비하는」 것을 특징으로 하는 노광용 광원(10)이다.
본 발명은 내압이 각각 다른 소형 램프(24; 방전등)가 발하는 광은 발광원소로서 같은 수은을 사용하고 있기 때문에 같은 피크 파장을 나타내지만, 소형 램프(24)의 내압이 고압이 되면 피크위치가 점차로 가시광측으로 옮겨가고, 또한 피크간의 골짜기의 깊이가 점차로 높아지는 것을 이용한 것으로, 내압이 각각 다른 소형 램프(24)를 구비한 적어도 2종 이상의 램프 유닛(20a, 20b, 20c ···)을 구비하고 있기 때문에, 노광 대상물(X)의 감광 특성에 최적의 조건의 램프 유닛(20a, 20b, 20c ···)을 선택하고, 이들의 소형 램프(24; 방전등)를 단독은 물론, 조합하여 발광시키는 것이 가능해진다. 요컨대, 노광 대상물(X)의 특성에 따른 노광이 가능해진다.
청구항 2에 기재된 발명은 「내압이 다른 램프(24)를 구비한 각 램프 유닛(20a, 20b, 20c ···)이 각각 복수 설치되어 있는」 것을 특징으로 하는 것으로, 본 발명에 의하면, 내압이 다른 각 램프 유닛(20a, 20b, 20c ···)에 관해서 노광용 광원(10)에 각각 예비를 갖게 할 수 있기 때문에, 예를 들면, 어떤 램프 유닛(20a)의 발광 강도가 저하되거나, 램프 유닛(20)이 파손되거나 함으로써, 이 램 프 유닛(20)을 교환할 필요가 생긴 경우에도, 같은 종류의 별도의 램프 유닛(20a)을 대신 점등시키면 노광용 광원(10)을 정지시키지 않고 그대로 계속하여 사용할 수 있다.
청구항 3에 기재된 발명은 「노광용 광원(10)과, 노광 대상물(X)을 지지하는 지지대(14)와, 노광용 광원으로부터 조사되는 광을 지지대(14)의 바로 위로부터 조사하도록 유도하는 광학계(16)와, 노광용 광원(10)의 점등 패턴을 제어하는 점등장치(18)를 구비하는 노광장치(12)로서, 노광용 광원(10)이 청구항 1 또는 청구항 2에 기재된 노광용 광원(10)인」 것을 특징으로 하는 노광장치(12)이다.
본 발명에 의하면, 노광용 광원(10)에 포함되는 복수 종류의 램프 유닛(20(20a, 20b, 20c ···))을 목적으로 하는 수만큼 또는 종류만큼 선택적으로 점등시킬 수 있기 때문에, 노광 대상물(X)을 최적의 노광 조건으로 노광할 수 있다.
본 발명에 의하면, 노광 대상물에 있어서 최적의 노광 조건으로 노광할 수 있는 노광용 광원 및 노광장치를 제공할 수 있다.
이하, 본 발명을 도면에 따라서 설명한다. 도 1은 본 발명에 관계되는 노광용 광원(10)이 조립된 노광장치(12)의 개요를 도시한 도면이다. 여기에서, 노광장치(12)는 노광 대상물(X; 본 실시예에서는, 프린트 배선판의 베이스가 되는 절연판(P)상에 형성된 레지스트층(X)을 그 일례로서 설명함)을 노광하기 위한 것으로, 노광용 광원(10)과, 노광 대상물(X)을 지지하는 지지대(14)와, 노광용 광원(10)으로부터 조사되는 광을 평행광으로서 지지대(14)의 바로 위로부터 조사하도록 유도하는 광학계(16)와, 노광용 광원(10)의 점등 패턴을 제어하는 점등장치(18)로 대략 구성되어 있다.
노광용 광원(10)은 노광용 광(자외광)을 조사하기 위한 것으로, 발광부(32(후술))의 내부 압력이 다른 소형 수은램프(24)가 각각 장착된 복수 종류의 램프 유닛(20(20a, 20b ···))과, 상기 복수 종류의 램프 유닛(20(20a, 20b ···))을 유지하는 램프 유닛 홀더(22)로 대략 구성되어 있다. 본 실시예(도 5 참조)에서는, 발광부(32)의 내부 압력이 고압(45기압)의 램프 유닛(20a), 중초고압(81기압), 초고압(117기압), 중초초고압(153기압)의 램프 유닛(20c), 초초고압(180기압)의 램프 유닛(20b)의 5종류가 사용되지만, 이 수는 특별히 한정되는 것이 아니라 2종류 이상이면 좋다. 이하의 설명에서는, 발광부(32)의 내부 압력이 고압(45기압)의 램프 유닛(20a)과, 초초고압(180기압)의 램프 유닛(20b)의 2종류를 선택하여 설명하지만, 이 수는 특별히 한정되는 것은 아니다.
또, 내부 압력이 각각 다른 복수 종류의 각 램프 유닛(20a, 20b ···)은 후술하는 발광부(32) 내의 압력이 다른 것 이외에는 모두 같은 구성이기 때문에, 여기에서는, 모든 종류의 램프 유닛(20a, 20b ···)의 총칭인 램프 유닛(20)을 그 대표적인 예로서 설명한다.
램프 유닛(20)은 도 2에 도시하는 바와 같이, 램프(24)와, 리플렉터(26)와, 램프(24)의 단부(端部)를 유지하는 램프 홀더(28)에 의하여 대략 구성되어 있다.
램프(24)는 직류(또는 교류) 점등식 쇼트 아크(short arc) 고압 램프이고, 구상의 발광부(32)와, 그 양단으로부터 직선형으로 연장된 봉형의 밀봉부(34)를 갖는 봉 용기(36), 전극봉(38), 밀봉부(34) 내에 매설된 몰리브덴 호일(42), 몰리브덴 호일(42)에 용접된 리드봉(40) 및 발광부(32) 내에 밀봉된 밀봉 가스나 발광금속(본 실시예에서는 수은으로, 그 봉입량이 발광부(32)의 내부 압력의 차이가 됨) 기타 필요 밀봉물을 구비하고 있다. 상기 봉 용기(36)에서의 각 밀봉부(34)의 내부에는, 일단이 발광부(32)의 내부로 돌출한 전극봉과, 일단이 외부로 돌출한 리드봉(40)과, 전극봉(38)의 타단과 리드봉(40)의 타단을 전기적으로 접속하는 몰리브덴 호일(42)이 배치되어 있고, 각 전극봉(38)의 일단에는, 한 쌍의 전극(44)을 구성하는 양극(44a) 및 음극(44b)이 접속되어 있다.
또, 도 2에 도시한 램프(24)는 더블 엔드(double-end)형 직류점등방식 램프이지만, 이 대신에, 교류점등방식 램프나 싱글 엔드형 램프를 사용하도록 하여도 좋다.
리플렉터(26)는 램프(24)의 발광부(32)에서 발생한 광을 전방에 반사시키기 위해서 설치되는 볼형 부재이다. 리플렉터(26)의 내면에는 오목형의 반사면(46)이 형성되어 있고, 리플렉터(26)의 중앙부에는 램프 장착 구멍(48)이 형성되어 있다.
리플렉터(26)의 재질로서는, 유리나 금속(예를 들면, 알루미나실리케이트) 등 여러가지의 재료를 사용하는 것이 가능하지만, 본 실시예에서는, 저가의 붕규산유리가 사용되고 있다.
리플렉터(26)의 반사면(46)에는, 적외선과 가시광을 투과 가능하고, 또한 자 외광을 반사하는 자외광 반사막(50)이 형성되어 있고, 이것에 의해, 램프(24)로부터 발생하는 자외광을 전방에 효율 좋게 반사시키고, 적외선과 가시광을 후방에 투과시킨다. 또, 자외광 반사막(50)으로서, 본 실시예에서는, TiO2로 이루어지는 제 1 반사막과, 이것보다도 굴절율이 작은 제 2 반사막(그 재질로서는, 예를 들면 SiO2, MgF2, CaF2 또는 NaF 등을 예시할 수 있다)을 교대로 적층시켜 적체적으로 48층 구조(통상은 40 내지 60층 구조의 범위 내가 됨)로 한 것이 사용되고 있다. 또한, 리플렉터(26)의 전면(前面)에는 전면유리(27)가 장착되어 있다.
램프 홀더(28)는 램프(24)에 있어서의 밀봉부(34)의 삽입 선단부를 유지하는 동시에, 전력공급선(52; 도 2)을 유지하는 것으로, 세라믹 등의 내열성재료에 의해서 일체로 성형되고, 리플렉터(26)의 중앙 장착 통부(26a)에 무기 접착제로 접착되고, 램프 홀더(28)에 설치한 통과 구멍(28a) 및 전면유리(27)의 중앙에 설치한 통기 구멍(27a)에 의해 리플렉터(26) 내의 통기를 할 수 있도록 되어 있다. 무기 접착제로서는 알루미나-실리카(Al2O3-SiO2)계, 알루미나(Al2O3)계 또는 탄화규소(SiC)계의 접착제를 사용할 수 있다.
램프 유닛 홀더(22)는 도 3에 도시하는 바와 같이, 내압이 다른 램프(24)가 장착된 복수 종류의 램프 유닛(20)을 유지하는 블록형의 홀더 본체(22a)를 갖고, 홀더 본체(22a)에는 그 표리면을 관통하는 복수의 램프 유닛 결합 구멍(54)이 형성되어 있다(본 실시예에서는 세로 4열, 가로 5열 합계 20개의 램프 유닛 결합 구멍(54)이 형성되어 있지만, 물론, 이것에 한정되지 않는다).
각 램프 유닛 결합 구멍(54)은 그 이면측(도 3b에 있어서의 상측)의 내면 형상이 램프 유닛(20)의 외형과 대략 같거나 또는 약간 크게 형성되어 있다. 그리고, 램프 유닛 결합 구멍(54)의 전면측은 계단형으로 약간 축경(縮徑)되어 있고, 램프 유닛 결합 구멍(54)에 램프 유닛(20)을 결합하였을 때에 상기 계단형으로 형성된 단부(22b)에 닿게 하여 램프 유닛(20)의 결합위치를 위치 결정할 수 있도록 되어 있다. 또, 각 램프 유닛 결합 구멍(54)은 램프 유닛(20)을 장착하여 램프 유닛(20)을 점등시켰을 때, 각 램프 유닛(20)으로부터 출광하는 광이 1개소(본 실시예에서는, 후술하는 인테그레이터 렌즈(56; integrater lens)의 면상)에 집광하도록 중심 방향을 향해서 경사지도록 설치되어 있다. 상술한 바와 같이 노광용 광원(10)을 조립할 때는, 램프 유닛 홀더(22)의 각 램프 유닛 결합 구멍(54)에 램프 유닛(20)의 리플렉터(26)을 끼워 넣고, 도시하지 않은 고정수단(예를 들면, 고정밴드)으로 고정하여 장착할 뿐이어도 좋다.
본 실시예에서는, 램프 유닛(20)으로서, 발광부(32)의 내압이 다른 2종류의 램프 유닛(20a, 20b)이 존재하고, 각 램프 유닛(20a, 20b)에 관해서 각각 10개씩 램프 유닛 홀더(22)에 장착된다. 또, 각 램프 유닛(20a, 20b)의 배치 패턴은 적절하게 설정이 가능하지만, 본 실시예에서는 다른 내압의 램프 유닛(20a, 20b)끼리가 서로 인접하여 배치된다.
지지대(14)는 노광 대상물(X)을 지지하는 것으로, 지금까지 주지의 구성을 적절하게 채용하는 것이 가능하다.
광학계(16)는 노광용 광원(10)으로부터 조사되는 광을 조도가 균일한 평행광 으로서 지지대(14)의 바로 위로부터 조사하도록 유도하기 위한 것으로, 노광용 광원(10)으로부터 조사된 광의 조도를 균일화하는 인테그레이터 렌즈(56; 인테그레이터 렌즈(56)의 구체적인 예로서는, 예를 들면, 플라이 아이 렌즈(fly-eye lens)나 로드 렌즈(rod lens)라고 불리는 렌즈가 알려져 있고, 본 실시예에서는, 플라이 아이 렌즈가 채용되고 있음)와, 인테그레이터 렌즈(56)의 전면측에 배치되어, 노광용 광원(10)으로부터 조사된 광(본 실시예에서는, 인테그레이터 렌즈(56)를 통과한 후의 조도가 균일한 광)의 조사광로를 개폐 제어하는 노광 제어용 셔터(58)와, 노광 제어용 셔터(58)를 통과한 균일광의 조사광로를 굴절시키는 반사경(60)과, 반사경(60)에서 굴절된 균일광을 평행광으로 하여 지지대(14)로 유도하는 요면경(62)으로 대략 구성되어 있다. 또, 여기에서 도시한 광학계(16)의 구성은 그 일례이고, 본 실시예의 구성에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 노광용 광원(10)으로부터 조사된 광을 반사경(60)에서 굴절시킨 후, 인테그레이터 렌즈(56)에 입광하는 구성으로 하여도 좋고, 목적으로 하는 광학경로에 따라서 적절하게 그 구성을 변경하는 것이 가능하다. 또한, 평행광을 형성한다고 하는 관점에서 보면, 요면경(62) 대신에 볼록 렌즈를 사용하는 것도 가능하다. 예를 들면 도 1의 예로 설명하면, 요면경(62)의 위치에 반사경(60)을 배치하는 동시에, 반사경(60)과 지지대(14) 사이에 볼록 렌즈를 배치하면 좋고, 이 경우, 인테그레이터 렌즈(56)를 통과한 균일광이 2장의 반사경(60)에 의해서 그 조사광로가 굴절되어 볼록 렌즈에 입광되고, 볼록 렌즈로부터 출광할 때에 평행해진 균일광이 지지대(14)의 바로 위로부터 조사되게 된다. 어떤 것이든, 상술한 바와 같이, 노광용 광원(10)으로부터 조사되는 광을 조 도가 균일한 평행광으로 하여 지지대(14)의 바로 위로부터 조사하도록 유도할 수 있는 구성이면, 광학계(16)는 어떠한 구성이어도 좋다.
점등장치(18)는 노광용 광원(10)에 포함되는 임의의 램프 유닛(20)을 노광 조건에 따라서 선택적으로 점등시키기 위한 밸러스트(ballast)이고, 도 4의 점등회로도에 도시하는 바와 같이, 노광용 광원 점등용 램프 유닛(20)의 전력공급선(52)을 통해서 점등장치(18)에 개별로 접속되어 있고, 상기 점등장치(18)가 제어장치(64)에 의해서 온·오프를 제어되고, 이것에 의해서 각 램프 유닛(20)을 노광 대상물(X)에 맞추어 선택적으로 점등할 수 있도록 되어 있다. 노광용 광원(10)의 각 램프 유닛(20)과 점등장치(18)는 커넥터(도시 생략)를 통해서 접속되어 있고, 커넥터의 부분으로부터 각 램프 유닛(20)을 간단히 전기적으로 탈착할 수 있도록 되어 있다.
점등장치(18)를 기동시키면, 램프(24)가 발광하여, 램프(24)로부터 조사된 광(주로 자외광)이 리플렉터(26)에 반사하여 전방을 향하여 조사되게 된다. 노광용 광원(10)으로부터 출광된 광은 인테그레이터 렌즈(56)를 통과함으로써 조도가 균일한 광이 된다. 점등장치(18)의 기동으로부터 소정시간이 경과하여, 램프(24)로부터의 출광량이 소정의 값에 도달하였다고 추정되는 시점에서 노광 제어용 셔터(58)를 개방으로 한다. 그리고, 이 균일광이 노광 제어용 셔터(58)를 통과하면, 반사경(60) 및 요면경(62)에 의해서 그 광로가 지지대(14)측으로 구부러지고, 지지대(14)상에 재치되어 있는 노광 대상물(X)에 그 바로 위로부터 평행광이, 회로 패턴이 형성되어 있는 마스크(M)를 통해서 조사된다. 노광이 종료하면, 노광 제어용 셔터(58)가 닫히고, 마스크(M) 하의 노광 대상물(X)이 미처리물과 교환된다. 여기에서 상기 노광 제어용 셔터(58)의 개폐시간을 제어함으로써, 노광 대상물(X)의 노광시간을 적절히 조정할 수 있다.
여기에서 중요한 점은 본 실시예에서는, 노광용 광원(10)에 포함되는 내압이 각각 다른 2종류(물론, 2이상의 다종)의 램프 유닛(20a, 20b)을 목적으로 하는 수만큼(그리고, 목적의 종류만큼) 선택적으로 점등시킬 수 있는 점이다. 요컨대, 종래와 같은 단등(單燈) 대형의 노광용 광원을 사용하는 경우에는, 노광 대상물(X; 레지스트)의 종류가 한정되었던 것에 대하여, 본 발명에서는 점등시키는 램프 유닛(20a, 20b)의 종류 및 그 점등 개수를 점등장치(18)에 의해서 임의로 선택할 수 있기 때문에, 모든 노광 대상물(X)에 있어서 최적의 노광 조건으로 그 노광 대상물(X)을 노광할 수 있다.
더구나, 내압이 다른 각 램프 유닛(20a, 20b)이 각각 복수(본 실시예에서는, 각각 10개씩) 설치되어 있기 때문에, 가령 전극(44)의 손모 등에 의해서 현재 점등 중인 램프 유닛(20a)의 조도가 저하되거나, 심하게는 램프 유닛(20a)이 파손된 경우에도, 예비의 램프 유닛(20a)을 대신 점등시킴으로써 노광용 광원(10)을 그대로 계속 사용할 수 있다.
도 1은 본 발명에 관계되는 노광장치를 도시하는 도면.
도 2a는 램프 유닛의 단면도이고, 도 2b는 램프 유닛의 정면도.
도 3a는 램프 유닛 홀더를 이면측에서 본 도면이고, 도 3b는 그 A-A선 단면도.
도 4는 점등장치의 회로도.
도 5는 내부 압력의 차이에 의한 램프 유닛의 발광 강도를 비교하는 그래프.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
10 : 노광용 광원 12 : 노광장치
14 : 지지대 16 : 광학계
18 : 점등장치 20 : 램프 유닛
22 : 램프 유닛 홀더 26 : 리플렉터
32 : 발광부 34 : 밀봉부
36 : 봉 용기 38 : 전극봉
54 : 램프 유닛 결합 구멍 56 : 인테그레이터 렌즈
58 : 노광 제어용 셔터 60 : 반사경
62 : 요면경 64 : 제어장치
Claims (3)
- 노광 대상물을 노광하는 데 사용되는 노광용 광원으로서,상기 노광용 광원은 내압이 다른 램프를 각각 구비한 적어도 2종 이상의 램프 유닛과, 상기 램프 유닛을 유지하는 램프 유닛 홀더를 구비하는 것을 특징으로 하는 노광용 광원.
- 제 1 항에 있어서, 상기 내압이 다른 램프를 구비한 각 램프 유닛이 각각 복수 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 노광용 광원.
- 노광용 광원과, 노광 대상물을 지지하는 지지대와, 상기 노광용 광원으로부터 조사되는 광을 상기 지지대의 바로 위로부터 조사하도록 유도하는 광학계와, 상기 노광용 광원의 점등 패턴을 제어하는 점등장치를 구비하는 노광장치로서,상기 노광용 광원이 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 노광용 광원인 것을 특징으로 하는 노광장치.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007023293A JP2008191252A (ja) | 2007-02-01 | 2007-02-01 | 露光用光源ならびにこれを用いた露光装置 |
JPJP-P-2007-00023293 | 2007-02-01 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20080072509A true KR20080072509A (ko) | 2008-08-06 |
Family
ID=39751444
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020070100211A KR20080072509A (ko) | 2007-02-01 | 2007-10-05 | 노광용 광원 및 이것을 사용한 노광장치 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008191252A (ko) |
KR (1) | KR20080072509A (ko) |
CN (1) | CN101236358A (ko) |
TW (1) | TW200834260A (ko) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5320006B2 (ja) * | 2008-10-03 | 2013-10-23 | 株式会社オーク製作所 | 露光描画装置 |
JP5598789B2 (ja) * | 2009-04-09 | 2014-10-01 | Nskテクノロジー株式会社 | 露光装置用光照射装置及び露光装置 |
KR101138681B1 (ko) * | 2009-04-09 | 2012-04-24 | 닛본 세이고 가부시끼가이샤 | 노광 장치용 광조사 장치, 노광 장치 및 노광 방법 |
JP5345443B2 (ja) * | 2009-04-21 | 2013-11-20 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 露光装置、露光光照射方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
WO2011096365A1 (ja) * | 2010-02-05 | 2011-08-11 | 日本精工株式会社 | 露光装置用光照射装置及びその点灯制御方法、並びに露光装置、露光方法及び基板 |
KR101443431B1 (ko) * | 2010-07-22 | 2014-10-30 | 엔에스케이 테쿠노로지 가부시키가이샤 | 노광 장치용 광조사 장치, 광조사 장치의 제어 방법, 노광 장치 및 노광 방법 |
JPWO2012067246A1 (ja) * | 2010-11-19 | 2014-05-19 | Nskテクノロジー株式会社 | 近接露光装置及び近接露光方法 |
JP5702122B2 (ja) * | 2010-11-29 | 2015-04-15 | Nskテクノロジー株式会社 | 露光装置用光照射装置 |
TWI632400B (zh) * | 2011-11-16 | 2018-08-11 | 成洛勳 | 線光源發生裝置及其柱狀透鏡板系統 |
JP7060244B2 (ja) | 2018-12-12 | 2022-04-26 | フェニックス電機株式会社 | 露光装置用光源、それを用いた露光装置、およびレジストの露光方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006344383A (ja) * | 2003-06-24 | 2006-12-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光照射装置 |
JP2005227465A (ja) * | 2004-02-12 | 2005-08-25 | Mejiro Genossen:Kk | 照明光学系の使用方法及びフラットパネルディスプレイの製造方法 |
JP4765433B2 (ja) * | 2005-06-24 | 2011-09-07 | ウシオ電機株式会社 | 紫外線照射装置および光照射方法 |
-
2007
- 2007-02-01 JP JP2007023293A patent/JP2008191252A/ja active Pending
- 2007-07-18 TW TW096126205A patent/TW200834260A/zh unknown
- 2007-07-31 CN CNA2007101382658A patent/CN101236358A/zh active Pending
- 2007-10-05 KR KR1020070100211A patent/KR20080072509A/ko not_active Application Discontinuation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008191252A (ja) | 2008-08-21 |
CN101236358A (zh) | 2008-08-06 |
TW200834260A (en) | 2008-08-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20080072509A (ko) | 노광용 광원 및 이것을 사용한 노광장치 | |
TWI453356B (zh) | 用於小型紫外線固化燈總成之紫外線發光二極體燈 | |
JP2007115817A (ja) | 光照射装置 | |
CN1725432B (zh) | 紫外光照射装置 | |
JP4391136B2 (ja) | 露光用照明装置 | |
KR101110516B1 (ko) | 노광용 광원 | |
KR101248274B1 (ko) | 광 조사 장치 | |
JP2018077286A (ja) | 蛍光体パネル、光源装置及び照明装置 | |
TW201917025A (zh) | 光照射裝置 | |
CN205428918U (zh) | 一种紫外led准直模组 | |
TWI794352B (zh) | 燈之點亮方法 | |
RU2510824C1 (ru) | Способ создания светоизлучающей поверхности и осветительное устройство для реализации способа | |
KR101424572B1 (ko) | 반사부 및 전극 분리형 엑시머 램프 | |
JP2007222790A (ja) | 光収束照射装置および紫外線照射装置 | |
JP2006351670A (ja) | 紫外線照射装置 | |
JP2001155527A (ja) | バックライト装置および液晶表示装置 | |
CN100517057C (zh) | 光源装置 | |
TWI577487B (zh) | Laser lighting device | |
US20220013377A1 (en) | Optical heating device | |
KR100763402B1 (ko) | 조명 장치 | |
JP2009266298A (ja) | 紫外線照射装置 | |
JP7234730B2 (ja) | 放電ランプおよび液晶パネル製造装置 | |
KR101424571B1 (ko) | 반사부 분리형 엑시머 램프 | |
JP5320006B2 (ja) | 露光描画装置 | |
KR101015485B1 (ko) | 도광판 및 그 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WITN | Withdrawal due to no request for examination |