KR20080066588A - 고온 로봇 엔드 이펙터 - Google Patents

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에릭 엔쥐
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어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
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Abstract

프로세싱 시스템에서 기판을 이송하기에 적합한 로봇 엔드 이펙터 또는 블레이드가 제공된다. 일부 실시예들에서, 엔드 이펙터는 서로 대향하는 장착 단부 및 말단부를 구비하는 본체를 포함할 수 있으며, 상기 본체는 하나의 세라믹 매스로부터 제조될 수 있다. 본체는 본체의 상부 표면으로부터 위쪽으로 연장하는 한 쌍의 원호형 립을 포함할 수 있다. 각 립은 본체의 말단부에 배치된 각 핑거상에 배치될 수 있다. 원호형 내측 벽이 본체의 장착 단부에서 상부 표면으로부터 위쪽으로 연장한다. 내측 벽 및 립은 기판 수용 포켓을 형성한다. 다수의 접촉 패드가 본체의 상부 표면으로부터 위쪽으로 연장하여 기판을 지지한다. 리세스가 본체의 바닥 표면에 형성되어 장착 클램프를 수용한다.

Description

고온 로봇 엔드 이펙터{HIGH TEMPERATURE ROBOT END EFFECTOR}
본 발명의 실시예는 개략적으로 고온 반도체 프로세싱 시스템에서 이용되는 로봇 성분(components)에 관한 것이다.
통상적으로, 반도체 기판 프로세스는 소자, 전도부 및 절연부들을 기판에 생성하기 위한 일련의 다수 프로세스에 기판을 노출시킴으로써 실시된다. 일반적으로, 이들 프로세스는 제조 프로세스의 단일 단계를 실시하도록 구성된 프로세스 챔버내에서 실시된다. 프로세싱 단계들의 전체 시퀀스(sequence)를 효과적으로 완료하기 위해, 많은 수의 챔버들이 중앙 이송 챔버들에 결합되는 것이 일반적이며, 그러한 이송 챔버는 주변 프로세스 챔버들 사이에서 기판을 이송하는 것을 용이하게 하는 로봇을 수용한다. 이러한 구성을 가지는 반도체 프로세싱 플랫폼이 일반적으로 클러스터 툴이라고 공지되어 있으며, 그 예를 들면 미국 캘리포니아 산타클라라에 소재하는 Applied Materials, Inc.로부터 입수할 수 있는 PRODUCER®, CENTURA® 및 ENDURA® 계열이 있다.
일반적으로, 클러스터 툴은 로봇이 내부에 배치된 중앙 이송 챔버로 이루어 진다. 일반적으로, 이송 챔버는 하나 이상의 프로세스 챔버로 둘러싸인다. 일반적으로, 프로세스 챔버들은 기판을 프로세싱하는데 이용되고, 예를 들어, 에칭, 물리기상증착, 이온 주입, 리소그래피 등과 같은 여러 가지 프로세싱 단계들을 실시하는데 이용된다. 종종, 이송 챔버는 다수의 기판을 각각 수용하는 다수의 분리가능한 기판 저장 카세트를 수용하는 팩토리 인터페이스(factory interface)에 결합된다. 이송 챔버의 진공 분위기와 팩토리 인터페이스의 대략적인 대기 분위기 사이에서의 이송을 용이하게 하기 위해, 로드록 챔버(load lock chamber)가 이송 챔버와 팩토리 인터페이스 사이에 배치된다.
기판상에 형성되는 소자들의 라인 폭 및 피쳐(feature) 크기가 감소됨에 따라, 낮은 결함율로 소자를 반복 제조하기 위해서는 이송 챔버를 둘러싸는 여러 챔버들내에서의 기판의 위치 정확도가 중요한 문제가 되었다. 또한, 높아진 소자 밀도 및 대형화된 기판 지름으로 인해 기판상에 형성되는 소자의 양이 증대되는 상태에서, 각 기판의 가치는 점차적으로 높아지고 있다. 따라서, 기판 오정렬로 인한 비-등각성(non-conformity)으로 인해 기판에 손상이 발생하거나 수율이 낮아지는 것은 매우 바람직하지 못한 것이 되었다.
프로세스 시스템을 통해서 기판의 위치 정확도를 높이기 위해 다양한 전략이 도입되었다. 예를 들어, 기판 저장 카세트내에서의 기판 오정렬을 탐지하기 위한 센서들이 인터페이스에 제공되기도 한다. 2002년 7월 2일자로 Chokshi 등에게 허여된 미국 특허 제 6,413,356 호를 참조할 수 있을 것이다. 로봇의 위치 교정이 보다 복잡해졌다. 2003년 11월 18일자로 Chokshi 등에게 허여된 미국 특허 제 6,648,730 호를 참조할 수 있을 것이다. 추가적으로, 로봇의 블레이드(blade)상에서 기판의 오정렬을 보상하기 위한 방법들이 고안되었다. 1999년 11월 9일자로 Freerks 등에게 허여된 미국 특허 제 5,980,194 호, 그리고 1990년 7월 31일자로 T. Matsumoto에게 허여된 미국 특허 제 4,944,650 호를 참조할 수 있다. 로봇 링키지(linkage)의 열적 확장을 보상하기 위한 추가적인 방법들이 개발되었다. 2006년 5월 2일자로 Freeman 등에게 허여된 미국 특허 제 7,039,501 호를 참조할 수 있다.
그러나, 일반적으로, 로봇의 정확도를 높이기 위한 이러한 전략들은 프로세스 챔버들내에서 고온 표면으로부터 그리고 고온의 웨이퍼로부터 엔드 이펙터로 열이 전달됨에 따라 엔드 이펙터(예를 들어, 블레이드) 로봇에서 일어나는 열적 팽창 및 수축에 대한 보상을 하고 있지 않다. 발전되고 있는 프로세스 기술이 많은 프로세스에서 높은 작업 온도를 유도하고 있음에 따라, 이송 로봇들도 고온에 점점 더 많이 노출된다. 이송 로봇이 열에 노출되는 것이 증가함으로 인해, 로봇과 기판 사이의 바람직하지 못한 열 교환 및 기판 배치에 미치는 로봇의 열 팽창의 부정적인 영향을 최소화하기 위한 추가적인 전략들이 개발되어야 할 필요가 있다.
그에 따라, 로봇과 그러한 로봇상에서 이송되는 기판 사이의 열교환을 최소화하면서 로봇 위치결정에 미치는 열의 영향을 최소화할 수 있는 작은 열 팽창의 개선된 로봇 엔드 이펙터가 요구된다.
프로세싱 시스템내에서 기판을 이송하기에 적합한 로봇 엔드 이펙터 또는 블레이드가 제공된다. 일 실시예에서, 엔드 이펙터는 서로 마주하는 장착 단부 및 말단부를 가지는 본체를 포함할 수 있다. 본체는 세라믹의 단일 매스(mass)로 제조될 수 있다. 본체는 본체의 상부 표면으로부터 위쪽으로 연장하는 한 쌍의 원호형 립(lip)을 포함할 수 있다. 각각의 립은 본체의 말단부에 배치된 각각의 핑거(finger)상에 배치된ㄷ. 원호형 내측 벽이 본체의 장착 단부에서 상부 표면으로부터 위쪽으로 연장된다. 내측 벽 및 립들은 기판 수용 포켓을 형성한다. 다수의 접촉 패드가 본체의 상부 표면으로부터 위쪽으로 연장하여 기판을 지지한다. 접촉 패드 및 본체가 동일한 매스 또는 세라믹의 일부이다. 리세스(recess)가 본체의 바닥 표면에 형성되어 장착 클램프를 수용한다.
다른 실시예에서, 본체는 그 본체를 통해서 내측 벽의 외측으로 형성된 다수의 홀을 추가로 포함할 수 있으며, 상기 홀들의 일 단부가 리세스에 대해 개방된다.
다른 실시예에서, 본체는 본체의 중심선을 통해 형성된 홀을 추가로 포함할 수 있으며, 상기 내측 벽 및 립은 상기 홀의 중심으로부터 동일한 반경방향 거리에 배치된다.
다른 실시예에서, 본체는 약 237 내지 약 703 그램의 중량을 가질 수 있다. 또 다른 실시예에서, 본체는 약 99.5 중량% 알루미나로 구성된다.
이하에서는, 본 발명의 전술한 특징들을 보다 용이하게 그리고 보다 구체적 으로 이해할 수 있도록, 첨부 도면들에 도시된 실시예들을 참조하여 본 발명을 설명한다.
그러나, 첨부 도면들은 본 발명의 단지 통상적인 실시예를 도시한 것이며, 그에 따라 본 발명의 범위를 제한하는 것으로 간주되지 않아야 하며, 따라서 본 발명은 다른 균등한 효과의 실시예에도 효력을 가질 것이다. 또한, 추가적인 언급이 없더라도, 하나의 실시예들의 특징들을 다른 실시예들에서 유용하게 이용할 수 있을 것이다.
도 1은 엔드 이펙터 또는 블레이드(130)를 구비한 로봇(108)을 가지는 반도체 프로세싱 시스템(100)의 일 실시예를 도시한다. 개략적으로, 예시적인 프로세싱 시스템(100)은 하나 이상의 프로세스 챔버(104)로 둘러싸인 이송 챔버(102), 팩토리 인터페이스(110), 및 하나 이상의 로드록 챔버(106)를 포함한다. 일반적으로, 로드록 챔버(106)는 이송 챔버(102)와 팩토리 인터페이스(110) 사이에 배치되어, 이송 챔버(102)내에서 유지되는 진공 분위기와 팩토리 인터페이스(110)에서 유지되는 실질적인 대기 분위기 사이에서의 기판 이송을 돕는다. 본 발명이 유리하게 적용될 수 있는 하나의 프로세싱 시스템의 예를 들면, 미국 캘리포니아 산타클라라에 소재하는 Applied Materials, Inc.로부터 입수할 수 있는 CENTURA® 프로세싱 플랫폼이 있다. 블레이드(130)가 다른 제조업자가 공급하는 다른 로봇 및 프로세싱 시스템에서도 이용될 수 있다는 것을 이해할 것이다.
일반적으로, 팩토리 인터페이스(110)는 하나 이상의 기판 저장 카세트(114)를 수용한다. 각 카세트(114)는 다수의 기판을 내부에 저장하도록 구성된다. 일반적으로, 팩토리 인터페이스(110)는 대기압에서 또는 대략적인 대기압에서 유지된다. 일 실시예에서, 필터링된 공기가 팩토리 인터페이스(110)로 공급되어 팩토리 인터페이스내에서 입자들이 농축되는 것을 최소화하고 그에 따라 기판을 청정하게 한다. 본 발명에 유리하게 적용될 수 있는 팩토리 인터페이스의 일 예가 Kroeker 에게 2004년 4월 13일자로 허여된 미국 특허 제 6,719,516 호에 개시되어 있다.
일반적으로, 이송 챔버(102)는 알루미늄과 같은 물질의 단일 피스(piece)로 부터 제조된다. 이송 챔버(102)는 배기가능한 내부 체적부(128)를 형성하며, 그러한 내부 체적부를 통해서 이송 챔버(102)의 외부에 결합된 프로세스 챔버(104)들 사이에서 기판이 이송된다. 펌핌 시스템(도시 하지 않음)이 챔버 바닥에 배치된 포트를 통해서 이송 챔버(102)로 결합되어 그 이송 챔버(102)를 진공 상태로 유지한다. 일 실시예에서, 펌핑 시스템은 터보 분자 펌프 또는 극저온 펌프(cryogenic pump)에 직렬로(tandem) 결합되는 저진공 펌프(roughing pump)를 포함한다.
통상적으로, 프로세스 챔버(104)들은 이송 챔버(102)의 외부에 볼트로 체결된다. 이용될 수 있는 프로세스 챔버의 예를 들면 에칭 챔버, 물리기상증착 챔버, 화학기상증착 챔버, 이온 주입 챔버, 배향(orientation) 챔버, 리소그래피 챔버 등이 있다. 다양한 프로세스 챔버(104)들이 이송 챔버(102)에 결합되어, 기판 표면에 미리 규정된 구조 또는 피쳐를 형성하는데 필요한 프로세싱 시퀀스를 제공할 수 있다.
일반적으로, 로드록 챔버(106)는 팩토리 인터페이스(110)와 이송 챔버(102) 사이에 결합된다. 일반적으로, 로드록 챔버(106)는 이송 챔버(102)내의 진공의 손실 없이 팩토리 인터페이스(110)의 실질적으로 대기 분위기와 이송 챔버(102)의 진공 분위기 사이에서 기판을 이송하는 것을 돕기 위해 사용된다. 각각의 로드록 챔버(106)는 슬릿 밸브(도 1에 도시하지 않음)의 이용을 통해 팩토리 인터페이스(110) 및 이송 챔버(102)로부터 선택적으로 격리될 수 있다.
일반적으로, 기판 이송 로봇(108)은 이송 챔버(102)의 내부 체적부(128)내에 배치되어, 이송 챔버(102)를 둘러싸는 여러 챔버들 사이에서 기판(112)을 이송하는 것을 돕는다. 로봇(108)은 개구리-다리형(frog-leg), 폴라형(polar) 또는 기타 링키지 형상을 가질 수 있다.
로봇(108)은 이송 중에 기판을 지지하는데 이용되는 하나 이상의 블레이드를 포함할 수 있다. 로봇(108)은 독립적으로 제어가능한 모터(듀얼 블레이드 로봇으로 공지됨)에 각각 결합된 두 개의 블레이드를 구비할 수 있고, 또는 공통 링키지를 통해 로봇(108)에 결합된 두 개의 블레이드를 구비할 수 있다. 일반적으로, 링키지는 알루미늄 또는 기타 견고하고 경량인 물질로 제조된다. 일부 실시예에서, 이송 로봇(108)이 (폴라) 링키지(132)에 의해 로봇(108)에 결합된 하나의 블레이드(130)를 구비할 수 있다. 도 1에 도시된 실시예에서, 링키지(132)는 조인트(144)에서 제 2 아암(146)에 결합된 제 1 아암(148)을 포함한다. 리스트(wrist; 142)가 조인트(144)에 대향하여 제 1 아암(148)에 결합된다. 블레이드(130)가 오염된 경우, 마모된 경우, 칩핑된 경우(chipped) 또는 보수가 필요한 기타의 경우에 블레이드를 용이하게 교체할 수 있는 방식으로, 블레이드(130)가 리스트(142)에 결합된다.
도 2는 링키지(132)(점선으로 도시됨)의 리스트(142)에 결합된 블레이드(130)를 도시한 평면도이다. 도 2의 블레이드(130)는 12 인치(300 mm) 기판을 수용하도록 구성된 것이다. 대안적으로, 다양한 직경 또는 형상의 기판을 수용할 수 있도록 블레이드(130)가 비례화될 수도 있을 것이다.
일반적으로, 블레이드(130)는 중심선(204)을 중심으로 대칭적인 본체(202)를 포함한다. 본체(202)의 중심선(204)은 또한 리스트(142)의 중심선이 될 수 있다. 본체(202)는 적절한 고온의 경랑 물질, 예를 들어 세라믹으로 제조될 수 있다. 일부 실시예들에서, 본체(202)는 알루미나로 구성된다. 다른 예에서, 본체(202)는 99.5 중량% 알루미나로 구성된다. 특정 용도에 적합한 다른 본체 재료는, 알루미늄, 스테인리스 스틸 및 석영을 포함한다. 일반적으로, 본체(202)는 약 237 내지 약 703 그램의 중량을 가진다.
본체(202)는 장착 단부(206) 및 말단부(208)를 구비한다. 말단부(208)는 두 개의 핑거(210, 212)를 포함할 수 있다. 핑거(210, 212)는 본체(202)를 통해 형성된 홀(214)의 중심에 대해서 약 6.12 인치의 외경을 가진다. 홀(214)은 본체(202)를 통한 관찰용 창으로 이용될 수 있고, 또는 블레이드(130)로 교정 지그(jig)를 결합시키기 위한 위치결정장치(locator)로서 이용될 수 있다. 또한, 중심선(204)을 따라 본체(202)를 통해서 형성된 홀(218)이 교정 지그를 블레이드(130)에 결합하는데 이용될 수 있을 것이다.
도 3에 도시된 본체(202)의 부분 단면도를 추가적으로 참조하면, 각 핑거(210, 212)는 립(302)을 포함한다. 일반적으로, 립(302)은 본체(202)의 상부 표면(304) 위쪽으로 약 0.125 인치 연장한다. 립(302)의 내측 벽(306)은 본체(202)를 통해 형성된 홀(214)의 중심에 대해서 약 6.062 인치의 반경을 가진다.
본체(202)는 다수의 기판 접촉 패드(216)를 또한 포함한다. 일부 실시예에서, 3 개의 접촉 패드(216)가 이용되며, 이때 하나의 패드(216)가 장착 단부(206)에 인접하여 중심선(204)상에 배치되고, 각 패드(216)가 각 핑거(210, 212)상에 배치된다.
접촉 패드(216)는 본체(202)의 상부 표면(304) 위쪽으로 약 0.75 인치 연장한다. 접촉 패드(216)들이 하나의 연속적인 세라믹 매스로서 본체(202)와 일체로 형성됨에 따라, 홀(214)에 대한 접촉 패드(216)의 위치적 배향(positional orientation)이 블레이드마다(blade to blade) 반복될 수 있으며, 그에 따라 블레이드 교체후에도 기판 접촉 지점들이 변화되지 않고 유지될 수 있다. 이는, 블레이드 교체의 투명성(transparency) 및 기판 취급 반복가능성을 바람직하게 개선한다.
도 3에 도시된 실시예에서, 접촉 패드(216)는 반경이 약 5.21 인치인 내측 벽(306) 및 홀(214)의 중심에 대한 약 5.55 인치의 반경을 가지는 외측 벽(310)을 구비한다. 접촉 패드(216)는 약 0.55 인치의 폭을 가질 수 있다.
바람직하게, 접촉 패드(216)는 지지된 기판과의 접촉 면적을 최소화한다. 최소화된 접촉 면적은 기판과 블레이드(130) 사이의 열 전달을 감소시키고, 그에 따라 이송 중이 기판의 열적 오염을 감소시키면서 기판과의 열 교환으로 인한 블레이드(130)의 열적 팽창/수축을 최소화하며, 그에 따라 로봇 이동의 위치적 정확도를 유지할 수 있게 기여한다. 또한, 세라믹 패드(216)와 기판 사이의 낮은 열 전도도 역시 열 전달을 추가적으로 제한한다.
도 4는 본체(202)의 장착 단부(206)의 부분 단면도이다. 장착 단부(206)는 본체(202)의 상부 표면(304)내에 형성된 내측 벽(402) 및 본체(202)의 하부 표면(406)에 형성된 리세스(404)를 포함한다. 내측 벽(402)은 곡선형이며 홀(214)의 중심에 대해서 약 6.062 인치의 반경을 가진다. 내측 벽(402)은 상부 표면(304) 위쪽으로 약 0.10 인치의 높이를 가진다. 내측 벽(402) 및 립(302)이 협력하여 기판 수용 포켓을 형성한다.
일반적으로, 리세스(404)는 내측 벽(408) 및 바닥부(410)를 포함한다. 내측 벽(408)은 본체(202)의 중심선(204)에 대해 대체로 수직이다. 바닥부(410)는 본체(202)의 상부 표면(304) 및 하부 표면(406)에 대해 대체로 평행하다. 리세스(404)의 바닥부(410)는 하부 표면(406) 아래로 약 0.050 인치에 있다.
도 5의 전개된 사시도를 추가로 참조하면, 리세스(404)는 클램프 부재(502)를 수용하도록 크기가 정해지며, 그에 따라 본체(202)가 리스트(142)에 결합되었을 때 클램프 부재(502)의 외측 표면(504)이 본체(202)의 하부 표면(406)과 실질적으로 동일한 높이가 되거나 그 아래쪽으로 함몰된다. 클램프 부재(502)의 이러한 형상은 블레이드(130) 프로파일이 최소화될 수 있게 하며, 그에 따라 프로세싱 시스템의 타이트한(tight)한 부분들에서 로봇 운동의 범위가 보다 커지도록 허용하고 완화된 공간 제한으로 인해 시스템 부품들을 보다 탄력적으로 디자인할 수 있게 허용한다.
일반적으로, 클램프 부재(502)는 그 클램프 부재로부터 연장하는 4 개의 나사형 보스(boss; 506)를 포함한다. 일 실시예에서, 보스(506)는 2x2 그리드 패턴)로 정렬된다. 블레이드(130)의 본체(202)를 통해 형성된 다수의 홀(508)과의 슬립 핏(slip fit)을 제공하도록, 보스(506)의 외경이 선택된다. 일반적으로, 홀(508)은 내측 벽(408)의 외측으로 형성되며, 그에 따라 홀(508)의 일 단부가 리세스(404)로 개방된다. 보스(506)의 높이는 본체(130)의 두께보다 작도록 선택되며, 그에 따라 리스트(142)를 통해 형성된 홀(512)을 통해 연장하는 체결부재(510)가 보스(506)와 결합될 때, 블레이드(130)가 로봇 링키지(132)에 견고하게 클램핑된다. 배향 피쳐 및 체결 부품 모두로서 보스(506)를 이용함으로써 블레이드 디자인이 단순화될 수 있으며, 그에 따라 블레이드들 마다 리스트에 대한 배향을 유지하면서 블레이드를 용이하게 교체할 수 있도록 돕는다.
그에 따라, 고온 프로세싱 분위기를 가지는 프로세싱 툴에서 기판을 위치적으로 반복할 수 있는 세라믹 로봇 엔드 이펙터가 제공된다. 일체형 접촉 패드 및 세라믹 블레이드 본체는 블레이드와 기판 사이의 열 전달을 최소화하는 한편, 블레이드 마다의 반복성을 제공한다. 또한, 용이한 블레이드 클램핑은 링키지에 대한 블레이드 배향의 손실 없이 신속하게 블레이드를 교체할 수 있게 돕는다.
이상에서는, 본 발명의 일부 실시예들을 설명하였지만, 본 발명의 다른 실시예 및 추가적인 실시예들도 본 발명의 기본적인 범위내에서 구현될 수 있을 것이 고, 그에 따라 본 발명의 범위는 특허청구범위에 의해서 결정될 것이다.
도 1은 고온 프로세싱 분위기에서 이용하기에 적합한 개선된 엔드 이펙터를 가지는 반도체 프로세싱 시스템의 일 실시예를 도시한 평면도이다.
도 2는 도 1의 엔드 이펙터의 하나의 실시예의 평면도이다.
도 3은 도 1의 엔드 이펙터의 부분 단면도이다.
도 4는 도 1의 엔드 이펙터의 부분 단면도이다.
도 5는 로봇 링키지 및 엔드 이펙터의 부분 전개 사시도이다.

Claims (14)

  1. 프로세싱 시스템에서 기판을 이송하기에 적합한 로봇 엔드 이펙터로서:
    서로 대향적인 장착 단부 및 말단부를 구비하고, 하나의 세라믹 매스로부터 제조되는 본체를 포함하며;
    상기 본체는:
    상기 본체의 말단부에 배치된 한 쌍의 핑거;
    상기 본체의 상부 표면으로부터 위쪽으로 연장하는 한 쌍의 원호형 립으로서, 상기 각각의 립이 각각의 핑거상에 배치되는, 한 쌍의 원호형 립;
    상기 본체의 상부 표면으로부터 위쪽으로 연장하는 다수의 접촉 패드;
    상기 본체의 장착 단부에서 상기 상부 표면으로부터 위쪽으로 연장하는 원호형 내측 벽으로서, 상기 내측 벽과 립들이 기판 수용 포켓을 형성하는, 원호형 내측 벽; 그리고
    상기 본체의 바닥 표면에 형성된 리세스;를 포함하는
    엔드 이펙터.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 본체가 상기 내측 벽의 외부를 향해서 상기 본체를 통해 형성된 다수의 홀을 더 포함하며,
    상기 홀들중 하나의 단부가 상기 리세스로 개방되는
    엔드 이펙터.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 본체가 상기 본체의 중심선을 통해 형성된 홀을 더 포함하며,
    상기 내측 벽과 상기 립이 상기 홀의 중심으로부터 동일한 반경방향 거리에 위치되는
    엔드 이펙터.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 본체의 중량이 약 237 내지 약 703 그램인
    엔드 이펙터.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 본체가 약 99.5 중량% 알루미나로 이루어지는
    엔드 이펙터.
  6. 프로세싱 시스템에서 기판을 이송하기에 적합한 로봇 엔드 이펙터로서:
    서로 대향하는 장착 단부 및 말단부를 구비하는 길고 평평한 본체;
    상기 본체의 말단부에 배치된 한 쌍의 핑거;
    상기 본체의 상부 표면으로부터 위쪽으로 연장하는 한 쌍의 원호형 립으로서, 상기 각각의 립이 각각의 핑거상에 배치되는, 한 쌍의 원호형 립;
    상기 본체의 상부 표면으로부터 위쪽으로 연장하는 다수의 접촉 패드로서, 상기 립과 상기 본체가 하나의 세라믹 매스로부터 제조되는, 다수의 접촉 패드;
    상기 본체의 장착 단부에서 상기 상부 표면으로부터 위쪽으로 연장하는 원호형 내측 벽으로서, 상기 내측 벽과 립들이 기판 수용 포켓을 형성하는, 원호형 내측 벽;
    상기 본체의 중심선을 통해 형성된 홀로서, 상기 내측 벽과 립들이 상기 홀의 중심으로부터 동일한 반경방향 거리에 위치되는, 홀;
    상기 내측 벽 외부의 장착 단부에서 상기 본체의 바닥 표면에 형성되고, 상기 본체의 중심선에 실질적으로 수직으로 측방향으로 연장하는 벽을 가지는 리세스; 그리고
    상기 본체의 장착 단부를 통해 형성된 다수의 장착 홀로서, 상기 장착 홀들 중 하나의 단부가 상기 리세스로 개방되는, 다수의 장착 홀을 포함하는
    엔드 이펙터.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 본체의 중량이 약 237 내지 약 703 그램인
    엔드 이펙터.
  8. 제 6 항에 있어서,
    상기 본체가 약 99.5 중량% 알루미나로 이루어지는
    엔드 이펙터.
  9. 제 6 항에 있어서,
    상기 패드들이 외측 벽 및 내측 벽을 구비하며, 상기 내측 벽 및 외측 벽이 원호형 세그먼트(segment)인
    엔드 이펙터.
  10. 제 9 항에 있어서,
    홀의 중심에 대해서 상기 내측 벽의 반경이 약 5.21 인치이고, 상기 외측 벽의 반경이 약 5.55 인치인
    엔드 이펙터.
  11. 제 6 항에 있어서,
    상기 패드들이 상기 본체의 위쪽으로 약 0.75 인치 연장하는
    엔드 이펙터.
  12. 진공 프로세싱 시스템에서 기판을 이송하기에 적합한 로봇으로서:
    베이스;
    제 1 단부가 상기 베이스에 결합된 링키지; 그리고
    길고 평평한 엔드 이펙터를 포함하며,
    상기 엔드 이펙터는:
    본체;
    상기 본체의 말단부에 배치된 한 쌍의 핑거;
    상기 본체의 상부 표면으로부터 위쪽으로 연장하는 한 쌍의 원호형 립으로서, 상기 각각의 립이 각각의 핑거상에 배치되는, 한 쌍의 원호형 립;
    상기 본체의 상부 표면으로부터 위쪽으로 연장하는 다수의 접촉 패드로서, 상기 립과 상기 본체가 하나의 세라믹 매스로부터 제조되는, 다수의 접촉 패드;
    상기 본체의 장착 단부에서 상기 상부 표면으로부터 위쪽으로 연장하는 원호 형 내측 벽으로서, 상기 내측 벽과 립들이 기판 수용 포켓을 형성하는, 원호형 내측 벽;
    상기 본체의 중심선을 통해 형성된 홀로서, 상기 내측 벽과 립들이 상기 홀의 중심으로부터 동일한 반경방향 거리에 위치되는, 홀;
    상기 내측 벽 외부의 장착 단부에서 상기 본체의 바닥 표면에 형성되고, 상기 본체의 중심선에 실질적으로 수직으로 측방향으로 연장하는 벽을 가지는 리세스; 그리고
    상기 본체의 장착 단부를 통해 형성된 다수의 장착 홀로서, 상기 장착 홀들 중 하나의 단부가 상기 리세스로 개방되는, 다수의 장착 홀을 더 포함하는
    기판 이송에 적합한 로봇.
  13. 제 12 항에 있어서,
    다수의 보스가 연장되는 클램프 플레이트로서, 상기 보스들이 엔드 이펙터의 상기 장착 홀내로 연장하는, 클램프 플레이트; 및
    상기 클램프 플레이트를 리스트에 결합하기 위한 다수의 체결부재를 더 포함하는
    기판 이송에 적합한 로봇.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 클램프 플레이트가 상기 엔드 이펙터의 리세스내에 배치되는
    기판 이송에 적합한 로봇.
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