KR20080059834A - A substrate convey track for wet process - Google Patents

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Abstract

A substrate convey track for wet process is provided to prevent generation of scratches on a guide roller by increasing a contact area between a substrate and the guide roller. A bath includes a bottom surface and both sides to form an internal substrate processing space. A plurality of shafts are arranged in parallel in the internal substrate processing space. A plurality of rollers are installed on the shafts. A guide roller(140) is installed between the adjacent shafts. The guide roller rotates in one direction by the friction with the substrate while moving vertically. The guide roller includes a guide shaft(142), a guide roller(144) installed on the guide shaft, a protrusion(148) formed on the guide shaft, and a guide groove(146) formed on the inner surface of the guide roller.

Description

습식공정을 위한 기판 이송용 트랙{A substrate convey track for wet process}A substrate convey track for wet process

도 1은 일반적인 습식공정에 사용되는 기판 이송용 트랙을 개략적으로 도시한 사시도. 1 is a perspective view schematically showing a substrate transfer track used in a general wet process.

도 2는 도 1의 단면을 개략적으로 도시한 단면도.2 is a cross-sectional view schematically showing the cross section of FIG.

도 3은 본 발명에 따른 기판 이송용 트랙을 개략적으로 도시한 단면도.3 is a cross-sectional view schematically showing a track for transferring a substrate according to the present invention.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 가이드롤러를 개략적으로 도시한 사시단면도.Figure 4 is a perspective cross-sectional view schematically showing a guide roller according to an embodiment of the present invention.

도 5a ~ 5b는 가이드롤러의 상하 승강운동을 개략적으로 도시한 단면도. 5a to 5b are cross-sectional views schematically showing the up and down movement of the guide roller.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

140 : 가이드롤러 140: guide roller

142 : 가이드축142: guide shaft

144 : 가이드회전롤러144: guide rotation roller

146 : 가이드홈146: Guide groove

148 : 돌출단148: protrusion

본 발명은 습식공정을 위한 기판 이송용 트랙에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 평판표시장치의 제조를 위한 습식공정이 진행되는 베스 내에서 슬라이딩 이동되는 기판을 가이드 하는 가이드롤러에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate transfer track for a wet process, and more particularly, to a guide roller for guiding a substrate that is slidably moved in a bath where a wet process for manufacturing a flat panel display device is performed.

최근 본격적인 정보화 시대에 발맞추어 각종 전기적 신호에 의한 대용량의 데이터를 시각적 화상으로 표시하는 디스플레이(display) 분야 또한 급속도로 발전하였고, 이에 부응하여 경량화, 박형화, 저소비전력화 장점을 지닌 평판표시장치(Flat Panel Display device : FPD)로서, 액정표시장치(Liquid Crystal Display device: LCD), 플라즈마표시장치(Plasma Display Panel device: PDP), 전계방출표시장치(Field Emission Display device: FED), 전기발광표시장치(Electro luminescence Display device : ELD) 등이 소개되어 기존의 브라운관(Cathode Ray Tube : CRT)을 빠르게 대체하고 있다.In line with the recent information age, the display field for displaying a large amount of data by various electric signals as a visual image has also been rapidly developed. As a display device (FPD), a liquid crystal display device (LCD), a plasma display device (PDP), a field emission display device (FED), an electroluminescence display device (Electro) luminescence display device (ELD) has been introduced to quickly replace the existing cathode ray tube (CRT).

이들 일반적인 평판표시장치는 나란한 두 기판 사이로 고유의 형광 또는 편광물질층을 개재한 형태로, 제조공정의 대부분은 기판을 대상으로 진행되는데, 상기 기판 표면에 소정의 박막을 형성하는 박막증착(deposition)공정, 상기 박막의 선택된 일부를 노출시키는 포토리소그라피(photo lithography)공정, 상기 박막의 노출된 부분을 제거하기 위해 패터닝(patterning) 하는 식각(etching)공정이 수차례 반복되며, 그밖에 세정, 합착, 절단 등의 수많은 공정이 수반된다. These general flat panel display devices have a unique fluorescent or polarizing material layer between two side-by-side substrates, and most of the manufacturing processes are performed on a substrate, and thin film deposition is performed to form a predetermined thin film on the substrate surface. A process, a photolithography process that exposes a selected portion of the thin film, and an etching process that is patterned to remove the exposed portion of the thin film, is repeated several times. In addition, cleaning, bonding, and cutting are performed. Many processes, such as these, are involved.

이 같은 평판표시장치의 제조공정 중 특히 소정의 액체를 이용하여 기판 표면을 처리하는 공정을 습식공정이라 통칭하는데, 그 대표적인 예로는 습식식각과 세정 등을 들 수 있다. In particular, a process of treating a substrate surface using a predetermined liquid in the manufacturing process of such a flat panel display device is called a wet process, and representative examples thereof include wet etching and cleaning.

도 1은 일반적인 습식공정에 사용되는 기판 이송용 트랙을 개략적으로 도시한 사시도이며, 도 2는 이의 단면을 개략적으로 도시한 단면도이다. 1 is a perspective view schematically showing a substrate transfer track used in a general wet process, and FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing a cross section thereof.

도시한 바와 같이, 평판표시장치의 제조를 위한 습식공정은 통상 밀폐된 반응조인 베스(bath : 30)에서 진행되는 것이 일반적이며, 상기 베스(30) 내에는 기판(2)을 일 방향으로 슬라이딩 이동시키기 위한 기판이송용트랙(이하, 간략하게 트랙이라 함. : 50)이 구비된다.As shown in the drawing, a wet process for manufacturing a flat panel display device is generally performed in a bath 30 which is a sealed reaction tank, and the substrate 30 is slid and moved in one direction in the bath 30. A substrate transfer track (hereinafter referred to simply as track: 50) is provided.

즉, 상기 베스(30)는 통상 양 측면(32)과 바닥면(34)을 구비하여 내부로 소정의 습식 처리공간을 정의하고, 트랙(50)은 이 같은 처리공간을 관통하도록 설치되며, 상기 트랙(50)은 회전 가능한 다수의 샤프트축(10)을 서로 나란하게 일렬로 배열시켜 완성되며, 각각의 샤프트축(10)에는 고리형상을 갖는 복수개의 회전롤러(20)가 일정 간격을 유지하도록 둘러 장착되어 있다.That is, the bath 30 generally includes both side surfaces 32 and bottom surfaces 34 to define a predetermined wet processing space therein, and the track 50 is installed to penetrate such a processing space. The track 50 is completed by arranging a plurality of rotatable shaft shafts 10 in parallel with each other, so that each of the shaft shafts 10 has a plurality of rotating rollers 20 having an annular shape to maintain a predetermined interval. It is mounted around.

그리고 각각의 샤프트축(10) 양 말단에는 모터(미도시)와 같은 구동수단이 연결되어 회전력을 발휘하고, 필요에 따라 타이밍벨트 등이 설치되어 이웃하는 샤프트축(10)과 회전력을 공유한다. And drive shafts such as a motor (not shown) are connected to both ends of each shaft shaft 10 to exert a rotating force, and a timing belt or the like is installed as necessary to share the rotating force with a neighboring shaft shaft 10.

따라서, 처리대상물인 기판(2)은 각 샤프트축(10)에 장착된 회전롤러(20)에 얹혀져 상기 샤프트축(10)과 회전롤러(20)의 회전에 의해 슬라이딩 방식으로 이동되고, 이 같은 이동 중에 분사노즐(미도시) 등을 통해 기판(2) 표면으로 분사되는 에천트 내지는 세정액에 접촉되어 목적하는 습식공정이 진행된다.Therefore, the substrate 2, which is the object to be processed, is mounted on the rotary rollers 20 mounted on the respective shaft shafts 10, and is moved in a sliding manner by the rotation of the shaft shafts 10 and the rotary rollers 20. The target wet process is performed by contacting an etchant or a cleaning liquid sprayed onto the surface of the substrate 2 through a spray nozzle (not shown) during the movement.

한편, 이와 같은 습식공정을 진행하는 과정에서, 상기 기판(2) 표면으로 분사되는 에천트 내지는 세정액이 상기 기판(2) 상에 고이게 되는 것을 방지하기 위해 상기 트랙(50)을 일정 경사면을 이루도록 기울여, 상기 트랙(50) 상에 슬라이딩 이동되는 기판(2) 상에 분사되는 에천트 내지는 세정액이 기판(2) 밖으로 자연스럽게 흘러내리도록 한다.Meanwhile, in the process of performing the wet process, the track 50 is tilted to form a predetermined slope to prevent the etchant or the cleaning liquid sprayed onto the surface of the substrate 2 from accumulating on the substrate 2. In addition, the etchant or cleaning liquid sprayed on the substrate 2 sliding on the track 50 flows out of the substrate 2 naturally.

따라서, 상기 경사면을 이루는 트랙(50) 상에 안착되어 이동되는 기판(2) 역시, 상기 트랙(50)의 경사면에 의해 기울어진 상태로 슬라이딩 이동되므로 이때, 상기 트랙(50)의 일측 가장자리에는 기판(2)의 이탈을 방지하기 위한 가이드롤러(40)를 구비한다. Therefore, since the substrate 2 seated and moved on the track 50 forming the inclined surface is also slidably moved in an inclined state by the inclined surface of the track 50, at this time, at one edge of the track 50 And a guide roller 40 for preventing the separation of (2).

상기 가이드롤러(40)는 가이드축(42)과 상기 가이드축(42)에 둘러 장착되며 회전가능한 원통형의 가이드회전롤러(44)로 구성되며, 상기 트랙(50) 경사면의 하부측의 서로 이웃하는 샤프트축(10) 사이에 구성된다.The guide roller 40 is composed of a guide shaft 42 and a guide rotating roller 44 of a cylindrical shape rotatable around the guide shaft 42 and adjacent to each other on the lower side of the inclined surface of the track 50. It is comprised between the shaft axles 10.

따라서, 상기 기판(2)은 상기 가이드롤러(40)에 의해 지지되어 상기 트랙(50) 상에서 이탈 되지 않고 슬라이딩 이동되는데, 이러한 가이드롤러(40)는 별도의 회전동력 없이, 상기 기판(2)이 이동되는 과정에서의 마찰력에 의해 회전하게 된다. Accordingly, the substrate 2 is supported by the guide roller 40 and is slidably moved without being separated from the track 50. The guide roller 40 has no additional rotational power, and the substrate 2 is moved. It is rotated by the frictional force in the moving process.

그러나, 상기 기판(2)과 직접적으로 마찰되는 가이드회전롤러(44)에는 점 또는 선 형태의 흠집이 나타나게 되는데 특히, 상기 가이드회전롤러(44)의 흠집은 어느 특정지점에서 두드러지며, 다수의 기판(2)이 인라인 방식으로 상기 트랙(50) 상 에 안착되어져 슬라이딩 이동됨으로써, 상기 가이드회전롤러(44)의 흠집은 상기 트랙(50) 상에 안착되어 슬라이딩 되는 기판(2)의 수가 많아질수록 더욱 심화된다.However, spots or linear scratches appear on the guide rotation roller 44 which is directly rubbed with the substrate 2. In particular, the scratches of the guide rotation roller 44 are prominent at a specific point, and a plurality of substrates are provided. (2) is seated on the track 50 in an inline manner and is slidably moved, so that the scratches of the guide rotary roller 44 are seated on the track 50 and slid as the number of substrates 2 slides. It is deeper.

또한, 거듭된 기판(2)과의 마찰로 인해 손상된 가이드회전롤러(44)의 흠집은 상기 기판(2)과의 간섭을 일으키게 되어 기판(2)의 파손을 야기하게 되는데, 이 경우 현재로서는 가이드롤러(40) 전체를 교체하여야 하므로 자원적인 부분은 물론 비용의 낭비를 초래하게 된다. In addition, scratches of the guide rotating roller 44 damaged by repeated friction with the substrate 2 cause interference with the substrate 2, which causes breakage of the substrate 2, in which case the guide roller is present. (40) Since the whole must be replaced, not only the resource part but also the waste of cost.

이에 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 기판을 안정적으로 지지하면서도 기판에 가해지는 손상을 최소한으로 하고, 마모에 따른 교체에 있어서 공정비용을 최대한 절약할 수 있는 가이드롤러를 제공하고자 하는 것을 제 1 목적으로 한다. Accordingly, the present invention has been made in order to solve the above problems, to provide a guide roller that can stably support the substrate while minimizing damage to the substrate, and can maximize the process cost in replacement due to wear. It is intended as a first purpose.

또한, 기판 이송에 대한 신뢰도를 크게 향상시킬 수 있는 기판 이송용 트랙을 제공하고자 하는 것을 제 2 목적으로 한다. It is also a second object of the present invention to provide a track for transporting a substrate that can greatly improve the reliability of substrate transport.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 바닥면과 양 측면으로 구비되어, 내부로 기판처리공간이 정의된 베스와; 상기 기판처리공간 내에서 서로 나란하게 배열되며, 각각 복수개의 회전롤러가 장착된 다수의 샤프트축과; 상기 샤프트축의 일측에 구성되며, 서로 이웃하는 샤프트축의 사이에 구성되는 가이드롤러를 포함하며, 상기 가이드롤러는 기판과의 마찰에 의해 일방향으로 회전하는 동시에, 상하 승강운동하는 것을 특징으로 하는 습식공정을 위한 기판 이송용 트랙을 제공한다. In order to achieve the above object, the present invention is provided with a bottom surface and both sides, and the substrate processing space defined therein; A plurality of shaft shafts arranged side by side in the substrate processing space, each of which has a plurality of rotating rollers; Comprising one side of the shaft shaft, comprising a guide roller between the adjacent shaft shaft, the guide roller is rotated in one direction by friction with the substrate, while the wet process characterized in that the vertical lifting To provide a substrate transfer track.

상기 가이드롤러는 가이드축과, 상기 가이드축에 둘러 장착되어 회전가능한 가이드회전롤러로 구성되는 것을 특징으로 하며, 상기 가이드축에는 소정형태의 돌출단이 구성되어 있으며, 상기 가이드회전롤러의 내면에는 가이드홈이 구성되어 있는 것을 특징으로 한다. The guide roller is characterized in that it comprises a guide shaft, and a guide rotating roller rotatably mounted around the guide shaft, the guide shaft is configured with a predetermined end of the guide shaft, the guide on the inner surface of the guide rotating roller A groove is formed.

또한, 상기 가이드홈은 상기 가이드회전롤러의 내면을 따라 일끝단과 타끝단이 서로 만나는 나선형(螺旋形)으로 구성되는 것을 특징으로 하며, 상기 돌출단은 고정된 상태로 상기 가이드홈에 유격있게 삽입되며, 상기 가이드회전롤러는 가이드홈을 통해 상하 승강운동하는 것을 특징으로 한다. In addition, the guide groove is characterized in that the one end and the other end is formed in a spiral (螺 旋 形) meet each other along the inner surface of the guide rotary roller, the protruding end is inserted into the guide groove in a fixed state The guide rotation roller is characterized in that the lifting movement up and down through the guide groove.

이때, 상기 샤프트축 말단에는 모터 등의 구동수단이 연결되는 것을 특징으로 하며, 상기 가이드축에는 가이드홈이 구성되어 있으며, 상기 가이드회전롤러에는 소정형태의 돌출단이 구성되어 있는 것을 특징으로 한다. At this time, the shaft shaft end is characterized in that the drive means such as a motor is connected, the guide shaft is configured with a guide groove, the guide rotating roller is characterized in that the projecting end of a predetermined shape is configured.

또한, 상기 가이드홈은 상기 가이드축에 일끝단과 타끝단이 서로 만나는 나선형(螺旋形)으로 구성되는 것을 특징으로 한다. In addition, the guide groove is characterized in that the one end and the other end of the guide shaft is composed of a spiral (meet) each other.

이하 도면을 참조하여 본 발명을 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명에 따른 기판 이송용 트랙을 개략적으로 도시한 단면도이다. 3 is a cross-sectional view schematically showing a substrate transfer track according to the present invention.

도시한 바와 같이, 베스(130)는 통상 양 측면(132)과 바닥면(134)을 구비하여 내부로 소정의 습식 처리공간을 정의하고, 트랙(150)은 이 같은 처리공간을 관 통하도록 설치되며, 상기 트랙(150)은 회전 가능한 다수의 샤프트축(110)을 서로 나란하게 일렬로 배열시켜 완성되며, 각각의 샤프트축(110)에는 고리형상을 갖는 복수개의 회전롤러(120)가 일정 간격을 유지하도록 둘러 장착되어 있다.As shown, the bath 130 is usually provided with both sides 132 and the bottom surface 134 to define a predetermined wet treatment space therein, the track 150 is installed to pass through such treatment space The track 150 is completed by arranging a plurality of rotatable shaft shafts 110 in parallel with each other, and each shaft shaft 110 has a plurality of rotating rollers 120 having an annular shape at regular intervals. It is fitted around to keep it.

그리고 각각의 샤프트축(110) 양 말단에는 모터(미도시)와 같은 구동수단이 연결되어 회전력을 발휘하고, 필요에 따라 타이밍벨트 등이 설치되어 이웃하는 샤프트축(110)과 회전력을 공유한다. And drive shafts such as a motor (not shown) are connected to both ends of each shaft shaft 110 to exert a rotational force, and a timing belt or the like is installed as necessary to share the rotational force with neighboring shaft shafts 110.

이때, 상기 트랙(150)은 일정 경사면을 이루도록 기울어져 구성되며, 상기 트랙(150)의 일측 가장자리에는 기판(102)의 이탈을 방지하기 위해 가이드축(142)과 가이드회전롤러(144)로 구성되는 가이드롤러(140)가 구비된다. At this time, the track 150 is configured to be inclined to form a predetermined inclined surface, one side edge of the track 150 is composed of a guide shaft 142 and the guide rotation roller 144 to prevent the separation of the substrate 102 The guide roller 140 is provided.

한편, 목적에 따라 처리공간 상단에는 분사노즐(미도시)이 구비되어 트랙(150)에 의해 슬라이딩 이동되는 기판(102) 표면으로 소정의 액체를 분사할 수 있는데, 습식공정 종류에 따라 습식식각인 경우에 에천트, 세정인 경우에 세정액이 분사된다.Meanwhile, according to the purpose, a spray nozzle (not shown) may be provided at the upper end of the processing space to spray a predetermined liquid onto the surface of the substrate 102 which is slid by the track 150. In the case of etchant and washing, the washing liquid is sprayed.

따라서, 처리대상물인 기판(102)은 각 샤프트축(110)에 장착된 회전롤러(120)에 얹혀져 상기 샤프트축(110)과 회전롤러(120)의 회전에 의해 슬라이딩 방식으로 이동되고, 이 같은 이동 중에 분사노즐(미도시) 등을 통해 기판(102) 표면으로 분사되는 에천트 내지는 세정액에 접촉되어 목적하는 습식공정이 진행된다.Therefore, the substrate 102 to be processed is mounted on the rotary rollers 120 mounted on the respective shaft shafts 110 and moved in a sliding manner by the rotation of the shaft shafts 110 and the rotary rollers 120. The target wet process is performed by contacting an etchant or a cleaning liquid sprayed onto the surface of the substrate 102 through a spray nozzle (not shown) during the movement.

이때, 상기 트랙(150)을 일정 경사면을 이루도록 기울여 구성함으로써, 상기 경사면을 이루는 트랙(150) 상에 안착되어 기울어진 상태로 슬라이딩 이동되는 기판(102) 표면으로 분사되는 에천트 내지는 세정액이 상기 기판(102) 상에 고이지 않고 기판(102) 밖으로 자연스럽게 흘러내리게 된다. In this case, the track 150 is inclined to form a predetermined inclined surface, so that the etchant or cleaning liquid sprayed onto the surface of the substrate 102 that is seated on the inclined surface 150 and slides in an inclined state. It naturally flows out of the substrate 102 without accumulating on the 102.

또한, 상기 기울어진 상태로 슬라이딩 이동되는 기판(102)은 상기 가이드롤러(140)에 의해 일 가장자리가 지지되어 트랙(150) 외부로 이탈되지 않게 되는데 이때, 상기 가이드롤러(140)의 가이드회전롤러(144)는 상기 기판(102)과 접하면 자유롭게 상하 승강운동하면서 회전하게 되는 것을 특징으로 한다. 이는 도 4를 참조하여 좀더 자세히 설명하도록 하겠다.In addition, the substrate 102 that is slidably moved in the inclined state is supported by one edge of the guide roller 140 so as not to be separated from the outside of the track 150. At this time, the guide rotating roller of the guide roller 140 144 rotates while freely moving up and down in contact with the substrate 102. This will be described in more detail with reference to FIG. 4.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 가이드롤러를 개략적으로 도시한 사시단면도이다. Figure 4 is a perspective cross-sectional view schematically showing a guide roller according to an embodiment of the present invention.

도시한 바와 같이, 가이드롤러(140)는 가이드축(142)과 상기 가이드축(142)에 둘러 장착되며 회전가능한 원통형의 가이드회전롤러(144)로 구성되는데, 상기 가이드회전롤러(144)는 기판(도 3의 102)과 충돌하여도 기판(도 3의 102)에 파손을 주지 않는 테프론(teflon) 계열의 고분자 재료를 사용하여 구성한다. As shown, the guide roller 140 is mounted around the guide shaft 142 and the guide shaft 142 and is composed of a rotatable cylindrical guide rotating roller 144, the guide rotating roller 144 is a substrate It is configured using a Teflon-based polymer material that does not damage the substrate (102 in FIG. 3) even when collided with (102 in FIG. 3).

이때, 상기 가이드축(142)에는 소정형태의 돌출단(148)을 구성하며, 상기 가이드축(142)에 둘러 장착되는 가이드회전롤러(144) 내면에는 상기 돌출단(148)이 유격있게 삽입되어 상기 가이드회전롤러(144)가 상하 승강운동을 할 수 있도록 유도(誘導)하는 가이드홈(146)을 구성한다. At this time, the guide shaft 142 constitutes a protruding end 148 of a predetermined shape, and the protruding end 148 is freely inserted into an inner surface of the guide rotating roller 144 mounted around the guide shaft 142. The guide rotary roller 144 constitutes a guide groove 146 for inducing the vertical lifting movement.

이러한, 가이드롤러(140)는 회전하는 원통(종동절)의 표면에 흠(또는 돌기)을 만들어 그것에 끼워지는 피동절을 움직이는 원통캠(cam)의 구동원리와 유사하게 동작하는데 즉, 상기 돌출단(148)이 구성된 가이드축(142)이 고정된 종동절이 되며, 상기 가이드축(142)에 둘러 장착되어 회전하며 상기 돌출단(148)이 유격있게 삽입되는 가이드홈(146)이 구성된 가이드회전롤러(144)가 피동절이 되는 것이다. The guide roller 140 operates similarly to the driving principle of a cylindrical cam that moves a driven joint inserted into it by making a flaw (or protrusion) on a surface of a rotating cylinder (following joint), that is, the protruding end. The guide shaft 142 configured as a guide shaft 142 is a fixed follower, and the guide shaft 142 is rotated by being mounted around the guide shaft 142 and the guide groove 146 including the guide groove 146 into which the protruding end 148 is inserted freely. The roller 144 is to be driven.

이때, 상기 가이드홈(146)은 상기 가이드회전롤러(144) 내면을 따라 일끝단과 타끝단이 서로 만나는 나선형(螺旋形)으로 구성하며, 상기 돌출단(148)은 고정된 상태로 상기 가이드홈(146)에 유격있게 삽입되도록 구성한다. At this time, the guide groove 146 is composed of a spiral (one-shaped end) and the other end meets each other along the inner surface of the guide rotary roller 144, the protruding end 148 is fixed to the guide groove 146 is configured to be inserted freely.

이로 인하여, 상기 가이드홈(146)에 상기 돌출단(148)이 삽입된 가이드회전롤러(144)는 외부의 힘에 의해 일 방향으로 회전하는 동시에, 상기 나선형의 가이드홈(146)을 통해 상하로 승강운동하게 되며, 상기 가이드홈(146)을 일끝단과 타끝단이 서로 만나는 형태로 구성함으로써, 상기 가이드회전롤러(144)는 회전하면서 상하로 왕복하여 승강운동을 하게 된다. For this reason, the guide rotary roller 144 having the protruding end 148 inserted into the guide groove 146 rotates in one direction by an external force and is moved up and down through the spiral guide groove 146. As the lifting and lowering movement, the guide groove 146 is configured in such a way that one end and the other end meet each other, the guide rotation roller 144 is to move up and down while rotating up and down.

따라서, 상기 기판(도 3의 102)은 상기 가이드롤러(140)에 의해 지지되어 상기 트랙(도 3의 130) 상에서 이탈 되지 않고 슬라이딩 이동되는 과정에서, 상기 기판(도 3의 102)이 가이드회전롤러(144)의 특정부위에서만 마찰되었던 기존과 달리, 상기 가이드회전롤러(144)의 상하 승강운동에 의해 상기 기판(도 3의 102)과 상기 가이드회전롤러(144)가 접촉되는 접촉면적을 넓게 형성할 수 있게 된다. Accordingly, the substrate (102 of FIG. 3) is supported by the guide roller 140 and is slidably moved without being separated on the track (130 of FIG. 3). Unlike the existing one, which was only rubbed on a specific portion of the roller 144, the contact area where the substrate (102 of FIG. 3) and the guide rotating roller 144 are in contact with each other by the vertical movement of the guide rotating roller 144 is widened. It can be formed.

이는, 상기 가이드회전롤러(144) 상의 점 또는 선 형태의 흠집의 발생을 미연에 방지할 수 있으며, 상기 흠집으로 인한 기판(도 3의 102)의 파손 역시 미연에 방지하게 된다. 이러한, 가이드롤러의 상하 승강운동을 도 5a ~ 5b를 참조하여 좀더 자세히 설명하도록 하겠다. This can prevent the occurrence of spot or line scratches on the guide rotating roller 144, and also prevent the damage of the substrate (102 in FIG. 3) due to the scratches. This, the up and down movement of the guide roller will be described in more detail with reference to Figures 5a to 5b.

도 5a ~ 5b는 가이드롤러의 상하 승강운동을 개략적으로 도시한 단면도이다. 5a to 5b are cross-sectional views schematically showing the up and down movement of the guide roller.

본 발명에 따른 가이드롤러(140)는 별도의 회전동력 없이, 상기 기판(도 3의 102)이 이동되는 과정에서의 상기 기판(도 3의 102)과의 마찰력에 의해 회전하게 된다. The guide roller 140 according to the present invention is rotated by the frictional force with the substrate (102 in Figure 3) in the process of moving the substrate (102 in Figure 3), without a separate rotational power.

따라서, 상기 트랙(도 3의 130) 상에 안착되어 기판(도 3의 102)이 이동되는 과정에서, 상기 기판(도 3의 102)과 상기 가이드롤러(140)의 가이드축(142)에 둘러 장착된 가이드회전롤러(144)가 마찰됨으로써, 상기 가이드회전롤러(144)는 상기 기판(도 3의 102) 이동방향과 동일한 방향으로 회전하게 된다. Thus, in the process of being seated on the track 130 (FIG. 3) and moving the substrate 102 (FIG. 3), the substrate (102 of FIG. 3) and the guide shaft 142 of the guide roller 140 are surrounded. As the guide rotating roller 144 mounted is rubbed, the guide rotating roller 144 is rotated in the same direction as the moving direction of the substrate (102 of FIG. 3).

이때, 상기 가이드축(142)에 구성된 돌출단(148)은 상기 가이드회전롤러(144)의 내면에 구성된 나선형의 가이드홈(146)에 유격있게 삽입된 상태로, 상기 고정된 돌출단(148)을 통해 상기 가이드회전롤러(144)는 상기 기판(도 3의 102) 이동방향과 동일한 방향으로 회전하는 동시에, 도 5a에 도시한 바와 같이, 상기 가이드축(142)의 상측으로 승강운동하게 된다.At this time, the protruding end 148 formed on the guide shaft 142 is inserted into the guide groove 146 of the spiral formed on the inner surface of the guide rotating roller 144, the fixed protruding end 148 Through the guide rotation roller 144 is rotated in the same direction as the moving direction of the substrate (102 in Figure 3), as shown in Figure 5a, it is to move up and down the guide shaft 142.

즉, 상기 가이드회전롤러(144)가 상기 가이드축(142)의 최고점으로 승강운동하게 되면, 상기 돌출단(148)은 상기 가이드회전롤러(144)의 내면의 가이드홈(146)의 최하단부에 위치하게 되는 것이다. That is, when the guide rotary roller 144 is raised and lowered to the highest point of the guide shaft 142, the protruding end 148 is located at the lowest end of the guide groove 146 of the inner surface of the guide rotary roller 144. Will be done.

또한, 상기 가이드홈(146)의 최하단부에 돌출단(148)이 위치하게 되면, 상기 가이드홈(146)의 일끝단과 타끝단이 서로 만나도록 구성되므로 도 5b에 도시한 바와 같이, 상기 가이드회전롤러(144)는 계속해서 회전하면서 상기 가이드축(142)의 하측으로 승강운동하게 된다. In addition, when the protruding end 148 is located at the lower end of the guide groove 146, one end and the other end of the guide groove 146 is configured to meet each other, as shown in Figure 5b, the guide rotation The roller 144 continues to rotate while lifting up and down the guide shaft 142.

이때는 상기 돌출단(148)이 상기 가이드회전롤러(144)의 가이드홈(146)의 최상단부에 위치하게 된다. In this case, the protruding end 148 is positioned at the upper end of the guide groove 146 of the guide rotating roller 144.

이렇듯, 상기 가이드회전롤러(144)는 상기 가이드축(142)을 중심으로 계속해서 일 방향으로 회전하는 동안, 상기 가이드홈(146)을 통해 상하로 계속하여 승강운동을 반복하게 되는 것이다.As such, while the guide rotation roller 144 continues to rotate about one direction with respect to the guide shaft 142, the lifting movement is repeated continuously up and down through the guide groove 146.

한편, 도면에 도시하지는 않았지만 이러한 가이드롤러(140)의 가이드홈(146)과 돌출단(148)의 위치는 서로 반대로 구성할 수도 있는데 즉, 상기 가이드축(142)에 가이드홈(146)을 구성하고, 상기 가이드회전롤러(144)의 내면에 돌출단(148)을 구성하는 것이다. On the other hand, although not shown in the drawings, the position of the guide groove 146 and the protruding end 148 of the guide roller 140 may be configured to be opposite to each other, that is, the guide groove 146 on the guide shaft 142 Then, the protrusion end 148 is configured on the inner surface of the guide rotating roller 144.

이렇게, 가이드홈(146)과 돌출단(148)의 위치를 반대로 구성하면, 상기 가이드축(142)에 둘러 장착된 가이드회전롤러(144)가 회전하는 동시에, 상기 가이드회전롤러(144)에 구성된 돌출단(148)이 상기 가이드축(142)에 구성된 가이드홈(146)을 따라 상하로 승강운동하게 되는 것이다. Thus, when the positions of the guide groove 146 and the protruding end 148 are configured in reverse, the guide rotating roller 144 mounted around the guide shaft 142 rotates, and is configured in the guide rotating roller 144. The protruding end 148 moves up and down along the guide groove 146 formed on the guide shaft 142.

전술한 바와 같이, 경사면을 갖도록 구성된 트랙(도 3의 130)의 일측 가장자리에 기판(도 3의 102)의 이탈을 방지하기 위해 구비되는 가이드롤러(140)의 가이드회전롤러(144)를 자유롭게 상하 승강운동하면서 회전하도록 구성하여, 상기 기판(도 3의 102)과 가이드회전롤러(144)가 접촉되는 접촉면적을 넓게 형성함으로써, 기존의 기판(도 3의 102)에 의해 가이드회전롤러(144) 상의 점 또는 선 형태의 흠집의 발생을 미연에 방지하게 되며, 상기 흠집으로 인한 기판(도 3의 102)의 파손 역시 미연에 방지하게 된다. As described above, the guide rotation roller 144 of the guide roller 140 is provided freely up and down to prevent the separation of the substrate (102 in FIG. 3) at one edge of the track (130 in FIG. 3) configured to have an inclined surface. It is configured to rotate while raising and lowering, thereby forming a wide contact area where the substrate (102 in Fig. 3) and the guide rotation roller 144 is in contact, thereby the guide rotation roller 144 by the existing substrate (102 in Fig. 3) It is possible to prevent the occurrence of scratches in the form of dots or lines on the image, and to prevent the damage of the substrate (102 of FIG. 3) due to the scratches.

이는, 전술한 문제점을 해결하기 위해 기존의 가이드롤러(140)를 교체함으로써 비용의 낭비를 초래하였던 문제점 역시 해결하게 된다. This also solves the problem that caused waste of cost by replacing the existing guide roller 140 to solve the above problems.

또한, 기판(도 3의 102) 이송에 대한 신뢰도를 크게 향상시킬 수 있다. In addition, the reliability of transporting the substrate 102 (in FIG. 3) can be greatly improved.

본 발명은 상기 실시예로 한정되지 않고, 본 발명의 취지를 벗어나지 않는 한도내에서 다양하게 변경하여 실시할 수 있다. The present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

위에 상술한 바와 같이, 본 발명에 따라 경사면을 갖도록 구성된 트랙의 일측 가장자리에 기판의 이탈을 방지하기 위해 구비되는 가이드롤러의 가이드회전롤러를 자유롭게 상하 승강운동하면서 회전하도록 구성하여, 상기 기판과 가이드회전롤러가 접촉되는 접촉면적을 넓게 형성함으로써, 기존의 기판에 의해 가이드회전롤러 상의 점 또는 선 형태의 흠집의 발생을 미연에 방지하게 되는 효과가 있으며, 상기 흠집으로 인한 기판의 파손 역시 미연에 방지하게 되는 효과가 있다. As described above, by rotating the guide rotation roller of the guide roller provided to prevent the separation of the substrate on one side edge of the track configured to have an inclined surface in accordance with the present invention while lifting freely up and down, the substrate and the guide rotation By forming a large contact area in contact with the roller, there is an effect of preventing the occurrence of spot or line scratches on the guide rotation roller by the existing substrate, and also to prevent damage to the substrate due to the scratch It is effective.

따라서 기판 이송에 대한 신뢰성이 크게 향상되는 효과가 있다. Therefore, the reliability of substrate transfer is greatly improved.

이는, 기존의 가이드롤러를 교체함으로써 비용의 낭비를 초래하였던 문제점 역시 해결하게 되는 효과가 있으며, 기판 이송에 대한 신뢰도를 크게 향상시킬 수 있는 효과가 있다. This has the effect of solving the problem that caused the waste of costs by replacing the existing guide roller, there is an effect that can greatly improve the reliability for substrate transfer.

Claims (8)

바닥면과 양 측면으로 구비되어, 내부로 기판처리공간이 정의된 베스와;It is provided with the bottom surface and both sides, and the substrate processing space defined therein; 상기 기판처리공간 내에서 서로 나란하게 배열되며, 각각 복수개의 회전롤러가 장착된 다수의 샤프트축과;A plurality of shaft shafts arranged side by side in the substrate processing space, each of which has a plurality of rotating rollers; 상기 샤프트축의 일측에 구성되며, 서로 이웃하는 샤프트축의 사이에 구성되는 가이드롤러Guide rollers are configured on one side of the shaft shaft, and configured between adjacent shaft shafts. 를 포함하며, 상기 가이드롤러는 기판과의 마찰에 의해 일방향으로 회전하는 동시에, 상하 승강운동하는 것을 특징으로 하는 습식공정을 위한 기판 이송용 트랙.Includes, The guide roller is a substrate transport track for a wet process, characterized in that while rotating in one direction by the friction with the substrate, and moving up and down. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 가이드롤러는 가이드축과, 상기 가이드축에 둘러 장착되어 회전가능한 가이드회전롤러로 구성되는 것을 특징으로 하는 습식공정을 위한 기판 이송용 트랙.The guide roller is a guide shaft, the substrate transport track for a wet process, characterized in that consisting of a guide rotating roller rotatably mounted around the guide shaft. 제 2 항에 있어서, The method of claim 2, 상기 가이드축에는 소정형태의 돌출단이 구성되어 있으며, 상기 가이드회전 롤러의 내면에는 가이드홈이 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 습식공정을 위한 기판 이송용 트랙. The guide shaft has a protruding end of a predetermined shape, and the guide groove is formed on the inner surface of the guide rotating roller, the substrate transfer track for a wet process. 제 3 항에 있어서, The method of claim 3, wherein 상기 가이드홈은 상기 가이드회전롤러의 내면을 따라 일끝단과 타끝단이 서로 만나는 나선형(螺旋形)으로 구성되는 것을 특징으로 하는 습식공정을 위한 기판 이송용 트랙.The guide groove is a substrate transfer track for a wet process, characterized in that the one end and the other end is formed along the inner surface of the guide rotating roller in a spiral form (helical) meet each other. 제 3 항에 있어서, The method of claim 3, wherein 상기 돌출단은 고정된 상태로 상기 가이드홈에 유격있게 삽입되며, 상기 가이드회전롤러는 가이드홈을 통해 상하 승강운동하는 것을 특징으로 하는 습식공정을 위한 기판 이송용 트랙.The protruding end is inserted into the guide groove in a fixed state, and the guide rotation roller is a substrate transfer track for a wet process, characterized in that the lifting movement up and down through the guide groove. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 샤프트축 말단에는 모터 등의 구동수단이 연결되는 것을 특징으로 하는 습식공정을 위한 기판 이송용 트랙. The shaft shaft end is a substrate transfer track for a wet process, characterized in that a drive means such as a motor is connected. 제 2 항에 있어서, The method of claim 2, 상기 가이드축에는 가이드홈이 구성되어 있으며, 상기 가이드회전롤러에는 소정형태의 돌출단이 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 습식공정을 위한 기판 이송용 트랙. The guide shaft is configured with a guide groove, and the guide rotating track is a substrate transfer track for a wet process, characterized in that the projecting end of a predetermined shape is configured. 제 7 항에 있어서, The method of claim 7, wherein 상기 가이드홈은 상기 가이드축에 일끝단과 타끝단이 서로 만나는 나선형(螺旋形)으로 구성되는 것을 특징으로 하는 습식공정을 위한 기판 이송용 트랙.The guide groove is a substrate transport track for a wet process, characterized in that the guide shaft is composed of a spiral (end) and the other end meet each other.
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Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0689845A (en) * 1992-09-08 1994-03-29 Nikon Corp Substrate positioning device
JPH1081414A (en) * 1996-09-05 1998-03-31 Medetsuku:Kk Sheet metal conveying device
JPH1111631A (en) * 1997-06-24 1999-01-19 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Substrate conveying device
JP3960087B2 (en) * 2001-05-30 2007-08-15 東京エレクトロン株式会社 Transport device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230134344A (en) 2022-03-14 2023-09-21 주식회사 에스이에이 Groove roller for removing wrap around of substrate and etching device including the same

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