KR102440855B1

KR102440855B1 - Substrate wet cleaning apparatus

Info

Publication number: KR102440855B1
Application number: KR1020150124497A
Authority: KR
Inventors: 이용진; 이준우
Original assignee: 주식회사 케이씨텍
Priority date: 2015-09-02
Filing date: 2015-09-02
Publication date: 2022-09-06
Also published as: KR20170027626A

Abstract

본 발명은 기판의 습식 세정 장치에 관한 것으로, 축선 방향으로 배치된 다수의 제1구동 롤러가 구비되어 함께 회전 구동되는 다수의 제1회전축을 구비하여, 상기 제1구동롤러가 기판의 일부 폭의 하측 영역을 접촉 지지하면서 상기 기판을 제1이송방향으로 이송하는 제1이송부와; 축선 방향으로 배치된 다수의 제2구동 롤러가 구비되어 함께 회전 구동되는 다수의 제2회전축을 구비하여, 상기 제2구동롤러가 기판의 다른 일부 폭의 하측 영역을 접촉 지지하면서 상기 기판을 제1이송방향으로 이송하는 제2이송부와; 상기 기판의 상면에서 세정액을 공급하는 세정액 공급부를; 포함하여 구성되어, 제1회전축과 제2회전축이 각각 기판의 일측 폭과 타측 폭을 양단 지지형태로 지지함으로써, 제1회전축과 제2회전축의 자중에 의한 처짐량이 종래에 비하여 훨씬 줄어들어, 대면적 기판의 중앙부에서의 처짐량이 실질적으로 0으로 유지할 수 있을 뿐만 아니라, 기판 중앙부와 기판 단부의 사잇 영역에서의 처짐량을 최소화함으로써, 기판의 처짐량에 따른 손상 가능성을 최소화하는 기판의 습식 세정 장치를 제공한다. The present invention relates to a wet cleaning apparatus for a substrate, comprising a plurality of first driving rollers arranged in an axial direction and a plurality of first rotating shafts driven together to rotate, the first driving roller having a width of a part of a substrate a first transfer unit for transferring the substrate in a first transfer direction while contacting and supporting the lower region; A plurality of second rotation shafts provided with a plurality of second driving rollers arranged in the axial direction are provided and a plurality of second rotation shafts are rotationally driven together, so that the second driving rollers contact and support a lower region of another partial width of the substrate while holding the substrate in the first direction. a second transfer unit for transferring in the transfer direction; a cleaning liquid supply unit for supplying a cleaning liquid from the upper surface of the substrate; By including, the first rotation shaft and the second rotation shaft support the width of one side and the other side of the substrate in the form of support at both ends, respectively, the amount of deflection by the weight of the first rotation shaft and the second rotation shaft is much reduced compared to the conventional one, and a large area Provided is an apparatus for wet cleaning of a substrate that can keep the amount of sag in the central portion of the substrate substantially zero, and minimizes the amount of sag in the region between the central portion of the substrate and the end of the substrate, thereby minimizing the possibility of damage due to the amount of sagging of the substrate. .

Description

Substrate wet cleaning apparatus {SUBSTRATE WET CLEANING APPARATUS}

본 발명은 기판 습식 세정 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판의 폭이 커지더라도 처짐량을 최소화하여 기판의 습식 세정을 행하는 동안에 기판의 가장자리 등의 손상을 억제하는 기판 습식 세정 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate wet cleaning apparatus, and more particularly, to a substrate wet cleaning apparatus which minimizes the amount of sagging even when the width of the substrate is increased to suppress damage to the edge of the substrate during wet cleaning of the substrate.

일반적으로 평판 디스플레이 장치를 제조하기 위해서는, 유리 등의 소재로 이루어진 기판의 표면에 포토리지스트를 도포하고, 노광하고, 식각하는 공정이 반복된다. 그리고, 각각의 도포 공정, 노광 공정, 식각 공정이 행해지기 전후에는 기판에 잔류하는 이물질을 제거하는 세정 공정을 거치는 것에 의하여 각각의 처리 공정의 신뢰성을 높인다. In general, in order to manufacture a flat panel display device, a process of applying a photoresist to the surface of a substrate made of a material such as glass, exposing, and etching is repeated. And, before and after each application process, exposure process, and etching process are performed, a cleaning process of removing foreign substances remaining on the substrate is performed, thereby increasing the reliability of each processing process.

도1에 도시된 기판의 습식 세정 장치(1)는 기판(G)을 이송하면서 기판에 세정액(30a)을 공급하여 기판(G)에 잔류하는 이물질을 제거한다. 이를 위하여, 다수의 롤러(15)가 장착된 회전축(10)과, 회전축(10)의 양단을 지지하는 지지대(20)와, 기판(G)의 표면에 세정액(30a)을 분사하는 세정액 공급부(30)와, 회전축(10)을 회전 구동하는 구동부(40)로 이루어진다. The substrate wet cleaning apparatus 1 shown in FIG. 1 removes foreign substances remaining on the substrate G by supplying the cleaning liquid 30a to the substrate while transferring the substrate G. As shown in FIG. To this end, a rotating shaft 10 equipped with a plurality of rollers 15, a support 20 supporting both ends of the rotating shaft 10, and a cleaning solution supply unit for spraying the cleaning solution 30a onto the surface of the substrate G ( 30) and a driving unit 40 for rotationally driving the rotating shaft 10 .

따라서, 기판(G)이 세정 장치(1)에 공급되면, 구동부(40)에 의하여 회전축(10)이 회전 구동되고, 회전축(10)에 고정된 롤러(15)도 함께 회전 구동하면서, 롤러(15)의 상측에 거치된 기판(G)은 정해진 방향으로 이송(Gd)된다. 그리고, 기판(G)이 세정액 공급부(30)의 하측에 도달하면, 세정액 공급부(30)로부터 분사되는 세정액(30a)에 의하여 세정된 후, 세정된 기판(G)은 그 다음 공정으로 이송된다. Therefore, when the substrate G is supplied to the cleaning apparatus 1, the rotation shaft 10 is rotationally driven by the driving unit 40, and the roller 15 fixed to the rotation shaft 10 is also rotationally driven while the roller ( 15) The substrate (G) mounted on the upper side is transferred (Gd) in a predetermined direction. And, when the substrate G reaches the lower side of the cleaning liquid supply unit 30 , it is cleaned by the cleaning liquid 30a sprayed from the cleaning liquid supply unit 30 , and then the cleaned substrate G is transferred to the next process.

그러나, 도1에 도시된 종래의 기판 습식 세정 장치(1)는 기판(G)의 폭이 작은 경우에는 기판(G)을 원활이 이송하면서 세정할 수 있었지만, 폭(w)이 3000mm를 초과하고 두께가 0.8mm 이하로 형성되는 10.5세대 이후의 기판(G)에 대해서는, 회전축(10)의 길이가 길어짐에 따라 하방으로의 자중에 의한 처짐량이 보다 커지고, 이에 따라 기판(G)의 하방으로의 휨 변위도 커지는 문제가 야기되었다. However, in the conventional wet substrate cleaning apparatus 1 shown in FIG. 1, when the width of the substrate G is small, it can be cleaned while smoothly transporting the substrate G, but the width w exceeds 3000 mm and For the substrate G after the 10.5 generation, which is formed to have a thickness of 0.8 mm or less, as the length of the rotation shaft 10 becomes longer, the amount of deflection due to its own weight downward becomes larger, and accordingly, the There was also a problem in that the bending displacement was also increased.

이와 같이, 기판(G)의 중앙부가 하방으로 볼록한 형태로 생기는 휨 변형이 커질수록, 기판(G)의 가장자리는 들뜬 상태가 되면서, 휨 변형량이 큰 기판 중앙부에 미세한 균열이 발생되거나 들뜬 가장자리에서 파손되는 현상이 발생되었다. 이에 따라, 기판(G)의 폭이 3000mm를 초과하는 기판에 대하여 기판(G)의 하방 처짐 변위를 최소화하여 처짐 변위에 따른 기판 손상을 방지할 필요성이 절실히 대두되고 있다.As described above, as the bending deformation caused by the central portion of the substrate G in a downward convex shape increases, the edge of the substrate G becomes in an elevated state, and a fine crack is generated in the central portion of the substrate with a large amount of bending deformation or damage at the raised edge. phenomenon has occurred. Accordingly, there is an urgent need to minimize the downward sagging displacement of the substrate G to prevent damage to the substrate due to the sagging displacement with respect to the substrate having the width of the substrate G exceeding 3000 mm.

또한, 도1에 도시된 바와 같이 구성된 기판 습식 세정 장치(1)는 기판(G)에 공급된 세정액(30a)이 기판(G)을 타격한 이후에 주변으로 튀게 되므로, 주변으로 튀는 세정액에 의하여 주변이 지저분해지고 오염이 심해지는 문제도 있었다. 더욱이, 기판(G)을 이송하기 위하여 회전축(10)을 회전시키는 구동부(40)에 세정액이 튀어 전기 배선에 오류가 발생되는 원인이 되는 문제도 있었다.In addition, in the substrate wet cleaning apparatus 1 configured as shown in FIG. 1 , the cleaning liquid 30a supplied to the substrate G splashes around the substrate G after it hits the substrate G. There was also the problem of the surroundings becoming dirty and polluted. Moreover, there is also a problem in that the cleaning liquid splashes on the driving unit 40 that rotates the rotation shaft 10 to transport the substrate G, causing an error in the electrical wiring.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 기판의 폭이 커지고 기판의 두께가 얇아지더라도 기판의 처짐량을 최소화하여 기판의 습식 세정을 행하는 동안에 기판의 중앙부나 가장자리의 손상을 억제하는 기판 습식 세정 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. The present invention is to solve the above problems, and even when the width of the substrate increases and the thickness of the substrate decreases, the amount of sagging of the substrate is minimized to suppress damage to the center or the edge of the substrate during wet cleaning of the substrate. The purpose is to provide a device.

또한, 본 발명은 기판의 세정 공정 중에 기판에 분사하는 세정액이 주변으로 튀는 것을 방지하고 특히 전기 배선이 있는 구동부로 튀는 것을 방지하는 것을 목적으로 한다.Another object of the present invention is to prevent a cleaning liquid sprayed on a substrate from splashing to the surroundings during a substrate cleaning process and, in particular, to prevent splashing to a driving unit having an electric wiring.

그리고, 본 발명은 기판의 이송을 2개로 나뉜 회전축에 의하여 이송하되, 각각의 회전축이 동일하게 회전하여 기판이 이송중에 틀어지지 않고 지지되는 것을 목적으로 한다.And, an object of the present invention is that the transfer of the substrate is transferred by means of a rotation shaft divided into two, and each rotation shaft rotates the same so that the substrate is supported without being distorted during transport.

상술한 바와 같은 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명은, 축선 방향으로 배치된 다수의 제1구동 롤러가 구비되어 함께 회전 구동되는 다수의 제1회전축을 구비하여, 상기 제1구동롤러가 기판의 일부 폭의 하측 영역을 접촉 지지하면서 상기 기판을 제1이송방향으로 이송하는 제1이송부와; 축선 방향으로 배치된 다수의 제2구동 롤러가 구비되어 함께 회전 구동되는 다수의 제2회전축을 구비하여, 상기 제2구동롤러가 기판의 다른 일부 폭의 하측 영역을 접촉 지지하면서 상기 기판을 제1이송방향으로 이송하는 제2이송부와; 상기 기판의 상면에서 세정액을 공급하는 세정액 공급부를; 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 기판의 습식 세정 장치를 제공한다.In order to achieve the technical problem as described above, the present invention is provided with a plurality of first driving rollers arranged in an axial direction and provided with a plurality of first rotating shafts that are rotationally driven together, so that the first driving roller of the substrate a first transfer unit for transferring the substrate in a first transfer direction while contacting and supporting a lower region of a partial width; A plurality of second rotation shafts provided with a plurality of second driving rollers arranged in the axial direction are provided and a plurality of second rotation shafts are rotationally driven together, so that the second driving rollers contact and support a lower region of another partial width of the substrate while holding the substrate in the first direction. a second transfer unit for transferring in the transfer direction; a cleaning liquid supply unit for supplying a cleaning liquid from the upper surface of the substrate; It provides a wet cleaning apparatus for a substrate, characterized in that it comprises a.

이는, 기판을 지지하면서 이송함에 있어서, 제1회전축과 제2회전축이 각각 기판의 일측 폭과 타측 폭을 양단 지지형태로 지지함으로써, 제1회전축과 제2회전축의 자중에 의한 처짐량이 종래에 비하여 훨씬 줄어들어, 대면적 기판의 중앙부에서의 처짐량이 실질적으로 0으로 유지할 수 있을 뿐만 아니라, 기판 중앙부와 기판 단부의 사잇 영역에서의 처짐량을 최소화함으로써, 기판의 처짐량에 따른 손상 가능성을 최소화하기 위함이다. This is because, in transporting while supporting the substrate, the first and second rotational shafts support the width of one side and the other width of the substrate in the form of support at both ends, respectively, so that the amount of deflection due to the weight of the first and second rotational shafts is compared with the prior art. This is to minimize the possibility of damage due to the amount of deflection of the substrate by minimizing the amount of deflection in the region between the central portion of the substrate and the end of the substrate as well as being able to keep the amount of deflection at the center of the large-area substrate substantially zero.

여기서, 상기 제1회전축을 회전 구동하는 제1구동부는 하나의 제1구동 모터로 다수의 제1회전축을 회전 구동하게 구성된다. 이에 의하여, 전기 신호가 인가되는 구동 모터의 개수가 줄어들어 세정액에 의하여 누전이 발생될 가능성을 보다 줄여 작동 신뢰성을 확보할 수 있다. Here, the first driving unit for rotationally driving the first rotation shaft is configured to rotationally drive the plurality of first rotation shafts with one first driving motor. As a result, the number of driving motors to which an electric signal is applied is reduced, thereby further reducing the possibility of electric leakage caused by the cleaning liquid, thereby securing operational reliability.

예를 들어, 상기 다수의 제1회전축에는 제1기어가 장착되고, 상기 다수의 제1회전축에 각각 제1기어와 맞물리는 나사산이 형성된 제1구동축이 상기 제1구동모터에 의하여 회전 구동될 수 있다. For example, a first gear is mounted on the plurality of first rotation shafts, and a first drive shaft having a screw thread engaged with the first gear on each of the plurality of first rotation shafts may be rotationally driven by the first drive motor. have.

그리고, 상기 제1회전축은 상기 제1구동 롤러가 배치된 영역은 제1중공축으로 형성되고, 상기 구동부로부터 회전 구동력을 전달받는 영역은 제1중실축으로 형성되어, 상기 제1중공축과 상기 제1중실축이 축선 방향으로 결합될 수 있다. 이와 같이, 제1구동롤러가 고정 배치된 영역에는 제1중공축으로 형성되어 자중을 줄이는 것에 의해 처짐량을 줄일 수 있고, 제1회전축의 양단부는 제1중실축으로 베어링의 설치를 보다 용이하게 할 수 있는 잇점을 얻을 수 있다. And, in the first rotation shaft, an area in which the first driving roller is disposed is formed as a first hollow shaft, and a region receiving rotational driving force from the driving unit is formed as a first solid shaft, and the first hollow shaft and the The first solid shaft may be coupled in an axial direction. In this way, the first hollow shaft is formed in the region where the first driving roller is fixedly arranged, so that the amount of deflection can be reduced by reducing its own weight. advantage can be obtained.

이 때, 상기 제1중공축과 상기 제1중실축은 서로 끼워지는 요홈부와 돌기부가 형성될 수 있다. In this case, the first hollow shaft and the first solid shaft may be formed with a concave portion and a protrusion to be fitted with each other.

마찬가지로, 상기 제2구동부는 하나의 제2구동 모터로 다수의 제2회전축을 회전 구동하게 구성될 수 있다. 예를 들어, 상기 다수의 제2회전축에는 제2기어가 장착되고, 상기 다수의 제2회전축에 각각 제2기어와 맞물리는 나사산이 형성된 제2구동축이 상기 제2구동모터에 의하여 회전 구동될 수 있다.Similarly, the second driving unit may be configured to rotationally drive a plurality of second rotation shafts with one second driving motor. For example, a second gear is mounted on the plurality of second rotation shafts, and a second drive shaft having a screw thread engaged with the second gear on each of the plurality of second rotation shafts may be rotationally driven by the second drive motor. have.

상기 제2회전축은 상기 제2구동 롤러가 배치된 영역은 제2중공축으로 형성되고, 상기 제2구동부로부터 회전 구동력을 전달받는 영역은 제2중실축으로 형성되어, 상기 제2중공축과 상기 제2중실축이 축선 방향으로 결합될 수 있다. 그리고, 상기 제2중공축과 상기 제2중실축은 서로 끼워지는 요홈부와 돌기부가 형성되어 하나의 회전축으로 요동없이 회전 구동되는 것이 보조된다. In the second rotation shaft, an area in which the second driving roller is disposed is formed as a second hollow shaft, and an area receiving rotational driving force from the second driving unit is formed as a second solid shaft, and the second hollow shaft and the The second solid shaft may be coupled in an axial direction. In addition, the second hollow shaft and the second solid shaft are formed with a concave portion and a protrusion to be fitted with each other, so that they are rotatably driven by a single rotational shaft, thereby assisting in rotational driving.

한편, 상기 제1구동롤러와 상기 제2구동롤러 중 어느 하나 이상에는 외주면에 점탄성 재질의 마찰링이 감싸도록 형성될 수 있다. 이에 의하여, 구동 롤러의 회전에 의하여 그 상측에 거치된 기판의 수평 이송을 보다 원활하게 할 수 있다.Meanwhile, at least one of the first driving roller and the second driving roller may be formed such that a friction ring made of a viscoelastic material is wrapped around an outer circumferential surface. Accordingly, it is possible to more smoothly horizontally transfer the substrate mounted on the upper side by the rotation of the driving roller.

그리고, 상기 제1구동롤러와 상기 제1회전축의 사이에는 점탄성 재질의 고정링이 감싸도록 형성될 수 있다. 이에 의하여, 제1구동롤러가 제1회전축의 필요한 배치 위치에 자유자재로 위치 고정될 수 있다.A fixing ring made of a viscoelastic material may be formed to surround the first driving roller and the first rotating shaft. Thereby, the first driving roller can be freely fixed to a required arrangement position of the first rotation shaft.

한편, 상기 다수의 제1회전축과 상기 다수의 제1회전축은 중앙 지지부에 의하여 안쪽 단부가 함께 회전 지지될 수도 있다. 이에 의하여, 기판의 중앙부가 중앙 지지부에 의하여 하방으로의 처짐 변위가 발생하지 않으므로, 종래에 비하여 대략 1/2로 짧아진 제1회전축과 제2회전축의 처짐 변위에 의해서만 기판의 처짐 변위가 발생되므로, 기판의 처짐 변위를 보다 확실하게 억제할 수 있는 효과를 얻을 수 있다. Meanwhile, the plurality of first rotational shafts and the plurality of first rotational shafts may be rotationally supported at inner ends together by a central supporter. As a result, the sagging displacement of the substrate is generated only by the sagging displacement of the first and second rotation shafts, which are approximately 1/2 shorter than in the prior art, because the central support part does not cause downward sagging displacement of the central part of the substrate. , it is possible to obtain the effect of more reliably suppressing the sagging and displacement of the substrate.

이 때, 상기 제1회전축과 상기 제2회전축은 서로 연결될 수도 있다. 이와 같더라도, 중앙 지지부에서의 처짐량이 0으로 유지되므로 기판을 지지하는 회전축의 처짐을 억제할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.In this case, the first rotation shaft and the second rotation shaft may be connected to each other. Even in this way, since the amount of deflection in the central support portion is maintained at 0, it is possible to obtain the effect of suppressing the deflection of the rotation shaft supporting the substrate.

무엇보다도, 상기 제1회전축과 상기 제2회전축은 서로 분리되어, 각각 바깥 단부는 서로 다른 제1지지부 및 제2지지부에 의하여 회전 지지되고, 내측 단부는 중앙 지지부에 의하여 회전 지지됨으로써, 중앙 지지부에서의 처짐량을 0으로 유지하여 회전축의 처짐을 억제하면서, 제1회전축 및 제2회전축을 교체하거나 이들에 설치된 구동 롤러를 교체하는 데 소요되는 유지 관리 시간을 단축할 수 있는 유리한 효과를 얻을 수 있다.Above all, the first axis of rotation and the second axis of rotation are separated from each other, so that the outer end is rotationally supported by different first and second support portions, and the inner end is rotationally supported by the central support portion, so that the central support It is possible to obtain an advantageous effect of reducing the maintenance time required to replace the first and second rotary shafts or replace the driving rollers installed therein while suppressing the deflection of the rotary shaft by maintaining the deflection amount of the rotation shaft at 0.

여기서, 상기 제1회전축과 상기 제2회전축은 축선 방향으로 서로 엇갈리게 배열될 수도 있지만, 상기 제1회전축과 상기 제2회전축이 서로 직선 형태로 정렬되게 배치될 수도 있다. Here, the first rotation shaft and the second rotation shaft may be alternately arranged in an axial direction, or the first rotation shaft and the second rotation shaft may be arranged to be aligned in a straight line with each other.

그리고, 상기 제1회전축과 상기 제2회전축은 서로 길이가 동일하게 형성되어 기판 중앙부의 처짐량을 최소로 유지되게 함으로써, 기판의 전체 처짐량을 최소로 유지할 수 있다.In addition, the first rotation shaft and the second rotation shaft are formed to have the same length to each other to keep the amount of deflection of the central portion of the substrate to a minimum, thereby maintaining the total amount of deflection of the substrate to a minimum.

한편, 상기 제1지지부로부터 상방으로 연장되어, 상기 기판에 공급된 세정액이 상기 제1구동부로 튀는 것을 방지하는 차단막이 형성될 수 있다. 이를 통해, 기판의 습식 세정 공정 중에 기판으로 공급되는 세정액이 주변으로 튀어 전기 배선이 있는 구동부의 누전을 발생시키는 것을 방지할 수 있다. Meanwhile, a blocking layer extending upward from the first support part and preventing the cleaning solution supplied to the substrate from splashing into the first driving part may be formed. In this way, it is possible to prevent the cleaning liquid supplied to the substrate from splashing around during the wet cleaning process of the substrate and causing a short circuit in the driving unit having the electric wiring.

이 때, 차단막의 내면에는 스폰지 등의 흡습성 재질의 막이 입혀져 차단막으로 튄 세정액이 다시 기판으로 되튀는 것을 방지할 수 있다.At this time, a film made of a hygroscopic material such as a sponge is coated on the inner surface of the blocking film to prevent the cleaning liquid splashed by the blocking film from splashing back onto the substrate again.

이와 유사하게, 상기 제2지지부로부터 상방으로 연장되어, 상기 기판에 공급된 세정액이 상기 제2구동부로 튀는 것을 방지하는 차단막이 형성될 수도 있다. 이와 같이, 제1지지부와 제2지지부에 모두 차단막이 설치됨으로써, 기판의 습식 세정 공정 중에 주변으로 세정액이 튀어 주변을 오염시키는 것을 방지할 수 있다.Similarly, a blocking layer extending upward from the second support part to prevent the cleaning solution supplied to the substrate from splashing onto the second driving part may be formed. As described above, since the blocking film is provided on both the first support part and the second support part, it is possible to prevent the cleaning liquid from splashing around and contaminating the surroundings during the wet cleaning process of the substrate.

본 명세서 및 특허청구범위에 기재된 '회전축'이라는 용어는 '제1회전축'과 '제2회전축'을 통칭하는 것으로 정의한다. 그리고, 본 명세서 및 특허청구범위에 기재된 '구동롤러'이라는 용어는 '제1구동롤러'와 '제2구동롤러'를 통칭하는 것으로 정의한다. 그리고, 본 명세서 및 특허청구범위에 기재된 '구동부'라는 용어는 '제1구동부'와 '제2구동부'를 통칭하는 것으로 정의한다. The term 'rotation shaft' described in the present specification and claims is defined as a generic term for 'first rotation shaft' and 'second rotation shaft'. In addition, the term 'drive roller' described in the present specification and claims is defined to collectively refer to 'first driving roller' and 'second driving roller'. In addition, the term 'driving unit' described in the present specification and claims is defined to collectively refer to 'first driving unit' and 'second driving unit'.

상술한 바와 같이 본 발명은, 기판의 폭방향을 따라 배열된 제1회전축과 제2회전축이 각각 기판의 일측 폭과 타측 폭을 양단 지지형태로 회전 지지한 상태로 이송함으로써, 제1회전축과 제2회전축의 자중에 의한 처짐량이 종래에 비하여 훨씬 줄어들어 대면적 기판에 대해서도 중앙부에서의 처짐량을 0로 유지함으로써, 기판의 대면적에 따른 처짐량 증가로 인한 기판 중앙부나 기판 가장자리의 균열 또는 손상을 방지할 수 있는 유리한 효과를 얻을 수 있다. As described above, in the present invention, the first and second rotation shafts arranged along the width direction of the substrate transport the first and second rotation shafts in a state in which the width of one side and the width of the other side of the substrate are rotated and supported in the form of supporting both ends, respectively. The amount of deflection due to the weight of the 2 rotating shaft is much reduced compared to the conventional one, so even for a large-area substrate, the amount of deflection at the center is maintained at 0. advantageous effects can be obtained.

또한, 본 발명은 기판의 이송을 위한 다수의 회전축을 하나의 구동 모터를 이용하여 회전 구동함으로써, 회전축의 회전 속도를 자동으로 동기화하여 기판의 틀어짐없이 기판의 이송을 보다 자연스럽고 정교하게 행할 수 있는 유리한 효과를 얻을 수 있다.In addition, the present invention is capable of performing the transfer of the substrate more naturally and precisely without distortion of the substrate by automatically synchronizing the rotational speed of the rotation shaft by rotationally driving a plurality of rotation shafts for the transfer of the substrate using a single drive motor. advantageous effect can be obtained.

무엇보다도, 본 발명은 기판의 일측폭과 타측폭을 지지하는 제1회전축과 제2회전축이 분리된 형태로 형성됨으로써, 기판 중앙부의 처짐량을 0로 유지할 수 있을 뿐만 아니라, 회전축이나 구동 롤러의 교체를 위하여 보다 짧은 길이의 회전축만을 분리하여 교체할 수 있으므로, 유지 관리가 보다 용이해지고 소요 시간을 단축할 수 있는 유리한 효과를 얻을 수 있다.Above all, the present invention is formed in a form in which the first rotation shaft and the second rotation shaft supporting the width of one side and the other side of the substrate are separated, so that the amount of deflection in the center of the substrate can be maintained at 0, as well as replacement of the rotation shaft or the driving roller For this purpose, since only the rotating shaft of a shorter length can be separated and replaced, it is possible to obtain an advantageous effect of making maintenance easier and shortening the required time.

또한, 본 발명은, 기판을 지지하는 영역의 회전축은 중공축으로 형성되고, 기판의 양끝단부의 회전축은 중실축으로 형성되어, 중공축과 중실축을 상호 결합에 의하여 회전축을 구성함으로써, 회전축의 자중에 의한 처짐량을 줄이면서도 회전축의 양단부에서 회전 지지하는 구성을 보다 용이하게 설치할 수 있게 되어, 기판의 처짐량을 줄이는 잇점도 얻을 수 있다. In addition, in the present invention, the rotation shaft of the region supporting the substrate is formed as a hollow shaft, and the rotation shafts of both ends of the substrate are formed as a solid shaft, and the hollow shaft and the solid shaft are mutually coupled to form a rotation shaft. It is possible to more easily install a configuration that supports rotation at both ends of the rotation shaft while reducing the amount of deflection by

또한, 본 발명은 기판의 폭방향으로의 양끝단에 위치한 회전축 지지부의 상측에 차단막을 설치함으로써, 기판의 습식 세정 공정 중에 기판 세정을 위하여 공급되는 세정액이 기판을 타격한 이후에 주변으로 튀는 것을 억제할 수 있으며, 특히 회전축을 회전 구동하는 구동부의 전기 배선으로 액체가 유입되는 것을 근본적으로 억제할 수 있다. In addition, the present invention prevents splashing of the cleaning solution supplied for cleaning the substrate during the wet cleaning process of the substrate from splashing around the substrate after hitting the substrate by installing a blocking film on the upper side of the rotation shaft support located at both ends in the width direction of the substrate. In particular, it is possible to fundamentally suppress the inflow of liquid into the electrical wiring of the driving unit that rotates the rotating shaft.

도1은 종래의 기판의 습식 세정 장치의 구성을 도시한 사시도,
도2는 도1의 정면도,
도3은 도2의 'A'부분의 확대도,
도4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판의 습식 세정 장치의 구성을 도시한 사시도,
도5는 도4의 'B'부분의 확대도,
도6은 도4의 'C'부분의 확대도,
도7은 도6의 절단선 Ⅶ-Ⅶ에 따른 단면도,
도8은 도4의 정면도이다.
1 is a perspective view showing the configuration of a conventional wet cleaning apparatus for a substrate;
Figure 2 is a front view of Figure 1;
3 is an enlarged view of part 'A' of FIG. 2;
4 is a perspective view showing the configuration of an apparatus for wet cleaning a substrate according to an embodiment of the present invention;
5 is an enlarged view of part 'B' of FIG. 4;
Figure 6 is an enlarged view of part 'C' of Figure 4,
7 is a cross-sectional view taken along line VII-VII of FIG. 6;
Fig. 8 is a front view of Fig. 4;

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 기판의 습식 세정 장치(100)에 대하여 구체적으로 설명한다. 다만, 본 발명을 설명함에 있어서, 공지된 기능 혹은 구성에 대해서는 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략하며, 동일하거나 유사한 기능 혹은 구성에 대해서는 동일하거나 유사한 도면 부호를 부여하기로 한다.Hereinafter, an apparatus 100 for wet cleaning a substrate according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, in the description of the present invention, well-known functions or configurations are omitted in order to clarify the gist of the present invention, and the same or similar reference numerals are assigned to the same or similar functions or configurations.

도면에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판의 습식 세정 장치(100)는, 기판(G)의 일측 폭을 지지하면서 기판(G)을 이송(Gd)하는 제1이송부(109)와, 기판(G)의 타측 폭을 지지하면서 기판(G)을 이송(Gd)하는 제2이송부(209)와, 기판(G)의 표면에 잔류하는 이물질을 제거하기 위하여 기판(G)의 상측에서 세정액(130a)을 공급하는 세정액 공급부(130)와, 바깥으로 세정액이 튀는 것을 차단하는 차단막(190)을 포함하여 구성된다. As shown in the drawing, in the apparatus 100 for wet cleaning a substrate according to an embodiment of the present invention, the first transfer unit 109 transfers (Gd) the substrate G while supporting the width of one side of the substrate G. ) and the second transfer part 209 for transferring the substrate G while supporting the width of the other side of the substrate G, and the substrate G in order to remove foreign substances remaining on the surface of the substrate G. It is configured to include a cleaning liquid supply unit 130 that supplies the cleaning liquid 130a from the upper side, and a blocking film 190 that blocks splashing of the cleaning liquid to the outside.

상기 제1이송부(109)는, 기판(G)의 일측 폭의 하측에서 기판(G)의 진행 방향을 따라 다수 배열된 제1회전축(110)과, 제1회전축(110)마다 간격을 두고 배치된 다수의 제1구동롤러(115)와, 다수의 제1회전축(110)을 회전 구동하는 제1구동부(Mc1, 140)로 이루어진다. The first transfer unit 109 is arranged at intervals of a plurality of first rotational shafts 110 and the first rotational shafts 110 arranged in a plurality along the traveling direction of the substrate (G) below the width of one side of the substrate (G). It consists of a plurality of first driving rollers 115 and first driving units Mc1 and 140 for rotationally driving the plurality of first rotating shafts 110 .

여기서, 제1회전축(110)은 기판(G)을 지지하는 영역(양단부를 제외한 영역)은 중공축(111)으로 형성되고, 회전 지지 수단(113, 117)이 끼워지는 양단부는 중실축(112)으로 형성된다. 이에 따라, 제1회전축(110)의 전체 자중은 전체가 중실축으로 형성되는 것에 비하여 크게 감소하여, 제1회전축(110)의 자중에 의한 처짐량을 최소화할 수 있다. 동시에, 제1회전축(110)의 양단부는 중실축(112)으로 형성되어, 베어링 등의 회전 지지 수단(113, 117)이 제1회전축(110)에 끼워져 설치되는 위치에서의 변형이 억제되면서 회전 지지 수단(113, 117)의 견고한 설치도 가능해진다. Here, in the first rotation shaft 110 , a region (region excluding both ends) supporting the substrate G is formed as a hollow shaft 111 , and both ends into which the rotation support means 113 and 117 are fitted are solid shaft 112 . ) is formed from Accordingly, the total weight of the first rotation shaft 110 is greatly reduced compared to that of the entire solid shaft, so that the amount of deflection due to the weight of the first rotation shaft 110 can be minimized. At the same time, both ends of the first rotation shaft 110 are formed as a solid shaft 112 , and rotation support means 113 , 117 such as bearings are fitted to the first rotation shaft 110 and rotate while suppressing deformation at the installation position. A firm installation of the support means 113 , 117 is also possible.

제1회전축(110)의 중공축(111)과 중실축(112)이 일정하게 정렬된 상태로 상호 결합하기 위하여, 중공축(111)에 요입 홈(111a)이 축선 방향으로 형성되고, 중실축(112)에 요입 홈(111a)에 삽입되는 돌기(112a)가 형성되어, 홈(111a)과 돌기(112a)의 맞물림에 의하여 중공축(111)과 중실축(112)이 정렬된 상태로 직선 형태의 제1회전축(110)을 형성할 수 있다. In order to mutually couple the hollow shaft 111 and the solid shaft 112 of the first rotation shaft 110 in a uniformly aligned state, a concave groove 111a is formed in the hollow shaft 111 in the axial direction, and the solid shaft A projection 112a inserted into the concave groove 111a is formed in the 112, and the hollow shaft 111 and the solid shaft 112 are aligned by the engagement of the groove 111a and the projection 112a. A shape of the first rotation shaft 110 may be formed.

여기서, 중공축(111)과 중실축(112)은 용접 등의 영구적인 결합 방식에 의하여 일체로 결합될 수도 있고, 볼트 체결 등에 의하여 분리 가능한 결합 방식에 의하여 결합될 수도 있다. 볼트 체결에 의해 중공축(111)과 중실축(112)이 결합된 경우에는, 중실축(112)과 중공축(111)을 분리하여 구동 롤러(115)나 마찰링(115a)의 교체 등을 행할 수 있다. Here, the hollow shaft 111 and the solid shaft 112 may be integrally coupled by a permanent coupling method such as welding, or may be coupled by a separable coupling method by bolting or the like. When the hollow shaft 111 and the solid shaft 112 are coupled by fastening the bolts, the solid shaft 112 and the hollow shaft 111 are separated to replace the driving roller 115 or the friction ring 115a. can be done

상기 제1회전축(110)은 제1지지부(120)와 중앙 지지부(101)에 의하여 회전 가능하게 양단 지지된다. 이를 위하여, 도5 및 도6에 도시된 바와 같이, 제1지지부(120)와 중앙 지지부(101)에는 U자 형태의 홈(120a, 101a)이 형성되어, 제1회전축(110)의 양단부에 설치된 베어링 등의 회전 지지 수단(113, 117)이 수용된다.The first rotation shaft 110 is rotatably supported at both ends by the first support part 120 and the central support part 101 . To this end, as shown in FIGS. 5 and 6 , U-shaped grooves 120a and 101a are formed in the first support part 120 and the central support part 101 , and at both ends of the first rotation shaft 110 . Rotational support means 113 and 117 such as installed bearings are accommodated.

제1회전축(110)의 회전 지지 수단(113, 117)이 제1지지부(120)와 중앙 지지부(101)의 U자형 홈(120a, 101a)에 수용된 상태에서, U자형 홈(120a, 101a)의 개구를 막는 커버(124, 104)를 지지부(120, 101)의 볼트공(124x, 101x)에 고정하는 것에 의하여, 회전 지지 수단(113, 117)은 U자형 홈(120a, 101a) 내에서 정해진 위치에 위치 고정된다. In a state in which the rotation support means 113 and 117 of the first rotation shaft 110 are accommodated in the U-shaped grooves 120a and 101a of the first support part 120 and the central support part 101, U-shaped grooves 120a, 101a) By fixing the covers (124, 104) blocking the opening of the supports (120, 101) to the bolt holes (124x, 101x), the rotation support means (113, 117) in the U-shaped groove (120a, 101a) fixed in a fixed position.

즉, 커버(124, 104)가 제1지지부(120)와 중앙 지지부(101)의 U자형 홈(120a, 101a)의 상측에 결합된 상태에서는, 커버(124, 104)의 저면이 회전 지지 수단(113, 117)의 상면과 접촉된다. 이와 같이, 제1회전축(110)의 양단부에 회전 지지 수단(113, 117)을 중실축(112)에 고정 설치한 상태에서, 회전 지지 수단(113, 117)을 제1지지부(120) 및 중앙 지지부(101)의 U자형 홈(120a, 101a)에 수용시킨 상태에서, 커버(124, 104)를 볼트 등의 체결 수단에 의해 볼트공(124x, 101x)에 고정시키는 것에 의해 제1회전축(110)이 양단 지지된 상태로 제 위치에 회전 가능하게 설치된다. That is, in a state in which the covers 124 and 104 are coupled to the upper sides of the U-shaped grooves 120a and 101a of the first support part 120 and the central support part 101 , the bottom surfaces of the covers 124 and 104 are rotation support means. It is in contact with the upper surface of (113, 117). In this way, in a state in which the rotation support means 113 and 117 are fixed to the solid shaft 112 at both ends of the first rotation shaft 110 , the rotation support means 113 and 117 are connected to the first support part 120 and the center. In the state accommodated in the U-shaped grooves 120a and 101a of the support 101, the first rotation shaft 110 by fixing the covers 124 and 104 to the bolt holes 124x and 101x by fastening means such as bolts. ) is rotatably installed in place with both ends supported.

따라서, 장시간 동안 장치(100)의 사용 이후에 제1회전축(110) 자체를 교체하거나 제1회전축(110) 상의 제1구동 롤러(115)를 교체하고자 할 경우에는, 중공축(111)과 중실축(112)이 용접 등의 영구적인 수단에 의해 결합되어 있더라도, U자형 홈(120a, 101a)의 상측 개구에 체결 결합되는 커버(124, 104)를 분리하는 것에 의하여 제1회전축(110)의 교체 등의 유지 보수 작업을 행할 수 있다. Therefore, in the case of replacing the first rotation shaft 110 itself or replacing the first driving roller 115 on the first rotation shaft 110 after using the device 100 for a long time, the hollow shaft 111 and the solid Even if the shaft 112 is coupled by permanent means such as welding, by separating the covers 124 and 104 fastened to the upper openings of the U-shaped grooves 120a and 101a, the Maintenance work such as replacement can be performed.

한편, 본 발명의 다른 실시예에 따르면 다수의 제1회전축(110)은 서로 다른 구동부에 의하여 각각 회전 구동될 수 있지만, 도면에 도시된 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 다수의 제1회전축(110)은 하나의 제1구동모터(Mc1)에 의하여 회전 구동된다. On the other hand, according to another embodiment of the present invention, the plurality of first rotating shaft 110 may be respectively rotationally driven by different driving units, but according to the preferred embodiment of the present invention shown in the drawings, the plurality of first rotating shafts ( 110) is rotationally driven by one first driving motor Mc1.

도6에 도시된 바와 같이, 각각의 제1회전축(110)의 바깥 끝단에는 제1기어(118)가 결합되고, 다수의 제1기어(118)와 동시에 맞물리는 나사산이 형성된 피니언(148)이 장착된 제1구동축(140)이 다수의 회전축(110)의 배열 방향으로 회전 가능하게 설치된다. 그리고, 제1구동축(140)은 하나의 제1구동모터(Mc1)에 의하여 회전 구동된다. 이에 따라, 제1구동모터(Mc1)가 구동 기어(8p)를 제1방향으로 회전(Mr) 구동하면, 구동 기어(8p)와 맞물린 제1구동축(140)이 회전(4r) 구동되면서, 제1구동축(140)의 피니언(148)과 각각 맞물린 제1기어(118)가 회전(1r)하면서, 하나의 제1구동모터(Mc1)에 의하여 다수의 제1회전축(110)이 동시에 회전 구동된다. As shown in Figure 6, the first gear 118 is coupled to the outer end of each of the first rotation shafts 110, the plurality of first gears 118 and the screw threaded pinion 148 engaged at the same time is formed. The mounted first driving shaft 140 is rotatably installed in the arrangement direction of the plurality of rotation shafts 110 . And, the first drive shaft 140 is rotationally driven by one first drive motor Mc1. Accordingly, when the first driving motor Mc1 rotates (Mr) the driving gear 8p in the first direction, the first driving shaft 140 meshed with the driving gear 8p is rotated (4r) driven, While the first gear 118 meshed with the pinion 148 of the first drive shaft 140 rotates 1r, the plurality of first rotary shafts 110 are simultaneously rotationally driven by one first drive motor Mc1. .

이를 통해, 제1구동모터(Mc1)의 개수를 줄여 전체적인 부품의 수를 줄이고 구성을 간단하게 할 수 있는 장점이 있을 뿐만 아니라, 별도의 모터 동기화 제어 없이도 다수의 제1회전축(110)을 모두 동일한 속도로 회전 구동하여 기판(G)을 틀어짐없이 안정되게 이송할 수 있는 효과를 얻을 수 있다. Through this, there is an advantage of reducing the number of the first driving motor Mc1 to reduce the overall number of parts and simplify the configuration, as well as making all of the plurality of first rotating shafts 110 the same without a separate motor synchronization control. It is possible to obtain the effect of stably transporting the substrate (G) without being distorted by rotating at a speed.

상기 제1구동롤러(115)는 도4에 도시된 바와 같이 하나의 제1회전축(110)에 다수가 이격 배치되게 설치된다. 제1구동롤러(115)는 외주면 둘레에 고무, 우레탄 등 탄성을 갖고 변형 가능한 마찰 링이 점탄성 재질로 형성된다. 이에 따라, 제1구동롤러(115)가 제1회전축(110)과 회전하면서, 제1구동롤러(115)의 상측에 거치된 기판(G)을 마찰력에 의해 이송한다. A plurality of the first driving rollers 115 are installed to be spaced apart from each other on one first rotating shaft 110 as shown in FIG. 4 . The first driving roller 115 has an elastic and deformable friction ring, such as rubber, urethane, and the like, formed of a viscoelastic material around its outer circumferential surface. Accordingly, while the first driving roller 115 rotates with the first rotation shaft 110 , the substrate G mounted on the upper side of the first driving roller 115 is transferred by frictional force.

그리고, 도7에 도시된 바와 같이, 제1구동롤러(115)와 제1회전축(110)의 사이에는 2열의 고정 링(115b)이 고무, 우레탄 등의 점탄성 재질로 형성된다. 즉, 제1회전축(110)의 둘레에 2열의 고정 링(115b)이 감긴 상태로 배치되고, 고정링(115b)의 단면보다 작은 단면의 링형 수용홈으로 고정링(115b)을 수용하는 것에 의해 제1구동롤러(115)의 위치를 고정함으로써, 제1구동롤러(115)를 제1회전축(110) 상에 위치 고정시키는 것이 매우 간편해진다. And, as shown in FIG. 7 , between the first driving roller 115 and the first rotating shaft 110 , two rows of fixing rings 115b are formed of a viscoelastic material such as rubber or urethane. That is, by accommodating the fixing ring 115b in a ring-shaped receiving groove having a cross section smaller than the cross section of the fixing ring 115b, arranged in a state in which two rows of fixing rings 115b are wound around the first rotating shaft 110. By fixing the position of the first driving roller 115 , it becomes very easy to fix the position of the first driving roller 115 on the first rotating shaft 110 .

따라서, 제1구동롤러(115)의 수명이 다하거나 공정 도중에 파손된 제1구동롤러(115)를 제1회전축(110)으로부터 분리하고 새로운 제1구동롤러(115)를 장착하는 공정이 매우 간편해지고 소요 시간도 단축되는 잇점을 얻을 수 있다. Therefore, the process of separating the first driving roller 115 that is expired or damaged during the process from the first rotating shaft 110 and installing a new first driving roller 115 is very simple. You can get the advantage of shortening the time required.

한편, 본 발명의 다른 실시예에 따르면, 하나의 회전축이 기판(G)의 전체 폭의 하측에 위치하여 지지하되, 회전축의 중앙부에 중앙 지지부(101)에 의하여 하방으로의 처짐 변위가 구속되도록 구성될 수도 있다. 이를 통해, 회전축 및 구동 롤러 등의 유지 보수에서 얻어지는 잇점은 얻을 수 없지만, 기판(G)의 중앙부에서의 처짐 변위를 낮추는 효과를 얻을 수 있다.On the other hand, according to another embodiment of the present invention, one rotation shaft is supported by being positioned below the entire width of the substrate (G), and the downward sagging displacement is constrained by the central support part 101 in the central part of the rotation shaft. it might be Through this, the advantage obtained from maintenance of the rotating shaft and the driving roller, etc. cannot be obtained, but the effect of lowering the sagging displacement in the central portion of the substrate G can be obtained.

상기 제2이송부(209)는, 기판(G)의 타측 폭의 하측에서 기판(G)의 진행 방향을 따라 다수 배열된 제2회전축(210)과, 제2회전축(210)마다 간격을 두고 배치된 다수의 제2구동롤러(215)와, 다수의 제2회전축(210)을 회전 구동하는 제2구동부(Mc2,...)로 이루어진다. The second transfer unit 209 is arranged with a plurality of second rotation shafts 210 arranged along the traveling direction of the substrate G below the width of the other side of the substrate G, and spaced apart from each other for each second rotation shaft 210 . It consists of a plurality of second driving rollers 215 and a second driving unit Mc2, ... for rotationally driving the plurality of second rotation shafts 210 .

상기 제2이송부(209)는 대체로 제1이송부(109)와 대칭인 구조로 구성된다. 따라서, 이하에서는 전술한 제1이송부(109)의 구성 및 작용과 동일 또는 유사한 구성 및 작용에 대해서는 상세한 설명을 생략하기로 한다. The second transfer unit 209 has a structure substantially symmetrical to that of the first transfer unit 109 . Therefore, hereinafter, the detailed description of the same or similar configuration and action to the configuration and action of the first transfer unit 109 will be omitted.

예를 들어, 제2회전축(210)은 기판(G)을 지지하는 영역(양단부를 제외한 영역)은 중공축(211)으로 형성되고, 회전 지지 수단(..., 217)이 끼워지는 양단부는 중실축(212)으로 형성된다. 이에 따라, 제2회전축(210)의 전체 자중은 전체가 중실축으로 형성되는 것에 비하여 크게 감소하여, 제2회전축(210)의 자중에 의한 처짐량을 최소화할 수 있다. 동시에, 제2회전축(210)의 양단부는 중실축(212)으로 형성되어, 베어링 등의 회전 지지 수단(..., 217)이 제2회전축(210)에 끼워져 설치되는 위치에서의 변형이 억제되면서 회전 지지 수단(..., 217)의 견고한 설치도 가능해진다. For example, in the second rotation shaft 210 , the region (region excluding both ends) supporting the substrate G is formed as a hollow shaft 211 , and both ends into which the rotation support means ..., 217 are fitted are It is formed of a solid shaft 212 . Accordingly, the total weight of the second rotation shaft 210 is greatly reduced compared to that of the entire solid shaft, so that the amount of deflection due to the weight of the second rotation shaft 210 can be minimized. At the same time, both ends of the second rotation shaft 210 are formed as a solid shaft 212 , so that the rotation support means (..., 217) such as a bearing is fitted to the second rotation shaft 210 to suppress deformation at the installation position. It is also possible to securely install the rotation support means (..., 217).

이와 같이, 본 발명은, 제1회전축(110)과 제2회전축(120)이 각각 양단부가 제1지지부(120), 제2지지부(220) 및 중앙 지지부(101)에 의하여 단순 지지되게 설치된 상태로 기판(G)을 지지하고 이송하므로, 제1회전축(110) 및 제2회전축(120)의 중앙부에서의 처짐 변위가 종래에 비하여 크게 줄어드는 잇점을 얻을 수 있다. As described above, in the present invention, both ends of the first rotation shaft 110 and the second rotation shaft 120 are installed to be simply supported by the first support part 120 , the second support part 220 and the central support part 101 , respectively. Since the furnace substrate G is supported and transported, it is possible to obtain the advantage that the sagging displacement in the central portion of the first rotation shaft 110 and the second rotation shaft 120 is greatly reduced compared to the prior art.

특히, 제1회전축(110)과 제2회전축(120)의 길이를 서로 동일하거나 유사하게 형성하는 경우에는, 기판(G)의 처짐량이 종래의 1/4정도로 크게 감소하게 되므로, 기판(G)의 두께가 0.8mm 이하이고 폭이 3000mm 이상인 대면적 기판에 대해서도, 기판(G)의 최대 처짐 변위를 크게 줄일 수 있고, 동시에 기판(G)의 양끝단 가장자리에서의 들림 높이도 크게 줄일 수 있게 되므로, 기판의 가장자리나 중앙부에서의 균열이나 국부적인 깨짐 등의 문제를 크게 감소시키는 유리한 효과를 얻을 수 있다. In particular, when the lengths of the first rotation shaft 110 and the second rotation shaft 120 are formed to be the same or similar to each other, the amount of deflection of the substrate G is greatly reduced to about 1/4 of the conventional one, so that the substrate (G) Even for a large-area substrate having a thickness of 0.8 mm or less and a width of 3000 mm or more, the maximum deflection displacement of the substrate G can be greatly reduced, and at the same time, the lifting height at both ends of the substrate G can be greatly reduced. , it is possible to obtain an advantageous effect of greatly reducing problems such as cracks or local cracks at the edge or center of the substrate.

이 때, 제1회전축(110)과 제2회전축(120)은 도4 및 도5에 도시된 바와 같이 서로 정렬되어 직선 형태로 배치될 수 있다. 다만, 본 발명의 다른 실시 형태에 따르면, 제1회전축(110)과 제2회전축(120)은 엇갈리게 배열될 수도 있다. At this time, the first rotation shaft 110 and the second rotation shaft 120 may be aligned with each other as shown in FIGS. 4 and 5 and arranged in a straight line. However, according to another embodiment of the present invention, the first rotation shaft 110 and the second rotation shaft 120 may be alternately arranged.

그리고, 도5에 도시된 바와 같이, 제1회전축(110)과 제2회전축(120)은 서로 분리된 별개로 형성된다. 따라서, 중앙 지지부(101)는 제1회전축(110)의 안쪽 끝단의 회전 지지 수단(117)과 제2회전축(210)의 안쪽 끝단의 회전 지지 수단(217)을 함께 분리된 상태로 회전 지지하므로, 제1지지부(120)와 제2지지부(220)의 폭(x1, x2)에 비하여 2배 정도 두꺼운 폭(xc)으로 형성된다. And, as shown in FIG. 5 , the first rotation shaft 110 and the second rotation shaft 120 are formed separately from each other. Therefore, the central support unit 101 rotates and supports the rotation support means 117 of the inner end of the first rotation shaft 110 and the rotation support means 217 of the inner end of the second rotation shaft 210 in a separated state. , is formed to have a width xc that is twice as thick as the widths x1 and x2 of the first support part 120 and the second support part 220 .

이 경우에는, 기판의 습식 세정 장치(100)의 사용 중에 회전축(110, 210)이나 구동 롤러(115, 215), 마찰링(115a, 215a), 고정링(115b,...) 등의 소모품을 교체할 때에 대략 1/2의 길이인 회전축(110, 210)만을 분리하여 교체할 수 있으므로, 장치(100)의 유지 보수에 소요되는 시간이 단축되고 공정이 단순해지는 효과를 얻을 수 있다.In this case, consumables such as the rotating shafts 110 and 210, the driving rollers 115 and 215, the friction rings 115a, 215a, and the fixing rings 115b,... Since only the rotation shafts 110 and 210 having a length of about 1/2 can be separated and replaced when replacing the , the time required for the maintenance of the device 100 can be shortened and the process can be simplified.

마찬가지로, 다수의 제2회전축(210)은 하나의 제2구동모터(Mc2)에 의하여 제2구동축(240)을 이용하여 동시에 회전 구동될 수 있다. 이에 따라, 기판(G)의 타측 폭을 지지하는 제2회전축(210)은 제2구동모터(Mc2)에 의하여 모두 동일한 회전 속도로 회전 구동되므로, 회전축의 회전 속도를 동기화하는 제어가 없더라도, 기판의 이송 중에 틀어짐없이 보다 자연스럽고 정교한 기판의 이송을 할 수 있는 효과를 얻을 수 있다. Similarly, the plurality of second rotation shafts 210 may be simultaneously rotationally driven using the second driving shaft 240 by one second driving motor Mc2. Accordingly, since the second rotation shaft 210 supporting the width of the other side of the substrate G is rotationally driven at the same rotation speed by the second driving motor Mc2, even if there is no control to synchronize the rotation speed of the rotation shaft, the substrate It is possible to obtain the effect of more natural and precise substrate transfer without distortion during transfer.

이 때, 기판(G)의 일측 폭을 지지한 상태로 이송하는 제1이송부(109)와 기판(G)의 타측 폭을 지지한 상태로 이송하는 제2이송부(209)의 회전축(110, 210)의 회전 속도를 일정하게 유지해야 한다. 따라서, 제1구동모터(Mc1)와 제2구동모터(Mc2)의 회전 속도는 서로 동기화된다. 예를 들어, 동일한 제어부로부터 동일한 제어 신호에 의하여 2개의 구동 모터(Mc1, Mc2)를 구동하는 것에 의하여, 제1회전축(110)과 제2회전축(210)의 회전 속도를 동일하게 유지할 수 있다.At this time, the rotation shafts 110 and 210 of the first transfer unit 109 for transferring the substrate G while supporting the width of one side and the second transfer unit 209 for transferring the substrate G while supporting the width of the other side. ) should be kept constant. Accordingly, the rotation speeds of the first driving motor Mc1 and the second driving motor Mc2 are synchronized with each other. For example, by driving the two driving motors Mc1 and Mc2 by the same control signal from the same control unit, the rotation speed of the first rotation shaft 110 and the second rotation shaft 210 may be maintained at the same speed.

상기 세정액 공급부(130)는 기판(G)에 잔류하는 이물질을 제거하기 위하여 세정액과 순수 중 어느 하나 이상이 고압으로 기판(G) 표면을 향하여 분사한다. 세정액 공급부(130)에서 분사되는 세정액(130a)의 종류와 분사 압력은 이전에 행해진 처리 공정에서 이물질이 기판(G)에 잔류하는 특성을 고려하여 정해진다. The cleaning liquid supply unit 130 sprays one or more of the cleaning liquid and pure water toward the surface of the substrate G at a high pressure in order to remove foreign substances remaining on the substrate G. The type and injection pressure of the cleaning liquid 130a sprayed from the cleaning liquid supply unit 130 are determined in consideration of the characteristics in which foreign substances remain on the substrate G in a previously performed treatment process.

도면에는 세정액 공급부(130)가 기판(G)의 상측에 배치된 구성을 예로 들었지만, 본 발명의 다른 실시예에 따르면, 기판(G)의 상측과 하측에 각각 배치되어 동시에 기판(G)의 양면을 세정할 수도 있다. In the drawing, the configuration in which the cleaning solution supply unit 130 is disposed on the upper side of the substrate G is taken as an example, but according to another embodiment of the present invention, it is disposed on the upper side and the lower side of the substrate G, respectively, and at the same time both surfaces of the substrate G can also be cleaned.

상기 차단막(190)은 회전축(110, 210)의 바깥 끝단부를 지지하는 제1지지부(120)와 제2지지부(220)로부터 상측으로 연장되어, 세정액 공급부(130)로부터 분사된 세정액(130a)이 기판(W)을 타격한 이후에 바깥 방향으로 튀지 않고 회전축(110, 210)의 하측으로만 세정액이 흘러내리도록 유도한다. The blocking film 190 extends upward from the first support part 120 and the second support part 220 supporting the outer ends of the rotation shafts 110 and 210, and the cleaning liquid 130a sprayed from the cleaning liquid supply part 130 is After hitting the substrate W, the cleaning solution is induced to flow down only to the lower side of the rotation shafts 110 and 210 without splashing outward.

이를 통해, 기판의 습식 세정 장치(100)의 주변에 오염된 세정액에 의하여 지저분해지는 것을 방지할 수 있고, 동시에 구동 모터(Mc1, Mc2)로 세정액이 튀어 누전 등에 의해 고장나는 것을 방지할 수 있는 잇점을 얻을 수 있다.Through this, it is possible to prevent the substrate from getting dirty by the cleaning liquid contaminated around the wet cleaning apparatus 100, and at the same time, it is possible to prevent the cleaning liquid from being splashed by the driving motors Mc1 and Mc2 and malfunctioning due to a short circuit. can get

도면에는 차단막(190)이 상방으로 연장된 구성만 나타나 있지만, 본 발명의 다른 실시 형태에 따르면 차단막(190)은 하방으로 연장된 것을 포함할 수도 있다. 이에 의하여, 흘러내리는 세정액이 구동 모터(Mc1, Mc2)로 흘러들어가는 것을 차단할 수 있다. Although only the configuration in which the blocking film 190 extends upward is shown in the drawings, according to another embodiment of the present invention, the blocking film 190 may include a configuration in which the blocking film 190 extends downward. Thereby, it is possible to block the flowing washing liquid from flowing into the driving motors Mc1 and Mc2.

상기와 같이 구성된 본 발명의 일 실시예에 따른 기판의 습식 세정 장치(100)는, 기판(G)의 일측폭과 타측폭을 각각 양단 지지 형태로 배열된 제1회전축(110)과 제2회전축(210)에 의해 지지된 상태로 이송됨으로써, 제1회전축(110)과 제2회전축(210)의 자중에 의한 처짐량이 종래에 비하여 훨씬 줄어들어 대면적 기판에 대해서도 중앙부에서의 처짐량을 0로 유지함으로써, 3000mm 이상의 폭을 갖는 기판의 처짐에 의한 기판 중앙부나 기판 가장자리의 균열 또는 손상을 방지할 수 있는 유리한 효과를 얻을 수 있다. In the apparatus 100 for wet cleaning a substrate according to an embodiment of the present invention configured as described above, the first rotation shaft 110 and the second rotation shaft are arranged to support one side width and the other side width of the substrate G at both ends, respectively. By being transported in a state supported by 210, the amount of deflection due to the weight of the first rotation shaft 110 and the second rotation shaft 210 is much reduced compared to the conventional one, so that the amount of deflection in the center of the large-area substrate is maintained at 0. , it is possible to obtain an advantageous effect of preventing cracks or damage in the center of the substrate or the edge of the substrate due to sagging of the substrate having a width of 3000 mm or more.

이 뿐만 아니라, 본 발명은 기판(G)의 일측폭 영역과 타측폭 영역을 각각 지지하는 제1회전축(110)과 제2회전축(210)이 중앙 지지대(101)에서 분리된 형태로 구성됨으로써, 기판 중앙부의 처짐량을 0로 유지하면서도, 회전축(110, 210)이나 구동 롤러(115, 215)의 유지 관리 비용을 줄이고 공정을 단순화할 수 있는 효과를 얻을 수 있다. In addition to this, the present invention is configured in a form in which the first rotation shaft 110 and the second rotation shaft 210 respectively supporting the one side width region and the other side width region of the substrate G are separated from the central support 101, It is possible to obtain the effect of reducing the maintenance cost of the rotation shafts 110 and 210 or the driving rollers 115 and 215 and simplifying the process while maintaining the sagging amount of the central portion of the substrate at zero.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시적으로 설명하였으나, 본 발명의 권리범위는 상기와 같은 특정 실시예에 한정되지 아니하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 본 발명의 특허청구범위에 기재된 범주 내에서 적절하게 변경 가능한 것이다. In the above, preferred embodiments of the present invention have been exemplarily described, but the scope of the present invention is not limited to the specific embodiments as described above, and those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains. It can be suitably changed within the scope described in the claims.

100: 기판의 습식 세정 장치 110: 제1회전축
111: 중공축 112: 중실축
113, 117: 회전 지지 수단 118: 제1기어
120: 제1지지부 101: 중앙 지지부
130: 세정액 공급부 190: 차단막100: apparatus for wet cleaning of the substrate 110: first rotation shaft
111: hollow shaft 112: solid shaft
113, 117: rotation support means 118: first gear
120: first support 101: central support
130: cleaning solution supply unit 190: blocking film

Claims

A plurality of first driving rollers arranged in an axial direction are provided, rotationally driven together, and a plurality of first rotation shafts supported at both ends, so that the first driving roller contacts and supports a lower region of a partial width of the substrate while contacting and supporting the substrate a first transfer unit for transferring in a first transfer direction;
A plurality of second driving rollers disposed in the axial direction are provided and rotationally driven together and provided with a plurality of second rotation shafts supported at both ends, so that the second driving roller contacts and supports a lower region of a different partial width of the substrate. a second transfer unit for transferring the substrate in the first transfer direction;
a first driving unit for rotationally driving the first rotating shaft;
a cleaning liquid supply unit for supplying a cleaning liquid from the upper surface of the substrate;
The first rotating shaft is formed as a first hollow shaft in a region where the first driving roller is disposed, and a region receiving rotational driving force from the first driving unit is formed as a first solid shaft, A wet cleaning apparatus for substrates, characterized in that the single hollow shaft and the first solid shaft are coupled in an axial direction.

The method of claim 1,
The wet cleaning apparatus of the substrate, characterized in that the first driving unit rotationally drives the plurality of first rotation shafts with one first driving motor.

3. The method of claim 2,
A first gear is mounted on the plurality of first rotating shafts,
A wet cleaning apparatus for a substrate, characterized in that the plurality of first rotation shafts, each of which has a screw thread engaged with the first gear, is rotationally driven by the first drive motor.

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The method of claim 1,
The wet cleaning apparatus of the substrate, characterized in that the first hollow shaft and the first solid shaft are formed with recesses and protrusions to be fitted with each other.

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The method of claim 1,
A wet cleaning apparatus for substrates, characterized in that at least one of the first driving roller and the second driving roller is surrounded by a friction ring made of a viscoelastic material on an outer circumferential surface.

The method of claim 1,
A wet cleaning apparatus for substrates, characterized in that a fixing ring made of a viscoelastic material is wrapped between the first driving roller and the first rotation shaft.

A plurality of first driving rollers arranged in an axial direction are provided, rotationally driven together, and a plurality of first rotation shafts supported at both ends, so that the first driving roller contacts and supports a lower region of a partial width of the substrate while contacting and supporting the substrate a first transfer unit for transferring in a first transfer direction;
A plurality of second driving rollers disposed in the axial direction are provided and rotationally driven together and provided with a plurality of second rotation shafts supported at both ends, so that the second driving roller contacts and supports a lower region of a different partial width of the substrate. a second transfer unit for transferring the substrate in the first transfer direction;
a cleaning liquid supply unit for supplying a cleaning liquid from the upper surface of the substrate;
The wet cleaning apparatus of a substrate, characterized in that the plurality of first rotation shafts and the plurality of second rotation shafts are rotationally supported with inner ends together by a central supporter.

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13. The method of claim 1 or 12,
The wet cleaning apparatus of the substrate according to claim 1, further comprising a blocking film that blocks the cleaning liquid supplied from the cleaning liquid supply unit from splashing outward.

18. The method of claim 17,
A wet cleaning apparatus for substrates, characterized in that a film of a hygroscopic material is coated on an inner surface of the blocking film.

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