KR100892285B1 - Apparatus for cleaning glass substrate - Google Patents

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Abstract

A substrate cleaning apparatus is provided to prevent the falling of the disk brush by serving the structure of performing the disk brush change operation. A base(1) is used in order to form a frame. A plurality of supporting stands(3,5) are provided to the base. A plurality of disk brushes(7,9) are combined with the supporting stand. The power transmission method delivers the torque of the driving source(M1,M2) to the disk brush. The rotating member is arranged at the base. The substrate is placed on the top of rotating members. A transfer unit(13) transfers the substrate by the driving source.

Description

기판 세정 장치{Apparatus for cleaning glass substrate} Substrate cleaning device {Apparatus for cleaning glass substrate}

본 발명은 기판 세정 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 기판을 세정하는 세정 장치에 설치된 디스크 브러시를 용이하게 교환할 수 있는 기판 세정 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate cleaning apparatus, and more particularly, to a substrate cleaning apparatus capable of easily replacing a disk brush provided in a cleaning apparatus for cleaning a substrate.

일반적으로 평판 디스플레이(FPD; Flat Panel Display), 반도체 웨이퍼, LCD, 포토 마스크용 글라스 등에 사용되는 기판은 일련의 공정 라인을 거치면서 처리된다. 즉, 기판의 처리는 감광제 도포(Photo resist coating: P/R), 노광(Expose), 현상(Develop), 에칭(Etching), 박리(Stripping), 세정(Cleaning), 건조(Dry) 등의 과정을 거치게 된다. 이러한 공정들 중 세정 공정에서는 세정액 또는 약액 등을 이용하거나 또는 브러시를 이용하여 기판을 세정하는 과정을 거치게 된다. 세정 공정에 사용되는 세정 장치에는 기판을 기준으로 상, 하 방향으로 마주하는 다수의 디스크 브러시가 결합된다. 디스크 브러시들은 기판에 접촉된 상태로 회전되어 기판 세정이 이루어지기 때문에 마모 등으로 인하여 정기적으로 교체를 하여야 한다. 특히, 기판의 상부 측에 아래쪽을 향하여 배치되는 디스크 브러시들은 교체 작업을 할 때 자중에 의하여 낙하될 수 있어 안전 사고를 발생시킬 수 있는 문제점이 있다.Generally, substrates used in flat panel displays (FPDs), semiconductor wafers, LCDs, glass for photomasks, and the like are processed through a series of process lines. In other words, the substrate is processed by photo resist coating (P / R), exposure, developing, etching, peeling, cleaning, drying, and the like. Will go through. Among these processes, the cleaning process uses a cleaning liquid, a chemical liquid, or the like to clean the substrate using a brush. In the cleaning apparatus used in the cleaning process, a plurality of disk brushes facing up and down relative to the substrate are combined. Since the disc brushes are rotated while being in contact with the substrate to clean the substrate, they should be replaced periodically due to wear. In particular, the disk brushes disposed downward on the upper side of the substrate may be dropped by their own weight when the replacement operation is performed, which may cause a safety accident.

따라서, 본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로서, 본 발명의 목적은 디스크 브러시의 교체 작업을 용이하게 하여 안전 사고를 방지할 수 있는 기판 세정 장치를 제공하는데 있다.Accordingly, the present invention has been proposed to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a substrate cleaning apparatus which can prevent the safety accident by facilitating the replacement operation of the disk brush.

상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은, 베이스, 상기 베이스에 설치되어 기판을 이송시키는 기판이송수단, 양측에 회전축이 제공되며 상기 베이스에 힌지 결합되는 지지대, 상기 지지대에 설치되며 구동원에 의하여 회전하는 다수의 디스크 브러시, 그리고 상기 지지대의 회전 이동을 제한하는 회전제한부재를 포함하는 기판 세정 장치를 제공한다.In order to achieve the object as described above, the present invention, the base, the substrate transfer means is installed on the base to transfer the substrate, the rotating shaft is provided on both sides and the hinge is coupled to the base, is installed on the support and the drive source It provides a substrate cleaning apparatus including a plurality of disk brushes that rotate by, and a rotation limiting member for limiting the rotational movement of the support.

상기 회전축에는 회전제한부재에 제공된 제1 걸림홈에 걸리는 걸림부가 제공되는 것이 바람직하다.It is preferable that the rotating shaft is provided with a locking portion that is caught by the first locking groove provided in the rotation limiting member.

상기 회전제한부재는 상기 회전축에 제공된 상기 걸림부에 밀착되는 제1 걸림홈이 제공되고 베이스의 브라켓들에 고정되는 제2 걸림홈이 제공되는 것이 바람직하다.The rotation limiting member is preferably provided with a first locking groove which is in close contact with the locking portion provided on the rotating shaft and a second locking groove which is fixed to the brackets of the base.

이와 같은 본 발명은 디스크 브러시들이 위쪽을 향하는 상태로 지지대를 돌려놓고 디스크 브러시의 교체 작업을 수행할 수 있는 구조를 제공하므로 디스크 브러시가 자중에 의하여 낙하는 것이 방지되어 안전사고를 예방하는 효과가 있다. 또 한, 본 발명은 디스크 교체 작업이 용이하여 작업성이 향상시킬 수 있다. The present invention provides a structure that allows the disk brushes to rotate the support in a state in which the disk brushes face upwards and to replace the disk brushes, thereby preventing the disk brushes from falling by their own weight, thereby preventing a safety accident. . In addition, the present invention can easily improve the disk replacement operation workability.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 실시 예를 설명하기 위하여 기판 세정 장치의 주요 부분을 도시한 도면으로, 틀을 이루는 베이스(1), 베이스(1)에 제공되는 복수의 지지대(3, 5), 지지대(3, 5)들에 결합되는 복수의 디스크 브러시(7, 9), 그리고 이 디스크 브러시(7, 9)들에 구동원(M1, M2)의 회전력을 전달하는 동력전달수단(11)을 도시하고 있다.1 is a view showing the main part of the substrate cleaning apparatus for explaining an embodiment of the present invention, a base 1, a plurality of supports (3, 5) provided in the base 1, the support ( A plurality of disk brushes 7, 9 coupled to 3, 5, and power transmission means 11 for transmitting rotational forces of the drive sources M1, M2 to the disk brushes 7, 9 are shown. .

베이스(1)에는 롤러 등의 회전부재들이 배치되고 이러한 회전부재들의 위에 기판(G)이 놓여져 기판(G)을 이송시킬 수 있는 이송수단(13)이 제공된다. 이러한 이송수단(13)은 구동원에 의하여 기판(G)을 이송시키는 장치가 사용될 수 있으므로 상세한 설명은 생략한다.In the base 1, a rotating member such as a roller is disposed, and a substrate G is disposed on the rotating members, and a conveying means 13 capable of transferring the substrate G is provided. The transfer means 13 may be used an apparatus for transferring the substrate (G) by a drive source, so a detailed description thereof will be omitted.

복수의 지지대(3, 5)들은 이동되는 기판(G)을 기준으로 위쪽 및 아래쪽에 배치되어 기판(G)과 일정한 거리가 띄워져 있다. 이러한 지지대(3, 5)에는 디스크 브러시(7, 9)들이 기판을 사이에 두고 양측으로 배치되어 있다. 따라서 이송되는 기판은 디스크 브러시(7, 9)에 의하여 양면이 동시에 세정(브러싱)된다. 지지대(3, 5)들은 이동되는 기판(G)의 폭 보다 더 길게 이루어져 베이스(1)에 고정되는 것이 바람직하다. The plurality of supports 3 and 5 are disposed above and below the substrate G to be moved so that a predetermined distance from the substrate G is lifted. Disc brushes 7 and 9 are disposed on both sides of the support 3 and 5 with the substrate therebetween. Thus, the substrate to be transported is simultaneously cleaned (brushed) by the disc brushes 7 and 9. The supports 3 and 5 are preferably made longer than the width of the substrate G to be moved and fixed to the base 1.

특히 기판(G)의 상부에 배치되는 지지대(5)는 베이스(1)에 제공되는 블 록(BL)에서 회전될 수 있도록 힌지 결합된다. 즉, 지지대(5)에는 양측에 회전축(15, 도 2, 도 4, 도 6에서 보이는 부분에 부호를 부여함)이 제공된다. 베이스(1)에는 블록(BL)이 서로 일정한 거리가 띄워져 서로 마주하여 배치된다. 그리고 이 블록(BL)에는 회전축(15)의 끝을 포함하는 일정 부분이 고정될 수 있는 구멍(B1, 도 2, 도 4에 도시함)이 제공된다. 따라서 회전축(15)들은 지지대(5)가 회전할 수 있도록 베이스(1)의 블록(BL)에 제공된 구멍(B1)에 삽입되어 결합된 상태를 유지한다. 그리고 회전축(15)은 일부가 사각막대 모양으로 이루어지는 걸림부(15a, 도 4에 도시하고 있음)를 구비한다. 이러한 걸림부(15a)는 회전축(15)의 회전 이동을 제한하기 위한 것으로 도시한 사각막대 모양으로 한정되는 것은 아니며 다양한 형상으로 이루어질 수 있다. In particular, the support (5) disposed on the upper portion of the substrate (G) is hinged to be rotated in the block (BL) provided on the base (1). That is, the support 5 is provided with rotation shafts 15, 2, 4, and 6 with reference to the parts shown in FIG. 6. Blocks BL are spaced apart from each other on the base 1 so as to face each other. The block BL is provided with a hole B1 (shown in FIGS. 2 and 4) in which a portion including the end of the rotation shaft 15 can be fixed. Therefore, the rotation shafts 15 are inserted into the holes B1 provided in the block BL of the base 1 so that the support 5 can rotate, and remain coupled. And the rotating shaft 15 is provided with the locking part 15a (shown in FIG. 4) part of which consists of square bar shape. The locking portion 15a is for limiting the rotational movement of the rotation shaft 15 and is not limited to the shape of a rectangular bar, but may be formed in various shapes.

그리고 베이스(1)에는 지지대(5)가 회전되는 것을 제한하는 회전제한부재(17)가 나사 등의 체결부재에 의하여 결합된다(도 7에 도시하고 있음). 회전제한부재(17)는 가운데 부분의 하단에 제1 걸림홈(17a)이 제공된다. 제1 걸림홈(17a)은 회전축(15)에 제공된 걸림부(15a)에 끼워질 수 있는 모양으로 이루어지는 것이 바람직하다. 그리고 회전제한부재(17)는 제1 걸림홈(17a)에 대한 직각 방향으로 제2 걸림홈(17b, 도 4에 도시하고 있음)이 제공된다. 제2 걸림홈(17b)은 베이스(1)에 수직방향으로 돌출되어 배치되는 실링블록(SB, 습도가 높은 베스 내에 가스(fume)가 이동하는 것을 차단하는 부분)의 양 측면에 결합되는 브라켓(BR)들에 끼워질 수 있다. 또한, 회전제한부재(17)에는 나사 등의 체결부재로 베이스에 결합될 수 있도록 나사구멍(17c)들이 제공된다. 따라서 회전제한부재(17)는, 도 4에 도시한 바와 같이, 제1 걸림홈(17a)이 걸림부(15a)에 끼워진 상태로 제2 걸림홈(17b)에 의하여 결합되는 것이다. 그리고 보조적으로 나사 등의 체결부재로 회전제한부재(17)의 나사구멍(17c)들을 통하여 회전제한부재(17)를 브라켓(BR)에 체결할 수 있다.And the base 1 is coupled to the rotation limiting member 17 for limiting the rotation of the support (5) by a fastening member such as screws (shown in Figure 7). The rotation limiting member 17 is provided with a first locking groove 17a at the lower end of the center portion. Preferably, the first locking groove 17a has a shape that can be fitted to the locking portion 15a provided on the rotation shaft 15. The rotation limiting member 17 is provided with a second locking groove 17b (shown in FIG. 4) in a direction perpendicular to the first locking groove 17a. The second locking grooves 17b are brackets coupled to both sides of the sealing block SB which protrudes in the vertical direction to the base 1 and blocks the movement of the fume in the bath having high humidity. BR). In addition, the rotation limiting member 17 is provided with screw holes 17c to be coupled to the base with a fastening member such as a screw. Therefore, as shown in FIG. 4, the rotation limiting member 17 is coupled by the second locking groove 17b with the first locking groove 17a fitted to the locking portion 15a. In addition, the rotation limiting member 17 may be fastened to the bracket BR through the screw holes 17c of the rotation limiting member 17 with a fastening member such as a screw.

한편, 지지대(3, 5)들에는 서로 마주하여 디스크 브러시(7, 9)들이 설치된다. 디스크 브러시(7, 9)들은 기판(G)에 밀착되어 회전되면서 기판을 세정(브러싱)할 수 있는 것이다. 디스크 브러시(7, 9)들은 모터(M1, M2)등의 구동원의 구동력을 전달받아 회전되는 구조를 가진다. 디스크 브러시(7, 9)를 회전시키는 동력전달 구조는 기어 등의 구조로 이루어질 수 있다.On the other hand, the support (3, 5) is provided with disk brushes (7, 9) facing each other. The disk brushes 7 and 9 are capable of cleaning (brushing) the substrate while being in close contact with the substrate G and rotating. The disk brushes 7 and 9 have a structure in which the disk brushes 7 and 9 are rotated by receiving a driving force of a driving source such as the motors M1 and M2. The power transmission structure for rotating the disk brushes 7 and 9 may be made of a structure such as a gear.

이와 같이 이루어지는 본 발명의 실시 예의 디스크 브러시 교체 준비 과정을 도 1 내지 도 6을 통하여 더욱 상세하게 설명한다. The disk brush replacement preparation process of the embodiment of the present invention thus made will be described in more detail with reference to FIGS. 1 to 6.

도 1 및 도 2는 회전제한부재(17)가 걸림부(15a)에 밀착된 상태로 베이스(1)에 고정된 상태를 도시하고 있다. 이러한 상태에서 작업자가 디스크 브러시(9)를 교체하기 위하여 회전제한부재(17)를 탈거한다. 이때 회전제한부재(17)가 나사 등의 체결부재로 고정되어 있는 경우에 작업자는 나사를 풀고 회전제한부재(17)를 위쪽으로 당기는 것에 의하여 쉽게 탈거가 이루어진다. 그리고 작업자는 지지대(5)를 회전시킨다. 그러면 지지대(5)가 회전축(15)을 중심으로 회전되면서 디스크 브러시(9)가 아래방향을 향한 상태에서 위쪽 방향을 향하여 배치된다(도 5 및 도 6에 도시하고 있음). 이러한 상태에서 회전제한부재(17)를 처음 설치된 것과 같은 상태로 베이스(1)의 브라켓(BR) 및 걸림부(15a)에 끼워서 고정한다. 이때 회전제한부재(17)는 제1 걸림홈(17a) 및 제2 걸림홈(17b)에 의하여 회전축(15)의 걸림부(15a) 및 베이스(1)의 브라켓(BR)에 끼워지는 것에 의하여 견고하게 고정된다. 디스크 브러시(9)가 위쪽 방향을 향한 상태로 고정되어 있으므로 작업자는 쉽게 디스크 브러시(9)들의 교체 작업을 할 수 있는 것이다. 따라서 본 발명의 실시 예는 비교적 간단한 구성을 통하여 디스크 브러시(9)들은 분리되는 과정에서도 안전하게 그 자세를 유지하고 있어 작업자에게 낙하되는 것이 방지되어 안전사고를 방지할 수 있는 것이다.1 and 2 illustrate a state in which the rotation limiting member 17 is fixed to the base 1 in a state of being in close contact with the locking portion 15a. In this state, the worker removes the rotation limiting member 17 to replace the disk brush 9. At this time, when the rotation limiting member 17 is fixed by a fastening member such as a screw, the worker is easily detached by loosening the screw and pulling upward the rotation limiting member 17. And the operator rotates the support (5). Then, the support 5 is rotated about the rotation axis 15 and the disc brush 9 is disposed in the upward direction with the downward direction (as shown in FIGS. 5 and 6). In this state, the rotation limiting member 17 is inserted into and fixed to the bracket BR and the engaging portion 15a of the base 1 in the same state as the first installation. At this time, the rotation limiting member 17 is fitted to the locking portion 15a of the rotation shaft 15 and the bracket BR of the base 1 by the first locking groove 17a and the second locking groove 17b. It is firmly fixed. Since the disk brush 9 is fixed in the upward direction, the operator can easily replace the disk brushes 9. Therefore, the embodiment of the present invention is to maintain the posture safely even in the process of separating the disc brush (9) through a relatively simple configuration is to prevent falling to the operator to prevent a safety accident.

도 1은 본 발명의 실시 예를 설명하기 위하여 기판의 세정 장치를 도시한 사시도이다.1 is a perspective view illustrating an apparatus for cleaning a substrate in order to explain an embodiment of the present invention.

도 2는 도 1의 A부를 확대하여 도시한 도면이다.FIG. 2 is an enlarged view of portion A of FIG. 1.

도 3은 본 발명의 실시 예를 설명하기 위하여 기판의 세정 장치의 브러시가 일부 회전된 상태를 도시한 사시도이다.3 is a perspective view illustrating a state in which a brush of the cleaning apparatus of the substrate is partially rotated to explain an embodiment of the present invention.

도 4는 도 3의 B부를 확대하여 도시한 도면이다.4 is an enlarged view of a portion B of FIG. 3.

도 5는 본 발명의 실시 예를 설명하기 위하여 기판의 세정 장치의 브러시가 교체가 가능한 상태로 회전된 모양을 도시한 사시도이다.FIG. 5 is a perspective view illustrating a state in which a brush of a substrate cleaning apparatus is rotated in a state in which a brush of a substrate is replaced to explain an embodiment of the present invention.

도 6은 도 5의 C부를 확대하여 도시한 도면이다.FIG. 6 is an enlarged view of a portion C of FIG. 5.

도 7은 본 발명의 실시 예를 설명하기 위하여 주요부분 도시한 도면이다.7 is a diagram illustrating main parts to explain an embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

1 : 베이스 3, 5 : 지지대1: base 3, 5: support

7, 9 : 디스크 브러시 11 : 동력전달수단7, 9: disc brush 11: power transmission means

15 : 회전축 15a : 걸림부15: rotating shaft 15a: locking portion

17 : 회전제한부재 17a, 17b : 제1 걸림홈, 제2 걸림홈17: rotation limiting member 17a, 17b: the first locking groove, the second locking groove

17c : 나사 구멍17c: screw hole

Claims (5)

베이스,Base, 상기 베이스에 설치되어 기판을 이송시키는 기판이송수단,A substrate transfer means installed on the base to transfer the substrate; 양측에 회전축이 제공되며 상기 베이스에 힌지 결합되는 지지대,Support shafts are provided on both sides and hinged to the base, 상기 지지대에 설치되며 구동원에 의하여 회전하는 다수의 디스크 브러시를 포함하며,It is installed on the support and includes a plurality of disk brushes rotated by a drive source, 상기 베이스에는 On the base 상기 지지대의 회전을 제한하는 회전제한부재를 포함하는 기판 세정 장치.Substrate cleaning device including a rotation limiting member for limiting the rotation of the support. 삭제delete 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 회전축에는 The axis of rotation 회전이동이 제한되는 걸림부가 제공되는 기판 세정 장치.Substrate cleaning device provided with a locking portion is limited to the rotational movement. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 회전제한부재는The rotation limiting member 상기 회전축에 제공된 걸림부에 밀착되는 제1 걸림홈 및 A first locking groove in close contact with the locking portion provided on the rotating shaft; 상기 베이스의 브라켓에 고정되는 제2 걸림홈이 제공된 기판 세정 장치.And a second locking groove fixed to the bracket of the base. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 기판세정장치는The substrate cleaning device 상기 베이스에 설치되며 상기 지지대의 회전축이 끼워지는 블록,A block installed in the base and fitted with the rotation shaft of the support; 상기 회전축을 관통하여 상기 베이스에 설치되며 챔버 내의 가스 분위기를 외부와 차단하는 실링블록, 그리고 A sealing block installed in the base through the rotating shaft and blocking a gas atmosphere in the chamber from the outside; and 상기 실링블록의 사이드에 설치되어 회전제한부재가 끼워지는 브라켓들Brackets installed on the side of the sealing block is fitted with the rotation limiting member 을 포함하는 기판 세정 장치.Substrate cleaning apparatus comprising a.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20070062433A (en) * 2005-12-12 2007-06-15 시바우라 메카트로닉스 가부시키가이샤 Apparatus for treating substrates

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KR20070062433A (en) * 2005-12-12 2007-06-15 시바우라 메카트로닉스 가부시키가이샤 Apparatus for treating substrates

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