KR100862705B1 - Brush assembly and apparatus for treating substrate with the brush assembly, and method for installing the brush assembly - Google Patents

Brush assembly and apparatus for treating substrate with the brush assembly, and method for installing the brush assembly Download PDF

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substrate
brush
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brush body
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윤태열
이성희
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세메스 주식회사
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Abstract

A brush assembly, a substrate processing apparatus having the same, and a method for installing the same are provided to support stable a brush by adjusting accurately tensile strength of a fixing shaft. A brush body(120) comes in contact with a substrate in a process to remove foreign materials from a surface of the substrate. A fixing shaft(110) is inserted into the brush body. A bearing is formed between the brush body and the fixing shaft. A driving member(150) is formed to drive the brush body to rotate the brush body along an outer circumference of the fixing shaft. The brush body includes a rotary shaft(122) for surrounding the fixing shaft and a brush(124) installed around the rotary shaft. The brush comes in contact with the substrate in the process.

Description

브러쉬 어셈블리 및 이를 구비하는 기판 처리 장치, 그리고 상기 브러쉬 어셈블리의 설치방법{BRUSH ASSEMBLY AND APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE WITH THE BRUSH ASSEMBLY, AND METHOD FOR INSTALLING THE BRUSH ASSEMBLY}A brush assembly, a substrate processing apparatus having the same, and a method of installing the brush assembly TECHNICAL FIELD [0001]

본 발명은 브러쉬 어셈블리 및 이를 구비하는 기판 처리 장치, 그리고 상기 브러쉬 어셈블리의 설치방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판 표면에 이물질을 제거하기 위한 브러쉬 어셈블리 및 이를 구비하여 기판을 처리하는 설비, 그리고 상기 브러쉬 어셈블리를 설치하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a brush assembly and a substrate processing apparatus having the same, and a method of installing the brush assembly, and more particularly, a brush assembly for removing foreign substances on a surface of a substrate, and an apparatus for treating a substrate using the same. A method of installing a brush assembly.

일반적인 반도체 제조 공정 및 평판 디스플레이 제조 공정에서는 웨이퍼 및 글라스 등의 기판을 세정하는 공정이 수행된다. 이러한 기판을 세정하는 공정 중 브러쉬를 사용하여 기판을 세정하는 공정은 기판 표면에 회전되는 브러쉬를 접촉시켜 기판 표면으로부터 이물질을 제거한다. In a general semiconductor manufacturing process and a flat panel display manufacturing process, a process of cleaning a substrate such as a wafer and glass is performed. In the process of cleaning the substrate, the process of cleaning the substrate using a brush removes foreign substances from the surface of the substrate by contacting the brush rotated to the substrate surface.

일반적인 평판 디스플레이 제조용 글라스 기판을 세정하는 장치는 이송샤프트, 노즐, 그리고 브러쉬 어셈블리를 구비한다. 이송샤프트들은 복수개가 평행하게 배치되어, 공정시 일정속도로 회전되면서 기판을 이송한다. 노즐은 이송샤프트들에 의해 이동되는 기판으로 세정액을 분사한다. 그리고, 브러쉬 어셈블리는 기판 표면 과 접촉하여 회전되는 브러쉬를 가진다. 브러쉬로는 보통 디스크 브러쉬 및 롤 브러쉬가 사용된다.A typical apparatus for cleaning glass substrates for manufacturing flat panel displays includes a transfer shaft, a nozzle, and a brush assembly. The plurality of transfer shafts are arranged in parallel to transfer the substrate while rotating at a constant speed during the process. The nozzle sprays the cleaning liquid onto the substrate moved by the transfer shafts. The brush assembly then has a brush that is rotated in contact with the substrate surface. As brushes, disc brushes and roll brushes are usually used.

그러나, 최근의 대형화되는 기판에 대응하기 위해 롤브러쉬의 길이가 증가함으로써, 공정시 기판 또는 브러쉬 어셈블리의 하중으로 인해 롤브러쉬의 중앙이 쳐지는 현상이 발생된다. 이러한 롤브러쉬의 중앙이 쳐지는 현상이 발생되면, 롤브러쉬의 기판 세정력이 저하되어 기판 처리 공정 효율이 저하된다. 이를 해결하기 위해, 롤브러쉬에 제공되는 샤프트의 굵기를 증가시켜 롤브러쉬의 내구성을 증가시킬 수 있으나, 이러한 방식으로는 브러쉬 어셈블리의 무게가 증가되어 작업자의 브러쉬 어셈블리의 설치 및 유지보수가 용이하지 않고, 브러쉬 어셈블리의 가격이 증가하는 문제점이 있다.However, by increasing the length of the roll brush in order to cope with the recent increase in size of the substrate, the phenomenon of the center of the roll brush is struck due to the load of the substrate or brush assembly during the process. When such a phenomenon that the center of the roll brush is struck occurs, the substrate cleaning power of the roll brush is lowered and the substrate processing process efficiency is lowered. To solve this, it is possible to increase the durability of the roll brush by increasing the thickness of the shaft provided in the roll brush, but in this way the weight of the brush assembly is increased so that the installation and maintenance of the brush assembly is not easy for the operator. There is a problem that the price of the brush assembly increases.

본 발명은 기판을 세정하는 처리 공정 효율을 향상시키는 브러쉬 어셈블리 및 이를 구비하는 기판 처리 장치, 그리고 상기 브러쉬 어셈블리의 설치방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. An object of the present invention is to provide a brush assembly, a substrate processing apparatus having the same, and a method of installing the brush assembly, which improves the processing efficiency of cleaning the substrate.

본 발명은 브러쉬 몸체의 쳐짐 현상을 방지하는 브러쉬 어셈블리 및 이를 구비하는 기판 처리 장치, 그리고 상기 브러쉬 어셈블리의 설치방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a brush assembly for preventing sagging of the brush body, a substrate processing apparatus having the same, and a method of installing the brush assembly.

본 발명은 브러쉬 몸체를 지지하는 샤프트의 인장을 용이하게 수행할 수 있는 브러쉬 어셈블리, 그리고 이를 구비하는 기판 처리 장치 및 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.It is an object of the present invention to provide a brush assembly capable of easily tensioning a shaft supporting a brush body, and a substrate processing apparatus and method having the same.

본 발명은 브러쉬 몸체를 지지하는 샤프트의 인장 강도를 조절할 수 있는 브러쉬 어셈블리 및 이를 구비하는 기판 처리 장치, 그리고 상기 브러쉬 어셈블리의 설치방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.It is an object of the present invention to provide a brush assembly capable of adjusting the tensile strength of a shaft supporting a brush body, a substrate processing apparatus having the same, and a method of installing the brush assembly.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 브러쉬 어셈블리는 공정시 기판과 접촉하여 기판 표면에 이물질을 제거시키는 브러쉬 몸체, 상기 브러쉬 몸체에 삽입되는 고정샤프트, 상기 브러쉬 몸체와 상기 고정샤프트 사이에 제공되는 베어링, 그리고 상기 브러쉬 몸체가 상기 고정샤프트의 외주면을 따라 회전되도록 상기 브러쉬 몸체를 구동시키는 구동부재를 포함한다.Brush assembly according to the present invention for achieving the above object is provided between the brush body, the fixed shaft is inserted into the brush body, the brush shaft is inserted into the brush body in contact with the substrate during the process to remove the foreign matter on the substrate surface A bearing and a driving member for driving the brush body such that the brush body is rotated along an outer circumferential surface of the fixed shaft.

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 브러쉬 몸체는 상기 고정샤프트의 둘레를 감싸도록 제공되는 회전샤프트 및 상기 회전샤프트의 둘레에 설치되며, 공정시 기판과 접촉하되는 브러쉬를 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the brush body includes a rotary shaft provided to surround the fixed shaft and a circumference of the rotary shaft, the brush being in contact with the substrate during the process.

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 브러쉬 어셈블리는 상기 고정샤프트의 양단을 각각 지지하는 고정프레임 및 상기 고정샤프트의 일단에 형성되는 나사산을 따라 회전되어 상기 고정샤프트의 일단이 상기 고정샤프트로부터 멀어지는 방향으로 인장시키는 인장너트를 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the brush assembly is rotated along a screw thread formed at one end of the fixed frame and the fixed shaft for supporting both ends of the fixed shaft in a direction away from one end of the fixed shaft It includes a tensioning nut to tension.

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 브러쉬 어셈블리는 상기 고정샤프트의 타단에 형성되는 나사산을 따라 회전되어 상기 고정샤프트의 타단이 상기 고정샤프트로부터 멀어지는 방향으로 인장시키는 인장너트를 더 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the brush assembly further includes a tension nut that is rotated along the thread formed on the other end of the fixed shaft to tension the other end of the fixed shaft away from the fixed shaft.

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 구동부재는 구동모터 및 상기 회전샤프트에 결합되어 상기 구동모터로부터 회전력을 전달받는 기어를 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the drive member includes a gear coupled to the drive motor and the rotary shaft to receive a rotational force from the drive motor.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 기판 처리 장치는 내부에 기판을 처리하는 공간을 제공하는 하우징, 상기 하우징 내부에서 기판을 이송시키는 복수의 이송샤프트들, 상기 이송샤프트들에 의해 이송되는 기판으로 처리유체를 공급하는 노즐, 그리고 공정시 상기 이송샤프트들에 의해 이송되는 기판과 접촉하여, 상기 기판 표면에 잔류하는 이물질을 제거하는 브러쉬 어셈블리를 포함하되, 상기 브러쉬 어셈블리는 공정시 기판과 접촉하여 기판 표면에 이물질을 제거시키는 브러쉬 몸체, 상기 브러쉬 몸체에 삽입되는 고정샤프트, 상기 브러쉬 몸체와 상기 고정 샤프트 사이에 제공되는 베어링, 그리고 상기 브러쉬 몸체가 상기 고정샤프트의 외주면을 따라 회전되도록 상기 브러쉬 몸체를 구동시키는 구동부재를 포함한다.A substrate processing apparatus according to the present invention for achieving the above object is a housing that provides a space for processing a substrate therein, a plurality of transfer shafts for transferring the substrate in the housing, the substrate transferred by the transfer shafts And a brush assembly for contacting the substrate conveyed by the transfer shafts in the process, and a brush assembly for removing foreign matter remaining on the surface of the substrate, wherein the brush assembly is in contact with the substrate during the process. Brush body for removing foreign matter on the substrate surface, a fixed shaft inserted into the brush body, a bearing provided between the brush body and the fixed shaft, and the brush body so that the brush body is rotated along the outer circumferential surface of the fixed shaft It includes a drive member for driving.

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 브러쉬 몸체는 상기 고정샤프트의 둘레를 감싸도록 제공되는 회전샤프트 및 상기 회전샤프트의 둘레에 설치되며, 공정시 기판과 접촉하되는 브러쉬를 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the brush body includes a rotary shaft provided to surround the fixed shaft and a circumference of the rotary shaft, the brush being in contact with the substrate during the process.

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 브러쉬 어셈블리는 상기 고정샤프트의 양단을 각각 지지하는 고정프레임 및 상기 고정샤프트의 일단에 형성되는 나사산을 따라 회전되어 상기 고정샤프트의 일단이 상기 고정샤프트로부터 멀어지는 방향으로 인장시키는 인장너트를 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the brush assembly is rotated along a screw thread formed at one end of the fixed frame and the fixed shaft for supporting both ends of the fixed shaft in a direction away from one end of the fixed shaft It includes a tensioning nut to tension.

본 발명의 실시예에 따르면, 상기 브러쉬 어셈블리는 상기 고정샤프트의 타단에 형성되는 나사산을 따라 회전되어 상기 고정샤프트의 타단이 상기 고정샤프트로부터 멀어지는 방향으로 인장시키는 인장너트를 더 포함한다.According to an embodiment of the present invention, the brush assembly further includes a tension nut that is rotated along the thread formed on the other end of the fixed shaft to tension the other end of the fixed shaft away from the fixed shaft.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 브러쉬 어셈블리의 설치방법은 공정시 기판과 접촉하여 기판 표면에 이물질을 제거시키는 브러쉬 몸체, 상기 브러쉬 몸체에 삽입되는 고정샤프트, 상기 브러쉬 몸체와 상기 고정샤프트 사이에 제공되는 베어링, 상기 고정샤프트의 양단을 각각 지지하는 고정프레임, 그리고 상기 고정샤프트의 일단에 형성되는 나사산을 따라 회전되어 상기 고정샤프트의 일단이 상기 고정샤프트로부터 멀어지는 방향으로 인장시키는 인장너트를 구비하는 브러쉬 어셈블리를 설치하되, 상기 고정샤프트의 타단을 상기 고정프레임에 고정시킨 후 상기 인장너트의 회전에 의해, 상기 고정샤프트의 일단이 상기 고정프레임으로부터 멀어지는 방향으로 인장되도록 하여 상기 브러쉬 어셈블리를 설치한다.A brush assembly installation method according to the present invention for achieving the above object is a brush body for removing foreign matter on the surface of the substrate in contact with the substrate during the process, a fixed shaft inserted into the brush body, between the brush body and the fixed shaft And a tensioning nut which is rotated along a screw thread formed at one end of the fixed shaft to tension one end of the fixed shaft in a direction away from the fixed shaft. Install the brush assembly, but after fixing the other end of the fixed shaft to the fixed frame by the rotation of the tension nut, one end of the fixed shaft is installed in the direction away from the fixed frame to install the brush assembly. .

본 발명에 따른 브러쉬 어셈블리 및 이를 구비하는 기판 처리 장치, 그리고 상기 브러쉬 어셈블리의 설치방법은 공정시 브러쉬 어셈블리가 쳐지는 현상을 방지하여 기판 처리 공정 효율을 향상시킨다.The brush assembly according to the present invention, a substrate processing apparatus having the same, and an installation method of the brush assembly prevent the brush assembly from being struck during the process to improve the substrate processing process efficiency.

본 발명에 따른 브러쉬 어셈블리 및 이를 구비하는 기판 처리 장치, 그리고 상기 브러쉬 어셈블리의 설치방법은 브러쉬를 지지하는 고정샤프트를 작업자가 용이하게 인장시킬 수 있다.Brush assembly according to the invention, the substrate processing apparatus having the same, and the installation method of the brush assembly can be easily tensioned by the operator to the fixed shaft for supporting the brush.

본 발명에 따른 브러쉬 어셈블리 및 이를 구비하는 기판 처리 장치, 그리고 상기 브러쉬 어셈블리의 설치방법은 브러쉬를 지지하는 고정샤프트의 인장정도를 작업자가 정밀하게 조절할 수 있다.Brush assembly according to the invention, the substrate processing apparatus having the same, and the installation method of the brush assembly can be adjusted by the operator precisely the tension of the fixed shaft for supporting the brush.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명되어지는 실시예에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예는 개시된 내용이 철저하고 완전해지도록, 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달되도록 하기 위해 제공된다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the invention is not limited to the embodiments described herein but may be embodied in other forms. Rather, the embodiments presented herein are provided so that the disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the spirit of the invention to those skilled in the art.

또한, 본 실시예에서는 평판 디스플레이 제조용 유리 기판을 세정하는 습식 세정 장치를 예로 들어 설명하였으나, 본 발명은 처리액을 사용하여 기판을 처리하 는 모든 기판 처리 장치에 적용이 가능하다.In addition, in the present embodiment, a wet cleaning apparatus for cleaning a glass substrate for flat panel display manufacturing has been described as an example, but the present invention can be applied to any substrate processing apparatus for treating a substrate using a processing liquid.

또한, 본 실시예에서는 롤브러쉬를 사용하여 기판을 세정하는 습식 세정 장치를 예로 들어 설명하였으나, 본 발명은 디스크 브러쉬 및 기타 다른 형태의 브러쉬를 사용하여 기판을 처리하는 설비에 적용이 가능할 수 있다.In addition, in the present embodiment, a wet cleaning apparatus for cleaning a substrate using a roll brush has been described as an example, but the present invention may be applied to a facility for treating a substrate using a disk brush and other types of brushes.

(실시예)(Example)

도 1은 본 발명에 따른 기판 처리 장치를 보여주는 도면이고, 도 2는 도 1에 도시된 브러쉬 어셈블리의 구성들을 보여주는 도면이다. 그리고, 도 3은 도 1에 도시된 브러쉬 어셈블리의 일부분을 보여주는 사시도이다.1 is a view showing a substrate processing apparatus according to the present invention, Figure 2 is a view showing the configuration of the brush assembly shown in FIG. 3 is a perspective view showing a part of the brush assembly shown in FIG. 1.

도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 기판 처리 장치(apparatus for treating substrate)(1)는 적어도 하나의 공정실(process room)(10)을 포함한다. 만약, 공정실(10)이 복수개 구비되는 경우에는 각각의 공정실(10)은 서로 인접하게 배치되어 일련의 처리공정을 수행한다. 공정실(10)은 평판 디스플레이 제조용 유리기판(이하, '기판'이라 함)(s) 표면에 잔류하는 이물질을 제거하는 공정을 수행한다.Referring to FIG. 1, an apparatus for treating substrate 1 according to the present invention includes at least one process room 10. If a plurality of process chambers 10 are provided, the process chambers 10 are disposed adjacent to each other to perform a series of treatment processes. The process chamber 10 performs a process of removing foreign matter remaining on the surface of the glass substrate (hereinafter, referred to as a substrate) s for manufacturing a flat panel display.

공정실(10)은 하우징(housing)(12), 기판이송부재(substrate transfer member)(14), 분사부재(injection member)(16), 그리고 브러쉬 어셈블리(brush assembly)(100)을 포함한다.The process chamber 10 includes a housing 12, a substrate transfer member 14, an injection member 16, and a brush assembly 100.

하우징(12)은 내부에 기판(s)을 세정하는 공정이 수행되는 공간을 제공한다. 하우징(12)의 일측에는 기판(s)의 반입이 이루어지는 기판 반입구(12a)가 제공되고, 하우징(12)의 타측에는 기판(s)의 반출이 이루어지는 기판 반출구(12b)가 제공 된다. 또한, 하우징(12)의 하부에는 공정시 사용되는 처리액을 배수시키는 배수라인(12c)이 제공된다. 하우징(12)은 공정 진행시 사용된 처리액 및 처리액으로부터 발생되는 흄(fume)이 하우징(12) 외부로 누출되지 않도록 밀폐되는 것이 바람직하다.The housing 12 provides a space in which the process of cleaning the substrate s is performed. One side of the housing 12 is provided with a substrate inlet 12a through which the substrate s is carried in, and the other side of the housing 12 is provided with a substrate outlet 12b through which the substrate s is carried out. In addition, the lower portion of the housing 12 is provided with a drain line 12c for draining the processing liquid used in the process. The housing 12 is preferably sealed so that the processing liquid used during the process and the fume generated from the processing liquid do not leak out of the housing 12.

기판이송부재(14)는 공정시 하우징(12) 내부에서 기판(s)을 이송한다. 기판이송부재(14)는 이송샤프트(transfer shaft)(14a) 및 롤러(roller)(14b)를 포함한다. 이송샤프트(14a)는 복수개가 평행하게 설치된다. 각각의 이송샤프트(14a)는 기판(s)의 이송방향과 수직하는 방향으로 설치된다. 롤러(14b)는 각각의 이송샤프트(14a)의 외주면에 균등한 간격으로 배치되어 공정시 기판(s)의 저면을 지지한다. The substrate transfer member 14 transfers the substrate s in the housing 12 during the process. The substrate transfer member 14 includes a transfer shaft 14a and a roller 14b. The plurality of feed shafts 14a are provided in parallel. Each transfer shaft 14a is provided in a direction perpendicular to the transfer direction of the substrate s. The rollers 14b are arranged at equal intervals on the outer circumferential surface of each transfer shaft 14a to support the bottom surface of the substrate s during the process.

분사부재(16)는 공정시 기판이송부재(14)에 의해 이동되는 기판(s)을 향해 처리액을 공급한다. 분사부재(16)로는 복수의 노즐(nozzle)들이 사용된다. 또는, 분사부재(16)로는 약액나이프(chemical knife)가 사용될 수 있다.The injection member 16 supplies the processing liquid toward the substrate s moved by the substrate transfer member 14 during the process. As the injection member 16, a plurality of nozzles are used. Alternatively, a chemical knife may be used as the injection member 16.

브러쉬 어셈블리(100)는 공정시 기판(s)의 표면과 접촉하여 고속으로 회전하여 기판(s) 표면의 이물질을 제거한다. 브러쉬 어셈블리(100)는 공정시 기판(s)의 상부면을 세정하는 상부 브러쉬 어셈블리 및 기판(s)의 하부면을 세정하는 하부 브러쉬 어셈블리를 포함한다. 각각의 상부 및 하부 브러쉬 어셈블리는 대체로 동일한 구성들로 이루어진다. 본 실시예에서는 어느 하나의 브러쉬 어셈블리에 대한 구성들을 상세히 설명한다.The brush assembly 100 rotates at a high speed in contact with the surface of the substrate s during the process to remove foreign substances on the surface of the substrate s. The brush assembly 100 includes an upper brush assembly for cleaning the upper surface of the substrate s during processing and a lower brush assembly for cleaning the lower surface of the substrate s. Each upper and lower brush assembly consists of substantially the same configurations. In this embodiment, the configuration for any one brush assembly will be described in detail.

도 2 및 3을 참조하면, 브러쉬 어셈블리(100)는 고정샤프트(fixing shaft)(110), 브러쉬 몸체(brush body)(120), 고정프레임(fixing frame)(130), 지 지부재(support member)(140), 구동부재(driving member)(150), 그리고 샤프트 인장부재(shaft tension member)(160)를 포함한다.2 and 3, the brush assembly 100 includes a fixing shaft 110, a brush body 120, a fixing frame 130, and a support member. 140), a driving member (150), and a shaft tension member (shaft tension member) (160).

고정샤프트(110)는 브러쉬 몸체(120)를 지지하기 위해 제공된다. 고정샤프트(110)의 양단은 고정프레임(130)에 의해 지지된다. 고정샤프트(110)의 일단에는 나사산(112)이 형성된다.The fixed shaft 110 is provided to support the brush body 120. Both ends of the fixed shaft 110 is supported by the fixed frame 130. A thread 112 is formed at one end of the fixed shaft 110.

브러쉬 몸체(120)는 기판(s) 표면에 잔류하는 이물질을 제거한다. 브러쉬 몸체(120)는 회전샤프트(rotating shaft)(122) 및 브러쉬(roll brush)(124)를 포함한다. 회전샤프트(122)는 고정샤프트(110)의 둘레를 감싸도록 설치되며, 고정샤프트(110)의 외주면을 따라 회전가능하도록 설치된다. 이를 위해, 고정샤프트(110)와 회전샤프트(122) 사이에는 베어링(B1)들이 설치된다. 브러쉬(124)는 회전샤프트체(122)의 둘레를 감싸도록 설치된다. 브러쉬(124)는 공정시 기판(s) 표면과 접촉하여, 기판(s) 표면에 잔류하는 이물질을 제거한다.The brush body 120 removes foreign substances remaining on the surface of the substrate s. The brush body 120 includes a rotating shaft 122 and a roll brush 124. The rotary shaft 122 is installed to surround the circumference of the fixed shaft 110 and is rotatably installed along the outer circumferential surface of the fixed shaft 110. To this end, bearings B1 are installed between the fixed shaft 110 and the rotary shaft 122. The brush 124 is installed to surround the circumference of the rotary shaft body 122. The brush 124 contacts the surface of the substrate s during the process to remove foreign substances remaining on the surface of the substrate s.

고정프레임(130)은 고정샤프트(110)를 지지한다. 고정프레임(130)는 제1 프레임(first frame)(132) 및 제2 프레임(second frame)(134)을 가진다. 제1 프레임(132)은 고정샤프트(110)의 일단을 지지하고, 제2 프레임(134)은 고정샤프트(110)의 타단을 지지한다.The fixed frame 130 supports the fixed shaft 110. The fixed frame 130 has a first frame 132 and a second frame 134. The first frame 132 supports one end of the fixed shaft 110 and the second frame 134 supports the other end of the fixed shaft 110.

지지부재(140)는 브러쉬 몸체(120)를 지지한다. 지지부재(140)는 제1 지지블럭(first support block)(142) 및 제2 지지블럭(second support block)(144)을 가진다. 제1 지지블럭(142)은 회전샤프트(122)의 일단을 지지하고, 제2 지지블럭(144)은 회전샤프트(122)의 타단을 지지한다. 이때, 제1 및 제2 지지블럭(142, 144)은 회전샤프트(122)가 고정샤프트(110)의 둘레를 따라 회전가능하도록 회전샤프트(122)를 지지한다. 이를 위해, 제1 및 제2 지지블럭(142, 144)과 회전샤프트(122) 사이에는 베어링(B2)들이 설치된다.The support member 140 supports the brush body 120. The support member 140 has a first support block 142 and a second support block 144. The first support block 142 supports one end of the rotary shaft 122, and the second support block 144 supports the other end of the rotary shaft 122. In this case, the first and second support blocks 142 and 144 support the rotary shaft 122 such that the rotary shaft 122 is rotatable along the circumference of the fixed shaft 110. To this end, bearings B2 are installed between the first and second support blocks 142 and 144 and the rotary shaft 122.

구동부재(150)는 공정시 브러쉬 몸체(120)를 회전시킨다. 구동부재(150)는 구동모터(driving motor)(152), 제1 기어(first gear)(154), 그리고 제2 기어(second gear)(156)를 가진다. 구동모터(152)는 제1 기어(154)를 회전시킨다. 제1 기어(154)와 제2 기어(156)는 서로 맞물려 회전된다. 제2 기어(156)는 회전샤프트(122)의 일단에 설치된다. 공정시 구동모터(152)에 의해 제1 기어(154)가 회전되면, 제2 기어(156)의 회전에 의해 회전샤프트(122)가 회전된다. 본 실시예에서는 구동부재(150)가 다수의 기어들을 사용하여 브러쉬 몸체(120)를 회전시키는 경우를 예로 들어 설명하였으나, 구동부재(150)는 벨트(belt) 및 풀리(pulley)를 사용하여 브러쉬 몸체(120)를 회전시킬 수 있다.The driving member 150 rotates the brush body 120 during the process. The driving member 150 has a driving motor 152, a first gear 154, and a second gear 156. The drive motor 152 rotates the first gear 154. The first gear 154 and the second gear 156 mesh with each other to rotate. The second gear 156 is installed at one end of the rotary shaft 122. When the first gear 154 is rotated by the drive motor 152 during the process, the rotary shaft 122 is rotated by the rotation of the second gear 156. In the present exemplary embodiment, the driving member 150 rotates the brush body 120 using a plurality of gears as an example. However, the driving member 150 uses a belt and a pulley to brush. The body 120 may be rotated.

샤프트 인장부재(160)는 고정샤프트(110)를 인장시켜 고정프레임(130)에 고정시킨다. 샤프트 인장부재(160)는 고정너트(fixing nut)(162) 및 인장너트(tension nut)(164)를 포함한다. 고정너트(162)는 고정샤프트(110)의 타단에 고정설치된다. 인장너트(164)는 고정샤프트(110)의 일단에 설치된다. 이때, 인장너트(164)는 고정샤프트(110)의 일단에 형성되는 나사산(112)을 따라 회전가능하도록 설치된다.The shaft tension member 160 is fixed to the fixed frame 130 by tensioning the fixed shaft 110. The shaft tension member 160 includes a fixing nut 162 and a tension nut 164. The fixing nut 162 is fixedly installed at the other end of the fixing shaft 110. The tension nut 164 is installed at one end of the fixed shaft 110. At this time, the tension nut 164 is installed to be rotatable along the thread 112 is formed on one end of the fixed shaft (110).

여기서, 샤프트 인장부재(160)는 고정샤프트(110)의 중앙이 쳐지는 현상을 방지하도록 고정샤프트(110)를 인장시킨다. 즉, 작업자는 브러쉬 어셈블리(100)의 설치시 샤프트 인장부재(160)를 조절하여 고정샤프트(110)를 인장시킨다. 예컨대, 도 4a를 참조하면, 작업자는 샤프트 인장부재(160)의 인장너트(164)를 제1 방향(R1)으로 회전시켜 인장너트(164)가 제1 방향(도 3의 X1)으로 이동되면서 제1 프레임(132)에 조여지도록 한다. 인장너트(164)가 제1 프레임(132)에 조여지게 되면, 고정샤프트(110)의 일단은 제2 방향(도 3의 X2)으로 인장되도록 압력이 가해진다. 이때, 고정샤프트(110)의 타단은 고정너트(162)에 의해 제2 프레임(134)에 고정되어 있으므로, 도 4b에 도시된 바와 같이, 고정샤프트(110)는 팽팽하게 인장된다. 따라서, 작업자는 인장너트(164)를 회전시켜 고정샤프트(110)를 인장시킬 수 있다.Here, the shaft tension member 160 tensions the fixed shaft 110 to prevent the center of the fixed shaft 110 from falling. That is, the operator tensions the fixed shaft 110 by adjusting the shaft tension member 160 when the brush assembly 100 is installed. For example, referring to FIG. 4A, the operator rotates the tension nut 164 of the shaft tension member 160 in the first direction R1 to move the tension nut 164 in the first direction (X1 of FIG. 3). To be tightened to the first frame 132. When the tension nut 164 is tightened to the first frame 132, one end of the fixed shaft 110 is pressed to tension in the second direction (X2 in FIG. 3). At this time, the other end of the fixed shaft 110 is fixed to the second frame 134 by the fixing nut 162, as shown in Figure 4b, the fixed shaft 110 is tensioned tension. Therefore, the worker may tension the fixed shaft 110 by rotating the tension nut 164.

또한, 작업자는 샤프트 인장부재(160)를 조절하여 고정샤프트(110)의 인장 강도를 조절할 수 있다. 즉, 작업자는 인장너트(164)를 직접 회전시키면서 고정샤프트(110)의 인장 정도를 육안으로 확인함으로써 고정샤프트(110)의 인장강도를 조절할 수 있다. 또는, 작업자는 토크 렌치(torque wrench)와 같은 도구를 사용하여 기설정된 인장압력까지만 인장너트(164)가 조여지도록 토크 렌치를 설정한 후 인장너트(164)를 조절하여, 고정샤프트(110)가 과도하게 인장되거나 덜 인장되는 것을 방지할 수 있다.In addition, the operator can adjust the tensile strength of the fixed shaft 110 by adjusting the shaft tension member 160. That is, the operator can adjust the tensile strength of the fixed shaft 110 by visually confirming the tensile degree of the fixed shaft 110 while rotating the tension nut 164 directly. Alternatively, the operator sets a torque wrench to tighten the tension nut 164 only to a predetermined tensile pressure by using a tool such as a torque wrench, and then adjusts the tension nut 164 to fix the shaft 110. Excessive tension or less tension can be prevented.

상술한 본 발명의 일 실시예에서는 샤프트 인장부재(160)가 고정샤프트(110)의 타단에 고정설치되는 고정너트(162) 및 고정샤프트(110)의 일단에 나사결합되는 인장너트(164)를 제공하여, 작업자가 인장너트(164)를 조절함으로써 고정샤프트(110)를 인장시키는 경우를 예로 들어 설명하였으나, 고정샤프트(110)를 인장시키는 방식은 다양하게 응용될 수 있다. 예컨대, 도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 샤프트 인장부재(160)는 고정샤프트(110)의 양단에 각각 인장너트(164)를 제공하여, 작업자가 고정샤프트(110)의 양단에 제공되는 나사산(112)에 나사결합되는 인장너트(164)를 조절하여 고정샤프트(110)를 인장시킬 수 있다. 예컨대, 고정샤프트(110)의 일단에 제공되는 인장너트(164)를 제1 방향(R1)으로 회전시켜 고정샤프트(110)의 일단이 제1 방향(X1)으로 인장되도록 하고, 고정샤프트(110)의 타단에 제공되는 인장너트(164)를 제2 방향(R2)으로 회전시켜 고정샤프트(110)의 타단이 제2 방향(X2)으로 인장되도록 한다. 본 발명의 다른 실시예에 따른 샤프트 인장부재(160)는 고정샤프트(110)의 양단에 인장너트(164)를 제공함으로써, 보다 효과적으로 고정샤프트(110)의 인장을 수행할 수 있다.In the above-described embodiment of the present invention, the shaft tension member 160 has a fixing nut 162 fixedly installed at the other end of the fixed shaft 110 and a tension nut 164 screwed to one end of the fixed shaft 110. Providing, for example, when the operator tensions the fixed shaft 110 by adjusting the tension nut 164, the method of tensioning the fixed shaft 110 can be applied in various ways. For example, as shown in FIG. 5, the shaft tension member 160 according to another embodiment of the present invention provides tension nuts 164 at both ends of the fixed shaft 110, so that an operator fixes the shaft 110. The fixing shaft 110 may be tensioned by adjusting the tension nut 164 screwed to the thread 112 provided at both ends of the. For example, the tension nut 164 provided at one end of the fixed shaft 110 is rotated in the first direction R1 so that one end of the fixed shaft 110 is tensioned in the first direction X1 and the fixed shaft 110 is fixed. The other end of the fixed shaft 110 is tensioned in the second direction X2 by rotating the tension nut 164 provided at the other end of the second direction R2. Shaft tension member 160 according to another embodiment of the present invention can provide a tension nut 164 at both ends of the fixed shaft 110, it is possible to more effectively perform the tension of the fixed shaft 110.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 브러쉬 어셈블리 및 이를 구비하는 기판 처리 장치, 그리고 상기 브러쉬 어셈블리의 설치 방법은 브러쉬 어셈블리에 제공되는 고정샤프트를 인장시키는 샤프트 인장수단을 구비하여, 공정시 브러쉬 몸체가 쳐지는 현상을 방지하여 기판 처리 공정의 효율을 향상시킨다.As described above, the brush assembly according to the present invention, the substrate processing apparatus having the same, and the installation method of the brush assembly include a shaft tension means for tensioning the fixed shaft provided in the brush assembly, so that the brush body is sagging during the process. This prevents the phenomenon and improves the efficiency of the substrate processing process.

또한, 본 발명에 따른 브러쉬 어셈블리 및 이를 구비하는 기판 처리 장치, 그리고 상기 브러쉬 어셈블리의 설치 방법은 작업자가 브러쉬 어셈블리에 제공되는 고정샤프트의 인장정도를 용이하게 조절할 수 있어 브러쉬 어셈블리의 설치가 용이하다.In addition, the brush assembly according to the present invention, the substrate processing apparatus having the same, and the installation method of the brush assembly, the operator can easily adjust the tension of the fixing shaft provided in the brush assembly, it is easy to install the brush assembly.

이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한, 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내고 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉, 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위 내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 전술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명과 같은 다른 발명을 이용하는데 당업계에 알려진 다른 상태로의 실시, 그리고 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서, 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.The foregoing detailed description illustrates the present invention. In addition, the foregoing description shows and describes preferred embodiments of the present invention, and the present invention can be used in various other combinations, modifications, and environments. That is, changes or modifications may be made within the scope of the concept of the invention disclosed in this specification, the scope equivalent to the disclosed contents, and / or the skill or knowledge in the art. The above-described embodiments illustrate the best state for implementing the technical idea of the present invention, the use of other inventions such as the present invention in other state known in the art, and the specific fields of application and uses of the invention. Various changes required are also possible. Accordingly, the detailed description of the invention is not intended to limit the invention to the disclosed embodiments. Also, the appended claims should be construed to include other embodiments.

도 1은 본 발명에 따른 기판 처리 장치를 보여주는 도면이다.1 is a view showing a substrate processing apparatus according to the present invention.

도 2는 도 1에 도시된 브러쉬 어셈블리의 구성들을 보여주는 도면이다.FIG. 2 is a diagram illustrating the components of the brush assembly shown in FIG. 1.

도 3은 도 1에 도시된 브러쉬 어셈블리의 일부분을 보여주는 사시도이다.3 is a perspective view showing a portion of the brush assembly shown in FIG. 1.

도 4a 및 도 4b는 본 발명에 따른 브러쉬 어셈블리의 설치 과정을 설명하기 위한 도면들이다.4A and 4B are views for explaining an installation process of the brush assembly according to the present invention.

도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 브러쉬 어셈블리를 보여주는 도면이다.5 is a view showing a brush assembly according to another embodiment of the present invention.

Claims (10)

삭제delete 공정시 기판과 접촉하여 기판 표면에 이물질을 제거시키는 브러쉬 몸체와,Brush body to contact with the substrate during the process to remove the foreign matter on the surface of the substrate, 상기 브러쉬 몸체에 삽입되는 고정샤프트와,A fixed shaft inserted into the brush body, 상기 브러쉬 몸체와 상기 고정샤프트 사이에 제공되는 베어링, 그리고A bearing provided between the brush body and the fixed shaft, and 상기 브러쉬 몸체가 상기 고정샤프트의 외주면을 따라 회전되도록 상기 브러쉬 몸체를 구동시키는 구동부재를 포함하되,It includes a drive member for driving the brush body so that the brush body is rotated along the outer peripheral surface of the fixed shaft, 상기 브러쉬 몸체는,The brush body, 상기 고정샤프트의 둘레를 감싸도록 제공되는 회전샤프트와,A rotary shaft provided to surround a circumference of the fixed shaft; 상기 회전샤프트의 둘레에 설치되며, 공정시 기판과 접촉하되는 브러쉬를 포함하는 것을 특징으로 하는 브러쉬 어셈블리.And a brush installed around the rotating shaft and contacting the substrate during the process. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 브러쉬 어셈블리는,The brush assembly, 상기 고정샤프트의 양단을 각각 지지하는 고정프레임과,A fixed frame for supporting both ends of the fixed shaft, 상기 고정샤프트의 일단에 형성되는 나사산을 따라 회전되어 상기 고정샤프트의 일단이 상기 고정샤프트로부터 멀어지는 방향으로 인장시키는 인장너트를 포함하는 것을 특징으로 하는 브러쉬 어셈블리.And a tension nut which is rotated along a thread formed at one end of the fixed shaft to tension one end of the fixed shaft in a direction away from the fixed shaft. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 브러쉬 어셈블리는,The brush assembly, 상기 고정샤프트의 타단에 형성되는 나사산을 따라 회전되어 상기 고정샤프트의 타단이 상기 고정샤프트로부터 멀어지는 방향으로 인장시키는 인장너트를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 브러쉬 어셈블리.And a tension nut which is rotated along a thread formed at the other end of the fixed shaft to tension the other end of the fixed shaft in a direction away from the fixed shaft. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 구동부재는,The drive member, 구동모터와,Drive motor, 상기 회전샤프트에 결합되어 상기 구동모터로부터 회전력을 전달받는 기어를 포함하는 것을 특징으로 하는 브러쉬 어셈블리.And a gear coupled to the rotation shaft to receive a rotational force from the drive motor. 삭제delete 기판을 처리하는 장치에 있어서,In the apparatus for processing a substrate, 내부에 기판을 처리하는 공간을 제공하는 하우징과,A housing providing a space for processing the substrate therein; 상기 하우징 내부에서 기판을 이송시키는 복수의 이송샤프트들과,A plurality of transfer shafts for transferring the substrate in the housing; 상기 이송샤프트들에 의해 이송되는 기판으로 처리유체를 공급하는 노즐, 그리고A nozzle for supplying a processing fluid to a substrate conveyed by the transfer shafts, and 공정시 상기 이송샤프트들에 의해 이송되는 기판과 접촉하여, 상기 기판 표면에 잔류하는 이물질을 제거하는 브러쉬 어셈블리를 포함하되,Including a brush assembly in contact with the substrate transported by the transfer shaft in the process, to remove the foreign matter remaining on the substrate surface, 상기 브러쉬 어셈블리는,The brush assembly, 공정시 기판과 접촉하여 기판 표면에 이물질을 제거시키는 브러쉬 몸체와,Brush body to contact with the substrate during the process to remove the foreign matter on the surface of the substrate, 상기 브러쉬 몸체에 삽입되는 고정샤프트와,A fixed shaft inserted into the brush body, 상기 브러쉬 몸체와 상기 고정샤프트 사이에 제공되는 베어링, 그리고A bearing provided between the brush body and the fixed shaft, and 상기 브러쉬 몸체가 상기 고정샤프트의 외주면을 따라 회전되도록 상기 브러쉬 몸체를 구동시키는 구동부재를 포함하고,It includes a drive member for driving the brush body so that the brush body is rotated along the outer peripheral surface of the fixed shaft, 상기 브러쉬 몸체는,The brush body, 상기 고정샤프트의 둘레를 감싸도록 제공되는 회전샤프트와,A rotary shaft provided to surround a circumference of the fixed shaft; 상기 회전샤프트의 둘레에 설치되며, 공정시 기판과 접촉하되는 브러쉬를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.And a brush disposed around the rotary shaft and brought into contact with the substrate during the process. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 브러쉬 어셈블리는,The brush assembly, 상기 고정샤프트의 양단을 각각 지지하는 고정프레임과,A fixed frame for supporting both ends of the fixed shaft, 상기 고정샤프트의 일단에 형성되는 나사산을 따라 회전되어 상기 고정샤프트의 일단이 상기 고정샤프트로부터 멀어지는 방향으로 인장시키는 인장너트를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.And a tension nut which is rotated along a thread formed at one end of the fixed shaft to tension one end of the fixed shaft in a direction away from the fixed shaft. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 브러쉬 어셈블리는,The brush assembly, 상기 고정샤프트의 타단에 형성되는 나사산을 따라 회전되어 상기 고정샤프트의 타단이 상기 고정샤프트로부터 멀어지는 방향으로 인장시키는 인장너트를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.And a tension nut which is rotated along a thread formed at the other end of the fixed shaft to tension the other end of the fixed shaft in a direction away from the fixed shaft. 공정시 기판과 접촉하여 기판 표면에 이물질을 제거시키는 브러쉬 몸체, 상기 브러쉬 몸체에 삽입되는 고정샤프트, 상기 브러쉬 몸체와 상기 고정샤프트 사이에 제공되는 베어링, 상기 고정샤프트의 양단을 각각 지지하는 고정프레임, 그리고 상기 고정샤프트의 일단에 형성되는 나사산을 따라 회전되어 상기 고정샤프트의 일단이 상기 고정샤프트로부터 멀어지는 방향으로 인장시키는 인장너트를 구비하는 브러쉬 어셈블리를 설치하되,Brush body for removing foreign matter on the surface of the substrate in contact with the substrate during the process, a fixed shaft inserted into the brush body, a bearing provided between the brush body and the fixed shaft, a fixed frame for supporting both ends of the fixed shaft, And installing a brush assembly having a tension nut which is rotated along a thread formed at one end of the fixed shaft to tension one end of the fixed shaft away from the fixed shaft. 상기 고정샤프트의 타단을 상기 고정프레임에 고정시킨 후 상기 인장너트의 회전에 의해, 상기 고정샤프트의 일단이 상기 고정프레임으로부터 멀어지는 방향으로 인장되도록 하여 상기 브러쉬 어셈블리를 설치하는 것을 특징으로 하는 브러쉬 어셈블리의 설치방법.After the other end of the fixed shaft is fixed to the fixed frame by the rotation of the tension nut, one end of the fixed shaft is to be tensioned in a direction away from the fixed frame to install the brush assembly of the brush assembly How to install.
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