KR20080058573A - 대면적 기판 건조장치 - Google Patents
대면적 기판 건조장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20080058573A KR20080058573A KR1020060132406A KR20060132406A KR20080058573A KR 20080058573 A KR20080058573 A KR 20080058573A KR 1020060132406 A KR1020060132406 A KR 1020060132406A KR 20060132406 A KR20060132406 A KR 20060132406A KR 20080058573 A KR20080058573 A KR 20080058573A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- air knife
- substrate
- area substrate
- mist
- drying
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B21/00—Arrangements or duct systems, e.g. in combination with pallet boxes, for supplying and controlling air or gases for drying solid materials or objects
- F26B21/004—Nozzle assemblies; Air knives; Air distributors; Blow boxes
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/13336—Combining plural substrates to produce large-area displays, e.g. tiled displays
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/67034—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for drying
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
본 발명은 대면적 기판 건조장치에 관한 것으로, 건조실을 전단부와 후단부로 분할하되, 그 전단부로부터 후단부로 기판의 이송이 가능하도록 하는 상부 및 하부 격벽과, 상기 이송되는 기판에 건조공기를 분사하여 기판을 건조시키되, 그 분사각도의 변경이 가능한 상부 및 하부 에어나이프와, 상기 상부 및 하부 격벽으로 부터의 승하강 조절이 가능하여 상기 분사각도에 무관하게 상부 및 하부 격벽과 상기 상부 및 하부 에어나이프 사이의 틈을 차폐하는 상부 및 하부 미스트 차폐부를 포함한다. 이와 같은 구성의 본 발명은 건조과정에서 발생하는 세정수 미스트가 건조가 이루어진 대면적 기판으로 이동하는 것을 방지하여, 세정수 미스트에 의해 대면적 기판이 오염되는 것을 방지할 수 있어, 건조장치의 신뢰성을 향상시킬 수 있으며, 수율 저하를 방지할 수 있는 효과가 있다.
Description
도 1은 종래 대면적 기판 건조장치의 구성도이다.
도 2는 본 발명 대면적 기판 건조장치의 바람직한 실시예에 따른 측면 구성도이다.
도 3은 도 2의 주요부분 사시도이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
10:대면적 기판 20:이송부
31:상부 에어나이프 32:하부 에어나이프
41:상부 격벽 42:하부 격벽
50:상부 미스트 차폐부 60:하부 미스트 차폐부
본 발명은 대면적 기판의 건조장치에 관한 것으로, 특히 평판 디스플레이 제조용 대면적 기판에 건조공기를 분사하여, 그 대면적 기판을 건조시키는 대면적 기판의 건조장치에 관한 것이다.
일반적으로, 대면적 기판의 건조장치는 에어나이프(air knife)를 사용하여 대면적 기판의 상면과 저면에 각각 건조공기를 분사하여, 대면적 기판의 표면을 건조시키는 장치이다.
상기 건조공기는 통상 정화 건조 공기(CDA, Clean Dry Air)로 통칭되고 있다. 이와 같은 건조공기의 분사에 의해 대면적 기판의 세정수는 미스트(mist) 상태로 그 건조장치의 배기부를 통해 배기된다.
그러나, 상기 에어나이프의 건조공기의 분사에 의해 발생된 세정수 미스트가 에어나이프의 후단, 즉 건조된 대면적 기판 측으로 이동하여 대면적 기판의 표면에 재부착 될 수 있었으며, 이와 같은 종래 대면적 기판 건조장치를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 1은 종래 대면적 기판 건조장치의 구성도이다.
도 1을 참조하면, 종래 대면적 기판 건조장치는 이송부(2)에 의해 이송되는 기판(1)에 건조공기를 분사하는 에어나이프(3)와, 상기 에어나이프(3)의 후단에서 세정수 미스트의 역류를 차단하는 격벽(4)을 포함하여 구성된다.
이와 같은 구조의 대면적 기판 건조장치는 상기 에어나이프(3)와 격벽(4)을 대면적 기판(1)의 저면도 건조할 수 있도록 이송부(2)의 하부측과 한 쌍으로 마련할 수 있다.
상기 에어나이프(3)에서 분사되는 건조공기는 상기 이송부(2)에 의해 이송되는 대면적 기판(1)에 존재하는 세정수를 미스트화하여 건조한다.
그러나, 이와 같은 과정에서 상기 세정수 미스트가 상기 에어나이프(3)와 격벽(4)의 사이를 통해 이미 건조된 대면적 기판(1)의 표면으로 이동할 수 있으며, 이와 같이 건조 후 대면적 기판(1)의 표면에 부착되는 세정수 미스트는 대면적 기판(1)에 물얼룩을 발생시킬 수 있게 된다.
상기와 같은 물얼룩은 대면적 기판(1)의 오염원으로 작용하여, 제품의 수율을 저하시키는 등의 문제점이 있었다.
상기와 같은 문제점을 감안한 본 발명은, 에어나이프의 후단으로 세정수 미 스트가 이동하는 것을 방지할 수 있는 대면적 기판 건조장치를 제공함에 그 목적이 있다.
또한 본 발명은, 에어나이프의 분사각도와 무관하게 그 에어나이프의 후단으로 세정수 미스트가 이동하는 것을 방지할 수 있는 대면적 기판 건조장치를 제공함에 다른 목적이 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 건조실을 전단부와 후단부로 분할하되, 그 전단부로부터 후단부로 기판의 이송이 가능하도록 하는 상부 및 하부 격벽과, 상기 이송되는 기판에 건조공기를 분사하여 기판을 건조시키되, 그 분사각도의 변경이 가능한 상부 및 하부 에어나이프와, 상기 상부 및 하부 격벽으로 부터의 승하강 조절이 가능하여 상기 분사각도에 무관하게 상부 및 하부 격벽과 상기 상부 및 하부 에어나이프 사이의 틈을 차폐하는 상부 및 하부 미스트 차폐부를 포함한다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세하게 설명한다. 그러나 이하의 실시예는 이 기술분야에서 통상적인 지식을 가진 자에게 본 발명이 충분히 이해되도록 제공되는 것으로서 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 다음에 기술되는 실시예에 한정되는 것은 아니다. 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다.
도 2는 본 발명 대면적 기판 건조장치의 바람직한 실시예에 따른 단면 구성도이고, 도 3은 본 발명 대면적 기판 건조장치 바람직한 실시예에 따른 사시도이다.
도 2 및 도 3을 각각 참조하면, 본 발명 대면적 기판 건조장치의 바람직한 실시예는, 이송부(20)에 의해 이송되는 대면적 기판(10)에 건조공기를 분사하는 상부 및 하부 에어나이프(31,32)와, 상기 대면적 기판(10)의 이송방향에 대하여 상부 및 하부 에어나이프(31,32)의 전단에 각각 위치하는 상부 및 하부 격벽(41,42)과, 상기 상부 및 하부 격벽(41,42)에 고정 설치되어 끝단이 상기 상부 및 하부 에어나이프(31,32)에 접하는 상부 및 하부 미스트 차폐부(50, 60)를 포함한다.
상기 상부 미스트 차폐부(50)는 상기 상부 격벽(41)에 고정되며, 높이조정수단이 마련된 다수의 본체(51)와, 상기 다수의 본체(51)에 각각 수직방향으로 관통되어 위치하며, 상기 본체의 높이조정수단에 의해 수직방향으로의 높이가 조정되는 높이조정축(52)과, 상기 상부 격벽(41)의 길이방향으로 밀착되어 위치하며, 상기 높이조정축(52)의 끝단에 연결되는 차폐판(53)으로 구성된다.
상기 하부 미스트 차폐부(60)는 상기 하부 격벽(42)에 고정되며, 높이조정수단이 마련된 다수의 본체(61)와, 상기 다수의 본체(61)에 각각 수직방향으로 관통되어 위치하며, 상기 본체의 높이조정수단에 의해 수직방향으로의 높이가 조정되는 높이조정축(62)과, 상기 하부 격벽(42)의 길이방향으로 밀착되어 위치하며, 상기 높이조정축(62)의 끝단에 연결되는 차폐판(63)으로 구성된다.
상기 높이조정수단은 높이조정축(52,62)의 회전에 의해 높이가 조정되는 것이거나, 상기 본체(51,61)의 중앙부에 위치하여 회전에 의해 높이조정축(52,62)의 높이를 조정하는 높이조정용 너트일 수 있다.
상기와 같이 구성되는 본 발명의 바람직한 실시예의 구성과 작용을 보다 상세히 설명한다.
먼저, 이송부(20)에 의해 이송되는 대면적 기판(10)이 건조실(70)로 이송된다.
이때 건조실(70)은 상부 격벽(41)과 하부 격벽(42)에 의해 전단부(71)과 후단부(72)으로 구분될 수 있으며, 그 전단부(71)에서 상부 에어나이프(31)와 하부 에어나이프(32)에서 분사되는 건조공기에 의해 건조가 이루어진다.
상기 상부 격벽(41)과 하부 격벽(42)은 상부 에어나이프(31)와 하부 에어나이프(20)의 전단에 위치한다. 즉, 상부 에어나이프(31)와 하부 에어나이프(32)는 실질적으로 상기 건조실(70)의 후단부(72)에 위치하여, 전단부(71) 측으로 건조공기를 분사한다.
상기 상부 에어나이프(31)와 하부 에어나이프(32)가 후단부(72)에 위치함으로써, 상기 상부 격벽(41)과 하부 격벽(42)을 기판(10)을 향해 종래에 비해 더 길게 위치시킬 수 있으며, 따라서 상부 및 하부 격벽(41,42)에 의한 미스트 차단효과 를 높일 수 있다.
상기의 예에서는 그 상부 및 하부 에어나이프(31,32)가 후단부(72)에 위치하는 것으로 설명하였으나, 상기 상부 격벽(41)과 하부 격벽(42)의 사이에 위치할 수 있다.
상기 상부 격벽(41)과 하부 격벽(42)의 전단부(71) 방향의 일면에는 각각 상부 미스트 차폐부(50)와 하부 미스트 차폐부(60)가 마련되어 있다.
상기 상부 미스트 차폐부(50)와 하부 미스트 차폐부(60)는 각각의 높이를 조정할 수 있는 것이며, 상기 상부 에어나이프(31)와 하부 에어나이프(32)의 상면과 저면측에 각각 접촉된다.
이와 같은 구성에 의하여 상기 상부 에어나이프(31)와 하부 에어나이프(32)에서 분사되는 건조공기에 의해 대면적 기판(10)의 세정수가 미스트(mist)가 되어 상기 건조실(70)의 전단부(71)에 부유하며, 그 건조실(70)의 전단 상부측에 마련된 배기부(73)에 의해 배기된다.
이때, 상기 상부 격벽(41)과 상부 에어나이프(31)의 사이, 상기 하부 격벽(42)과 하부 에어나이프(32)의 사이를 각각 차폐하는 상부 미스트 차폐부(50)와 하부 미스트 차폐부(60)에 의해 그 세정수 미스트는 건조실(70)의 후단부(72)으로 이동하지 못하게 된다.
상기 상부 미스트 차폐부(50)와 하부 미스트 차폐부(60)는 각각 상기 전단부(71) 측의 상부 격벽(41)과 하부 격벽(42)의 일면에 고정되는 본체(51,61)가 마련되어 있으며, 그 본체(51,61)에는 높이조정축(52,62)의 높이를 조정할 수 있는 수단이 마련된다.
상기 그 높이조정수단은 고정된 본체(51,61)에서 각각 상부 에어나이프(31)와 하부 에어나이프(32) 측으로 상기 높이조정축(52,62)의 높이를 조정할 수 있는 것이면 어느 것이나 사용이 가능하며, 그 예로는 본체(51,61)에 그 높이조정축(52,62)의 회전에 따라 높이가 조정될 수 있도록 나사공이 마련되거나, 높이조정용 너트가 마련된 것일 수 있다. 이때, 높이조정축(52,62)은 그 차폐판(53,63)에 회전가능한 상태로 연결된다.
상기 높이조정축(52,62)의 높이 조정에 따라 그 일단에 고정되는 차폐판(53,63)은 각각 상기 상부 에어나이프(31)의 상면 및 하부 에어나이프(32)의 저면과 밀착될 수 있다. 이와 같은 차폐판(53,63) 높이 변경에 의해 상기 상부 에어나이프(31)와 하부 에어나이프(32)의 분사각도 조정, 높이의 조정 등에 따라 그 차폐판(53,63)의 위치를 변경하여 차폐상태를 유지할 수 있게 된다.
상기 차폐판(53,63)의 끝단은 상기 건조실(70)의 후단부(72) 측으로 절곡되어 있으며, 그 절곡에 의하여 상기 후단부(72) 측에 위치하는 상부 에어나이프(31) 와 상부 격벽(41)의 사이, 하부 에어나이프(32)와 하부 격벽(42)의 사이를 완전하게 차폐할 수 있게 된다.
따라서 본 발명 대면적 기판 건조장치는 건조과정에서 발생하는 세정수 미스트가 건조가 이루어진 후단부(72) 측의 대면적 기판(10)으로 이동하는 것을 방지할 수 있으며, 특히 상부 및 하부 에어나이프(31,32)의 각도 및 높이가 변경되는 경우에도 용이하게 상부 격벽(41)과 상부 에어나이프(31)의 사이, 하부 격벽(42)과 하부 에어나이프(41)의 사이를 차폐할 수 있게 된다.
이상에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시 예들을 들어 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시 예들에 한정되지 않으며 본 발명의 개념을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능하다.
상기한 바와 같이 본 발명은, 건조과정에서 발생하는 세정수 미스트가 건조가 이루어진 대면적 기판으로 이동하는 것을 방지하여, 세정수 미스트에 의해 대면적 기판이 오염되는 것을 방지할 수 있어, 건조장치의 신뢰성을 향상시킬 수 있으며, 수율 저하를 방지할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명은, 에어나이프의 분사각도 변경 및 높이의 변경이 이루어지는 경우에도 에어나이프와 격벽의 사이의 틈을 완전하게 차단할 수 있게 됨으로써, 건조공정의 신뢰성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
Claims (4)
- 건조실을 전단부와 후단부로 분할하되, 그 전단부로부터 후단부로 기판의 이송이 가능하도록 하는 상부 및 하부 격벽;상기 이송되는 기판에 건조공기를 분사하여 기판을 건조시키되, 그 분사각도의 변경이 가능한 상부 및 하부 에어나이프; 및상기 상부 및 하부 격벽으로 부터의 승하강 조절이 가능하여 상기 분사각도에 무관하게 상부 및 하부 격벽과 상기 상부 및 하부 에어나이프 사이의 틈을 차폐하는 상부 및 하부 미스트 차폐부를 포함하는 대면적 기판 건조장치.
- 제2항에 있어서,상기 상부 및 하부 미스트 차폐부 각각은,상기 상부 및 하부 격벽에 각각 고정되며, 높이조정수단을 구비하는 본체;상기 본체의 높이조정수단에 의해 상기 상부 및 하부 에어나이프 측으로의 높이가 조정되는 높이조정축; 및상기 높이조정축의 일단에 고정되며, 일면이 상기 상부 및 하부 격벽에 각각 밀착되고, 끝단이 상기 상부 및 하부 에어나이프에 접촉되는 차폐판을 포함하는 대면적 기판 건조장치.
- 제2항에 있어서,상기 본체는,상기 건조실의 전단부측 상부 격벽과 하부 격벽의 일면에 각각 고정되는 것을 특징으로 하는 대면적 기판 건조장치.
- 제2항에 있어서,상기 차폐판은,상기 상부 에어나이프 및 하부 에어나이프와의 접촉이 용이하도록, 그 접촉부분이 상기 건조실의 후단부측으로 절곡된 것을 특징으로 하는 대면적 기판 건조장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060132406A KR20080058573A (ko) | 2006-12-22 | 2006-12-22 | 대면적 기판 건조장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060132406A KR20080058573A (ko) | 2006-12-22 | 2006-12-22 | 대면적 기판 건조장치 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20080058573A true KR20080058573A (ko) | 2008-06-26 |
Family
ID=39803920
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020060132406A KR20080058573A (ko) | 2006-12-22 | 2006-12-22 | 대면적 기판 건조장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR20080058573A (ko) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108050824A (zh) * | 2017-12-11 | 2018-05-18 | 广州恒尚科技有限公司 | 一体化气刀及其增材制造方法 |
CN108613540A (zh) * | 2018-04-08 | 2018-10-02 | 杭州娃哈哈精密机械有限公司 | 一种易于安装调整的风刀除水装置 |
-
2006
- 2006-12-22 KR KR1020060132406A patent/KR20080058573A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108050824A (zh) * | 2017-12-11 | 2018-05-18 | 广州恒尚科技有限公司 | 一体化气刀及其增材制造方法 |
CN108613540A (zh) * | 2018-04-08 | 2018-10-02 | 杭州娃哈哈精密机械有限公司 | 一种易于安装调整的风刀除水装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2008029938A (ja) | 塗布方法及び塗布装置 | |
JP2008290031A (ja) | ノズル洗浄装置 | |
CN107433240B (zh) | 喷嘴清扫装置、涂覆装置及喷嘴清扫方法 | |
US10157754B2 (en) | Liquid knife cleaning device | |
KR20080010307A (ko) | 기판의 처리 장치 | |
KR20080011067A (ko) | 기판의 처리 장치 | |
KR20080058573A (ko) | 대면적 기판 건조장치 | |
CN106733821A (zh) | 一种氧化铝半导体清洗装置 | |
JP6014313B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
CN109373743B (zh) | 风刀及采用该风刀的干燥装置 | |
KR100691473B1 (ko) | 기판건조용 에어나이프 모듈 및 이를 이용한 기판건조장치 | |
JP2006300409A (ja) | 乾燥装置 | |
US20160178279A1 (en) | Substrate edge residue removal systems, apparatus, and methods | |
KR102341061B1 (ko) | 기판 세정 장치 | |
CN108906735A (zh) | 一种转印板清洗装置 | |
KR100725038B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
KR100608452B1 (ko) | 플라즈마를 이용한 tft-lcd 세정방법 및 이를이용한 tft-lcd제조장비 | |
KR100815521B1 (ko) | 기판건조장치 | |
KR102657774B1 (ko) | 에어나이프 모듈 어셈블리 및 이를 이용한 기판건조장치 | |
KR20170093872A (ko) | 기판 처리 장치 | |
KR102552721B1 (ko) | 기판 세정장치 | |
KR200317728Y1 (ko) | 에어로졸을 이용한 리드프레임 세정장치 | |
KR102177380B1 (ko) | 기판 세정 장치 | |
KR20130091576A (ko) | 기판처리장치 | |
KR100691479B1 (ko) | 대면적 기판의 식각장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E601 | Decision to refuse application |