KR20080055321A - 렌즈 수차 보정 방법 및 이의 수행이 가능한 투영 노광장치 - Google Patents

렌즈 수차 보정 방법 및 이의 수행이 가능한 투영 노광장치 Download PDF

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KR20080055321A
KR20080055321A KR1020060128484A KR20060128484A KR20080055321A KR 20080055321 A KR20080055321 A KR 20080055321A KR 1020060128484 A KR1020060128484 A KR 1020060128484A KR 20060128484 A KR20060128484 A KR 20060128484A KR 20080055321 A KR20080055321 A KR 20080055321A
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삼성전자주식회사
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Abstract

다양한 비점 수차를 제거하기 위한 렌즈 수차 보정 방법 및 이의 수행이 가능한 투영 노광 장치에 있어서, 상기 렌즈 수차 보정 방법은 우선, 렌즈로 광을 조사한다. 상기 렌즈를 변형시켜 상기 광의 수차를 일차 보정하고, 상기 변형된 상태의 렌즈를 회전시켜 상기 광의 수차를 이차 보정한다. 상기 일차 보정으로 90°수차를 보정하고, 상기 이차 보정으로 다양한 각도의 수차를 보정할 수 있다.

Description

렌즈 수차 보정 방법 및 이의 수행이 가능한 투영 노광 장치{Method of compensating lens aberration and projection exposure apparatus capable of performing the same}
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 투영 노광 장치를 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.
도 2는 도 1에 도시된 투영 노광 장치의 투영 광학 시스템을 설명하기 위한 개략적인 단면도이다.
도 3은 도 2에 도시된 투영 광학 시스템의 수차 보정용 렌즈를 설명하기 위한 개략적인 사시도이다.
도 4는 도 1에 도시된 투영 장치를 이용한 렌즈 수차 보정 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
100 : 투영 노광 장치 102 : 조명 광학 시스템
110 : 광원 104 : 투영 광학 시스템
106 : 레티클 스테이지 176 : 수차 보정용 렌즈
178 : 제2 지지유닛 180 : 고정 유닛
182 : 제1 작동기 184 : 제2 작동기
본 발명은 렌즈 수차 보정 방법 및 이의 수행이 가능한 투영 노광 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 렌즈의 비점 수차를 보정하는 방법 및 이의 수행이 가능한 투영 노광 장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 자치는 반도체 기판으로 사용되는 실리콘웨이퍼 상에 전기적인 회로를 형성하는 팹(FAB) 공정과, 상기 팹 공정에서 형성된 반도체 장치들의 전기적인 특성을 검사하는 EDS(electrical die sorting) 공정과, 상기 반도체 장치들을 각각 에폭시 수지로 봉지하고 개별화시키기 위한 패키지 조립 공정을 통해 제조된다.
상기 팹 공정은 다양한 단위 공정들을 포함하며, 상기 단위 공정들은 반도체 기판 상에 전기적 소자를 형성하기 위해 반복적으로 수행된다. 상기 단위 공정들은 증착 공정, 포토리소그래피 공정, 식각 공정, 화학적 기계적 연마 공정, 이온 주입 공정, 세정 공정들을 포함한다.
상기 포토리소그래피 공정은 증착 공정을 통해 반도체 기판 상에 형성된 막을 전기적 특성을 갖는 패턴으로 형성하기 위한 포토레지스트 패턴을 상기 막 상에 형성하기 위해 수행된다. 상기 포토레지스트 패턴은 상기 패턴을 형성하기 위한 식각 공정에서 마스크로써 사용된다.
상기 포토리소그래피 공정은 반도체 기판 상에 포토레지스트 막을 형성하기 위한 포토레지스트 코팅 공정과, 상기 포토레지스트 막을 경화하기 위한 베이킹 공정과, 상기 경화된 포토레지스트 막 상에 레티클 패턴과 대응되는 포토레지스트 패턴을 형성하기 위한 노광 및 현상 공정 등을 포함한다.
최근 반도체 회로 선폭의 미세화를 위해 보다 짧은 파장이 조명 광원을 요구하고 있다. 따라서, 상기 조명 광원은 수은 램프로부터 발생되는 436nm의 파장을 갖는 g-line 광 빔, 365nm의 파장을 갖는 i-line 광 빔, KrF 엑시머 레이저(excimer laser)로부터 발생되는 248nm의 파장을 갖는 KrF 레이저 빔, ArF 엑시머 레이저로부터 발생되는 198nm의 파장을 갖는 ArF 레이저 빔, F2 엑시머 레이저로부터 발생되는 157nm의 파장을 갖는 F2 레이저빔으로 짧은 파장을 갖은 광원으로 발전하고 있다.
광의 파장이 짧아질수록 광의 에너지를 커지며, 상기 에너지가 큰 광 빔이 투영 렌즈들을 통과하는 동안 상기 렌즈들은 상기 광 빔의 에너지에 의해 팽창하게 된다. 상기 팽창된 렌즈를 통과한 광은 비점수차가 발생하게 된다.
상기 비점수차를 보정하기 위하여 상기 투영 광학 시스템 내에 수차 보정 렌즈를 구비하는데, 상기 수차 보정 렌즈가 일 방향으로 휨으로써 상기 비점수차를 보정한다.
그러나. 상기 휨을 이용하여 보정되는 비점수차는 90°수차만 보정이 가능하여 다양한 각도에서의 비점수차를 보정하는데는 한계가 있다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 일 목적은 다양한 각도에서 발생되는 비점수차를 보정하는 렌즈 수차 보정 방법을 제공하는데 있다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 다른 목적은 상기 렌즈 수차 보정 방법의 수행이 가능한 투영 노광 장치를 제공하는데 있다.
상기 일 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 측면에 따르면, 렌즈 수차 보정 방법에 있어서, 렌즈로 광을 조사한다. 상기 렌즈를 변형시켜 상기 광의 수차를 일차 보정한다. 상기 변형된 상태의 렌즈를 회전시켜 상기 광의 수차를 이차 보정한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 광은 기판 상에 전사하기 위한 이미지 패턴을 갖는 마스크 패턴을 통과한 광일 수 있다.
상기 다른 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 측면에 따르면, 투영 노광 장치는, 광원과, 상기 광원으로부터 발생된 광을 기판 상에 전사하기 위한 이미지 패턴을 갖는 마스크 상으로 유도하기 위한 조명 광학 시스템과, 상기 마스크를 통과한 투영광을 상기 기판으로 투영하기 위하여 다수의 렌즈들을 포함하는 투영 광학 시스템과, 상기 렌즈들 사이에 배치되며, 상기 투영 광학 시스템의 수차를 보정하기 위한 수차 보정용 렌즈와, 상기 수차를 일차 보정하기 위하여 상기 수차 보정용 렌즈를 변형시키는 제1 작동기와, 상기 수차를 이차 보정하기 위하여 상기 변형된 수차 보정용 렌즈를 회전시키는 제2 작동기를 포함한다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 투영 노광 장치는, 상기 렌즈를 지지 하는 지지유닛과, 상기 지지유닛 상에 구비되고, 상기 렌즈의 가장자리 일부를 고정시키기 위한 다수의 고정 유닛들을 더 포함할 수 있으며, 상기 제2 작동기는 상기 지지유닛과 연결될 수 있다.
상기와 같은 본 발명에 따르면, 수차 보정 렌즈가 변형되고 회전함으로써, 다양한 각도의 수차를 보정할 수 있다.
이하, 본 발명에 따른 실시예들을 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명하면 다음과 같다. 그러나, 본 발명은 하기의 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구현될 수도 있다. 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 보다 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상과 특징이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공된다. 도면들에 있어서, 각 장치 또는 막(층) 및 영역들의 두께는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 과장되게 도시되었으며, 또한 각 장치는 본 명세서에서 설명되지 아니한 다양한 부가 장치들을 구비할 수 있으며, 막(층)이 다른 막(층) 또는 기판 상에 위치하는 것으로 언급되는 경우, 다른 막(층) 또는 기판 상에 직접 형성되거나 그들 사이에 추가적인 막(층)이 개재될 수 있다.
이하, 본 발명의 실시예에 따른 투영 노광 장치에 대해 상세하게 설명하면 다음과 같다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 투영 노광 장치를 설명하기 위한 개략적인 단면도이고, 도 2는 도 1에 도시된 투영 노광 장치의 투영 광학 시스템을 설명 하기 위한 개략적인 단면도이고, 도 3은 도 2에 도시된 투영 광학 시스템의 수차 보정용 렌즈를 설명하기 위한 개략적인 사시도이다.
도 1을 참조하면, 투영 노광 장치(100)는, 광원(110)과, 상기 광원(110)으로부터 발생된 광을 기판(W) 상에 전사시키기 위한 이미지 패턴들을 갖는 레티클(R) 상으로 유도하기 위한 조명 광학 시스템(102)과, 상기 레티클(R)을 지지하는 레티클 스테이지와, 상기 마스크를 통과한 투영광을 상기 기판(W) 상으로 투영하기 위하여 다수의 렌즈들을 포함하는 투영 광학 시스템(104)과, 투영 광학 시스템(104)의 렌즈 수차를 보정하기 위한 수차 보정용 렌즈와, 상기 수차 보정용 렌즈와 연결된 제1 작동기 및 제2 작동기와, 상기 반도체 기판(W)을 지지하기 위한 기판 스테이지를 포함한다.
광원(110)은 수은 램프로부터 발생되는 436nm의 파장을 갖는 g-line 광 빔, 365nm의 파장을 갖는 i-line 광 빔, KrF 엑시머 레이저(excimer laser)로부터 발생되는 248nm의 파장을 갖는 KrF 레이저 빔, ArF 엑시머 레이저로부터 발생되는 198nm의 파장을 갖는 ArF 레이저 빔, F2 엑시머 레이저로부터 발생되는 157nm의 파장을 갖는 F2 레이저 빔 등을 사용할 수 있다.
상기 광원(110)은 반도체 소자의 패턴 선폭이 좁아짐에 따라 짧은 파장을 갖는 광원(110)으로 발전하고 있다. 그리고, 상기 광원(110)의 파장이 짧아질수록 상기 광원(110)으로부터 발생되는 광 빔의 에너지가 증가하게 된다.
상기 광원(110)으로부터 조사된 광 빔은 상기 투영 노광 장치(100)의 바디에 대하여 광 경로를 정합하기 위한 빔 매칭 유닛(beam matching unit; BMU, 112)과 광 감쇠기(light attenuator, 114)를 통해 빔 형상화 유닛(beam shaping unit)으로 입사된다. 상기 빔 형상화 유닛은 기 설정된 광축을 따라 배열된 제1 렌즈부(116)와 제2 렌즈부(118)를 포함할 수 있다. 상기 반도체 기판(W) 상에 형성된 포토레지스트 막에 대한 노광량을 제거하는 노광 제어 시스템(exposure control system, 120)은 상기 광원(110)의 광 방출의 시작과 종료 및 출력(진동 주파수(oscillation frequency) 및 펄스 에너지(pulse energy))을 제어하며, 상기 광 감쇠기(114)의 감쇠 비율(dimming ratio)을 연속적으로 또는 단계적으로 조절한다.
조명 광학 시스템(102)은, 외부 공기로부터 내부를 밀봉하기 위한 하우징(housing, 도시되지 않음)과, 제1 플라이 아이 렌즈(first fly's eye system, 122), 제1 반사경(126), 제2 플라이 아이 렌즈(second fly's eye system, 130), 릴레이 광학 유닛(relay optical unit, 124, 128), 애퍼처 플레이트(aperture plate, 132), 빔 스플리터(beam splitter, 146), 광 집적 렌즈(light-collecting lens, 148), 적분 센서(150), 제2 반사경(156), 이미지 형성 렌즈 유닛(image-forming lens unit, 158), 보조 집광 렌즈 유닛(160) 및 주 집광 렌즈 유닛(162) 등을 포함한다.
상기 빔 형상화 유닛을 통과한 광 빔은 일차 광학 적분기(first stage optical integrator) 또는 균일화 부재(uniformizer or homogenizer)로서 기능하는 제1 플라이 아이 렌즈(first fly's eye lens, 122)로 입하된다. 상기 제1 플라이 아이 렌즈(122)로부터 출사된 광 빔은 제3 렌즈부(134)를 통해 광 경로 변환 부 재(optical path-bending member)로서 기능하는 제1 반사경(126)으로 입사되며, 상기 제1 반사경(126)에 의해 반사된 광은 제4 렌즈부(128)를 통해 이차 광학 적분기로서 기능하는 제2 플라이 아이 렌즈(130)로 입사된다. 상기 광 집적 광학 유닛(light-collecting optical unit)으로서 기능하는 릴레이 광학 유닛(relay optical unit)은 상기 제3 렌즈부(124) 및 제4 렌즈부(128)에 의해 구현될 수 있다.
제2 플라이 아이 렌즈(130)를 통해 출사된 광 빔은 레티클 패턴의 형상에 따라 선택된 애퍼처 플레이트(aperture plate, 132)를 통과함으로써 특정 형태를 갖는 조명광으로 형성된다. 상기 애퍼처 플레이트(132)들의 예로서는 마주하는 한 쌍의 폴들(poles)을 갖는 이중극 조명광을 형성하기 위한 이중극 애퍼처 플레이트, 레티클(R) 상의 X축 및 Y축 상에서 서로 마주하여 위치하는 4개의 폴들을 갖는 크로스-폴 조명광을 형성하기 위한 크로스-폴 애퍼처 플레이트, 레티클(R) 상의 X축 및 Y축을 기준으로 서로 마주하는 4개의 폴들을 갖는 사중극 조명광을 형성하기 위한 사중극 애퍼처 플레이트, 레티클(R) 상의 X축 및 Y축을 기준으로 서로 대향하여 배치되는 6개의 폴들을 갖는 육증극 조명광을 형성하기 위한 육중극 애퍼처 플레이트 등이 있다.
상기 선택된 애퍼처 플레이트(132)를 통과한 조명광은 빔 스플리터(beam splitter, 146)로 입사된다. 상기 빔 스플리터(146)에 의해 반사된 조명광은 광 집적 렌즈(light-collecting lens, 148)를 통해 광전 검출기(photoelectric detector)로 구성된 적분 센서(150)로 입사되며, 상기 적분 센서(150)의 검출 신호 는 노광 제어 시스템(20)으로 제공된다. 상기 노광 제어 시스템(20)은 상기 검출 신호에 따라 조명광의 조도와 그의 적분 값을 간접적으로 모니터링한다.
상기 빔 스플리터(146)를 통과한 조명광은 제5 렌즈부(152)와 제6 렌즈부(154)를 순차적으로 통과한 후, 제2 반사경(156)에 의해 이미지 형성 렌즈 유닛(158)으로 입사되며, 상기 이미지 형성 렌즈 유닛(158)을 통과한 조명광은 보조 집광 렌즈 유닛(160)과 주 집광 렌즈 유닛(162)을 순차적으로 통과하여 상기 레티클(R) 상으로 입사된다.
한편, 도시되어 있지는 않았으나, 상기 제2 플라이 아이 렌즈(130)와 제5 렌즈부(152) 및 제6 렌즈부(154)는 상기 조명광의 광속 밀도(flux density), 크기, 위치 등을 조절하기 위하여 구동 시스템(도시되지 않음)에 의해 제어되는 구동부들에 의해 상기 조명광의 광축을 따라 이동될 수 있다.
레티클 스테이지(106)는 상기 주 집광 렌즈 유닛(162) 아래에서 레티클 베이스(164) 상에 이동 가능하도록 배치되며 레티클(R)을 지지한다. 상기 레티클 스테이지(106)는 상기 반도체 기판(W)에 대한 노광 공정이 수행되는 동안 미세하게 X축 및 Y축 방향으로 이동 가능하고 회전도 가능하게 배치된다.
상기 레티클(R)을 통과함으로써 이미지 정보를 갖는 조명광은 투영 광학 시스템(104)을 통해 반도체 기판(W) 상으로 조사된다. 상기 반도체 기판(W)을 지지하고 지지하는 기판 스테이지(108)는 기판 베이스 상에서 이차원적으로 이동 가능하게 배치되며, 상기 노광 공정이 수행되는 동안 상기 레티클 스테이지(106)의 이동 방향에 대하여 반대 방향으로 이동한다. 또한, 반도체 기판(W)의 샷 영역들에 대하 여 반복적으로 노광 공정을 수행하기 위하여 X축 방향 및 Y축 방향으로 스텝핑 방식(stepping manner)으로 이동한다. 그리고 기판 스테이지(108)의 레벨링 메커니즘은 자동 포커스 센서의 측정값에 기초하여 구동되며, 이에 따라 포커싱 위치가 조절될 수 있다.
도 2를 참조하면, 투영 광학 시스템(104)은 외부 공기로부터 내부를 밀봉하기 위한 하우징(housing, 168)과, 상기 하우징(168) 내부에 구비된 다수의 투영 렌즈(170)들을 포함하는 투영 렌즈 어레이와, 상기 하우징(168) 내부에 구비되고 상기 투영 렌즈들의 수차를 보정하기 위한 수차 보정용 렌즈(176)와, 상기 수차 보정용 렌즈(176)와 연결된 제1 작동기(182) 및 제2 작동기(184)를 포함한다.
투영 렌즈(170)들은 상기 레티클(R)을 통과한 투영광을 기판 스테이지(108)에 지지된 반도체 기판(W) 상으로 축소 투영시킨다. 보통 상기 축소 비율은 상기 레티클 패턴의 1/4배 정도이다.
또한, 상기 투영 렌즈(170)들은 하우징(168) 내부에 배치된 제1 지지유닛(172)들 상에 지지된다. 그리고 상세하게 도시되어 있지는 않지만, 상기 제1 지지유닛(172)들은 각각 구동 유닛(174)에 의해 인접한 제1 지지유닛(172)들 사이의 간격을 조절할 수 있으며, 상기 각각의 투영 렌즈(170)들을 회전시킬 수도 있다.
전술한 바와 같이 광원(110)으로부터 조사되는 광 빔의 파장이 짧아짐으로써 상기 광 빔의 에너지가 증가하게 된다. 상기와 같이 높은 에너지를 갖는 광 빔이 상기 투영 렌즈(170)들을 통과하는 동안 상기 광 빔 모두가 상기 투영 렌즈(170)들 투과하지 않고 일부는 상기 투영 렌즈(170)들에 흡수된다.
상기와 같이 투영 렌즈(170) 내부로 상기 광 빔의 에너지 일부가 흡수되고, 상기 광 에너지는 열 에너지로 변화되어 상기 투영 렌즈(170)들을 팽창시킨다. 상기 팽창된 투영 렌즈(170)들을 투과하는 광은 비점수차를 가질 수 있다. 상기 비점수차는 광학계가 수직하는 두 개의 광 다발에 대해서 서로 다른 광학적인 힘을 가질 때 나타나는 수차이다.
도 3을 참조하면, 수차 보정용 렌즈(176)는 상기 비점수차를 보정하기 위한 렌즈이다. 이때, 상기 수차 보정용 렌즈(176)는 비점수차의 수차 정도 및 방향에 따라 변형되거나 회전함으로써 상기 수차를 보정할 수 있다.
상기 수차 보정용 렌즈(176)는 제1 작동기(182)와 연결되어 있다. 상기 제1 작동기(182)는 상기 수차 보정용 렌즈(176)의 형태를 변형시키는 작용력(actuating force)을 제공한다. 상기 작용력으로는 압력 및 정전기 등을 사용할 수 있다.
또한, 상기 수차 보정용 렌즈(176)는 상기 하우징(168) 내부에 구비되며, 제2 지지유닛(178)에 의해 지지된다. 상기 제2 지지유닛(178) 상에는 다수의 고정 유닛(180)들이 구비되어 있다. 상기 다수의 고정 유닛들(180)은 상기 수차 보정용 렌즈(176) 가장자리의 일부를 고정시킨다.
이로써, 상기 수차 보정용 렌즈(176)가 제1 작동기(182)에 의해 작용력을 제공받는 동안 상기 수차 보정용 렌즈(176)가 상기 고정 유닛(180)들에 의해 가장자리의 일부가 고정되어 도시된 바와 같이 변형될 수 있다.
그리고, 상기 수차 보정용 렌즈(176)를 지지하는 제2 지지유닛(178)은 제2 작동기(184)와 연결되어 있다. 상기 제2 작동기(184)는 상기 제2 지지유닛(178)을 회전시켜 상기 수차 보정용 렌즈(176)를 회전시킨다.
상기와 같이 상기 수차 보정용 렌즈(176)를 변형시키고, 회전시킴으로써 다양한 각도의 비점수차를 보정할 수 있다.
기판 스테이지(108)는 반도체 기판(W)을 지지하며, 상기 반도체 기판(W)을 목적하는 위치에 정렬시킨다. 그리고 전술한 바와 같이 상기 레티클 스테이지(106)와 반대 방향으로 이동함으로써 상기 기판 스테이지(108) 상에 구비된 반도체 기판(W) 상에 형성된 포토레지스트 막을 목적하는 패턴을 가지도록 노광시킬 수 있다.
이하, 상술한 투영 노광 장치를 이용하여 렌즈 수차 보정을 수행하는 방법을 설명하기로 한다.
도 4는 도 1에 도시된 투영 노광 장치를 이용하여 렌즈 수차 보정을 수행하는 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도 4를 참조하면, 광원으로부터 광 빔이 발생되고, 상기 광 빔은 조명 광학 시스템을 통과하여 레티클로 제공된다.(단계 S100) 상기 레티클을 투과한 광 빔은 상기 레티클의 마스크 패턴 이미지 정보를 가진 투영광으로 변환된다. 상기 투영광은 투영 광학 시스템으로 제공된다.(단계 S120)
상기 투영 광학 시스템의 투영 렌즈 어레이를 통과한 후, 상기 투영광은 수차 보정용 렌즈로 제공된다.
상기 수차 보정용 렌즈는 상기 수차를 일차 보정하기 위하여 제1 작동기로부 터 작용력을 제공받아 변형된다. 상기 변형된 수차 보정용 렌즈에 의해 90°수차가 일차 보정된다.(단계 S130)
상기 변형된 수차 보정용 렌즈를 회전시킴으로써, 다양한 각도의 수차가 이차 보정된다.(단계 S140) 상기 회전각에 따라 보정되는 각도가 변화될 수 있다.
상기와 같이 수차 보정이 된 투영광은 투영 광학 시스템을 통해 축소 투영된 광으로 변환되어 기판 스테이지 상에 지지된 반도체 기판 상으로 조사된다.
상기와 같이 변형된 수차 보정용 렌즈를 회전시킴으로써 다양한 각도의 수차를 보정할 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 상기와 같이 수차 보정 렌즈를 변형되고 회전시킴으로서, 다양한 각도의 비점 수차를 보정할 수 있다. 따라서, 상기 수차 보정 렌즈를 포함하는 노광 장치를 이용하여 포토레지스트 패턴을 형성하면, 상기 포토레지스트 패턴이 보다 정확하게 형성될 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims (4)

  1. 렌즈(lens)로 광을 조사하는 단계;
    상기 렌즈를 변형시켜 상기 광의 수차(aberration)를 일차 보정하는 단계; 및
    상기 변형된 상태의 렌즈를 회전시켜 상기 광의 수차를 이차 보정하는 단계를 포함하는 렌즈 수차 보정 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 광은 기판 상에 전사하기 위한 이미지 패턴을 갖는 마스크를 통과한 광인 것을 특징으로 하는 렌즈 수차 보정 방법.
  3. 광원(light source);
    상기 광원으로부터 발생된 광을 기판 상에 전사하기 위한 이미지 패턴을 갖는 마스크 상으로 유도하기 위한 조명 광학 시스템;
    상기 마스크를 통과한 투영광을 상기 기판 상으로 투영하기 위하여 다수의 렌즈들을 포함하는 투영 광학 시스템;
    상기 렌즈들 사이에 배치되며, 상기 투영 광학 시스템의 수차를 보정하기 위한 수차 보정용 렌즈;
    상기 수차를 일차 보정하기 위하여 상기 수차 보정용 렌즈를 변형시키는 제1 작동기(actuator); 및
    상기 수차를 이차 보정하기 위하여 상기 변형된 수차 보정용 렌즈를 회전시키는 제2 작동기를 포함하는 투영 노광 장치.
  4. 제2항에 있어서, 상기 렌즈를 지지하는 지지유닛; 및
    상기 지지유닛 상에 구비되고, 상기 렌즈의 가장자리 일부를 고정시키기 위한 다수의 고정 유닛들을 더 포함하며,
    상기 제2 작동기는 상기 지지유닛과 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 투영 노광 장치.
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