KR20080049560A - 공기분사장치 - Google Patents

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KR20080049560A
KR20080049560A KR1020060120225A KR20060120225A KR20080049560A KR 20080049560 A KR20080049560 A KR 20080049560A KR 1020060120225 A KR1020060120225 A KR 1020060120225A KR 20060120225 A KR20060120225 A KR 20060120225A KR 20080049560 A KR20080049560 A KR 20080049560A
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spray apparatus
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KR1020060120225A
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김성호
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엘지디스플레이 주식회사
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    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
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    • H01L21/67063—Apparatus for fluid treatment for etching
    • H01L21/67075—Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching
    • H01L21/6708—Apparatus for fluid treatment for etching for wet etching using mainly spraying means, e.g. nozzles

Abstract

본 발명의 공기분사장치는 공정룸 사이에 화학약품 등이 침투하는 것을 방지하기 위한 것으로, 기판의 상부에 배치된 본체와, 상기 본체에 공기를 공급하는 공기공급관과, 상기 본체에 형성되어 기판에 공기를 분사하는 노즐로 구성되며, 상기 노즐의 방향은 기판 표면의 수직방향에 대하여 설정 각도를 이루고 있는 것을 특징으로 한다. 상기 본체는 제1본체 및 제1본체 내부에 형성되어 제1본체와 노즐로의 공기를 흐르게 하는 경로를 형성하는 제2본체로 이루어져 그 사이에 공기가 흐르는 경로가 형성되며, 상기 노즐의 길이는 기판의 폭과 동일하거나 더 크게 형성되어 상기 경로를 거쳐 노즐을 통해 공기가 기판의 폭 전체에 분사되도록 한다.
기판, 공정룸, 기판, 공기, 분사, 각도

Description

공기분사장치{APPARATUS FOR BLOWING AIR}
도 1은 종래 공기분사장치를 나타내는 도면.
도 2는 종래 공기분사장치의 부분 확대도.
도 3은 종래 공기분사장치를 이용하여 기판상에 공기를 분사하는 것을 나타내는 도면.
도 4는 본 발명에 따른 공기분사장치를 나타내는 도면.
도 5는 본 발명에 따른 공기분사장치의 사시도.
도 6은 본 발명에 따른 공기분사장치의 단면도.
도 7은 본 발명에 따른 공기분사장치를 이용하여 기판상에 공기를 분사하는 것을 나타내는 도면.
도 8은 공기의 분사각도를 변경하여 기판상에 공기를 분사하는 것을 나타내는 도면.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
101 : 기판 120 : 컨베이어장치
122 : 롤러 140 : 공기분사장치
142 : 가스공급관 143,144 : 본체
146,147 : 경로 148 : 노즐
본 발명은 액정표시소자 제조공정라인의 공기분사장치에 관한 것으로, 특히 공기를 기판에 일정 각도로 분사함으로서 화학약품의 제거가 간단하고 기판의 이송 지연을 방지할 수 있는 공기분사장치에 관한 것이다.
근래, 핸드폰(Mobile Phone), PDA, 노트북컴퓨터와 같은 각종 휴대용 전자기기가 발전함에 따라 이에 적용할 수 있는 경박단소용의 평판표시장치(Flat Panel Display Device)에 대한 요구가 점차 증대되고 있다. 이러한 평판표시장치로는 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel), FED(Field Emission Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display) 등이 활발히 연구되고 있지만, 양산화 기술, 구동수단의 용이성, 고화질의 구현이라는 이유로 인해 현재에는 액정표시소자(LCD)가 각광을 받고 있다.
액정표시소자는 굴절률이방성을 이용하여 화면에 정보를 표시하는 장치이다. 상기 액정표시소자는 매트릭스(matrix) 형태로 배열된 복수의 액정셀에 화상정보에 따른 데이터신호를 개별적으로 공급하여, 그 액정셀의 광투과율을 조절함으로써, 원하는 화상을 표시할 수 있도록 한 표시소자이다.
따라서, 액정표시소자는 화소 단위의 액정셀이 매트릭스 형태로 배열되는 액정패널과, 상기 액정셀을 구동시키는 드라이버 집적회로(integrated circuit : IC)를 구비한다. 상기 액정패널은 서로 대향하는 컬러필터(color filter) 기판 및 박 막트랜지스터 어레이기판과, 상기 컬러필터기판 및 박막트랜지스터 어레이기판의 사이에 형성된 액정층으로 구성된다.
그리고, 상기 액정패널의 박막트랜지스터 어레이기판 상에는 데이터드라이버 집적회로로부터 공급되는 데이터신호를 액정셀에 전송하기 위한 다수의 데이터라인과, 게이트드라이버 집적회로로부터 공급되는 주사신호를 액정셀에 전송하기 위한 다수의 게이트라인이 서로 직교하며, 이들 데이터라인과 게이트라인의 교차부마다 액정셀이 정의된다. 상기 컬러필터기판 및 박막트랜지스터 어레이기판의 대향하는 내측면에는 각각 공통전극과 화소전극이 형성되어 상기 액정층에 전계를 인가한다. 이때, 화소전극은 박막트랜지스터 어레이기판 상에 액정셀별로 형성되는 반면에 공통전극은 컬러필터기판의 전면에 일체화되어 형성된다. 따라서, 공통전극에 전압을 인가한 상태에서 화소전극에 인가되는 전압을 제어함으로써, 액정셀들의 광투과율을 개별적으로 조절할 수 있게 된다. 이와 같이 화소전극에 인가되는 전압을 액정셀별로 제어하기 위하여 각각의 액정셀에는 스위칭소자로 사용되는 박막트랜지스터가 형성된다.
상기와 같이, 액정표시소자에서는 게이트라인과 데이터라인 및 박막트랜지스터와 같은 각종 전극이 형성되는데, 이러한 전극의 형성은 포토레지스트를 이용한 사진식각공정에 의해 이루어진다. 사진식각공정은 통상적으로 포토레지스트의 도포 및 건조, 포토레지스트의 현상, 식각대상의 식각, 포토레지스트의 스트립(strip)공정으로 진행된다. 이러한 식각공정중 식각된 기판의 포토레지스트의 스트립공정은 복수의 공정룸에서 이루어진다. 이와 같이, 스트립공정이 복수의 공정 룸에서 이루어지는 것은 기판상에 남아 있는 포토레지스트를 완전히 제거하여 이후의 공정에서 불량을 제거하기 위한 것이다. 하나의 공정룸에서 스트리퍼(striper)를 이용하여 포토레지스트를 제거하는 경우 제거된 포토레지스트의 잔여물이 스트리퍼에 남기 때문에, 스트리퍼의 순도가 저하되어 스트립효율이 저하되므로, 복수의 공정룸을 마련하여 별도의 높은 순도를 갖는 스트리퍼에 의해 상기 포토레지스트를 스트립으로써 상기 포토레지스를 완전히 제거하는 것이다.
통상적으로 각각의 공정룸에는 해당 스트립공정중에 발생한 포토레지스트의 잔여물이 스트리퍼에 녹아 있는데, 이 잔여물을 포함하는 스트리퍼가 다음 고정룸으로 침투하는 경우 해당 공정룸의 스트리퍼의 순도가 저하되므로 상기 포토레지스를 완전히 제거할 수 없게 된다. 따라서, 기판상에 잔류하는 스트리퍼(엄밀하게 말해서, 포토레지스트가 녹아 있는 스트리퍼)가 이후의 공정룸으로 침투하는 것을 차단해야만 하는데, 이러한 이전 공정룸으로부터의 스트리퍼의 차단은 고압공기를 분사하는 공기분사장치에 의해 이루어진다.
도 1은 종래 공기분사장치를 나타내는 도면이다. 도 1에 도시된 바와 같이, 식각공정이 진행되는 기판(1)은 복수의 롤러(22)로 구성된 컨베이어장치(20)에 의해 이송되며, 이송되는 기판(1) 상부에는 공기분사장치(30)가 설치되어 이송되는 기판(1)에 고압의 공기를 분사한다.
도 2에 도시된 바와 같이, 상기 공기분사장치(30)는 일정 간격을 두고 서로 합착되어 내부에 공간이 형성된 제1판(31) 및 제2판(32)와, 상기 제1판(31) 및 제2판(32) 내부에 형성된 공간에 공기를 공급하는 공기공급관(34)과, 상기 제1판(31) 및 제2판(32) 하부에 형성되어 공간 내부로 공급된 공기를 분사키는 노즐(36)로 구성된다.
도면에는 도시하지 않았지만, 상기 공기분사장치(30)는 제1판(31)과 제2판(32)의 상부 및 측면이 서로 밀봉된 상태로 컨베이어장치(20) 상부의 벽면에 부착되어 컨베이어장치(20)를 통해 다음의 스트립공정룸으로 이송중인 기판(1)상에 고압의 공기를 분사한다.
도 3에 상기 공기분사장치(30)에 의해 기판(1) 상에 고압의 공기를 분사하는 것이 도시되어 있다. 도 3에 도시된 바와 같이, 기판(1)을 이후의 공정룸으로 이송하는 컨베이어장치의 롤러(22) 상부에는 공기분사장치(30)가 설치되어 있다. 이때, 상기 공기분사장치(30)는 롤러(22)에 이송되는 기판(1)과 수직으로 설치되어 고압의 공기를 기판(1) 상에 수직으로 인가한다. 즉, 기판(1)의 표면과 수직방향으로 고압의 공기가 분사되어 기판(1)에 잔류하는 스트리퍼(즉, 포토레지스트가 녹아있는 스트리퍼)를 기판(1)으로부터 제거하게 된다.
그러나, 상기와 같은 종류 공기분사장치(30)는 다음과 같은 문제가 발생하게 된다. 통상적으로 기판(1)에 분사되는 공기의 압력은 기판(1)상에 잔류하는 스트리퍼가 이후의 공정룸에 침투하는 것을 차단하기 위해 매우 높아야만 된다. 따라서, 기판(1)에 수직으로 공기압이 인가되는 경우, 기판(1)에는 진행방향과 수직방향으로 강한 힘이 작용하게 되어 기판(1)이 이송이 지연되게 된다. 이러한 기판(1) 이송의 지연은 결국 전체 공정을 지연을 야기하게 될 뿐만 아니라 기판(1) 상에 잔류하는 스트리퍼의 잔류시간을 증가시켜 각종 전극 등이 형성된 기판(1)을 불량으로 만드는 중요한 원인이 된다.
더욱이, 기판(1)에 수직으로 인가되는 힘에 의해 기판(1) 이송이 정지되는 경우 전체 공정라인이 정지되는 문제도 있었다.
본 발명은 상기한 문제를 해결하기 위한 것으로, 기판에 인가되는 공기의 분사각도를 조절하여 기판에 인가됨을 힘을 조절함으로써 기판 이송이 지연되거나 정지하는 것을 방지할 수 있는 공기분사장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 따른 공기분사장치는 이송되는 기판의 상부에 배치된 본체와, 상기 본체에 공기를 공급하는 공기공급관과, 상기 본체에 형성되어 기판에 공기를 분사하는 노즐로 구성되며, 상기 노즐의 방향은 기판 표면의 수직방향에 대하여 설정 각도를 이루고 있는 것을 특징으로 한다.
상기 본체는 제1본체 및 제1본체 내부에 형성되어 제1본체와 노즐로의 공기를 흐르게 하는 경로를 형성하는 제2본체로 이루어져 그 사이에 공기가 흐르는 경로가 형성되며, 상기 노즐의 길이는 기판의 폭과 동일하거나 더 크게 형성되어 상기 경로를 거쳐 노즐을 통해 공기가 기판의 폭 전체에 분사되도록 한다.
상기 본체는 회전가능하도록 구성되어 상기 노즐로부터 분사되는 공기의 분사각도는 변경할 수 있게 된다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 대해 상세히 설명한다.
본 발명에서는 기판에 인가되는 힘을 감소하여 기판이 이송지연을 방지한다. 기판에 인가되는 힘을 감소시키기 위한 가장 좋은 방법은 공기의 분사압력을 감소시키는 것이다. 그러나, 이 경우 기판에 잔류하는 스트리퍼를 효율적으로 제거할 수 없게 되므로 포토레지스트가 녹아 있는 스트리퍼가 다음 공정룸에 침투하게 되어 해당 공정룸의 스트리퍼가 오염되어 스트립효율이 저하된다.
본 발명은 기판에 인가되는 힘을 감소시키면서 기판상의 스트리퍼를 효율적으로 제거할 수 있는 장치를 제공한다. 이를 위해, 본 발명에서는 기판에 분사되는 공기는 분사각도를 조절함으로써 기판에 인가되는 힘을 조절한다. 이때, 분사되는 공기압은 종래와 동일하게 설정함으로써 기판상에 잔류하는 스트리퍼의 제거효율을 향상시킨다.
한편, 본 발명에의 공기분사장치가 단지 식각공정의 복수의 스트리퍼 공정룸 사이에만 배치되는 것은 아니다. 실질적으로 본 발명은 세정액이나 화학약품과 같은 액체가 잔류하는 기판상에 공기를 분사하는 모든 장치에 사용될 수 있을 것이다. 따라서, 이후에 설명에서는 본 발명의 공기분사장치는 기판상에 잔류하는 액체를 제거하기 위해 사용된다고 표현하면, 이 액체는 세정액이나 화학약품과 같은 각종 액체가 가능할 것이다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 공기분사장치를 나타내는 도면이다.
도 4에 도시된 바와 같이, 공정이 종료된 기판(101)은 복수의 롤러(122)로 구성된 컨베이어장치(120)에 의해 이후의 공정라인으로 이송되며, 이송되는 기판(101) 상부에는 공기분사장치(140)가 설치된다.
도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이, 공기분사장치(140)는 대략 사각형이나 다 이아몬드형으로 형성되어 있으며, 사각형상의 양측단부에는 공기를 공급하는 공기공급관(142)가 설치되어 있다. 상기 공기공급관(142)은 도면표시하지 않은 외부의 공기공급수단과 연결되어, 상기 공기공급수단으로부터 고압의 공기를 상기 공기분사장치(140) 내부로 공급한다.
상기 공기분사장치(140)는 제1본체(143)와 그 내부의 제2본체(144)로 구성되며, 상기 제2본체(144)의 내부에는 빈공간이 형성되어 상기 공기공급관(142)을 통해 공급된 공기가 모이게 된다. 또한, 상기 제1본체(143)와 제2본체(144)는 일정 간격을 두고 형성되어 상기 공기분사장치(140) 내부에 공기가 흐르는 제1경로(146)가 형성된다. 이때, 상기 제2본체(144)에도 내부의 빈 공간와 상기 제1경로(146)를 연결하는 제2경로(147)가 형성되어 공기공급관(142)을 통해 제2본체(144)의 빈 공간에 공급된 공기를 제1경로(146)로 인도한다.
상기 제1본체(143)의 하부에는 노즐(148)이 형성되어 있다. 상기 노즐(148)은 제1경로(146)와 연결되어 공기공급관(142)을 통해 공기분사장치(140) 내부로 공급된 공기를 기판으로 분사시킨다. 즉, 외부의 공기공급수단으로부터 공기공급관(142)을 통해 제2본체(144)의 빈공간으로 공급된 공기는 제2경로(147) 및 제1경로(146)를 거쳐 노즐(148)을 통해 외부로 분사된다. 이때, 상기 제1본체(143)는 하부에 배치되는 기판(101)의 폭과 동일하거나 더 길게 형성되며, 노즐(148)은 상기 제1본체(143)의 길이방향 전체를 따라 형성되어 기판(101)의 폭 전체에 걸쳐 고압의 공기를 분사하게 된다.
한편, 상기 공기분사장치(140)는 공급관(142)을 중심으로 회전한다. 즉, 상 기 공급관(142)이 일종의 회전축의 역할을 하는 것이다. 이와 같이, 공기분사장치(140)가 회전함에 따라 실제 고압의 공기를 분사하는 노즐(148)의 위치를 변경할 수 있게 된다.
이때, 상기 공기분사장치(140)는 연속적으로 회전할 수도 있으며, 설정된 단위의 각도로 회전할 수 있다. 즉, 공기분사장치(140)를 원하는 각도로 자유롭게 회전시킬 수도 있으며 설정된 각도 단위, 예를 들면 15도, 20도 또는 35도 등의 단위로 회전시킬 수도 있을 것이다. 상기와 같이, 공기분사장치(140)를 회전함에 따라 공기를 분사하는 노즐(148)의 위치가 변경되며, 그 결과 기판(101)에 분사되는 공기의 분사각도를 조절할 수 있게 된다.
상기와 같이 구성된 공기분사장치(140)를 이용하여 기판(101)상에 공기를 분사함으로써 잔류하는 세정액이나 화학약품과 같은 액체를 제거하는 방법을 설명하면 다음과 같다.
도 7은 본 발명에 따른 공기분사장치(140)에 의해 기판(101)에 고압의 공기를 분사하는 것을 나타내는 도면이다.
도 7에 도시된 바와 같이, 이전의 공정룸에서 식각공정 등과 같은 각종 공정이 진행된 기판(101)은 컨베이어장치의 롤러(122)에 의해 이후의 공정룸으로 이송된다. 이때, 이송되는 기판(101)은 이전의 공정룸에서 인가된 스트리퍼와 같은 화학약품이나 세정액 등이 잔류하게 된다. 한편, 상기 컨베이어장치의 상부에는 공기분사장치(140)가 설치되어 있다. 상기 공기분사장치(140)는 공기공급관(142)을 중심으로 회전가능하게 설치되어, 공기가 분사되는 노즐(148)이 기판(101)과 일정 각 도로 향하게 된다.
도면표시하지 않은 공기공급수단으로부터 공기공급관(142)을 통해 상기 공기분사장치(140)로 공급된 고압의 공기는 노즐(148)을 통해 기판(101)에 분사된다. 이때, 상기 노즐(148)은 기판(101)의 수직방향을 향하지 않고 수직방향과 일정 각도를 향하게 되기 때문에, 상기 노즐(148)을 통해 기판(101)에 분사되는 고압의 공기는 기판(101)의 표면과 설정된 각도(θ1)로 분사된다. 즉, 종래 공기분사장치에서는 공기가 기판과 수직으로 분사되는데, 반해 본 발명에서는 공기가 기판(101)에 대하여 θ1의 각도로 분사되는 것이다.
상기와 같이 공기를 기판(101)에 대하여 일정 각도(θ1)로 분사함에 따라 기판(101)에 인가되는 힘이 감소하게 된다. 종래 공기분사장치와 본 발명에 따른 공기분사장치(140)에서 기판(101)에 분사되는 공기의 압력을 P라고 가정할 때, 종래 공기분사장치에서는 모든 공기의 압력(P)이 기판에 인가되므로 힘이 F1=P로 된다. 반면에, 본 발명에서는 공기가 일정 각도(θ1)로 분사되므로 기판(101)이 받은 힘은 분산되어 기판(101)에 인가되는 힘(F2), 엄밀하게 말해서 기판에 대한 수직방향의 힘은 F2=Psinθ이 된다.
0°〈θ〈90°경우, 0〈sinθ〈1이므로, F2는 F1 보다 작게 된다. 따라서, 종래 공기분사장치에서 공기의 분사에 의해 기판(101)에 인가되는 힘(F1)에 비해, 본 발명의 공기분사장치에서 공기의 분사에 의해 기판(101)에 인가되는 힘(F2)이 더 작게 된다(즉, F1〉F2). 따라서, 본 발명에서는 기판(101)에 인가되는 힘에 의한 기판(101) 이송의 지연 등을 방지할 수 있게 된다. 또한, 공기가 기판(101)에 대하여 일정한 각도(θ1)로 분사되는 경우 기판(101)에 수직으로 분사되는 경우보다 다음 공정룸으로의 세정액이나 화학약품 등의 침투를 용이하게 차단할 수 있게 된다.
한편, 본 발명에서는 상기 공기분사장치(140)를 임의의 각도로 회전할 수 있다. 따라서, 도 8에 도시된 바와 같이, 공기분사장치(140)의 각도를 더 크게 조절하여 기판(101)에 고압의 공기를 분사할 수 있게 된다. 이때, 상기 기판(101)에 인가되는 공기의 분사 각도가 θ2(〉θ1)이 되므로, 기판(101)에 인가되는 힘을 더욱 감소시킬 수 있게 된다.
이와 같이, 본 발명에서는 공기분사장치(140)를 연속적으로 또는 설정된 단위의 각도로 회전하여 기판(101)에 분사되는 공기의 각도를 조절함으로써 기판(101)에 인가되는 힘을 조절할 뿐만 아니라 기판(101)에 남아 있는 세정액이나 화학약품 등의 액체가 이후의 공정룸에 침투하는 것을 용이하게 차단할 수 있게 된다. 이때, 상기 공기분사장치(140)의 각도는 분사되는 공기의 분사압력이나 공기분사장치(140)와 기판(101) 사이의 간격 등에 따라 다음 공정룸으로의 액체의 침투를 방지할 수 있도록 설계된다.
상술한 바와 같이, 본 발명에서는 기판에 고압의 공기를 일정한 각도로 분사함으로써 이후의 공정룸에 포토레지스트를 포함하는 스트리퍼와 같은 화학약품이 침투하여 해당 공정룸의 스트리퍼가 오염되는 것을 방지한다.
이러한 본 발명의 공기분사장치는 특정한 공정라인에만 형성되는 것이 아니라 공기를 분사하는 다양한 공정라인, 예를 들면 다음의 공정라인으로 화학약품의 침투를 차단하는 공정라인이나 세정액 등을 건조시키기 위해 공기를 분사하는 라인 등에 다양하게 사용될 수 있을 것이다. 또한, 본 발명에서는 단순한 공기가 아니라 특정한 가스를 사용할 수도 있을 것이다.
또한, 상술한 설명에서는 본 발명의 공기분사장치의 본체가 사각형이나 다이아몬드형으로 이루어지지만, 본 발명의 공기분사장치가 이러한 형상에 한정되는 것은 아니다. 실질적으로 본 발명에 따른 공기분사장치는 삼각형이나 오각형 또는 사다리꼴과 같은 다각형으로 형성될 수도 있고 원형으로 형성될 수도 있을 것이다.
그리고, 상술한 설명에서는 공기공급관이 고압의 공기를 공급할 뿐만 아니라 본체를 회전시킨다고 기재되어 있지만, 본 발명이 이러한 구조에만 한정되는 것은 아니다. 공기공급관과 본체를 회전시키는 회전축을 별도의 구조로 구성하는 구조도 본 발명에 포함될 수 있을 것이다.
따라서, 본 발명의 권리의 범위는 상술한 상세한 설명에 의해 결정되는 것이 아니라 첨부한 특허청구범위에 의해 결정되어야만 할 것이다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 공기분사장치에서는 고압의 공기를 기판에 대하여 설정 각도로 분사함으로써 다음과 같은 효과를 얻을 수 있다.
첫째, 컨베이어장치에 의해 이송되는 기판의 이송지연이나 정지를 방지할 수 있게 된다. 본 발명의 공기분사장치에서는 고압의 공기가 기판에 대하여 일정 각도로 분사되므로, 기판에 수직으로 공기가 분사되던 종래의 공기분사장치에 비해 기판에 인가되는 힘을 감소시킬 수 있게 된다. 따라서, 기판에 인가되는 힘에 의한 기판의 이송지연을 방지하게 될 수 있을 뿐만 아니라 기판의 이송이 정지되는 것을 방지할 수 있게 된다.
둘째, 기판상에 잔류하는 액체가 다음의 공정룸에 침투하는 것을 완전하게 차단할수 있게 된다. 본 발명에서는 공기분사장치로부터 방출된 공기가 기판에 비스듬히 분사되므로, 수직으로 분사되던 종래에 비해 액체의 침투나 액체의 제거를 효과적으로 실행할 수 있게 되는 것이다.

Claims (9)

  1. 이송되는 기판의 상부에 배치된 본체;
    상기 본체에 공기를 공급하는 공기공급관; 및
    상기 본체에 형성되어 기판에 공기를 분사하는 노즐로 구성되며,
    상기 노즐의 방향은 기판 표면의 수직방향에 대하여 설정 각도를 이루고 있는 것을 특징으로 하는 공기분사장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 본체는,
    제1본체;
    제1본체 내부에 형성되어 제1본체와 노즐로의 공기를 흐르게 하는 경로를 형성하는 제2본체로 이루어진 것을 특징으로 하는 공기분사장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 제2본체 내부에는 상기 경로와 연결된 빈공간이 형성되어 공기공급관을 통해 공기가 공급되는 것을 특징으로 하는 공기분사장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 노즐의 길이는 기판의 폭과 동일하거나 더 큰 것을 특징으로 하는 공기분사장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 본체는 회전가능한 것을 특징으로 하는 공기분사장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 노즐로부터 분사되는 공기의 분사각도는 변경 가능한 것을 특징으로 하는 공기분사장치.
  7. 제1항에 있어서, 상기 본체는 스트립공정의 공정룸 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 공기분사장치.
  8. 제1항에 있어서, 상기 본체는 공정라인 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 공기분사장치.
  9. 제1항에 있어서, 상기 본체는 사각형상 또는 다이아몬드형상인 것을 특징으로 하는 공기분사장치.
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