KR20080023293A - 습식 프로세싱 장치 및 디스플레이 패널 제조 방법 - Google Patents

습식 프로세싱 장치 및 디스플레이 패널 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20080023293A
KR20080023293A KR1020077028041A KR20077028041A KR20080023293A KR 20080023293 A KR20080023293 A KR 20080023293A KR 1020077028041 A KR1020077028041 A KR 1020077028041A KR 20077028041 A KR20077028041 A KR 20077028041A KR 20080023293 A KR20080023293 A KR 20080023293A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
filters
membrane separator
solution
vibrating membrane
impurities
Prior art date
Application number
KR1020077028041A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100928175B1 (ko
Inventor
다카아키 사토
Original Assignee
파이오니아 가부시키가이샤
파이오니아 플라즈마 디스플레이 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 파이오니아 가부시키가이샤, 파이오니아 플라즈마 디스플레이 가부시키가이샤 filed Critical 파이오니아 가부시키가이샤
Publication of KR20080023293A publication Critical patent/KR20080023293A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100928175B1 publication Critical patent/KR100928175B1/ko

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D61/00—Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
    • B01D61/14—Ultrafiltration; Microfiltration
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D63/00—Apparatus in general for separation processes using semi-permeable membranes
    • B01D63/08—Flat membrane modules
    • B01D63/082—Flat membrane modules comprising a stack of flat membranes
    • B01D63/084—Flat membrane modules comprising a stack of flat membranes at least one flow duct intersecting the membranes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D63/00—Apparatus in general for separation processes using semi-permeable membranes
    • B01D63/16—Rotary, reciprocated or vibrated modules
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/3092—Recovery of material; Waste processing
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
    • H01J11/20—Constructional details
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2313/00—Details relating to membrane modules or apparatus
    • B01D2313/08—Flow guidance means within the module or the apparatus
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2315/00—Details relating to the membrane module operation
    • B01D2315/04—Reciprocation, oscillation or vibration

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Filtration Of Liquid (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

본 발명은 디스플레이 패턴을 구성하는 기판 상에 패턴 형성을 위한 습식 처리에서, 용액 및 패턴 물질을 재사용할 수 있고, 필터 대체의 빈도를 감소시킬 수 있고 사용된 패턴 물질의 특정 중력에도 불구하고 높은 수준의 회수를 현실화시킬 수 있는 습식 프로세싱 장치가 공급된다. 습식 프로세싱 장치는 습식 처리를 수행하는 습식 처리 탱크 (1), 습식 처리에서 사용된 프로세싱 용액에서 불순물을 분리하는 진동식 막 분리기 (3), 및 상기 진동식 막 분리기 (3) 에 의한 불순물의 분리 후에 상기 프로세싱 용액을 습식 처리 탱크 (1) 에 재공급하여, 그것에 의하여 프로세싱 용액 및 패턴 물질이 재사용될 수 있도록 하는, 재공급 경로 (13) 를 포함한다. 진동식 막 분리기 (3) 의 사용은 진동식 막 분리기 (3) 에서 공급된 필터의 대체의 빈도를 감소시킬 수 있고 사용된 패턴 물질의 특정 중력에도 불구하고 패턴 물질의 높은 수준의 회수를 현실화시킬 수 있다.
진동식 막 분리기, 용액, 습식 프로세싱 장치

Description

습식 프로세싱 장치 및 디스플레이 패널 제조 방법{WET TREATMENT APPARATUS AND PROCESS FOR PRODUCING DISPLAY PANEL}
본 발명은 습식 프로세싱 장치 및 디스플레이 패널을 제조하는 방법에 관한 것이다.
플라즈마 디스플레이 패널 (본 명세서에서는, "PDP" 로 칭함) 과 같은 디스플레이 패널을 제조하는 프로세스는 전극, 리브, 형광층, 블랙 메트릭스, 블랙 스트립, 및 컬러 필터와 같은, 다양한 패턴들을 기판 상에 형성하는 단계를 포함한다.
예를 들면, 현상액과 같은 프로세싱 용액이 사용되는 습식 처리는 보통 기판 상에 패턴을 형성하는 단계에 적용된다.
상세하게는, 예를 들면, 이전 공정에서, 감광성 물질 (포토레지스트) 이 프린팅, 시팅 (seating) 또는 코팅에 의해서 기판 전체에 대해서 코팅된다. 그 후, 감광성 물질은 소정의 패턴으로 광에 노광된다. 그 후, 기판은 습식 프로세싱 배쓰에서 현상액으로 침지되고, 또는 현상액은 기판 상에 토출되서, 그것에 의해서 광에 노광되지 않았던 (또는 광에 노광되었던) 감광성 물질의 부분을 제거한다. 따라서, 감광성 물질은 기판 상에서 패턴화된다.
따라서, 습식 처리를 위해서 사용되었던 현상액과 같은 프로세싱 용액은 기판 상에 형성된 패턴이 형성되는 물질을 포함한다.
사용된 프로세싱 용액은 보통 습식 처리를 위해서 보통 복수회 사용된다.
패턴이 형성되는 물질 (본 명세서에서는 "패턴 물질" 로 칭함) 이 종종 비싸기 때문에 (예를 들면, 전극을 제조하기 위해서 사용된 Ag (은)), 재이용을 위해 사용된 프로세싱 용액에서 그러한 패턴 물질을 분리하고 회수하는 것이 바람직하다.
예를 들면, 특허 문헌 1 은 필터에 의해서 사용된 프로세싱 용액에서 패턴 물질을 분리하고 회수하는 프로세스 및 패턴 물질이 분리되었던 프로세싱 용액을 다시 습식 처리에서 재이용하는 프로세스 (본 명세서에서, "필터 프로세스" 로 칭함) 를 개시한다.
특허 문헌 2 는 현상액에 포함된 형광체를 재이용하는 방법을 개시하고 있으며, 상기 방법은, (a) 형광체를 석출하기 위해서 현상액을 정치 (still standing) 시키는 것에 의해서 형광체를 회수하는 단계, (b) 현상액을 여과하는 것에 의해서 형광체를 회수하는 단계, 또는 (c) 원심 분리기의 사용을 통해서 형광체를 회수하는 단계를 포함한다.
특허 문헌 3 은 데칸터 (decanter) 형 원심 분리기 (본 명세서에서, 이러한 프로세스는 "원심 분리기 프로세스" 로 칭함) 의 사용을 통하여 현상액에서 패턴 물질을 분리하고 회수하는 프로세스를 개시한다.
특허 문헌 1 : 일본 특허 출원 공개 번호 10-242047
특허 문헌 2 : 일본 특허 출원 공개 번호 11-228950
특허 문헌 3 : 일본 특허 번호 319772
본 발명에 의해서 해결되어야 할 문제들
특허 문헌 1 에서 제안된 필터 프로세스는 필터를 교환할 때 높은 빈도의 문제를 수반한다. 또한, 필터가 교환될 때마다, 일시적으로 생산 라인을 중지시키는 것이 필요할 수도 있다. 따라서, 필터 프로세스는 큰 크기의 기판의 제조에 적합하지 않다.
특허 문헌 2 에서 제안된, 현상액을 여과하는 것에 의해서 형광체를 회수하는 프로세스가 상술한 문제와 동일한 문제를 수반한다.
또한, 특허 문헌 2 에서 제안된, 형광체를 석출하기 위해서 현상액을 정치시키는 프로세스는 현상액에서 형광체를 분리하고 회수하는 데 많은 시간이 소요되는 문제를 수반한다.
특허 문헌 2 및 3 에서 제안된 원심 분리기 프로세스는 용액에 포함된 패턴 물질이 높은 비중을 가지는 경우에 회수율은 비교적 높으며, 그에 반하여, 용액이 낮은 비중을 가지면, 회수율이 낮아지는 문제를 수반한다.
구체적으로는, 예를 들면, PDP 에 대한 패턴을 형성하는 습식 처리를 수행하는 단계에서 사용되는 물질들 중에서 높은 비중을 가지는 은 전극을 제조하는 경우에, 90 % 이상의 회수율이 획득될 수 있다. 대조적으로, 비교적 적은 비중을 가지는 안료 물질이 사용되는 프로세스 (예를 들면, 블랙 메트릭스를 제조하는 단계) 에서, 회수율은 매우 낮아지며, 구체적으로는, 대략 20 % 까지 낮아진다. 따라서, 원심 분리기 프로세스는 패턴 물질 (즉, 현상액중의 회수되는 불순물들) 의 비중에 따라 회수율이 크게 변하는 문제가 수반된다.
또한, 패턴 물질이 이미 분리된 후의 재이용된 현상액이 재사용될 때, 재이용된 현상액이 많은 불순물들을 포함하면, 패턴 물질의 낮은 회수율 때문에, 현상 품질이 유해하게 영향받으며, 그에 따라 패턴을 안정적으로 형성하는 것이 불가능하다는 문제가 야기될 것이다.
또한, 패턴 물질이 이미 분리된 후의 재이용 현상액이 재이용될 때, 재이용 현상액이 많은 불순물을 포함하면, 현상액이 순환되는 배관이 막히며, 현상액이 토출되는 노즐이 막히는 문제가 야기될 것이다.
결과적으로, 원심 분리기 처리 과정에서 패턴을 안정적으로 형성하고, 배관 및 노즐과 같은, 재이용 현상액이 순환되는 경로가 막히는 것을 피하기 위해서 현상액을 종종 새로운 것으로 교환하는 것이 필요하다.
특허 문헌 1 내지 3 에서 발견되는 상술한 문제들은 본 발명에 의해서 해결될 예시적 문제들이다.
문제들에 대한 해결 방법
본 발명에 따라서, 디스플레이 패널을 구성하는 기판 상에 패턴을 형성하기 위한 습식 처리를 수행하는 습식 프로세싱 장치는 습식 처리가 수행되는 습식 처리 배쓰, 습식 처리에서 사용되는 용액에서 불순물을 분리하는 진동식 막 분리기, 및 불순물들이 진동식 막 분리기에 의해서 제거되었던 용액을 습식 처리 배쓰로 재공급되는 재공급 경로를 포함한다.
본 발명에 따라서, 디스플레이 패널을 구성하는 기판 상에 패턴을 형성하기 위한 습식 처리를 포함하는 디스플레이 패널 제조 방법은, 습식 처리 배쓰에서 수행된 습식 처리에서 사용되었던 용액에서 불순물을 분리하는 분리 단계로서, 진동식 막 분리기에 의해서 수행되는, 상기 분리 단계, 및 불순물들이 그 분리 단계에서 제거된 후의 용액을 습식 처리 배쓰로 재공급하는 단계를 포함한다.
도 1 은 본 발명의 제 1 실시예에 따라서 습식 프로세싱 장치의 구조를 도시하는 개략도이다.
도 2 는 본 발명의 제 1 실시예에 따라서 습식 프로세싱 장치의 일부분을 구성하는 진동식 막 분리기의 요부를 도시하는 사시단면도이다.
도 3 은 도 2 에서 도시된 진동식 막 분리기의 필터의 적층 구조를 도시하는 단면도이다.
도 4 는 도 2 에서 도시된 진동식 막 분리기의 필터의 평면도이다.
도 5 는 도 2 에서 도시된 진동식 막 분리기의 동작을 설명하는 모식도이다.
도 6 은 본 발명의 제 2 실시예에 따라서 습식 프로세싱 장치의 구조를 도시하는 모식도이다.
도 7 은 본 발명의 제 3 실시예에 따라서 습식 프로세싱 장치의 구조를 도시하는 모식도이다.
도 8 은 본 발명의 제 4 실시예에 따라서 습식 프로세싱 장치의 구조를 도시 하는 모식도이다.
도 9 는 제 1 변형예에 따라서 진동식 막 분리기의 요부를 도시하는 사시단면도이다.
도 10 은 제 1 변형예에 따라서 진동식 막 분리기의 필터의 평면도이다.
도 11 은 제 2 변형예에 따라서 진동식 막 분리기의 요부를 도시하는 사시단면도이다.
도 12 는 제 2 변형예에 따라서 진동식 막 분리기의 필터의 사시도이다.
도 13 은 제 3 변형예에 따라서 진동식 막 분리기의 요부를 도시하는 사시단면도이다.
도 14 는 제 3 변형예에 따라서 진동식 막 분리기의 필터의 사시도이다.
도 15 는 제 4 변형예에 따라서 진동식 막 분리기의 요부를 도시하는 사시단면도이다.
도 16 은 제 4 변형예에 따라서 진동식 막 분리기의 필터의 사시도이다.
부호의 설명
100 본 발명의 제 1 실시예에 따른 순환식 습식 프로세싱 장치 (습식 프로세싱 장치)
200 본 발명의 제 2 실시예에 따른 순환식 습식 프로세싱 장치 (습식 프로세싱 장치)
300 본 발명의 제 3 실시예에 따른 순환식 습식 프로세싱 장치 (습식 프로세싱 장치)
400 본 발명의 제 4 실시예에 따른 순환식 습식 프로세싱 장치 (습식 프로세싱 장치)
1 습식 처리 배쓰
3 진동식 막 분리기
13 배관 (재공급 경로)
2 유체 탱크 (탱크, 제 1 탱크)
4 순환 펌프 (펌프, 제 2 펌프)
331 제 1 유체 탱크
332 제 2 유체 탱크
333 제 1 밸브 (유로 전환 유닛)
338 제 2 밸브 (유로 전환 유닛)
334 배관 (유로 전환 유닛)
335 배관 (유로 전환 유닛)
336 배관 (유로 전환 유닛)
337 배관 (유로 전환 유닛)
341 제 1 농도 검출 센서 (농도 검출 센서)
342 제 2 농도 검출 센서 (농도 검출 센서)
350 제어기
351 제 1 변형예에 따른 진동식 막 분리기
352 제 2 변형예에 따른 진동식 막 분리기
353 제 3 변형예에 따른 진동식 막 분리기
354 제 4 변형예에 따른 진동식 막 분리기
301 원심 분리기
303 유체 공급 펌프 (제 1 펌프)
306 유체 탱크 (제 2 탱크)
402 제 2 유체 탱크 (제 2 탱크)
401 제 2 진동식 막 분리기
이하, 본 발명에 따른 실시예가 설명된다.
본 실시예에 따른 습식 프로세싱 장치가 디스플레이 패널을 구성하는 기판 상에 패턴을 형성하기 위한 습식 처리에서 사용된다.
본 실시예에 따른 습식 프로세싱 장치는 습식 처리가 수행되는 습식 처리 배쓰, 습식 처리에서 사용된 용액에서 불순물들을 분리하는 진동식 막 분리기, 및 진동식 막 분리기에 의해서 불순물들이 제거된 후의 용액이 습식 처리 배쓰로 재공급되는 재공급 경로를 포함한다.
본 실시예에 따른 습식 프로세싱 장치는 습식 처리 배쓰로부터 공급된, 습식 처리를 위해서 사용되었던 용액이 일시적으로 저장되는 탱크; 및 그 탱크에 저장된 용액을 진동식 막 분리기로 공급하는 펌프를 더 포함하는 것이 바람직하다.
본 실시예에 따른 습식 프로세싱 장치는 진동식 막 분리기에 의해서 용액에서 분리된 불순물들을 포함하는 농축 용액이 그 진동식 막 분리기로부터 탱크로 공 급되는 경로를 더 포함하는 것이 바람직하다.
습식 프로세싱 장치는 복수의 탱크를 포함하며, 용액 및 농축 용액은, 각각, 습식 처리 배쓰 및 진동식 막 분리기로부터, 선택적으로 그 탱크들 중 임의의 탱크로 공급되며, 습식 프로세싱 장치는 선택된 탱크내에 저장된 용액을 진동식 막 분리기로 공급하는 유로 전환 유닛을 더 포함하는 것이 바람직하다.
습식 프로세싱 장치는 탱크의 각각에 저장된 용액에 포함된 불순물 농도를 검출하는 농도 검출 센서; 및 선택된 탱크내에 저장된 용액에 포함된 불순물 농도가 소정 값을 초과할 때, 그 선택된 탱크를 다른 탱크로 전환하기 위해서 유로 전환 유닛을 제어하는 제어기를 더 포함하는 것이 바람직하다.
본 실시예에 따른 습식 프로세싱 장치는 습식 처리 배쓰에서 수행된 습식 처리에 사용된 용액에서 불순물을 분리하는 원심 분리기를 더 포함하며, 진동식 막 분리기는 불순물들이 원심 분리기에 의해서 이미 분리된 후의 용액에서 불순물들을 더 분리하는 것이 바람직하다.
습식 프로세싱 장치는 습식 처리 배쓰로부터 공급된, 습식 처리를 위해서 사용되었던 용액을 일시 저장하는 제 1 탱크; 그 제 1 탱크에 저장된 용액을 원심 분리기로 공급하는 제 1 펌프; 불순물들이 원심 분리기에 의해서 분리된 후의 용액을 일시 저장하는 제 2 탱크; 및 그 제 2 탱크에 저장된 용액을 진동식 막 분리기로 공급하는 제 2 펌프를 더 포함하는 것이 바람직하다.
본 실시예에 따른 습식 프로세싱 장치는 진동식 막 분리기에 의해서 용액에서 분리되었던 불순물들을 포함하는 농축 용액이 진동식 막 분리기로부터 제 1 탱 크로 공급되는 경로를 더 포함하는 것이 바람직하다.
본 실시예에 따른 습식 프로세싱 장치는 진동식 막 분리기에 의해서 용액에서 분리되었던 불순물들을 포함하는 농축 용액을 일시 저장하는 제 2 탱크; 및 그 제 2 탱크로부터 공급된 농축 용액에서 불순물들을 더 분리하는 제 2 진동식 막 분리기를 더 포함하는 것이 바람직하다.
본 실시예에 따른 습식 프로세싱 장치는 제 2 진동식 막 분리기에 의해서 용액에서 분리된 불순물들을 포함하는 농축 용액이 그 제 2 진동식 막 분리기로부터 제 2 탱크로 공급되는 경로를 더 포함하는 것이 바람직하다.
본 실시예에 따른 습식 프로세싱 장치는 제 2 진동식 막 분리기에 의해서 농축 용액에서 분리된 용액이 그 제 2 진동식 막 분리기로부터 습식 처리 배쓰로 재공급되는 재공급 경로를 더 포함하는 것이 바람직하다.
진동식 막 분리기 및 제 2 진동식 막 분리기 중 적어도 하나는, 필터들의 각각이 인접한 필터들로부터 소정 간격으로 이격되도록 수직적으로 배치된 복수의 필터들; 그 필터들이 수용되는 필터 용기; 및 그 필터들 및 그 필터 용기 양자를 진동시키는 진동기로 이루어지며, 그 필터의 각각은 금속판, 용액은 투과시키지만 불순물들은 투과시키지 않는 막, 및 그 금속 판과 그 막 사이에 샌드위치되며 용액을 투과시키는 드레인 클로스로 이루어지며, 필터들의 각각은 평면 판 형태이며 제 1 개구 및 제 2 개구로 형성되며, 실 (seal) 은 서로에 인접하게 수직적으로 배치된 필터들의 제 2 개구들의 에지들 사이에서 및 에지를 따라서 형성되며, 서로에 수직적으로 인접한 필터들의 제 1 개구들은 서로에 대해서 비정렬적으로 배치된다.
진동식 막 분리기 및 제 2 진동식 막 분리기 중 적어도 하나는, 필터들의 각각이 인접한 필터들로부터 소정 간격으로 이격되도록 수직적으로 배치된 복수의 필터들; 그 필터들이 수용되는 필터 용기; 및 그 필터들 및 그 필터 용기 양자를 진동시키는 진동기로 이루어지며, 그 필터의 각각은 금속판, 용액은 투과시키지만 불순물들은 투과시키지 않는 막, 및 그 금속 판과 그 막 사이에 샌드위치되며 용액을 투과시키는 드레인 클로스로 이루어지며, 그 필터들의 각각은 뒤집힌 콘 형태이며 제 1 개구 및 제 2 개구로 형성되며, 실은 서로에 인접하게 수직적으로 배치된 필터들의 제 2 개구들의 에지들 사이에서 및 에지들을 따라서 형성된다.
진동식 막 분리기 및 제 2 진동식 막 분리기 중 적어도 하나는, 필터들의 각각이 인접한 필터들로부터 소정 간격으로 이격되도록 수직적으로 배치된 복수의 필터들; 그 필터들이 수용되는 필터 용기; 및 그 필터들 및 그 필터 용기 양자를 진동시키는 진동기로 이루어지며, 그 필터의 각각은 금속판, 용액은 투과시키지만 불순물들은 투과시키지 않는 막, 및 그 금속 판과 그 막 사이에 샌드위치되며 용액을 투과시키는 드레인 클로스로 이루어지며, 그 필터들의 각각은 평면 판 형태이며 제 1 개구로 형성되며, 실은 서로에 인접하게 수직적으로 배치된 필터들의 외부 에지들 사이에서 및 에지들을 따라서 형성되며, 서로에 대해서 수직적으로 인접한 필터들의 제 1 개구는 서로에 대해서 비정렬적으로 배치된다.
진동식 막 분리기 및 제 2 진동식 막 분리기 중 적어도 하나는, 필터들의 각각이 인접한 필터들로부터 소정 간격으로 이격되도록 수직적으로 배치된 복수의 필터들; 그 필터들이 수용되는 필터 용기; 및 그 필터들을 회전시키는 회전 유닛으로 이루어지며, 그 필터의 각각은 금속판, 용액은 투과시키지만 불순물들은 투과시키지 않는 막, 및 그 금속 판과 그 막 사이에 샌드위치되며 용액을 투과시키는 드레인 클로스로 이루어지며, 필터들의 각각은 뒤집혀진 콘 형태이며 제 1 개구로 형성되며, 실은 서로에 인접하게 수직적으로 배치된 필터들의 외부 에지들 사이에서 및 에지들을 따라서 형성되며, 서로에 대해서 수직적으로 인접한 필터들의 제 1 개구는 서로에 대해서 비정렬적으로 배치되며, 회전 유닛은 필터들의 중심축 주변에 필터들을 회전시킨다.
본 실시예에 따른 디스플레이 패널을 제조하는 방법은 디스플레이 패널을 구성하는 기판 상에 패턴을 형성하기 위한 습식 처리를 포함한다.
본 실시예에 따른 디스플레이 패널을 제조하는 방법은 습식 처리 배쓰에서 수행되는 습식 처리에서 사용되었던 용액에서 불순물들을 분리하는 분리 단계; 및 습식 처리 배쓰로, 불순물들이 분리 단계에서 제거된 후의 용액을 재공급하는 단계를 포함한다.
본 실시예에 따른 디스플레이 패널을 제조하는 방법에서 포함된, 패턴을 형성하는 단계는, 예를 들어, 전극을 형성하는 단계 (예를 들어, Ag (은) 전극을 형성하는 단계), 리브를 형성하는 단계, 형광층을 형성하는 단계, 블랙 메트릭스를 형성하는 단계, 블랙 스트립을 형성하는 단계, 또는 컬러 필터를 형성하는 단계로 이루어진다.
본 실시예에 따른 디스플레이 패널을 제조하는 방법은, 예를 들어, 진동식 막 분리기에 의해서 용액에서 분리된 불순물들을 포함하는 농축 용액을 그 농축 용 액을 저장할 수 있는 복수의 탱크들 중에서 선택된 탱크로 저장하는 단계; 그 선택된 탱크에 저장된 농축 용액에 포함된 불순물 농도를 검출하는 단계; 및 선택된 탱크에 저장된 농축 용액에 포함된 불순물 농도가 소정 값을 초과할 때, 그 선택된 탱크를 다른 탱크로 전환하는 단계를 포함하는 것이 바람직하다.
본 실시예에 따른 디스플레이 패널을 제조하는 방법은 분리 단계 이전에, 습식 처리를 위해서 사용되었던 용액에서 원심 분리기에 의해서 불순물들을 분리하는 단계를 수행하는 단계를 더 포함하는 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 상술한 실시예에서, 진동식 막 분리기는 습식 처리 배쓰에서 수행되었던 습식 처리를 위해서 사용되었던 용액에서 불순물들을 분리한다. 불순물들이 진동식 막 분리기에 의해서 분리된 후의 용액이 습식 처리 배쓰로 재공급되고, 따라서 재사용될 수 있다.
또한, 진동식 막 분리기에 의해서 용액에서 불순물들이 분리되기 때문에, 필터가 거의 막히지 않기 때문에 진동식 막 분리기의 필터가 교환되는 빈도를 감소시키는 것이 가능하다. 따라서, 디스플레이 패널을 제조하는 제조 라인이 중지되어야 하는 빈도를 감소시켜서, 대량의 대형 기판들을 프로세싱하기 위한 단계에서 진동식 막 분리기가 사용될 수 있는 것이 가능하다.
또한, 용액에서 불순물들을 분리하는 것이 진동식 막 분리기에 의해서 수행되기 때문에, 계속해서 분리를 수행하여, 불순물들의 분리 및 회수에 대해서 많은 시간이 소요되지 않게 하는 것이 가능하다.
게다가, 용액에서 불순물들을 분리하는 것이 진동식 막 분리기에 의해서 수 행되기 때문에, 불순물들이 회수되는 회수율은 진동식 막 분리기의 유체 투과막의 직경에만 의존한다. 상세하게는, 회수율은 불순물들의 비중에 따라 변동되지 않아서, 불순물들의 비중에 상관없이 불순물들이 분리될 수 있다.
따라서, 패턴을 정확하게 제조하는 것이 가능하다. 게다가, 용액이 순환되는 배관은 막히기 어려워서, 용액이 노즐을 통해서 토출되면, 노즐이 거의 막히지 않는다.
실시예 1
도 1 은 본 발명의 실시예 1 에 따른 순환식 습식 프로세싱 장치 (습식 프로세싱 장치)(100) 의 구조를 도시하는 모식도이다.
도 1 에서 도시된 바와 같이, 순환식 습식 프로세싱 장치 (100) 는 습식 처리가 PDP (디스플레이 패널) 를 구성하는 기판 상에 패턴을 형성하기 위해서 수행되는 습식 처리 배쓰 (1), 습식 처리 배쓰 (1) 에서 수행된 습식 처리를 위해서 사용되었던 현상액이 일시적으로 저장되는 유체 탱크 (탱크)(2), 유체 탱크 (2) 로부터 공급된 현상액 (용액) 에서 불순물들을 분리하는 진동식 막 분리기 (3), 및 유체 탱크 (2) 에서 저장된 현상액을 진동식 막 분리기 (3) 로 공급하는 순환 펌프 (펌프)(4) 를 포함하도록 설계된다.
습식 처리 배쓰 (1) 에서, 습식 처리는 기판 상에 소정의 패턴을 형성하기 위해서 현상액의 사용을 통하여 수행된다.
예를 들면, 습식 처리 배쓰 (1) 에서 기판 상에 형성되는 패턴은 전극 (예를 들어, Ag (은) 전극), 리브, 형광층, 블랙 메트릭스, 블랙 스트립 및 컬러 필터를 포함한다.
습식 처리 배쓰 (1) 에서 패턴을 형성하는 단계 이전에 수행되었던 사전 단계에서, 프린팅, 시팅 또는 코팅에 의해서 기판 전체에 대해서 코팅된 감광성 물질은 패터닝을 위해서 광에 노광된다.
그 후, 기판이 습식 처리 배쓰 (1) 에서 현상액에 침지되거나, 현상액이 기판 상에 코팅된 감광성 물질 상으로 토출되어, 그것에 의해서 (감광성 물질이 네거티브 형 물질인 경우에) 광에 노광되지 않은 감광성 물질의 일부를 제거한다. 감광성 물질이 포지티브 형 물질이면, 광에 노광되었던 감광성 물질의 일부분이 제거된다.
따라서, 희망된 패턴이 기판 상에 형성된다.
습식 처리 배쓰 (1) 및 유체 탱크 (2) 는 배관 (11) 을 통하여 서로 유체적으로 연결되어 있다. 습식 처리 배쓰 (1) 에서 습식 처리를 위해서 사용되었던 현상액, 즉, 불순물들과 같은 감광성 재로를 포함하는 사용된 현상액은 배관 (11) 을 통하여 유체 탱크 (2) 에 공급된다.
유체 탱크 (2) 는 배관 (12) 을 통하여 진동식 막 분리기 (3) 의 입구 (3A) 에 연결된다.
유체 탱크 (2) 에 저장된 현상액은 배관 (12) 에 배열된 순환 펌프 (4) 에 의해서 가압되고, 배관 (12) 을 통하여 진동식 막 분리기 (3) 의 입구 (3A) 로 도입된다.
진동식 막 분리기 (3) 내로 도입된 현상액은 진동식 막 분리기 (3) 에서 순 수 현상액과 불순물 (잔류물) 을 포함하는 농축 현상액으로 분리된다 (상세한 내용은 이후 설명됨).
여과되어 순수한 현상액은 진동식 막 분리기 (3) 의 제 1 출구 (3B) 를 통하여 진동식 막 분리기 (3) 밖으로 배출된다.
제 1 출구 (3B) 는 배관 (재공급 경로)(13) 을 통하여 습식 처리 배쓰 (1) 와 유체적으로 연결된다.
제 1 출구 (3B) 를 통하여 배출된 순수 현상액은 배관 (13) 을 통하여 습식 처리 배쓰 (1) 로 도입되고, 습식 처리 배쓰 (1) 에서 수행될 습식 처리를 위해서 재사용될 것이다.
진동식 막 분리기 (3) 에서 사용된 현상액에서 분리된, 불순물들을 포함하는 농축된 현상액은 진동식 막 분리기 (3) 의 제 2 출구 (3C) 를 통하여 진동식 막 분리기 (3) 에서 배출된다.
제 2 출구 (3C) 는 배관 (14) 을 통하여 배관 (11) 과 유체적으로 연결된다.
제 2 출구 (3C) 를 통하여 배출되었던 농축된 현상액은 배관 (14) 을 통하여 유체 탱크 (2) 로 도입되고, 그 후 순환 펌프 (4) 에 의해서 배관 (12) 을 통하여 진동식 막 분리기 (3) 의 입구 (3A) 로 다시 도입된다. 상술한 것과 동일한 방식으로, 농축된 현상액은 진동식 막 분리기 (3) 에 의해서 여과된다. 구체적으로는, 현상액은 순수 현상액과 불순물들 (잔류물) 을 포함하는 농축 현상액으로 분리된다.
도 2 는 진동식 막 분리기 (3) 의 요부를 도시하는 사시단면도이다.
도 2 에서 도시된 바와 같이, 진동식 막 분리기 (3) 는 필터들의 각각이 인접한 필터로부터 소정의 간격으로 이격되도록 수직적으로 배치된 복수의 필터들 (31), 필터 유닛 (32) 이 수용된 필터 용기 (33), 및 필터 용기 (33) 와 함께 필터 유닛 (32) 을 진동시키는 진동기 (미도시) 를 포함한다.
도 3 은 필터들 (31) 의 층구조를 도시하는 단면도이다.
도 3 에 도시된 바와 같이, 필터들 (31) 의 각각은 예를 들면 상위 유체 투과막 (311), 하위 유체 투과막 (312), 유체 투과막 (311 및 312) 사이에 배열된 금속판 및 금속판 (313) 과 유체 투과막들 (311 및 312) 사이에 샌드위치된 드레인 클로스 (314) 로 구성된다. 예를 들면, 드레인 클로스 (314 및 315) 는 부직포 (non-woven web) 로 구성된다.
필터 (31) 들의 각각은 금속 판 (313), 및 금속 판 (313) 의 한쪽 면에 배열된 드레인 클로스 및 유체투과막으로 구성될 수도 있다. 예를 들면, 필터 (31) 들의 각각은 금속 판 (313), 유체 투과막 (311), 및 금속 판 (313) 과 유체 투과막 (311) 사이에 샌드위치된 드레인 클로스 (314) 로 구성될 수도 있다.
도 4 는 각각의 필터 (31) 의 평면도이다.
도 2 및 4 에 도시된 바와 같이, 필터 (31) 의 각각은, 예를 들어, 원형판 형태이다.
도 4 에 도시된 바와 같이, 필터 (31) 의 각각은 3 개의 개구들, 상세하게는, 제 1 개구 (316), 제 2 개구 (317) 및 제 3 개구 (318) 로 형성되며, 모든 개구들은 표면 방향으로 필터 (31) 를 관통한다. 제 2 개구 (317) 는 필터들 (31) 의 각각의 중심에 배치되며, 제 1 및 제 3 개구 (316 및 318) 은 제 1 개구 (317) 에 대해서 대칭적으로 필터 (31) 의 중심을 관통하는 직경 상에 배치된다.
도 2 에 도시된 바와 같이, O-링 (35) 은 제 2 개구 (317) 의 에지에 위치한 실링 물질로서 인접한 필터들 (31) 사이에 샌드위치된다. O-링 (315) 은 제 2 개구 (317) 로부터 수직적으로 인접한 필터들 (31) 사이에서 형성된 공간을 실링한다.
필터들 (31) 의 각각내의 제 1 개구 (316) 는 진동식 막 분리기 (3) 의 입구 (3A) 를 통하여 필터 유닛 (32) 으로 도입되었던 사용된 현상액을 도 2 에서 도시된 경로 (A) 를 따라서 통과하게 한다.
도 5 는 유체 투과막 (311 및 312) 에 의해서 현상액이 여과되는 방법을 설명하는 모식적 단면도이다.
도 5 에 도시된 바와 같이, 필터들 (31) 의 각각에서 유체 투과막 (311) 은 표면 방향으로 유체 투과막 (311) 을 관통하는 많은 미세 구멍 (319) 으로 형성된다. 도시되지 않았지만, 필터들 (31) 의 각각에서 유체 투과막 (312) 은 유체 투과막 (311) 에 유사하게 많은 미세 구멍 (319) 으로 형성된다.
유체 투과막 (311 및 312) 의 구멍 (319) 은 사용된 현상액에 포함된 불순물들 (320) 은 투과할 수 없지만, 순수한 현상액 부분은 투과할 수 있는 치수를 가지도록 설계된다.
예를 들면, 프로세싱 효율 및 회수율을 고려할 때, 0.5 마이크로미터 이하의 직경 (유체 투과 직경) 을 가지는 것이 바람직하다. 구멍 (319) 은 0.2 내지 0.5 마이크로미터의 범위내의 직경이 포함되도록 하는 것이 보다 바람직하다.
구멍들 (319) 의 치수는 재사용되는 컴포넌트 (즉, 구멍 (319) 을 통과하는 컴포넌트) 및 제거되는 컴포넌트 (즉, 구멍 (319) 을 통과하지 못하는 컴포넌트) 의 직경 (분자량) 에 따라서 선택된다.
사용된 현상액이 상술한 방법으로 순환 펌프 (4) 에 의해서 공급되는 것에 의해서 진동식 막 분리기 (3) 로 도입되기 때문에, 사용된 현상액에 포함된 현상액 컴포넌트는 필터들 (31) 의 각각의 유체 투과막 (311 및 312) 을 통과하며 필터들 (31) 의 외부로부터 드레인 클로스 (314 및 315) 를 침투한다.
필터 (31) 들의 각각내의 유체 투과막 (311 및 312) 에 의해서 여과되고, 드레인 클로스 (314 및 315) 를 침투하는 순수한 현상액은 드레인 클로스 (314 및 315) 에서 이동하고, 제 2 개구 (317) 의 내부로 움직인다.
필터들 (31) 의 각각내의 제 2 개구 (317) 는 필터들 (31) 의 각각내의 드레인 클로스 (314 및 315) 에 남겨진 순수한 현상액이 도 2 에서 도시된 경로 (B) 를 따라서 투과하도록 하여, 그것에 의해서 그 순수한 현상액을 진동식 막 분리기 (3) 의 제 1 출구 (3B) 로 도입한다.
필터들 (31) 의 각각내의 유체 투과막 (311 및 312) 을 투과할 수 없고, 따라서 드레인 클로스 (314 및 315) 에 침투할 수 없는 불순물들 (320) 은 O-링 (35) 에 의해서 차단되고, 따라서, 제 2 개구 (317) 로 흐를 수 없다. 따라서, 불순물들 (320) 은 제 3 개구 (318) 를 향하여 필터들 (31) 의 각각내의 제 2 개구 (317) 를 따라 움직인다. 따라서, 불순물들 (320) 은 진동식 막 분리기 (3) 의 제 2 출구 (3C) 로 도입된다.
진동식 막 분리기 (3) 는 도 1 및 2 에서 도시된 것과 좌우 위치가 반전되어 도시되어 있음을 주의한다.
진동식 막 분리기 (3) 의 진동기는 예를 들어 모터 및 편심 진동 유닛으로 구성되어, 계속적으로 필터 유닛 (32) 에 진동을 인가한다. 구체적으로는, 진동기는 예를 들어 필터 (31) 가 놓인 평면에서 필터들 (31) 이 회전하도록 40 내지 60 Hz 의 진동 주파수에서 및 1 내지 2.5 cm 의 진폭에서 필터 유닛 (32) 에 진동을 인가하거나, 또는 진동기는 필터 (31) 가 놓인 평면에서 필터들 (31) 이 직선 왕복하도록 하는 것에 의해서 필터 유닛 (32) 에 진동을 인가한다.
상술한 진동이 필터 유닛 (32) 에 인가되기 때문에, 불순물 입자 (320)(도 5 참조) 는 필터들 (31) 의 각각에서 유체 투과막 (311 및 312) 의 표면 주변에서의 진동에 의해서 발생된 단력 (sharing force) 때문에 유체 투과막 (311 및 312) 으로부터 멀리 이동되게 된다. 따라서, 농도 분극 (농도가 매우 높은 발생 영역) 은, 불순물 입자들 (320) 이 유체 투과막 (311 및 312) 에 부착되는 것이 억제되는 것을 보증하면서, 필터 유닛 (32) 에서 발생되도록 억제된다.
불순물 입자들 (320) 은 단력 때문에 유체 투과막 (311 및 312) 에서 떨어질 수 있다.
따라서, 유체 투과막 (311 및 312)(필터 (31)) 이 막히는 것을 방지하여, 유체 투과막 (311 및 312) 이 그 표면에서 깨끗하게 유지될 수 있는 것이 가능하다.
따라서, 유체 투과막 (311 및 312) 을 투과하는 현상액의 플럭스의 감소를 줄이고, 따라서 장시간 플럭스를 안정적으로 높게 유지하는 것이 가능하다.
따라서, 필터들 (31) 이 새로운 필터들로 교환되는 빈도를 감소시키고, 심지어 필터들 (31)(필터 유닛 (32)) 이 새로운 필터들로 교환되지 않더라도, 탱크 (2) 내에서 포함된 농축된 현상액을 고농도로 농축하는 것이 가능하다.
탱크 (2) 에 포함된 농축된 현상액의 농도가 매우 높을 때, 순환식 습식 프로세싱 장치 (100) 의 동작이 중지되며, 그 후 탱크 (2) 에 포함된 고체 컴포넌트 (즉, 고체화된 불순물들) 가 회수된다.
게다가, 순환식 습식 프로세싱 장치 (100) 의 사용을 통하여 수행되는 습식 처리에 의해서 기판 상에 패턴을 형성한 후에 PDP (디스플레이 패널) 를 제조하는 것이 가능하다.
본 발명의 실시예 1 에 따른 순환식 습식 프로세싱 장치 (100) 은 습식 처리가 수행되는 습식 처리 배쓰 (1), 습식 처리에 사용된 현상액에서 불순물을 분리하는 진동식 막 분리기 (3), 및 진동식 막 분리기 (3) 에 의해서 불순물들이 분리된 후의 현상액이 습식 처리 배쓰 (1) 로 공급되는 재공급 경로로 역할을 하는 배관 (13) 을 포함한다. 진동식 막 분리기 (3) 는 습식 처리 배쓰 (1) 에서 수행된 습식 처리에 사용된 현상액에서 불순물들을 분리하고, 불순물들이 진동식 막 분리기 (3) 에 의해서 분리된 현상액이 습식 처리 배쓰 (1) 로 재공급된다. 따라서, 현상액을 재사용하는 것이 가능하다.
현상액에서 분리되고 회수된 불순물들은 패턴 물질로 재사용될 수 있다.
게다가, 현상액에서 불순물을 분리하는 것은 진동식 막 분리기 (3) 에 의해 서 수행된다. 진동식 막 분리기 (3) 에 갖춰진 필터들 (31) 은 좀처럼 막히지 않기 때문에, 필터들 (31)(필터 유닛 (32)) 이 새로운 필터들로 교환되는 빈도를 낮추는 것이 가능하다. 이것은 PDP 를 제조하는 라인이 중지되는 빈도를 낮추는 것이 가능하고, 따라서, 대량의 대형 기판을 프로세싱하는 라인을 사용하는 것이 가능하다는 것을 보증한다.
게다가, 현상액에서 불순물들을 분리하는 것이 진동식 막 분리기 (3) 에 의해서 수행되기 때문에, 분리를 계속적으로 수행하는 것이 가능하다. 이것은 불순물들의 분리 및 회수에 대해서 많은 시간을 소요하지 않는다는 것을 보증한다.
게다가, 현상액에서 불순물들을 분리하는 것은 진동식 막 분리기 (3) 에 의해서 수행되기 때문에, 종래의 필터에 의해서 제거될 수 없었던 작은 직경을 가진 불순물들을 제거하는 것이 가능하다. 따라서, 배관들 (11, 12, 및 14) 은 막히는 것이 어려워지는 것이 가능해진다.
게다가, 현상액에서 불순물들을 분리하는 것은 진동식 막 분리기 (3) 에 의해서 수행되기 때문에, 불순물들의 회수율은 진동식 막 분리기 (3) 의 유체 투과막 (311 및 312) 을 투과할 수 있는 입자들의 직경에 오직 의존한다. 즉, 불순물들 (320) 의 비중에 의해서 회수율 면에서 어떠한 분산도 없고, 따라서, 불순물들 (320) 의 비중에 상관없이 불순물들 (320) 을 매끄럽게 분리하는 것이 가능하다.
예를 들면, 유체 투과막 (311 및 312) 을 투과할 수 있는 입자의 직경이 0.4 마이크로미터와 동일하게 설정되었던 다양한 패턴 물질에 대해서 수행된 실험은 90 % 이상 (거의 100%) 의 회수율이 패턴 물질에 상관없이 달성될 수 있음을 보여 준다.
따라서, 재이용된 현상액에 포함된 불순물들의 부피를 매우 낮게 유지하고, 재이용된 현상액이 사용된 습식 처리에 의해서 부여된 현상 품질을 상승시켜서, 패턴이 안정적으로 형성될 수 있는 것이 가능하다. 또한, 현상액이 새로운 것으로 교환되는 빈도를 감소시켜서, 사용된 현상액의 부피에서의 감소를 가능하게 한다.
불순물들의 분리가 상술한 불순물들의 비중에 상관없이 바람직하게 수행되기 때문에, 현상액이 순환되는 배관들 (11, 12 및 14) 이 막히는 것을 방지하거나, 또는 노즐이 습식 처리 배쓰 (1) 에서 현상액을 토출시키기 위해서 사용되는 경우에 노즐이 막히는 것을 방지하는 것이 가능하다.
실시예 2
본 발명의 실시예 2 에 따른 순환식 습식 프로세싱 장치는 상술한 실시예 1에 따른 순환식 습식 프로세싱 장치 (100) 와 비교할 때 원심 분리기를 추가적으로 포함한다.
도 6 은 실시예 2 에 따라서 순환식 습식 프로세싱 장치 (습식 프로세싱 장치)(200) 의 구조를 도시하는 모식도이다.
실시예 2 에 따른 순환식 습식 프로세싱 장치 (200) 는 상술한 실시예 1에 따른 순환식 습식 프로세싱 장치 (100) 와 다음 사항에서 구조적으로 다르며, 다음 사항을 제외하고는 상술한 실시예 1 에 따른 순환식 습식 프로세싱 장치 (100) 의 구조와 동일한 구조를 가진다. 따라서, 상술한 실시예 1 에 따른 순환식 습식 프로세싱 장치 (100) 와 대응하는 실시예 2 에 따른 순환식 습식 프로세싱 장치 (200) 의 부분은 동일한 번호로 공급되며 설명되지 않는다.
도 6 에서 도시된 바와 같이, 실시예 2 에 따른 순환식 습식 프로세싱 장치 (200) 는, 상술한 실시예 1 에 따른 순환식 프로세싱 장치 (100) 의 부분들과 비교할 때, 사용된 현상액에서 불순물들을 계속적으로 분리하는 원심 분리기 (301), 유체 탱크 (제 1 탱크)(2) 에서 포함된 현상액이 원심 분리기 (301) 로 공급되는 배관 (302), 유체 탱크 (2) 에 포함된 현상액을 원심 분리기 (301) 에 공급하는 배관 (302) 내에 배치된 펌프 (제 1 펌프)(303), 원심 분리기 (301) 에 의해서 사용된 현상액에서 분리된 불순물들 (고체) 이 저장되는 고체 회수 탱크 (304), 원심 분리기 (301) 에 의해서 사용된 현상액에서 분리된 고체가 원심 분리기 (301) 로부터 고체 회수 탱크 (304) 로 공급되는 배관 (305), 불순물들 (고체) 이 원심 분리기 (301) 에 의해서 제거된 후의 현상액이 사용되는 유체 탱크 (제 2 탱크)(306), 및 불순물들이 원심 분리기 (301) 에 의해서 제거된 후의 현상액이 원심 분리기 (301) 로부터 유체 탱크 (306) 로 공급되는 배관 (307) 을 추가적으로 포함하는 것으로 설계된다.
유체 탱크 (2) 는 그 안에 습식 처리 배쓰 (1) 에서 수행된 습식 처리를 위해서 사용되었던 사용된 현상액의 혼합 용액, 및 진동식 막 분리기 (3) 의 제 2 출구 (3C) 로부터 배출된 농축된 현상액을 저장한다.
혼합 용액은 펌프 (303) 에 의해서 유체 탱크 (2) 로부터 원심 분리기 (301) 로 공급된다.
원심 분리기 (301) 는 유체 탱크 (2) 로부터 공급된 혼합 용액에서 고체를 원심분리한다.
그것은 고체의 비중에 의존하지만, 예를 들어, 약 30 내지 약 98 % 까지 고체를 계속적으로 분리하는 것이 가능하다.
그에 따라 분리된 고체들은 10 % 이하의 물 성분을 가진다. 고체는 배관 (305) 을 통하여 고체 회수 탱크 (304) 로 공급된다.
고체들이 제거된 현상액은 배관 (307) 을 통하여 유체 탱크 (306) 로 공급된다.
실시예 2 에서, 배관 (12) 은 진동식 막 분리기 (3) 의 출구 (3A) 에 유체 탱크 (306) 를 연결하고, 순환 펌프 (제 2 펌프)(4) 는 유체 탱크 (306) 에서 저장된 현상액을 배관 (12) 을 통하여 진동식 막 분리기 (3) 로 공급한다.
유체 탱크 (306) 로 공급된 현상액은 순환 펌프 (4) 에 의해서 진동식 막 분리기 (3) 로 공급된다. 상술한 실시예 1 과 유사하게, 불순물들은 진동식 막 분리기 (3) 에 의해서 현상액 밖으로 제거된다.
본 발명에 따른 실시예 2 는 습식 처리 배쓰 (1) 에서 수행된 습식 처리를 위해서 사용되었던 현상액에서 불순물들을 분리하는 원심 분리기 (301) 을 추가적으로 포함하도록 설계된다. 진동식 막 분리기 (3) 는 불순물들이 원심 분리기 (301) 에 의해서 제거된 후의 현상액에서 불순물을 더 분리한다. 따라서, 실시예 2 는 상술한 실시예 1 과 동일한 장점을 공급하며, 또한 사용된 현상액 및 진동식 막 분리기 (3) 로부터 방출된 농축된 현상액에서 고체를 분리하거나 제거하는 것이 가능한 장점을 공급한다.
실시예 3
상술한 실시예 1 은 단일 유체 탱크 (2) 를 포함하도록 설계된다. 본 발명에 따른 실시예 3 은 두개의 유체 탱크들 (2) 을 포함하도록 설계되며, 두개의 유체 탱크들 중 하나는 선택되고 사용된다.
도 7 은 본 발명의 실시예 3 에 따른 순환식 습식 프로세싱 장치 (습식 프로세싱 장치)(300) 의 구조를 도시하는 모식도이다.
실시예 3 에 따른 순환식 습식 프로세싱 장치 (300) 는 상술한 실시예 1 에 따른 순환식 습식 프로세싱 장치 (100) 와 다음 사항에서 구조적으로 다르며, 다음 사항을 제외하고는 상술한 실시예 1 에 따른 순환식 습식 프로세싱 장치 (100) 와 동일한 구조를 가진다. 따라서, 상술한 실시예 1 에 따른 순환식 습식 프로세싱 장치 (100) 에 대응하는 실시예 3 에 따른 순환식 습식 프로세싱 장치 (300) 의 부분들은 동일한 번호가 부여되며 설명되지 않는다.
도 7 에 도시된 바와 같이, 실시예 3 에 따른 순환식 습식 프로세싱 장치 (300) 은 습식 처리 배쓰 (1), 진동식 막 분리기 (3), 순환 펌프 (4), 및 배관들 (11, 12, 13, 및 14) 이외에, 습식 처리 배쓰 (1) 에서 수행된 습식 처리에 사용된 현상액을 일시적으로 저장할 수 있는 제 1 및 제 2 유체 탱크 (331 및 332), 배관 (11) 및 제 1 유체 탱크 (331) 가 서로 유체적으로 연결된 배관 (334), 배관 (11) 및 제 2 유체 탱크 (332) 가 유체적으로 서로 연결된 배관 (335), 배관 (11) 에 공급된 혼합 용액 (사용된 현상액 및 농축된 현상액의 혼합 용액) 이 제 1 및 제 2 유체 탱크들 (331 및 332) 중에서 선택된 탱크로 공급되는 제 1 밸브 (333), 제 1 유체 탱크 (331) 및 배관 (12) 이 서로 유체적으로 연결된 배관 (336), 제 2 유체 탱크 (332) 및 배관 (12) 이 서로 유체적으로 연결된 배관 (337), 배관 (12) 이 제 1 및 제 2 유체 탱크들 (331 및 332) 중에서 선택된 탱크와 유체적으로 연결된 제 2 밸브 (338), 제 1 유체 탱크 (331) 에서 저장된 농축 현상액에 포함된 불순물들의 농도를 검출하는 제 1 농도 검출 센서 (341), 제 2 유체 탱크 (332) 에서 저장된 농축 현상액에 포함된 불순물들의 농도를 검출하는 제 2 농도 검출 센서 (342), 및 제 1 및 제 2 농도 검출 센서 (341 및 342) 에 의해서 검출된 농도에 따라서 제 1 및 제 2 밸브 (333 및 338) 를 동작시키는 제어기 (350) 를 포함하도록 설계된다.
제 1 및 제 2 밸브들 (333 및 338) 의 각각은 전기적으로 구동된 3 방향 밸브로 구성된다. 제 1 밸브 (333) 는 배관 (11) 을 제어기 (350) 에 의한 제어 하에서 배관 (334) 및 배관 (335) 중 하나에 연결시킨다. 제 2 밸브 (338) 는 배관 (12) 을 제어기 (350) 에 의한 제어하에서 배관 (336) 및 배관 (337) 중 하나에 연결시킨다.
제어기 (350) 는 제 1 및 제 2 밸브들 (333 및 338) 을 동시적으로 제어한다. 구체적으로는, 배관 (336) 은 배관 (11) 이 제 1 밸브 (333) 를 통하여 배관 (334) 에 연결된 때 제 2 밸브 (338) 를 통하여 배관 (12) 에 연결되며, 그에 반하여, 배관 (337) 은, 배관 (11) 이 제 1 밸브 (333) 를 통하여 배관 (335) 에 연결된 때 제 2 밸브 (338) 를 통하여 배관 (12) 에 연결된다.
제어기 (350) 는 배관 (11) 을 제 1 밸브 (333) 를 통하여 배관 (334) 에 연결시키는 것 및 배관 (336) 을 배관 (12) 에 제 2 밸브 (338) 를 통하여 연결하는 것에 의하여, 사용될 제 1 유체 탱크 (331) 을 선택하거나, 또는 배관 (11) 을 제 1 밸브 (333) 을 통하여 배관 (335) 에 연결하는 것 및 배관 (337) 을 배관 (12) 에 제 2 밸브 (338) 를 통하여 연결하는 것에 의해서 사용될 제 2 유체 탱크 (332) 를 선택한다.
선택된 탱크에 저장된 현상액에 포함된 불순물의 농도가 소정 값 농도를 초과하면, 제어기 (350) 는 선택된 탱크를 다른 탱크로 전환한다.
구체적으로는, 제 1 유체 탱크 (331) 가 사용될 탱크로 선택되었다고 가정하면, 제어기 (350) 는, 제 1 유체 탱크 (331) 에 저장된 현상액에 포함된 불순물들의 농도를 검출하는 제 1 농도 검출 센서 (341) 에 의해 검출된 농도가 소정 값 농도를 초과할 때, 제 1 및 제 2 밸브들 (333 및 338) 의 동작을 제어하고 그것에 의하여 사용될 탱크로써 제 1 유체 탱크 (331) 를 제 2 유체 탱크 (332) 로 전환한다.
대조적으로, 제 2 유체 탱크 (332) 가 사용될 탱크로 선택되었다고 가정할 때, 제어기 (350) 는, 제 2 유체 탱크 (332) 에 저장된 현상액에 포함된 불순물들의 농도를 검출하는 제 2 농도 검출 센서 (342) 에 의해서 검출된 농도가 소정 값 농도를 초과할 때, 사용될 탱크로써 제 2 유체 탱크 (332) 를 제 1 유체 탱크로 전환한다.
상술한 구조 중에서, 제 1 밸브 (333), 제 2 밸브 (338), 및 배관들 (334, 335, 336, 및 337) 은 유로 전환 유닛을 구성한다.
실시예 3 에서, 배관 (11) 은 제 1 밸브 (333) 에 연결된다. 배관 (12) 은 진동식 막 분리기 (3) 의 출구 (3A) 에 제 2 밸브 (338) 를 연결시킨다. 순환 펌프 (4) 는 배관 (336) 및 배관 (12) 을 통하여 제 1 유체 탱크 (331) 에 저장된 현상액을 진동식 막 분리기 (3) 에 공급하거나 또는 배관 (337) 및 배관 (12) 을 통하여 제 2 유체 탱크 (332) 에 저장된 현상액을 진동식 막 분리기 (3) 에 공급한다.
상술한 실시예 1 과 유사하게, 불순물들이 순환 펌프 (4) 에 의해서 진동식 막 분리기 (3) 에 공급된 현상액에서 진동식 막 분리기 (3) 에 의해서 제거된다.
실시예 3 에 따라서 순환식 습식 프로세싱 장치 (300) 의 동작 중에서, 제 1 유체 탱크 (331) 및 제 2 유체 탱크 (332) 중 하나를 선택하기 위한 동작이 이하에서 설명된다.
예를 들어, 제어기 (350) 는 초기에 제 1 유체 탱크 (331) 를 사용될 탱크로 선택한다.
즉, 제어기 (350) 는 배관 (11) 을 제 1 밸브 (331) 를 통하여 배관 (334) 에 연결하고, 또한 배관 (336) 을 제 2 밸브 (338) 를 통하여 배관 (12) 에 연결한다.
사용된 현상액 및 농축 현상액은 각각 습식 처리 배쓰 (1) 및 진동식 막 분리기 (3) 로부터 제 1 및 제 2 유체 탱크 (331 및 332) 중 제 1 유체 탱크 (331) 에 공급되고, 또한, 제 1 유체 탱크 (331) 에 저장된 혼합 용액이 진동식 막 분리 기 (3) 에 공급된다.
제 1 농도 검출 센서 (341) 는 제 1 유체 탱크 (331) 에 저장된 혼합 용액의 불순물의 농도를 검출하고, 제어기 (350) 에 검출 결과를 보낸다. 제 1 유체 탱크 (331) 에 저장된 혼합 용액의 불순물 농도가 상승하고 소정 값 농도를 초과하면, 제어기 (350) 는 제 1 및 제 2 밸브 (333 및 338) 의 동작을 제어한다.
구체적으로는, 제어기 (350) 는 제 1 밸브 (333) 를 통하여 배관 (11) 을 배관 (335) 에 연결하고, 또한 제 2 밸브 (338) 를 통하여 배관 (337) 을 배관 (12) 에 연결시켜, 그것에 의하여 사용될 탱크로써 제 2 유체 탱크 (332) 를 선택한다.
따라서, 습식 처리 배쓰 (1) 로부터의 사용된 현상액 및 진동식 막 분리기 (3) 로부터의 농축 현상액은 선택적으로, 제 1 및 제 2 유체 탱크들 (331 및 332) 중 제 2 유체 탱크 (332) 로 공급되며, 또한, 제 2 유체 탱크 (332) 에 저장된 혼합 용액은 진동식 막 분리기 (3) 로 공급된다.
고체들 (고체화된 불순물들) 은 제 1 유체 탱크 (331) 에 저장된 혼합 용액 (농축 현상액) 에서 회수된다.
제 2 농도 검출 센서 (342) 는 제 2 유체 탱크 (332) 에 저장된 혼합 용액에 포함된 불순물들의 농도를 검출하고, 검출 결과를 제어기 (350) 에 보낸다. 제 2 유체 탱크 (332) 에 저장된 혼합 용액의 불순물의 농도가 상승하고 소정 값 농도를 초과하면, 제어기 (350) 는 제 1 및 제 2 밸브들 (333 및 338) 의 동작을 제어한다.
구체적으로는, 제어기 (350) 는 배관 (11) 을 제 1 밸브 (333) 를 통하여 배 관 (334) 에 연결하고, 또한 배관 (336) 을 제 2 밸브 (338) 를 통하여 배관 (12) 에 연결하여, 그것에 의하여 제 1 유체 탱크 (331) 를 사용될 탱크로 선택한다.
따라서, 습식 처리 배쓰 (1) 로부터의 사용된 현상액 및 진동식 막 분리기 (3) 로부터의 농축 현상액은 선택적으로 제 1 유체 탱크 (332) 에 공급되고, 또한, 제 1 유체 탱크 (331) 에 저장된 혼합 용액은 진동식 막 분리기 (3) 에 공급된다.
고체들 (고체화된 불순물들) 은 제 2 유체 탱크 (332) 에 저장된 혼합 용액 (농축 현상액) 에서 회수된다.
따라서, 순환식 습식 프로세싱 장치 (300) 의 동작을 중지하는 것 없이 사용된 현상액에서 불순물들을 계속적으로 분리하고 회수하는 것이 가능하다.
상술한 실시예 3 에 따라서, 습식 프로세싱 장치는 복수의 유체 탱크들 (331 및 332) 을 포함한다. 습식 처리 배쓰 (1) 로부터의 사용된 현상액 및 진동식 막 분리기 (3) 로부터의 농축 현상액은 유체 탱크들 (331 및 332) 중 하나에 선택적으로 공급된다. 습식 프로세싱 장치가 선택된 탱크에 저장된 혼합 용액이 진동식 막 분리기 (3) 로 공급되는 유로 전환 유닛 (제 1 밸브 (333), 제 2 밸브 (338) 및 배관들 (334, 335, 336 및 337)) 을 포함하기 때문에, 실시예 3 은 상술한 실시예 1 에 의해서 주어진 장점과 동일한 장점을 공급하며, 또한 순환식 습식 프로세싱 장치 (300) 의 동작을 중지하는 것 없이 사용된 현상액에서 불순물들을 계속적으로 분리하고 회수하는 것이 가능한 장점을 공급한다.
또한, 순환식 습식 프로세싱 장치 (300) 는 각각 유체 탱크들 (331 및 332) 에 저장된 혼합 용액에 포함된 불순물의 농도를 검출하는 농도 검출 센서 (341 및 342), 및 유로 전환 유닛 (특히, 제 1 및 제 2 밸브들 (333 및 338)) 을 동작시켜 그것에 의해서 현재 선택된 탱크를 다른 탱크로 전환시키는 제어기 (350) 를 포함하기 때문에, 선택된 탱크에 저장된 혼합 용액에 포함된 불순물의 농도가 소정 값 농도를 초과하면, 유체 탱크들 (331 및 332) 를 서로 자동적으로 전환하는 것이 가능하다.
복수의 유체 탱크들 (2) 중 하나가 사용을 위해서 선택된 경우에, 실시예 3 과 유사하게 복수의 유체 탱크들 (2) 을 포함하도록 상술한 실시예 2 를 설계하는 것이 가능하다.
또한, 복수의 유체 탱크들 (306) 중 하나가 사용을 위해서 선택된 경우에, 실시예 3 과 유사하게 복수의 유체 탱크들 (306) 을 포함하도록 상술한 실시예 2 를 설계하는 것이 가능하다.
실시예 4
본 발명의 실시예 4 에 따른 습식 프로세싱 장치는 복수의 (예를 들면, 2개의) 진동식 막 분리기들을 포함하도록 설계된다.
도 8 은 본 발명의 실시예 4 에 따른 순환식 습식 프로세싱 장치 (습식 프로세싱 장치)(400) 의 구조를 도시하는 모식도이다.
실시예 4 에 따른 순환식 습식 프로세싱 장치 (400) 는 오직 다음 사항에서만 상술한 실시예 1 에 따른 순환식 습식 프로세싱 장치 (100) 와 다르며, 다음 사항을 제외하고는 상술한 실시예 1 에 따른 순환식 습식 프로세싱 장치 (100) 와 동일한 구조를 가진다. 따라서, 상술한 실시예 1 에 따른 순환식 습식 프로세싱 장치 (100) 에 상응하는 실시예 4 에 따른 순환식 습식 프로세싱 장치 (400) 의 부분들은 동일한 참조 번호가 부여되며, 설명되지 않는다.
도 8 에 도시된 바와 같이, 실시예 4 에 따른 순환식 습식 프로세싱 장치 (400) 는, 실시예 1 에 따른 순환식 습식 프로세싱 장치 (100) 의 부분들 이외에, 진동식 막 분리기 (3) 에 의해서 현상액에서 분리되었던 불순물들을 포함하는 농축 현상액을 일시적으로 저장하는 제 2 유체 탱크 (제 2 탱크)(402), 및 제 2 유체 탱크 (402) 로부터 공급된 농축 현상액에서 불순물들을 더 분리하는 제 2 진동식 막 분리기 (401) 를 포함한다.
제 2 진동식 막 분리기 (401) 는 진동식 막 분리기 (3) 의 구조와 동일한 구조를 가진다.
실시예 4 에 따른 순환식 습식 프로세싱 장치 (400) 는 제 2 진동식 막 분리기 (401) 의 입구 (3A) 에 제 2 유체 탱크 (402) 에 저장된 농축 현상액이 공급되는 배관 (403), 제 2 진동식 막 분리기 (401) 의 입구 (3A) 에 제 2 유체 탱크 (402) 에 저장된 농축 현상액을 배관 (403) 을 통하여 공급하는 배관 (403) 에 배열된 펌프 (404), 제 2 진동식 막 분리기 (401) 의 제 1 출구 (3B) 및 습식 처리 배쓰 (1) 가 서로 유체적으로 연결되는 배관 (405), 및 제 2 진동식 막 분리기 (401) 의 제 2 출구 (3C) 및 배관 (14) 이 서로 유체적으로 연결되는 배관 (406) 을 더 포함한다.
실시예 4 에서, 배관 (14) 은 배관 (11) 에 유체적으로 연결된 것 아니라 제 2 유체 탱크 (402) 에 유체적으로 연결된다.
실시예 4 에 따른 순환식 습식 프로세싱 장치 (400) 가 또한 진동식 막 분리기 (3) 에 의해서 현상액에서 분리된 불순물들을 포함하는 농축 현상액을 일시적으로 저장하는 제 2 유체 탱크 (402), 및 제 2 유체 탱크 (402) 로부터 공급된 농축 현상액에서 불순물들을 더 분리하는 제 2 진동식 막 분리기 (401) 를 포함하기 때문에, 순환식 습식 프로세싱 장치 (400) 는 실시예 1 에 의해서 공급된 장점과 동일한 장점을 공급하며, 실시예 1 에서는 동일한 것에 비하여, 진동식 막 분리기 (3) 의 필터들 (31) 이 새로운 필터들로 교환되는 빈도를 감소시키는 것이 가능한 장점을 또한 공급한다.
구체적으로는, 실시예 4 에서, 진동식 막 분리기 (3) 에 의해서 현상액에서 분리된 농축 현상액은 유체 탱크 (2) 로 반환되는 게 아니라, 제 2 유체 탱크 (402) 에 공급된다. 따라서, 유체 탱크 (2) 에서 저장된 현상액에 포함된 불순물의 농도의 상승을 억제하고, 진동식 막 분리기 (3) 의 필터들 (31) 이 새로운 필터들로 교환되는 빈도를 감소시키는 것이 가능하다.
실시예 4 에 따른 순환식 습식 프로세싱 장치 (400) 는, 제 2 유체 탱크들 (402) 중 하나가 사용을 위해서 선택되는 경우에, 상술한 실시예와 유사하게, 복수의 제 2 유체 탱크들 (402) 을 포함하도록 설계될 수도 있다.
실시예 4 에 따른 순환식 습식 프로세싱 장치 (400) 는, 상술한 실시예 2 와 유사하게, 제 2 유체 탱크 (402) 로부터 공급된 농축 현상액을 원심 분리기 (301) 에 의해서 현상액 및 고체로 나누도록 설계될 수도 있다.
상술한 실시예에서, 현상액이 처리될 용액으로 예시되지만, 처리되는 용액은 현상액에 한정되지 않는다.
상술한 실시예들에서, PDP 를 구성하는 기판이 습식 처리가 순환식 습식 프로세싱 장치에 의해서 적용되는 기판으로 예시되지만, 습식 처리가 순환식 습식 프로세싱 장치에 의해서 적용되는 기판은 PDP 기판에 한정되지 않는다. 예를 들어, 순환식 습식 프로세싱 장치에 의해서 수행된 습식 처리는 액정 디스플레이 패널을 포함하는 임의의 디스플레이 패널에 적용될 수도 있다.
진동식 막 분리기 (3) 의 구조는 상술한 구조에 한정되지 않으며, 변할 수도 있다. 진동식 막 분리기 (3) 의 변형예들이 이하에서 설명된다.
(제 1 변형예)
도 9 는 진동식 막 분리기 (3) 의 제 1 변형예에 따라서 진동식 막 분리기 (351) 의 요부를 도시하는 사시단면도이며, 도 10 은 제 1 변형예에 따라서 진동식 막 분리기 (351) 의 필터 (31A) 의 평면도이다.
상술한 진동식 막 분리기 (3) (도 2) 에서, 경로 A 에 따른 제 1 개구 (316) 를 통과하는 사용된 현상액이 상대적으로 높은 위치에 배치된 필터들 (31) 을 침투할 수 없지만, 상대적으로 낮은 위치에 배치된 필터들 (31) 을 침투할 수 있다. 결과적으로, 상대적으로 높은 위치에 배치된 필터들 (31) 은 여과용으로 사용되지 않을 수도 있다.
따라서, 제 1 변형예에 따른 진동식 막 분리기 (351) 의 필터들 (31A) 의 각각은 상술한 진동식 막 분리기 (3) 의 펄터들 (31)(도 4) 과 비교해서, 제 3 개구 (318) 를 포함하지 않도록 설계된다. 구체적으로는, 도 10 에 도시된 바와 같 이, 제 1 변형예에 따른 진동식 막 분리기 (351) 의 필터들 (31A) 의 각각은 오직 제 1 개구 (316) 및 제 2 개구 (317) 를 포함한다.
도 9 에 도시된 바와 같이, 서로에 인접하여 수직적으로 배치된 필터들 (31A) 의 제 1 개구들 (316) 은 필터 유닛 (32) 내의 제 2 개구 (317) 주변에서 서로에 대해서 대칭적으로 배치된다. 따라서, 사용된 현상액은 필터들 (31A) 의 각각을 균일하게 침투하여 (그리고 그에 따라, 사용된 현상액은 필터들 (31A) 의 각각에서 균일하게 여과됨), 필터들 (31A) 의 각각이 효과적으로 사용될 수 있다.
도 9 에는 서로에 인접하게 수직적으로 배치된 필터들 (31A) 의 제 1 개구들 (316) 이 제 2 개구 (317) 주변으로 서로에 대해서 대칭적으로 배치된 것으로 도시되지만, 필터들 (31A) 내의 제 1 개구들 (316) 이 서로에 대해 비정렬인 한, 항상 제 1 개구들 (316) 이 제 2 개구 (317) 주변으로 서로에 대해서 대칭적으로 배치될 필요는 없다.
(제 2 변형예)
도 11 은 진동식 막 분리기 (3) 의 제 2 변형예에 따른 진동식 막 분리기 (352) 의 요부를 도시하는 사시단면도이며, 도 12 는 제 2 변형예에 따른 진동식 막 분리기 (352) 의 필터 (31B) 의 사시도이다.
제 2 변형예에 따른 진동식 막 분리기 (352) 는 평면 판 형태인 필터들 (31) 대신에 뒤집힌 콘 모양 필터들 (31B) 을 사용하는 점에서 진동식 막 분리기 (3) 과 구조적으로 상이하며, 그 외에는 진동식 막 분리기 (3) 의 구조와 동일하다.
도 12 에 도시된 바와 같이, 제 2 변형예에 따른 진동식 막 분리기 (352) 는 평면 모양 필터들 (31) 대신에 뒤집힌 콘 모양 필터들 (31B) 을 포함한다.
필터들 (31B) 의 각각의 측면이 기울어져 있기 때문에, 경로 A 를 따라가고 제 1 개구 (316) 을 통하여 필터들 (31B) 의 각각에 들어가는 사용된 현상액에 중력이 가해진다. 따라서, 평면 모양 필터들 (31) 과 비교할 때, 불순물들이 제거된 후의 현상액이 드레인 클로스 (314) 에서 흐르는 속도는 중력이 가해지는 정도만큼 상승된다.
따라서, 제 2 변형예에 따른 진동식 막 분리기 (352) 는 불순물들이 사용된 현상액에서 제거되는 속도, 즉, 여과 속도를 증가시키는 것이 가능하게 만든다.
제 1 변형예에 따른 진동식 막 분리기 (35) 에 유사하게, 필터들 (31B) 의 각각은 제 1 개구 (316) 및 제 2 개구 (317) 를 포함하지만, 제 3 개구 (318) 를 포함하지는 않도록 설계된다.
(제 3 변형예)
도 13 은 진동식 막 분리기 (3) 의 제 3 변형예에 따른 진동식 막 분리기 (353) 의 요부를 도시하는 사시단면도이며, 도 14 는 제 3 변형예에 따른 진동식 막 분리기 (353) 의 필터 (31C) 의 사시도이다.
제 3 변형예에 따른 진동식 막 분리기 (353) 에서 사용된 필터들 (31C) 의 각각은 원형 평면 판의 형태이다. 필터들 (31C) 의 각각은 도 14 에 도시된 바와 같이, 제 1 개구 (316) 로만 형성된다.
필터들 (31) 이 진동식 막 분리기 (3) 에서 제 2 개구 (317) 의 에지를 따라서 배치된 실링 물질로 역할을 하는 O-링 (35) 에 의해서 서로 밀봉적으로 실링되 는 반면에, 실링 물질로 역할을 하는 O-링 (35A) 은 도 13 에 도시된 바와 같이, 제 3 변형예에 따른 진동식 막 분리기 (353) 에서 필터들 (31C) 의 각각의 외부 에지를 따라 배치된다.
또한, 제 1 개구들 (316) 은 서로에 인접하게 수직적으로 배치된 필터들 (31C) 에서 서로에 대해 비정렬되도록 배치된다.
불순물들이 제거된 후의 현상액은 드레인 클로스 (314) 를 투과하지 않으며, 필터 유닛 (32) 과 필터 용기 (33) 사이에 형성된 공간 (370) 에 들어간다. 공간 (370) 에 수용된 현상액은 펌프등에 의해서 펌프되고, 제 1 출구 (3B) 및 배관 (13) 을 통하여 습식 처리 배쓰 (1) 에 공급된다.
진동식 막 분리기 (3) 에서, 필터들 (31) 의 각각은 제 2 개구 (317) 의 형성 때문에 감소된 면적을 가지며, 따라서, 불순물들이 여과되는 여과 효율이 감소된다. 대조적으로, 제 3 변형예에 따른 진동식 막 분리기 (353) 는 제 2 개구 (317) 을 포함할 필요는 없기 때문에, 필터들 (31C) 의 각각이 진동식 막 분리기 (3) 의 필터들 (31) 의 면적보다 더 넓은 면적을 가지는 것이 가능하여, 진동식 막 분리기 (3) 와 비교할 때, 불순물들이 여과되는 여과 효율을 상승시키는 것을 가능함을 보증한다.
제 3 변형예에 따른 진동식 막 분리기 (353) 에서 각각의 필터들 (31C) 은 제 1 개구 (316) 를 포함할 뿐 아니라, 제 3 개구 (318) 를 포함하도록 설계될 수도 있다.
(제 4 변형예)
도 15 는 진동식 막 분리기 (3) 의 제 4 변형예에 따른 진동식 막 분리기 (354) 의 요부를 도시하는 종단면도이며, 도 16 은 제 4 변형예에 따른 진동식 막 분리기 (354) 의 필터 (31D) 의 사시도이다.
도 16 에 도시된 바와 같이, 제 4 변형예에 따른 진동식 막 분리기 (354) 는 뒤집힌 콘 모양 필터들 (31D) 을 포함한다. 필터들 (31D) 의 각각은 제 1 개구 (316) 로 형성된다.
도 15 에 도시된 바와 같이, 제 4 변형예에 따른 진동식 막 분리기 (354) 에서, 실로 역할을 하는 O-링 (35A) 은 제 3 변형예에 따른 진동식 막 분리기 (353) 와 유사하게, 필터들 (31D) 의 각각의 외부 에지를 따라서 배열된다.
또한, 서로 인접하게 수직적으로 배치된 필터들 (31D) 내의 제 1 개구들 (316) 은 서로 비정렬되도록 배치된다.
제 4 변형예에 따른 진동식 막 분리기 (354) 는 진동식 막 분리기 (3) 이외에, 필터들 (31D) 을 회전시키는 회전 유닛을 포함하도록 설계된다. 회전 유닛은 그 중심 축 (360) 주위로 필터들 (31D) 의 각각을 회전시킨다.
불순물들이 제거된 후의 현상액은 드레인 클로스 (314) 에 투과되며, 필터 유닛 (32) 과 필터 용기 (33) 사이에 형성된 공간 (370) 에 들어간다. 공간 (370) 에 수용된 현상액은 펌프 등에 의해서 펌핑되고, 제 1 출구 (3B) 및 배관 (13) 을 통하여 습식 처리 배쓰 (1) 로 공급된다.
제 4 변형예에 따른 진동식 막 분리기 (354) 에서, 필터들 (31D) 의 각각은 그 중심축 (360) 주변을 회전한다. 원심력 F 는 경로 A 로 투과하고 제 1 개구 (316) 를 통하여 필터들 (31D) 의 각각에 들어가는 사용된 현상액에 가해진다. 사용된 현상액은 원심력 F 때문에 필터들 (31D) 의 각각의 측벽으로 가압되어, 현상액이 유체 투과막 (311 및 312) 을 통하여 드레인 클로스 (314) 로 흡수되는 속도가 상승되고, 따라서, 불순물들이 사용된 현상액에서 제거되는 여과 속도가 상승될 수 있다. 따라서, 진동식 막 분리기 (3) 에 비하여 불순물들을 제거하는 여과 효율을 상승시키는 것이 가능하다.
제 4 변형예에 따른 진동식 막 분리기 (354) 에서 필터들 (31D) 의 각각은 제 1 개구 (316) 뿐만 아니라, 제 3 개구 (318) 로 형성될 수도 있다.
진동식 막 분리기 (3) 뿐만 아니라, 제 2 진동식 막 분리기 (401) 가 상술한 제 1 내지 제 4 변형예에 따른 진동식 막 분리기 (351, 352, 353 및 354) 중 임의의 것으로 대체될 수도 있다.

Claims (19)

  1. 디스플레이 패널을 구성하는 기판 상에 패턴을 형성하기 위한 습식 처리를 수행하는 습식 프로세싱 장치로서,
    상기 습식 처리가 수행되는 습식 처리 배쓰;
    상기 습식 처리에서 사용되는 용액에서 불순물들을 분리하는 진동식 막 분리기; 및
    상기 진동식 막 분리기에 의해서 상기 불순물들이 제거된 후의 상기 용액이 상기 습식 처리 배쓰로 재공급되는 재공급 경로를 포함하는, 습식 프로세싱 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 습식 처리 배쓰로부터 공급된, 상기 습식 처리에 사용되었던 용액이 일시적으로 저장되는 탱크; 및
    상기 탱크에 저장된 상기 용액을 상기 진동식 막 분리기로 공급하는 펌프를 더 포함하는, 습식 프로세싱 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 진동식 막 분리기에 의해서 상기 용액에서 분리된 불순물들을 포함하는 농축 용액이 상기 진동식 막 분리기로부터 상기 탱크로 공급되는 경로를 더 포함하는, 습식 프로세싱 장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 습식 프로세싱 장치는 복수의 상기 탱크를 포함하며,
    상기 용액 및 상기 농축 용액은, 각각, 상기 습식 처리 배쓰 및 상기 진동식 막 분리기로부터, 선택적으로 상기 탱크들 중 임의의 탱크로 공급되며,
    상기 습식 프로세싱 장치는 상기 선택된 탱크내에 저장된 용액을 상기 진동식 막 분리기로 공급하는 유로 전환 유닛을 더 포함하는, 습식 프로세싱 장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 탱크의 각각에 저장된 상기 용액에 포함된 불순물 농도를 검출하는 농도 검출 센서; 및
    상기 선택된 탱크내에 저장된 용액에 포함된 불순물 농도가 소정 값을 초과할 때, 상기 선택된 탱크를 다른 탱크로 전환하기 위해서 상기 유로 전환 유닛을 제어하는 제어기를 더 포함하는, 습식 프로세싱 장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 습식 처리 배쓰에서 수행된 상기 습식 처리에 사용된 용액에서 불순물을 분리하는 원심 분리기를 더 포함하며,
    상기 진동식 막 분리기는 불순물들이 상기 원심 분리기에 의해서 이미 분리된 후의 상기 용액에서 불순물들을 더 분리하는, 습식 프로세싱 장치.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 습식 처리 배쓰로부터 공급된, 상기 습식 처리를 위해서 사용되었던 용액을 일시 저장하는 제 1 탱크;
    상기 제 1 탱크에 저장된 상기 용액을 상기 원심 분리기로 공급하는 제 1 펌프;
    상기 불순물들이 상기 원심 분리기에 의해서 분리된 후의 용액을 일시 저장하는 제 2 탱크; 및
    상기 제 2 탱크에 저장된 상기 용액을 상기 진동식 막 분리기로 공급하는 제 2 펌프를 더 포함하는, 습식 프로세싱 장치.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 진동식 막 분리기에 의해서 용액에서 분리되었던 불순물들을 포함하는 농축 용액이 상기 진동식 막 분리기로부터 상기 제 1 탱크로 공급되는 경로를 더 포함하는, 습식 프로세싱 장치.
  9. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 진동식 막 분리기에 의해서 용액에서 분리되었던 불순물들을 포함하는 농축 용액을 일시 저장하는 제 2 탱크; 및
    상기 제 2 탱크로부터 공급된 상기 농축 용액에서 불순물들을 더 분리하는 제 2 진동식 막 분리기를 더 포함하는, 습식 프로세싱 장치.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 제 2 진동식 막 분리기에 의해서 상기 용액에서 분리된 불순물들을 포함하는 농축 용액이 상기 제 2 진동식 막 분리기로부터 상기 제 2 탱크로 공급되는 경로를 더 포함하는, 습식 프로세싱 장치.
  11. 제 9 항 또는 제 10 항에 있어서,
    상기 제 2 진동식 막 분리기에 의해서 상기 농축 용액에서 분리된 용액이 상기 제 2 진동식 막 분리기로부터 상기 습식 처리 배쓰로 재공급되는 재공급 경로를 더 포함하는, 습식 프로세싱 장치.
  12. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 진동식 막 분리기 및 상기 제 2 진동식 막 분리기 중 적어도 하나는, 상기 필터들의 각각이 인접한 필터들로부터 소정 간격으로 이격되도록 수직적으로 배치된 복수의 필터들; 상기 필터들이 수용되는 필터 용기; 및 상기 필터들 및 상기 필터 용기 양자를 진동시키는 진동기로 이루어지며,
    상기 필터들의 각각은 금속판, 상기 용액은 투과시키지만 상기 불순물들은 투과시키지 않는 막, 및 상기 금속 판과 상기 막 사이에 샌드위치되며 상기 용액을 투과시키는 드레인 클로스로 이루어지며,
    상기 필터들의 각각은 평면 판 형태이며 제 1 개구 및 제 2 개구로 형성되며,
    실 (seal) 은 서로에 인접하게 수직적으로 배치된 필터들의 상기 제 2 개구들의 에지들 사이에서 및 에지들을 따라서 형성되며;
    서로에 수직적으로 인접한 상기 필터들의 상기 제 1 개구들은 서로에 대해서 비정렬적으로 배치되는, 습식 프로세싱 장치.
  13. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 진동식 막 분리기 및 상기 제 2 진동식 막 분리기 중 적어도 하나는, 상기 필터들의 각각이 인접한 필터들로부터 소정 간격으로 이격되도록 수직적으로 배치된 복수의 필터들; 상기 필터들이 수용되는 필터 용기; 및 상기 필터들 및 상기 필터 용기 양자를 진동시키는 진동기로 이루어지며,
    상기 필터들의 각각은 금속판, 상기 용액은 투과시키지만 상기 불순물들은 투과시키지 않는 막, 및 상기 금속 판과 상기 막 사이에 샌드위치되며 상기 용액을 투과시키는 드레인 클로스로 이루어지며,
    상기 필터들의 각각은 뒤집힌 콘 형태이며 제 1 개구 및 제 2 개구로 형성되며,
    실은 서로에 인접하게 수직적으로 배치된 필터들의 상기 제 2 개구들의 에지들 사이에서 및 에지들을 따라서 형성되는, 습식 프로세싱 장치.
  14. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 진동식 막 분리기 및 상기 제 2 진동식 막 분리기 중 적어도 하나는, 상기 필터들의 각각이 인접한 필터들로부터 소정 간격으로 이격되도록 수직적으로 배치된 복수의 필터들; 상기 필터들이 수용되는 필터 용기; 및 상기 필터들 및 상기 필터 용기 양자를 진동시키는 진동기로 이루어지며,
    상기 필터들의 각각은 금속판, 상기 용액은 투과시키지만 상기 불순물들은 투과시키지 않는 막, 및 상기 금속 판과 상기 막 사이에 샌드위치되며 상기 용액을 투과시키는 드레인 클로스로 이루어지며,
    상기 필터들의 각각은 평면 판 형태이며 제 1 개구로 형성되며,
    실은 서로에 인접하게 수직적으로 배치된 필터들의 외부 에지들 사이에서 및 에지들을 따라서 형성되며,
    서로에 대해서 수직적으로 인접한 상기 필터들의 상기 제 1 개구는 서로에 대해서 비정렬적으로 배치되는, 습식 프로세싱 장치.
  15. 제 1 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 진동식 막 분리기 및 상기 제 2 진동식 막 분리기 중 적어도 하나는, 상기 필터들의 각각이 인접한 필터들로부터 소정 간격으로 이격되도록 수직적으로 배치된 복수의 필터들; 상기 필터들이 수용되는 필터 용기; 및 상기 필터들을 회전시키는 회전 유닛으로 이루어지며,
    상기 필터들의 각각은 금속판, 상기 용액은 투과시키지만 상기 불순물들은 투과시키지 않는 막, 및 상기 금속 판과 상기 막 사이에 샌드위치되며 상기 용액을 투과시키는 드레인 클로스로 이루어지며,
    상기 필터들의 각각은 뒤집혀진 콘 형태이며 제 1 개구로 형성되며,
    실은 서로에 인접하게 수직적으로 배치된 필터들의 외부 에지들 사이에서 및 에지들을 따라서 형성되며,
    서로에 대해서 수직적으로 인접한 상기 필터들의 상기 제 1 개구는 서로에 대해서 비정렬적으로 배치되며,
    상기 회전 유닛은 상기 필터들의 중심축 주변에 상기 필터들을 회전시키는, 습식 프로세싱 장치.
  16. 디스플레이 패널을 구성하는 기판 상에 패턴을 형성하기 위한 습식 처리를 포함하는 디스플레이 패널 제조 방법으로서,
    습식 처리 배쓰에서 수행되는 상기 습식 처리에서 사용되었던 용액에서 불순물들을 분리하는 분리 단계로서, 진동식 막 분리기에 의해서 수행되는, 상기 분리 단계; 및
    상기 불순물들이 상기 분리 단계에서 제거된 후의 용액을 상기 습식 처리 배쓰로 재공급하는 단계를 포함하는, 디스플레이 패널 제조 방법.
  17. 제 12 항에 있어서,
    상기 패턴을 형성하는 단계는 전극, 리브, 형광층, 블랙 메트릭스, 블랙 스 트립, 및 컬러 필터 중 적어도 하나를 형성하는 단계로 이루어지는, 방법.
  18. 제 16 항 또는 제 17 항에 있어서,
    상기 진동식 막 분리기에 의해서 상기 용액에서 분리된 상기 불순물들을 포함하는 농축 용액을 상기 농축 용액을 저장할 수 있는 복수의 탱크들 중에서 선택된 탱크로 저장하는 단계;
    상기 선택된 탱크에 저장된 상기 농축 용액에 포함된 불순물 농도를 검출하는 단계; 및
    상기 선택된 탱크에 저장된 상기 농축 용액에 포함된 상기 불순물 농도가 소정 값을 초과할 때, 상기 선택된 탱크를 다른 탱크로 전환하는 단계를 더 포함하는, 디스플레이 패널 제조 방법.
  19. 제 16 항 내지 제 18 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 분리 단계 이전에, 상기 습식 처리에서 사용되었던 용액에서 원심 분리기에 의해서 불순물들을 분리하는 것을 수행하는 단계를 더 포함하는, 디스플레이 패널 제조 방법.
KR1020077028041A 2005-05-30 2006-05-26 습식 프로세싱 장치 및 디스플레이 패널 제조 방법 KR100928175B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2005-00157182 2005-05-30
JP2005157182 2005-05-30
PCT/JP2006/310558 WO2006129567A1 (ja) 2005-05-30 2006-05-26 ウェット処理装置及び表示パネルの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20080023293A true KR20080023293A (ko) 2008-03-13
KR100928175B1 KR100928175B1 (ko) 2009-11-25

Family

ID=37481496

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020077028041A KR100928175B1 (ko) 2005-05-30 2006-05-26 습식 프로세싱 장치 및 디스플레이 패널 제조 방법

Country Status (4)

Country Link
US (1) US7959816B2 (ko)
JP (1) JP4608543B2 (ko)
KR (1) KR100928175B1 (ko)
WO (1) WO2006129567A1 (ko)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5231117B2 (ja) * 2008-07-24 2013-07-10 株式会社ニューフレアテクノロジー 成膜装置および成膜方法
JP5302605B2 (ja) * 2008-09-17 2013-10-02 株式会社日立ハイテクノロジーズ カラーフィルタ現像装置及び現像方法並びにカラーフィルタ製造システム及び製造方法
EP3646940A1 (de) * 2018-10-30 2020-05-06 Big Dutchman International GmbH Filtrationsvorrichtung für ultrafeine filtration

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5482381A (en) * 1977-12-15 1979-06-30 Nikkiso Co Ltd Improvement of ultraafiltration dialysis apparatus
JPS6034787A (ja) * 1983-08-08 1985-02-22 Babcock Hitachi Kk 電気透析式造水装置およびその運転方法
JPH10242047A (ja) 1996-12-24 1998-09-11 Toray Ind Inc 処理液処理方法および基板連続処理装置
US5997744A (en) * 1997-12-16 1999-12-07 Limaye; Santosh Y. Fluid separation module having a porous monolithic core
JPH11228950A (ja) 1998-02-09 1999-08-24 Hitachi Chem Co Ltd 蛍光体の回収法、回収蛍光体、これを用いた感光性樹脂組成物及び感光性エレメント
JPH11262765A (ja) * 1998-03-16 1999-09-28 Nagase & Co Ltd テトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイド含有廃液の前処理方法及びその再生方法
JP3191772B2 (ja) * 1998-08-05 2001-07-23 東レ株式会社 現像方法、プラズマディスプレイ用部材の製造方法および現像装置
JP2003109897A (ja) * 2001-07-26 2003-04-11 Tokyo Electron Ltd 現像処理方法および現像処理装置
TW570293U (en) * 2003-05-26 2004-01-01 Toppoly Optoelectronics Corp Wet etching device
JP4645449B2 (ja) 2003-10-28 2011-03-09 凸版印刷株式会社 現像装置
JP4393260B2 (ja) * 2004-04-20 2010-01-06 株式会社東芝 エッチング液管理方法
US7122458B2 (en) * 2004-07-22 2006-10-17 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Method for fabricating pad redistribution layer
US7285225B2 (en) * 2004-10-15 2007-10-23 Tronox, Llc Method and apparatus for concentrating a slurry

Also Published As

Publication number Publication date
KR100928175B1 (ko) 2009-11-25
WO2006129567A1 (ja) 2006-12-07
JPWO2006129567A1 (ja) 2009-01-08
US7959816B2 (en) 2011-06-14
US20100012620A1 (en) 2010-01-21
JP4608543B2 (ja) 2011-01-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20120095858A (ko) 반도체처리공정, 특히 화학적기계적연마공정에서 발생한 슬러리 함유 폐수를 재생하는 방법 및 장치
JP2007289940A (ja) 中空糸膜モジュールの洗浄方法
KR100928175B1 (ko) 습식 프로세싱 장치 및 디스플레이 패널 제조 방법
JP6000119B2 (ja) 加工廃液処理装置
EP3070059B1 (en) Air diffusion pipe and method for washing air diffusion pipe
TWI613004B (zh) 冷卻劑再生裝置及冷卻劑再生方法
JP5507908B2 (ja) 回転濾板式濾過機
KR101109551B1 (ko) 반도체 오염폐수 처리장치
JP6088360B2 (ja) 濾過装置
KR101732811B1 (ko) 고분자 유도물질을 사용한 에너지 저감형 정삼투막-여과막 결합 수처리와 해수담수화 시스템 및 방법
JP3659833B2 (ja) 多段積み浸漬型膜分離装置の運転方法
KR102631339B1 (ko) 농축수 희석 공급구조를 갖는 농축수 순환 공급형 산업용정수시스템
KR102628923B1 (ko) 개량된 농축수 순환 공급구조를 갖는 고회수율의 역삼투멤브레인형 산업용 정수시스템
JP2000062833A (ja) 固液分離装置
JP3044314B2 (ja) 回転式膜分離方法及び回転式膜分離装置
KR102144037B1 (ko) 수처리용 역세정 장치
KR101906533B1 (ko) 무기막 필터를 집수조에 이용한 산업 폐수(반도체 분야) 재이용 시스템
JP2008018300A (ja) 膜カートリッジ
JP3359442B2 (ja) 油水分離装置
JPH0952003A (ja) 固液分離方法および装置
JPH11221409A (ja) インライン形シ−ト片付ドラム回転式濾過機
JP4665498B2 (ja) 現像装置及び現像方法
JP6088359B2 (ja) 濾過装置
JPH11300178A (ja) 膜分離装置の膜の洗浄方法
JP2000176480A (ja) 活性汚泥処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
N231 Notification of change of applicant
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20121019

Year of fee payment: 4

LAPS Lapse due to unpaid annual fee