KR20070099310A - 평판 표시 장치의 제조 시스템 - Google Patents

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KR20070099310A
KR20070099310A KR1020060030597A KR20060030597A KR20070099310A KR 20070099310 A KR20070099310 A KR 20070099310A KR 1020060030597 A KR1020060030597 A KR 1020060030597A KR 20060030597 A KR20060030597 A KR 20060030597A KR 20070099310 A KR20070099310 A KR 20070099310A
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flat panel
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KR1020060030597A
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박희진
김성배
윤석일
정종현
허순범
신성건
정세환
현 허
김병욱
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주식회사 동진쎄미켐
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Abstract

본 발명은 필터 전에 부유물을 제거할 수 있는 평판 표시 장치의 제조 시스템을 제공하는 것이 그 기술적 과제이다. 이를 위해, 본 발명의 평판 표시 장치의 제조 시스템은 작업 유체를 이용하여 평판 표시 패널에 형성되는 작업층 중 불필요한 부위를 제거하는 작업 챔버, 상기 작업 챔버로부터 배출되는 상기 작업 유체를 인가 받아 상기 작업 유체에 포함된 상기 작업층의 부유물 여과하는 부유물 여과 유닛, 상기 부유물 여과 유닛으로부터 배출되는 상기 작업유체를 인가 받아 상기 작업 유체에 포함된 상기 작업층의 성분을 여과하는 필터, 그리고 상기 필터에서 상기 작업층 성분이 여과된 작업 유체를 저장하는 유체 저장조를 포함한다.
부유물, 여과, 평판 표시, 제조, 포토레지스트

Description

평판 표시 장치의 제조 시스템{SYSTEM FOR MANUFACTURING A FLAT PANEL DISPLAY}
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 표시 장치의 제조 시스템을 나타낸 구성도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 표시 장치의 제조 시스템에서, 부유물 여과 유닛을 나타낸 구성도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예 따른 평판 표시 장치의 제조 시스템 중 부유물 여과 유닛에서, 유량 감지 센서와, 제어부와, 회전 모터와, 그리고 밸브의 관계를 나타낸 블록도이다.
도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
300: 작업 챔버 100: 부유물 여과 유닛
110: 케이스 120: 여과기
130: 유입관 140: 유출관
150: 배출 유닛 151: 브러쉬
152: 구동부 153: 배출관
154: 밸브 155: 검출부
156: 제어부 500: 필터
700: 유체 저장조
본 발명은 평판 표시 장치의 제조 시스템에 관한 것으로서, 더 상세하게는 작업 유체를 사용하는 시스템에서 부유물을 효과적으로 여과하기 위한 시스템에 관한 것이다.
일반적으로, 평판 표시 장치는, 현재 널리 사용되고 있는 표시 장치로서, 액정 표시 장치(LCD, liquid crystal display)와 유기 발광 다이오드(OLED, organic light emitting display) 표시장치 등 여러 종류가 있다.
이 중, 액정 표시 장치는, 전계 생성 전극이 형성되어 있는 두 장의 표시 기판과 그 사이에 삽입되어 있는 액정층으로 이루어져, 전극에 전압을 인가하여 액정층의 액정 분자들을 재배열시킴으로써 액정층을 통과하는 빛의 투과율을 조절하는 표시 장치이다.
이러한 액정 표시 장치(liquid crystal display)는 기판 상에 박막 증착(deposition), 클리닝(cleaning), 포토 레지스트 코팅(photo resist coating), 노광(exposure), 현상(development), 에칭(etching) 및 포토 레지스트 박리(photo resist strip) 등과 같은 일련의 처리를 함으로써 제조된다.
여기서, 포토 레지스트는 포지티브 포토 레지스트와 네거티브 포토 레지스트 로 구분된다. 구체적으로, 노광 공정에서 패턴된 포토 레지스트가 이후 현상 공정에서 현상액에 의해 손실되지 않도록, 포지티브 포토 레지스트는 노광되지 않은 부분이 고온 경화되고, 네거티브 포토 레지스트는 노광된 부분이 고온 경화된다.
또한. 패턴된 포토 레지스트를 박리하는 시스템은 표시 기판이 유입되는 박리 챔버와, 표시 기판 상에 패턴된 포토 레지스트를 용해하기 위해 박리액을 박리 챔버에 주입하는 주입기와, 박리 챔버로부터 배출되는 박리액 중 포토 레지스트 성분을 여과하기 위한 필터와, 포토 레지스트 성분이 여과된 박리액을 저장하는 저장조로 이루어진다.
하지만, 종래의 제조 시스템은 다음과 같은 문제점을 가질 수 있다.
노광 공정에서 패턴된 포토 레지스트가 이후 현상 공정에서 현상액에 의해 손실되지 않도록 고온 경화되므로, 패턴된 포토 레지스트는 용해성이 떨어지게 되고, 열적 특성 및 내화학성 등이 크게 좋아지게 된다. 따라서, 이를 박리하는데 걸리는 시간이 길어지게 되고, 박리시 수 ㎛에서 수백 ㎛의 포토 레지스트 파티클 들이 박리액에 부유하게 된다.
이러한 부유물로 이해 필터의 수명이 떨어지는 문제가 있을 수 있다. 이에 따라, 고가의 필터가 자주 교체되어야 하므로 비용이 크게 증가될 수 있다.
본 발명은 종래기술에 대한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 기술적 과제는, 필터 전에 부유물을 제거할 수 있는 평판 표시 장치의 제조 시스템을 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 표시 장치의 제조 시스템은 작업 유체를 이용하여 평판 표시 패널에 형성되는 작업층 중 불필요한 부위를 제거하는 작업 챔버, 상기 작업 챔버로부터 배출되는 상기 작업 유체를 인가 받아 상기 작업 유체에 포함된 상기 작업층의 부유물 여과하는 부유물 여과 유닛, 상기 부유물 여과 유닛으로부터 배출되는 상기 작업유체를 인가 받아 상기 작업 유체에 포함된 상기 작업층의 성분을 여과하는 필터, 그리고 상기 필터에서 상기 작업층 성분이 여과된 작업 유체를 저장하는 유체 저장조를 포함한다.
또한, 상기 부유물 여과 유닛은 그 내부에 메인 챔버가 형성된 케이스, 상기 메인 챔버에 구비되며 그 내부에 보조 챔버가 형성되고 그 면상에 복수개의 체눈(mesh)이 형성된 여과기, 상기 작업 챔버로부터 부유물이 포함된 작업 유체를 상기 보조 챔버로 안내하는 유입관, 상기 부유물이 포함된 작업 유체 중 상기 여과기를 통과한 작업 유체를 상기 필터로 안내하는 유출관, 그리고 상기 여과기를 통과하지 못한 부유물을 외부로 배출하는 배출 유닛을 포함한다.
또한, 상기 배출 유닛은 상기 여과기의 내면에 접촉 가능하게 구비되는 브러쉬, 상기 여과기의 내면에 적층된 부유물을 제거하기 위해 상기 브러쉬를 구동시키는 구동부, 그리고 상기 브러쉬에 의해 상기 여과기의 내면에서 떨어져 나온 부유물을 외부로 배출하는 배출관을 포함할 수 있다.
또한, 상기 여과기는 원통형상을 하고, 상기 구동부는 회전 모터이고 상기 케이스의 일단에 위치되고, 상기 배출관은 상기 케이스의 타단에 위치되고, 그리고 상기 브러쉬는 상기 여과기의 내면에서 떨어진 상기 부유물이 상기 배출관으로 이동되도록 나선형상을 하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 배출 유닛은 상기 여과기의 내면에 적층된 부유물이 제거될 시점을 검출하는 검출부, 그리고 상기 검출부에 의해 검출된 값에 따라 상기 구동부를 제어하는 제어부를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 검출부는 상기 유출관 상에 구비되는 유량 감지 센서일 수 있다.
또한, 상기 제어부는 설정된 프로그램에 의해 동작하는 하나 이상의 마이크로 프로세서를 포함하고, 그리고 상기 설정된 프로그램은 상기 유량 감지 센서에 의해 검출된 유량을 설정유량과 비교하는 단계, 그리고 상기 유량이 상기 설정유량보다 크면 상기 구동부를 구동시키는 단계를 수행할 수 있다.
또한, 상기 배출 유닛은 상기 배출관을 통해 수시로 상기 부유물이 외부로 배출되는 것을 막기 위해 상기 배출관에 구비되는 밸브를 더 포함하고 상기 설정된 프로그램은 상기 구동부가 구동되는 시점에서 설정시간 후 상기 밸브를 여는 단계를 더 수행할 수 있다.
또한, 상기 작업 챔버는 현상(develop)이 완료된 포토레지스트(PR, photo resist)를 증착막으로부터 박리하기 위한 챔버이고, 상기 작업 유체는 박리액이고, 상기 부유물은 상기 박리액에 의해 용해되지 않고 남은 상기 포토레지스트의 파티클(particle)일 수 있다.
또한, 상기 여과기는 스테인리스 재질로 이루어질 수 있다.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속 하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 표시 장치의 제조 시스템을 나타낸 구성도이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 평판 표시 장치의 제조 시스템은, 도 1에 도시된 바와 같이, 작업 챔버(300)와, 부유물 여과 유닛(100)과, 필터(500)와, 그리고 유체 저장조(700)를 포함한다.
작업 챔버(300)는 작업 유체를 이용하여 평판 표시 패널(미도시)에 형성되는 작업층 중 불필요한 부위를 제거하는 곳이다. 일예로서, 작업 챔버(300)는 박리액을 이용하여 현상이 완료된 포토레지스트를 증착막으로부터 박리하기 위한 챔버일 수 있다. 이 경우, 상술한 작업 챔버(300)는 현상(develop)이 완료된 포토레지스트(PR, photo resist)를 증착막(미도시)으로부터 박리하기 위한 박리 챔버이고, 상술한 작업 유체는 박리액일 수 있다. 다른 예로서, 작업 챔버(300)는 현상액을 이용하여 현상하는 챔버일 수 있다.
부유물 여과 유닛(100)은 작업 챔버(300)로부터 배출되는 작업 유체를 인가받아 작업 유체에 포함된 부유물을 여과한다. 특히, 작업 챔버(300)가 상술한 박리하기 위한 챔버일 경우, 부유물은 박리액에 의해 용해되지 않고 남은 포토레지스트의 파티클(particle)이다.
필터(500)는 부유물 여과 유닛으로부터 배출되는 작업 유체(작업층의 부유물 은 제거되고 작업층의 성분만을 포함한 상태임)를 인가 받아 작업 유체에서 작업층의 성분을 여과한다.
유체 저장조(700)는 필터(500)에서 작업층 성분이 여과된 작업 유체를 저장한다. 특히, 유체 저장조(700)에 저장된 작업 유체는 재 사용될 수 있다.
또한, 도면 부호 900은 부유물을 저장하는 부유물 저장조이다.
이하, 도 2를 참조하여, 상술한 부유물 여과 유닛(100)을 구체적으로 설명한다.
도 2는 본 발명의 일 실시예 따른 평판 표시 장치의 제조 시스템에서, 부유물 여과 유닛을 나타낸 구성도이다.
부유물 여과 유닛(100)은, 도 2에 도시된 바와 같이, 케이스(110)와, 여과기(120)와, 유입관(130)과, 유출관(140)과, 그리고 배출 유닛(150)을 포함한다.
케이스(110)는 그 내부에 메인 챔버(111)가 형성된다.
여과기(120)는 메인 챔버(111)에 구비되며, 그 내부에 보조 챔버(121)가 형성되고, 그 면상에 복수개의 체눈(122)(mesh)이 형성된다. 이러한 체눈(122)의 크기는 부유물(미도시)의 크기에 따라 수 ㎛에서 수백 ㎛까지 설정될 수 있다. 나아가, 여과기(120)는 부유물이 면에 쉽게 달라 붙지 않도록 매끈한 스테인리스 재질로 이루어질 수 있다.
유입관(130)은 작업 챔버(도 1의 "300" 참조)로부터 부유물이 포함된 작업 유체를 여과기의 보조 챔버(121)로 안내한다. 구체적으로, 유입관(130)은 케이스(110)에 구비되되 여과기(120)의 보조 챔버(121)와 연통되게 구비된다.
유출관(140)은 부유물이 포함된 작업 유체 중 여과기(120)를 통과한 작업 유체를 필터(500)로 안내한다. 구체적으로, 유출관(140)은 케이스(110)의 하부에 구비되되 메인 챔버(111)와 연통되게 구비된다.
배출 유닛(150)은 여과기(120)를 통과하지 못한 부유물을 부유물 저장조(99)로 배출한다.
이하, 도 2를 참조하여, 상술한 배출 유닛(150)을 구체적으로 설명한다.
배출 유닛(150)은 브러쉬(151)와, 구동부(152)와, 그리고 배출관(153)을 포함할 수 있다.
여과기(120)를 통과하지 못한 부유물이 여과기(120)의 내면에 적층되므로, 브러쉬(151)는 여과기(120)의 내면에 적층된 부유물을 원활하게 제거하기 위해 여과기(120)의 내면에 접촉 가능하게 구비된다.
구동부(152)는 여과기(120)의 내면에 적층된 부유물을 제거하기 위해 브러쉬(151)를 구동시킨다.
배출관(153)은 브러쉬(151)에 의해 여과기(120)의 내면에서 떨어져 나온 부유물을 부유물 저장조(900)로 안내한다.
특히, 배출 유닛(150)을 통해 여과기(120)의 내면에 적층된 부유물이 보다 원활하게 부유물 저장조(900)로 이동되도록 하기 위해, 여과기(120)는 원통형상을 하고, 구동부(152)는 회전 모터이고 케이스(110)의 일단에 위치되고, 배출관(153)은 케이스(110)의 타단에 위치되고, 그리고 브러쉬(151)는 여과기의 내면에서 떨어진 부유물이 배출관(153)으로 이동되도록 나선형상을 하는 것이 바람직하다.
또한, 배출 유닛(150)은 배출관(153)을 통해 수시로 부유물이 부유물 저장조(900)로 배출되는 것을 막기 위해 배출관(153)에 구비되는 밸브(154)를 더 포함할 수 있다.
이하, 도 3을 참조하여, 상술한 배출 유닛(150)을 보다 구체적으로 설명한다. 특히, 배출 유닛(150)은 자동 제어가 가능하도록 설계될 수 있다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 표시 장치의 제조 시스템 중 부유물 여과 유닛에서, 유량 감지 센서와, 제어부와, 회전 모터와, 그리고 밸브의 관계를 나타낸 블록도이다.
즉, 배출 유닛(150)은 검출부(155)와 제어부(156)를 더 포함할 수 있다. 구체적으로, 검출부(155)는 여과기(120)의 내면에 적층된 부유물이 제거될 시점을 검출하며, 이러한 검출부(155)로는 유량 감지 센서가 사용될 수 있다. 제어부(156)는 검출부(155)에 의해 검출된 값에 따라 구동부를 제어한다.
이러한 제어부(156)는 설정된 프로그램에 의해 동작하는 하나 이상의 마이크로 프로세서로 구현될 수 있으며, 이러한 설정된 프로그램은 후술하는 각 단계를 수행하기 위한 일련의 명령을 포함하는 것으로 할 수 있다.
먼저, 제어부(156)는 유량 감지 센서(155)에 의해 검출된 유량을 설정유량과 비교한다. 이 후 제어부(156)는 유량이 설정유량보다 크면 구동부(152)를 구동시킨다.
또한, 제어부(156)는 구동부(152)가 구동되는 시점에서 설정시간 후 배출관(153)에 구비된 밸브(154)를 열어 브러쉬(151)에 의해 이끌려오는 부유물이 부유 물 저장조(900)로 배출되도록 한다.
한편, 도시되지는 않았지만, 상술한 유물 여과 유닛은 저장조에 부유물이 포함된 작업유체를 넣어 부유물을 침전시키는 방식 등이 사용될 수도 있을 것이다.
이상에서와 같이, 본 발명의 일 실시예에 의한 평판 표시 장치의 제조 시스템은 다음과 같은 효과를 가질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 의하면, 부유물이 포함된 작업 유체가 바로 필터로 가지 않고 부유물 여과 유닛에 의해 부유물이 제거된 상태로 필터에 유입되므로, 필터의 수명을 연장시킬 수 있다. 또한, 필터의 교체 주기가 단축되므로 비용을 저감시킬 수 있다.
이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.

Claims (10)

  1. 작업 유체를 이용하여 평판 표시 패널에 형성되는 작업층 중 불필요한 부위를 제거하는 작업 챔버,
    상기 작업 챔버로부터 배출되는 상기 작업 유체를 인가 받아 상기 작업 유체에 포함된 상기 작업층의 부유물 여과하는 부유물 여과 유닛,
    상기 부유물 여과 유닛으로부터 배출되는 상기 작업유체를 인가 받아 상기 작업 유체에 포함된 상기 작업층의 성분을 여과하는 필터, 그리고
    상기 필터에서 상기 포토 레지스트 성분이 여과된 박리액을 저장하는 박리액 저장조
    를 포함하는 평판 표시 장치의 제조 시스템.
  2. 제1항에서,
    상기 부유물 여과 유닛은
    그 내부에 메인 챔버가 형성된 케이스,
    상기 메인 챔버에 구비되며 그 내부에 보조 챔버가 형성되고 그 면상에 복수개의 체눈(mesh)이 형성된 여과기,
    상기 작업 챔버로부터 부유물이 포함된 작업 유체를 상기 보조 챔버로 안내하는 유입관,
    상기 부유물이 포함된 작업 유체 중 상기 여과기를 통과한 작업 유체를 상기 필터로 안내하는 유출관, 그리고
    상기 여과기를 통과하지 못한 부유물을 외부로 배출하는 배출 유닛
    을 포함하는 평판 표시 장치의 제조 시스템.
  3. 제2항에서,
    상기 배출 유닛은,
    상기 여과기의 내면에 접촉 가능하게 구비되는 브러쉬,
    상기 여과기의 내면에 적층된 부유물을 제거하기 위해 상기 브러쉬를 구동시키는 구동부, 그리고
    상기 브러쉬에 의해 상기 여과기의 내면에서 떨어져 나온 부유물을 외부로 배출하는 배출관
    을 포함하는 평판 표시 장치의 제조 시스템.
  4. 제3항에서,
    상기 여과기는 원통형상을 하고,
    상기 구동부는 회전 모터이고 상기 케이스의 일단에 위치되고,
    상기 배출관은 상기 케이스의 타단에 위치되고, 그리고
    상기 브러쉬는 상기 여과기의 내면에서 떨어진 상기 부유물이 상기 배출관으로 이동되도록 나선형상을 하는 평판 표시 장치의 제조 시스템.
  5. 제3항에서,
    상기 배출 유닛은,
    상기 여과기의 내면에 적층된 부유물이 제거될 시점을 검출하는 검출부, 그리고
    상기 검출부에 의해 검출된 값에 따라 상기 구동부를 제어하는 제어부
    를 더 포함하는 평판 표시 장치의 제조 시스템.
  6. 제5항에서,
    상기 검출부는 상기 유출관 상에 구비되는 유량 감지 센서인 평판 표시 장치의 제조 시스템.
  7. 제6항에서,
    상기 제어부는 설정된 프로그램에 의해 동작하는 하나 이상의 마이크로 프로세서를 포함하고, 그리고
    상기 설정된 프로그램은,
    상기 유량 감지 센서에 의해 검출된 유량을 설정유량과 비교하는 단계, 그리고
    상기 유량이 상기 설정유량보다 크면 상기 구동부를 구동시키는 단계
    를 수행하는 평판 표시 장치의 제조 시스템.
  8. 제7항에서,
    상기 배출 유닛은,
    상기 배출관을 통해 수시로 상기 부유물이 외부로 배출되는 것을 막기 위해 상기 배출관에 구비되는 밸브를 더 포함하고,
    상기 설정된 프로그램은,
    상기 구동부가 구동되는 시점에서 설정시간 후 상기 밸브를 여는 단계를 더 수행하는 평판 표시 장치의 제조 시스템.
  9. 제2항에서,
    상기 작업 챔버는 현상(develop)이 완료된 포토레지스트(PR, photo resist)를 증착막으로부터 박리하기 위한 박리 챔버이고,
    상기 작업 유체는 박리액이고, 그리고
    상기 부유물은 상기 박리액에 의해 용해되지 않고 남은 상기 포토레지스트의 파티클(particle)인 평판 표시 장치의 제조 시스템.
  10. 제9항에서,
    상기 여과기는 스테인리스 재질로 이루어지는 평판 표시 장치의 제조 시스템.
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