KR20070093096A

KR20070093096A - 포토마스크 주문을 발생하는 데 사용될 수 있는 논리 연산유틸리티를 이용하여 툴링 사양을 자동으로 발생하기 위한시스템 및 방법

Info

Publication number: KR20070093096A
Application number: KR1020077015636A
Authority: KR
Inventors: 찰스 이. 크로케; 크리스토퍼 제이. 프로글러; 희 최 한; 철 유; 규 연 조; 형 진 주
Original assignee: 포트로닉스, 인크.
Priority date: 2004-12-07
Filing date: 2005-05-12
Publication date: 2007-09-17
Also published as: CN101443769A; JP2008523498A; EA200500692A1; WO2006062542A3; WO2006062542A2; TW200620015A; US20060122724A1

Abstract

툴링 사양 발생 시스템을 이용하여 포토마스크를 제작하는 데 사용되는 포토마스크 주문 발생 방법은 논리 연산의 컴포넌트들을 생성, 수정, 및/또는 삭제함으로써 툴링 사양을 발생하는 단계-논리 연산은 툴링 사양으로 표현됨-를 포함한다. 논리 연산에 필요한 정보는 데이터베이스 등의 외부 소스로부터 가져올(import) 수 있고/있거나 검색(look-up) 목록으로부터 선택될 수 있다. 논리 연산에서 표현식들(expressions)을 구성하는 연산자들에 대한 별명(aliases)은 포토마스크 고객이 요구하는 대로 수정될 수 있다. 툴링 사양의 포맷은 포토마스크 고객의 컴퓨터 시스템에 의해 검증될 수 있다. 툴링 사양은 툴링 사양 분석을 위해 각종의 독점적이며 산업 표준 포맷으로 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 전송되고, 포토마스크 설계는 툴링 사양을 이용하여 시뮬레이션될 수 있다. 포토마스크 고객의 컴퓨터 시스템은 분석 결과를 수신한 후, 툴링 사양에 기초하여 포토마스크 주문을 발생한다. 이어서, 포토마스크 제작을 위해 포토마스크 주문이 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 전송된다. 툴링 사양 발생 시스템은 독립형 시스템이거나, 포토마스크 주문 발생 시스템과 통합될 수 있다.

툴링 사양 발생 시스템, 포토마스크 주문 발생 시스템, 포토마스크 설계, 툴링 사양 분석기

Description

포토마스크 주문을 발생하는 데 사용될 수 있는 논리 연산 유틸리티를 이용하여 툴링 사양을 자동으로 발생하기 위한 시스템 및 방법{SYSTEM AND METHOD FOR AUTOMATICALLY GENERATING A TOOLING SPECIFICATION USING A LOGICAL OPERATIONS UTILITY THAT CAN BE USED TO GENERATE A PHTOMASK ORDER}

본 발명은 일반적으로 포토마스크 주문 발생에 사용할 수 있는, 포토마스크 설계 정보를 포함한 툴링 사양(tooling specification)을 발생하기 위한 시스템 및 방법에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 포토마스크 설계 정보를 포함하고, 포토마스크 제작자의 처리 시스템에 전송되어 포토마스크 제작자의 처리 시스템이 포토마스크 설계에 대한 유효성, 실현가능성, 및/또는 바람직한 상황을 검증할 수 있게 하는 툴링 사양을 발생할 수 있는 소프트웨어-기반 응용 프로그램에 관한 것이다. 본 발명은 또한, 각종 분절(fracture) 엔진 포맷에서 사용하기에 사용자 친숙형이고 적응가능한 툴링 사양 발생 시스템을 이용하여 설계 정보를 포함한 툴링 사양을 발생하기 위한 시스템 및 방법에 관한 것이다.

포토마스크는 전자 회로들의 현미경 이미지들을 포함하는 정밀도 높은 플레이트이다. 포토마스크는 통상적으로 한 측면에 크롬층을 갖는 매우 평편한 석영 또는 유리 조각들로 제조된다. 크롬층에 에칭을 행하는 것이 전자 회로 설계의 일 부분이다. 포토마스크 상에서의 이런 회로 설계를 "기하 구조(geometry)"라 칭한다.

반도체 장치의 제조 시에 사용되는 전형적인 포토마스크는 "블랭크(blank) 또는 "미현상된(undeveloped)" 포토마스크로 형성된다. 도 1에 도시된 바와 같이, 전형적인 블랭크 포토마스크(10)는 3 개 또는 4 개 층으로 이루어진다. 제1층(11)은 일반적으로 기판이라 칭하는 석영층 또는 거의 투명한 다른 물질층이다. 그 다음 층은 전형적으로 Cr 등의 불투명 물질층(12)으로서, 종종 CrO 등의 제3층의 반사 방지 물질층(13)을 포함한다. 반사 방지층은 주어진 임의 포토마스크에 포함될 수도 아닐 수도 있다. 상층은 전형적으로 감광성 레지스트 물질층(14)이다. 다른 유형의 포토마스크도 공지되어 있으며, 사용되고 있는 것으로는 위상 시프트 마스크, 매립식 감쇄형 위상 시프트 마스크("EAPSM") 및 교호형 개구 위상 시프트 마스크("AAPSM") 등이 있지만, 이들에만 한정되는 것은 아니다.

포토마스크의 제작 공정은 여러 단계들을 포함하여, 시간 소모적일 수 있다. 이런 점에서, 포토마스크를 제작하기 위해, 포토마스크(10) 상에 생성해야 할 불투명 물질(12)의 바람직한 패턴은 전형적으로 블랭크 포토마스크에 걸쳐 래스터 또는 벡터 방식으로 전자 빔(E-빔)이나 레이저 빔을 스캐닝(scan)하는 노광 시스템에 적재되어 있는 전자 데이터 파일에 의해 규정된다. 이런 래스터 스캔 노광 시스템의 일례가 콜리어(Collier)씨에게 허여된 미국 특허 제3,900,737호에 개시되어 있다. 각각의 고유 노광 시스템은 블랭크 포토마스크의 노광 시에 장비에게 지시하는 데이터를 처리하는 각자 자신의 소프트웨어 및 포맷을 갖는다. E-빔 또는 레이저 빔 을 블랭크 포토마스크(10)에 스캐닝할 때, 노광 시스템은 E-빔 또는 레이저 빔을 전자 데이터 파일에 의해 규정된 포토마스크 상의 어드레스가능 위치로 향하게 한다. E-빔 또는 레이저 빔에 노광된 감광성 레지스트 물질 영역들은 용해되는 한편, 노광되지 않은 부분들은 용해되지 않은 채로 남아 있다. E-빔 또는 레이저 빔이 블랭크 포토마스크(10) 상의 포토레지스트(14)를 노광시켜야 할지 노광시켜서는 안 될지를 판단하기 위해, 처리 장비에 잡데크(jobdeck) 형태의 적당한 명령어가 제공될 필요가 있다.

노광 시스템이 감광성 레지스트 물질(14) 상으로 바람직한 이미지를 스캐닝한 후에는, 도 2에 도시된 바와 같이, 당 기술 분야에 알려진 수단에 의해 가용성의 감광성 레지스트 물질은 제거되고, 노광되지 않은 불용성의 감광성 레지스트 물질(14')은 불투명 물질(13 및 12)에 고착된 상태로 남아 있는다. 이처럼, 남아 있는 감광성 레지스트 물질(14')에 의해 블랭크 포토마스크(10) 상에 형성될 패턴이 형성된다.

그 후, 감광성 레지스트 물질(14')로부터의 패턴을 공지의 에칭 공정을 이용하여 블랭크 포토마스크(10)로 전사함으로써 남아 있는 감광성 레지스트 물질(14')에 의해 피복되지 않은 영역의 반사 방지 물질(13) 및 불투명 물질(12)이 제거된다. 건식 에칭뿐 아니라 습식 에칭을 포함하여 본 분야에 공지된 각종 에칭 공정이 있으며, 따라서, 이런 에칭을 수행하는 데 여러 장비가 사용된다. 에칭이 완료된 후, 잔류 감광성 레지스트 물질(14')이 벗겨지거나 제거되어, 도 3에 도시된 바와 같은 포토마스크가 완성된다. 완성된 포토마스크에는, 잔류 반사 방지 물 질(13') 및 잔류 불투명 물질(12')에 의해 이전에 반영된 패턴이 가용성 물질들을 이전 단계에서 제거시킨 후 감광성 레지스트 물질(14')이 남아 있던 영역에 위치된다.

특정 포토마스크에 허용할 수 없는 어떠한 결함이 존재하는가를 판단하기 위해서는, 포토마스크를 검사할 필요가 있다. 결함이란 기하 구조에 영향을 미치는 모든 흠(flaw)을 말한다. 이것에는 바람직하지 않은 크롬 영역(크롬 스폿, 크롬 연장, 기하 구조 간의 크롬 연결(bridging)) 또는 원치 않는 틈새(clear) 영역(핀 홀, 틈새 연장, 틈새 파손)이 포함된다. 결함은 고객의 회선이 기능하지 않게끔 할 수 있다. 고객들은 자신들의 프로세스에 영향을 미칠 결함의 크기를 결함 규격으로 표시할 것이다. 그 규격에 해당하는 크기와 그보다 큰 크기의 모든 결함은 교정되어야 하거나, 그 결함들을 교정할 수 없으면, 마스크는 불합격처리되어 다시 제작되어야 한다.

전형적으로, 자동화된 마스크 검사 시스템, 예를 들어, KLA-Tencor 또는 Applied Materials에 의해 제조된 것 등을 사용하여 결함들을 검출한다. 이런 자동화된 검사 시스템은 포토마스크에 조사 빔을 전달하여 포토마스크를 통과하여 전달되고 포토마스크로부터 다시 반사되는 광 빔 부분의 강도를 검출한다. 그 후, 검출된 광 강도를 예측된 광 강도와 비교하여, 임의 편차를 결함으로서 기록한다. 이 시스템에 대한 상세는 KLA-Tencor에 양도된 미국 특허 제5,563,702호에 개시되어 있다.

검사를 통과한 후, 완성된 포토마스크는 오염물을 씻어낸다. 다음에, 완성 된 포토마스크에 펠리클(pellicle)을 도포하여 그 중요 패턴 영역을 공기로 운반되는 오염물로부터 보호한다. 이어서, 펠리클을 통한 결함 검사를 행할 수 있다. 일부 경우에, 포토마스크는 펠리클의 도포 전 또는 후에 절단될 수 있다.

상술된 제작 단계 각각을 행하기 위해, 반도체 제작자(예를 들어, 고객)는 먼저 제작해야 할 포토마스크에 관한 여러 형태의 데이터를 포토마스크 제작자에게 제공해야 한다. 이런 점에서, 고객은 전형적으로 포토마스크를 제작하고 처리하는 데 필요한 여러 형태의 정보 및 데이터, 예를 들어, 포토마스크의 설계에 관한 데이터, 사용할 물질, 배송일, 과금 정보, 및 포토마스크 주문 처리와 포토마스크 제작에 필요한 기타 정보를 포함한 포토마스크 주문을 제공한다.

포토마스크 제작에서의 집중적인 현안은, 고객으로부터 포토마스크 주문을 수령한 시점으로부터 포토마스크를 제작하는 데 걸리는 시간이다. 이런 점에서, 포토마스크 주문을 처리하고 포토마스크를 제작하는 데 걸리는 전체 시간이 길어질 수 있어, 포토마스크의 전체 출력이 극대화되지 않는다. 이런 문제의 일부는 포토마스크를 주문하는 다수의 고객들이 그들의 주문을 종종 포토마스크의 제작자의 컴퓨터 시스템 및/또는 제작 장비와 호환할 수 없는 여러 가지의 서로 다른 포맷으로 발행하는 경우가 자주 있다는 사실에 기인된다. 따라서, 포토마스크 제작자는 주문 데이터 및 조건을 다시 포맷하고, 이것을 그 컴퓨터 시스템 및/또는 제작 장비와 호환할 수 있는 다른 포맷으로 변환하고/하거나 보충할 필요성이 자주 발생하는 데, 이는 상당량의 시간이 걸릴 수 있으므로, 포토마스크 제작에 걸리는 시간이 지연된다.

상기 이들 문제를 해결하기 위한 시도로서, 포토마스크 산업계에서는 포토마스크 주문이 이루어지는 각종의 표준 포토마스크 주문 포맷을 개발해 왔다. 예를 들어, SEMI P-10 표준이 포토마스크 제작 시에 사용되는 하나의 표준 포맷이다. 또한, 몇몇 반도체 제작자들은 표준 포맷을 채택하기보다는, 포토마스크 주문이 이루어지는 그 자신의 독점적인 포토마스크 주문 포맷을 개발해 왔다. 이들 표준 및 독점적인 포토마스크 주문 포맷은 포토마스크 주문을 똑같은 포맷으로 고객으로부터 받을 수 있도록 생성되어, 포토마스크 제작에 걸리는 전체 시간을 감축시켰다.

비록 이런 표준 및/또는 독점적인 포토마스크 주문 포맷의 사용이 포토마스크 제작에 걸리는 시간을 감축시키는 데 유용하더라도, 다수의 반도체 제작자들은 여러 가지의 이유로 그들의 포토마스크 주문을 이런 표준 및/또는 독점적인 포토마스크 주문 포맷으로 신청하는 것을 꺼려해 왔다. 예를 들어, SEMI-P 표준 주문 포맷은 꽤 복잡하며, 주문을 신청하는 고객에게 이런 표준에 연관된 요구사항에 관한 복잡한 작업 지식을 갖도록 요구하고 있다. 다수의 반도체 제작자들은 포토마스크를 제작하지 않고 있으므로, 이런 제작자들은 이런 표준 포맷의 복잡함을 학습할 자원, 시간 또는 능력을 갖지 못할 수 있다. 따라서, 반도체 제작자들은 체계화되지 않으며 종종 불완전한 방식으로 포토마스크 주문 데이터를 포토마스크 제작자에게 종종 제공한다. 결과적으로, 포토마스크 제작자는 이 데이터를 구문 분석하여(parse) 그것을 유용한 포맷(예컨대, SEMI-P-10 포맷)으로 체계화시킬 것을 요구받는다. 게다가, 전형적으로 이들 표준 및 독점적인 포맷은 완전한 주문이 제출될 것을 요구한다. 또한, 이들 표준은 분석을 위해 툴링 사양만을 전송할 수 있는 표 준 포맷을 포함하지 않는다. 포토마스크 제작 분야에서는, 포토마스크 제작자에게 전송되어 특정 설계의 유효성, 실현가능성, 및/또는 바람직한 상황을 검증한 후, 포토마스크 주문을 발생하는 데 사용될 수 있는 표준 및/또는 독점적인 포맷으로 포토마스크 주문용 툴링 사양을 자동적으로 발생시키는 고객측 시스템 및 방법에 대한 필요성을 갈망해 왔다.

과거에, AlignRite Corporation(Photronics, Inc.의 전신)은 인터넷 기반 전달 시스템을 통한 전자 데이터 전달의 촉진을 시도하였다. 그러나, AlignRite System이 고객으로부터의 포토마스크 데이터를 포토마스크의 제작자의 컴퓨터 시스템으로 신속히 전달하여 이 데이터의 정확성을 실시간으로 검증할 수 있었지만, 이 종래의 시스템은 하나의 표준 및/또는 독점적인 포맷으로 자동화된 포토마스크 주문 발생을 제공하지 않았다. 이런 점에서, 일단 고객으로부터 주문 데이터를 수령하였으면, 오퍼레이터가 수동으로 그 데이터에 대한 표준 수정을 입력해야 했을 것이다. 수동으로 변경사항을 입력해야 할 때마다, 사람에 의한 실수 위험이 증가하여 전체 작업 시간은 연장되었을 것이다. 또한, AlignRite System은 특정 포토마스크 주문의 유효성, 실현가능성, 및/또는 바람직한 상황을 검증하고, 그 후에 포토마스크 주문을 발생하는 데 사용될 수 있는, 단순히 자동으로 발생된 툴링 명령어의 전달은 고려하지 않았다.

그 후, 다른 회사들은 제작 및 과금 데이터를 인터넷을 통해 다운-로드하고 온라인으로 자동으로 검증하는 시스템들을 발표하였다. 이런 시스템 중 하나가 미국 특허 제6,622,295호의 요지인 DuPont Photomask, Inc.에 의해 2002년 1월 10일 공개된 PCT 공개번호 제02/03141호에 개시되어 있다. 보다 상세하게는, 상기 DuPont의 PCT 공보에서는 고객에 의해 포토마스크 주문 데이터가 온라인으로 입력되어 처리를 위해 포토마스크 제작자에게 전송되는 시스템이 개시된다. 이 시스템에서는, 고객은 포토마스크 주문 데이터를 입력하도록 요구받는다. 이 데이터가 포토마스크 제작자에게 전송되어, 이 제작자는 그 데이터에 대해 진단 평가를 행한다. 임의 데이터가 불완전하거나 정확하지 않으면, 시스템은 고객에게 이런 오류를 알리는 메시지를 전송한다. 데이터가 포토마스크 제작자에 의해 검증(및 필요할 경우 정정)된 후, 그 제작자는 이 데이터를 처리하여 이것을 SEMI P-10 표준 포맷과 같은 표준(또는 독점적인) 포맷으로 만든다.

비록 진단 목적용으로는 유용하더라도, 상기 DuPont의 PCT 공보는 매우 성가시며, 사용자에게 포토마스크 주문 또는 보다 특정의 툴링 사양을 형식화함에 있어 유연성을 거의 제공하지 못한다. 게다가, 상기 DuPont의 PCT 공보의 시스템에서는 사용자가 완전한 주문을 입력하도록 요구하고 주문에 포함된 설계를 개선시킬 수 있는 방안에 대한 진단 또는 피드백을 제공하지 못한다. 따라서, 완성된 주문을 제출하기 전에 설계에 대한 유효성, 실현가능성 및/또는 바람직한 상황을 분석한 후에 주문을 발생하는 데 사용될 수 있는 단순한 분절 명령어를 포함한 툴링 사양을 발생하는 시스템 및 방법의 필요성이 갈망되고 있다.

마찬가지로, 과거의 Photronics에서는 자체 포토마스크 주문 발생 시스템 및 방법을 개발하였다. 예를 들어, 본 발명의 양수인인 Photronics는 과거에 놀랄만한 상업적인 성공을 증명한 자체 MaskPilot®시스템을 개발하였다. 이 시스템은 2004년 7월 30일자로 출원된 미국 특허원 제10/209,254호 및 2004년 6월 25일자로 출원된 미국 특허원 제10/877,011호의 요지이며, 이들 특허원 모두는 공동 양수인에게 양도되었다. 이들 특허원 각각은 인용에 의해 본원에 포함되는 것으로 한다. MaskPilot®시스템은 고객에게 그래픽 사용자 인터페이스를 이용하여 완전한 포토마스크 주문 정보를 템플릿 또는 주문의 형태로 입력하게 한다. 그러나, 이 시스템에서는 고객이 분절 명령어들을 발생하는 데 사용되는 툴링 사양만을 포함하는 미완의 주문을 입력하여 포토마스크 제작자에게 전송하는 것을 제공하지 못한다.

국외의 다른 시스템들에서는 설계 정보를 포함한 미완의 포토마스크 주문을, 포토마스크 제작자가 설계에 대한 유효성, 실현가능성 및/또는 바람직한 상황을 검증할 수 있게 하는 형식으로 발생하였다. 이런 시스템 중 하나가 동일 양수인에 의한 2004년 6월 24일 출원된 미국 특허원 제10/877,001호에 개시되어 있으며, 이 특허원의 내용은 인용에 의해 본원에 포함되는 것으로 한다. 이런 시스템의 일례가 툴링 사양을 Photronics, Inc.의 제휴회사인 PKL에 공급하는 한국의 포토마스크 고객에 의해 사용되고 있다. 이들 시스템은 매우 단순하게 보이지만, 툴링 사양을 발생함에 있어 포토마스크 고객에게 유연성을 제공하지 못하므로, 설계를 분석한 후에 완전한 주문을 발생하기 위해 다른 소프트웨어와 연계하여 사용할 수 없다. 또한, 이런 시스템의 출력 파일들은 후기(postscript) 텍스트 파일로서, 이들 파일은 서로 다른 분절 엔진들에 사용될 수 있는 포맷으로 재포맷될 수 있도록 더 처리될 필요가 있다. 이들 시스템은 또한 툴링 사양을 발생하기 위해 다른 시스템으로부터 정보를 가져올(import) 수 없다. 전반적으로, 이 종래 기술의 시스템의 유연 성 및 기능성은 결여되어 있어, 툴링 사양을 발생하기 위한 사용자 친숙형이고 유연성 있는 시스템 및 방법의 필요성이 대두되었다.

상술된 제작 단계들이 완료된 후, 완성된 포토마스크는 고객에게 전달되어, 반도체 및 다른 제품을 제작하는 데 사용된다. 특히, 포토마스크는 일반적으로 반도체 산업에서, 실리콘 또는 갈륨 아세나이드 기판이나 웨이퍼 상에 반도체 회로를 규정하는 마이크로-규모의 이미지들을 전사하는 데 사용된다. 포토마스크로부터의 이미지를 실리콘 기판 또는 웨이퍼에 전사하는 공정을 일반적으로 리소그래피 또는 마이크로리소그래피라 칭한다. 전형적으로, 도 4에 도시된 바와 같이, 반도체 제작 공정은 피착 단계, 포토리소그래피 단계 및 에칭 단계를 포함한다. 피착 단계 중에, 전기적으로 절연층 또는 전기적으로 도전 물질층(금속, 폴리실리콘 또는 산화물 등)이 실리콘 웨이퍼의 표면에 피착된다. 그 후, 이 물질은 감광성 레지스트로 피복된다. 이 후, 포토마스크는 사진을 만들기 위해 포토그래픽 네거티브를 사용하는 방식과 아주 동일하게 사용된다. 포토리소그래피에는 포토마스크 상의 이미지를 웨이퍼 상으로 투영하는 것이 포함된다. 포토마스크 상의 이미지를 웨이퍼 상으로 여러 번 나란히 투영시키는 것이, 스테핑으로서 공지되어 있으며, 이 때의 포토마스크를 레티클이라 한다.

도 5에 도시된 바와 같이, 반도체 웨이퍼(20) 상에 이미지(21)를 생성하기 위해, 감광성 물질층을 포함하는 반도체 웨이퍼(20)와 광학계(22) 사이에 포토마스크(10)를 배치한다. 일반적으로 스테퍼로 불리는 에너지 원(23)에 의해 발생된 에너지는 불투명 물질이 존재하는 포토마스크(10)의 영역을 통과하지 못한다. 스테 퍼(23)로부터의 에너지는 불투명 물질(12) 및 반사 방지 물질(12)에 의해 피복되지 않은 석영 기판(11)의 투명 부분들을 통과한다. 광학계(22)는 불투명 물질(12 및 13)의 패턴의 스케일링된 이미지(24)를 반도체 웨이퍼(20) 상으로 투영시켜, 반도체 웨이퍼(20) 상의 감광성 물질에 반응을 일으킨다. 감광성 물질의 용해도는 에너지에 노출되는 면적마다 변한다. 포지티브 포토리소그래픽 공정의 경우, 노출된 감광성 물질은 가용성으로 되어 제거될 수 있다. 네거티브 포토리소그래픽 공정의 경우에는, 노출된 감광성 물질은 불용성으로 되고 노출되지 않은 가용성의 감광성 물질은 제거된다.

가용성의 감광성 물질이 제거된 후, 불용성의 감광성 물질에 형성된 이미지 또는 패턴이 일반적으로 에칭으로 불리는 당 분야에 공지된 공정을 통해 기판에 전사된다. 일단 기판 물질 상의 패턴이 에칭되면, 잔여 레지스트를 제거시킴으로써 제품이 완성된다. 그 후에, 웨이퍼 상에 새로운 물질 및 레지스트층을 피착시키고, 그 다음 포토마스크 상의 이미지를 웨이퍼 상으로 투영시킨다. 다시 웨이퍼를 현싱 및 에칭시킨다. 이 공정은 반도체 회로가 완성될 때까지 반복한다. 전형적인 반도체 장치에서는 다수의 층들을 피착시킬 수 있으므로, 단일 반도체 장치 제작 시에도 다수의 서로 다른 포토마스크를 필요로 할 수 있다. 실제로, 반도체 장치를 제작하기 위해 반도체 제작자가 하나 이상의 장비를 사용하면, 심지어는 각 층마다 하나 이상의 포토마스크를 필요로 할 수 있다. 또한, 여러 유형의 장비들을 사용하여 서로 다른 제품 라인의 포토레지스트를 노출시킬 수 있으므로, 반도체 제작 장비에서의 차이들을 고려하면 다수의 동일한 포토마스크 패턴들에서도 사이 징, 배향, 스케일링 및 다른 속성들에서의 추가적인 변화를 필요로 할 수 있다. 또한, 포토마스크 제작자의 리소그래피 장비에서의 차이를 고려하여 유사한 조정들이 필요로 될 수 있다. 이들 차이는 포토마스크 제작 공정에서 고려될 필요가 있다.

비록 종래 기술이 관심을 끌기는 하지만, 종래 기술의 공지된 빙법 및 장치는 본 발명이 극복하고자 하는 여러 한계를 갖는다.

특히, 본 발명의 목적은 포토마스크 제작자의 처리 시스템에 전달되어 포토마스크 제작자가 설계 정보에 대한 유효성, 실현가능성 및/또는 바람직한 상황을 검증할 수 있게 하는 일정한 포맷으로 설계 정보를 포함한 포토마스크 주문 중 적어도 일부를 발생시키기 위한 시스템 및 방법을 제공하는 데 있다.

본 발명의 다른 목적은 툴링 사양 발생 시스템을 이용하여 포토마스크 주문을 발생시켜 포토마스크 제작자가 설계에 대한 유효성, 실현가능성 및/또는 바람직한 상황을 검증한 후에 적당한 포토마스크 주문을 발생할 수 있게 하는 분절 명령어들을 포함한 툴링 사양을 자동을 발생시키는 시스템 및 방법을 제공하는 데 있다.

본 발명의 또 다른 목적은 다른 소스들로부터 사양 데이터를 가져와 상태 조절을 행할 수 있으며 포토마스크 주문을 발생하는 데 사용될 수 있는 툴링 사양을 발생하기 위한 시스템 및 방법을 제공하는 데 있다.

본 발명의 또 다른 목적은 이런 툴링 사양 발생 시스템이 디폴트 기호 연산(default symbolic operations)에 결합하거나 그 대신에 사용자 정의된 기호 연 산들을 이용할 능력 및 툴링 사양을 발생하는 데 사용되는 선택적 또는 요구된 데이터 입력점(entry point) 중 일부나 전부를 채우는 기능 등과 같은, 유연성 있고 사용자 친숙형 툴을 포함하는 것에 있다.

본 발명의 또 다른 목적은 이런 툴링 사양 발생 시스템이 GDSII, Mebes, Oasis, DXF, Applican, .cflt, .cinc, .ps, 등을 포함하지만, 이것에만 한정되는 것은 아닌 여러 산업 표준 또는 독점적인 포토마스크 데이터 포맷으로 툴링 사양을 발생시킬 수 있도록 하는 것에 있다.

본 발명의 또 다른 목적은 이런 툴링 사양 발생 시스템을 다른 포토마스크 주문 발생 시스템과 연계하여 사용될 수 있는 툴링 사양을 발생시킬 수 있는 독립형 시스템일 수 있거나, 포토마스크 주문 발생 시스템과 통합된 유틸리티일 수 있도록 하는 데 있다.

본 발명의 또 다른 목적은 사용자가 그래픽 사용자 인터페이스, 전통적인 마법사 및/또는 커맨드 발생기를 이용하여 이런 툴링 사양 발생 시스템을 액세스할 수 있도록 하는 데 있다.

본 발명의 또 다른 목적은 분절 명령어를 수동으로 입력하는 것에 연관되는 옮겨쓰기(transcription) 에러를 줄이기 위한 자동 툴링 사양 발생 시스템을 제공하는 데 있다.

본 발명의 또 다른 목적은 제작되는 포토마스크의 전체 출력을 증가시키는 데 사용될 수 있는 툴링 사양 발생 시스템을 제공하는 데 있다.

본 발명의 또 다른 목적은 종래 기술의 단점을 해결하는 데 있다.

기타 목적들은 상기한 기술로부터 명백해 질 것이다.

본 발명의 일 실시예에 따른 툴링 사양 발생 시스템에서는, 설계 데이터를 데이터베이스 또는 다른 파일로부터 추출하여, 포토마스크 고객 시스템 또는 포토마스크 고객 컴퓨터에 의해 액세스가능한 다른 외부 시스템에 관한 여러 포맷으로 가져올 수 있다. 툴링 사양 데이터는 또한 그래픽 사용자 인터페이스, 마법사 및/또는 필기된(scripted) 커맨드를 이용한 프롬프트에 기초하여 입력될 수 있다. 논리 연산 유틸리티는 논리 표현식(logical expressions) 내에서 사용되는 연산 및/또는 정해진 기호 연산에 대한 사용자 정의된 고유 기호 표현을 사용할 수 있다. 툴링 사양 발생 시스템은 별도로 저장되어 쉽사리 갱신가능한 규칙들(rules)에 링크될 수 있으며, 이들 규칙들을 이용하여 툴링 사양에 완전하고 정확한 데이터를 안전하게 포함시킬 수 있다. 부분 또는 완전한 툴링 사양 데이터가 또한 전자적으로, 예를 들어, 다른 파일 포맷으로부터의 변환 및/또는 스캐닝에 의해 가져올 수 있다. 툴링 사양 데이터는 일단 입력되면, 더 이상 수정될 수 있거나, 또는 더 이상의 수정 없이 제출될 수 있다. 툴링 사양이 입력되면, 설계에 대한 유효성, 실현가능성, 및/또는 바람직한 상황을 검증하기 위해 해당 툴링 사양에 연관된 정보가 포토마스크 제작자에게 전자적으로 전송될 수 있다. 설계에 대한 유효성, 실현가능성, 및/또는 바람직한 상황의 확인(제출되거나, 더 수정) 후에, 툴링 사양은 완전한 포토마스크 주문을 발생하는 데 필요한 다른 데이터와 결합되어, 완전한 주문으로서 포토마스크 제작자에게 다시 제출될 수 있다.

본 발명의 실시예에 따른 툴링 사양 발생 시스템은, 툴링 사양 출력이 포토마스크 주문 발생 시스템과 호환가능하여 이 출력을 사용함으로써 포토마스크 주문을 발생시킬 수 있는 독립형 시스템일 수 있다. 또는, 툴링 사양 발생 시스템은 포토마스크 주문 발생 시스템 내에 직접 통합될 수 있으며, 이 경우에는 포토마스크 주문 속성들이 두 시스템들 간에서 공유될 수 있어 두 시스템 내의 데이터 필드를 채우는 데 사용될 수 있다. 툴링 사양 발생 시스템을 포토마스크 주문 발생 시스템의 일부로서 사용하거나, 또는 그와 결합하여 사용할 경우, 툴링 사양 발생 시스템은 사용자가 툴링 사양을 발생하는 데 사용되는 선택적 또는 필수 데이터 입력점 중 일부나 전부를 자동으로 채우는 것을 허용할 수 있다.

툴링 사양 발생 시스템의 툴링 사양 출력은 일반적인 텍스트 포맷이나, 또는 GDSII, Mebes, Oasis, DXF, Applican, .cflt, 및 .cinc 등의 여러 다른 포맷일 수 있다. 툴링 사양 출력은 컴퓨터 보조 설계(CAD: Computer Aided Design) 또는 전자 설계 자동화(EDA: Electronic Design Automation)에 사용되는 소프트웨어로서 포토리소그래피 장비에 의해 인식되고 사용될 수 있는 산업 포맷일 수 있다. 또는, 툴링 사양 출력은 몇 가지 예를 들자면, XML, SOAPXML, post-script, HTML, ASCII 등의 산업 포맷일 수 있다.

본 발명의 실시예에 따른 포토마스크의 제작 방법은 포토마스크 고객의 컴퓨터 시스템으로부터 툴링 사양을 수신하는 단계 및 툴링 사양을 분석하는 단계를 포함한다. 분석 결과들이 포토마스크 고객의 컴퓨터 시스템으로 보내지고, 툴링 사양에 기초하여 발생된 포토마스크 주문이 수령되어, 그 포토마스크 주문에 기초하여 포토마스크가 제작된다.

본 발명의 예시적인 실시예에 따른 포토마스크 제작에 사용되는 포토마스크 주문 발생 방법은, 논리 연산의 컴포넌트들을 생성, 수정 및/또는 삭제함에 의해 툴링 사양을 발생하는 단계-논리 연산은 툴링 사양으로 표현됨- 및 툴링 사양을 분석하기 위해 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 툴링 사양을 전송하는 단계를 포함한다. 분석 결과가 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템으로부터 수신되고, 포토마스크 주문이 툴링 사양에 기초하여 발생되고, 포토마스크 주문이 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 보내진다.

본 발명의 예시적인 실시예에 따른 포토마스크 주문을 처리하는 방법은, 포토마스크 고객의 컴퓨터 시스템으로부터 툴링 사양을 수신하는 단계 및 툴링 사양을 분석하는 단계를 포함한다. 분석 결과가 포토마스크 고객의 컴퓨터 시스템에 보내지고, 툴링 사양에 기초하여 발생된 포토마스크 주문이 수령된다.

본 발명의 예시적인 실시예에 따른 툴링 사양 발생 시스템을 이용하여 툴링 사양을 발생하는 방법은, 툴링 사양 발생 시스템 외부에 있는 소스로부터 논리 연산의 적어도 하나의 컴포넌트에 관한 데이터를 가져오는 단계 및 논리 연산의 적어도 하나의 컴포넌트에 기초하여 툴링 사양을 발생하는 단계를 포함한다. 툴링 사양이 툴링 사양의 분석을 위해 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에로 보내진다.

본 발명의 예시적인 실시예에 따른 포토마스크 제작에 사용되는 툴링 사양 발생 방법은, 논리 연산의 컴포넌트들을 생성, 수정 및/또는 삭제함에 의해 툴링 사양을 발생하는 단계-논리 연산은 툴링 사양으로 표현됨- 및 특정 표준 및/또는 독점적인 포토마스크 주문 포맷에 따른 포맷으로 툴링 사양을 출력하는 단계를 포함한다.

본 발명의 다른 예시적인 실시예에 따른 포토마스크 제작에 사용되는 포토마스크 주문 발생 방법은, 논리 연산의 적어도 하나의 컴포넌트를 그래픽 사용자 인터페이스, 마법사 및 커맨드 발생기 중 적어도 하나를 이용하여 생성, 수정 및/또는 삭제함에 의해 툴링 사양을 발생하는 단계-논리 연산은 툴링 사양으로 표현됨- 및 툴링 사양의 분석을 위해 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 툴링 사양을 전송하는 단계를 포함한다. 분석 결과가 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템으로부터 수신되고, 툴링 사양에 기초하여 포토마스크 주문이 발생되고, 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 그 포토마스크 주문이 보내진다.

본 발명의 또 다른 예시적인 실시예에 따른 포토마스크 제작에 사용되는 포토마스크 주문 발생 방법은, 논리 연산의 컴포넌트들을 생성, 수정 및/또는 삭제함에 의해 툴링 사양을 발생하는 단계-논리 연산은 툴링 사양으로 표현되고, 툴링 사양은 포토마스크 설계를 위한 분절 명령어를 포함함- 및 분절 명령어를 이용하여 포토마스크 설계를 시뮬레이션하는 단계를 포함한다. 툴링 사양은 시뮬레이션된 포토마스크 설계에 기초하여 분석되고, 툴링 사양에 기초하여 포토마스크 주문이 발생되고, 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 그 포토마스크 주문이 보내진다.

본 발명의 또 다른 예시적인 실시예에 따른 포토마스크 제작에 사용되는 포토마스크 주문 발생 방법은, 논리 연산의 컴포넌트들을 생성, 수정 및/또는 삭제함에 의해 툴링 사양을 발생하는 단계-논리 연산은 툴링 사양으로 표현됨- 및 툴링 사양이 적당한 포맷인 것을 검증하는 단계를 포함한다. 툴링 사양은 툴링 사양의 분석을 위해 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 보내지고, 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템으로부터 분석 결과가 수신된다. 툴링 사양에 기초하여 포토마스크 주문이 발생되고 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 포토마스크 주문이 보내진다.

본 발명의 또 다른 예시적인 실시예에 따른 포토마스크 제작에 사용되는 툴링 사양 발생 방법은, 논리 연산의 컴포넌트들-이들 컴포넌트들은 연산자를 갖는 적어도 하나의 표현식 및 그 연산자에 대응하는 적어도 하나의 별명(alias)을 포함함-의 생성, 수정 및 삭제 중 적어도 하나의 단계와, 상기 적어도 하나의 별명을 디폴트값으로부터 수정하는 단계를 포함한다. 툴링 사양은 수정된 적어도 하나의 별명을 포함하는 논리 연산에 기초하여 발생된다.

본 발명의 예시적인 실시예에 따른 포토마스크 제작에 사용되는 포토마스크 주문 발생 시스템은, 툴링 사양으로 표현되는 논리 연산의 컴포넌트들을 생성, 수정 및/또는 삭제하는 툴링 사양 발생기, 툴링 사양을 분석하는 툴링 사양 분석기, 및 툴링 사양에 기초하여 포토마스크 주문을 발생하고 그 포토마스크 주문을 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 전송하는 포토마스크 주문 발생기를 포함한다.

본 발명의 또 다른 예시적인 실시예에 따른 포토마스크 제작에 사용되는 포토마스크 주문 발생 시스템은, 포토마스크 설계를 위한 분절 명령어를 포함한 툴링 사양으로 표현되는 논리 연산의 컴포넌트들을 생성, 수정 및/또는 삭제하는 툴링 사양 발생기, 분절 명령어를 사용하여 포토마스크 설계를 시뮬레이션하는 포토마스크 설계 시뮬레이터 및 툴링 사양에 기초하여 포토마스크 주문을 발생하고 그 포토마스크 주문을 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 전송하는 포토마스크 주문 발생기를 포함한다.

본 발명의 예시적인 실시예에 따른 포토마스크 제작에 사용되는 툴링 사양 발생 시스템은, 논리 연산의 컴포넌트들-이들 컴포넌트들은 연산자를 갖는 적어도 하나의 표현식 및 그 연산자에 대응하는 적어도 하나의 별명을 포함함-의 생성, 수정 및 삭제 중 적어도 하나를 수행하는 논리 연산 관리자, 및 상기 적어도 하나의 별명을 디폴트값으로부터 수정하는 별명 관리자를 포함한다. 툴링 사양 발생기는 수정된 적어도 하나의 별명을 갖는 논리 연산에 기초하여 툴링 사양을 발생한다.

본 발명의 예시적인 실시예에 따른 툴링 사양 발생 시스템은, 툴링 사양 발생 시스템 외부의 소스로부터 논리 연산의 적어도 하나의 컴포넌트에 관한 데이터를 가져오는 데이터 임포터(importer), 논리 연산의 적어도 하나의 컴포넌트에 기초하여 툴링 사양을 발생하는 툴링 사양 발생기, 및 툴링 사양 분석을 위해 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 툴링 사양을 전송하는 파일 전송기를 포함한 툴링 사양 분석기를 포함한다.

본 발명의 예시적인 실시예에 따른 툴링 사양 발생 시스템은, 툴링 사양으로 표현되는 논리 연산의 적어도 하나의 컴포넌트를 그래픽 사용자 인터페이스, 마법사 및 커맨드 발생기 중 적어도 하나를 이용하여 생성, 수정 및/또는 삭제하는 툴링 사양 발생기, 툴링 사양의 분석을 위해 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 툴링 사양을 전송하는 툴링 사양 분석기 및 툴링 사양에 기초하여 포토마스크 주문을 발생하고 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 포토마스크 주문을 전송하는 포토마스크 주문 발생기를 포함한다.

본 발명의 예시적인 실시예에 따른 포토마스크 주문 발생 시스템은, 툴링 사양으로 표현되는 논리 연산의 컴포넌트를 생성, 수정 및/또는 삭제하는 툴링 사양 발생기, 및 논리 연산이 적당한 포맷인지를 검증하는 논리 연산 검증기를 포함한다. 툴링 사양 분석기는 툴링 사양의 분석을 위행 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 툴링 사양을 전송하고, 포토마스크 주문 발생기는 툴링 사양에 기초하여 포토마스크 주문을 발생하여 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 그 포토마스크 주문을 전송하는 포토마스크 주문 발생기를 포함한다.

본 발명의 예시적인 실시예에 따른, 방법을 컴퓨터가 수행하도록 하기 위한 컴퓨터 판독가능 명령어를 포함하는 컴퓨터 판독가능 매체는, 논리 연산의 컴포넌트들을 생성, 수정 및/또는 삭제함에 의해 툴링 사양을 발생하는 단계-논리 연산은 툴링 사양으로 표현됨- 및 툴링 사양을 분석하기 위해 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 툴링 사양을 전송하는 단계를 포함한다. 툴링 사양이 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템으로부터 수신되고, 포토마스크 주문이 툴링 사양에 기초하여 발생되고, 그 포토마스크 주문이 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 보내진다

본 발명의 적어도 한 실시예에서, 논리 연산의 컴포넌트들은 층 데이터 속성들, 입력 데이터 속성들, 표현식들, 패턴 그룹들 및 별명들 중 적어도 하나를 포함한다.

본 발명의 적어도 한 실시예에서, 데이터를 가져오는 단계는 커맨드 라인 발생기와 스캐너 중 적어도 하나를 이용하여 행해진다.

본 발명의 적어도 한 실시예에서, 외부 소스는 데이터베이스, GDSII 파일, MEBES 파일 및 포토마스크 주문 템플릿 중 적어도 하나이다.

본 발명의 적어도 한 실시예에서, 외부 소스는 데이터베이스이고, 데이터베이스는 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템과 공유된다.

본 발명의 적어도 한 실시예에서, 논리 연산의 컴포넌트들 중 적어도 하나는 적어도 하나의 검색 목록(look-up list)에서 선택된다.

본 발명의 적어도 한 실시예에서, 툴링 사양의 포맷은 한 세트의 규칙을 이용하여 검증된다.

본 발명의 적어도 한 실시예에서, 툴링 사양은 제3자의 데이터 분절 응용 프로그램에 의해 사용될 수 있는 포맷으로 변환된다.

본 발명의 적어도 한 실시예에서, 각종의 독점적이며 표준 포토마스크 데이터 포맷은 GDSII, MEBES, Oasis, DXF, Applican, .cflt, .cinc, 및 .ps 중 적어도 하나를 포함한다.

본 발명의 적어도 한 실시예에서, 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템은 툴링 사양을 분석하여 툴링 사양의 유효성, 실현가능성, 및/또는 바람직한 상황 중 적어도 하나를 판단한다.

본 발명의 적어도 한 실시예에서, 분석 결과는 핫 스폿 및 메트롤로지 매핑(hot spot and metrologyt mapping), 마스크 제작 규칙 위반, 피쳐 카운트(feature count) 및 레이아웃 밀도에 대한 통계, 리소그래피 인쇄 및 변동 감응 분석, 마스크 비용 및 공정 시간(cycle time) 추정치 및 축소 제안, 리소그래피 요구에 부합하는 마스크 사양, 풀 칩 프로세스 윈도우 및/또는 CD 제어 추정치 및 교대 RET 시나리오에 대한 가능성 중 적어도 하나를 포함한다.

본 발명의 적어도 한 실시예에서, 툴링 사양은 시뮬레이션된 포토마스크 설계를 이용하여 분석된다.

본 발명의 이들 및 기타 특징들은 본 발명의 여러 실시예에 대한 이하의 상세항 설명으로부터 명백해 질 것이다.

본 발명의 상기 및 관련된 목적, 특징 및 이점들은 첨부된 도면에 관련된 본 발명의 실시예에 대한 이하의 상세한 설명을 참조함으로써 보다 완전하게 이해할 것이다.

도 1은 종래 기술의 블랭크, 즉 미현상된 포토마스크를 도시한 도면.

도 2는 도 1의 포토마스크를 부분적으로 처리한 후의 모습을 도시한 도면.

도 3은 도 및 도 2의 포토마스크를 완전히 처리한 후의 모습을 도시한 도면.

도 4는 반도체 웨이퍼를 제작 또는 처리하기 위해 가공 처리된 포토마스크를 이용하는 방법을 도시하는 흐름도.

도 5는 웨이퍼 스테퍼를 이용하여 반도체를 제작하는 공정을 도시한 도면.

도 6은 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템과 결합하여 사용되는, 본 발명의 예시적인 일 실시예에 따른 툴링 사양 발생 시스템을 포함한 포토마스크 고객 컴퓨터 시스템을 도시한 도면.

도 7 내지 도 13은 사용자가 지정된 데이터를 입력하도록 안내하기 위한, 본 발명에 사용된 예시적인 그래픽 사용자 인터페이스의 여러 화면을 도시한 도면.

도 14는 본 발명의 예시적인 일 실시예에 따른 툴링 사양 발생 시스템을 이용하여 포토마스크를 제작하는 방법을 도시하는 흐름도.

본 발명의 여러 예시적인 실시예는 포토마스크를 제작하는 데 사용될, 데이터 분절 령어를 표현하는 전자 파일을 생성하기 위한 컴퓨터화된 시스템 및 방법에 관한 것이다. 특히, 본 발명의 시스템 및 방법은 논리 연산 생성 기능을 포토마스크 고객과 같은 최종 사용자에게 제공하며, 논리 연산의 컴포넌트들은 툴링 사양을 구성하며 포토마스크의 하나 이상의 층에 대한 데이터 분절용 명령어를 포함한다. 이하에서 기술될 바와 같이, 논리 연산은 표현식, 층 데이터 속성들, 입력 데이터 속성들, 패턴 그룹들 및 별명들을 포함할 수 있다. 논리 연산 내에 속성들을 사전에 채우기 위해, 예를 들어, MaskPilot®템플릿 또는 입력 데이터 파일 등의 외부 소스들로부터 특정 정보를 검색할 수 있다. 또한, 최종 사용자는 최종 사용자가 가장 익숙하며 표현식에서 사용되는 연산자의 기호 표현들인 별명들을 선택할 기능을 갖는다.

도 6은 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템(200)과 연계해서 사용되며 본 발명의 예시적인 일 실시예에 따른 툴링 사양 발생 시스템(110)을 포함하는 포토마스크 고객의 컴퓨터 시스템(100)을 도시한다. 툴링 사양 발생 시스템(110)은 논리 연산 관리자(115), 별명 관리지(120), 논리 연산 검증기(125), 툴링 사양 발생 기(130), 파일 전송기(135) 및 툴링 사양 변환기(140)를 포함한다. 이하에서 더 상술될 바와 같이, 최종 사용자는 툴링 사양 발생 시스템(110)의 여러 컴포넌트들을 이용하여, 예컨대, MaskPilot® 등의 포토마스크 주문 발생 시스템(145)에 의해 사용될 데이터 분절 명령어를 표현하는 논리 연산을 발생시킴으로써, 포토마스크 제작 프로세스용 툴링 사양을 발생할 수 있다. 본 발명은 MaskPliot®에서만 사용되는 것이 아니라, 임의 다른 포토마스크 주문 발생 시스템에도 사용될 수 있다는 것에 주목해야 한다. 비록 도 6에서는 툴링 사양 발생 시스템(110)을 포토마스크 주문 발생 시스템(145)에 관하여 독립형 시스템으로서 도시하였지만, 본 발명의 예시적인 다른 일 실시예에서는, 툴링 사양 발생 시스템(110)을 포토마스크 주문 발생 시스템(145)과 통합시킬 수 있다는 것에 주목해야 한다. 또한, 후술될 바와 같이, 하나 이상의 별도로 유지되는 데이터베이스(150)가 툴링 사양 발생 시스템(110)에 의해 사용되는 정보를 저장하고 제공할 수 있다. 데이터베이스(150)는 포토마스크 주문 발생 시스템(145)에 의해 공유될 수 있다.

최종 사용자는 논리 연산 관리자(115)를 사용하여 논리 연산의 생성, 수정 및/또는 삭제를 행한다. 논리 연산은 층 데이터 속성들, 입력 데이터 속성들, 표현식들, 패턴 그룹들 및 별명들의 켈렉션(collection)이며, 이들은 툴링 사양을 발생하는 데 사용될 것이다. 층 데이터 속성들은 특정의 마스크 층에 대한 층 이름, 층 번호 및 입력 데이터 참조 번호를 정의한다. 표현식을 생성할 때 이 정보의 부분들이 나중에 피연산자로서 사용될 수 있다. "층 데이터"의 범주에 속하는 속성들의 예로, 몇 가지를 들자면, 층 이름(Layer Name) 및 층 번호(Layer Number)를 들 수 있다. 입력 데이터 속성들은 툴링 사양을 발생할 목적으로 데이터를 조작하는 데 필요한 파라미터들을 정의한다. "입력 데이터"의 범주에 속하는 속성들의 예로, 몇 가지를 들자면, 입력 파일 이름(Input File Name), 상위 구조(Top Structure), 스냅 그리드(Snap Grid), 회전 및 정렬(Rotation and Alignment)을 들 수 있다. 패턴 그룹은 입력 데이터 속성들에 대한 패턴 범주의 영숫자 기술(alphanumeric description)이다. 패턴 그룹의 예로, 몇 가지를 들자면, 프라이머리(Primary), 테스트(Test), 프레임(Frame) 및 스크라이브(Scribe)를 들 수 있다. 항(term)로서의 표현식은 통상적으로 컴퓨터 언어에서 사용되며, 조작되는 객체인 피연산자와 특정 동작들(actions)을 표현하는 기호 또는 커맨드들인 연산자로서 구성된다. 별명들은 연산자들의 기호 표현이다.

논리 연산 관리자(115)는 최종 사용자가 데이터를 입력하여 논리 연산을 생성하도록 허용한다. 또한, 논리 연산 관리자(115)는 외부 소스들로부터 데이터를 가져오는 데이터 임포터(도시 안됨)를 포함할 수 있다. 데이터 임포터는, 예를 들어, 커맨드 라인 발생기 및/또는 스캐너를 포함할 수 있다. 일례로서, 시스템(110)은 속성들 내의 값들을, 몇 가지를 예로 들자면, GDSII 파일, MEBES 파일 및 하나 이상의 MaskPilot®템플릿 등의 소스로부터 가져오는 것을 허용한다. 또한, 데이터베이스(150)는 논리 연산의 여러 속성들에 대한 정보를 포함하는 툴링 사양 발생 시스템(110)과는 별도로 또는 통합하여 유지될 수 있다.

저장된 논리 연산은 전체적으로 또는 부분적으로 수정 및 삭제가 완전하게 행해질 수 있다. 예를 들어, 이전에 저장된 논리 연산을 선택가능한 속성 목록에 기초하여 검색한 후, 예컨대, 논리 연산으로부터 마스크 층을 제거시킴으로써 수정할 수 있다. 하나 이상의 MaskPilot®템플릿으로부터 논리 연산이 생성되면, 논리 연산은 그것을 생성한 MaskPilot®템플릿을 알게 되어 하나 이상의 MaskPilot®템플릿으로부터의 논리 연산에 마스크 층들을 추가할 수 있다. 또한, 별명들은 바람직하게는 각 논리 연산마다 별도로 저장되어, 별명에 대한 수정 또는 삭제가 기존의 논리 연산에 영향을 미치지 않을 것이다. 이런 점에서, 논리 연산은 그 표현식에 대한 별명을 "아는" 것이 바람직할 것이다. 예를 들어, 각 논리 연산은 시스템에 설치된 "디폴트" 별명을 사용할 수 있지만, 이하에서 기술될 바와 같이, 최종 사용자는 언제라도 그 선택을 변경할 기능을 갖는 것이 바람직하다.

별명 관리자(120)는 최종 사용자가 표현식에서 사용된 임의 연산자에 대한 하나 이상의 별명을 생성하는 것을 허용한다. 예를 들어, 시스템(110)은 각 논리 연산이 디폴트로서 사용할 수 있는 한 세트의 연산자를 포함할 수 있다. 이들 연산자들의 경우, 최종 사용자는 그 자신의 표현을 대체할 수 있다. 예를 들어, 최종 사용자는 "AND"로서 정의된 연산자를 "+"로 대체하기로 결정할 수 있다. 이런 특징은 단일 문자 표현 또는 연산자에만 제한되는 것은 아니지만, 한 세트의 별명 내의 고유 문자 표현으로만 제한되는 것이 바람직하다. 별명들은 생성 후에 시스템(110) 내에 저장될 수 있고, 나중에 수정 또는 삭제를 위해 검색될 수 있다.

논리 연산 검증기(125)는 최종 사용자에게 논리 연산의 무결성을 검증하는 기능을 제공하며, 이것에는 층 데이터 속성, 입력 데이터 속성 및 그 표현식의 구문(syntax)이 포함된다. 또한, 논리 연산 검증기(125)는 제공된 패턴 데이터 내에 사용자가 입력한 속성들이 실제로 존재하는가를 확인할 수 있다. 시스템(110)은 별도로 저장되는 것이 바람직하여 용이하게 갱신가능하고, 완전하고 정확한 데이터가 논리 연산에 확실하게 포함되도록 사용될 수 있는 한 세트 이상의 규칙들에 링크될 수 있다. 예를 들어, 표현식에 사용될 수 있는 적당한 별명을 통제하는 규칙들을 포함한 표현식에 관한 한 세트의 규칙들을 사용하여 논리 연산 내의 표현식의 구문을 검증할 수 있다. 논리 연산은 검증을 위해 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에도 보내질 수 있다는 것에 주목해야 한다.

툴링 사양 발생기(130)는 최종 사용자가 툴링 사양을 발생하는 것을 허용하며, 이 툴링 사양은 나중에 구문 분석(parse)되어 데이터를 분절하는 데 사용될 것이다. 툴링 사양은 본질적으로 하나 이상의 포토마스크 층들에 대한 데이터 분절용 명령어를 포함할 논리 연산 내의 표현식의 표현이다. 하나의 논리 연산으로부터 하나 이상의 툴링 사양을 발생할 수 있다. 일단 툴링 사양이 발생되면, 툴링 사양은, 예로, 몇 가지를 들자면, 로컬 디스크 장치, 휴대형 저장 장치 또는 네트워크 장치 등의 사용자가 지정한 위치에 인쇄 및/또는 저장될 수 있다.

파일 전송기(135)는 예로, 몇 가지를 들자면, FTP, HTTP, 또는 SMTP 등의 임의 응용 프로그램 지원 전송 프로토콜을 통해 지정된 위치로 전송하기 위한 하나 이상의 툴링 사양 파일들을 포함한 압축된 파일을 생성할 수 있다. 압축된 파일은, 예를 들어, gzip 등의 임의 적당한 포맷일 수 있다. 일례에서, 지정된 위치는 포토마스크 제작자일 수 있으며, 이 경우 포토마스크 제작자는 필요 정도에 따라 파일들의 압축을 풀어서("unzip" or decompress), 툴링 사양을 사용하여 요구된 포 토마스크를 제작할 것이다.

툴링 사양 변환기(140)는 저장되거나 가져온(imported)) 툴링 사양을 예로 몇 가지를 들자면, K2, CATS, Calibre, Synopsis 및 Mask Composer 등의 제3자의 데이터 분절용 응용 프로그램에 의해 사용될 수 있는 포맷으로 변환될 수 있다. 예를 들어, 이전에 생성된 XML 문서 형태의 툴링 사양을 툴링 사양 발생 시스템(110)에서 열 수 있으며, 그 후에 시스템(110)은 그 문서를 구문 분석하여 데이터 분절용 유틸리티와 호환가능한 새로운 파일을 생성할 것이다. 이런 점에서, 시스템(110)은 또한 각종 데이터 분절용 응용 프로그램의 요건을 만족시키기 위해 논리 연산을 생성하거나 툴링 사양을 발생할 때 사용되는 하나 이상의 속성들에 대한 디폴트값들을 최종 사용자가 정의하게 할 수 있다. 선택된 디폴트값들이 특정의 데이터 분절용 응용 프로그램과 함께 동작할 수 있는가를 판단하는 지침(guide)으로서 갱신가능하고 별도로 저장가능한 한 세트의 규칙들을 사용할 수 있다.

최종 사용자가 검색 목록을 이용하여 논리 연산을 구성하는 각종 속성들을 선택 및/또는 수정할 수 있다. 검색 목록은 사전에 채워지고 편집불가이거나, 사전에 채워지고 편집가능하거나, 또는 공백이며 편집가능할 수 있다. 예를 들어, 툴링 사양 발생 시스템(110)이 MaskPilot® 등의 포토마스크 주문 발생 시스템(145)과 통합되면, 시스템(110)은 시스템(110)과 포토마스크 주문 발생 시스템(145) 간에 공통인 속성들에 대한 검색 목록값들을 공유할 수 있다. 다른 예로서, 툴링 사양 발생 시스템(110)은 독립형 시스템일 수 있으며, 이 경우, 검색 목록은 독립된 포토마스크 주문 발생 시스템(145)과 호환가능한 속성값들을 포함할 수 있다.

포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템은 시뮬레이션 유틸리티(210) 및 분석 유틸리티(215)를 포함할 수 있다. 시뮬레이션 유틸리티는 예를 들어, SiVL by Synopsis 등의 임의 적당한 독점적 및/또는 상업적인 포토마스크 설계 시뮬레이션 소프트웨어를 사용하여 툴링 사양 발생 시스템(110)에 의해 발생된 툴링 사양에 기초하여 포토마스크 설계를 시뮬레이션할 수 있다. 이런 점에서, 포토마스크 고객의 컴퓨터 시스템(100)은, 예를 들어, 네트워크를 통해 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 링크될 수 있다.

분석 유틸리티(215)는 발생된 툴링 사양을 분석하는 데 사용될 수 있다. 분석은 시뮬레이션된 포토마스크 설계에 기초하거나, 또는 시뮬레이션과는 별도로 수행될 수 있다. 또한, 본 발명의 다른 예시적인 실시예에서는, 툴링 사양 발생 시스템(110) 자체가 포토마스크 설계 시뮬레이션을 수행할 수도 있다. 툴링 사양 분석은 포토마스크 설계에 대한 유효성, 실현가능성, 및/또는 바람직한 상황에 관한 결과들을 산출하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 분석은 몇 가지를 예로 들자면, 핫 스폿 및 메트롤로지 매핑, 마스크 제작 규칙 위반, 피쳐 카운트 및 레이아웃 밀도에 대한 통계, 리소그래피 인쇄 및 변동 감응 분석, 마스크 비용 및 공정 시간 추정치 및 축소 제안, 리소그래피 요구에 부합하는 마스크 사양, 풀 칩 프로세스 윈도우 및/또는 CD 제어 추정치 및 교대 RET 시나리오에 대한 가능성을 제공할 수 있다. 일반적으로, 분석은 바람직하게는 포토마스크 고객이 그 툴링 사양을 개선 및/또는 정정하기 위해 이용할 정보를 생성하여, 포토마스크 제작 공정 비용 을 보다 경제적으로 하고 공정 시간을 감축시킨다. 본 발명의 적어도 한 실시예에서는, 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템은 툴링 사양을 포토마스크 고객의 컴퓨터 시스템에 보내기 전에 툴링 사양을 수정한다.

포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템은 또한 포토마스크 주문을 수령 및 처리하여 원하는 포토마스크를 제작하는 포토마스크 주문 처리 시스템(220)을 포함할 수 있다.

최종 사용자는 그래픽 유틸리티 인터페이스(GUI), 전통적인 마법사 도는 커맨드 발생기를 통해 툴링 사양 발생 시스템(110)과 대화할 수 있다. GUI는 최종 사용자에게 툴링 사양 발생을 위해 시스템(112)에 정확하고 올바른 정보를 입력하도록 안내한다. 도 7 내지 도 13은 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 툴링 사양 발생 시스템(110)에서 사용할 수 있는 GUI의 여러 화면들을 도시한 것이다. 화면들은 아래와 같이 시작 화면에서 디스플레이되는 메뉴 구성을 이용하여 액세스가능하다.

일례로서, 서브메뉴의 "선택사항(Options)"을 클릭하면 도 7에 도시된 "데이 터베이스" 태브(tab) 화면(145)과 같은 다수의 태브 화면이 디스플레이될 것이다. "데이터베이스" 태브 화면(145)은 최종 사용자가 시스템(110)이 데이터 추출을 필요로 하는 파일의 위치를 파악할 수 있는 경로를 지정하는 것을 허용한다. 도 7에 도시된 예에서, "데이터베이스" 태브 화면(145)은 최종 사용자가 데이터를 추출하게 될 URL을 선택하는 것을 허용하여, URL을 액세스하는 데 필요할 경우 사용자 ID(User ID) 및 비밀번호(Password)의 입력을 요구한다.

GUI는 또한 도 8에 도시된 바와 같이, "일반적인 분절 파라미터" 화면(150)을 포함한다. 이 화면은 최종 사용자가 포토마스크 층들을 제작하는 데 사용되는 데이터 분절을 위한 파라미터들을 설정하는 것을 허용한다. 도 8에 도시된 바와 같이, "일반적인 분절 파라미터" 화면(150)은 "PreCut", "PreGrid", "Two-Sided", "Reverse" 및 "Rule" 등과 같은 세트 목록으로부터 선택될 수 있는 값들에 대한 항목, 및 "Sizing" 및 "Thread" 등과 같은 세트 목록으로부터 선택될 수 없는 값들에 대한 항목을 포함할 수 있다. "일반적인 분절 파라미터" 화면(150) 상에 디스플레이된 항목들은 도 8에 도시된 것에만 한정되는 것은 아니다.

논리 연산은 도 9에 도시된 바와 같이, "논리 연산" 화면(155)으로부터 보여질 수 있고/있거나 수정될 수 있다. 이 화면은 무엇보다도 특히, "논리 연산 이름"의 입력 및/또는 디스플레이를 허용하며, 이 논리 연산 이름은 생성 시에 특정 논리 연산에 주어진다.

GUI는 또한 논리 연산의 컴포넌트들 각각에 관한 화면을 포함한다. 예를 들어, 도 10은 "패턴 그룹" 화면(160)을 도시하고, 도 11은 "입력 데이터" 화면(165) 을 도시하고, 도 12는 "층 데이터" 화면(170)을 도시하고, 도 13은 "논리 표현식" 화면(175)을 도시한다.

본 발명의 예시적인 실시예에서, 툴링 사양 발생 시스템(110)은 NaskPilot® 등과 같은 독립형 포토마스크 주문 발생 시스템과 연계하여 사용될 수 있는 독립형 시스템일 수 있다. 또는, 툴링 사양 발생 시스템(110)은 포토마스크 주문 발생 시스템과 통합될 수 있다. 상술된 바와 같이, 툴링 사양 발생 시스템(110)을 포토마스크 주문 발생 시스템과 통합시킴으로써, 두 시스템들은 검색 목록 및 정보 데이터베이스를 공유하는 등과 같은 정보를 공유할 수 있으므로, 데이터를 공통 포맷으로 입력함으로써 동일한 정보를 두 번 입력할 필요성을 제거시키는 이점을 제공한다.

도 14는 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 툴링 사양 발생 시스템(110)을 이용하여 포토마스크의 제작 방법을 도시하는 흐름도이다. 단계 S1에서, 논리 연산의 고유 속성들이 논리 연산 관리자(115)에 입력된 후에 툴링 사양 발생 시스템(110)에 의해 툴링 사양이 발생된다. 이 단계 동안, 별명 관리자(120)를 사용하여 논리 연산에 사용되는 임의 연산자에 대한 별명을 생성할 수 있다. 단계 S1 대신에, 이전에 저장된 툴링 사양을 검색하거나 또는 외부 소스로부터 툴링 사양을 가져올 수 있다.

단계 S2에서, 발생된 툴링 사양의 포맷을 논리 연산 검증기(125)에 의해 검증한다. 예를 들어, 이 단계에서는, 논리 연산의 구문을 이전에 발생된 한 세트의 규칙을 이용하여 검증할 수 있다. 이들 규칙들은, 예를 들어, 논리 연산 내에서의 객체들의 올바른 순서 및/또는 각 논리 연산마다 필요한 속성들을 판정할 수 있다. 툴링 사양의 포맷에서 에러가 발견되면, 툴링 사양을 재발생시켜 에러 및 검증된 것을 다시 정정할 수 있다. 검증 단계는 선택사항으로서, 툴링 사양의 다른 예시적인 실시예에서는 논리 연산 포맷에 대한 검증 없이 툴링 사양을 발생할 수 있다. 논리 연산에 대한 검증은 포토마스크 고객의 컴퓨터 시스템 또는 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 의해 수행될 수 있다.

단계 S3에서, 툴링 사양을 파일 전송기(135)를 이용하여 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템(200)으로 보낸다. 이 단계에서, 툴링 사양은 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템이 툴링 사양을 판독할 수 있도록 다수의 표준 및/또는 독점적인 포토마스크 주문 포맷으로 출력될 수 있다. 표준 포맷의 일례는 몇 가지 예를 들자면, 컴퓨터 보조 설계(CAD) 또는 전자 설계 자동화(EDA)에 연관된 소프트웨어 또는 포토리소그래피 장비가 인식하고 사용하는 포맷일 수 있다. 독점적인 포맷은 몇 가지 예를 들자면, XML, SOAP XML, post-script 및 HTML을 포함할 수 있다.

단계 S4에서, 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템은 포토마스크 고객의 컴퓨터 시스템으로부터 수신된 툴링 사양 내에 포함된 분절용 명령어에 기초하여 포토마스크 설계를 시뮬레이션한다. 이 단계에서, 포토마스크 제작자는, 예를 들어, Synopsis의 SiVL 등과 같은 임의 적당한 상업적 및/또는 독점적인 포토마스크 설계 시뮬레이션 소프트웨어를 사용할 수 있다.

단계 S4에서, 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템은 포토마스크 설계 시뮬레이션 결과에 기초하여 툴링 사양을 분석한다. 시뮬레이션 단계는 선택 사항이고, 포토마스크 설계에 대한 분석은 이러한 시뮬레이션 없이 완성될 수 있다는 것을 인식해야 한다. 또한, 시뮬레이션 단계는 분석 후에, 및/또는 분석 필요 없이 툴링 사양 발생 시스템(110)에 의해 수행될 수 있다. 단계 S4에서, 툴링 사양은 최종적인 포토마스크 설계에 대한 유효성, 실현가능성, 및/또는 바람직한 상황에 기초하여 분석된다. 상기에서 기술된 바와 같이, 분석은 바람직하게는 포토마스크 고객이 그 툴링 사양을 개선 및/또는 정정하기 위해 사용할 수 있는 정보를 생성하여, 포토마스크 제작 프로세스 비용을 경제적으로 하고 공정 시간을 감축시킬 수 있다.

단계 S6에서, 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템은 툴링 사양을 갖거나 갖지 않고 분석 결과를 포토마스크 고객의 컴퓨터 시스템에 보낸다. 분석 결과를 툴링 사양을 갖고 보낼 경우, 분석 결과에는 툴링 사양 파일이 포함될 수 있다. 분 석 결과는, 예를 들어, XML 또는 HTML 문서로서 툴링 사양과는 별도로 또는 단독으로 보내질 수 있다. 또한, 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템은 분석에 기초하여 툴링 사양을 수정할 수 있다.

단계 S7에서, 분석 결과를 수신한 후, 포토마스크 고객의 컴퓨터 시스템은 툴링 사양을 이용하여 포토마스크 주문을 발생한다. 이 단계에서, 툴링 사양은 포토마스크 주문이 발생되기 전에 포토마스크 제작자가 제공한 분석 결과에 기초하여 우선적으로 수정될 수 있다. 예를 들어, 분석 결과는 툴링 사양이 유효하지 않아 논리 연산의 수정을 필요로 하거나, 또는 툴링 사양을 포토마스크 설계를 개선시킬 수 있는 포토마스크 제작자에 의해 제안된 변경 사항에 따르도록 변경될 수 있는 것을 나타낼 수 있다. 포토마스크 주문은 MaskPilot® 등과 같은 임의 적당한 포 토마스크 주문 발생 시스템을 이용하여 발생될 수 있다. 본 발명의 적어도 한 실시예에서는, 파일은 하나 이상의 포토마스크 제작자의 주문 포맷과 호환가능한 형태일 것이다.

단계 S8에서, 포토마스크 주문이 포토마스크 제작자에게 보내진다. 주문은 분석을 행한 그 포토마스크 제작자에게 보내질 필요는 없다. 마지막으로, 단계 S9에서, 포토마스크 제작자는 포토마스크 주문을 이용하여 포토마스크를 제작한다.

지금까지, 본 발명의 바람직한 실시예를 기술 및 도시하였지만, 당 분야의 숙련자라면 예시된 실시예에 대한 수정 및 변형이 가능하다는 것을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 사상 및 범주는 첨부된 청구범위에 기재된 사항에 의해서 광의적으로 해석되어야 한다.

Claims

포토마스크를 제작하는 방법으로서,

포토마스크 고객의 컴퓨터 시스템으로부터 툴링 사양을 수신하는 단계,

상기 툴링 사양을 분석하는 단계,

상기 분석 결과들을 상기 포토마스크 고객의 컴퓨터 시스템에 전송하는 단계,

상기 툴링 사양에 기초하여 발생된 포토마스크 주문을 수령하는 단계 및

상기 포토마스크 주문에 기초하여 포토마스크를 제작하는 단계

를 포함하는 포토마스크 제작 방법.
제1항에 있어서,

상기 툴링 사양은 각종의 독점적이고 표준인 포토마스크 데이터 포맷 중 적어도 하나로 수신되는 방법.
제2항에 있어서,

상기 각종의 독점적이고 표준인 포토마스크 데이터 포맷은 GDSII, MEBES, Oasis, DXF, Applican, .cflt, .cinc, 및 .ps 중 적어도 하나를 포함하는 방법.
제1항에 있어서,

상기 툴링 사양은 상기 툴링 사양에 대한 유효성, 실현가능성, 및/또는 바람직한 상황 중 적어도 하나를 판단하도록 분석되는 방법.
제4항에 있어서,

상기 분석 결과는 핫 스폿 및 메트롤로지 매핑(hot spot and metrology mapping), 마스크 제작 규칙 위반, 피쳐 카운트(feature count) 및 레이아웃 밀도에 대한 통계, 리소그래피 인쇄 및 변동 감응 분석, 마스크 비용 및 공정 시간(cycle time) 추정치 및 축소 제안, 리소그래피 요구에 부합하는 마스크 사양, 풀 칩 프로세스 윈도우 및/또는 CD 제어 추정치 및 교대 RET 시나리오에 대한 가능성 중 적어도 하나를 포함하는 방법.
제1항에 있어서,

상기 툴링 사양을 분석한 후에, 상기 툴링 사양을 상기 포토마스크 고객의 컴퓨터 시스템에 다시 전송하는 단계를 더 포함하는 방법.
제6항에 있어서,

상기 툴링 사양을 상기 포토마스크 고객의 컴퓨터 시스템에 다시 전송하기 전에 상기 분석에 기초하여 상기 툴링 사양을 수정하는 단계를 더 포함하는 방법.
제1항에 있어서,

상기 툴링 사양을 이용하여 포토마스크 설계를 시뮬레이션하는 단계를 더 포함하는 방법.
제8항에 있어서,

상기 툴링 사양은 상기 시뮬레이션된 포토마스크 설계를 이용하여 분석되는 방법.
포토마스크를 제작하는 데 사용되는 포토마스크 주문 발생 방법으로서,

논리 연산의 컴포넌트들을 생성, 수정 및/또는 삭제함으로써 툴링 사양을 발생하는 단계-상기 논리 연산은 상기 툴링 사양으로 표현됨-,

상기 툴링 사양을 상기 툴링 사양의 분석을 위해 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 전송하는 단계,

상기 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템으로부터 상기 분석 결과들을 수신하는 단계,

상기 툴링 사양에 기초하여 포토마스크 주문을 발생하는 단계 및

상기 포토마스크 주문을 상기 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 전송하는 단계

를 포함하는 포토마스크 주문 발생 방법.
제10항에 있어서,

상기 논리 연산의 컴포넌트들은 층 데이터 속성들, 입력 데이터 속성들, 표현식들(expressions), 패턴 그룹들 및 별명들(aliases) 중 적어도 하나를 포함하는 방법.
제10항에 있어서,

상기 논리 연산의 컴포넌트들에 대한 데이터를 외부 소스로부터 가져오는 단계를 더 포함하는 방법.
제12항에 있어서,

상기 데이터를 가져오는 단계는 커맨드 라인 발생기 및 스캐너 중 적어도 하나를 이용하여 행해지는 방법.
제12항에 있어서,

상기 외부 소스는 데이터베이스, GDSII 파일, MEBES 파일 및 포토마스크 주문 템플릿 중 적어도 하나인 방법.
제14항에 있어서,

상기 외부 소스는 데이터베이스이고, 상기 데이터베이스는 상기 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템과 공유되는 방법.
제10항에 있어서,

상기 논리 연산의 컴포넌트들 중 적어도 하나는 적어도 하나의 검색 목록(look-up list)에서 선택되는 방법.
제11항에 있어서,

상기 논리 연산의 컴포넌트들은 적어도 하나의 별명을 포함하고, 상기 방법은 상기 적어도 하나의 별명을 그 디폴트값으로부터 수정하는 단계를 더 포함하는 방법.
제10항에 있어서,

상기 툴링 사양의 포맷을 검증하는 단계를 더 포함하는 방법.
제18항에 있어서,

상기 툴링 사양의 포맷은 한 세트의 규칙들을 이용하여 검증되는 방법.
제10항에 있어서,

상기 툴링 사양을 제3자의 데이터 분절용 응용 프로그램(third party data fracturing applications)에 의해 사용될 수 있는 포맷으로 변환하는 단계를 더 포함하는 방법.
제10항에 있어서,

상기 툴링 사양은 각종의 독점적이고 표준인 포토마스크 데이터 포맷 중 적어도 하나로 발생되는 방법.
제21항에 있어서,

상기 각종의 독점적이고 표준인 포토마스크 데이터 포맷은 GDSII, MEBES, Oasis, DXF, Applican, .cflt, .cinc 및 .ps 중 적어도 하나를 포함하는 방법.
제10항에 있어서,

그래픽 유틸리티 인터페이스, 마법사 및 커맨드 발생기 중 적어도 하나를 이용하여 상기 논리 연산의 컴포넌트들에 대한 데이터를 입력하는 단계를 더 포함하는 방법.
제23항에 있어서,

상기 데이터 입력 단계는 그래픽스 유틸리티 인터페이스를 이용하여 행해지는 방법.
제23항에 있어서,

상기 데이터 입력 단계는 마법사를 이용하여 행해지는 방법.
제23항에 있어서,

상기 데이터 입력 단계는 커맨드 발생기를 이용하여 행해지는 방법.
제10항에 있어서,

상기 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템은 상기 툴링 사양에 대한 유효성, 실현가능성, 및/또는 바람직한 상황 중 적어도 하나를 판단하기 위해 상기 툴링 사양을 분석하는 방법.
제27항에 있어서,

상기 분석 결과들은 핫 스폿 및 메트롤로지 매핑, 마스크 제작 규칙 위반, 피쳐 카운트 및 레이아웃 밀도에 대한 통계, 리소그래피 인쇄 및 변동 감응 분석, 마스크 비용 및 공정 시간 추정치 및 축소 제안, 리소그래피 요구에 부합하는 마스크 사양, 풀 칩 프로세스 윈도우 및/또는 CD 제어 추정치 및 교대 RET 시나리오에 대한 가능성 중 적어도 하나를 포함하는 방법.
제10항에 있어서,

상기 툴링 사양을 이용하여 포토마스크 설계를 시뮬레이션하는 단계를 더 포함하는 방법.
제29항에 있어서,

상기 툴링 사양은 상기 시뮬레이션된 포토마스크 설계를 이용하여 분석되는 방법.
포토마스크 주문을 처리하는 방법으로서,

포토마스크 고객의 컴퓨터 시스템으로부터 툴링 사양을 수신하는 단계,

상기 툴링 사양을 분석하는 단계,

상기 분석 결과들을 상기 포토마스크 고객의 컴퓨터 시스템에 전송하는 단계 및

상기 툴링 사양에 기초하여 발생된 포토마스크 주문을 수령하는 단계

를 포함하는 방법.
제31항에 있어서,

상기 툴링 사양은 각종의 독점적이고 표준인 포토마스크 데이터 포맷 중 적어도 하나로 수신되는 방법.
제32항에 있어서,

상기 각종의 독점적이고 표준인 포토마스크 데이터 포맷은 GDSII, MEBES, Oasis, DXF, Applican, .cflt, .cinc, 및 .ps 중 적어도 하나를 포함하는 방법.
제31항에 있어서,

상기 툴링 사양은 상기 툴링 사양에 대한 유효성, 실현가능성, 및/또는 바람직한 상황 중 적어도 하나를 판단하도록 분석되는 방법.
제34항에 있어서,

상기 분석 결과는 핫 스폿 및 메트롤로지 매핑, 마스크 제작 규칙 위반, 피쳐 카운트 및 레이아웃 밀도에 대한 통계, 리소그래피 인쇄 및 변동 감응 분석, 마스크 비용 및 공정 시간 추정치 및 축소 제안, 리소그래피 요구에 부합하는 마스크 사양, 풀 칩 프로세스 윈도우 및/또는 CD 제어 추정치 및 교대 RET 시나리오에 대한 가능성 중 적어도 하나를 포함하는 방법.
제31항에 있어서,

상기 툴링 사양을 분석한 후에, 상기 툴링 사양을 상기 포토마스크 고객의 컴퓨터 시스템에 다시 전송하는 단계를 더 포함하는 방법.
제36항에 있어서,

상기 툴링 사양을 상기 포토마스크 고객의 컴퓨터 시스템에 다시 전송하기 전에 상기 분석에 기초하여 상기 툴링 사양을 수정하는 단계를 더 포함하는 방법.
제31항에 있어서,

상기 툴링 사양을 이용하여 포토마스크 설계를 시뮬레이션하는 단계를 더 포 함하는 방법.
제38항에 있어서,

상기 툴링 사양은 상기 시뮬레이션된 포토마스크 설계를 이용하여 분석되는 방법.
툴링 사양 발생 시스템을 사용하여 툴링 사양을 발생하는 방법으로서,

상기 툴링 사양 발생 시스템의 외부 소스로부터 논리 연산의 적어도 하나의 컴포넌트에 관한 데이터를 가져오는 단계,

상기 논리 연산의 상기 적어도 하나의 컴포넌트에 기초하여 툴링 사양을 발생하는 단계 및

상기 툴링 사양을 상기 툴링 사양의 분석을 위해 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 전송하는 단계

를 포함하는 툴링 사양 발생 방법.
제40항에 있어서,

상기 툴링 사양에 기초하여 포토마스크 주문을 발생하는 단계를 더 포함하는 방법.
제40항에 있어서,

상기 논리 연산의 상기 적어도 하나의 컴포넌트는 층 데이터 속성들, 입력 데이터 속성들, 표현식들, 패턴 그룹들 및 별명들 중 적어도 하나를 포함하는 방법.
제40항에 있어서,

상기 논리 연산의 적어도 하나의 컴포넌트에 관한 데이터를 외부 소스로부터 가져오는 단계는 커맨드 라인 발생기 및 스캐너 중 적어도 하나를 사용하여 행해지는 방법.
제40항에 있어서,

상기 외부 소스는 데이터베이스, GDSII 파일, MEBES 파일 및 포토마스크 주문 템플릿 중 적어도 하나인 방법.
제40항에 있어서,

상기 외부 소스는 데이터베이스이고, 상기 데이터베이스는 상기 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템과 공유되는 방법.
제40항에 있어서,

상기 논리 연산의 적어도 다른 하나의 컴포넌트를 적어도 하나의 검색 목록에서 선택하는 단계를 더 포함하는 방법.
제40항에 있어서,

상기 툴링 사양의 포맷을 검증하는 단계를 더 포함하는 방법.
제47항에 있어서,

상기 툴링 사양의 포맷은 한 세트의 규칙들을 이용하여 검증되는 방법.
제40항에 있어서,

상기 툴링 사양을 제3자의 데이터 분절용 응용 프로그램에 의해 사용될 수 있는 포맷으로 변환하는 단계를 더 포함하는 방법.
제40항에 있어서,

상기 툴링 사양은 각종의 독점적이고 표준인 포토마스크 데이터 포맷 중 적어도 하나로 발생되는 방법.
제50항에 있어서,

상기 각종의 독점적이고 표준인 포토마스크 데이터 포맷은 GDSII, MEBES, Oasis, DXF, Applican, .cflt, .cinc 및 .ps를 포함하는 방법.
제40항에 있어서,

그래픽 유틸리티 인터페이스, 마법사 및 커맨드 발생기 중 적어도 하나를 이용하여 상기 논리 연산의 적어도 다른 하나의 컴포넌트에 대한 데이터를 입력하는 단계를 더 포함하는 방법.
제40항에 있어서,

상기 논리 연산의 적어도 다른 하나의 컴포넌트에 대한 데이터를 입력하는 단계는 그래픽 유틸리티 인터페이스를 이용하여 행해지는 방법.
제40항에 있어서,

상기 논리 연산의 적어도 다른 하나의 컴포넌트에 대한 데이터를 입력하는 단계는 마법사를 이용하여 행해지는 방법.
제52항에 있어서,

상기 논리 연산의 적어도 다른 하나의 컴포넌트에 대한 데이터를 입력하는 단계는 커맨드 발생기를 이용하여 행해지는 방법.
제40항에 있어서,

상기 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템은 상기 툴링 사양에 대한 유효성, 실현가능성, 및/또는 바람직한 상황 중 적어도 하나를 판단하기 위해 상기 툴링 사양을 분석하는 방법.
제56항에 있어서,

상기 분석 결과들은 핫 스폿 및 메트롤로지 매핑, 마스크 제작 규칙 위반, 피쳐 카운트 및 레이아웃 밀도에 대한 통계, 리소그래피 인쇄 및 변동 감응 분석, 마스크 비용 및 공정 시간 추정치 및 축소 제안, 리소그래피 요구에 부합하는 마스크 사양, 풀 칩 프로세스 윈도우 및/또는 CD 제어 추정치 및 교대 RET 시나리오에 대한 가능성 중 적어도 하나를 포함하는 방법.
제40항에 있어서,

상기 툴링 사양을 이용하여 포토마스크 설계를 시뮬레이션하는 단계를 더 포함하는 방법.
제58항에 있어서,

상기 툴링 사양은 상기 시뮬레이션된 포토마스크 설계를 이용하여 분석되는 방법.
포토마스크를 제작하는 데 사용되는 툴링 사양을 발생하는 방법으로서,

논리 연산의 컴포넌트들을 생성, 수정 및/또는 삭제함으로써 툴링 사양을 발생하는 단계-상기 논리 연산은 상기 툴링 사양으로 표현됨-,

상기 툴링 사양을 특정의 표준 및/또는 독점적인 포토마스크 주문 포맷에 따 른 포맷으로 출력하는 단계

를 포함하는 툴링 사양 발생 방법.
제60항에 있어서,

상기 툴링 사양의 포맷을 검증하는 단계를 더 포함하는 방법.
제61항에 있어서,

상기 툴링 사양의 포맷은 한 세트의 규칙들을 이용하여 검증되는 방법.
제61항에 있어서,

상기 각종의 독점적이고 표준인 포토마스크 데이터 포맷은 GDSII, MEBES, Oasis, DXF, Applican, .cflt, .cinc 및 .ps 중 적어도 하나를 포함하는 방법.
포토마스크를 제작하는 데 사용되는 포토마스크 주문을 발생하는 방법으로서,

그래픽 사용자 인터페이스, 마법사 및 커맨드 발생기를 이용하여 논리 연산의 적어도 하나의 컴포넌트를 생성, 수정 및/또는 삭제함으로써 툴링 사양을 발생하는 단계-상기 논리 연산은 상기 툴링 사양으로 표현됨-,

상기 툴링 사양의 분석을 위해 상기 툴링 사양을 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 전송하는 단계,

상기 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템으로부터 상기 분석을 수신하는 단계,

상기 툴링 사양에 기초하여 포토마스크 주문을 발생하는 단계 및

상기 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 상기 포토마스크 주문을 전송하는 단계

를 포함하는 포토마스크 주문 발생 방법.
제64항에 있어서,

상기 논리 연산의 컴포넌트들은 층 데이터 속성들, 입력 데이터 속성들, 표현식들, 패턴 그룹들 및 별명들 중 적어도 하나를 포함하는 방법.
제64항에 있어서,

상기 논리 연산의 적어도 다른 하나의 컴포넌트에 대한 데이터를 외부 소스로부터 가져오는 단계를 더 포함하는 방법.
제66항에 있어서,

상기 데이터를 가져오는 단계는 커맨드 라인 발생기 및 스캐너 중 적어도 하나를 이용하여 행해지는 방법.
제66항에 있어서,

상기 외부 소스는 데이터베이스, GDSII 파일, MEBES 파일 및 포토마스크 주문 템플릿 중 적어도 하나인 방법.
제68항에 있어서,

상기 외부 소스는 데이터베이스이고, 상기 데이터베이스는 상기 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템과 공유되는 방법.
제66항에 있어서,

상기 논리 연산의 적어도 다른 하나의 컴포넌트는 적어도 하나의 검색 목록에서 선택되는 방법.
제64항에 있어서,

상기 논리 연산의 상기 적어도 하나의 컴포넌트는 적어도 하나의 별명을 포함하고, 상기 방법은 상기 적어도 하나의 별명을 그 디폴트값으로부터 수정하는 단계를 더 포함하는 방법.
제64항에 있어서,

상기 툴링 사양의 포맷을 검증하는 단계를 더 포함하는 방법.
제72항에 있어서,

상기 툴링 사양의 포맷은 한 세트의 규칙들을 이용하여 검증되는 방법.
제64항에 있어서,

상기 툴링 사양을 제3자의 데이터 분절용 응용 프로그램에 의해 사용될 수 있는 포맷으로 변환하는 단계를 더 포함하는 방법.
제64항에 있어서,

상기 툴링 사양은 각종의 독점적이고 표준인 포토마스크 데이터 포맷 중 적어도 하나로 발생되는 방법.
제75항에 있어서,

상기 각종의 독점적이고 표준인 포토마스크 데이터 포맷은 GDSII, Mebes, Oasis, DXF, Applican, .cflt, .cinc 및 .ps 중 적어도 하나를 포함하는 방법.
제64항에 있어서,

상기 툴링 사양 발생 단계는 그래픽 유틸리티 인터페이스를 이용하여 행해지는 방법.
제64항에 있어서,

상기 툴링 사양 발생 단계는 마법사를 이용하여 행해지는 방법.
제64항에 있어서,

상기 툴링 사양 발생 단계는 커맨드 발생기를 이용하여 행해지는 방법.
제64항에 있어서,

상기 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템은 상기 툴링 사양에 대한 유효성, 실현가능성, 및/또는 바람직한 상황 중 적어도 하나를 판단하기 위해 상기 툴링 사양을 분석하는 방법.
제80항에 있어서,

상기 분석 결과들은 핫 스폿 및 메트롤로지 매핑, 마스크 제작 규칙 위반, 피쳐 카운트 및 레이아웃 밀도에 대한 통계, 리소그래피 인쇄 및 변동 감응 분석, 마스크 비용 및 공정 시간 추정치 및 축소 제안, 리소그래피 요구에 부합하는 마스크 사양, 풀 칩 프로세스 윈도우 및/또는 CD 제어 추정치 및 교대 RET 시나리오에 대한 가능성 중 적어도 하나를 포함하는 방법.
제64항에 있어서,

상기 툴링 사양을 이용하여 포토마스크 설계를 시뮬레이션하는 단계를 더 포함하는 방법.
제82항에 있어서,

상기 툴링 사양은 상기 시뮬레이션된 포토마스크 설계를 이용하여 분석되는 방법.
포토마스크를 제작하는 데 사용되는 포토마스크 주문 발생 시스템으로서,

툴링 사양으로 표현되는 논리 연산의 컴포넌트들을 생성, 수정 및/또는 삭제하기 위한 툴링 사양 발생기,

상기 툴링 사양을 분석하는 툴링 사양 분석기 및

상기 툴링 사양에 기초하여 포토마스크 주문을 발생하고 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 상기 포토마스크 주문을 전송하는 포토마스크 주문 발생기

를 포함하는 포토마스크 주문 발생 시스템.
제84항에 있어서,

상기 툴링 사양 분석기는 상기 툴링 사양의 분석을 위해 상기 툴링 사양을 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 전송하는 파일 전송기를 포함하는 시스템.
제84항에 있어서,

상기 논리 연산의 컴포넌트들은 층 데이터 속성들, 입력 데이터 속성들, 표현식들, 패턴 그룹들 및 별명들 중 적어도 하나를 포함하는 시스템.
제84항에 있어서,

상기 논리 연산의 컴포넌트들 중 적어도 하나에 대한 데이터를 외부 소스로부터 가져오는 데이터 임포터(data importer)를 더 포함하는 시스템.
제87항에 있어서,

상기 데이터 임포터는 커맨드 라인 발생기 및 스캐너 중 적어도 하나를 포함하는 시스템.
제87항에 있어서,

상기 외부 소스는 데이터베이스, GDSII 파일, MEBES 파일 및 포토마스크 주문 템플릿 중 적어도 하나인 시스템.
제89항에 있어서,

상기 외부 소스는 데이터베이스이고, 상기 데이터베이스는 상기 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템과 공유되는 시스템.
제84항에 있어서,

상기 논리 연산의 컴포넌트들 중 적어도 하나가 선택되는 적어도 하나의 검색 목록을 더 포함하는 시스템.
제86항에 있어서,

상기 논리 연산의 컴포넌트들은 적어도 하나의 별명을 포함하고, 상기 시스템은 상기 적어도 하나의 별명을 그 디폴트값으로부터 수정하는 별명 관리자를 더 포함하는 시스템.
제84항에 있어서,

상기 논리 연산의 포맷을 검증하는 논리 연산 검증기를 더 포함하는 시스템.
제93항에 있어서,

상기 논리 연산 검증기는 한 세트의 규칙들을 이용하여 상기 논리 연산의 포맷을 검증하는 시스템.
제84항에 있어서,

상기 툴링 사양을 제3자의 데이터 분절용 응용 프로그램에 의해 사용될 수 있는 포맷으로 변환하기 위한 툴링 사양 변환기를 더 포함하는 시스템.
제84항에 있어서,

상기 툴링 사양 발생기는 각종의 독점적이고 표준인 포토마스크 데이터 포맷 중 적어도 하나로 상기 툴링 사양을 발생하는 시스템.
제96항에 있어서,

상기 각종의 독점적이고 표준인 포토마스크 데이터 포맷은 GDSII, MEBES, Oasis, DXF, Applican, .cflt, .cinc 및 .ps 중 적어도 하나를 포함하는 시스템.
제84항에 있어서,

상기 논리 연산의 컴포넌트들에 대한 데이터를 입력하기 위한 그래픽스 유틸리티 인터페이스, 마법사 및 커맨드 발생기 중 적어도 하나를 더 포함하는 시스템.
제84항에 있어서,

상기 논리 연산의 컴포넌트들에 대한 데이터를 입력하기 위한 그래픽 유틸리티 인터페이스 더 포함하는 시스템.
제84항에 있어서,

상기 논리 연산의 컴포넌트들에 대한 데이터를 입력하기 위한 마법사를 더 포함하는 시스템.
제84항에 있어서,

상기 논리 연산의 컴포넌트들에 대한 데이터를 입력하기 위한 커맨드 발생기를 더 포함하는 시스템.
제84항에 있어서,

상기 툴링 사양 분석기는 상기 툴링 사양에 대한 유효성, 실현가능성, 및/또는 바람직한 상황 중 적어도 하나를 판단하기 위해 상기 툴링 사양을 분석하는 시스템.
제102항에 있어서,

상기 툴링 사양 분석기는 핫 스폿 및 메트롤로지 매핑, 마스크 제작 규칙 위반, 피쳐 카운트 및 레이아웃 밀도에 대한 통계, 리소그래피 인쇄 및 변동 감응 분석, 마스크 비용 및 공정 시간(cycle time) 추정치 및 축소 제안, 리소그래피 요구에 부합하는 마스크 사양, 풀 칩 프로세스 윈도우 및/또는 CD 제어 추정치 및 교대 RET 시나리오에 대한 가능성 중 적어도 하나에 관한 분석 결과들을 산출하는 시스템.
제84항에 있어서,

상기 툴링 사양을 이용하여 포토마스크 설계를 시뮬레이션하기 위한 포토마스크 설계 시뮬레이터를 더 포함하는 시스템.
제104항에 있어서,

상기 툴링 사양 분석기는 상기 포토마스크 설계 시뮬레이터에 의해 시뮬레이 션된 상기 포토마스크 설계를 이용하여 상기 툴링 사양을 분석하는 시스템.
포토마스크를 제작하는 데 사용되는 포토마스크 주문 발생 시스템으로서,

툴링 사양으로 표현되는 논리 연산의 컴포넌트들을 생성, 수정 및/또는 삭제하기 위한 툴링 사양 발생기-상기 툴링 사양은 포토마스크 설계를 위한 분절용 명령어들을 포함함-

상기 분절용 명령어들을 이용하여 상기 포토마스크 설계를 시뮬레이션하는 포토마스크 설계 시뮬레이터 및

상기 툴링 사양에 기초하여 포토마스크 주문을 발생하고 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 상기 포토마스크 주문을 전송하는 포토마스크 주문 발생기

를 포함하는 포토마스크 주문 발생 시스템.
제106항에 있어서,

상기 툴링 사양을 분석하기 위한 툴링 사양 분석기를 더 포함하는 시스템.
제107항에 있어서,

상기 툴링 사양 분석기는 상기 툴링 사양의 분석을 위해 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 상기 툴링 사양을 전송하는 시스템.
제106항에 있어서,

상기 논리 연산의 컴포넌트들은 층 데이터 속성들, 입력 데이터 속성들, 표현식들, 패턴 그룹들 및 별명들 중 적어도 하나를 포함하는 시스템.
제106항에 있어서,

상기 논리 연산의 컴포넌트들 중 적어도 하나에 대한 데이터를 외부 소스로부터 가져오는 데이터 임포터를 더 포함하는 시스템.
제110항에 있어서,

상기 데이터 임포터는 커맨드 라인 발생기 및 스캐너 중 적어도 하나를 포함하는 시스템.
제110항에 있어서,

상기 외부 소스는 데이터베이스, GDSII 파일, MEBES 파일 및 포토마스크 주문 템플릿 중 적어도 하나인 시스템.
제110항에 있어서,

상기 외부 소스는 데이터베이스이고, 상기 데이터베이스는 상기 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템과 공유되는 시스템.
제106항에 있어서,

상기 논리 연산의 컴포넌트들 중 적어도 하나가 선택되는 적어도 하나의 검색 목록을 더 포함하는 시스템.
제109항에 있어서,

상기 논리 연산의 컴포넌트들은 적어도 하나의 별명을 포함하고, 상기 시스템은 상기 적어도 하나의 별명을 그 디폴트값으로부터 수정하는 별명 관리자를 더 포함하는 시스템.
제106항에 있어서,

상기 논리 연산의 포맷을 검증하는 논리 연산 검증기를 더 포함하는 시스템.
제116항에 있어서,

상기 논리 연산 검증기는 한 세트의 규칙들을 이용하여 상기 논리 연산의 포맷을 검증하는 시스템.
제106항에 있어서,

상기 툴링 사양을 제3자의 데이터 분절용 응용 프로그램에 의해 사용될 수 있는 포맷으로 변환하기 위한 툴링 사양 변환기를 더 포함하는 시스템.
제106항에 있어서,

상기 툴링 사양 발생기는 각종의 독점적이고 표준인 포토마스크 데이터 포맷 중 적어도 하나로 상기 툴링 사양을 발생하는 시스템.
제119항에 있어서,

상기 각종의 독점적이고 표준인 포토마스크 데이터 포맷은 GDSII, MEBES, Oasis, DXF, Applican, .cflt, .cinc 및 .ps 중 적어도 하나를 포함하는 시스템.
제106항에 있어서,

상기 논리 연산의 컴포넌트들에 대한 데이터를 입력하기 위한 그래픽스 유틸리티 인터페이스, 마법사 및 커맨드 발생기 중 적어도 하나를 더 포함하는 시스템.
제106항에 있어서,

상기 논리 연산의 컴포넌트들에 대한 데이터를 입력하기 위한 그래픽 유틸리티 인터페이스 더 포함하는 시스템.
제106항에 있어서,

상기 논리 연산의 컴포넌트들에 대한 데이터를 입력하기 위한 마법사를 더 포함하는 시스템.
제106항에 있어서,

상기 논리 연산의 컴포넌트들에 대한 데이터를 입력하기 위한 커맨드 발생기를 더 포함하는 시스템.
제106항에 있어서,

상기 툴링 사양 분석기는 상기 툴링 사양에 대한 유효성, 실현가능성, 및/또는 바람직한 상황 중 적어도 하나를 판단하기 위해 상기 툴링 사양을 분석하는 시스템.
제125항에 있어서,

상기 툴링 사양 분석기는 핫 스폿 및 메트롤로지 매핑, 마스크 제작 규칙 위반, 피쳐 카운트 및 레이아웃 밀도에 대한 통계, 리소그래피 인쇄 및 변동 감응 분석, 마스크 비용 및 공정 시간(cycle time) 추정치 및 축소 제안, 리소그래피 요구에 부합하는 마스크 사양, 풀 칩 프로세스 윈도우 및/또는 CD 제어 추정치 및 교대 RET 시나리오에 대한 가능성 중 적어도 하나에 관한 분석 결과들을 산출하는 시스템.
제107항에 있어서,

상기 툴링 사양 분석기는 상기 포토마스크 설계 시뮬레이터에 의해 시뮬레이션된 상기 포토마스크 설계를 이용하여 상기 툴링 사양을 분석하는 시스템.
포토마스크를 제작하는 데 사용되는 포토마스크 주문 발생 방법으로서,

논리 연산의 컴포넌트들을 생성, 수정 및/또는 삭제하여 툴링 사양을 발생하는 단계-상기 논리 연산은 상기 툴링 사양으로 표현되고, 상기 툴링 사양은 포토마스크 설계를 위한 분절용 명령어들을 포함함-

상기 분절용 명령어들을 이용하여 상기 포토마스크 설계를 시뮬레이션하는 단계,

상기 시뮬레이션된 포토마스크 설계에 기초하여 상기 툴링 사양을 분석하는 단계,

상기 툴링 사양에 기초하여 포토마스크 주문을 발생하는 단계 및

포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 상기 포토마스크 주문을 전송하는 단계

를 포함하는 포토마스크 주문 발생 방법.
제128항에 있어서,

상기 논리 연산의 컴포넌트들은 층 데이터 속성들, 입력 데이터 속성들, 표현식들, 패턴 그룹들 및 별명들 중 적어도 하나를 포함하는 방법.
제128항에 있어서,

상기 논리 연산의 컴포넌트에 대한 데이터를 외부 소스로부터 가져오는 단계를 더 포함하는 방법.
제130항에 있어서,

상기 데이터를 가져오는 단계는 커맨드 라인 발생기 및 스캐너 중 적어도 하나를 사용하여 행해지는 방법.
제130항에 있어서,

상기 외부 소스는 데이터베이스, GDSII 파일, MEBES 파일 및 포토마스크 주문 템플릿 중 적어도 하나인 방법.
제132항에 있어서,

상기 외부 소스는 데이터베이스이고, 상기 데이터베이스는 상기 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템과 공유되는 방법.
제128항에 있어서,

상기 논리 연산의 컴포넌트들 중 적어도 하나가 적어도 하나의 검색 목록에서 선택되는 방법.
제129항에 있어서,

상기 논리 연산의 컴포넌트들은 적어도 하나의 별명을 포함하고, 상기 방법은 상기 적어도 하나의 별명을 그 디폴트값으로부터 수정하는 단계를 더 포함하는 방법.
제128항에 있어서,

상기 툴링 사양의 포맷을 검증하는 검증 단계를 더 포함하는 방법.
제136항에 있어서,

상기 툴링 사양의 포맷은 한 세트의 규칙들을 이용하여 검증되는 방법.
제128항에 있어서,

상기 툴링 사양을 제3자의 데이터 분절용 응용 프로그램에 의해 사용될 수 있는 포맷으로 변환하는 단계 더 포함하는 방법.
제128항에 있어서,

상기 툴링 사양은 각종의 독점적이고 표준인 포토마스크 데이터 포맷 중 적어도 하나로 발생되는 방법.
제139항에 있어서,

상기 각종의 독점적이고 표준인 포토마스크 데이터 포맷은 GDSII, MEBES, Oasis, DXF, Applican, .cflt, .cinc 및 .ps 중 적어도 하나를 포함하는 방법.
제128항에 있어서,

그래픽 유틸리티 인터페이스, 마법사 및 커맨드 발생기 중 적어도 하나를 이용하여 상기 논리 연산의 컴포넌트들에 대한 데이터를 입력하는 단계를 더 포함하는 방법.
제141항에 있어서,

상기 데이터를 입력하는 단계는 그래픽 유틸리티 인터페이스를 이용하여 행해지는 방법.
제141항에 있어서,

상기 데이터를 입력하는 단계는 마법사를 이용하여 행해지는 방법.
제141항에 있어서,

상기 데이터를 입력하는 단계는 커맨드 발생기를 이용하여 행해지는 방법.
제128항에 있어서,

상기 툴링 사양은 상기 툴링 사양에 대한 유효성, 실현가능성, 및/또는 바람직한 상황 중 적어도 하나를 판단하기 위해 분석되는 방법.
제145항에 있어서,

상기 분석 결과들은 핫 스폿 및 메트롤로지 매핑, 마스크 제작 규칙 위반, 피쳐 카운트 및 레이아웃 밀도에 대한 통계, 리소그래피 인쇄 및 변동 감응 분석, 마스크 비용 및 공정 시간(cycle time) 추정치 및 축소 제안, 리소그래피 요구에 부합하는 마스크 사양, 풀 칩 프로세스 윈도우 및/또는 CD 제어 추정치 및 교대 RET 시나리오에 대한 가능성 중 적어도 하나를 포함하는 방법.
포토마스크를 제작하는 데 사용되는 포토마스크 주문 발생 방법으로서,

논리 연산의 컴포넌트들을 생성, 수정 및/또는 삭제하여 툴링 사양을 발생하는 단계-상기 논리 연산은 상기 툴링 사양으로 표현됨- ,

상기 툴링 사양이 적절한 포맷인지를 검증하는 단계,

상기 툴링 사양의 분석을 위해 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 상기 툴링 사양을 전송하는 단계,

상기 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템으로부터 상기 분석을 수신하는 단계,

상기 툴링 사양에 기초하여 포토마스크 주문을 발생하는 단계 및

상기 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 상기 포토마스크 주문을 전송하는 단계

를 포함하는 포토마스크 주문 발생 방법.
제147항에 있어서,

상기 논리 연산의 컴포넌트들은 층 데이터 속성들, 입력 데이터 속성들, 표현식들, 패턴 그룹들 및 별명들 중 적어도 하나를 포함하는 방법.
제147항에 있어서,

상기 논리 연산의 컴포넌트들에 대한 데이터를 외부 소스로부터 가져오는 단계를 더 포함하는 방법.
제149항에 있어서,

상기 데이터를 가져오는 단계는 커맨드 라인 발생기 및 스캐너 중 적어도 하나를 사용하여 행해지는 방법.
제149항에 있어서,

상기 외부 소스는 데이터베이스, GDSII 파일, MEBES 파일 및 포토마스크 주문 템플릿 중 적어도 하나인 방법.
제151항에 있어서,

상기 외부 소스는 데이터베이스이고, 상기 데이터베이스는 상기 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템과 공유되는 방법.
제147항에 있어서,

상기 논리 연산의 컴포넌트들 중 적어도 하나가 적어도 하나의 검색 목록에서 선택되는 방법.
제147항에 있어서,

상기 논리 연산의 컴포넌트들은 적어도 하나의 별명을 포함하고, 상기 방법은 상기 적어도 하나의 별명을 그 디폴트값으로부터 수정하는 단계를 더 포함하는 방법.
제147항에 있어서,

상기 툴링 사양의 포맷은 한 세트의 규칙들을 이용하여 검증되는 방법.
제147항에 있어서,

상기 툴링 사양을 제3자의 데이터 분절용 응용 프로그램에 의해 사용될 수 있는 포맷으로 변환하는 단계 더 포함하는 방법.
제147항에 있어서,

상기 툴링 사양은 각종의 독점적이고 표준인 포토마스크 데이터 포맷 중 적어도 하나로 발생되는 방법.
제157항에 있어서,

상기 각종의 독점적이고 표준인 포토마스크 데이터 포맷은 GDSII, MEBES, Oasis, DXF, Applican, .cflt, .cinc 및 .ps 중 적어도 하나를 포함하는 방법.
제147항에 있어서,

그래픽 유틸리티 인터페이스, 마법사 및 커맨드 발생기 중 적어도 하나를 이용하여 상기 논리 연산의 컴포넌트들에 대한 데이터를 입력하는 단계를 더 포함하는 방법.
제159항에 있어서,

상기 데이터를 입력하는 단계는 그래픽 유틸리티 인터페이스를 이용하여 행해지는 방법.
제159항에 있어서,

상기 데이터를 입력하는 단계는 마법사를 이용하여 행해지는 방법.
제159항에 있어서,

상기 데이터를 입력하는 단계는 커맨드 발생기를 이용하여 행해지는 방법.
제147항에 있어서,

상기 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템은 상기 툴링 사양에 대한 유효성, 실현가능성, 및/또는 바람직한 상황 중 적어도 하나를 판단하기 위해 상기 툴링 사양을 분석하는 방법.
제163항에 있어서,

상기 분석 결과들은 핫 스폿 및 메트롤로지 매핑, 마스크 제작 규칙 위반, 피쳐 카운트 및 레이아웃 밀도에 대한 통계, 리소그래피 인쇄 및 변동 감응 분석, 마스크 비용 및 공정 시간(cycle time) 추정치 및 축소 제안, 리소그래피 요구에 부합하는 마스크 사양, 풀 칩 프로세스 윈도우 및/또는 CD 제어 추정치 및 교대 RET 시나리오에 대한 가능성 중 적어도 하나를 포함하는 방법.
제147항에 있어서,

상기 툴링 사양을 이용하여 포토마스크 설계를 시뮬레이션하는 단계를 더 포함하는 방법.
제165항에 있어서,

상기 툴링 사양은 상기 시뮬레이션된 포토마스크 설계를 이용하여 분석되는 방법.
포토마스크를 제작하는 데 사용되는 툴링 사양을 발생하는 방법으로서,

논리 연산의 컴포넌트들을 생성, 수정 및 삭제하는 것 중 적어도 하나를 행 하는 단계-상기 컴포넌트들은 연산자를 갖는 적어도 하나의 표현식 및 상기 연산자에 대응하는 적어도 하나의 별명을 포함함-,

상기 적어도 하나의 별명을 디폴트값으로부터 수정하는 단계 및

상기 수정된 적어도 하나의 별명을 포함하는 상기 논리 연산에 기초하여 툴링 사양을 발생하는 단계

를 포함하는 툴링 사양 발생 방법.
제167항에 있어서,

상기 툴링 사양의 분석을 위해 상기 툴링 사양을 상기 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 전송하는 단계를 더 포함하는 방법.
제167항에 있어서,

상기 툴링 사양의 포맷을 검증하는 단계를 더 포함하는 방법.
제167항에 있어서,

상기 툴링 사양에 기초하여 포토마스크 설계를 시뮬레이션하는 단계를 더 포함하는 방법.
제167항에 있어서,

상기 논리 연산의 컴포넌트들 중 적어도 하나에 대한 데이터를 외부 소스로 부터 가져오는 단계를 더 포함하는 방법.
제171항에 있어서,

상기 데이터를 가져오는 단계는 커맨드 라인 발생기 및 스캐너 중 적어도 하나를 이용하여 행해지는 방법.
제171항에 있어서,

상기 외부 소스는 데이터베이스, GDSII 파일, MEBES 파일 및 포토마스크 주문 템플릿 중 적어도 하나인 방법.
제173항에 있어서,

상기 외부 소스는 데이터베이스이고, 상기 데이터베이스는 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템과 공유되는 방법.
제167항에 있어서,

상기 논리 연산의 컴포넌트들 중 적어도 하나가 적어도 하나의 검색 목록에서 선택되는 방법.
포토마스크를 제작하는 데 사용되는 툴링 사양 발생 시스템으로서,

논리 연산의 컴포넌트들을 생성, 수정 및 삭제하는 것 중 적어도 하나를 행 하기 위한 논리 연산 관리자-상기 컴포넌트들은 연산자를 갖는 적어도 하나의 표현식 및 상기 연산자에 대응하는 적어도 하나의 별명을 포함함-

상기 적어도 하나의 별명을 디포트값으로부터 수정하는 별명 관리자 및

상기 수정된 적어도 하나의 별명을 포함하는 상기 논리 연산에 기초하여 툴링 사양을 발생하는 툴링 사양 발생기

를 포함하는 툴링 사양 발생 시스템.
제176항에 있어서,

상기 툴링 사양을 분석하기 위해 상기 툴링 사양을 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 전송하는 툴링 사양 분석기를 더 포함하는 시스템.
제176항에 있어서,

상기 툴링 사양의 포맷을 검증하기 위한 툴링 사양 검증기를 더 포함하는 시스템.
제176항에 있어서,

상기 툴링 사양에 기초하여 포토마스크 설계를 시뮬레이션하는 포토마스크 설계 시뮬레이터를 더 포함하는 시스템.
제176항에 있어서,

상기 논리 연산의 컴포넌트들 중 적어도 하나에 대한 데이터를 외부 소스로부터 가져오는 데이터 임포터를 더 포함하는 시스템.
제180항에 있어서,

상기 데이터 임포터는 커맨드 라인 발생기 및 스캐너 중 적어도 하나를 포함하는 시스템.
제180항에 있어서,

상기 외부 소스는 데이터베이스, GDSII 파일, MEBES 파일 및 포토마스크 주문 템플릿 중 적어도 하나인 시스템.
제182항에 있어서,

상기 외부 소스는 데이터베이스이고, 상기 데이터베이스는 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템과 공유되는 시스템.
제176항에 있어서,

상기 논리 연산의 컴포넌트들 중 적어도 하나가 선택되는 적어도 하나의 검색 목록을 더 포함하는 시스템.
컴퓨터에게,

논리 연산의 컴포넌트들을 생성, 수정 및/또는 삭제하여 툴링 사양을 발생하는 단계-상기 논리 연산은 상기 툴링 사양으로 표현됨-,

상기 툴링 사양의50 분석을 위해 상기 툴링 사양을 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 전송하는 단계,

상기 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템으로부터 상기 툴링 사양을 수신하는 단계,

상기 툴링 사양에 기초하여 포토마스크 주문을 발생하는 단계 및

상기 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 상기 포토마스크 주문을 전송하는 단계를 포함하는 방법을 수행케 하기 위한 컴퓨터 판독가능 명령어들을 포함하는 컴퓨터 판독가능 매체.
툴링 사양 발생 시스템으로서,

상기 툴링 사양 발생 시스템 외부 소스로부터 논리 연산의 적어도 하나의 컴포넌트에 관한 데이터를 가져오는 데이터 임포터,

상기 논리 연산의 상기 적어도 하나의 컴포넌트에 기초하여 툴링 사양을 발생하기 위한 툴링 사양 발생기 및

상기 툴링 사양의 분석을 위해 상기 툴링 사양을 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 전송하는 파일 전송기를 포함하는 툴링 사양 분석기

를 포함하는 툴링 사양 발생 시스템.
제186항에 있어서,

상기 데이터 임포터는 커맨드 라인 발생기 및 스캐너 중 적어도 하나를 포함하는 시스템.
제186항에 있어서,

상기 외부 소스는 데이터베이스, GDSII 파일, MEBES 파일 및 포토마스크 주문 템플릿 중 적어도 하나인 시스템.
제188항에 있어서,

상기 외부 소스는 데이터베이스이고, 상기 데이터베이스는 상기 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템과 공유되는 시스템.
포토마스크 주문 발생 시스템으로서,

그래픽 사용자 인터페이스, 마법사 및 커맨드 발생기 중 적어도 하나를 이용하여 논리 연산의 적어도 하나의 컴포넌트를 생성, 수정 및/또는 삭제하기 위한 툴링 사양 발생기-상기 논리 연산은 상기 툴링 사양으로 표현됨-,

상기 툴링 사양의 분석을 위해 상기 툴링 사양을 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 전송하는 툴링 사양 분석기,

상기 툴링 사양에 기초하여 포토마스크 주문을 발생하고, 상기 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 상기 포토마스크 주문을 전송하는 포토마스크 주문 발생 기

를 포함하는 포토마스크 주문 발생 시스템.
제190항에 있어서,

상기 툴링 사양 발생기는 그래픽 유틸리티 인터페이스를 포함하는 시스템.
제190항에 있어서,

상기 툴링 사양 발생기는 마법사를 포함하는 시스템.
제190항에 있어서,

상기 툴링 사양 발생기는 커맨드 발생기를 포함하는 시스템.
포토마스크 주문 발생 시스템으로서,

논리 연산의 컴포넌트들을 생성, 수정 및/또는 삭제하기 위한 툴링 사양 발생기-상기 논리 연산은 툴링 사양으로 표현됨-,

상기 논리 연산이 적절한 포맷인지를 검증하기 위한 논리 연산 검증기,

상기 툴링 사양의 분석을 위해 상기 툴링 사양을 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 전송하는 툴링 사양 분석기 및

상기 툴링 사양에 기초하여 포토마스크 주문을 발생하고, 상기 포토마스크 제작자의 컴퓨터 시스템에 상기 포토마스크 주문을 전송하는 포토마스크 주문 발생 기

를 포함하는 포토마스크 주문 발생 시스템.
제194항에 있어서,

상기 논리 연산 검증기는 한 세트의 규칙들을 이용하여 상기 논리 연산의 포맷을 검증하는 시스템.