KR20070088006A - 광추출을 위한 나노구조체들을 갖는 발광 다이오드 및그것을 제조하는 방법 - Google Patents
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Description
Claims (14)
- 제1 도전형 반도체층;제2 도전형 반도체층;상기 제1 도전형 반도체층과 상기 제2 도전형 반도체층 사이에 개재된 활성층; 및상기 제2 도전형 반도체층 상에 성장된 나노구조체들(nano structures)을 포함하는 발광 다이오드.
- 청구항 1에 있어서,상기 나노구조체들은 하부 단면이 상부 단면보다 더 큰 발광 다이오드.
- 청구항 1에 있어서,상기 나노구조체들은 (Al, In, Ga)N 화합물 반도체 또는 ZnO로 형성된 발광 다이오드.
- 청구항 3에 있어서,상기 제1 도전형 반도체층은 N형 (Al, In, Ga)N 화합물 반도체로 형성되고, 상기 제2 도전형 반도체층은 P형 (Al, In, Ga)N 화합물 반도체로 형성된 발광 다이오드.
- 청구항 1에 있어서,상기 제1 도전형 반도체층에 형성된 제1 전극 패드;상기 나노구조체들이 성장된 제2 도전형 반도체층 상에 형성된 투명전극; 및상기 투명전극 상에 형성된 제2 전극 패드를 더 포함하는 발광 다이오드.
- 기판 상에 제1 도전형 반도체층을 형성하고,상기 제1 도전형 반도체층 상에 활성층을 형성하고,상기 활성층 상에 제2 도전형 반도체층을 형성하고,상기 제2 도전형 반도체층 상에 나노구조체들을 성장시키는 것을 포함하는 발광 다이오드 제조방법.
- 청구항 6에 있어서,상기 나노구조체들은 (Al, In, Ga)N 화합물 반도체 또는 ZnO로 형성된 발광 다이오드 제조방법.
- 청구항 7에 있어서,상기 제1 도전형 반도체층은 N형 (Al, In, Ga)N 화합물 반도체로 형성되고, 상기 제2 도전형 반도체층은 P형 (Al, In, Ga)N 화합물 반도체로 형성된 발광 다이오드 제조방법.
- 청구항 6에 있어서,상기 나노 구조체들이 성장된 제2 도전형 반도체층 상에 투명전극층을 형성하는 것을 더 포함하는 발광 다이오드 제조방법.
- 제1 도전형 반도체층;상기 제1 도전형 반도체층 상에 성장된 나노단위체들을 포함하고,상기 나노단위체들 각각은 상기 제1 도전형 반도체층 상에 성장된 활성층 및 상기 활성층 상에 성장된 제2 도전형 반도체의 나노구조체를 포함하는 발광 다이오드.
- 청구항 10에 있어서,상기 제1 도전형 반도체층은 N형 (Al, In, Ga)N 화합물 반도체로 형성되고, 상기 제2 도전형 반도체의 나노구조체는 P형 (Al, In, Ga)N 화합물 반도체로 형성된 발광 다이오드.
- 청구항 10에 있어서,상기 제1 도전형 반도체층에 형성된 제1 전극 패드;상기 나노구조체들 사이에 빈 공간이 남도록 상기 나노구조체들 상에 형성된 투명전극층; 및상기 투명전극층 상에 형성된 제2 전극 패드를 더 포함하는 발광 다이오드.
- 기판 상에 제1 도전형 반도체층을 형성하고,상기 제1 도전형 반도체층 상에 서로 이격된 나노단위체들을 성장시키되,상기 나노단위체들 각각은 상기 제1 도전형 반도체층 상에 성장된 활성층 및 상기 활성층 상에 성장된 제2 도전형 반도체의 나노구조체를 포함하는 발광 다이오드 제조방법.
- 청구항 13에 있어서,상기 나노구조체들 상에 투명전극층을 형성하는 것을 더 포함하는 발광 다이오드 제조방법.
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