KR20070080807A - Heat treatment apparatus - Google Patents

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KR20070080807A
KR20070080807A KR1020060062647A KR20060062647A KR20070080807A KR 20070080807 A KR20070080807 A KR 20070080807A KR 1020060062647 A KR1020060062647 A KR 1020060062647A KR 20060062647 A KR20060062647 A KR 20060062647A KR 20070080807 A KR20070080807 A KR 20070080807A
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South Korea
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treatment
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clean air
heat treatment
zone
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KR1020060062647A
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요시카즈 우라니시
히로시 카지타
이와오 모리모토
Original Assignee
고요 써모 시스템 가부시끼 가이샤
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract

A heat treatment apparatus which prevents gas from flowing from a first soaking zone in a transfer path to other zones of the transfer path, and maintains a high cleanliness in the entire transfer path is provided. In a heat treatment apparatus(10) which carries out a treatment including a first temperature increasing treatment, a first soaking treatment, a second temperature increasing treatment, a second soaking treatment, a slow cooling treatment and a cooling treatment on a treatment object transferred on a transfer path(5), and comprises first introduction pipes(7) that introduce clean air into a first temperature increasing zone(51) and a first soaking zone(52) for performing the first temperature increasing treatment and the first soaking treatment in the transfer path, and exhaust boxes(6) that exhaust air of the first temperature increasing zone and the first soaking zone to the outside, the heat treatment apparatus further comprises second introduction pipes(4) disposed in a zone except the first temperature increasing zone and the first soaking zone in the transfer path to introduce clean air.

Description

열처리 장치{HEAT TREATMENT APPARATUS} Heat treatment device {HEAT TREATMENT APPARATUS}

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 열처리 장치(10)에 있어서 열처리 내용을 도시한 도면;1 is a view showing the heat treatment contents in the heat treatment apparatus 10 according to an embodiment of the present invention;

도 2는 열처리 장치(10)의 구성을 도시한 측단면도; 및2 is a side sectional view showing the configuration of the heat treatment apparatus 10; And

도 3은 본 발명의 제1 내지 제3 실시예에 따른 열처리 장치(10,10',10")의 이송 경로(5)에 있어서 제1 균열영역 이외의 영역의 구성을 도시한 정단면도이다.FIG. 3 is a front sectional view showing the configuration of regions other than the first crack region in the transfer path 5 of the heat treatment apparatuses 10, 10 ', 10 "according to the first to third embodiments of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

2 : 이송 롤러 4 : 제2 도입관2: feed roller 4: second introduction pipe

5 : 이송 경로 6 : 배기 박스(box)5: transfer path 6: exhaust box

7 : 제1 도입관 11∼14 : 외벽부재7: 1st introduction pipe 11-14: Outer wall member

20 : 피처리물 31∼34 : 내열 유리 20: to-be-processed object 31-34: heat resistant glass

본 발명은 플라즈마 디스플레이용 유리 기판 등의 피처리물에 대한 소성 공 정 중에, 내부가 비어 있는 이송 경로 내에서 가열처리, 서냉(徐冷)처리 및 냉각처리 등의 열처리를 실행하는 열처리 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a heat treatment apparatus for performing heat treatment such as heat treatment, slow cooling treatment, and cooling treatment in an empty transfer path during a firing process for a workpiece such as a glass substrate for plasma display. will be.

플라즈마 디스플레이용 유리 기판 등의 피처리물에 대한 소정 공정에서는 내부가 비어 있는 이송 경로 내에서 가열처리, 서냉처리 및 냉각처리 등의 열처리가 실행된다. 이러한 열처리에 사용되는 열처리 장치는 상면, 하면 및 좌우 양 측면의 4면을 단열재 외벽부재로 둘러싸 내부가 비어 있는 이송 경로를 구성하고 있다. 이송 경로의 적어도 상면의 일부에는 이송 경로 내를 설정 온도로 가열하는 히터(heater)가 배치되어 있다.In a predetermined process with respect to a to-be-processed object, such as a glass substrate for plasma displays, heat processing, such as heat processing, a slow cooling process, and a cooling process, is performed in the conveyance path | route which is empty inside. The heat treatment apparatus used for such a heat treatment surrounds the upper surface, the lower surface, and the four surfaces on both the left and right sides of the heat insulating material with an outer wall member to form a transport path in which the inside is empty. At least a part of the upper surface of the transfer path is arranged with a heater for heating the inside of the transfer path to a set temperature.

플라즈마 디스플레이용 유리 기판 등의 피처리물은 표면에 유기재료 등의 각종 도포제가 도포되어 있다. 도포제에 포함된 결합제 등은 가열이나 연소에 의해 가스화하는 경우가 있다. 이런 가스는 이송 경로 내를 더럽히고 손상시키며, 냉각시에는 승화물로 굳어서 이송 경로의 벽면 등에 부착된다. 이런 승화물은 피처리물의 표면에 재부착되어 피처리물에 흠결이 생기게 한다. 그렇기 때문에, 제1 균열처리에서 충분히 가스(gas)를 발생시키고 있다.In the to-be-processed object, such as a glass substrate for plasma displays, various coating agents, such as an organic material, are apply | coated to the surface. The binder and the like contained in the coating agent may be gasified by heating or combustion. These gases dirty and damage the transport path, and upon cooling, they solidify with sublimation and adhere to the walls of the transport path. These sublimates reattach to the surface of the workpiece, causing defects in the workpiece. Therefore, the gas is sufficiently generated in the first cracking treatment.

종래의 열처리 장치에는 이송 경로 중 제1 승온(昇溫) 처리가 실행되는 제1 승온영역과 제1 균열처리가 실행되는 제1 균열영역에 배기 박스(box) 및 청정 공기의 도입관이 배치되어 있다. 제1 승온영역과 제1 균열영역에는 도입관으로부터 청정공기가 유입되는 한편, 가스는 배기 박스에서 외부로 배출된다. 제1 승온영역과 제1 균열영역의 청정도를 높은 상태로 유지할 수 있으며, 이러한 영역에서 승화물이 피처리물에 부착되는 것이 방지된다(예: 특허문헌 1 참조).In a conventional heat treatment apparatus, an exhaust box and a clean air inlet pipe are disposed in a first elevated temperature region in which a first elevated temperature treatment is performed and a first cracked region in which a first crack treatment is performed. . Clean air flows into the first heating zone and the first cracking zone from the inlet pipe, while gas is discharged from the exhaust box to the outside. The cleanliness of the first elevated temperature region and the first cracked region can be maintained in a high state, and the sublimation is prevented from adhering to the object to be treated in this region (for example, refer to Patent Document 1).

특허문헌 1 : 특허 제3655729호 공보Patent Document 1: Patent No. 3655729

배기 박스 및 청정 공기의 도입관을 배치함으로써 제1 승온영역과 제1 균열영역의 청정도는 높은 상태로 유지되지만, 이송 경로 내의 제2 승온처리, 제2 균열처리, 서냉처리 및 냉각처리 등이 행해지는 다른 영역의 청정도를 높일 수 없는 문제가 있었다. 도입관에서 유입되는 청정공기의 흐름에 의해 피처리물에서 발생한 승화 가스는 배기 박스에 완전히 흡인(吸引)되기도 전에, 제1 승온영역 및 제1 균열영역에서 다른 영역으로 이동하는 것으로 생각된다.By arranging the exhaust box and the inlet pipe of the clean air, the cleanliness of the first elevated temperature zone and the first crack zone is maintained at a high state, but the second elevated temperature treatment, the second crack treatment, the slow cooling treatment and the cooling treatment in the transfer path are performed. There was a problem that can not increase the cleanliness of other areas. It is thought that the sublimation gas generated in the object to be processed by the flow of clean air flowing into the inlet pipe moves from the first temperature raising zone and the first cracking zone to another area before being completely sucked into the exhaust box.

이것 때문에, 이송 경로 중의 제1 승온영역 및 제1 균열영역 이외의 영역에서 승화물이 피처리물에 부착되어 피처리물에 흠결이 발생한다.For this reason, a sublimation adheres to a to-be-processed object in the area | regions other than a 1st temperature rising area and a 1st crack area | region in a conveyance path | route, and a to-be-processed object produces.

본 발명의 목적은 이송 경로 전체에 걸쳐 청정도를 높은 상태로 유지할 수 있는 열처리 장치를 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a heat treatment apparatus capable of maintaining high cleanliness throughout the transport path.

본 발명의 열처리 장치는 이송 경로에서 이송 중인 피처리물에 대하여 제1 승온처리, 제1 균열처리, 제2 승온처리, 제2 균열처리, 서냉처리 및 냉각처리를 포함하는 처리를 순차로 행하는 열처리 장치이며, 이송 경로 중의 제1 승온처리 및 제1 균열처리가 행해지는 제1 승온영역 및 제1 균열영역에 청정공기를 도입하는 제1 도입관과, 제1 승온영역 및 제1 균열영역의 공기를 외부로 배출하는 배기 박스를 구비한 열처리 장치에 있어서, 제2 도입관을 구비하고 있다. 상기 제2 도입관은 이송 경로 중의 제1 승온영역 및 제1 균열영역 이외의 영역에 청정공기를 도입한다.The heat treatment apparatus of the present invention is a heat treatment that sequentially performs a process including a first temperature increase treatment, a first crack treatment, a second temperature increase treatment, a second crack treatment, a slow cooling treatment, and a cooling treatment with respect to the workpiece being transported in the transfer path. An apparatus, comprising: a first introduction tube for introducing clean air into a first elevated temperature zone and a first cracked zone where a first elevated temperature treatment and a first cracked treatment are performed in a transport path; and air in the first elevated temperature zone and the first cracked zone In the heat treatment apparatus provided with the exhaust box which discharge | releases to the outside, the 2nd introduction tube is provided. The second inlet pipe introduces clean air into a region other than the first elevated temperature region and the first crack region in the transport path.

본 구성에서는 이송 경로 중의 제1 승온영역 및 제1 균열영역 이외의 영역에 제2 도입관으로부터 청정공기가 도입된다.In this structure, clean air is introduce | transduced from a 2nd introduction pipe | tube into the area | regions other than a 1st temperature rising area and a 1st cracking area in a conveyance path | route.

상기 제2 도입관은 이송 경로를 따라 복수로 배치될 수 있다. 제1 승온영역 및 제1 균열영역 이외의 영역이 긴 경우에도, 이런 영역에 청정공기가 충분히 도입된다.The second introduction pipe may be arranged in plurality along the transport path. Even when the regions other than the first elevated temperature region and the first crack region are long, clean air is sufficiently introduced into these regions.

상기 제2 도입관은 청정공기를 피처리물의 상면을 향해 아래로 도입할 수도 있다. 청정공기에 의해 피처리물의 상면이 청정상태로 유지된다.The second introduction pipe may introduce clean air downward toward the upper surface of the object to be processed. The clean air keeps the top surface of the workpiece clean.

상기 제2 도입관은 피처리물의 상면의 위쪽에서 이송 경로를 따라 수평으로 청정공기를 도입할 수도 있다. 청정공기에 의해 피처리물의 상면의 공기가 청정상태로 유지된다.The second inlet pipe may introduce clean air horizontally along a transport path above the upper surface of the workpiece. Clean air keeps the air on the upper surface of the workpiece clean.

상기 제2 도입관은, 상기 피처리물의 상면 위쪽에서 상기 이송 경로에 직교하는 방향으로 상기 피처리물 상면의 양 단부의 바깥쪽에, 상기 이송 경로에 따른 방향을 종방향으로 배치되어, 이송 경로에 직교하는 수평방향과 아래쪽 방향을 향해서 청정공기를 도입할 수도 있다. 청정공기에 의해 피처리물의 상면의 공기가 청정상태로 유지되는 동시에, 이송 경로에 직교하는 방향에서 피처리물의 양단부와 이송 경로의 측면 사이가 차폐된다. 따라서, 측면의 개구 부분 등에서 침투하는 먼지에 의한 피처리물의 오손(汚損) 및 피처리물의 온도 저하를 방지할 수 있다. The second introduction pipe is disposed in the longitudinal direction in the direction along the conveying path, on the outer side of both ends of the upper surface of the workpiece in a direction orthogonal to the conveying path above the upper surface of the workpiece. It is also possible to introduce clean air in a direction perpendicular to the horizontal and downward directions. The clean air keeps the air on the upper surface of the workpiece clean and simultaneously shields between both ends of the workpiece and the side of the transfer path in a direction orthogonal to the transfer path. Therefore, it is possible to prevent the contamination of the workpiece and the temperature decrease of the workpiece due to the dust penetrating through the side openings and the like.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 열처리 장치(10)에 있어서 열처리의 내용을 도시한 도면이다. 열처리 장치(10)는 화로 내의 이송 경로의 일단에서 타단까지 피처리물을 이송하고, 그 사이에 피처리물에 제1 승온처리, 제1 균열처리, 제2 승온처리, 제2 균열처리, 서냉처리 및 냉각처리를 순서대로 실행한다.1 is a view showing the contents of the heat treatment in the heat treatment apparatus 10 according to an embodiment of the present invention. The heat treatment apparatus 10 transfers the object to be processed from one end to the other end of the transfer path in the furnace, and in the meantime, the first object is heated, the first cracked, the second is heated, the second cracked, slow cooling. The treatment and cooling treatment are executed in order.

제1 균열처리는 피처리물을 예를 들어 350℃∼400℃로 가열한 상태로 20분간유지한다. 제2 균열처리는 피처리물을 예를 들어 600℃로 가열한 상태로 30분간 유지한다. 서냉처리는 피처리물을 예를 들어 40분에 걸쳐서 400℃까지 냉각한다. 냉각처리는 피가열물을 예를 들어 약 50분에 걸쳐서 상온까지 냉각한다.In the first cracking treatment, the object to be treated is kept for 20 minutes in a state of being heated to 350 ° C to 400 ° C, for example. The second crack treatment is maintained for 30 minutes while the workpiece is heated to, for example, 600 ° C. Slow cooling treatment cools a to-be-processed object to 400 degreeC over 40 minutes, for example. The cooling treatment cools the heated object to room temperature, for example, over about 50 minutes.

제1 승온처리 및 제1 균열처리에서는 가열에 의해 피처리물에 도포된 도포제에서 가스가 발생한다. 이 가스는 소정의 온도까지 냉각되면 승화물로 굳어진다. 이 승화물은 이송 경로의 내부 벽면 등에 부착하고, 후의 열처리시에 이송되는 피처리물에 재부착되어 피처리물에 흠결이 생기게 한다.In the first temperature raising treatment and the first cracking treatment, gas is generated in the coating agent applied to the workpiece by heating. This gas solidifies into a sublimate when cooled to a predetermined temperature. This sublimate adheres to the inner wall surface of the transfer path and the like, and reattaches to the workpiece to be transported during the subsequent heat treatment, causing defects in the workpiece.

도 2는 열처리 장치(10)의 구성을 도시한 측단면도이다. 열처리 장치(10)에는 이송 경로(5)를 따라, 제1 승온영역(51), 제1 균열영역(52), 제2 승온영역(53), 제2 균열영역(54), 서냉영역(55) 및 냉각영역(56)이 형성되어 있다. 이송 경로(5)에는 복수의 이송 롤러(2)가 자유로이 회전하도록 배치되어 있다. 제1 승온영역(51), 제1 균열영역(52), 제2 승온영역(53), 제2 균열영역(54), 서냉영역(55) 및 냉각영역(56)은 각각 제1 승온처리, 제1 균열처리, 제2 승온처리, 제2 균열 처리, 서냉 처리 및 냉각처리를 실행한다.2 is a side sectional view showing the configuration of the heat treatment apparatus 10. The heat treatment apparatus 10 includes a first temperature raising region 51, a first cracking region 52, a second temperature raising region 53, a second cracking region 54, and a slow cooling region 55 along the transfer path 5. ) And a cooling zone 56 are formed. In the conveyance path 5, the some conveyance roller 2 is arrange | positioned so that it may rotate freely. The first temperature raising region 51, the first cracking region 52, the second temperature raising region 53, the second cracking region 54, the slow cooling region 55 and the cooling region 56 are each subjected to a first temperature raising process, The first cracking treatment, the second temperature raising treatment, the second cracking treatment, the slow cooling treatment and the cooling treatment are performed.

제1 승온영역(51) 및 제1 균열영역(52)에는 이송 롤러(2)의 배치 위치 윗쪽 에 복수의 배기 박스(6) 및 복수의 제1 도입관(7)이 이송 경로를 따라 배치되어 있다. 배기 박스(6)는 제1 균열영역에서 가열에 의해 피처리물로부터 발생한 가스를 외부로 배출한다. 배기 박스(6)는 이송 경로(5)의 측면의 벽면을 관통하고, 열처리 장치(10)의 우측면에 도시하지 않은 이젝터(ejecter)에 접속되어 있다.A plurality of exhaust boxes 6 and a plurality of first introduction pipes 7 are disposed along the transfer path in the first temperature raising region 51 and the first cracking region 52 above the position where the transfer roller 2 is disposed. have. The exhaust box 6 discharges the gas generated from the object to be treated by heating in the first cracking region to the outside. The exhaust box 6 penetrates the wall surface of the side surface of the conveyance path 5, and is connected to the ejector which is not shown in the right side surface of the heat processing apparatus 10. As shown in FIG.

제1 도입관(7)은 청정공기를 제1 승온영역(51) 및 제1 균열영역(52)에 도입한다. 제1 도입관(7)은 이송 경로(5)의 우측의 벽면을 관통하고, 열처리 장치(10)의 우측면에 도시하지 않은 고압 클린에어(clean air), CDA(clean dry air) 또는 블로어(blower)에 접속되어 있다. 블로어에는 필터(filter)가 구비되어 있어, 바깥 공기를 정화하여 제1 도입관(7)으로 유입한다. 또한, 클린 유닛(clean unit)으로부터 제1 도입관(7)에 청정공기를 공급할 수도 있다.The first inlet pipe 7 introduces clean air into the first elevated temperature region 51 and the first crack region 52. The first inlet tube 7 penetrates the wall surface on the right side of the conveying path 5 and is not shown on the right side of the heat treatment apparatus 10, for example, high pressure clean air, clean dry air, or blower. ) The blower is provided with a filter, purifies the outside air and flows into the first introduction pipe 7. It is also possible to supply clean air to the first introduction pipe 7 from a clean unit.

이송 경로(5)에서, 제1 승온영역(51) 및 제1 균열영역(52) 이외의 영역인 제2 승온영역(53), 제2 균열영역(54), 서냉영역(55) 및 냉각영역(56)에는 이송 롤러(2)의 윗쪽에 제2 도입관(4)이 배치되어 있다. 제2 도입관(4)은 청정공기를 제1 승온영역(51) 및 제1 균열영역(52) 이외의 영역에 도입한다. 일 예로서, 복수의 제2 도입관(4)이 이송 경로(5)에 직교하는 방향을 종방향으로 하여 이송 경로(5)를 따라 배치되어 있다. In the transfer path 5, the second elevated temperature region 53, the second crack region 54, the slow cooling region 55, and the cooling region, which are regions other than the first elevated temperature region 51 and the first crack region 52, are cooled. In the 56, the 2nd introduction pipe 4 is arrange | positioned above the feed roller 2. As shown in FIG. The second introduction pipe 4 introduces clean air into a region other than the first elevated temperature region 51 and the first cracked region 52. As an example, the some 2nd introduction pipe 4 is arrange | positioned along the conveyance path 5 with the direction orthogonal to the conveyance path 5 being a longitudinal direction.

도 3a는 본 발명의 제1 실시예에 따른 열처리 장치(10)의 이송 경로(5)에 있어서 제1 승온영역(51) 및 제1 균열영역(52) 이외의 영역의 구성을 도시한 정단면도이다. 열처리 장치(10)는 외벽부재(11∼14), 이송 롤러(2), 내열 유리(31∼34), 제2 도입관(4)을 구비하고 있다.FIG. 3A is a front sectional view showing the configuration of regions other than the first elevated temperature region 51 and the first crack region 52 in the transfer path 5 of the heat treatment apparatus 10 according to the first embodiment of the present invention. to be. The heat treatment apparatus 10 is equipped with the outer wall members 11-14, the conveying roller 2, the heat-resistant glass 31-34, and the 2nd introduction tube 4. As shown in FIG.

외벽부재(11∼14)는 단열재료로 구성되고, 각각 피처리물(20)이 이송되는 이송 경로의 상면, 하면 및 좌우 양 측면을 둘러싼다. 적어도 제1 승온영역(51), 제1 균열영역(52), 제2승온영역(53) 및 제2균열영역(54)의 외벽부재(11)는 내측면에 히터(heater)(도시하지 않음)를 구비하고 있다.The outer wall members 11 to 14 are made of a heat insulating material, and surround the upper surface, the lower surface, and the left and right sides of the transport path through which the object 20 is transferred, respectively. At least the outer wall member 11 of the first elevated region 51, the first cracked region 52, the second elevated region 53, and the second cracked region 54 has a heater (not shown) on its inner side. ).

내열 유리(31∼34)는 방진(防塵)부재이고, 각각 외벽부재(11∼14)의 안쪽에 배치되어 있다. 내열 유리(31∼34)는 외벽부재(1)에서 이탈한 먼지가 피처리물(20)에 부착하는 것을 방지한다. The heat resistant glass 31-34 is a dustproof member, and is arrange | positioned inside the outer wall members 11-14, respectively. The heat resistant glasses 31 to 34 prevent the dust separated from the outer wall member 1 from adhering to the workpiece 20.

이송 롤러(2)는 양단부가 외벽부재(13)와 다른 외벽부재(14)의 관통 구멍(13A 및 14A) 및 내열 유리(33)와 다른 내열 유리(34)의 관통 구멍(33A 및 34A)을 관통하고, 좌우 양 측면의 화로 밖의 축받이(21,22)에 의해 자유로이 회전하도록 지지된다. 이송 롤러(2)에는 이송 모터(도시하지 않음)의 회전이 전달되어 그 상면에서 피처리물(20)을 이송한다.The feed roller 2 has both ends of the through holes 13A and 14A of the outer wall member 13 and the outer wall member 14 and the through holes 33A and 34A of the heat resistant glass 33 and the other heat resistant glass 34. It penetrates and is supported to rotate freely by bearings 21 and 22 outside the brazier on both the left and right sides. The rotation of the transfer motor (not shown) is transmitted to the transfer roller 2 to transfer the workpiece 20 from the upper surface thereof.

제2 도입관(4)은 이송 경로(5) 내의 제1 승온영역(51) 및 제1 균열영역(52) 이외의 영역에서, 내열 유리(31)와 이송 롤러(2) 사이에 피처리물의 이송 방향에 직교하는 방향을 종방향으로 하여 배치되어 있다. 제2 도입관(4)은 예를 들어 원통형이고, 피처리물(20)의 폭보다도 길이가 길다.The second introduction pipe 4 is disposed between the heat-resistant glass 31 and the transfer roller 2 in a region other than the first elevated temperature region 51 and the first crack region 52 in the transfer path 5. It is arrange | positioned making the direction orthogonal to a conveyance direction into a longitudinal direction. The second introduction pipe 4 is, for example, cylindrical and has a length longer than the width of the workpiece 20.

제2 도입관(4)은 각각 이송 경로(5)의 우측 벽면을 관통하고, 열처리 장치(10)의 우측면에 도시되지 않은 고압 클린에어(clean air), CDA(clean dry air) 또는 블로어에 접속되어 있다. 블로어에는 필터(filter)가 구비되어 있어, 외부 공기를 정화해서 제2 도입관(4)에 주입한다. 또한, 클린 유닛(clean unit)으로부터 제2 도입관(4)에 청정공기를 공급할 수도 있다. The second introduction pipes 4 respectively penetrate the right side wall of the transfer path 5 and are connected to a high pressure clean air, clean dry air, or blower, not shown on the right side of the heat treatment apparatus 10. It is. The blower is provided with a filter, and purifies external air and injects it into the second introduction pipe 4. It is also possible to supply clean air to the second inlet pipe 4 from a clean unit.

제2 도입관(4)은 청정공기를 이송 경로(5) 내의 피처리물(20)의 상면을 향해 아래로 도입한다.The second introduction pipe 4 introduces the clean air downward toward the upper surface of the workpiece 20 in the transfer path 5.

이송 경로(5)의 제1 승온영역(51) 및 제1 균열영역(52) 이외의 영역에서는, 이송 롤러(2) 상에서 이송되는 피처리물(20)의 상면에 청정공기가 공급된다. 이에 따라, 제1 승온영역(51) 및 제1 균열영역(52)에서 피처리물(20)로부터 발생한 가스가 제1 승온영역(51) 및 제1 균열영역(52) 이외의 영역으로 유입되지 않아, 피처리물(20)의 표면이 가스의 승화물에 의해 더럽혀지고 손상되지도 않는다.In areas other than the first elevated temperature zone 51 and the first cracked zone 52 of the transfer path 5, clean air is supplied to the upper surface of the workpiece 20 to be transferred on the transfer roller 2. As a result, the gas generated from the object 20 in the first temperature raising region 51 and the first cracking region 52 does not flow into regions other than the first temperature raising region 51 and the first cracking region 52. Thus, the surface of the workpiece 20 is not dirty and damaged by the sublimation of the gas.

제2 도입관(4)의 배치 개수를 증감함으로써 이송 경로(5)의 길이 변화에 대응할 수 있다.By increasing or decreasing the arrangement | positioning number of the 2nd introduction pipe 4, it can respond to the change of the length of the conveyance path | route 5. As shown in FIG.

제2 도입관(4)에서 수평방향으로 청정공기를 도입하는 것도 바람직하다. 피처리물(20)의 표면에 청정공기가 직접 접하지 않으므로, 피처리물(20)의 온도분포가 상당히 균일하게 유지된다.It is also preferable to introduce clean air in the horizontal direction from the second introduction pipe (4). Since clean air does not directly contact the surface of the workpiece 20, the temperature distribution of the workpiece 20 is kept fairly uniform.

복수의 제2 도입관(4)은 각각 열처리 장치(10)의 배면(출구)측에서 이송 경로(5)를 따라 화로 내로 삽입된 하나의 도입관에서 분기될 수도 있다.The plurality of second introduction pipes 4 may be branched from one introduction pipe respectively inserted into the furnace along the transfer path 5 on the back (outlet) side of the heat treatment apparatus 10.

도 3b는 본 발명의 제2 실시예에 따른 열처리 장치(10')의 구성을 도시한 정단면도이다. 본 실시예에 따른 열처리 장치(10')에는 이송 경로(5) 내의 제1 승온영역(51) 및 제1 균열영역(52) 이외의 영역에 일례로 4개의 제2 도입관(41)이 내열 유리(31)와 이송 롤러(2) 사이에 배치되어 있다. 제2 도입관(41)은 각각 일례로 원통형일 수 있다.3B is a front sectional view showing the configuration of the heat treatment apparatus 10 'according to the second embodiment of the present invention. In the heat treatment apparatus 10 ′ according to the present embodiment, for example, four second introduction pipes 41 are heat-resistant to regions other than the first elevated temperature region 51 and the first crack region 52 in the transfer path 5. It is arrange | positioned between the glass 31 and the conveying roller 2. Each of the second introduction pipes 41 may be cylindrical, for example.

도면에 도시하지는 않았지만, 제2 도입관(41)은 일예로 열처리 장치(10)의 배면(출구) 측에서부터 이송 경로(5)를 따라 화로 내에 삽입될 수 있다. 제2 도입관(41)은 이송 경로(5)에 직교하는 수평방향으로 청정공기를 도입한다. 제2 도입관(41)은 각각 필터를 갖춘 블로어, 클린 유닛(clean unit), 고압 클린에어(clean air) 또는 CDA로부터 청정공기가 공급된다.Although not shown in the drawings, the second introduction pipe 41 may be inserted into the furnace along the transfer path 5 from the back (outlet) side of the heat treatment apparatus 10 as an example. The second introduction pipe 41 introduces clean air in a horizontal direction orthogonal to the transfer path 5. The second inlet pipe 41 is supplied with clean air from a blower equipped with a filter, a clean unit, a high pressure clean air, or a CDA, respectively.

이송 경로(5)의 제1 승온영역(51) 및 제1 균열영역(52) 이외의 영역에서는, 이송 롤러(2) 상에서 이송되는 피처리물(20)의 상면의 윗쪽에 청정공기가 채워진다. 제1 승온영역(51) 및 제1 균열영역(52)에서 피처리물(20)로부터 발생한 가스가 제1 승온영역(51) 및 제1 균열영역(52) 이외의 영역에 유입되지 않으므로, 피처리물(20)의 상면이 가스의 승화물에 의해 오염되고 손상되지 않는다.In the regions other than the first temperature raising region 51 and the first cracking region 52 of the conveying path 5, clean air is filled above the upper surface of the workpiece 20 to be conveyed on the conveying roller 2. Since the gas generated from the workpiece 20 in the first temperature raising region 51 and the first cracking region 52 does not flow into a region other than the first temperature raising region 51 and the first cracking region 52, The upper surface of the treatment 20 is contaminated by the sublimation of the gas and is not damaged.

제2 도입관(41)에서 수평방향으로 청정공기를 도입하는 것도 바람직하다. 피처리물(20)의 표면에 청정공기가 직접 접하지 않으므로, 피처리물(20)의 온도분포가 상당히 균일하게 유지된다.It is also preferable to introduce clean air in the horizontal direction from the second inlet pipe 41. Since clean air does not directly contact the surface of the workpiece 20, the temperature distribution of the workpiece 20 is kept fairly uniform.

도 3c는 본 발명의 제3 실시예에 따른 열처리 장치(10")의 구성을 나타내는 정단면도이다. 본 실시예에 따른 열처리 장치(10")에는 이송 경로(5) 내의 제1 승온영역(51) 및 제1 균열영역(52) 이외의 영역에, 2개의 제2 도입관(42)이 내열 유리(31)와 이송 롤러(2)의 사이에 배치되어 있다. 제2 도입관(42)은 각각 예를 들어 원통형일 수 있다.3C is a front sectional view showing the configuration of the heat treatment apparatus 10 "according to the third embodiment of the present invention. In the heat treatment apparatus 10" according to the present embodiment, the first temperature raising region 51 in the conveying path 5 is shown. ) And two second introduction pipes 42 are disposed between the heat-resistant glass 31 and the transfer roller 2 in regions other than the first crack region 52). The second introduction pipes 42 may each be cylindrical, for example.

제2 도입관(42)은 이송 경로(5)를 직교하는 방향에서 피처리물(20)의 양단부의 바깥쪽에, 이송 경로(5)를 따른 방향을 종방향으로 하여 배치되어 있다. 제2 도 입관(42)은 청정공기를 이송 경로에 직교하는 수평방향과 아래 방향으로 향하도록 도입한다.The 2nd introduction pipe 42 is arrange | positioned outside the both ends of the to-be-processed object 20 in the direction orthogonal to the conveyance path 5, making the direction along the conveyance path 5 the longitudinal direction. The second introduction pipe 42 introduces the clean air to be directed in the horizontal direction and the downward direction perpendicular to the transfer path.

도면에 도시하지는 않았지만, 제2 도입관(42)은 일예로 열처리 장치(10)의 배면(출구) 측에서부터 이송 경로(5)를 따라 화로 내에 삽입될 수 있다. 제2 도입관(42)은 각각 필터를 갖춘 블로어, 클린 유닛(clean unit), 고압 클린에어(clean air) 또는 CDA로부터 청정공기가 공급된다.Although not shown in the drawings, the second introduction pipe 42 may be inserted into the furnace along the transfer path 5 from the back (outlet) side of the heat treatment apparatus 10 as an example. The second introduction pipes 42 are each supplied with clean air from a blower equipped with a filter, a clean unit, a high pressure clean air or a CDA.

제2 도입관(42)에서 도입된 청정공기에 의해, 피처리물의 상면의 공기가 청정상태로 유지된다. The air on the upper surface of the object is kept in a clean state by the clean air introduced from the second inlet pipe 42.

제2 도입관(42)에서 수평방향으로 도입된 청정공기는 이송 경로(5) 내의 피처리물(20)의 상면에 직접 접하지 않는다. 따라서, 피처리물(20)의 온도분포는 상당히 균일하게 유지된다. The clean air introduced in the horizontal direction from the second introduction pipe 42 does not directly contact the upper surface of the workpiece 20 in the transfer path 5. Thus, the temperature distribution of the workpiece 20 is kept fairly uniform.

제2 도입관(42)에서 아래쪽 방향으로 도입된 청정공기는 이송 경로(5)에 직교하는 방향에서 피처리물(20)의 양단부와 내열 유리(33,34) 사이를 차폐한다. 따라서, 외벽부재(13)와 맞은편 외벽부재(14)의 관통 구멍(13A 및 14A) 및 내열 유리(33)와 맞은편 내열 유리(34)의 관통 구멍(33A 및 34A)에서 침입한 먼지에 의한 피처리물의 오손(汚損) 및 피처리물의 온도저하를 방지할 수 있다.The clean air introduced downward from the second introduction pipe 42 shields between both ends of the workpiece 20 and the heat resistant glass 33 and 34 in a direction orthogonal to the transfer path 5. Accordingly, the dust penetrates through the through holes 13A and 14A of the outer wall member 14 and the outer wall member 14 and the through holes 33A and 34A of the heat resistant glass 33 and the heat resistant glass 34 opposite to the outer wall member 13. It is possible to prevent fouling of the workpiece and to lower the temperature of the workpiece.

열처리 장치(10)는 이송경로(5)가 복수단으로 구성되고, 반입구와 반출구에 리프터(lifter)가 배치될 수 있다. 복수단의 이송 경로(5) 각각에서 제1 승온영역(51) 및 제1 균열영역(52) 이외의 영역 및 리프터(lifter) 내부에도, 제2 도입관(4, 41 또는 42)을 배치함으로써 열처리 동안 및 열처리에 이은 열처리 장치 내 에서의 이송 동안의 전체 기간에서 피처리물(20)의 오손을 방지할 수 있다.The heat treatment apparatus 10 may include a plurality of feed paths 5, and a lifter may be disposed at the inlet and the outlet. By arranging the second introduction pipes 4, 41, or 42 in areas other than the first heating zone 51 and the first cracking zone 52 and the lifter in each of the plurality of feed paths 5, respectively. It is possible to prevent fouling of the workpiece 20 during the heat treatment and in the whole period during the transfer in the heat treatment apparatus following the heat treatment.

본 발명의 열처리 장치에 따르면, 이송 경로 중의 제1 승온영역 및 제1 균열영역 이외의 영역에 제2 도입관으로부터 청정공기가 도입됨으로써, 제1 승온영역 및 제1 균열영역에서 가열에 의해 발생한 가스가 그 이외의 다른 영역으로 유입하는 것이 방지되고 이송 경로 측면의 개구부 등으로부터 먼지가 침입하는 것이 방지되어 이송 경로 전체에 걸쳐 청정도를 높은 상태로 유지할 수 있다.According to the heat treatment apparatus of the present invention, the gas generated by heating in the first elevated temperature region and the first crack region by introducing clean air into the regions other than the first elevated region and the first crack region in the transport path, Is prevented from entering the other area and dust is prevented from entering from an opening or the like on the side of the transport path, so that the cleanliness can be kept high throughout the transport path.

Claims (5)

이송 경로에서 이송 중인 피처리물에 대하여 제1 승온처리, 제1 균열처리, 제2 승온처리, 제2 균열처리, 서냉처리 및 냉각처리를 포함하는 처리를 순차로 행하고, 상기 이송 경로 중의 제1 승온처리 및 제1 균열처리가 행해지는 제1 승온영역 및 제1 균열영역에 청정공기를 도입하는 제1 도입관 및 상기 제1 승온영역 및 상기 제1 균열영역의 공기를 외부로 배출하는 배기 박스를 구비한 열처리 장치에 있어서, A process including a first temperature rising treatment, a first cracking treatment, a second temperature raising treatment, a second cracking treatment, a slow cooling treatment, and a cooling treatment is sequentially performed on the workpiece to be transferred in the transfer path, and the first step in the transfer path is performed. A first introduction pipe for introducing clean air into the first temperature rising zone and the first cracking zone where the temperature raising treatment and the first cracking treatment are performed, and an exhaust box for discharging air from the first temperature rising zone and the first cracking zone to the outside. In the heat treatment apparatus provided with, 상기 이송 경로 중의 상기 제1 승온영역 및 상기 제1 균열영역 이외의 영역에 청정공기를 도입하는 제2 도입관을 배치하는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.And a second introduction tube for introducing clean air into a region other than the first elevated temperature region and the first crack region in the transfer path. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제2 도입관은 상기 이송 경로를 따라 복수로 배치되는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.The second introduction pipe is a plurality of heat treatment apparatus, characterized in that arranged along the conveyance path. 제1항 또는 제2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 제2 도입관은 상기 피처리물의 상면을 향해 아래로 청정공기를 도입하는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.And the second introduction pipe introduces clean air downward toward the upper surface of the object. 제1항 또는 제2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 제2 도입관은 상기 피처리물의 상면의 위쪽에서 이송 경로를 따라 수평으로 청정공기를 도입하는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.And the second inlet pipe introduces clean air horizontally along a transport path above the upper surface of the workpiece. 제1항 또는 제2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 제2 도입관은, 상기 피처리물의 상면 위쪽에서 상기 이송 경로에 직교하는 방향으로 상기 피처리물 상면의 양 단부의 바깥쪽에, 상기 이송 경로에 따른 방향을 종방향으로 배치되어, 이송 경로에 직교하는 수평방향과 아래쪽 방향을 향해서 청정공기를 도입하는 것을 특징으로 하는 열처리 장치.The second introduction pipe is disposed in the longitudinal direction in the direction along the conveying path, on the outer side of both ends of the upper surface of the workpiece in a direction orthogonal to the conveying path above the upper surface of the workpiece. A heat treatment apparatus characterized by introducing clean air in a direction perpendicular to a horizontal direction and a downward direction.
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