KR20070030589A - 플라즈마 디스플레이 패널장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널장치에 관한 것으로서, 상기 패널의 유전체 보호막형성에 있어서, 상기 보호막을 대략 400℃정도로 대략 10분동안 열처리하여 형성시키고, 낮은 전압 및 온도와 긴 주기로 상기 보호막을 열처리해줌으로 인하여 가공후 형성된 상기 패널내에 발생하는 오방전과 상기 오방전으로 인해 발생하는 잔상이 개선됨과 동시에 휘도가 일정해지는 효과가 있다.

플라즈마 디스플레이 패널, 보호막, 열처리, 오방전

Description

플라즈마 디스플레이 패널장치{Plasma display panel apparasute}

도 1은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널장치의 구조가 도시된 사시도,

도 2는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널장치의 유전체보호막의 열처리과정이 도시된 그래프이다.

<도면의 주요 부분에 관한 부호의 설명>

10: 전면기판 11a, 11b: 스캔전극

12a, 12b: 서스테인 전극 13: 유전체(스캔, 서스테인전극 보호)

14: 유전체보호막 20: 배면기판

21: 어드레스전극 22: 유전체(어드레스전극보호)

23: 격벽 24: 형광체

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널장치에 관한 것으로서, 특히 종래보다 낮은 전압 및 온도로 긴 주기동안 상기 패널의 보호막을 열처리해줌으로 인하여 긴 주기동안 열처리해줄 경우 발생할 수 있는 상기 패널기판의 손상과 상기 손상으로 인해 발생하는 상기 패널내 오방전과 잔상을 방지할 수 있고, 휘도의 불균일을 방지 할 수 있다.

일반적으로 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel, 이하 'PDP'라 한다)은 기체방전을 통하여 얻어진 플라즈마로부터 방사되는 진공자외선(VUV: Vacuum Ultra-Violet)이 형광체를 여기시킴으로서 발생되는 적(R), 녹(G), 청(B)의

가시광을 이용하여 소정의 영상을 구현하는 디스플레이 소자이다.

이러한 PDP는 60인치 이상의 초대형 화면을 불과 10㎝이내의 두께로 구현할 수 있고, CRT와 같은 자발광 디스플레이 소자이므로 색재현력 및 시야각에 따른 왜곡현상이 없는 특성을 가지며, 또한 LCD 등에 비해 제조공법이 단순하여 생산성 및 원가 측면에서도 강점을 갖는 TV 및 산업용 평판 디스플레이로 각광 받고 있다.

현재 가장 널리 채택되고 있는 면방전형 PDP는 전면기판에 스캔전극, 서스테인 전극을 포함하고, 상기 전면기판과 접합되는 배면기판에 어드레스 전극을 포함하게 되는데 상기 전극들의 상호작용으로 방전셀 내부에서 플라즈마 방전을 일으키면서 화면을 구현하게 된다.

상기 전면기판위에 형성된 스캔전극과 서스테인전극위에 유전체층이 형성되는데, 그 위에 상기 유전체를 보호하는 보호막이 형성되게 된다.

또한, 상기 PDP의 유전체층 보호막을 형성함에 있어서, 상기 보호막특성을 개선하기 위하여 각 온도별로 증착을 한 후 합착전에 고온의 짧은 주기, 즉 600℃의 6분 정도의 주기로 열처리를 시킨다.

그러나, 종래의 고온의 짧은 주기로 상기 유전체 보호막을 형성하게 되면, 고온으로 인한 투명유리기판이 손상을 입을 수도 있고 이로 인해 발생하는 방전셀 내부의 오방전과 불량한 잔상특성 및 휘도가 불균일하여 플라즈마 디스플레이 패널의 수명이 단축되는 문제점이 있다.

본 발명은 상기한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체 보호막특성을 개선하기 위하여 상기 유전체 보호막을 소정값의 저온의 긴 주기로 열처리를 함으로서 종래에 방전셀 내부에서 발생하는 오방전과 불량한 잔상특성, 휘도의 불균일함을 제거할 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널장치를 제공하는 데 그 목적이 있다.

상기한 과제를 해결하기 위한 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널장치 는 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체 보호막형성에 있어서, 상기 보호막을 대략 400℃정도로 대략 10분동안 열처리하여 형성시키는 것을 특징으로 한다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하면 다음과 같다.

도 1은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널장치의 구조가 도시된 사시도이고, 도 2는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널장치의 유전체보호막의 열처리과정이 도시된 그래프이다.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 전면 기판(10)과 배면기판(20)으로 구성된다.

상기 전면기판은(10)은 스캔 전극(11a,11b) 및 서스테인 전극(12a,12b)과, 상기 스캔 전극(11a,11b) 및 서스테인 전극(12a,12b)을 덮도록 적층되는 유전체(13)와, 상기 유전체를 보호하기 위한 유전체 보호막(14)으로 이루어진다.

상기 배면기판(20)은 상기 전면기판(10)의 상기 스캔전극(11a,11b) 및 서스테인전극(12a,12b)과 직교하도록 배열되는 어드레스 전극(21)과, 상기 어드레스 전극을 보호하는 유전체(22)와, 방전셀(v)을 형성하는 격벽(23)과, 상기 격벽에 의해 형성된 방전셀 내부에 인쇄, 도포되어 각 셀의 방전시 자외선에 의해 여기되어 가시광을 방출하는 형광체(24)로 이루어진다.

한편, 상기 플라즈마 디스플레이 패널의 전면기판(10)의 유지전극(11a,11b,12a,12b)과 배면기판(20)의 어드레스 전극(21)을 보호하고 전기적으로 콘덴서(condenser)역할을 하는 유전체(13,22)를 형성하며, 상기 전면 패널기판(10)의 내구성이 약한 상기 유전체(13)를 보호하여 패널이 장시간 동안 안정된 동작을 하게 하는 보호막(14)을 형성하여 상기 배면기판(20)과 실(seal;미도시)재에 의해 합착되게 된다.

도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 유전 체보호막은 400℃의 온도로 1주기가 대략 10분 정도로 상기 패널 전면기판의 유전체위에 도포된 보호막을 열처리를 하게 된다.

상기 플라즈마 디스플레이 패널은 전면기판위에 형성된 스캔전극과 서스테인 전극을 보호하고 전기적으로 콘덴서 역할을 하는 유전체가 형성되고, 상기 유전체위에 보호막이 도포되게 된다.

여기서, 상기 플라즈마 디스플레이 패널 전면기판에 형성된 유전체는 방전광을 투과시키기 위해 투명하게 형성하며, 배면기판에 형성된 유전체는 방전광이 상기 배면기판쪽으로 투과되는 것을 막기 위해 백색으로 형성된다.

또한, 상기 유전체의 형성방법은 스크린 인쇄법이 일반적으로 사용되고 있다.

그리고, 상기 유전체위에 증착되는 보호막은 내구성과 2차 전자 방출 특성 및 투과도등이 높은 물질을 사용하게 된다.

여기서, 상기 보호막은 방전시 내구성이 약한 유전체를 보호함으로서 상기 패널이 장시간동안 안정된 동작을 하게 되며, 방전시에 2차전자를 많이 방출함으로서 방전전압을 낮추는 기능을 한다.

상기 플라즈마 디스플레이 패널에 불가결한 보호막은 상기 패널의 전압특성을 결정하고 수명을 크게 좌우하며, 방전전극을 플라즈마 발광에 의한 이온 스퍼터(Ion sputter)에 의해 보호하고 벽전하에 의한 메모리 기능을 가지도록 하는 역할을 하는데, 이 것들을 만족시키는 재료로서 일반적으로 진공증착에 의한 MgO막이 형성된다.

한편, 상기 MgO막의 형성방법으로는 전자 빔 증착방법(EB), 이온 플레이팅법(Ion plating), 스퍼터법(Sputter), 후막인쇄법등이 있으나, 이하 본 발명에서는 전자 빔 증착방법을 사용하여 설명한다.

여기서, 상기 전자 빔 증착방법은 필라멘트로부터 전자빔을 증발재료에 조사하여 증발시켜 대향방향에 설치한 기판에 증착시켜 성막하는 방식으로, 상기 성막속도를 높이기 위해 통상 MgO는 ingot가 아닌 입상타입이 주로 사용된다.

그리고, 시료에는 단결정체, 다결정체, 소결체등이 있고, 재료에는 고순도와 기계적 강도, 입경균일성, 저흡습성이 요구된다.

또한, 상기 MgO막이 전자 빔에 의해 증착된 후 상기 플라즈마 디스플레이 패널의 배면기판과 합착전에 상기 MgO막의 특성을 개선하기 위한 하나의 방법으로서 상기 MgO막 표면을 저온의 긴 주기로 대략 10분 정도 열처리해주게 된다.

여기서, 상기 MgO막의 열처리를 함에 있어서, 고온의 짧은 주기로 하게 되면, 상기 고온의 특성으로 인하여 유리기판에 손상을 입힐 수 있으며, 상기 손상으로 인하여 방전셀 내부에는 오방전이 발생하게 되고 휘도도 불 균일하게 형성되게 된다.

상기와 같이 구성된 본 발명의 동작을 살펴보면 다음과 같다.

상기와 같이 구성된 플라즈마 디스플레이 패널은 상기 패널의 유전체 보호막형성에 있어서, 상기 유전체위에 보호막을 증착후 대략 400℃정도로 대략 10분 동안 열처리하는 과정을 포함하여 구성된다.

본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 상기 패널의 전면기판에 형성된 유전체층 위에 전자 빔 증착법을 사용하여 상기 MgO막을 증착하게 된다.

또한, 상기 전자 빔 증착법은 통상 고진공중이 아니라, 산소분위기중에서 이루어지게 되는데, 이는 Mg원자에 비해 O원자가 부족하기 때문이다.

한편, 일반적인 성막조건은 기판온도 200℃에 전후막 두께가 5000~7000Å이고, 상기 전자 빔 증착법으로 성막한 MgO막의 투과율은 거의 100%에 가깝다고 할 수 있다.

그리고, 상기 전자 빔 증착법에 의해 증착된 후 열처리를 한 후에 실재로 접합하게 되는 단계를 거치게 된다.

여기서, 상기 열처리는 상기 MgO막의 특성을 개선하기 위하여 상기 막의 표면을 처리하는 단계로서, 상기 막 표면을 400℃정도로 대략 10분을 한 주기로 하여 소성하여 준다.

상기 소성을 거친 후에 실재에 의해 상기 플라즈마 디스플레이 패널의 전면기판과 배면기판을 접합을 하게 된다.

그리고, 상기 접합단계를 거친 후 상기 MgO보호막을 안정화시키게 된다.

또한, 상기 전자 빔이 입사되고 저압과 저온의 긴 주기의 열처리과정을 거치게 되면 상기 MgO보호막 안정화 단계의 시간을 줄일 수 있게 되어 효율적이다.

따라서, 상기와 같은 단계를 거친 플라즈마 디스플레이 패널은 종래에 비해 저압과 저온의 긴 주기로 열처리를 함으로 인하여 합착 후 보호막 안정화 단계를 거치게 되면, 종래 고압과 고온의 짧은 주기로 열처리할 경우에 비해 방전셀내 오 방전이 감소하고 잔상특성이 개선됨과 아울러 휘도가 균일하게 형성되게 된다.

이상과 같이 본 발명에 의한 플라즈마 디스플레이 패널을 예시된 도면을 참조로 설명하였으나, 본 명세서에 개시된 실시예와 도면에 의해 본 발명은 한정되지 않고, 기술사상이 보호되는 범위 이내에서 응용될 수 있다.

상기와 같이 구성되는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 낮은 전압 및 온도와 긴 주기로 상기 보호막을 열처리해줌으로 인하여 가공후 형성된 상기 패널내에 발생하는 오방전과 상기 오방전으로 인해 발생하는 잔상이 개선됨과 동시에 휘도가 일정해지는 효과가 있다.

Claims (2)

1. 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체 보호막형성에 있어서,

   상기 보호막을 대략 400℃정도로 소정의 시간동안 열처리하여 형성시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널장치.
2. 청구항 1에 있어서,

   상기 소정의 시간은 대략 10분인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널장치.

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