KR20070007124A - Circuit substrate inspection device and circuit substrate inspection method - Google Patents

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KR20070007124A
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Abstract

There is provided a circuit substrate inspection device capable of performing electrical inspection of a circuit substrate with a high reliability even when the circuit substrate to be inspected has small electrodes of a small pitch. The circuit substrate inspection device includes a first inspection jig and a second inspection jig, between which a circuit substrate to be inspected is arranged with a sandwiching pressure for performing electric inspection. As a first anisotropic conductive sheet arranged at the side of the circuit substrate to be inspected for a pitch conversion substrate, there is used an anisotropic conductive sheet having conductive particles arranged in the thickness direction and uniformly dispersed in the surface direction. Moreover, a connection electrode of the pitch conversion substrate is formed by a current terminal electrode and a voltage terminal electrode which are electrically connected to respective inspection electrodes of the circuit substrate to be inspected. On the connector substrate, there are arranged a current pin side electrode and a voltage pin side electrode to be electrically connected respectively to the current terminal electrode and the voltage terminal electrode of the pitch conversion substrate. Moreover, an intermediate holding plate is arranged between a first insulation plate and a second insulation plate in a relay pin unit and between them, support pints are arranged at abutment support positions different from the front and the rear surfaces. ® KIPO & WIPO 2007

Description

회로 기판의 검사장치 및 회로 기판의 검사방법 {CIRCUIT SUBSTRATE INSPECTION DEVICE AND CIRCUIT SUBSTRATE INSPECTION METHOD}Circuit Board Inspection System and Circuit Board Inspection Method {CIRCUIT SUBSTRATE INSPECTION DEVICE AND CIRCUIT SUBSTRATE INSPECTION METHOD}

본 발명은, 전기 검사를 행하는 검사 대상인 회로 기판( 이하, 「피검사 회로 기판」이라고 함)을, 상측 검사 지그 (jig)와 하측 검사 지그로 양면으로부터 협압함으로써, 피검사 회로 기판의 양면에 형성된 전극을 테스터에 전기적으로 접속된 상태로서 피검사 회로 기판의 전기적 특성을 검사하는 회로 기판의 검사장치 및 회로 기판의 검사 방법에 관한 것이다. The present invention is formed on both sides of a circuit board under test by pinching a circuit board (hereinafter referred to as a "test circuit board") to be inspected for electrical inspection from both sides with an upper inspection jig and a lower inspection jig. An inspection apparatus for a circuit board and an inspection method for a circuit board, which inspect the electrical characteristics of the circuit board under test with the electrode electrically connected to the tester.

집적회로 등을 실장하기 위한 프린트 회로 기판은, 집적회로 등을 실장하기 전에, 회로 기판의 배선 패턴이 소정의 성능을 가지는 것을 확인하기 위해서 전기적 특성을 검사한다. A printed circuit board for mounting an integrated circuit or the like checks electrical characteristics to confirm that the wiring pattern of the circuit board has a predetermined performance before mounting the integrated circuit or the like.

이 전기 검사에서는, 예를 들면 회로 기판의 반송 기구를 갖춘 검사용 테스터에 검사 헤드를 넣고, 검사 헤드 부분을 교환함으로써 상이한 회로 기판의 검사를 행하고 있다. In this electrical inspection, a test head is put into the test | inspection tester provided with the conveyance mechanism of a circuit board, for example, and a test of a different circuit board is carried out by replacing a test head part.

예를 들면, 특허 문헌 1(일본 특허 공개 평 6-94768호 공보)에 개시되어 있는 바와 같이, 피검사 회로 기판의 피검사 전극에 접해서 전기적으로 도통하는 금속의 검사 핀을 기판에 심어 설치한 구조의 검사 지그를 이용하는 방법이 제안되어 있다. For example, as disclosed in Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. Hei 6-94768), a test pin of a metal which is electrically connected to a test electrode of a circuit board to be inspected and electrically conductive is installed on the board. A method using the inspection jig of a structure is proposed.

또, 특허 문헌 2(일본 특허 공개 평 5-159821호 공보)에 개시되어 있는 바와 같이, 도전 핀을 가지는 검사 헤드와, 오프그리트 어댑터라고 불리는 피치 변환용의 회로 기판과, 이방 도전성 시트를 조합한 검사 지그를 이용하는 방법이 알려져 있다. In addition, as disclosed in Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. Hei 5-159821), an inspection head having a conductive pin, a circuit board for pitch conversion called an off-grid adapter, and an anisotropic conductive sheet are combined. The method of using an inspection jig is known.

그렇지만, 특허 문헌 1과 같이, 금속 검사 핀을 직접 피검사 회로 기판의 피검사 전극에 접촉시키는 검사 지그를 이용하는 방법에서는, 금속으로 이루어지는 도전 핀과의 접촉에 의해 피검사 회로 기판의 전극이 손상될 가능성이 있다. However, as in Patent Document 1, in the method of using a test jig in which a metal test pin is brought into direct contact with a test electrode of a test circuit board, the electrode of the test circuit board may be damaged by contact with a conductive pin made of metal. There is a possibility.

특히, 근래에는 회로 기판에 있어서 회로의 미세화, 고밀도화가 진행되어, 이러한 프린트 회로 기판을 검사하는 경우, 다수의 도전 핀을 피검사 회로 기판의 피검사 전극에 동시에 도통 접촉시키기 위해서는, 높은 압력으로 검사 지그를 가압하는 것이 필요시 되고, 피검사 전극이 손상되기 쉬워진다. Particularly, in recent years, miniaturization and densification of circuits have progressed in circuit boards. In the case of inspecting such a printed circuit board, in order to simultaneously conduct conductive contact of a plurality of conductive pins with a test electrode of a circuit board under test, a test is performed at high pressure. It is necessary to pressurize the jig, and the electrode to be inspected is easily damaged.

그리고, 이러한 미세화, 고밀도화된 프린트 회로 기판을 검사하기 위한 검사 지그에서는, 고밀도로 다수의 금속 핀을 기판에 심어 설치하는 것이 기술적으로 곤란해지고 있다. 또, 그 제조 비용도 고가로 되고, 또한 일부의 금속 핀이 손상되었을 경우에, 수리, 교환하는 것이 곤란하다. In the inspection jig for inspecting such a miniaturized and densified printed circuit board, it is technically difficult to plant and install a large number of metal pins on the substrate at high density. Moreover, the manufacturing cost also becomes expensive, and when some metal pin is damaged, it is difficult to repair and replace.

한편, 특허 문헌 2와 같이, 이방 도전성 시트를 사용하는 검사 지그에서는, 피검사 회로 기판의 피검사 전극이, 이방 도전성 시트를 개재시켜 피치 변환용 기판의 전극과 접촉하게 되기 때문에, 피검사 회로 기판의 피검사 전극이 손상되기 어렵다고 하는 이점이 있다. 또, 피치 변환을 행하는 기판을 사용하고 있기 때문 에, 기판에 심어 설치하는 검사 핀을 피검사 회로 기판의 피검사 전극의 피치보다 넓은 피치로 심어 설치할 수 있기 때문에, 미세 피치로 검사 핀을 심어 설치할 필요가 없고, 검사 지그의 제조 비용을 절약할 수 있다고 하는 이점도 있다. On the other hand, as in Patent Document 2, in an inspection jig using an anisotropic conductive sheet, the inspected electrode of the circuit board under test comes into contact with the electrode of the substrate for pitch conversion through the anisotropic conductive sheet, so that the inspected circuit board There is an advantage that the electrode under test is hard to be damaged. In addition, since a substrate for converting pitches is used, the inspection pins planted on the substrate can be planted and installed at a pitch wider than the pitch of the electrodes to be inspected on the circuit board. There is no need, and there is an advantage that the manufacturing cost of the inspection jig can be saved.

그렇지만, 이 검사 지그에서는, 검사 대상인 피검사 회로 기판마다, 피치 변환용 기판과 검사 핀을 심어 설치하는 검사 지그를 작성할 필요가 있기 때문에, 검사되는 피검사 회로 기판인 프린트 회로 기판과 동수의 검사 지그가 필요하다. However, in this inspection jig, it is necessary to create an inspection jig for planting and installing a pitch conversion substrate and an inspection pin for each inspection circuit board to be inspected, so that the same test jig as the printed circuit board as the inspection circuit board to be inspected. Is needed.

이 때문에, 복수의 프린트 회로 기판을 생산하고 있는 경우에서는, 거기에 대응해서 복수의 검사 지그를 보유해야 한다고 하는 문제가 있다. 특히, 근래에는 전자기기의 제품 사이클이 단축되어, 제품에 사용되는 프린트 회로 기판의 생산기간의 단축화가 진행되고 있지만, 이것에 수반해서 검사 지그를 장기간 사용할 수 없게 되어, 프린트 회로 기판의 생산이 전환될 때에 검사 지그를 생산해야 한다고 하는 문제가 생겼다. For this reason, when producing a some printed circuit board, there exists a problem that a some inspection jig should be hold | maintained correspondingly. In particular, in recent years, the product cycle of electronic devices has been shortened, and the production period of printed circuit boards used in products has been shortened. However, the inspection jig cannot be used for a long time, and the production of printed circuit boards is switched. There was a problem that the inspection jig should be produced.

이러한 문제에의 대책으로서, 예를 들면 특허 문헌 3 내지 5(일본 특허 공개 평 7-248350호 공보, 일본 특허 공개 평 8-271569호 공보, 일본 특허 공개 평 8-338858호 공보)와 같은, 중계 핀 유닛을 이용하는, 이른바 유니버설 타입의 검사 지그를 이용한 검사장치가 제안되어 있다. As a countermeasure against such a problem, for example, relays such as Patent Documents 3 to 5 (Japanese Patent Laid-Open No. 7-248350, Japanese Patent Laid-Open No. 8-271569, and Japanese Patent Laid-Open No. 8-338858) An inspection apparatus using a so-called universal type inspection jig using a pin unit has been proposed.

도 31은, 이러한 유니버설 타입의 검사 지그를 이용한 검사장치의 단면도이다. Fig. 31 is a sectional view of an inspection apparatus using such a universal type jig.

이 검사장치는 상측 검사 지그(111a)와 하측 검사 지그(111b)를 갖추고, 이들 검사 지그는 회로 기판측 커넥터(121a, 121b)와 중계 핀 유닛(131a, 131b)과 테 스터측 커넥터(141a, 141b)를 갖추고 있다. The inspection apparatus includes an upper inspection jig 111a and a lower inspection jig 111b, and these inspection jig includes circuit board side connectors 121a and 121b, relay pin units 131a and 131b, and tester side connectors 141a, 141b).

회로 기판측 커넥터(121a, 121b)는 피치 변환용 기판(123a, 123b)과 그 양면 측에 배치되는 이방 도전성 시트(122a, 122b, 126a, 126b)를 갖추고 있다. The circuit board side connectors 121a and 121b are provided with the pitch conversion boards 123a and 123b and the anisotropic conductive sheets 122a, 122b, 126a and 126b disposed on both sides thereof.

중계 핀 유닛(131a, 131b)은, 일정 피치(예를 들면, 2.54㎜ 피치)로 격자점 위에 다수(예를 들면, 5000핀) 배치된 도전 핀(132a, 132b)과 이 도전 핀(132a, 132b)을 상하로 이동 가능하게 지지하는 한 쌍의 절연판(134a, 134b, 및 135a, 135b)를 갖추고 있다. The relay pin units 131a and 131b include a plurality of conductive pins 132a and 132b arranged on a grid point at a predetermined pitch (for example, 2.54 mm pitch) and the conductive pins 132a and 132b. A pair of insulating plates 134a, 134b, and 135a, 135b for supporting the 132b so as to be movable up and down is provided.

테스터측 커넥터(141a, 141b)는 피검사 회로 기판(101)을 검사 지그(111a, 111b)로 협압했을 때, 테스터와 도전 핀(132a, 132b)을 전기적으로 접속하는 커넥터 기판(143a, 143b)과 커넥터 기판(143a, 143b)의 도전 핀(132a, 132b)측에 배치되는 이방 도전성 시트(142a, 142b)와 베이스 판(146a, 146b)을 갖추고 있다. The tester side connectors 141a and 141b electrically connect the tester and the conductive pins 132a and 132b when the circuit board 101 is pinched by the test jigs 111a and 111b. And anisotropic conductive sheets 142a and 142b and base plates 146a and 146b disposed on the conductive pins 132a and 132b side of the connector boards 143a and 143b.

이 중계 핀 유닛을 사용한 검사 지그는 상이한 피검사 대상인 프린트 회로 기판을 검사할 때, 회로 기판측 커넥터(121a, 121b)를 피검사 회로 기판(101)에 대응하는 것으로 교환하는 것만으로 충분하고, 중계 핀 유닛(131a, 131b)과 테스터측 커넥터(141a, 141b)는 공통으로 사용할 수 있다. The inspection jig using this relay pin unit is enough to replace the circuit board side connectors 121a and 121b with those corresponding to the inspection circuit board 101 when inspecting a printed circuit board that is a different inspection target. The pin units 131a and 131b and the tester side connectors 141a and 141b can be used in common.

그렇지만, 종래의 이러한 유니버설 타입의 검사 지그에서는, 회로 기판측 커넥터(121a, 121b)를 구성하는 이방 도전성 시트(122a, 122b)로서 두께 방향으로 연장되는 복수의 도전로 형성부와 이들 도전로 형성부를 서로 절연하는 절연부로 이루어지고, 도전성 입자가 도전로 형성부 안에만 함유되어 면 방향으로 불균일하게 분산되고, 시트 한 면 측에 도전로 형성부가 돌출된 편재형의 이방 도전성 시트 (122a, 122b)를 사용하고 있다. However, in such a conventional type of inspection jig, a plurality of conductive path forming portions extending in the thickness direction as the anisotropic conductive sheets 122a and 122b constituting the circuit board side connectors 121a and 121b and these conductive path forming portions The anisotropic conductive sheets 122a and 122b of the uneven type which consist of an insulating part which insulate each other, and which electroconductive particle is contained only in a conductive path forming part and are disperse | distributed unevenly to a surface direction, and the conductive path forming part protruded on one side of a sheet | seat are provided. I use it.

편재형의 이방 도전성 시트(122a, 122b)는 검사에서의 반복 사용에 의한 도전로 형성부의 열화가 빠르고, 도전로 형성부가 열화 하면 저항값이 상승하는 등의 문제가 생긴다. 열화한 이방 도전성 시트(122a, 122b)를 교환할 때, 교환할 때마다 이방 도전성 시트(122a, 122b)와 피치 변환용 기판(123a, 123b)의 위치 맞춤 및 회로 기판측 커넥터(121a, 121b)와 중계 핀 유닛(131a, 131b)의 위치 맞춤이 필요하고, 교환 작업이 번잡하고 교환 빈도가 높아 검사 효율이 저하되어 버리게 된다. The anisotropic conductive sheets 122a and 122b of the ubiquitous type have a problem that the deterioration of the conductive path forming portion is rapid due to repeated use in inspection, and the resistance value increases when the conductive path forming portion deteriorates. When the deteriorated anisotropic conductive sheets 122a and 122b are replaced, the alignment and circuit board side connectors 121a and 121b of the anisotropic conductive sheets 122a and 122b and the pitch conversion boards 123a and 123b are replaced each time they are replaced. And relay pin units 131a and 131b need to be aligned, replacement work is complicated, replacement frequency is high, and inspection efficiency is lowered.

또, 피검사 회로 기판(101)의 피검사 전극이, 예를 들면 200㎛ 이하와 같은 미소 피치로 되면, 상기와 같은 편재형의 이방 도전성 시트(122a, 122b)를 이용하는 경우에는, 이방 도전성 시트(122a, 122b)와 피치 변환용 기판(123a, 123b)의 위치 맞춤이 곤란해지고, 또한 복수의 피검사 회로 기판(101)에 대해 검사를 연속해서 행했을 경우, 피검사 회로 기판(101)과 반복해서 접촉함으로써 이방 도전성 시트(122a, 122b)의 위치 어긋남이 생기기 쉬워진다. In addition, when the electrode under test of the circuit board 101 to be tested has a small pitch such as 200 µm or less, in the case of using the above-described anisotropic conductive sheets 122a and 122b, the anisotropic conductive sheet is used. When the alignment between the 122a and 122b and the pitch conversion substrates 123a and 123b becomes difficult and the inspection is continuously performed on the plurality of inspected circuit boards 101, the inspected circuit board 101 and By repeating contact, position shift of the anisotropic conductive sheets 122a and 122b easily occurs.

이것에 의해, 이방 도전성 시트(122a, 122b)의 도전로 형성부와 피검사 회로 기판(101)의 전극 위치가 일치하지 않도록 되어 양호한 전기적 접속을 얻을 수 없게 되기 때문에, 과대한 저항값이 측정되어 본래는 우량품이라고 판단되어야 할 프린트 회로 기판이 불량품으로 오판단되기 쉬워진다. As a result, the conductive path forming portions of the anisotropic conductive sheets 122a and 122b and the electrode positions of the circuit board 101 to be inspected do not coincide with each other, so that a good electrical connection cannot be obtained. Originally, a printed circuit board, which should be judged as a good product, is likely to be misjudged as a defective product.

한편, 예를 들면 특허 문헌 6(일본 특허 공개 평 6-82531호 공보)에 기재된 것과 같은 이방 도전성 시트와 피치 변환용 기판이 일체화한 커넥터를 사용했을 경우에는, 위치 맞춤은 용이하지만 이방 도전성 시트 부분이 열화 했을 때에 피치 변 환용 기판마다 교환하지 않으면 안 되어, 다수의 피치 변환용 기판이 필요해 검사 비용이 증대한다. On the other hand, when using the connector which integrated the anisotropically conductive sheet | seat and the pitch conversion board | substrate as described, for example in patent document 6 (Unexamined-Japanese-Patent No. 6-82531), although an alignment is easy, it is an anisotropically conductive sheet part When it deteriorates, it must replace every pitch conversion board | substrate, and a large number of pitch conversion board | substrates are needed, and inspection cost increases.

한편, 피검사 회로 기판(101)인 프린트 배선 기판은, 다층 고밀도화되어 있고, 실제로는 두께 방향으로, 예를 들면 BGA등의 땜납 볼 전극 등의 피검사 전극(102, 103)에 의한 높이 편차나 기판 자체의 휘어짐이 생겼다. 그 때문에, 피검사 회로 기판(101) 상의 검사점인 피검사 전극(102, 103)에 전기적 접속을 달성하기 위해서는, 상측 검사 지그(111a)와 하측 검사 지그(111b)를 높은 압력으로 가압하여, 피검사 회로 기판(101)을 평탄하게 변형시킬 필요가 있고, 또한 피검사 전극(102, 103)의 높이 편차에 대해서, 상측 검사 지그(111a)와 하측 검사 지그(111b)측의 피검사 전극(102, 103)의 높이를 추종시킬 필요가 있다. On the other hand, the printed wiring board which is the circuit board 101 to be inspected has a high density of multilayers, and in actuality, the height variation caused by the inspected electrodes 102 and 103 such as solder ball electrodes such as BGA, Warping of the substrate itself occurred. Therefore, in order to achieve electrical connection to the inspection electrodes 102 and 103 which are inspection points on the circuit board 101 to be tested, the upper inspection jig 111a and the lower inspection jig 111b are pressurized with a high pressure, It is necessary to deform the circuit board 101 to be inspected evenly, and the inspection electrode (on the inspection jig 111a and the inspection jig 111b side) with respect to the height deviation of the inspection electrodes 102 and 103. It is necessary to follow the height of 102 and 103).

종래의 이러한 유니버설 타입의 검사 지그에서는, 피검사 전극(102, 103)의 높이 편차에 대해서 도전 핀(132a, 132b)의 축 방향 이동에 의해 추종하고 있었지만, 이 도전 핀(132a, 132b)의 축 방향 이동량에도 한계가 있기 때문에, 이러한 피검사 전극(102, 103)의 높이 편차에 대한 추종성이 양호하지 않은 경우가 있어 도통 불량이 발생하여 정확한 검사를 할 수 없게 된다. In the conventional inspection jig of such a universal type, the height deviation of the electrodes 102 and 103 to be inspected is followed by the axial movement of the conductive pins 132a and 132b. However, the axes of the conductive pins 132a and 132b are tracked. Since there is a limit in the amount of directional movement, there is a case where the followability with respect to the height deviation of the inspected electrodes 102 and 103 is not good, so that poor conduction occurs and accurate inspection cannot be performed.

또, 이러한 유니버설 타입의 검사 지그에서, 상측 검사 지그(111a)와 하측 검사 지그(111b)에 의해 피검사 회로 기판(101)을 협압했을 때의 프레스 압력은 그 상하의 이방 도전성 시트(122a, 122b, 126a, 126b, 142a, 142b)로 흡수하고 있다. Moreover, in this universal type test jig, the press pressure at the time of pinching the test circuit board 101 by the upper test jig 111a and the lower test jig 111b is the upper and lower anisotropic conductive sheets 122a, 122b, 126a, 126b, 142a, and 142b).

그 때문에, 이러한 유니버설 타입의 검사 지그에서는, 피치 변환용 기판(123a, 123b)를 지지해서 프레스 압을 분산시키기 위해서 도전 핀(132a, 132b)을 일정 간격으로 배치할 필요가 있다. Therefore, in such a universal type inspection jig, it is necessary to arrange the conductive pins 132a and 132b at regular intervals in order to support the substrates 123a and 123b for pitch conversion and to disperse the press pressure.

또, 종래의 유니버설 타입의 검사 지그에서, 프레스 압력은 도전 핀(132a, 132b)에서 받게 되어 있기 때문에, 일정 간격으로 다수의 도전 핀(132a, 132b)을 배치할 필요가 있다. Moreover, in the conventional universal type jig, since the press pressure is received by the conductive pins 132a and 132b, it is necessary to arrange a plurality of conductive pins 132a and 132b at regular intervals.

이 때문에, 피검사 회로 기판(101)의 전극의 미세화에 대응해서, 예를 들면 0.75㎜ 피치로 1만 이상의 관통구멍을 가지는 절연판(134a, 134b)을 형성하는 경우, 절연판(134a, 134b 및 135a, 135b)의 기판의 두께가 얇으면 강도가 낮아지고 굽혔을 때에 갈라지는 경우도 있으므로, 절연판(134a, 134b 및 135a, 135b)을 두껍게 할 필요가 있었다. For this reason, when the insulating plates 134a and 134b having 10,000 or more through holes are formed, for example, at a pitch of 0.75 mm, corresponding to the miniaturization of the electrodes of the circuit board 101 under test, the insulating plates 134a, 134b and 135a. When the thickness of the substrate of 135b is thin, the strength decreases and may break when bent. Therefore, it is necessary to thicken the insulating plates 134a, 134b, and 135a, 135b.

특허 문헌 1: 일본 특허 공개 평 6-94768호 공보 Patent Document 1: Japanese Patent Laid-Open No. 6-94768

특허 문헌 2: 일본 특허 공개 평 5-159821호 공보Patent Document 2: Japanese Patent Laid-Open No. 5-159821

특허 문헌 3: 일본 특허 공개 평 7-248350호 공보 Patent Document 3: Japanese Patent Laid-Open No. 7-248350

특허 문헌 4: 일본 특허 공개 평 8-271569호 공보 Patent Document 4: Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-271569

특허 문헌 5: 일본 특허 공개 평 8-338858호 공보 Patent Document 5: Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-338858

특허 문헌 6: 일본 특허 공개 평 6-82531호 공보 Patent Document 6: Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-82531

<발명의 개시><Start of invention>

<발명이 해결하고자 하는 과제>Problems to be Solved by the Invention

본 발명은, 이러한 현상을 감안하여 검사 대상인 피검사 회로 기판이 미세 피치로 배치된 미소 전극을 가지는 것이어도 신뢰성이 높은 전기적 검사를 행할 수 있는 회로 기판의 검사장치 및 회로 기판의 검사 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. The present invention provides a circuit board inspection apparatus and a circuit board inspection method capable of performing highly reliable electrical inspection even when the inspected circuit board to be inspected has a microelectrode arranged at a fine pitch in view of such a phenomenon. For the purpose of

또 본 발명은, 검사 대상인 피검사 회로 기판에 대해서, 반복 연속 검사를 행할 때, 이방 도전성 시트의 열화에 의한 교환 빈도가 적고 검사 효율이 높은 회로 기판의 검사장치 및 회로 기판의 검사 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. Moreover, this invention provides the test | inspection apparatus of the circuit board and the test method of a circuit board which have a high frequency and the inspection efficiency with little replacement frequency by the deterioration of an anisotropic conductive sheet, when repeating continuous test | inspection is carried out with respect to the circuit board to be tested. For the purpose of

또 본 발명은, 검사 대상인 피검사 회로 기판에 대해서, 반복 연속 검사를 행할 때, 이방 도전성 시트의 위치 어긋남을 보정할 필요가 적고 검사의 작업성이 양호한 회로 기판의 검사장치 및 회로 기판의 검사 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. In addition, the present invention is a circuit board inspection apparatus and a circuit board inspection method which require less correction of positional deviation of an anisotropic conductive sheet and have good workability when inspection is repeatedly performed on a circuit board to be inspected. The purpose is to provide.

또 본 발명은, 검사 대상인 피검사 회로 기판의 반복 연속 검사에 있어서, 이방 도전성 시트가 열화 했을 때, 이방 도전성 시트의 교환 작업이 용이한 회로 기판의 검사장치 및 회로 기판의 검사 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. In addition, the present invention provides a circuit board inspection apparatus and a circuit board inspection method in which an anisotropic conductive sheet is easily replaced when an anisotropic conductive sheet deteriorates in a repetitive continuous inspection of a circuit board under test. The purpose.

또 본 발명은, 검사 대상인 피검사 회로 기판이 변경되어도, 검사장치 전체(검사 지그 전체)를 별도 제작하는 일 없이, 검사용 회로 기판을 변경하는 것만으로 모든 피검사 회로기판에 대해 검사의 대응이 가능한 회로 기판의 검사장치 및 회로 기판의 검사 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. In addition, according to the present invention, even if the circuit to be inspected is changed, the inspection circuit can be applied to all inspected circuit boards simply by changing the circuit board for inspection without separately manufacturing the entire inspection apparatus (the entire inspection jig). It is an object of the present invention to provide an inspection apparatus for a circuit board and a method for inspecting the circuit board as much as possible.

또 본 발명은, 검사 대상인 피검사 회로 기판의 피검사 전극의 높이 편차에 대한 추종성이 양호해서 도통 불량이 발생하지 않고 정확한 검사를 실시하는 것이 가능한 회로 기판의 검사장치 및 회로 기판의 검사 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. Moreover, this invention provides the test | inspection apparatus of the circuit board and the test method of a circuit board which can perform accurate test | inspection without generating a conduction defect because the followability with respect to the height deviation of the to-be-tested electrode of the circuit board under test is good. It aims to do it.

<과제를 해결하기 위한 수단>Means for solving the problem

본 발명의 회로 기판의 검사장치는, 한 쌍의 제1의 검사 지그와 제2의 검사 지그에 의해, 양 검사 지그의 사이에서 검사 대상인 피검사 회로 기판의 양면을 협압해서 전기 검사를 행하는 회로 기판의 검사장치로서, The inspection apparatus of the circuit board of this invention is a circuit board which clamps both surfaces of the to-be-tested circuit board test object between a pair of 1st test jig and a 2nd test jig, and performs an electric test. As an inspection device of

상기 제1의 검사 지그와 제2의 검사 지그가 각각, The first inspection jig and the second inspection jig, respectively,

기판의 일면 측과 다른 면 측의 사이에서 전극 피치를 변환하는 피치 변환용 기판과, A pitch conversion substrate for converting an electrode pitch between one surface side and the other surface side of the substrate,

상기 피치 변환용 기판의 피검사 회로 기판측에 배치되는 제1의 이방 도전성시트와,A first anisotropic conductive sheet disposed on an inspection circuit board side of the pitch conversion substrate;

상기 피치 변환용 기판의 피검사 회로 기판과는 반대측에 배치되는 제2의 이방 도전성 시트를 갖춘 회로 기판측 커넥터와, A circuit board side connector having a second anisotropic conductive sheet disposed on a side opposite to the circuit board under test of the pitch conversion substrate;

소정의 피치로 배치된 복수의 도전 핀과, A plurality of conductive pins arranged at a predetermined pitch,

상기 도전 핀을 축 방향으로 이동 가능하게 지지하는, 한 쌍의 이격된 제1의 절연판과 제2의 절연판을 갖춘 중계 핀 유닛과, A relay pin unit having a pair of spaced apart first insulating plates and a second insulating plate to axially move the conductive pins;

테스터와 상기 중계 핀 유닛을 전기적으로 접속하는 커넥터 기판과, A connector board electrically connecting the tester and the relay pin unit;

상기 커넥터 기판의 중계 핀 유닛 측에 배치되는 제3의 이방 도전성 시트와, A third anisotropic conductive sheet disposed on the relay pin unit side of the connector board;

상기 커넥터 기판의 중계 핀 유닛과는 반대측에 배치된 베이스 판을 갖춘 테스터측 커넥터를 갖추고, A tester side connector having a base plate disposed on the opposite side of the relay pin unit of the connector board,

상기 제1의 이방 도전성 시트가, 도전성 입자가 두께 방향으로 배열됨과 함께 면 방향으로 균일하게 분산된 이방 도전성 시트인 것을 특징으로 한다. The first anisotropic conductive sheet is an anisotropic conductive sheet in which the conductive particles are arranged in the thickness direction and uniformly dispersed in the surface direction.

또, 본 발명의 회로 기판의 검사 방법은, 상기의 회로 기판의 검사장치를 이 용한 회로 기판의 검사 방법으로서, Moreover, the test method of the circuit board of this invention is a test method of the circuit board which used the test apparatus of said circuit board,

한 쌍의 제1의 검사 지그와 제2의 검사 지그에 의해, 양 검사 지그의 사이에서 검사 대상인 피검사 회로 기판의 양면을 협압해서 전기 검사를 행하는 것을 특징으로 한다. The pair of first inspection jig and the second inspection jig clamp the both sides of the circuit board to be inspected between the two inspection jigs and perform electrical inspection.

상기의 발명에 있어서, 상기 제1의 이방 도전성 시트의 두께 W1이 0.03 내지 0.5㎜이며, 도전성 입자의 수 평균 입자 지름 D1이 3 내지 50㎛이며, 두께 W1과 수 평균 입자 지름 D1의 비 W1/D1이 1.1 내지 10이며, 시트기재를 구성하는 절연성 엘라스토머의 듀로미터 경도가 30 내지 90인 것이 바람직하다. In the above invention, the thickness W 1 of the first anisotropic conductive sheet is 0.03 to 0.5 mm, the number average particle diameter D 1 of the conductive particles is 3 to 50 μm, the thickness W 1 and the number average particle diameter D 1 the ratio of W 1 / D 1 is 1.1 to 10 and preferably a durometer hardness of the elastomer constituting the insulating sheet base of 30 to 90.

본 발명의 회로 기판의 검사장치에 의하면, 검사 대상인 피검사 회로 기판과 피치 변환용 기판의 사이에 배치되는 제1의 이방 도전성 시트로서, 도전성 입자가 두께 방향으로 배열함과 함께 면 방향으로 균일하게 분산된 이방 도전성 시트를 사용하고 있다. According to the inspection apparatus of the circuit board of this invention, it is a 1st anisotropically conductive sheet arrange | positioned between the circuit board to be tested and the board | substrate for pitch conversion, Comprising: Electroconductive particle arrange | positions in thickness direction and is uniform to surface direction. The dispersed anisotropic conductive sheet is used.

이 때문에, 피검사 회로 기판에 대해 반복 연속 검사를 행할 때, 이방 도전성 시트의 열화에 의한 교환 빈도가 적고 검사 효율이 높다. For this reason, when performing repeated continuous test | inspection with respect to a test | inspection circuit board, the exchange frequency by deterioration of an anisotropic conductive sheet is small and inspection efficiency is high.

또, 예를 들면 200㎛ 이하의 미세 피치로 배치되고 전극 폭이 100㎛ 이하인 미소한 전극을 갖춘 피검사 회로 기판이어도, 피검사 회로 기판의 각 피검사 전극 간에 있어서의 절연 상태를 유지하면서 피검사 전극과 회로 기판측 커넥터의 검사 전극의 전기적인 접속을 달성할 수 있다. 그리고, 절연부에 가로막힌 도전로 형성부를 가지지 않기 때문에, 피검사 회로 기판의 반복 검사시에 있어서, 이방 도전성 시트의 가로 방향에의 위치 어긋남이 생겨도 항상 피검사 회로 기판의 피검사 전극과 회로 기판측 커넥터의 검사 전극의 전기적인 접속을 달성되므로 이방 도전성 시트의 위치 어긋남에 기인해서 양품의 피검사 회로 기판이 불량품으로 오판정되는 것을 억제할 수 있다. Moreover, even if it is a test board | substrate with a microelectrode arrange | positioned with the fine pitch of 200 micrometers or less, and an electrode width is 100 micrometers or less, even if it maintains the insulation state between each inspected electrode of a circuit board under test, Electrical connection between the electrode and the test electrode of the circuit board side connector can be achieved. And since it does not have a conductive path formation part blocked by the insulated part, even if the position shift of the anisotropic conductive sheet to the horizontal direction arises at the time of the repetitive test of a circuit under test, the test | inspection electrode of a circuit under test and a circuit board always Since electrical connection of the test electrode of the side connector is achieved, it is possible to suppress the misjudgement of the inspected circuit board of the good product due to the positional shift of the anisotropic conductive sheet.

또, 제1의 이방 도전성 시트는 검사용의 회로 기판과는 별체로 되어 있기 때문에, 제1의 이방 도전성 시트에 열화가 생겼을 경우에는 제1의 이방 도전성 시트만 교환하면 되기 때문에 교환이 용이하다. 검사용의 회로 기판은 제1의 이방 도전성 시트의 교환시에 교환할 필요가 없이 재사용이 가능하기 때문에, 피검사 회로 기판의 검사 비용을 저감시킬 수 있다. In addition, since the first anisotropic conductive sheet is separate from the circuit board for inspection, when deterioration occurs in the first anisotropic conductive sheet, only the first anisotropic conductive sheet needs to be replaced. Since the inspection circuit board can be reused without having to replace the first anisotropic conductive sheet at the time of replacement, the inspection cost of the inspection circuit board can be reduced.

이와 같이, 본 발명의 회로 기판의 검사장치에 의하면, 검사 대상인 피검사 회로 기판이 미세 피치로 배치된 미소 전극을 가지는 것이어도, 신뢰성이 높은 전기적 검사를 행할 수 있다. As described above, according to the inspection apparatus of the circuit board of the present invention, even if the circuit board to be inspected has a microelectrode arranged at a fine pitch, reliable electrical inspection can be performed.

본 발명의 회로 기판의 검사장치는, 상기 제1의 이방 도전성 시트는, 피검사 회로 기판에 접하는 쪽의 표면에 있어서의 표면 거칠기가 0.5 내지 5㎛이며, 피치 변환용 기판에 접하는 쪽의 표면에 있어서의 표면 거칠기가 0.3㎛ 이하이며, 상기 피치 변환용 기판은 제1의 이방 도전성 시트에 접하는 쪽의 표면에 있어서의 절연부의 표면 거칠기가 0.2㎛ 이하인 것을 특징으로 한다. In the inspection apparatus for a circuit board of the present invention, the first anisotropic conductive sheet has a surface roughness of 0.5 to 5 μm on the surface of the side in contact with the circuit board under test, and is provided on the surface of the side in contact with the substrate for pitch conversion. The surface roughness in 0.3 micrometers or less, and the said pitch conversion board | substrate are the surface roughness of the insulating part in the surface of the side which contact | connects a 1st anisotropically conductive sheet, It is characterized by the above-mentioned.

이와 같이, 제1의 이방 도전성 시트의 피검사 회로 기판에의 접촉면을 특정의 표면 거칠기를 가지는 조면으로 했으므로, 피검사 회로 기판에 대한 가압이 해제되었을 때에 있어서의 피검사 회로 기판과 제1의 이방 도전성 시트와의 접촉 면 적이 작아진다. 따라서, 시트기재인 절연성 엘라스토머의 점착성이 억제되어, 피검사 회로 기판이 제1의 이방 도전성 시트에 대해서 접착되어 버리는 것을 방지 또는 억제할 수 있다. Thus, since the contact surface of the 1st anisotropically conductive sheet | seat to the to-be-tested circuit board was made into the rough surface which has a specific surface roughness, the to-be-tested circuit board and 1st anisotropy when pressurization with respect to a to-be-tested circuit board are released. The contact area with an electroconductive sheet becomes small. Therefore, the adhesiveness of the insulating elastomer which is a sheet | seat base material can be suppressed, and it can prevent or suppress that a circuit board to be tested adheres to a 1st anisotropic conductive sheet.

또한, 제1의 이방 도전성 시트의 피치 변환용 기판에의 접촉면을 표면 거칠기가 작은 평탄면으로 하고, 피치 변환용 기판의 표면의 절연부에 있어서의 표면 거칠기를 작게 했으므로, 피치 변환용 기판과 제1의 이방 도전성 시트의 접촉 면적이 커진다. 따라서, 피검사 회로 기판에 대한 가압이 해제된 후에도 양자의 밀착성이 높고, 시트기재인 절연성 엘라스토머의 점착성에 의해 제1의 이방 도전성 시트가 피치 변환용 기판에 확실히 유지된다. 이 때문에, 피치 변환용 기판으로부터의 제1의 이방 도전성 시트의 이탈을 방지할 수 있고, 다수의 피검사 회로 기판의 전기 검사를 연속해서 행하는 경우여도 검사 작업을 원활히 행할 수 있다. In addition, since the contact surface of the first anisotropic conductive sheet to the substrate for pitch conversion was a flat surface having a small surface roughness, and the surface roughness at the insulation portion of the surface of the substrate for pitch conversion was reduced, The contact area of the anisotropic conductive sheet of 1 becomes large. Therefore, even after the pressurization to the circuit board under test is released, the adhesion between them is high, and the first anisotropic conductive sheet is reliably held on the substrate for pitch conversion by the adhesiveness of the insulating elastomer, which is a sheet substrate. For this reason, the detachment of the first anisotropic conductive sheet from the pitch conversion substrate can be prevented, and the inspection operation can be smoothly performed even when the electrical inspection of a plurality of inspected circuit boards is performed continuously.

본 발명의 회로 기판의 검사장치는, 상기 제2의 이방 도전성 시트가 두께 방향으로 연장되는 복수의 도전로 형성부와 이들 도전로 형성부를 서로 절연하는 절연부로 이루어지고, 도전성 입자가 도전로 형성부 안에만 함유되고, 이것에 의해 해당 도전성 입자는 면 방향으로 불균일하게 분산됨과 함께 시트 한 면 측에 도전로 형성부가 돌출되어 있는 것을 특징으로 한다. The inspection apparatus of the circuit board of the present invention comprises a plurality of conductive path forming portions in which the second anisotropic conductive sheet extends in the thickness direction and an insulating portion insulating the conductive path forming portions from each other, wherein the conductive particles form conductive path forming portions. It is contained only inside, and this electroconductive particle is disperse | distributed nonuniformly in a surface direction, and the electrically conductive path formation part protrudes in the sheet surface side. It is characterized by the above-mentioned.

상기의 발명에 있어서, 상기 제2의 이방 도전성 시트에 있어서의 도전로 형성부의 두께 W2가 0.1 내지 2㎜이며, 도전성 입자의 수 평균 입자 지름 D2가 5 내지 200㎛이며, 두께 W2와 수 평균 입자 지름 D2의 비 W2/D2가 1.1 내지 10이며, 시트기 재를 구성하는 절연성 엘라스토머의 듀로미터 경도가 15 내지 60인 것이 바람직하다. In the above invention, the thickness W 2 of the conductive path forming portion in the second anisotropic conductive sheet is 0.1 to 2 mm, the number average particle diameter D 2 of the conductive particles is 5 to 200 μm, and the thickness W 2 and is a number average particle size of D 2 ratio W 2 / D 2 of a and 1.1 to 10, and the durometer hardness of the insulating elastomer material constituting the sheet group 15 to 60 is preferred.

본 발명의 회로 기판의 검사장치는, 상기 제3의 이방 도전성 시트가 두께 방향으로 연장되는 복수의 도전로 형성부와 이들 도전로 형성부를 서로 절연하는 절연부로 이루어지고, 도전성 입자가 도전로 형성부 안에만 함유되고, 이것에 의해 해당 도전성 입자는 면 방향으로 불균일하게 분산됨과 함께 시트 한 면 측에 도전로 형성부가 돌출되어 있는 것을 특징으로 한다. The inspection apparatus of the circuit board of this invention consists of the some electrically-conductive path formation part by which the said 3rd anisotropic conductive sheet extends in the thickness direction, and the insulating part which insulates these electrically conductive path formation parts mutually, and electroconductive particle is a conductive path formation part It is contained only inside, and this electroconductive particle is disperse | distributed nonuniformly in a surface direction, and the electrically conductive path formation part protrudes in the sheet surface side. It is characterized by the above-mentioned.

이와 같이, 제2의 이방 도전성 시트 및 제3의 이방 도전성 시트로서 도전로 형성부와 절연부로 이루어지고, 도전성 입자가 도전로 형성부 안에만 함유되어 면 방향으로 불균일하게 분산되고, 시트 한 면 측에 도전로 형성부가 돌출된 편재형의 이방 도전성 시트를 사용함으로써 검사 지그의 압압에 의한 가압력이나 충격이 이들 시트로 흡수되고, 이것에 의해 제1의 이방 도전성 시트의 열화를 억제할 수 있다. 즉, 이 편재형의 이방 도전성 시트는 탄력성이 크기 때문에, 검사시에 있어서의 검사 지그의 가압력을 흡수하여 충격 완화 능력이 뛰어나므로 탄력성이 비교적 적은 제1의 이방 도전성 시트에의 압력 집중이나 충격을 완화하고, 제1의 이방 도전성 시트의 열화를 억제한다. 따라서, 반복 검사에 대한 제1의 이방 도전성 시트의 사용 수명이 길어지고, 결과적으로 피검사 회로 기판의 전기적 검사에 있어서 제1의 이방 도전성 시트의 교환 회수를 감소시킬 수 있어 검사 효율이 향상된다. Thus, the 2nd anisotropically conductive sheet and the 3rd anisotropically conductive sheet consisted of an electrically conductive path formation part and an insulation part, and electroconductive particle is contained only in an electrically conductive path formation part, and is disperse | distributed unevenly to the surface direction, and the sheet side surface side By using the anisotropic conductive sheet of the uneven type in which the conductive path forming portion protrudes, the pressing force and the impact caused by the pressure of the inspection jig are absorbed into these sheets, whereby the deterioration of the first anisotropic conductive sheet can be suppressed. That is, since the ubiquitous anisotropic conductive sheet has high elasticity, it absorbs the pressing force of the inspection jig at the time of inspection and has excellent impact relieving ability, so that pressure concentration and impact on the first anisotropic conductive sheet having relatively low elasticity can be prevented. It relaxes and suppresses deterioration of a 1st anisotropically conductive sheet | seat. Therefore, the service life of a 1st anisotropically conductive sheet with respect to a repetitive test | inspection becomes long, As a result, the replacement | exchange frequency of a 1st anisotropically conductive sheet can be reduced in the electrical inspection of a circuit board under test, and inspection efficiency improves.

본 발명의 회로 기판의 검사장치는, 상기 피치 변환용 기판에 한 쌍의 전류용 단자 전극과 전압용 단자 전극으로 이루어지는 접속 전극이 설치되고, 해당 접 속 전극은 피검사 회로 기판의 각 피검사 전극에 대해서 상기 한 쌍의 전류용 단자 전극과 전압용 단자 전극이 전기적으로 접속하도록 피치 변환용 기판에 배치되어 있고, 상기 커넥터 기판에 상기 피치 변환용 기판의 전류용 단자 전극과 전압용 단자 전극에 각각 전기적으로 접속하도록 전류용 핀측 전극과 전압용 핀측 전극이 배치되어 있는 것을 특징으로 한다. In the inspection apparatus of the circuit board of this invention, the said connection electrode which consists of a pair of current terminal electrode and voltage terminal electrode is provided in the said pitch conversion board | substrate, The said connection electrode is each to-be-tested electrode of a circuit board under test. A pair of current terminal electrodes and a voltage terminal electrode are electrically connected to each other so as to electrically connect the pair of current terminal electrodes to the connector substrate, respectively, to the current terminal electrode and the voltage terminal electrode of the pitch conversion substrate. A current pin side electrode and a voltage pin side electrode are disposed so as to be electrically connected.

이와 같이 구성함으로써, 제1의 검사 지그와 제2의 검사 지그의 사이에서 검사 대상인 피검사 회로 기판의 양면을 협압해서 전기 검사를 행할 때, 피검사 회로 기판의 각 피검사용 전극에 대해서 각각 제1의 이방 도전성 시트를 개재시켜 피치 변환용 기판의 접속 전극의 전류용 단자 전극과 전압용 단자 전극의 양쪽 모두가 전기적으로 접속한다. With this arrangement, when the electric inspection is performed by pressing both surfaces of the inspection target circuit board to be inspected between the first inspection jig and the second inspection jig, each of the electrodes to be inspected of the circuit board to be inspected is respectively first. Both of the current terminal electrode and the voltage terminal electrode of the connection electrode of the substrate for pitch conversion are electrically connected via the anisotropic conductive sheet of (C).

그리고, 제2의 이방 도전성 시트, 중계 핀 유닛의 도전 핀, 제3의 이방 도전성 시트를 개재시켜, 피치 변환용 기판의 전류용 단자 전극이 커넥터 기판의 전류용 핀측 전극에 전기적으로 접속됨과 함께, 피치 변환용 기판의 전압용 단자 전극이 커넥터 기판의 전압용 단자 전극에 전기적으로 접속되게 되어 있다. The terminal terminal for current of the pitch conversion substrate is electrically connected to the current pin side electrode of the connector substrate via the second anisotropic conductive sheet, the conductive pin of the relay pin unit, and the third anisotropic conductive sheet. The voltage terminal electrode of the pitch conversion substrate is electrically connected to the voltage terminal electrode of the connector substrate.

이것에 의해, 피검사 회로 기판의 각 피검사용 전극에 대해서 각각 상하의 피치 변환용 기판의 전류용 단자 전극을 개재시켜 전류 공급 경로가 구성되게 되는 한편, 피검사 회로 기판의 각 피검사용 전극에 대해서 각각 상하의 피치 변환용 기판의 전압용 단자 전극을 개재시켜 전압계측 경로가 구성되게 된다. As a result, a current supply path is formed for each of the electrodes to be inspected of the circuit board under test via the current terminal electrodes of the upper and lower pitch conversion substrates, respectively, and for each electrode to be inspected of the circuit board to be inspected, respectively. The voltage measurement path is formed through the voltage terminal electrodes of the upper and lower pitch conversion substrates.

따라서, 피검사 회로 기판의 각 피검사용 전극에 대해서, 상하의 피트치 변환용 기판의 전류용 단자 전극을 개재시키고, 예를 들면 정전류 공급 장치를 이용 해서, 전류 공급 경로에 일정한 전류를 공급하면서, 상하의 피치 변환용 기판의 전압용 단자 전극을 개재시켜, 전압계측 경로에 의해 피검사 회로 기판의 각 피검사용 전극으로부터의 전압을 전압계로 측정함으로써, 피검사 회로 기판의 배선 패턴이 소정의 성능을 가지는지의 여부에 대한 전기적 특성의 확인 시험을 행할 수 있다. Therefore, each of the electrodes to be inspected of the circuit board under test is interposed with current terminals electrodes of the upper and lower pitch conversion substrates, for example, by using a constant current supply device to supply a constant current to the current supply path. Whether the wiring pattern of the circuit board under test has a predetermined performance by interposing a voltage terminal electrode of the substrate for pitch conversion and measuring the voltage from each electrode for inspection of the circuit board under test by a voltmeter through a voltage measurement path. Confirmation tests of the electrical properties for

반대로, 피검사 회로 기판의 각 피검사용 전극에 대해서, 상하의 피치 변환용 기판의 전압용 단자 전극을 개재시키고, 예를 들면 정전압 공급 장치를 이용해서, 전압계측 경로에 대해서 일정한 전압을 가하면서, 상하의 피치 변환용 기판의 전류용 단자 전극을 개재시켜 전류 공급 경로에 의해 피검사 회로 기판의 각 피검사용 전극으로부터의 전류를 전류계로 측정함으로써, 피검사 회로 기판의 배선 패턴이 소정의 성능을 가지는지의 여부에 대한 전기적 특성의 확인 시험을 행할 수도 있다. On the contrary, each of the electrodes to be inspected on the circuit board under test is interposed with the voltage terminal electrodes of the upper and lower pitch conversion substrates, and a constant voltage is applied to the voltage measurement path using, for example, a constant voltage supply device. Whether the wiring pattern of the circuit board under test has a predetermined performance by measuring the current from each electrode under test on the circuit board under test by an ammeter through a current supply path through the current terminal electrode of the pitch conversion substrate. Confirmation tests of the electrical properties of whether or not may be performed.

이와 같이, 피검사 회로 기판의 각 피검사용 전극에 대해서, 별개의 전압계측 경로, 전류 공급 경로를 개재시켜, 별개로 전압과 전류를 측정할 수 있으므로, 피검사 회로 기판의 배선 패턴이 소정의 성능을 가지는지의 여부에 대한 전기적 특성에 대해 정확한 확인 시험을 행할 수 있고, 게다가 확인 시험을 단시간에 실시할 수 있다. As described above, since the voltage and the current can be measured separately for each electrode for inspection of the circuit board under test through a separate voltage measurement path and a current supply path, the wiring pattern of the circuit board under test has a predetermined performance. Accurate confirmation tests can be carried out on the electrical properties of whether or not there is a detection test, and confirmation tests can be conducted in a short time.

본 발명의 회로 기판의 검사장치는, 상기 중계 핀 유닛이, The inspection apparatus of the circuit board of this invention is the said relay pin unit,

상기 제1의 절연판과 제2의 절연판의 사이에 배치된 중간 유지 판과, An intermediate holding plate disposed between the first insulating plate and the second insulating plate;

상기 제1의 절연판과 중간 유지 판의 사이에 배치된 제1의 지지 핀과, A first support pin disposed between the first insulating plate and the intermediate holding plate;

상기 제2의 절연판과 중간 유지 판의 사이에 배치된 제2의 지지 핀을 갖춤과 함께, With a second support pin disposed between the second insulating plate and the intermediate holding plate,

상기 제1의 지지 핀의 중간 유지 판에 대한 제1의 맞닿음 지지 위치와 상기 제2의 지지 핀의 중간 유지 판에 대한 제2의 맞닿음 지지 위치가 중간 유지 판의 두께 방향으로 투영된 중간 유지 판 투영면에 있어서 상이한 위치에 배치되어 있는 것을 특징으로 한다. A first abutment support position with respect to the intermediate holding plate of the first support pin and a second abutment support position with respect to the intermediate holding plate of the second support pin, the intermediate being projected in the thickness direction of the intermediate holding plate It is arrange | positioned in a different position in a holding plate projection surface. It is characterized by the above-mentioned.

이와 같이 구성함으로써, 제1의 검사 지그와 제2의 검사 지그의 사이에서 검사 대상인 피검사 회로 기판의 양면을 협압해서 전기 검사를 행할 때, 가압의 초기 단계에서는 중계 핀 유닛의 도전 핀의 이동과 제1의 이방 도전성 시트와 제2의 이방 도전성 시트와 제3의 이방 도전성 시트의 고무 탄성 압축으로 압력을 흡수하여 피검사 회로 기판의 피검사 전극의 높이 편차를 어느 정도 흡수할 수 있다. In such a configuration, when the electrical inspection is performed by pressing both surfaces of the circuit board to be inspected between the first inspection jig and the second inspection jig and performing the electrical inspection, the movement of the conductive pins of the relay pin unit and The pressure is absorbed by the rubber elastic compression of the first anisotropically conductive sheet, the second anisotropically conductive sheet, and the third anisotropically conductive sheet, and the height deviation of the inspected electrode of the circuit board under test can be absorbed to some extent.

그리고, 제1의 지지 핀의 중간 유지 판과의 제1의 맞닿음 지지 위치와 제2의 지지 핀의 중간 유지 판과의 제2의 맞닿음 지지 위치가 중간 유지 판의 두께 방향으로 투영된 중간 유지 판 투영면에 있어서 상이한 위치에 배치되어 있으므로, 제1의 검사 지그와 제2의 검사 지그의 사이에서 검사 대상인 피검사 회로 기판을 더욱 가압했을 때, 제1의 이방 도전성 시트와 제2의 이방 도전성 시트와 제3의 이방 도전성 시트의 고무 탄성 압축에 부가해서 중계 핀 유닛의 제1의 절연판과 제2의 절연판과 제1의 절연판과 제2의 절연판의 사이에 배치된 중간 유지 판의 용수철 탄성에 의해, 피검사 회로 기판의 피검사 전극의 높이 편차, 예를 들면 땜납 볼 전극의 높이 편차에 대해서 압력 집중을 분산시켜 국부적인 응력 집중을 회피할 수 있다. And the intermediate | middle in which the 1st contact support position with the intermediate holding plate of a 1st support pin and the 2nd contact support position with the intermediate holding plate of a 2nd support pin were projected in the thickness direction of an intermediate holding plate. Since it is arrange | positioned in a different position in a holding plate projection surface, when the to-be-tested circuit board which is a test object is further pressed between a 1st test jig and a 2nd test jig, a 1st anisotropically conductive sheet and a 2nd anisotropic conductivity are In addition to the rubber elastic compression of the sheet and the third anisotropic conductive sheet, the spring elasticity of the intermediate holding plate disposed between the first insulating plate and the second insulating plate and the first insulating plate and the second insulating plate of the relay pin unit. As a result, the pressure concentration can be dispersed against the height deviation of the inspected electrode of the circuit board under test, for example, the height variation of the solder ball electrode, thereby avoiding local stress concentration.

이것에 의해, 높이 편차를 가지는 피검사 회로 기판의 피검사 전극의 각각에 대해서 안정적인 전기적 접촉이 확보된다. 또한, 제1의 이방 도전성 시트에의 응력 집중이 저감되므로, 제1의 이방 도전성 시트의 국부적인 파손이 억제된다. 그 결과, 제1의 이방 도전성 시트의 반복 사용 내구성이 향상하므로, 제1의 이방 도전성 시트의 교환 회수가 줄어들고 검사 작업 효율이 향상된다. Thereby, stable electrical contact is ensured with respect to each of the inspected electrodes of the inspected circuit board having the height deviation. In addition, since stress concentration on the first anisotropic conductive sheet is reduced, local breakage of the first anisotropic conductive sheet is suppressed. As a result, since the repeated use durability of a 1st anisotropically conductive sheet improves, the replacement | exchange frequency of a 1st anisotropically conductive sheet reduces and inspection work efficiency improves.

또, 일정 간격으로 도전 핀을 배치할 필요가 없기 때문에, 절연판에 형성하는 관통구멍의 수를 줄일 수 있다. 따라서, 절연판을 얇게 할 수 있다. 또한, 도전 핀을 유지하는 절연판에의 관통구멍의 드릴 가공에 의한 천설 작업이 적어, 검사장치의 제작에 필요로 하는 비용을 저감시킬 수 있다. In addition, since there is no need to arrange the conductive pins at regular intervals, the number of through holes formed in the insulating plate can be reduced. Therefore, the insulating plate can be made thin. In addition, there is less laying work by drilling the through-hole to the insulating plate holding the conductive pin, and the cost required for the production of the inspection apparatus can be reduced.

본 발명의 회로 기판의 검사장치는 한 쌍의 제1의 검사 지그와 제2의 검사 지그에 의해 양 검사 지그의 사이에서 검사 대상인 피검사 회로 기판의 양면을 협압했을 때, 상기 제1의 지지 핀의 중간 유지 판에 대한 제1의 맞닿음 지지 위치를 중심으로 해서, 상기 중간 유지 판이 상기 제2의 절연판의 방향으로 휨과 함께, 상기 제2의 지지 핀의 중간 유지 판에 대한 제2의 맞닿음 지지 위치를 중심으로 해서, 상기 중간 유지 판이 상기 제1의 절연판의 방향으로 휘도록 구성되어 있는 것을 특징으로 한다. In the inspection apparatus of the circuit board of the present invention, when the both sides of the inspection target circuit board to be inspected are pinched by the pair of first inspection jig and the second inspection jig, the first supporting pin The second engagement plate with respect to the intermediate holding plate of the second support pin, with the intermediate holding plate bent in the direction of the second insulating plate about the first abutting support position with respect to the intermediate holding plate of The said intermediate | middle holding plate is comprised so that it may bend in the direction of the said 1st insulating plate centering on a contact support position. It is characterized by the above-mentioned.

이와 같이 구성함으로써, 중간 유지 판이 제1의 맞닿음 지지 위치, 제2의 맞닿음 지지 위치를 중심으로 해서 서로 반대 방향으로 휘기 때문에, 제1의 검사 지그와 제2의 검사 지그의 사이에서 검사 대상인 피검사 회로 기판을 더욱 가압했을 때, 중간 유지 판의 용수철 탄성력이 더욱 발휘되게 되고, 피검사 회로 기판의 피 검사 전극의 높이 편차에 대해서 압력 집중을 분산시켜 국부적인 응력 집중을 회피할 수 있고, 제1의 이방 도전성 시트의 국부적인 파손이 억제된다. 그 결과, 제1의 이방 도전성 시트의 반복 사용 내구성이 향상하므로, 제1의 이방 도전성 시트의 교환 회수가 줄어들고 검사 작업 효율이 향상된다. With this configuration, the intermediate holding plate is bent in opposite directions with respect to the first butting contact position and the second butting support position, so that the intermediate holding plate is an inspection target between the first and second inspection jigs. When the circuit board under test is further pressed, the spring elastic force of the intermediate holding plate is further exerted, and the concentration of pressure can be dispersed against the height deviation of the electrode under test of the circuit board under test so that local stress concentration can be avoided. Local breakage of the first anisotropic conductive sheet is suppressed. As a result, since the repeated use durability of a 1st anisotropically conductive sheet improves, the replacement | exchange frequency of a 1st anisotropically conductive sheet reduces and inspection work efficiency improves.

본 발명의 회로 기판의 검사장치는, 상기 제1의 지지 핀의 중간 유지 판에 대한 제1의 맞닿음 지지 위치가 상기 중간 유지 판 투영면에 있어서 격자상으로 배치되고, 상기 제2의 지지 핀의 중간 유지 판에 대한 제2의 맞닿음 지지 위치가 상기 중간 유지 판 투영면에 있어서 격자상으로 배치되어 있고, 상기 중간 유지 판 투영면에 있어서, 인접하는 4개의 제1의 맞닿음 지지 위치로 이루어지는 단위 격자 영역에 1개의 제2의 맞닿음 지지 위치가 배치됨과 함께, 상기 중간 유지 판 투영면에 있어서, 인접하는 4개의 제2의 맞닿음 지지 위치로 이루어지는 단위 격자 영역에 1개의 제1의 맞닿음 지지 위치가 배치되도록 구성되어 있는 것을 특징으로 한다. In the inspection apparatus of the circuit board of this invention, the 1st contact support position with respect to the intermediate | middle holding plate of the said 1st support pin is arrange | positioned at grid shape in the said intermediate | middle holding plate projection surface, The unitary grating | lattice which the 2nd contact support position with respect to an intermediate holding plate is arrange | positioned at the grid | lattice form in the said intermediate | middle holding plate projection surface, and consists of four adjacent 1st contact supporting positions in the said intermediate holding plate projection surface. One first abutment support position is arranged in the region, and in the intermediate holding plate projection surface, one first abutment support position is formed in a unit lattice region composed of four adjacent second abutment support positions. Characterized in that is configured to be arranged.

이와 같이 구성함으로써, 제1의 맞닿음 지지 위치와 제2의 맞닿음 지지 위치가 격자상으로 배치되고, 제1의 맞닿음 지지 위치와 제2의 맞닿음 지지 위치가 격자상으로 모두 어긋난 위치에 배치되게 된다. By such a configuration, the first abutment support position and the second abutment support position are arranged in a lattice form, and the first abutment support position and the second abutment support position are all shifted in a lattice form. Will be deployed.

따라서, 중간 유지 판이 제1의 맞닿음 지지 위치, 제2의 맞닿음 지지 위치를 중심으로 해서 서로 반대 방향에 의해 휘게 되고, 제1의 검사 지그와 제2의 검사 지그의 사이에서 검사 대상인 피검사 회로 기판을 가압했을 때, 중간 유지 판의 용수철 탄성력이 더욱 발휘되게 되고, 피검사 회로 기판의 피검사 전극의 높이 편차 에 대해서 압력 집중을 분산시켜 국부적인 응력 집중을 더욱 회피할 수 있고, 제1의 이방 도전성 시트의 국부적인 파손이 억제된다. 그 결과, 제1의 이방 도전성 시트의 반복 사용 내구성이 향상하므로, 제1의 이방 도전성 시트의 교환 회수가 줄어들고 검사 작업 효율이 향상된다. Therefore, the intermediate holding plate is bent in a direction opposite to each other about the first abutting support position and the second abutting support position, and is inspected as an inspection target between the first inspection jig and the second inspection jig. When the circuit board is pressurized, the spring elastic force of the intermediate holding plate is further exerted, and the pressure concentration can be dispersed against the height deviation of the inspected electrode of the circuit board under test so that local stress concentration can be further avoided. Local breakage of the anisotropic conductive sheet of is suppressed. As a result, since the repeated use durability of a 1st anisotropically conductive sheet improves, the replacement | exchange frequency of a 1st anisotropically conductive sheet reduces and inspection work efficiency improves.

본 발명의 회로 기판의 검사장치는, 상기 중계 핀 유닛이 상기 제1의 절연판과 제2의 절연판의 사이에 소정 간격 이격해서 배치된 복수개의 중간 유지 판과 인접하는 중간 유지 판끼리의 사이에 배치된 유지 판 지지 핀을 갖춤과 함께, 적어도 1개의 중간 유지 판에 있어서 해당 중간 유지 판에 대해서 일면 측으로부터 맞닿는 유지 판 지지 핀의 해당 중간 유지 판에 대한 맞닿음 지지 위치와 해당 중간 유지 판에 대해서 다른 면 측으로부터 맞닿는 제1의 지지 핀, 제2의 지지 핀, 또는 유지 판 지지 핀의 해당 중간 유지 판에 대한 맞닿음 지지 위치가 해당 중간 유지 판의 두께 방향으로 투영된 중간 유지 판 투영면에 있어서 상이한 위치에 배치되어 있는 것을 특징으로 한다. In the inspection apparatus of the circuit board of this invention, the said relay pin unit is arrange | positioned between the several intermediate | middle holding plates arrange | positioned at predetermined intervals between the said 1st insulating plate and a 2nd insulating plate, and adjacent intermediate holding plates. The retaining plate support pins abutting from the one surface side with respect to the intermediate holding plate and the abutment supporting position with respect to the intermediate holding plate and the corresponding intermediate holding plate in at least one intermediate holding plate. In the intermediate holding plate projection surface on which the first supporting pin, the second supporting pin, or the holding plate supporting pin, which abuts from the other surface side, with respect to the intermediate holding plate is projected in the thickness direction of the intermediate holding plate. It is characterized by being arrange | positioned in a different position.

이와 같이 구성함으로써 이들 복수개의 중간 유지 판에 의해 용수철 탄성이 더욱 발휘되게 되고, 피검사 회로 기판의 피검사 전극의 높이 편차에 대해서 압력 집중을 분산시켜 국부적인 응력 집중을 더욱 회피할 수 있고, 제1의 이방 도전성 시트의 국부적인 파손이 억제된다. 그 결과, 제1의 이방 도전성 시트의 반복 사용 내구성이 향상하므로, 이방 도전성 시트의 교환 회수가 줄어들고 검사 작업 효율이 향상된다. With this configuration, the spring elasticity is further exerted by the plurality of intermediate holding plates, and the pressure concentration can be dispersed against the height deviation of the inspected electrode of the circuit board under test, so that local stress concentration can be further avoided. Local breakage of the anisotropic conductive sheet of 1 is suppressed. As a result, since the repeated use durability of a 1st anisotropically conductive sheet improves, the replacement | exchange frequency of an anisotropically conductive sheet reduces and inspection work efficiency improves.

본 발명의 회로 기판의 검사장치는, 모든 상기 중간 유지 판에 있어서, 해당 중간 유지 판에 대해서 일면 측으로부터 맞닿는 유지 판 지지 핀의 해당 중간 유지 판에 대한 맞닿음 지지 위치와 해당 중간 유지 판에 대해서 다른 면 측으로부터 맞닿는 제1의 지지 핀, 제2의 지지 핀, 또는 유지 판 지지 핀의 해당 중간 유지 판에 대한 맞닿음 지지 위치가 해당 중간 유지 판의 두께 방향으로 투영된 중간 유지 판 투영면에 있어서 상이한 위치에 배치되어 있는 것을 특징으로 한다. In all the said intermediate | middle holding plates, the test | inspection apparatus of the circuit board of this invention is abutting support position with respect to the said intermediate | middle holding plate of the holding plate support pin which abuts from one surface side with respect to the said intermediate | middle holding plate, and the said intermediate holding plate. In the intermediate holding plate projection surface on which the first supporting pin, the second supporting pin, or the holding plate supporting pin, which abuts from the other surface side, with respect to the intermediate holding plate is projected in the thickness direction of the intermediate holding plate. It is characterized by being arrange | positioned in a different position.

이것에 의해, 모든 중간 유지 판에 있어서 그 표리면 측의 지지 핀으로부터의 맞닿음 지지 위치가 서로 어긋난 위치에 배치되므로, 이들 복수개의 중간 유지 판의 용수철 탄성이 더욱 발휘되게 되고, 피검사 회로 기판의 피검사 전극의 높이 편차에 대해서 압력 집중을 분산시켜 국부적인 응력 집중을 더욱 회피할 수 있고, 제1의 이방 도전성 시트의 국부적인 파손이 억제된다. 그 결과, 제1의 이방 도전성 시트의 반복 사용 내구성이 향상하므로, 제1의 이방 도전성 시트의 교환 회수가 줄어들고 검사 작업 효율이 향상된다. As a result, the contact support positions from the support pins on the front and back sides of the intermediate holding plates are disposed at positions shifted from each other, whereby the spring elasticity of the plurality of intermediate holding plates is further exerted. By dispersing the pressure concentration with respect to the height deviation of the electrode under test, local stress concentration can be further avoided, and local breakage of the first anisotropic conductive sheet is suppressed. As a result, since the repeated use durability of a 1st anisotropically conductive sheet improves, the replacement | exchange frequency of a 1st anisotropically conductive sheet reduces and inspection work efficiency improves.

<발명의 효과>Effect of the Invention

본 발명에 의하면, 검사 대상인 피검사 회로 기판이 미세 피치로 배치된 미소 전극을 가지는 것이어도 신뢰성이 높은 전기적 검사를 행할 수 있다. According to the present invention, highly reliable electrical inspection can be performed even when the circuit to be inspected has a microelectrode arranged at a fine pitch.

도 1은 본 발명의 회로 기판의 검사장치에 있어서의 일 실시 형태를 나타낸 단면도이다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which shows one Embodiment in the inspection apparatus of the circuit board of this invention.

도 2는 도 1의 검사장치의 검사시에 있어서의 적층 상태를 나타낸 단면도이다. FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a lamination state at the time of inspection of the inspection apparatus of FIG. 1. FIG.

도 3은 피치 변환용 기판의 피검사 회로 기판측의 표면을 나타낸 도이다. 3 is a diagram showing the surface of the circuit board under test on the pitch conversion substrate.

도 4는 피치 변환용 기판의 중계 핀 유닛측의 표면을 나타낸 도이다. It is a figure which shows the surface of the relay pin unit side of the board | substrate for pitch conversion.

도 5는 제1의 이방 도전성 시트의 부분 단면도이다. 5 is a partial cross-sectional view of the first anisotropic conductive sheet.

도 6은 제2의 이방 도전성 시트의 부분 단면도이다. 6 is a partial cross-sectional view of a second anisotropic conductive sheet.

도 7은 제1의 이방 도전성 시트를 피치 변환용 기판에 적층한 상태를 나타낸 단면도이다. 7 is a cross-sectional view showing a state in which the first anisotropic conductive sheet is laminated on the substrate for pitch conversion.

도 8(a)는 한 면을 조면으로 한 제1의 이방 도전성 시트의 부분 단면도, 도 8(b)는, 이 제1의 이방 도전성 시트를 피치 변환용 기판에 적층한 상태를 나타낸 단면도이다. FIG. 8 (a) is a partial cross-sectional view of the first anisotropic conductive sheet having one surface roughened, and FIG. 8 (b) is a cross-sectional view showing a state in which the first anisotropic conductive sheet is laminated on the substrate for pitch conversion.

도 9는 제1의 이방 도전성 시트의 제조 공정을 설명하는 도이다. It is a figure explaining the manufacturing process of a 1st anisotropically conductive sheet | seat.

도 10은 성형 부재 내부의 도전성 입자의 분포 상태를 나타낸 도이다. It is a figure which shows the distribution state of the electroconductive particle inside a shaping | molding member.

도 11은 제1의 이방 도전성 시트의 제조 공정을 설명하는 도이다. It is a figure explaining the manufacturing process of a 1st anisotropically conductive sheet | seat.

도 12는 자장을 작용한 후의 도전성 입자의 분포 상태를 나타낸 도이다. It is a figure which shows the distribution state of the electroconductive particle after acting a magnetic field.

도 13은 중계 핀 유닛의 도전 핀, 및 절연판의 일부를 나타낸 단면도이다. It is sectional drawing which shows the conductive pin of the relay pin unit, and a part of insulating plate.

도 14는 본 발명의 회로 기판의 검사장치에 있어서의 다른 실시 형태를 나타낸 단면도이다. It is sectional drawing which shows other embodiment in the inspection apparatus of the circuit board of this invention.

도 15는 도 14의 검사장치의 검사시에 있어서의 적층 상태를 나타낸 단면도이다. FIG. 15 is a cross-sectional view illustrating a lamination state at the time of inspection of the inspection apparatus of FIG. 14.

도 16은 피치 변환용 기판의 피검사 회로 기판측의 표면을 나타낸 도이다. It is a figure which shows the surface of the circuit board side under test of a pitch conversion board | substrate.

도 17은 피치 변환용 기판의 중계 핀 유닛측의 표면을 나타낸 도이다. It is a figure which shows the surface of the relay pin unit side of the board | substrate for pitch conversion.

도 18은 제1의 이방 도전성 시트를 피치 변환용 기판에 적층한 상태를 나타낸 단면도이다. It is sectional drawing which showed the state which laminated | stacked the 1st anisotropically conductive sheet | seat on the board | substrate for pitch conversion.

도 19는 도 14의 검사장치의 사용 상태를 설명하는 부분 확대 단면도이다. 19 is a partially enlarged cross-sectional view illustrating a state of use of the inspection device of FIG. 14.

도 20은 본 발명의 회로 기판의 검사장치에 있어서의 다른 실시 형태를 나타낸 단면도이다. It is sectional drawing which shows other embodiment in the inspection apparatus of the circuit board of this invention.

도 21은 도 20의 검사장치의 검사시에 있어서의 적층 상태를 나타낸 단면도이다. FIG. 21 is a cross-sectional view illustrating a lamination state at the time of inspection of the inspection apparatus of FIG. 20. FIG.

도 22는 중계 핀 유닛의 도전 핀 및 절연판의 일부를 나타낸 단면도이다. 22 is a cross-sectional view showing a part of the conductive pin and the insulating plate of the relay pin unit.

도 23은 중간 유지 판의 두께 방향으로 투영된 중간 유지 판 투영면의 부분 확대도이다. It is a partial enlarged view of the intermediate holding plate projection surface projected in the thickness direction of an intermediate holding plate.

도 24는 도 20의 검사장치의 부분 확대 단면도이다.24 is a partially enlarged cross-sectional view of the inspection device of FIG. 20.

도 25는 도 20의 검사장치의 사용 상태를 설명하는 부분 확대 단면도이다. 이다. 25 is a partially enlarged cross-sectional view illustrating a state of use of the inspection device of FIG. 20. to be.

도 26은 도 20의 검사장치에 있어서의 중계 핀 유닛의 부분 확대 단면도이다. FIG. 26 is a partially enlarged cross-sectional view of the relay pin unit in the inspection apparatus of FIG. 20.

도 27은 도 20의 검사장치의 사용 상태를 설명하는 부분 확대 단면도이다. FIG. 27 is a partially enlarged cross-sectional view illustrating a state of use of the inspection device of FIG. 20.

도 28은 본 발명의 검사장치의 다른 실시 형태를 나타낸 도 24와 동일한 부분 확대 단면도이다. FIG. 28 is a partially enlarged cross-sectional view similar to FIG. 24 showing another embodiment of the inspection apparatus of the present invention. FIG.

도 29는 도 28의 검사장치에 있어서의 중계 핀 유닛의 부분 확대 단면도이다. FIG. 29 is a partially enlarged cross-sectional view of the relay pin unit in the inspection device of FIG. 28.

도 30은 본 발명의 다른 실시 형태에 있어서의 검사장치의 사용 상태를 나타낸 부분 확대 단면도이다. 30 is a partially enlarged cross-sectional view showing a state of use of the inspection apparatus in another embodiment of the present invention.

도 31은 종래에 있어서의 회로 기판의 검사장치의 단면도이다. 31 is a sectional view of a conventional circuit board inspection apparatus.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for main parts of the drawings>

1: 피검사 회로 기판 1: circuit board under test

2: 피검사 전극 2: electrode under test

3: 피검사 전극 3: electrode under test

11a: 제1의 검사 지그 11a: first inspection jig

11b: 제2의 검사 지그 11b: second inspection jig

21a, 21b: 회로 기판측 커넥터 21a, 21b: circuit board side connector

22a, 22b: 제1의 이방 도전성 시트 22a, 22b: first anisotropic conductive sheet

23a, 23b: 피치 변환용 기판 23a, 23b: substrate for pitch conversion

24: 단자 전극 24: terminal electrode

25: 접속 전극 25: connection electrode

26a, 26b: 제2의 이방 도전성 시트 26a, 26b: second anisotropic conductive sheet

27a, 27b: 전류용 단자 전극 27a, 27b: terminal electrode for current

28a, 28b: 전압용 단자 전극 28a, 28b: terminal electrode for voltage

31a, 31b: 중계 핀 유닛 31a, 31b: relay pin unit

32a, 32b: 도전 핀 32a, 32b: conductive pin

33a, 33b: 제1의 지지 핀(지지 핀) 33a, 33b: first support pin (support pin)

34a, 34b: 제1의 절연판34a, 34b: first insulating plate

35a, 35b: 제2의 절연판 35a, 35b: second insulating plate

36a: 중간 유지 판 36a: middle retaining plate

37a, 37b: 제2의 지지 핀 37a, 37b: second support pin

38A: 제1의 맞닿음 지지 위치 38A: First abutting support position

38B: 제2의 맞닿음 지지 위치 38B: second abutment support position

39a, 39b: 유지 판 지지 핀 39a, 39b: retaining plate support pin

39A: 맞닿음 지지 위치 39A: abutment support position

41a, 41b: 테스터측 커넥터 41a, 41b: Tester side connector

42a, 42b: 제3의 이방 도전성 시트 42a, 42b: third anisotropic conductive sheet

43a, 43b: 커넥터 기판 43a, 43b: connector board

44a, 44b: 테스터측 전극 44a, 44b: Tester side electrode

45a, 45b: 핀측 전극 45a, 45b: pin side electrode

46a, 46b: 베이스 판 46a, 46b: base plate

47a, 47b: 전류용 핀측 전극 47a, 47b: pin side electrode for current

48a, 48b: 전압용 핀측 전극 48a, 48b: pin-side electrodes for voltage

49a, 49b: 지지 핀 49a, 49b: support pin

51: 절연 기판 51: insulated substrate

52: 배선 52: wiring

53: 내부 배선53: internal wiring

54: 절연층 54: insulation layer

55: 절연층 55: insulation layer

61: 시트기재 61: sheet material

62: 도전성 입자 62: conductive particles

63: 표면 63: surface

64: 이면 64: back side

71: 절연부 71: insulation

72: 도전로 형성부 72: conductive path forming unit

73: 돌출부 73: protrusion

81a, 81b: 단부 81a, 81b: end

82: 중앙부 82: center part

83: 관통구멍 83: through hole

91: 가압 롤 91: pressure roll

92: 지지 롤 92: support roll

93a, 93b: 성형 부재 93a, 93b: molded member

94: 스페이서 94: spacer

95: 성형 재료 95: molding material

96: 상부 표면 96: upper surface

97: 하부 표면 97: lower surface

98a, b: 전자석 98a, b: electromagnet

99a: 오목부 99a: concave

99b: 볼록부 99b: convex

101: 피검사 회로 기판 101: circuit board under test

102: 피검사 전극 102: inspected electrode

103: 피검사 전극 103: inspected electrode

111a: 상측 검사 지그111a: upper inspection jig

111b: 하측 검사 지그 111b: lower inspection jig

121a, 121b: 회로 기판측 커넥터121a, 121b: circuit board side connectors

121a, 121b: 회로 기판측 커넥터 121a, 121b: circuit board side connectors

122a, 122b: 이방 도전성 시트 122a, 122b: anisotropic conductive sheet

123a, 123b: 피치 변환용 기판 123a and 123b: substrate for pitch conversion

126a, 126b: 이방 도전성 시트 126a and 126b: anisotropic conductive sheets

131a, 131b: 중계 핀 유닛 131a, 131b: relay pin unit

132a, 132b: 도전 핀 132a, 132b: conductive pins

133a, 133b: 지지 핀 133a, 133b: support pin

134a, 134b: 제1의 절연판134a, 134b: first insulating plate

135a, 135b: 제2의 절연판135a, 135b: second insulating plate

141a, 141b: 테스터측 커넥터 141a, 141b: tester side connector

142a, 142b: 이방 도전성 시트 142a and 142b: anisotropic conductive sheet

143a, 143b: 커넥터 기판143a, 143b: connector board

144a, 144b: 테스터측 전극144a and 144b: tester side electrodes

145a, 145b: 핀측 전극 145a and 145b: pin side electrodes

146a, 146b: 베이스 판146a, 146b: base plate

A: 중간 유지 판 투영면A: Intermediate Retention Plate Projection Surface

L1: 거리 L1: distance

L2: 거리 L2: distance

Q1: 대각선 Q1: Diagonal

Q2: 대각선 Q2: Diagonal

R1: 단위 격자 영역 R1: unit grid area

R2: 단위 격자 영역 R2: Unit Grid Area

<발명을 실시하기 위한 최량의 형태><Best mode for carrying out the invention>

이하, 도면을 참조하면서 본 발명의 실시 형태에 대해 설명한다. 또한, 이후의 기술에 있어서, 제1의 검사 지그와 제2의 검사 지그에 있어서의 한 쌍의 동일한 원가요소(예를 들면, 회로 기판측 커넥터(21a)와 회로 기판측 커넥터(21b), 제1의 이방 도전성 시트(22a)와 제1의 이방 도전성 시트(22b)등)를 총칭하는 경우에는, 기호 「a」, 「b」를 생략하는 경우가 있다(예를 들면, 제1의 이방 도전성 시트(22a)와 제1의 이방 도전성 시트(22b)를 총칭해서 「제1의 이방 도전성 시트(22)」라고 기술하는 경우가 있다). EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described, referring drawings. In the following description, a pair of identical cost elements (for example, the circuit board side connector 21a and the circuit board side connector 21b, the first inspection jig and the second inspection jig) When the 1st anisotropically conductive sheet 22a, the 1st anisotropically conductive sheet 22b, etc. are named generically, the symbol "a" and "b" may be abbreviate | omitted (for example, 1st anisotropic conductivity) The sheet 22a and the first anisotropic conductive sheet 22b may be collectively described as "the first anisotropic conductive sheet 22".

도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 검사장치를 나타낸 단면도, 도 2는 도 1의 검사장치의 검사시에 있어서의 적층 상태를 나타낸 단면도, 도 3은 피치 변환용 기판의 피검사 회로 기판측의 표면을 나타낸 도면, 도 4는 피치 변환용 기판의 중계 핀 유닛측의 표면을 나타낸 도이다. 1 is a cross-sectional view showing an inspection apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view showing a laminated state at the time of inspection of the inspection apparatus of FIG. 1, FIG. The figure which showed the surface of the side, FIG. 4 is a figure which shows the surface of the relay pin unit side of the board | substrate for pitch conversion.

본 실시 형태의 검사장치는 집적회로 등을 실장하기 위한 프린트 회로 기판 등의 검사 대상인 피검사 회로 기판(1)에 대해서 피검사 전극 간의 전기 저항을 측정함으로써 전기 검사를 행하는 것이다. The inspection apparatus of this embodiment performs electrical inspection by measuring the electrical resistance between electrodes under inspection for the inspection target circuit board 1 such as a printed circuit board for mounting an integrated circuit or the like.

이 검사장치는, 도 1 및 도 2에 나타낸 것처럼 피검사 회로 기판(1)의 상면측에 배치되는 제1의 검사 지그(11a)와 하면측에 배치되는 제2의 검사 지그(11b)가 상하로 서로 대향하도록 배치되어 있다. 1 and 2, the inspection apparatus has a first inspection jig 11a disposed on the upper surface side of the circuit board 1 to be inspected and a second inspection jig 11b disposed on the lower surface side. Are arranged to face each other.

제1의 검사 지그(11a)는 회로 기판측 커넥터(21a)와 중계 핀 유닛(31a)과 테스터측 커넥터(41a)를 갖추고 있다. 회로 기판측 커넥터(21a)는 피치 변환용 기판(23a)과 그 양측에 배치된 제1의 이방 도전성 시트(22a) 및 제2의 이방 도전성 시트(26a)로 구성되어 있다. 테스터측 커넥터(41a)는 중계 핀 유닛(31a)측에 배치된 제3의 이방 도전성 시트(42a)와 커넥터 기판(43a)과 베이스 판(46a)으로 구성되어 있다. The 1st inspection jig 11a is equipped with the circuit board side connector 21a, the relay pin unit 31a, and the tester side connector 41a. The circuit board side connector 21a is comprised from the board | substrate 23a for pitch conversion, the 1st anisotropically conductive sheet 22a and the 2nd anisotropically conductive sheet 26a arrange | positioned at both sides. The tester side connector 41a is comprised from the 3rd anisotropically conductive sheet 42a arrange | positioned at the relay pin unit 31a side, the connector board 43a, and the base board 46a.

제2의 검사 지그(11b)도 제1의 검사 지그(11a)와 마찬가지로 구성되어 회로 기판측 커넥터(21b)와 중계 핀 유닛(31b)과 테스터측 커넥터(41b)를 갖추고 있다. 회로 기판측 커넥터(21b)는 피치 변환용 기판(23b)과 그 양측에 배치된 제1의 이방 도전성 시트(22b) 및 제2의 이방 도전성 시트(26b)로 구성되어 있다. 테스터측 커넥터(41b)는 중계 핀 유닛(31b)측에 배치된 제3의 이방 도전성 시트(42b)와 커넥터 기판(43b)과 베이스 판(46b)으로 구성되어 있다. The 2nd test jig 11b is comprised similarly to the 1st test jig 11a, and is equipped with the circuit board side connector 21b, the relay pin unit 31b, and the tester side connector 41b. The circuit board side connector 21b is comprised from the board | substrate 23b for pitch conversion, the 1st anisotropically conductive sheet 22b and the 2nd anisotropically conductive sheet 26b arrange | positioned at both sides. The tester side connector 41b is comprised from the 3rd anisotropically conductive sheet 42b arrange | positioned at the relay pin unit 31b side, the connector board 43b, and the base board 46b.

피검사 회로 기판(1)의 상면에는 피검사용의 전극(2)이 형성되어 그 하면에도 피검사용의 전극(3)이 형성되어 있고, 이것들은 서로 전기적으로 접속되어 있다. An electrode 2 for inspection is formed on the upper surface of the circuit board 1 to be inspected, and an electrode 3 for inspection is also formed on the lower surface thereof, and these are electrically connected to each other.

(1) 회로 기판측 커넥터 (1) circuit board side connector

회로 기판측 커넥터(21a, 21b)는 피치 변환용 기판(23a, 23b)과 그 양측에 배치되는 제1의 이방 도전성 시트(22a, 22b) 및 제2의 이방 도전성 시트(26a, 26b)를 갖추고 있다. The circuit board side connectors 21a and 21b are provided with the boards 23a and 23b for pitch conversion, the first anisotropic conductive sheets 22a and 22b and the second anisotropic conductive sheets 26a and 26b disposed on both sides thereof. have.

(1-a) 피치 변환용 기판(1-a) pitch conversion substrate

도 3은 피치 변환용 기판(23)의 피검사 회로 기판(1) 측의 표면을 나타낸 도이며, 도 4는 그 중계 핀 유닛(31)측의 표면을 나타낸 도이다. FIG. 3 is a diagram showing the surface on the test circuit board 1 side of the pitch conversion substrate 23, and FIG. 4 is a diagram showing the surface on the relay pin unit 31 side.

피치 변환용 기판(23)의 한쪽 표면, 즉, 피검사 회로 기판(1) 측에는 도 3에 나타낸 것처럼 피검사 회로 기판(1)의 전극(2, 3)에 전기적으로 접속되는 복수의 접속 전극(25)이 형성되어 있다. 이들 접속 전극(25)은 피검사 회로 기판(1)의 피검사 전극(2, 3)의 패턴에 대응하도록 배치되어 있다. On one surface of the substrate 23 for pitch conversion, that is, on the side of the circuit under test 1, a plurality of connection electrodes electrically connected to the electrodes 2 and 3 of the circuit under test 1 as shown in FIG. 3 ( 25) is formed. These connection electrodes 25 are arrange | positioned so that the patterns of the to-be-tested electrodes 2 and 3 of the circuit board 1 to be tested may be corresponded.

한편, 피치 변환용 기판(23)의 다른 쪽 표면, 즉, 피검사 회로 기판(1)의 반대측에는 도 4에 나타낸 것처럼 중계 핀 유닛(31)의 도전 핀(32a, 32b)에 전기적으로 접속되는 복수의 단자 전극(24)이 형성되어 있다. 이들 단자 전극(24)은, 예를 들면 피치가 2.54㎜, 1.8㎜, 1.27㎜, 1.06㎜, 0.8㎜, 0.75㎜, 0.5㎜, 0.45㎜, 0.3㎜ 또는 0.2㎜인 일정 간격의 격자점 위에 배치되어 있고, 그 피치는 중계 핀 유닛의 도전 핀(32a, 32b)의 배치 피치와 동일하다. On the other hand, the other surface of the substrate 23 for pitch conversion, i.e., the opposite side of the circuit board 1 under test, is electrically connected to the conductive pins 32a and 32b of the relay pin unit 31 as shown in FIG. A plurality of terminal electrodes 24 are formed. These terminal electrodes 24 are disposed on grid points at regular intervals, for example, pitches of 2.54 mm, 1.8 mm, 1.27 mm, 1.06 mm, 0.8 mm, 0.75 mm, 0.5 mm, 0.45 mm, 0.3 mm or 0.2 mm. The pitch is the same as the arrangement pitch of the conductive pins 32a and 32b of the relay pin unit.

도 3의 각각의 접속 전극(25)은 배선(52) 및 도 7에 있어서 절연 기판(51)의 두께 방향으로 관통하는 내부 배선(53)에 의해 대응하는 도 4의 단자 전극(24)에 전기적으로 접속되어 있다. Each connection electrode 25 of FIG. 3 is electrically connected to the terminal electrode 24 of FIG. 4 by the wiring 52 and the internal wiring 53 penetrating in the thickness direction of the insulating substrate 51 in FIG. Is connected.

피치 변환용 기판(23)의 표면에 있어서의 절연부는, 예를 들면 도 7에 나타낸 것처럼, 절연 기판(51)의 표면에, 각각의 접속 전극(25)이 노출되도록 형성된 절연층(54)으로 구성되고, 이 절연층(54)의 두께는 바람직하게는 5 내지 100㎛, 보다 바람직하게는 10 내지 60㎛이다. 이 두께가 과소한 경우, 표면 거칠기가 작은 절연층을 형성하는 것이 곤란해지는 경우가 있다. 한편, 이 두께가 과대한 경우, 접속 전극(25)과 제1의 이방 도전성 시트(22)의 전기적 접속이 곤란해지는 경우가 있다. The insulating portion on the surface of the pitch conversion substrate 23 is, for example, as an insulating layer 54 formed on the surface of the insulating substrate 51 so that each connection electrode 25 is exposed. It is comprised, The thickness of this insulating layer 54 becomes like this. Preferably it is 5-100 micrometers, More preferably, it is 10-60 micrometers. When this thickness is too small, it may become difficult to form the insulating layer with small surface roughness. On the other hand, when this thickness is excessive, electrical connection of the connection electrode 25 and the 1st anisotropically conductive sheet 22 may become difficult.

피치 변환용 기판의 절연 기판(51)을 형성하는 재료로서는, 일반적으로 프린트 회로 기판의 기재로서 사용되는 것을 이용할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들면 폴리이미드 수지, 유리 섬유 보강형 폴리이미드 수지, 유리 섬유 보강형 에폭시 수지, 유리 섬유 보강형 비스말레이미드트리아진 수지 등을 들 수 있다. As a material which forms the insulated substrate 51 of the pitch conversion board | substrate, what is generally used as a base material of a printed circuit board can be used. Specifically, polyimide resin, glass fiber reinforced polyimide resin, glass fiber reinforced epoxy resin, glass fiber reinforced bismaleimide triazine resin, etc. are mentioned, for example.

도 7의 절연층(54, 55)의 형성 재료로서는 박막상으로 성형 가능한 고분자 재료를 이용할 수 있고, 구체적으로는, 예를 들면 에폭시 수지, 아크릴 수지, 페놀 수지, 폴리이미드 수지, 폴리아미드 수지, 이들의 혼합물, 레지스터 재료 등을 들 수 있다. As the material for forming the insulating layers 54 and 55 in FIG. 7, a polymer material that can be molded into a thin film can be used. Specifically, for example, an epoxy resin, an acrylic resin, a phenol resin, a polyimide resin, a polyamide resin, Mixtures thereof, resistor materials and the like.

피치 변환용 기판(23)은, 예를 들면 다음과 같이 해서 제조할 수 있다. 우선, 평판 모양의 절연 기판의 양면에 금속박 층을 적층한 적층 재료를 준비하고, 이 적층 재료에 대해서, 형성해야 할 단자 전극에 대응하는 패턴에 대응해서 적층 재료의 두께 방향으로 관통하는 복수의 관통구멍을 수치제어형 드릴링 장치, 포토 에칭 처리, 레이저 가공 처리 등에 의해 형성한다. The pitch conversion substrate 23 can be manufactured as follows, for example. First, a laminated material in which a metal foil layer is laminated on both surfaces of a flat insulating substrate is prepared, and a plurality of penetrations penetrating in the thickness direction of the laminated material corresponding to the pattern corresponding to the terminal electrode to be formed for this laminated material. The hole is formed by a numerically controlled drilling device, a photo etching process, a laser processing process or the like.

이어서, 적층 재료에 형성된 관통구멍 내에 무전해 도금 및 전해 도금을 함으로써 기판 양면의 금속박 층에 연결된 바이어 홀을 형성한다. 그 후, 금속박 층에 대해서 포토 에칭 처리를 함으로써 절연 기판의 표면에 배선 패턴 및 접속 전극을 형성함과 함께 반대측의 표면에 단자 전극을 형성한다. Subsequently, the via holes connected to the metal foil layers on both sides of the substrate are formed by electroless plating and electrolytic plating in the through holes formed in the laminated material. Thereafter, the photo-etching process is performed on the metal foil layer to form a wiring pattern and a connecting electrode on the surface of the insulated substrate, and to form a terminal electrode on the surface on the opposite side.

그리고 도 7에 나타낸 것처럼, 절연 기판(51)의 표면에 각각의 접속 전극(25)이 노출되도록 절연층(54)을 형성함과 함께, 반대측의 표면에 각각의 단자 전극(24)이 노출되도록 절연층(55)을 형성함으로써, 피치 변환용 기판(23)을 얻을 수 있다. 또한, 절연층(55)의 두께는, 바람직하게는 5 내지 100㎛, 보다 바람직하게는 10 내지 60㎛이다. As shown in FIG. 7, the insulating layer 54 is formed to expose each connection electrode 25 on the surface of the insulating substrate 51, and the respective terminal electrodes 24 are exposed on the surface on the opposite side. By forming the insulating layer 55, the substrate 23 for pitch conversion can be obtained. Moreover, the thickness of the insulating layer 55 becomes like this. Preferably it is 5-100 micrometers, More preferably, it is 10-60 micrometers.

(1-b) 제1의 이방 도전성 시트 (1-b) First Anisotropic Conductive Sheet

회로 기판측 커넥터(21)를 구성하고, 피치 변환용 회로 기판(23)과 적층되는 제1의 이방 도전성 시트(22)는 도 5에 나타낸 것처럼, 절연성의 탄성 고분자로 이루어지는 시트기재(61) 중에 다수의 도전성 입자(62)가 면 방향으로 분산됨과 함께 두께 방향으로 배열한 상태로 함유되어 있다. As shown in FIG. 5, the first anisotropic conductive sheet 22 constituting the circuit board side connector 21 and laminated with the circuit board 23 for pitch conversion is included in the sheet base 61 made of an insulating elastic polymer. Many electroconductive particle 62 is disperse | distributed to surface direction, and is contained in the state arrange | positioned in the thickness direction.

제1의 이방 도전성 시트(22)의 두께는, 바람직하게는 0.03 내지 0.5㎜, 보다 바람직하게는 0.05 내지 0.2㎜이다. 또한, 도 8에 나타낸 것처럼 제1의 이방 도전성 시트(22)의 표면(63)을 조면으로 하고 있는 경우에는, 「제1의 이방 도전성 시 트(22)의 두께」란 조면으로 된 표면(63)의 오목부로부터 이면(64)(평탄면)까지의 두께(최소 두께)이다. The thickness of the first anisotropic conductive sheet 22 is preferably 0.03 to 0.5 mm, more preferably 0.05 to 0.2 mm. In addition, as shown in FIG. 8, when the surface 63 of the 1st anisotropically conductive sheet 22 is made into a rough surface, "the thickness of the 1st anisotropically conductive sheet 22" is a rough surface 63 It is the thickness (minimum thickness) from the recessed part of () to the back surface 64 (flat surface).

제1의 이방 도전성 시트(22)의 두께가 0.03㎜ 미만인 경우에는, 제1의 이방 도전성 시트(22)의 기계적 강도가 낮아지기 쉽고, 필요한 내구성을 얻을 수 없는 경우가 있다. 한편, 이 제1의 이방 도전성 시트(22)의 두께가 0.5㎜를 넘는 경우에는 두께 방향의 전기 저항이 커지기 쉽고, 또 접속해야 할 전극의 피치가 작은 경우에는, 가압에 의해 형성되는 각각의 도전로 간에 있어서 필요한 절연성을 얻지 못하고 피검사 전극 간에 전기적인 합선이 생겨 피검사 회로 기판의 전기적 검사가 곤란해지는 경우가 있다. When the thickness of the first anisotropically conductive sheet 22 is less than 0.03 mm, the mechanical strength of the first anisotropically conductive sheet 22 tends to be low, and required durability may not be obtained. On the other hand, when the thickness of the first anisotropic conductive sheet 22 is more than 0.5 mm, the electrical resistance in the thickness direction tends to be large, and when the pitch of the electrode to be connected is small, each conductive formed by pressurization. In some cases, electrical insulation between the electrodes to be inspected may be difficult because electrical insulation between the electrodes to be inspected may not be obtained in the furnace.

제1의 이방 도전성 시트(22)의 시트기재(61)를 구성하는 탄성 고분자 물질은 그 듀로미터 경도가 바람직하게는 30 내지 90이며, 보다 바람직하게는 35 내지 80, 더욱 바람직하게는 40 내지 70이다. The durometer hardness of the elastic polymer material constituting the sheet base 61 of the first anisotropic conductive sheet 22 is preferably 30 to 90, more preferably 35 to 80, still more preferably 40 to 70 to be.

본 명세서에 있어서, 「듀로미터 경도」이란 JIS K6253의 듀로미터 경도 시험에 근거해서 타입 A 듀로미터에 의해 측정된 것을 말한다. 탄성 고분자 물질의 듀로미터 경도가 30 미만인 경우에는 두께 방향으로 압압되었을 때, 이방 도전성 시트의 압축, 변형이 크고 큰 영구 일그러짐이 생기기 때문에 이방 도전성 시트가 조기에 열화되어 검사 사용이 곤란해져 내구성이 낮아지기 쉽다. In this specification, "durometer hardness" means the thing measured by the type A durometer based on the durometer hardness test of JISK6253. When the durometer hardness of the elastic polymer material is less than 30, when the pressure is pressed in the thickness direction, the anisotropic conductive sheet is largely compressed and deformed, and a large permanent distortion occurs. easy.

한편, 탄성 고분자 물질의 듀로미터 경도가 90을 넘는 경우에는, 이방 도전성 시트가 두께 방향으로 압압되었을 때, 두께 방향의 변형량이 불충분해지기 때문에 양호한 접속 신뢰성을 얻지 못하고 접속 불량이 발생하기 쉬워진다. On the other hand, when the durometer hardness of the elastic polymer material is more than 90, when the anisotropic conductive sheet is pressed in the thickness direction, the deformation amount in the thickness direction is insufficient, so that good connection reliability is not obtained and connection failure is likely to occur.

제1의 이방 도전성 시트(22)의 도전성 입자(62)에는 통상은 자성 도전성 입자가 사용된다. 자성 도전성 입자의 수 평균 입자 지름 D1은 바람직하게는 3 내지 50㎛, 보다 바람직하게는 5 내지 30㎛, 더욱 바람직하게는 8 내지 20㎛이다. Magnetic conductive particles are usually used for the conductive particles 62 of the first anisotropic conductive sheet 22. The number average particle diameter D 1 of the magnetic conductive particles is preferably 3 to 50 µm, more preferably 5 to 30 µm, still more preferably 8 to 20 µm.

본 명세서에 있어서, 「자성 도전성 입자의 수 평균 입자 지름」이란 레이저 회절 산란법에 따라 측정된 것을 말한다. In this specification, "the number average particle diameter of magnetic electroconductive particle" means the thing measured by the laser diffraction scattering method.

자성 도전성 입자의 수 평균 입자 지름 D1이 3㎛ 이상인 것에 의해 얻어지는 이방 도전성 시트에 있어서의 자성 도전성 입자가 함유되어 있는 부분의 가압 변형이 용이해지고, 또 그 제조 공정에 있어서 자장 배향 처리에 의해 자성 도전성 입자를 배향시키는 경우, 자성 도전성 입자의 배향이 용이하게 되기 쉽고, 그 때문에 얻어지는 이방 도전성 시트가 이방성의 높은 것으로 되어, 이방 도전성 시트의 분해능(이방 도전성 시트를 가압하여 두께 방향으로 대향하는 전극 간의 전기적 도통을 달성하면서 가로 방향에 인접하는 전극 간의 전기적 절연을 유지하는 능력)이 양호한 것으로 된다. Pressurized deformation of the portion containing the magnetic conductive particles in the anisotropic conductive sheet obtained when the number average particle diameter D 1 of the magnetic conductive particles is 3 µm or more is facilitated, and the magnetic field orientation treatment in the manufacturing process makes the magnetic When oriented electroconductive particle, the orientation of a magnetic electroconductive particle becomes easy, and the anisotropic conductive sheet obtained becomes high in anisotropy, and the resolution of an anisotropic conductive sheet (presses an anisotropic conductive sheet and opposes in thickness direction between them) The ability to maintain electrical insulation between electrodes adjacent to the transverse direction while achieving electrical conduction).

한편, 자성 도전성 입자의 수 평균 입자 지름 D1이 50㎛ 이하인 것에 의해, 얻어지는 이방 도전성 시트가 그 탄성이 양호하고 가압 변형이 용이한 것으로 되어 미세하고 미소 피치의 전극에 대해서도 분해능이 양호한 것으로 된다. On the other hand, when the number average particle diameter D 1 of magnetic electroconductive particle is 50 micrometers or less, the obtained anisotropic conductive sheet will become favorable in elasticity and easy deformation | transformation, and will be good also about the fine and fine pitch electrode.

제1의 이방 도전성 시트(22)에 있어서의 두께 W1(㎛)와 자성 도전성 입자의 수 평균 입자 지름 D1(㎛)의 비율 W1/D1은 1.1 내지 10인 것이 바람직하다. Ratio W 1 / D 1 of the thickness W 1 of the anisotropically conductive sheet 22 of 1 (㎛) to the number of the magnetic conductive particles, the mean particle size D 1 (㎛) is preferably from 1.1 to 10.

비율 W1/D1이 1.1 미만인 경우에는, 자성 도전성 입자의 지름이 이방 도전성시트의 두께와 동등하거나 혹은 그것보다 커지기 때문에, 이방 도전성 시트의 탄성이 낮아지고, 그 때문에 프린트 배선 기판 등의 피검사 회로 기판(1)의 피검사 전극에 접촉해서 이방 도전성 시트를 배치하고 가압을 행하여 접촉 도통 상태를 달성할 때, 피검사 회로 기판(1)이 상처나기 쉬워진다. When the ratio W 1 / D 1 is less than 1.1, since the diameter of the magnetic conductive particles is equal to or larger than the thickness of the anisotropic conductive sheet, the elasticity of the anisotropic conductive sheet is lowered, and thus the inspection of the printed wiring board and the like. When the anisotropic conductive sheet is placed in contact with the inspected electrode of the circuit board 1 and pressurized to achieve a contact conduction state, the inspected circuit board 1 tends to be damaged.

한편, 비율 W1/D1이 10을 넘는 경우에는, 프린트 배선 기판 등의 피검사 회로기 11판 1의 피검사 전극에 접촉해서 이방 도전성 시트를 배치하고 가압을 행하여 접촉 도통 상태를 달성할 때, 피검사 회로 기판(1)과 피치 변환용 기판(23)의 사이에 다수의 도전성 입자가 배열하여 연쇄를 형성하게 된다. 그 때문에, 도전성 입자끼리의 접점이 다수 존재하여 전기적 저항값이 높아지기 쉽고 전기적 검사 때문에 사용하는 것이 곤란해지기 쉽다. On the other hand, when the ratio W 1 / D 1 exceeds 10, when the anisotropic conductive sheet is placed in contact with the inspected electrode of the inspected circuit board 11 plate 1 such as a printed wiring board and pressurized to achieve a contact conduction state. A large number of conductive particles are arranged between the circuit board 1 to be tested and the substrate 23 for pitch conversion to form a chain. Therefore, many contacts of electroconductive particle exist, electrical resistance value becomes high easily, and it becomes easy to use for electrical inspection.

본 발명에 있어서의 바람직한 한 종류에서는, 도 8(a), 도 8(b)에 나타낸 것처럼, 이방 도전성 시트(22)에 있어서의 피검사 회로 기판(1)과 접촉하는 측의 표면(63)이 요철을 가지는 조면으로 되어 있다. 한편, 그 피치 변환용 기판(23)과 접촉하는 측의 이면(64)은 평탄면으로 되어 있다. 또한, 도전성 입자(62)에 의한 연쇄는 이방 도전성 시트(22)의 표면(63) 측에 있어서의 조면의 볼록부 및 오목부의 위치와 무관하게 시트(22)의 면 방향으로 분산된 상태로 형성되어 있다. According to one preferred type in the present invention, as shown in Figs. 8A and 8B, the surface 63 on the side contacting the circuit board 1 to be inspected in the anisotropic conductive sheet 22 is shown. It is rough surface with this unevenness. On the other hand, the back surface 64 on the side in contact with the substrate 23 for pitch conversion is a flat surface. In addition, the chain by electroconductive particle 62 is formed in the state disperse | distributed to the surface direction of the sheet | seat 22 irrespective of the position of the convex part and the recessed part of the rough surface in the surface 63 side of the anisotropically conductive sheet 22. It is.

피검사 회로 기판(1)과 접촉하는 측의 표면(63)(조면)에 있어서의 표면 거칠기는, 바람직하게는 0.5 내지 5㎛, 보다 바람직하게는 1 내지 2㎛이다. 또한, 본 명세서에 있어서 「표면 거칠기」란, JIS B0601에 의한 중심선 거칠기(Ra)를 말한다. 이 표면 거칠기가 과소한 경우, 이 면에 있어서의 점착성을 충분히 억제하는 것이 곤란해지고, 검사시에 피검사 회로 기판(1)에 끌려가 이방 도전성 시트(22)의 위치가 어긋나거나 이방 도전성 시트(22)가 피검사 회로 기판(1)에 붙어 피치 변환용 기판(23)으로부터 이탈하는 경우가 있다. 한편, 표면 거칠기가 과대한 경우, 피검사 회로 기판(1)에 대해서 안정된 전기적 접속을 행하는 것이 곤란해진다. The surface roughness on the surface 63 (rough surface) on the side in contact with the circuit board 1 to be inspected is preferably 0.5 to 5 µm, more preferably 1 to 2 µm. In addition, in this specification, "surface roughness" means centerline roughness Ra by JIS B0601. When this surface roughness is too small, it becomes difficult to fully suppress the adhesiveness in this surface, it is attracted to the circuit board 1 under test at the time of inspection, and the position of the anisotropic conductive sheet 22 shifts | deviates, or an anisotropic conductive sheet ( 22 may be attached to the circuit board 1 to be inspected and separated from the substrate 23 for pitch conversion. On the other hand, when surface roughness is excessive, it becomes difficult to make stable electrical connection with the circuit board 1 under test.

피치 변환용 기판(23)과 접촉하는 측의 이면(64)에 있어서의 표면 거칠기는, 바람직하게는 0.3㎛ 이하, 보다 바람직하게는 0.005 내지 0.2㎛, 더욱 바람직하게는 0.01 내지 0.1㎛이다. 또, 피치 변환용 기판(23)의 이방 도전성 시트(22)에 접하는 쪽의 표면에 있어서의 절연부(54)(도 3, 도 7)의 표면 거칠기는 바람직하게는 0.2㎛ 이하, 보다 바람직하게는 0.001 내지 0.1㎛, 더욱 바람직하게는 0.01 내지 0.03㎛이다. 이들 면에 있어서의 표면 거칠기가 과대한 경우, 이방 도전성 시트(22)와 피치 변환용 기판(23)의 밀착성이 불충분해지기 때문에, 전기 검사시에 있어서 피치 변환용 기판(23)으로부터의 이방 도전성 시트(22)의 이탈을 방지하는 것이 곤란해진다. The surface roughness on the back surface 64 on the side in contact with the substrate 23 for pitch conversion is preferably 0.3 µm or less, more preferably 0.005 to 0.2 µm, still more preferably 0.01 to 0.1 µm. In addition, the surface roughness of the insulating portion 54 (FIGS. 3 and 7) on the surface of the substrate 23 for pitch conversion that is in contact with the anisotropic conductive sheet 22 is preferably 0.2 μm or less, more preferably. Is 0.001 to 0.1 µm, more preferably 0.01 to 0.03 µm. When the surface roughness in these surfaces is excessive, since the adhesiveness of the anisotropically conductive sheet 22 and the pitch conversion board | substrate 23 becomes inadequate, the anisotropic electroconductivity from the pitch conversion board | substrate 23 at the time of an electrical inspection is performed. It becomes difficult to prevent separation of the sheet 22.

제1의 이방 도전성 시트(22)의 기재를 구성하는 탄성 고분자 물질로서는 상기의 듀로미터 경도의 범위 내인 것이면 특별히 한정되지 않지만, 성형 가공성 및 전기 특성의 점에서 실리콘 고무를 이용하는 것이 바람직하다. Although it will not specifically limit, if it exists in the range of the said durometer hardness as an elastic polymer material which comprises the base material of the 1st anisotropically conductive sheet 22, It is preferable to use a silicone rubber from a viewpoint of molding processability and an electrical property.

이 외, 제1의 이방 도전성 시트(22)의 기재를 구성하는 탄성 고분자 물질을 얻기 위해서 바람직하게 사용되는 경화성의 고분자 재료로서는, 예를 들면 폴리부 타디엔 고무, 천연 고무, 폴리이소프렌 고무, 스티렌-부타디엔 공중합체 고무, 아크릴로니트릴-부타디엔 공중합체 고무 등의 공역 디엔계 고무 및 이들의 수소 첨가물, 스티렌-부타디엔-디엔 블록 공중합체 고무, 스티렌-이소프렌 블록 공중합체 등의 블록 공중합체 고무 및 이들의 수소 첨가물, 클로로프렌 고무, 우레탄 고무, 폴리에스테르계 고무, 에피클로르히드린 고무, 실리콘 고무, 에틸렌-프로필렌 공중합체 고무, 에틸렌-프로필렌-디엔 공중합체 고무 등을 들 수 있다. In addition, as a curable high molecular material used preferably in order to obtain the elastic polymer material which comprises the base material of the 1st anisotropically conductive sheet 22, polybutadiene rubber, a natural rubber, a polyisoprene rubber, styrene, for example Conjugated diene rubbers such as butadiene copolymer rubber, acrylonitrile-butadiene copolymer rubber, hydrogenated products thereof, block copolymer rubbers such as styrene-butadiene-diene block copolymer rubber, styrene-isoprene block copolymer, and these Hydrogenated substance, chloroprene rubber, urethane rubber, polyester rubber, epichlorohydrin rubber, silicone rubber, ethylene-propylene copolymer rubber, ethylene-propylene-diene copolymer rubber, and the like.

이방 도전성 시트에 내후성이 요구되는 경우에는, 공역 디엔계 고무 이외의 것을 이용하는 것이 바람직하고, 상기한 것처럼 성형 가공성 및 전기 특성의 점에서 실리콘 고무를 이용하는 것이 바람직하다. 실리콘 고무로서는, 액상 실리콘 고무를 가교 또는 축합한 것이 바람직하다. 액상 실리콘 고무는, 그 점도가 왜속도 10-1sec로 105포아즈 이하인 것이 바람직하고, 축합형의 것, 부가형의 것, 비닐기나 히드록실기를 함유하는 것 등 중 어느 것이어도 된다. 구체적으로는, 예를 들면 디메틸실리콘 생고무, 메틸비닐실리콘 생고무, 메틸페닐비닐실리콘 생고무 등을 들 수 있다. When weather resistance is required for an anisotropic conductive sheet, it is preferable to use things other than conjugated diene rubber, and it is preferable to use a silicone rubber from a viewpoint of molding processability and electrical characteristics as mentioned above. As silicone rubber, what crosslinked or condensed a liquid silicone rubber is preferable. The liquid silicone rubber preferably has a viscosity of 10 5 poise or less at a distortion velocity of 10 −1 sec, and may be any of a condensation type, an addition type, and a vinyl group or hydroxyl group. Specifically, dimethyl silicone raw rubber, methyl vinyl silicone raw rubber, methylphenyl vinyl silicone raw rubber, etc. are mentioned, for example.

이들 중에서, 비닐기를 함유하는 액상 실리콘 고무(비닐기 함유 폴리디메틸실록산)는, 예를 들면 디메틸디클로로실란 또는 디메틸디알콕시실란을 디메틸비닐클로로실란 또는 디메틸비닐알콕시실란의 존재 하에서 가수분해 및 축합 반응시키고, 그 후, 용해-침전의 반복에 의한 분별을 행함으로써 얻을 수 있다. Among them, the liquid silicone rubber (vinyl group-containing polydimethylsiloxane) containing a vinyl group is subjected to hydrolysis and condensation reaction of, for example, dimethyldichlorosilane or dimethyldiakoxysilane in the presence of dimethylvinylchlorosilane or dimethylvinylalkoxysilane. Then, it can obtain by performing fractionation by repetition of dissolution-precipitation.

비닐기를 양 말단에 함유하는 액상 실리콘 고무는 옥타메틸시클로테트라실록 산과 같은 환상 실록산을 촉매의 존재하에서 음이온 중합하고 중합 정지제로서, 예를 들면 디메틸디비닐실록산을 이용하고, 그 외의 반응 조건(예를 들면, 환상 실록산의 양 및 중합 정지제의 양)을 적당히 조절함으로써 얻을 수 있다. 여기서, 음이온 중합의 촉매로서는 수산화 테트라메틸암모늄 및 수산화 n-부틸포스포늄 등의 알칼리 또는 이들 실라노레이트 용액 등을 이용할 수 있고, 반응 온도는, 예를 들면 80 내지 130℃이다. Liquid silicone rubbers containing vinyl groups at both ends are subjected to anionic polymerization of cyclic siloxanes such as octamethylcyclotetrasiloxane in the presence of a catalyst and use, for example, dimethyldivinylsiloxane as the polymerization terminator, and other reaction conditions (e.g., For example, the amount of the cyclic siloxane and the amount of the polymerization terminator) can be obtained by appropriately adjusting. Here, as a catalyst of anionic polymerization, alkali, such as tetramethylammonium hydroxide and n-butylphosphonium hydroxide, these silanorate solutions, etc. can be used, and reaction temperature is 80-130 degreeC, for example.

히드록실기를 함유하는 액상 실리콘 고무(히드록실기 함유 폴리디메틸실록산)는, 예를 들면 디메틸디클로로실란 또는 디메틸디알콕시실란을 디메틸히드로클로로실란 또는 디메틸히드로알콕시실란의 존재하에서 가수분해 및 축합 반응시키고, 그 후, 용해-침전의 반복에 의한 분별을 행함으로써 얻을 수 있다. 또, 환상 실록산을 촉매의 존재하에서 음이온 중합하고, 중합 정지제로서, 예를 들면 디메틸히드로클로로실란, 메틸디히드로클로로실란 또는 디메틸히드로알콕시실란 등을 이용하고, 그 외의 반응 조건(예를 들면, 환상 실록산의 양 및 중합 정지제의 양)을 적당히 조절하는 것에 의해서도 얻을 수 있다. 여기서, 음이온 중합의 촉매로서는 수산화 테트라메틸암모늄 및 수산화 n-부틸포스포늄 등의 알칼리 또는 이들 실라노레이트 용액 등을 이용할 수 있고 반응 온도는, 예를 들면 80 내지 130℃이다. Liquid silicone rubbers containing hydroxyl groups (hydroxyl group-containing polydimethylsiloxanes) are, for example, hydrolyzed and condensation reactions of dimethyldichlorosilane or dimethyldiakoxysilane in the presence of dimethylhydrochlorosilane or dimethylhydroalkoxysilane Then, it can obtain by performing fractionation by repetition of dissolution-precipitation. The cyclic siloxane is anionic polymerized in the presence of a catalyst, and other reaction conditions (for example, dimethylhydrochlorosilane, methyldihydrochlorosilane or dimethylhydroalkoxysilane) are used as the polymerization terminator. It can also be obtained by adjusting the amount of the cyclic siloxane and the amount of the polymerization terminator) appropriately. Here, as a catalyst of anionic polymerization, alkali, such as tetramethylammonium hydroxide and n-butylphosphonium hydroxide, these silanorate solutions, etc. can be used, and reaction temperature is 80-130 degreeC, for example.

액상 실리콘 고무로서는 그 경화물의 150℃에 있어서의 압축 영구 일그러짐이 35% 이하인 것을 이용하는 것이 이방 도전성 시트의 두께 방향으로 반복해서 압축시켰을 때의 내구성이 양호해지는 점에서 바람직하고, 이 압축 영구 일그러짐은, 보다 바람직하게는 20% 이하이다. As liquid silicone rubber, it is preferable to use 35% or less of compression permanent distortion at 150 degreeC of the hardened | cured material from the point which the durability at the time of repeated compression in the thickness direction of an anisotropic conductive sheet becomes favorable, and this compression permanent distortion is, More preferably, it is 20% or less.

또, 그 경화물의 23℃에 있어서의 파열 강도가 7kN/m 이상의 액상 실리콘 고무를 이용하는 것이 이방 도전성 시트의 두께 방향으로 반복해서 압축시켰을 때의 내구성이 양호해지는 점에서 바람직하고, 이 파열 강도는, 보다 바람직하게는 10kN/m 이상이다. Moreover, it is preferable at the point that durability at the time of repeated compression in the thickness direction of an anisotropically conductive sheet uses the liquid silicone rubber whose bursting strength in 23 degreeC of the hardened | cured material is 7 kN / m or more, This bursting strength is preferable, More preferably, it is 10 kN / m or more.

여기서, 액상 실리콘 고무 경화물의 압축 영구 일그러짐 및 파열 강도는 JIS K 6249에 준거한 방법에 따라 측정할 수 있다. Here, the compression set and the breaking strength of the liquid silicone rubber cured product can be measured according to the method according to JIS K6249.

이방 도전성 시트(22)의 기재로서 실리콘 고무를 사용하는 경우, 그 분자량 Mw(표준 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량을 말함)는, 10000 내지 40000인 것이 바람직하다. 또, 내열성의 점에서 분자량 분포 지수(표준 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량 Mw와 표준 폴리스티렌 환산 수 평균 분자량 Mn의 비 Mw/Mn의 값을 말함)가 2 이하인 것이 바람직하다. When using a silicone rubber as a base material of the anisotropic conductive sheet 22, it is preferable that the molecular weight Mw (referring to the weight average molecular weight in conversion of standard polystyrene) is 10000-400000. Moreover, it is preferable that molecular weight distribution index (refers to the value of ratio Mw / Mn of standard polystyrene conversion weight average molecular weight Mw and standard polystyrene conversion number average molecular weight Mn) from a heat resistant point is 2 or less.

이방 도전성 시트(22)의 기재로 되는 탄성 고분자 물질을 얻기 위한 고분자 재료 중에는, 이것을 경화시키기 위한 경화 촉매를 함유시킬 수 있다. 이러한 경화 촉매로서는, 예를 들면 유기 과산화물, 지방산 아조 화합물, 히드로실릴화 촉매 등을 들 수 있다. In the high molecular material for obtaining the elastic high molecular material used as the base material of the anisotropically conductive sheet | seat 22, the hardening catalyst for hardening this can be contained. As such a curing catalyst, an organic peroxide, a fatty acid azo compound, a hydrosilylation catalyst, etc. are mentioned, for example.

경화 촉매로서 이용되는 유기 과산화물로서는, 예를 들면 과산화 벤조일, 과산화 비스디시클로벤조일, 과산화 디쿠밀, 과산화 디터셔리부틸 등을 들 수 있다. As an organic peroxide used as a hardening catalyst, benzoyl peroxide, bisdicyclobenzoyl peroxide, dicumyl peroxide, dibutyl butyl peroxide etc. are mentioned, for example.

경화 촉매로서 이용되는 지방산 아조 화합물로서는, 예를 들면 아조비스이소부틸로니트릴 등을 들 수 있다. As a fatty acid azo compound used as a hardening catalyst, azobisisobutylonitrile etc. are mentioned, for example.

히드로실릴화 반응의 촉매로서 사용 가능한 촉매로서는, 예를 들면 염화 백 금산 및 그의 염, 백금-불포화기 함유 실록산 콤플렉스, 비닐실록산과 백금의 콤플렉스, 백금과 1,3-디비닐테트라메틸디실록산의 콤플렉스, 트리오르가노포스핀 혹은 호스파이트와 백금의 콤플렉스, 아세틸아세테이트 백금 킬레이트, 환상 디엔과 백금의 콤플렉스 등을 들 수 있다. As a catalyst which can be used as a catalyst of a hydrosilylation reaction, For example, a chloroplatinic acid and its salt, a platinum- unsaturated group containing siloxane complex, a complex of vinylsiloxane and platinum, of platinum and 1, 3- divinyl tetramethyldisiloxane Complexes, triorganophosphines or complexes of hoseites and platinum, acetylacetate platinum chelates, complexes of cyclic dienes and platinum, and the like.

경화 촉매의 사용량은 이것을 첨가하는 고분자 재료의 종류, 경화 촉매의 종류, 그 외의 경화 처리 조건을 고려해서 적당히 선택되는데, 통상, 고분자 재료 100 중량부에 대해서 3 내지 15 중량부이다. The amount of the curing catalyst used is appropriately selected in consideration of the kind of the polymer material to which it is added, the kind of the curing catalyst, and other curing treatment conditions, and is usually 3 to 15 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymer material.

이방 도전성 시트(22)의 기재로 되는 탄성 고분자 물질을 얻기 위한 고분자 재료 중에는, 필요에 따라서 통상의 실리카 가루, 콜로이달실리카, 에어로겔실리카, 알루미나 등의 무기 충전재를 함유시킬 수 있다. 이러한 무기 충전재를 함유시킴으로써, 이방 도전성 시트(22)를 얻기 위한 고분자 재료(성형용 재료)의 칙소트로피성이 확보되고 그 점도가 높아진다. 또한, 도전성 입자의 분산 안정성이 향상됨과 함께, 얻어지는 이방 도전성 시트의 강도가 높아진다. In the polymeric material for obtaining the elastic polymer material used as the base material of the anisotropic conductive sheet 22, inorganic fillers, such as normal silica powder, colloidal silica, aerogel silica, and alumina, can be contained as needed. By containing such an inorganic filler, thixotropy of the high molecular material (molding material) for obtaining the anisotropic conductive sheet 22 is ensured, and the viscosity becomes high. Moreover, while the dispersion stability of electroconductive particle improves, the intensity | strength of the obtained anisotropic conductive sheet becomes high.

이러한 무기 충전재의 사용량은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 다량으로 사용하면 자장에 의해 도전성 입자를 충분히 배향시킬 수 없게 되기 때문에 바람직하지 않다. Although the usage-amount of such an inorganic filler is not specifically limited, It is unpreferable since it will not be enough to orientate electroconductive particle by a magnetic field when used in large quantities.

또, 시트 성형용 재료의 점도는, 온도 25℃에 있어서 100000 내지 1000000cp의 범위 내인 것이 바람직하다. Moreover, it is preferable that the viscosity of the sheet molding material exists in the range of 100000-1000000cp in temperature 25 degreeC.

이방 도전성 시트(22)의 기재중에 함유되는 도전성 입자로서는, 자장을 작용시킴으로써 용이하게 시트의 두께 방향으로 늘어서도록 배향시킬 수 있는 점에서 통상은 자성을 나타내는 도전성 입자가 이용된다. 자성 도전성 입자로서는 후술 하는 제조 방법에 의해 이방 도전성 시트를 형성하기 위한 시트 성형용 재료 중에 있어서, 해당 자성 도전성 입자를 자장의 작용에 의해 용이하게 이동시킬 수 있는 점에서, 그 포화 자화가 0.1Wb/㎡ 이상의 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.3Wb/㎡ 이상, 특히 바람직하게는 0.5Wb/㎡ 이상의 것이다. As electroconductive particle contained in the base material of the anisotropically conductive sheet | seat 22, electroconductive particle which shows a magnetism is normally used at the point which can be orientated so that it may be easily lined up in the thickness direction of a sheet | seat by acting a magnetic field. As the magnetic conductive particles, in the sheet forming material for forming the anisotropic conductive sheet by the manufacturing method described later, the magnetically conductive particles can be easily moved by the action of the magnetic field, so that the saturation magnetization is 0.1 Wb /. It is preferable that it is 2 m <2> or more, More preferably, it is 0.3 Wb / m <2> or more, Especially preferably, it is 0.5 Wb / m <2> or more.

포화 자화가 0.1Wb/㎡ 이상인 것에 의해, 그 제조 공정에 있어서 자성 도전성 입자를 자장의 작용에 의해 확실히 이동시켜 원하는 배향 상태로 할 수 있기 때문에, 이방 도전성 시트를 사용할 때에 자성 도전성 입자의 연쇄를 형성할 수 있다. Since the saturation magnetization is 0.1 Wb / m 2 or more, the magnetic conductive particles can be reliably moved by the action of the magnetic field in the manufacturing process so that the desired orientation can be achieved. Therefore, when the anisotropic conductive sheet is used, a chain of the magnetic conductive particles is formed. can do.

자성 도전성 입자의 구체적인 예로서는, 철, 니켈, 코발트 등의 자성을 나타내는 금속의 입자 혹은 이들 합금의 입자 또는 이들 금속을 함유하는 입자, 또는 이들 입자를 심 입자로 하고, 해당 심 입자의 표면에 고도전성 금속을 피복한 복합 입자, 혹은 비자성 금속 입자 혹은 그라스 비드 등의 무기물질입자 또는 폴리머 입자를 심 입자로 하고, 해당 심 입자의 표면에 고도전성 금속의 도금을 한 복합 입자, 혹은 심 입자에, 펠라이트, 금속 간 화합물 등의 도전성 자성체 및 고도전성 금속의 양쪽 모두를 피복한 복합 입자 등을 들 수 있다. Specific examples of the magnetic conductive particles include particles of metals showing magnetic properties such as iron, nickel, and cobalt, particles of these alloys, particles containing these metals, or these particles as core particles, and highly conductive on the surface of the core particles. Composite particles coated with metal, inorganic particles or polymer particles such as non-magnetic metal particles or glass beads as core particles, and composite particles or core particles coated with a highly conductive metal on the surface of the core particles, The composite particle which coat | covered both conductive magnetic bodies, such as a ferrite and an intermetallic compound, and highly conductive metal, etc. are mentioned.

여기서, 「고도전성 금속」이란, 0℃에 있어서의 도전율이 5×106Ω-1m-1 이상의 금속을 말한다. Here, "highly conductive metal" means a metal having a conductivity at 0 ° C of 5 × 10 6 Ω −1 m −1 or more.

이러한 고도전성 금속으로서는, 구체적으로, 금, 은, 로듐, 백금, 크롬 등을 이용할 수 있고, 이들 중에서는, 화학적으로 안정되면서도 높은 도전율을 가지는 점에서 금을 이용하는 것이 바람직하다. As such a highly conductive metal, specifically, gold, silver, rhodium, platinum, chromium, etc. can be used, and among these, it is preferable to use gold from the point which is chemically stable and has high electrical conductivity.

상기한 자성 도전성 입자 중에서는 니켈 입자를 심 입자로 하고 그 표면에 금이나 은 등의 고도전성 금속의 도금을 한 복합 입자 등이 바람직하게 이용된다. Among the magnetic conductive particles described above, composite particles in which nickel particles are used as core particles and plated with a highly conductive metal such as gold or silver are preferably used.

심 입자의 표면에 고도전성 금속을 피복하는 수단으로서는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면 무전해 도금법을 이용할 수 있다. The means for coating the highly conductive metal on the surface of the core particle is not particularly limited, but for example, an electroless plating method can be used.

자성 도전성 입자는 그 수 평균 입자 지름의 변동 계수가 50% 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 40% 이하, 더욱 바람직하게는 30% 이하, 특히 바람직하게는 20% 이하의 것이다. It is preferable that the coefficient of variation of the number average particle diameter of a magnetic electroconductive particle is 50% or less, More preferably, it is 40% or less, More preferably, it is 30% or less, Especially preferably, it is 20% or less.

여기서, 「수 평균 입자 지름의 변동 계수」란, 식: (σ/Dn)×100(단, σ는 입자 지름의 표준 편차의 값을 나타내고, Dn은 입자의 수 평균 입자 지름을 나타냄)에 의해 구할 수 있는 것이다. Here, the "coefficient of variation of the number average particle diameter" is represented by the formula: (σ / Dn) × 100 (where σ represents the value of the standard deviation of the particle diameter, and Dn represents the number average particle diameter of the particles). You can get it.

자성 도전성 입자의 수 평균 입자 지름의 변동 계수가 50% 이하인 것에 의해 입자 지름의 고르지 않은 정도가 작아지기 때문에, 얻어지는 이방 도전성 시트에 있어서의 부분적인 도전성의 편차를 작게 할 수 있다. Since the uneven degree of particle diameter becomes small because the coefficient of variation of the number average particle diameter of magnetic electroconductive particle is 50% or less, the variation of the partial electroconductivity in the obtained anisotropic conductive sheet can be made small.

이러한 자성 도전성 입자는 금속재료를 상법에 의해 입자화하거나, 혹은 시판되는 금속 입자를 준비하고, 이 입자에 대해서 분급 처리를 행함으로써 얻을 수 있다. Such magnetic conductive particles can be obtained by granulating a metal material by a conventional method, or preparing commercially available metal particles, and performing classification treatment on these particles.

입자의 분급 처리는, 예를 들면 공기 분급 장치, 음파 체 장치 등의 분급 장치에 의해 행할 수 있다. The classification treatment of the particles can be performed by a classification device such as an air classification device or a sound wave device.

또, 분급 처리의 구체적인 조건은, 목적으로 하는 도전성 금속 입자의 수 평균 입자 지름, 분급 장치의 종류 등에 따라 적당히 설정된다. Moreover, the specific conditions of a classification process are suitably set according to the number average particle diameter of the target electroconductive metal particle, the kind of classification apparatus, etc.

자성 도전성 입자로서 심 입자의 표면에 고도전성 금속을 피복한 것을 이용하는 경우에는, 양호한 도전성을 얻을 수 있는 점에서 입자 표면에 있어서의 고도전성 금속의 피복율(심 입자의 표면적에 대한 도전성 금속의 피복 면적의 비율)이 40%이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 45% 이상, 더욱 바람직하게는 47 내지 95%이다. In the case where a highly conductive metal is coated on the surface of the core particles as magnetic conductive particles, good conductivity can be obtained, so that the coverage of the highly conductive metal on the surface of the particles (coating of the conductive metal to the surface area of the core particles) is obtained. It is preferable that the ratio of area) is 40% or more, More preferably, it is 45% or more, More preferably, it is 47 to 95%.

고도전성 금속의 피복량은, 심 입자에 대해서 0.5 내지 50중량%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1 내지 30중량%, 더욱 바람직하게는 3 내지 25중량%, 특히 바람직하게는 4 내지 20중량%이다. 피복되는 고도전성 금속이 금인 경우에는, 그 피복량은 심 입자의 2 내지 30중량%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 3 내지 20중량%, 더욱 바람직하게는 3.5 내지 17중량%이다. The coating amount of the highly conductive metal is preferably 0.5 to 50% by weight with respect to the core particles, more preferably 1 to 30% by weight, still more preferably 3 to 25% by weight, particularly preferably 4 to 20% by weight. %to be. When the highly conductive metal to be coated is gold, the coating amount is preferably 2 to 30% by weight of the core particles, more preferably 3 to 20% by weight, still more preferably 3.5 to 17% by weight.

자성 도전성 입자의 구체적인 형상은, 특별히 한정되는 것은 아니지만 이방 도전성 시트(22)의 기재인 탄성 고분자 물질을 형성하기 위한 고분자 재료 중에 용이하게 분산시킬 수 있는 점에서 구상, 별 형상, 혹은 1차 입자가 응집한 2차 입자에 의한 덩어리상인 것이 바람직하다. Although the specific shape of the magnetic conductive particles is not particularly limited, spherical, star-shaped, or primary particles may be easily dispersed in the polymer material for forming the elastic polymer material that is the base material of the anisotropic conductive sheet 22. It is preferable that it is a lump form by the aggregated secondary particle.

자성 도전성 입자로서 그 표면이 실란 커플링제 등의 커플링제로 처리된 것을 이용해도 된다. 자성 도전성 입자의 표면을 커플링제로 처리함으로써, 자성 도전성 입자와 탄성 고분자 기재의 접착성이 높아지고, 그 결과 얻어지는 이방 도전성 시트(22)의 반복 사용에 있어서의 내구성이 높아진다. As magnetic electroconductive particle, you may use what surface was processed by coupling agents, such as a silane coupling agent. By treating the surface of the magnetic conductive particles with a coupling agent, the adhesion between the magnetic conductive particles and the elastic polymer substrate is increased, and the durability in repeated use of the resulting anisotropic conductive sheet 22 is increased.

이방 도전성 시트(22)에는, 탄성 고분자 물질의 절연성을 해치지 않는 범위에서 대전 방지제를 함유시킬 수 있다. 대전 방지제를 이방 도전성 시트(22)에 함유시킴으로써, 시트 표면에 전하가 축적되는 것이 방지 또는 억제되므로 피검사 회로 기판(1)의 전기 검사시에 이방 도전성 시트(22)로부터 전하가 방출되는 것에 의한 불편을 방지할 수 있음과 함께, 한층 작은 가압력으로 양호한 도전성을 얻을 수 있다. The anisotropic conductive sheet 22 can contain an antistatic agent in the range which does not impair the insulation of an elastic polymer material. By containing the antistatic agent in the anisotropic conductive sheet 22, the accumulation of electric charges on the surface of the sheet is prevented or suppressed, so that the electric charge is released from the anisotropic conductive sheet 22 during the electrical inspection of the circuit board 1 under test. While the inconvenience can be prevented, good conductivity can be obtained at a smaller pressing force.

이방 도전성 시트(22)는, 예를 들면 다음과 같이 해서 제조할 수 있다. 우선, 경화되어 탄성 고분자 물질로 되는 액상의 고분자 재료 중에 자성 도전성 입자를 분산한 유동성의 성형 재료를 조제한다. 또, 도 9에 나타낸 것처럼, 비자성 시트로 이루어지는 한 쌍의 성형 부재(93a, 93b)를 준비한다. 그리고, 한쪽의 성형 부재(93b)의 성형 면 위에 목적으로 하는 이방 도전성 시트(22)의 평면 형상에 적합한 형상의 개구부를 가지고, 그 두께에 대응하는 두께를 가지는 틀 모양의 스페이서(94)를 배치한다. 조제한 성형 재료(95)를 스페이서(94)의 개구부 내에 도포하고, 이 성형 재료(95) 위에 다른 쪽의 성형 부재(93a)를 그 성형 면이 성형 재료(95)에 접하도록 배치한다. The anisotropic conductive sheet 22 can be manufactured as follows, for example. First, the flowable molding material which disperse | distributed magnetic electroconductive particle in the liquid high polymer material hardened | cured and used as an elastic polymer material is prepared. As shown in Fig. 9, a pair of molding members 93a and 93b made of a nonmagnetic sheet are prepared. Then, a frame-shaped spacer 94 having an opening having a shape suitable for the planar shape of the target anisotropic conductive sheet 22 on the molding surface of one of the molding members 93b and having a thickness corresponding to the thickness thereof is disposed. do. The prepared molding material 95 is applied in the opening of the spacer 94, and the other molding member 93a is disposed on the molding material 95 such that the molding surface thereof is in contact with the molding material 95.

성형 부재(93a, 93b)로서 사용하는 비자성 시트로서는, 폴리이미드 수지, 폴리에스테르 수지, 아크릴 수지 등으로 이루어지는 수지 시트를 이용할 수 있다. As the nonmagnetic sheet used as the molding members 93a and 93b, a resin sheet made of polyimide resin, polyester resin, acrylic resin, or the like can be used.

도 8(a), 도 8(b)와 같이 이방 도전성 시트(22)의 한 면에 조면 처리를 한 것을 제작하는 경우, 도 10에 나타낸 것처럼 한쪽의 성형 부재(93a)의 성형 면에는 목적으로 하는 이방 도전성 시트(22)의 표면(63)에 있어서의 표면 거칠기에 따른 조면화 처리가 이루어진다. 예를 들면, 샌드 블레스트법, 에칭법 등의 방법에 의해 성형 면에 오목부(99a) 및 볼록부(99b)가 형성된다. 다른 쪽의 성형 부재(93b)에는, 그 성형 면이 평탄면인 것이 이용된다. In the case where a roughening treatment is performed on one surface of the anisotropic conductive sheet 22 as shown in Figs. 8A and 8B, as shown in Fig. 10, the molding surface of one of the molding members 93a is used for the purpose. The roughening process according to the surface roughness in the surface 63 of the anisotropically conductive sheet | seat 22 to be performed is performed. For example, the recessed part 99a and the convex part 99b are formed in a shaping | molding surface by methods, such as a sandblasting method and an etching method. As the other shaping | molding member 93b, that whose shaping | molding surface is a flat surface is used.

성형 부재(93a, 93b)의 시트 두께는, 바람직하게는 50 내지 500㎛, 보다 바람직하게는 75 내지 300㎛이다. 이 두께가 50㎛ 미만인 경우, 성형 부재로서 필요한 강도를 얻을 수 없는 경우가 있다. 이 두께가 500㎛를 넘는 경우, 도전성 입자를 배열시킬 때에 성형 재료에 원하는 강도의 자장을 작용시키는 것이 곤란해지는 경우가 있다. The sheet thickness of the molding members 93a and 93b becomes like this. Preferably it is 50-500 micrometers, More preferably, it is 75-300 micrometers. When this thickness is less than 50 micrometers, the strength required as a molded member may not be obtained. When this thickness exceeds 500 micrometers, when arrange | positioning electroconductive particle, it may become difficult to make a magnetic field of desired intensity | strength act on a molding material.

다음에, 도 9에 나타낸 것처럼, 가압 롤(91) 및 지지 롤(92)에 의해 성형 재료(95)를 사이에 둔 성형 부재(93a, 93b)를 협압함으로써 성형 재료를 소정의 두께로 한다. 이 상태에서는, 도 10에 나타낸 것처럼 성형 재료(95)의 내부에서 도전성 입자(62)가 균일하게 분산되어 있다. Next, as shown in FIG. 9, the shaping | molding material is made into predetermined thickness by pinching the shaping | molding members 93a and 93b which sandwiched the shaping | molding material 95 with the press roll 91 and the support roll 92. FIG. In this state, the electroconductive particle 62 is disperse | distributed uniformly in the inside of the shaping | molding material 95 as shown in FIG.

다음에, 도 11에 나타낸 것처럼, 성형 부재(93a, 93b)의 이면 측에, 예를 들면 한 쌍의 전자석(98a, 98b)를 배치하고, 성형 재료(95)의 두께 방향으로 평행 자장을 작용시킨다. 이것에 의해, 성형 재료 중에 분산되어 있는 도전성 입자(62)가, 도 12에 나타낸 것처럼 면 방향으로 분산된 상태를 유지하면서 두께 방향으로 늘어서도록 배향하고, 두께 방향으로 연장되는 복수의 도전성 입자(62)에 의한 연쇄가 면 방향으로 분산된 상태로 형성된다. Next, as shown in FIG. 11, a pair of electromagnets 98a, 98b are arrange | positioned, for example on the back surface side of the shaping | molding member 93a, 93b, and a parallel magnetic field is acting in the thickness direction of the shaping | molding material 95. FIG. Let's do it. Thereby, the some electroconductive particle 62 disperse | distributed in molding material is orientated so that it may line up in the thickness direction, maintaining the state disperse | distributed to surface direction as shown in FIG. 12, and the some electroconductive particle 62 extended in the thickness direction ) Is formed in a state dispersed in the plane direction.

이 상태로 성형 재료를 경화함으로써, 탄성 고분자 기재중에 도전성 입자가 두께 방향으로 늘어서도록 배향하고, 또한 면 방향으로 분산된 상태로 함유된 이방 도전성 시트(22)가 제조된다. By hardening a molding material in this state, the anisotropically conductive sheet | seat 22 contained in the state which oriented so that electroconductive particle lined up in the thickness direction in the elastic polymer base material, and was disperse | distributed to the surface direction is manufactured.

성형 재료의 경화 처리는, 평행 자장을 작용시킨 채로 상태로 행해도 되고, 평행 자장의 작용을 정지시킨 뒤에 행해도 된다. 성형 재료에 작용시키는 평행 자장의 강도는, 평균으로 0.02 내지 1.5테스라로 되는 크기가 바람직하다. The curing treatment of the molding material may be performed while the parallel magnetic field is applied, or after the action of the parallel magnetic field is stopped. The magnitude | size of the parallel magnetic field which acts on a shaping | molding material becomes 0.02 to 1.5 Tesla on average.

성형 재료에 평행 자장을 작용시키는 수단으로서 전자석 대신에 영구자석을 이용해도 된다. 영구자석으로서는, 상기의 범위의 평행 자장 강도를 얻을 수 있는 점에서, 알루니코(Fe-Al-Ni-Co계 합금), 펠라이트 등으로 이루어지는 것이 바람직하다. Permanent magnets may be used in place of the electromagnets as a means for exerting a parallel magnetic field on the molding material. As a permanent magnet, since the parallel magnetic field strength of the said range can be obtained, it is preferable to consist of alumino (Fe-Al-Ni-Co type alloy), a ferrite, etc.

성형 재료의 경화 처리는, 사용되는 재료에 따라 좌우되지만, 통상은 가열 처리에 의해 행해진다. 구체적인 가열 온도 및 가열 시간은 고분자 재료 등의 종류, 도전성 입자의 이동에 필요로 하는 시간 등을 고려해서 적당히 설정된다. Although the hardening process of a molding material depends on the material used, it is usually performed by heat processing. The specific heating temperature and heating time are appropriately set in consideration of the kind of the polymer material and the like, the time required for the movement of the conductive particles, and the like.

이상에 설명한 방법에 의하면, 경화 처리한 이방 도전성 시트 자체에 조면화 처리를 가할 필요 없이, 이방 도전성 시트를 간단하고 쉬운 공정으로 제조할 수 있고, 또한 후처리를 가하는 것에 의한 이방 도전성 시트에의 악영향을 회피할 수 있다. According to the method described above, the anisotropic conductive sheet can be manufactured in a simple and easy process without the need to apply a roughening treatment to the cured anisotropic conductive sheet itself, and adversely affects the anisotropic conductive sheet by applying post-treatment. Can be avoided.

또, 성형 부재로서 성형 면이 조면화 처리된 비자성체 시트를 이용하고 있으므로, 성형 재료에 대해서 면 방향에 있어서 균일한 강도의 자장을 작용시킬 수 있다. 즉, 조면화 처리된 성형 면의 볼록부의 위치에 오목부의 위치보다 큰 강도의 자장이 형성되는 경우가 없기 때문에, 볼록부의 위치에 도전성 입자의 연쇄가 선택적으로 형성되는 경우가 없고, 도전성 입자의 연쇄는 이방 도전성 시트의 면 방향 으로 분산된 상태로 형성되고, 이것에 의해 이방 도전성 시트의 조면에 있어서의 볼록부의 위치에도 도전성 입자의 연쇄가 형성되게 된다. 이 때문에, 이방 도전성 시트의 조면에 있어서의 볼록부만이 가압된 상태여도, 그 두께 방향으로 도전성을 얻을 수 있다. 따라서, 작은 가압력으로 높은 도전성을 나타내는 이방 도전성 시트를 얻을 수 있다. 또, 성형 부재로서 수지 시트 등의 비자성 시트를 이용하는 것으로, 금형등의 고가의 성형 부재를 이용하는 경우에 비해 제조 비용을 저감할 수 있다. Moreover, since the nonmagnetic sheet by which the shaping | molding surface was roughened was used as a shaping | molding member, the magnetic field of uniform intensity | strength can be made to act on a shaping | molding material in a surface direction. That is, since the magnetic field of intensity larger than the position of a recessed part is not formed in the position of the convex part of the roughening shaping | molding surface, the chain of electroconductive particle is not selectively formed in the position of a convex part, and the chain of electroconductive particle is not formed. Is formed in the state disperse | distributed to the surface direction of an anisotropic conductive sheet, and thereby chain | strand of electroconductive particle is formed also in the position of the convex part in the rough surface of an anisotropic conductive sheet. For this reason, even if only the convex part in the rough surface of an anisotropic conductive sheet is pressed state, electroconductivity can be obtained in the thickness direction. Therefore, the anisotropically conductive sheet which exhibits high electroconductivity by small pressing force can be obtained. Moreover, by using nonmagnetic sheets, such as a resin sheet, as a molding member, manufacturing cost can be reduced compared with the case of using expensive molding members, such as a metal mold | die.

(1-c) 제2의 이방 도전성 시트 (1-c) 2nd anisotropic conductive sheet

피치 변환용 기판(23)의 중계 핀 유닛(31) 측에 배치되는 제2의 이방 도전성 시트(26)는 도 6에 나타낸 것처럼 절연성의 탄성 고분자 재료 중에 다수의 도전성 입자(62)가 두께 방향으로 배열하여 형성된 도전로 형성부(72)와 각각의 도전로 형성부(72)를 이격하는 절연부(71)로 구성되어 있다. 이와 같이, 도전성 입자(62)는 도전로 형성부(72) 안에만 면 방향으로 불균일하게 분산되어 있다. In the second anisotropic conductive sheet 26 disposed on the relay pin unit 31 side of the substrate 23 for pitch conversion, as shown in FIG. 6, a plurality of conductive particles 62 are formed in the insulating elastic polymer material in the thickness direction. It consists of the electrically-conductive path formation part 72 formed and arrange | positioned and the insulating part 71 spaced apart from each electrically-conductive path formation part 72. FIG. Thus, the electroconductive particle 62 is disperse | distributed nonuniformly in the surface direction only in the conductive path formation part 72. As shown in FIG.

도전로 형성부(72)의 두께 W2는 바람직하게는 0.1 내지 2㎜, 보다 바람직하게는 0.2 내지 1.52㎜이다. 이 두께 W2가 0.1㎜ 미만인 경우, 두께 방향의 가압에 대한 흡수 능력이 낮고, 검사시에 있어서 검사 지그에 의한 가압력의 흡수가 작아져 회로 기판측 커넥터(21)에의 충격을 완화하는 효과가 감소한다. 이 때문에, 제1의 이방 도전성 시트(22)의 열화를 억제하기 어려워지고, 결과적으로 피검사 회로 기판(1)의 반복 검사시에 있어서의 제1의 이방 도전성 시트(22)의 교환 회수가 증 가하고 검사의 효율이 저하한다. 한편, 이 두께 W2가 2㎜를 넘는 경우, 두께 방향의 전기 저항이 커지기 쉬워 전기 검사가 곤란해지는 경우가 있다. The thickness W 2 of the conductive path forming portion 72 is preferably 0.1 to 2 mm, more preferably 0.2 to 1.52 mm. When the thickness W 2 is less than 0.1 mm, the absorption capacity against pressurization in the thickness direction is low, and the absorption of the pressing force by the inspection jig at the time of inspection is small, so that the effect of alleviating the impact on the circuit board side connector 21 is reduced. do. For this reason, it becomes difficult to suppress deterioration of the 1st anisotropically conductive sheet 22, and as a result, the frequency | count of replacement of the 1st anisotropically conductive sheet 22 at the time of the repetitive test of the circuit board 1 to test | inspection increases. The efficiency of inspection decreases. On the other hand, when this thickness W2 exceeds 2 mm, the electrical resistance of the thickness direction will become large easily, and electrical inspection may become difficult.

절연부(71)의 두께는 도전로 형성부(72)의 두께와 실질적으로 동일하거나 그것보다 작은 것이 바람직하다. 도 6에 나타낸 것처럼 절연부(71)의 두께를 도전로 형성부(72)의 두께보다 작게 해서 도전로 형성부(72)가 절연부(71)보다 돌출된 돌출부(73)를 형성함으로써, 두께 방향의 가압에 대해서 도전로 형성부(72)의 변형이 용이해지고 가압력의 흡수 능력이 증대하기 때문에, 검사시에 있어서 검사 지그의 가압력을 흡수하여 회로 기판측 커넥터(21)에의 충격을 완화할 수 있다. The thickness of the insulating portion 71 is preferably substantially the same as or smaller than the thickness of the conductive path forming portion 72. As shown in FIG. 6, the thickness of the insulating portion 71 is smaller than the thickness of the conductive path forming portion 72 so that the conductive path forming portion 72 forms a protruding portion 73 which protrudes from the insulating portion 71. Since the deformation of the conductive path forming section 72 is easy and the absorbing force of the pressing force is increased with respect to the pressing in the direction, the pressing force of the inspection jig can be absorbed at the time of inspection, and the impact on the circuit board side connector 21 can be alleviated. have.

제2의 이방 도전성 시트(26)를 구성하는 도전성 입자(62)에, 자성 도전성 입자를 사용하는 경우, 그 수 평균 입자 지름은 바람직하게는 5 내지 200㎛, 보다 바람직하게는 5 내지 150㎛, 더욱 바람직하게는 10 내지 100㎛이다. 여기서, 「자성 도전성 입자의 수 평균 입자 지름」이란 레이저 회절 산란법에 따라 측정된 것을 말한다. 자성 도전성 입자의 수 평균 입자 지름이 5㎛ 이상이면, 이방 도전성 시트의 도전로 형성부의 가압 변형이 용이해진다. 또, 그 제조 공정에 있어서 자장 배향 처리에 의해 자성 도전성 입자를 배향시키는 경우, 자성 도전성 입자의 배향이 용이하다. 자성 도전성 입자의 수 평균 입자 지름이 200㎛ 이하이면, 이방 도전성 시트의 도전로 형성부(72)의 탄성이 양호하고 가압 변형이 용이해진다. When magnetic electroconductive particle is used for the electroconductive particle 62 which comprises the 2nd anisotropically conductive sheet 26, the number average particle diameter becomes like this. Preferably it is 5-200 micrometers, More preferably, it is 5-150 micrometers, More preferably, it is 10-100 micrometers. Here, "the number average particle diameter of magnetic electroconductive particle" means the thing measured by the laser diffraction scattering method. When the number average particle diameter of the magnetic conductive particles is 5 µm or more, the pressure deformation of the conductive path forming portion of the anisotropic conductive sheet becomes easy. Moreover, in the manufacturing process, when orienting magnetic electroconductive particle by a magnetic field orientation process, the orientation of magnetic electroconductive particle is easy. If the number average particle diameter of magnetic electroconductive particle is 200 micrometers or less, the elasticity of the electrically conductive path forming part 72 of an anisotropically conductive sheet | seat will be favorable, and pressure deformation will become easy.

도전로 형성부(72)의 두께 W2(㎛)와, 자성 도전성 입자의 수 평균 입자 지름 D2(㎛)의 비율 W2/D2는 1.1 내지 10인 것이 바람직하다. The thickness W 2 of the forming unit 72, the conductive paths (㎛), and a ratio of the number of the magnetic conductive particles, the mean particle size D 2 (㎛) W 2 / D 2 is preferably 1.1 to 10.

비율 W2/D2가 1.1 미만인 경우, 도전로 형성부(72)의 두께에 대해서 자성 도전성 입자의 지름이 동등 혹은 그것보다 커지기 때문에, 도전로 형성부(72)의 탄성이 낮아지고 그 두께 방향의 가압력의 흡수능력이 작아진다. 이 때문에, 검사시에 있어서 회로 기판측 커넥터(21)에의 충격을 완화하는 효과가 감소하기 때문에, 제1의 이방 도전성 시트(22)의 열화를 억제하기 어려워지고 결과적으로 피검사 회로 기판(1)의 반복 검사시에 있어서, 제1의 이방 도전성 시트(22)의 교환 회수가 증가하고 검사의 효율이 저하하기 쉬워진다. When the ratio W 2 / D 2 is less than 1.1, since the diameter of the magnetic conductive particles becomes equal to or larger than the thickness of the conductive path forming portion 72, the elasticity of the conductive path forming portion 72 is lowered and the thickness direction thereof. The absorption capacity of the pressing force is reduced. For this reason, since the effect of alleviating the impact to the circuit board side connector 21 at the time of inspection reduces, it becomes difficult to suppress deterioration of the 1st anisotropically conductive sheet 22, and as a result, the circuit board 1 to be tested. In the repetitive inspection of, the number of times of replacement of the first anisotropic conductive sheet 22 increases, and the efficiency of the inspection tends to decrease.

한편, 비율 W2/D2가 10을 넘는 경우, 도전로 형성부(72)에 다수의 도전성 입자가 배열하여 연쇄를 형성하게 되고, 도전성 입자끼리의 접점이 다수 존재하게 되기 때문에 전기적 저항값이 높아지기 쉽다. On the other hand, when the ratio W 2 / D 2 is greater than 10, a plurality of conductive particles are arranged in the conductive path forming unit 72 to form a chain, and since a large number of contacts between the conductive particles exist, the electrical resistance value is increased. It is easy to be high.

도전로 형성부(72)의 기재인 탄성 고분자 물질은, 그 타입 A 듀로미터에 의해 측정된 듀로미터 경도가 바람직하게는 15 내지 60, 보다 바람직하게는 20 내지 50, 더욱 바람직하게는 25 내지 45이다. The elastic polymer material, which is the base material of the conductive path forming portion 72, preferably has a durometer hardness measured by the type A durometer, preferably 15 to 60, more preferably 20 to 50, still more preferably 25 to 45. to be.

탄성 고분자 물질의 듀로미터 경도가 15보다 작은 경우, 두께 방향으로 압압되었을 때의 시트의 압축, 변형이 크고 큰 영구 일그러짐이 생기기 때문에 시트 형상이 조기에 변형되어 검사시의 전기적 접속이 곤란해지기 쉽다. 탄성 고분자 물질의 듀로미터 경도가 60보다 큰 경우, 두께 방향으로 압압되었을 때의 변형이 작아지기 때문에 그 두께 방향의 가압력의 흡수 능력이 작아진다. 이 때문에, 제1의 이방 도전성 시트(22)의 열화를 억제하기 어려워지고, 결과적으로 피검사 회로 기 판(1)의 반복 검사시에 있어서, 제1의 이방 도전성 시트(22)의 교환 회수가 증가하고 검사의 효율이 저하하기 쉬워진다. When the durometer hardness of the elastic polymer material is smaller than 15, the sheet is deformed early and the permanent deformation is large due to the large compression and deformation of the sheet when pressed in the thickness direction, thereby making it difficult to make electrical connection during inspection. . When the durometer hardness of the elastic polymer material is larger than 60, the deformation at the time of being pressed in the thickness direction becomes small, so that the absorbing force of the pressing force in the thickness direction becomes small. For this reason, it becomes difficult to suppress deterioration of the 1st anisotropically conductive sheet 22, and as a result, the frequency | count of exchange of the 1st anisotropically conductive sheet 22 is repeated at the time of the repetitive test of the circuit board 1 to be tested. It becomes easy to increase and the efficiency of inspection falls.

도전로 형성부(72)의 기재로 되는 탄성 고분자 물질로서는, 상기의 듀로미터 경도을 나타내는 것이면 특별히 한정되지 않지만 가공성 및 전기 특성의 점에서 실리콘 고무를 이용하는 것이 바람직하다. Although it will not specifically limit, if the elastic polymer substance used as the base material of the electrically-conductive path formation part 72 shows the said durometer hardness, It is preferable to use a silicone rubber from a viewpoint of workability and electrical characteristics.

제2의 이방 도전성 시트(26)의 절연부(71)는, 실질적으로 도전성 입자를 함유하지 않는 절연 재료에 의해 형성된다. 절연 재료로서는, 예를 들면 절연성의 고분자 재료, 무기 재료, 표면을 절연화 처리한 금속재료 등을 이용할 수 있지만, 도전로 형성부에 사용한 탄성 고분자와 동일한 재료를 이용하면 생산이 용이하다. 절연부의 재료로서 탄성 고분자 물질을 사용하는 경우, 듀로미터 경도가 상기의 범위인 것을 사용하는 것이 바람직하다. The insulating portion 71 of the second anisotropic conductive sheet 26 is formed of an insulating material that does not substantially contain conductive particles. As the insulating material, for example, an insulating polymer material, an inorganic material, a metal material insulated from the surface, and the like can be used. However, if the same material as the elastic polymer used in the conductive path forming portion is used, production is easy. When using an elastic polymer material as a material of an insulation part, it is preferable to use the thing whose durometer hardness is the said range.

자성 도전성 입자로서는 전술의 제1 이방 도전성 시트(22)에 이용되는 자성 도전성 입자를 이용할 수 있다. As magnetic electroconductive particle, the magnetic electroconductive particle used for the above-mentioned 1st anisotropically conductive sheet 22 can be used.

제2의 이방 도전성 시트(26)는, 예를 들면 도 9 내지 도 12에 나타낸 방법으로 준한 방법으로 제조할 수 있다. 우선, 각각 전체의 형상이 대략 평판상으로서 서로 대응하는 상형과 하형으로 이루어지고, 상형과 하형 사이의 성형 공간 내에 충전된 재료층에 자장을 작용시키면서 해당 재료층을 가열 경화할 수 있는 구성의 이방 도전성 시트 성형용 금형을 준비한다. The second anisotropic conductive sheet 26 can be produced by a method similar to that shown in FIGS. 9 to 12, for example. First of all, the shape of the entire shape is substantially flat and consists of upper and lower molds corresponding to each other, and is anisotropic in that the material layer can be heat-cured while applying a magnetic field to the material layer filled in the molding space between the upper and lower molds. The metal mold | die for electroconductive sheet molding is prepared.

이 이방 도전성 시트 성형용 금형은 재료층에 자장을 작용시켜 적정한 위치에 도전성을 가지는 부분을 형성하기 위해서, 상형 및 하형 양쪽이 철, 니켈 등의 강자성체로 이루어지는 기판상에 금형 내의 자장에 강도 분포를 일으키게 하기 위한 철, 니켈 등으로 이루어지는 강자성체 부분과 동 등의 비자성 금속 혹은 수지로 이루어지는 비자성체 부분이 서로 인접하도록 교대로 배치된 모자이크상의 층을 가지는 구성의 것이며, 강자성체 부분은 형성해야 할 도전로 형성부의 패턴에 대응하는 패턴에 따라 배열되어 있다. In order to form a conductive part at an appropriate position by applying a magnetic field to the material layer, the anisotropic conductive sheet molding die has a strength distribution in the magnetic field in the mold on a substrate made of ferromagnetic materials such as iron and nickel. The ferromagnetic portion made of iron, nickel, etc. and the nonmagnetic portion made of nonmagnetic metal or resin, such as copper, have a mosaic layer arranged alternately adjacent to each other, and the ferromagnetic portion is a conductive path to be formed. It is arranged in accordance with the pattern corresponding to the pattern of the formation part.

여기서, 상형의 성형 면은 평탄하고 하형의 성형 면은 형성해야 할 이방 도전성 시트의 도전로 형성부에 대응해서 약간 요철을 가지는 것이다. Here, the upper mold surface is flat and the lower mold surface has some irregularities corresponding to the conductive path forming portion of the anisotropic conductive sheet to be formed.

이 이방 도전성 시트 성형용 금형의 성형 공간 내에, 경화되어 탄성 고분자 물질로 되는 고분자 물질 재료 중에 자성을 나타내는 도전성 입자가 함유된 성형 재료를 주입해서 성형 재료층을 형성한다. A molding material containing conductive particles exhibiting magnetic properties is injected into the molding space of the die for forming the anisotropic conductive sheet, thereby forming a molding material layer.

다음에, 상형 및 하형의 각각에 있어서의 강자성체 부분 및 비자성체 부분을 이용해서, 형성된 성형 재료층에 대해 그 면 방향으로 강도 분포를 가지는 자장을 작용시킴으로써, 그 자력의 작용에 의해 도전성 입자를 상형에 있어서의 강자성체 부분과 그 직하에 위치하는 하형에 있어서의 강자성체 부분과의 사이에 집합시켜, 도전성 입자를 두께 방향으로 늘어서도록 배향시킨다. 그리고 그 상태로 해당 성형 재료층을 경화 처리함으로써, 복수의 기둥 모양의 도전로 형성부가 절연부에 의해 서로 절연된 구성을 가지는 이방 도전성 시트가 제조된다. Next, using the ferromagnetic portion and the non-magnetic portion in each of the upper mold and the lower mold, the magnetic particles having the intensity distribution in the plane direction are applied to the formed molding material layer, whereby the conductive particles are formed by the action of the magnetic force. It aggregates between the ferromagnetic body part in and the ferromagnetic body part in the lower mold located directly under it, and orients so that electroconductive particle may be lined up in the thickness direction. By hardening the said molding material layer in that state, the anisotropic conductive sheet which has the structure in which the some column-shaped conductive path formation part was insulated from each other by the insulated part is manufactured.

(2) 중계 핀 유닛 (2) relay pin unit

중계 핀 유닛(31a, 31b)은 도 1, 도 2에 나타낸 것처럼, 상하 방향을 향하도록 병렬로 소정의 피치로 설치된 다수의 도전 핀(32a, 32b)을 갖추고 있다. 또, 중계 핀 유닛(31a, 31b)은 이들 도전 핀(32a, 32b)의 양단 측에 설치되어 도전 핀(32a, 32b)을 삽통 지지하는 피검사 회로 기판(1)측에 배치된 절연판(34a, 34b)과 피검사 회로 기판(1)과는 반대측에 배치된 절연판(35a, 35b)의 2매의(한 쌍의) 절연판을 갖추고 있다. As shown in Figs. 1 and 2, the relay pin units 31a and 31b are provided with a plurality of conductive pins 32a and 32b provided in a predetermined pitch in parallel so as to face the vertical direction. In addition, the relay pin units 31a and 31b are provided on both end sides of the conductive pins 32a and 32b and are arranged on the side of the circuit board 1 to be inspected to insert and support the conductive pins 32a and 32b. , 34b) and two (pair) insulating plates of insulating plates 35a and 35b disposed on the side opposite to the circuit board 1 to be inspected.

도전 핀(32)은, 예를 들면 도 13에 나타낸 것처럼, 지름이 큰 중앙부(82)와 이것보다 지름이 작은 단부(81a, 81b)로 이루어진다. For example, as shown in FIG. 13, the conductive pin 32 includes a central portion 82 having a larger diameter and end portions 81a and 81b having a smaller diameter than this.

이들 한 쌍의 절연판(34) 및 절연판(35)에는 도전 핀(32)의 단부(81a, 81b)가 삽입되는 관통구멍(83)이 형성되어 있다. 그리고, 관통구멍(83)의 지름이, 도전 핀(32)의 단부(81)의 지름보다 크고, 또한 중앙부(82)의 지름보다 작게 형성되고, 이것에 의해 도전 핀(32)이 탈락하지 않도록 유지되어 있다. The pair of insulating plates 34 and 35 are provided with through holes 83 into which end portions 81a and 81b of the conductive pins 32 are inserted. And the diameter of the through-hole 83 is formed larger than the diameter of the edge part 81 of the conductive pin 32, and smaller than the diameter of the center part 82, and this prevents the conductive pin 32 from falling out. Maintained.

2매의 절연판(34, 35)은 지지 핀(33)에 의해 이들 간격이 도전 핀(32)의 중앙부(82)의 길이보다 길어지도록 고정되고, 이것에 의해 도전 핀(32)이 상하로 가동하도록 유지되어 있다. The two insulating plates 34 and 35 are fixed by the supporting pins 33 so that these gaps are longer than the length of the center portion 82 of the conductive pins 32, whereby the conductive pins 32 move up and down. Is maintained.

도전 핀(32)의 단부(81)의 길이는 절연판(34, 35)의 두께보다 길어지도록 형성되고, 이것에 의해 절연판(34, 35) 중 적어도 한쪽으로부터 도전 핀(32)이 돌출하도록 되어 있다. The length of the end portion 81 of the conductive pin 32 is formed to be longer than the thickness of the insulating plates 34 and 35, whereby the conductive pin 32 protrudes from at least one of the insulating plates 34 and 35. .

중계 핀 유닛은, 다수의 도전 핀이, 일정 피치, 예를 들면 2.54㎜, 1.8㎜, 1.27㎜, 1.06㎜, 0.8㎜, 0.75㎜, 0.5㎜, 0.45㎜, 0.3㎜ 또는 0.2㎜의 피치의 격자점 위에 배치되어 있다. The relay pin unit includes a grid of a plurality of conductive pins having a pitch of a constant pitch, for example, 2.54 mm, 1.8 mm, 1.27 mm, 1.06 mm, 0.8 mm, 0.75 mm, 0.5 mm, 0.45 mm, 0.3 mm or 0.2 mm. It is placed on the point.

중계 핀 유닛(31)의 도전 핀(32)의 배치 피치와 피치 변환용 기판(23)에 설 치된 단자 전극(24)의 배치 피치를 동일하게 함으로써, 도전 핀(32)을 개재시켜 피치 변환용 기판(23)이 테스터 측에 전기적으로 접속되게 되어 있다. By equalizing the arrangement pitch of the conductive pins 32 of the relay pin unit 31 and the arrangement pitch of the terminal electrodes 24 provided on the substrate 23 for pitch conversion, the pitch is changed through the conductive pins 32. The substrate 23 is electrically connected to the tester side.

또한, 절연판(34)과 절연판(35) 사이의 거리로서는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 20㎜ 이상, 바람직하게는 40㎜ 이상으로 하는 것이 바람직하다. 또, 절연판(34) 및 절연판(35)의 각각의 두께는, 이것들을 구성하는 재료의 종류에 따라 적당히 선택되는데, 예를 들면 1 내지 10㎜인 것이 바람직하다. The distance between the insulating plate 34 and the insulating plate 35 is not particularly limited, but is preferably 20 mm or more, preferably 40 mm or more. Moreover, although the thickness of each of the insulating plate 34 and the insulating plate 35 is suitably selected according to the kind of material which comprises these, it is preferable that it is 1-10 mm, for example.

절연판(34, 35)의 재료의 구체적인 예로서는, 고유저항이 1×1010Ω·㎝ 이상인 절연성 재료, 예를 들면 폴리이미드 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리아미드 수지, 페놀 수지, 폴리아세탈 수지, 폴리부틸렌테레프탈레이트 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지, 신지오탁트·폴리스티렌 수지, 폴리페닐렌 술파이드 수지, 폴리에테르에틸케톤 수지, 불소 수지, 폴리에테르니트릴 수지, 폴리에테르술폰 수지, 폴리아릴레이트 수지, 폴리아미드이미드 수지 등의 기계적 강도의 높은 수지 재료, 유리 섬유 보강형 에폭시 수지, 유리 섬유 보강형 폴리에스테르 수지, 유리 섬유 보강형 폴리이미드 수지, 유리 섬유 보강형 페놀 수지, 유리 섬유 보강형 불소 수지 등의 유리 섬유형 복합 수지 재료, 카본 섬유 보강형 에폭시 수지, 카본 섬유 보강형 폴리에스테르 수지, 카본 섬유 보강형 폴리이미드 수지, 카본 섬유 보강형 페놀 수지, 카본 섬유 보강형 불소 수지 등의 카본 섬유형 복합 수지, 에폭시 수지, 페놀 수지 등에 실리카, 알루미나, 보론나이트라이트 등의 무기 재료를 충전한 복합 수지 재료, 에폭시 수지, 페놀 수지 등에 메쉬를 함유한 복합 수지 재료 등을 들 수 있다. 또, 이들 재료로 이루어지는 판재를 복수 적층하여 구성된 복합 판재 등을 이용해도 된다. Specific examples of the material of the insulating plates 34 and 35 include insulating materials having a specific resistance of 1 × 10 10 Ω · cm or more, for example, polyimide resins, polyester resins, polyamide resins, phenol resins, polyacetal resins, and polybutyls. Lenterephthalate resins, polyethylene terephthalate resins, cinchioctate polystyrene resins, polyphenylene sulfide resins, polyetherethyl ketone resins, fluorine resins, polyethernitrile resins, polyethersulfone resins, polyarylate resins, polyamides Glass materials, such as resin materials with high mechanical strength, such as a mid resin, glass fiber reinforced epoxy resin, glass fiber reinforced polyester resin, glass fiber reinforced polyimide resin, glass fiber reinforced phenol resin, and glass fiber reinforced fluorine resin Fibrous composite resin material, carbon fiber reinforced epoxy resin, carbon fiber reinforced polyester resin, car Carbon fiber composite resins such as the present fiber reinforced polyimide resin, carbon fiber reinforced phenolic resin, and carbon fiber reinforced fluorine resin, epoxy resins, and phenol resins are filled with inorganic materials such as silica, alumina and boronitelite. The resin material, an epoxy resin, a phenol resin, etc., the composite resin material which contained the mesh, etc. are mentioned. Moreover, you may use the composite board | plate material etc. which consisted of laminating | stacking the plate material which consists of these materials.

(3) 테스터측 커넥터 (3) Tester side connector

테스터측 커넥터(41a, 41b)는, 도 1 및 도 2에 나타낸 것처럼 제3의 이방 도전성 시트(42a, 42b)와, 커넥터 기판(43a, 43b)과, 베이스 판(46a, 46b)을 갖추고 있다. 제3의 이방 도전성 시트(42a, 42b)는 전술한 제2의 이방 도전성 시트(26)와 동일한 것이 사용되고, 도 6에 나타낸 것처럼 절연성의 탄성 고분자 중에 다수의 도전성 입자가 두께 방향으로 배열하여 형성된 도전로 형성부와 각각의 도전로 형성부를 이격하는 절연부로 구성되어 있다. The tester side connectors 41a and 41b are provided with the third anisotropically conductive sheets 42a and 42b, the connector boards 43a and 43b, and the base plates 46a and 46b, as shown to FIG. 1 and FIG. . The same thing as the 2nd anisotropically conductive sheet 26 mentioned above is used for the 3rd anisotropically conductive sheets 42a and 42b, and as shown in FIG. 6, many electroconductive particles formed in the insulating elastic polymer arrange | positioned in the thickness direction, and are electrically conductive It consists of the insulation part spaced apart from the furnace formation part and each electrically conductive path formation part.

커넥터 기판(43a, 43b)은 절연 기판을 기재로 해서 구성되고, 그 표면의 중계 핀 유닛(31) 측에 도 1 및 도 2에 나타낸 것처럼 핀측 전극(45a, 45b)이 형성되어 있다. 이들 핀측 전극(45a, 45b)은, 일정 피치, 예를 들면 2.45㎜, 1.8㎜, 1.27㎜, 1.06㎜, 0.8㎜, 0.75㎜, 0.5㎜, 0.45㎜, 0.3㎜ 또는 0.2㎜의 간격을 둔 일정 피치의 격자점 위에 배치되어 있고, 그 배치 피치는 중계 핀 유닛의 도전 핀의 배치 피치와 동일하다. The connector boards 43a and 43b are constituted based on an insulated substrate, and the pin side electrodes 45a and 45b are formed on the relay pin unit 31 side of the surface thereof as shown in Figs. 1 and 2. These pin-side electrodes 45a and 45b have a constant pitch, for example, a constant interval of 2.45 mm, 1.8 mm, 1.27 mm, 1.06 mm, 0.8 mm, 0.75 mm, 0.5 mm, 0.45 mm, 0.3 mm or 0.2 mm. It is arrange | positioned on the grid point of a pitch, and the arrangement pitch is the same as the arrangement pitch of the conductive pin of the relay pin unit.

각각의 핀측 전극(45a, 45b)은 절연 기판의 표면에 형성된 배선 패턴 및 그 내부에 형성된 내부 배선에 의해, 테스터측 전극(44a, 44b)에 전기적으로 접속되어 있다. Each of the pin side electrodes 45a and 45b is electrically connected to the tester side electrodes 44a and 44b by a wiring pattern formed on the surface of the insulating substrate and an internal wiring formed therein.

이상에 설명한 본 실시 형태의 검사장치에서는, 도 2에 나타낸 것처럼 피검사 회로 기판(1)의 전극(2) 및 전극(3)이 제1의 이방 도전성 시트(22a, 22b), 피치 변환용 기판(23a, 23b), 제2의 이방 도전성 시트(26a, 26b), 도전 핀(32a, 32b), 제3의 이방 도전성 시트(42a, 42b), 커넥터 기판(43a, 43b)을 개재시켜, 최외측에 배치된 베이스 판(46a, 46b)을 테스터의 가압 기구에 의해 규정의 압력으로 압압함으로써 테스터(도시하지 않음)에 전기적으로 접속되고, 피검사 회로 기판(1)의 전극 간에 있어서의 전기 저항 측정 등의 전기 검사를 한다. In the inspection apparatus of the present embodiment described above, as shown in FIG. 2, the electrodes 2 and the electrodes 3 of the circuit board 1 under test are the first anisotropic conductive sheets 22a and 22b and the substrate for pitch conversion. (23a, 23b), the second anisotropic conductive sheets 26a, 26b, the conductive pins 32a, 32b, the third anisotropic conductive sheets 42a, 42b, and the connector substrates 43a, 43b are interposed therebetween. The base plate 46a, 46b arrange | positioned at the outer side is electrically connected to the tester (not shown) by pressing to the prescribed pressure by the pressurizing mechanism of a tester, and the electrical resistance between the electrodes of the circuit board 1 under test is tested. Conduct an electrical inspection such as measurement.

상측의 제1의 검사 지그(11a)와, 하측의 제2의 검사 지그(11b)에 의해 피검사 회로 기판(1)을 압압 하는 압력은, 예를 들면 100 내지 250kgf이다. The pressure which presses the to-be-tested circuit board 1 by the upper 1st inspection jig 11a and the lower 2nd inspection jig 11b is 100-250 kgf, for example.

도 14는 본 발명의 검사장치의 다른 실시 형태를 나타낸 단면도, 도 15는 도 14의 검사장치의 검사시에 있어서의 적층 상태를 나타낸 단면도, 도 16은 피치 변환용 기판의 피검사 회로 기판측의 표면을 나타낸 도면, 도 17은 피치 변환용 기판의 중계 핀 유닛측 표면을 나타낸 도이다. 또한, 전술한 실시 형태에 있어서의 원가요소에 대응하는 것은 동일한 부호로 나타내고, 그 상세한 설명은 생략한다. 14 is a sectional view showing another embodiment of the inspection apparatus of the present invention, FIG. 15 is a sectional view showing a lamination state at the time of inspection of the inspection apparatus in FIG. 14, and FIG. 17 is a diagram showing the surface of the relay pin unit side of the substrate for pitch conversion. In addition, the thing corresponding to the cost element in embodiment mentioned above is represented with the same code | symbol, and the detailed description is abbreviate | omitted.

본 실시 형태의 검사장치의 구성은 기본적으로는 전술한 실시 형태와 동일하지만, 피검사용 전극에 대한 전류계측 및 전압계측을 행하는 것에 더욱 매우 적합한 구성으로 되어 있다. 구체적으로는, 도 16, 도 18 및 도 19에 나타낸 것처럼 피치 변환용 기판(23a, 23b)에 전류용 단자 전극(27a, 27b)과 전압용 단자 전극(28a, 28b)으로 이루어지는 접속 전극(25a, 25b)이 배치되고, 커넥터 기판(43a, 43b)에 전류용 핀측 전극(47a, 47b)과 전압용 핀측 전극(48a, 48b)이 배치되어 있다. The configuration of the inspection apparatus of the present embodiment is basically the same as that of the above-described embodiment, but is more suitably suitable for performing current measurement and voltage measurement on the inspection target electrode. Specifically, as shown in Figs. 16, 18 and 19, the connection electrodes 25a including the current terminal electrodes 27a and 27b and the voltage terminal electrodes 28a and 28b on the pitch conversion substrates 23a and 23b. And 25b are disposed, and the pin side electrodes 47a and 47b for current and the pin side electrodes 48a and 48b for voltage are disposed on the connector boards 43a and 43b.

피치 변환용 기판(23a)의 접속 전극(25a)은 피검사 회로 기판(1)의 피검사 전극(2)의 각각 대해 한 쌍의 전류용 단자 전극(27a)과 전압용 단자 전극(28a)이 전기적으로 접속하도록 배치되어 있다. 피치 변환용 기판(23b)의 접속 전극(25b)은, 피검사 회로 기판(1)의 피검사 전극(3)의 각각 대해서 한 쌍의 전류용 단자 전극(27b)과 전압용 단자 전극(28b)이 전기적으로 접속하도록 배치되어 있다. The connection electrode 25a of the pitch conversion substrate 23a has a pair of current terminal electrodes 27a and voltage terminal electrodes 28a for each of the inspected electrodes 2 of the circuit under test 1. It is arrange | positioned so that it may electrically connect. The connection electrode 25b of the pitch conversion board 23b has a pair of current terminal electrodes 27b and voltage terminal electrodes 28b for each of the electrodes 3 under test of the circuit board 1 under test. It is arrange | positioned so that it may electrically connect.

커넥터 기판(43a)의 전류용 핀측 전극(47a)은 피치 변환용 기판(23a)의 전류용 단자 전극(27a)에 전기적으로 접속하도록 배치되고, 전압용 핀측 전극(48a)은 피치 변환용 기판(23a)의 전압용 단자 전극(28a)에 전기적으로 접속하도록 배치되어 있다. 커넥터 기판(43b)의 전류용 핀측 전극(47b)은 피치 변환용 기판(23b)의 전류용 단자 전극(27b)에 전기적으로 접속하도록 배치되고, 전압용 핀측 전극(48b)은 피치 변환용 기판(23b)의 전압용 단자 전극(28b)에 전기적으로 접속하도록 배치되어 있다. The current pin side electrode 47a of the connector board 43a is arranged to be electrically connected to the current terminal electrode 27a of the pitch conversion board 23a, and the voltage pin side electrode 48a is a pitch conversion board ( It is arrange | positioned so that it may be electrically connected to the voltage terminal electrode 28a of 23a. The current pin side electrode 47b of the connector board 43b is arranged to be electrically connected to the current terminal electrode 27b of the pitch conversion board 23b, and the voltage pin side electrode 48b is a pitch conversion board ( It is arrange | positioned so that it may electrically connect with the voltage terminal electrode 28b of 23b).

피치 변환용 기판(23)의 한쪽 표면, 즉, 피검사 회로 기판(1) 측에는 도 16에 나타낸 것처럼 피검사 회로 기판(1)의 피검사 전극(2)(피검사 전극(3))에 전기적으로 접속되는 복수의 접속 전극(25)이 형성되어 있다. 이들 접속 전극(25)은 피검사 회로 기판(1)의 피검사 전극(2)(피검사 전극(3))의 패턴에 대응하도록 배치되어 있다. On one surface of the substrate 23 for pitch conversion, that is, on the side of the circuit board 1 to be inspected, as shown in FIG. 16, the test electrode 2 (inspection electrode 3) of the circuit board 1 to be inspected is electrically connected. A plurality of connection electrodes 25 connected to each other are formed. These connection electrodes 25 are arrange | positioned so that the pattern of the test | inspection electrode 2 (inspection electrode 3) of the circuit board 1 under test may be corresponded.

또, 이 접속 전극(25)은, 도 16, 도 18 및 도 19에 나타낸 것처럼 피검사 회로 기판(1)의 피검사 전극(2)(피검사 전극(3))에 대해서, 한 쌍의 서로 소정 간격 이격한 전류용 단자 전극(27)과 전압용 단자 전극(28)으로 구성되어 있다. Moreover, this connection electrode 25 is a pair of mutually with respect to the to-be-tested electrode 2 (inspection electrode 3) of the circuit board 1 under test, as shown to FIG. 16, FIG. 18, and FIG. It consists of the terminal electrode 27 for current and the terminal electrode 28 for voltage spaced at predetermined intervals.

전류용 단자 전극(27)과 전압용 단자 전극(28)의 형상은, 직사각형상, 원형 상, 삼각형상 등 여러 가지의 형상으로 할 수 있다. 또, 이들 한 쌍의 전류용 단자 전극(27)과 전압용 단자 전극(28)이 차지하는 영역이, 피검사 회로 기판(1)의 피검사 전극(2)(피검사 전극(3))이 차지하는 영역과 대략 동일한 영역 내에 배치되는 것이 측정 오차를 줄이기 위해서는 바람직하다. The shape of the terminal electrode 27 for current and the terminal electrode 28 for voltage can be made into various shapes, such as rectangular shape, circular shape, and triangle shape. Moreover, the area | region occupied by these pair of electric current terminal electrode 27 and the voltage terminal electrode 28 occupies the to-be-tested electrode 2 (inspection electrode 3) of the circuit board 1 to be tested. It is desirable to be disposed in an area approximately equal to the area in order to reduce the measurement error.

또, 피치 변환용 기판(23)에 있어서 전류용 단자 전극(27)과 전압용 단자 전극(28) 사이의 이격 거리는, 10㎛ 이상인 것이 바람직하다. 이 이격 거리가 10㎛보다 작은 경우에는, 제1의 이방 도전성 시트(22a, 22b)를 개재시켜 전류용 단자 전극(27)과 전압용 단자 전극(28) 사이에 흐르는 전류가 커지기 때문에 높은 정밀도로 전기 저항을 측정하는 것이 곤란해지는 경우가 있고, 정확한 전기 특성 검사를 행할 수 없는 경우가 있다. In the pitch conversion substrate 23, the separation distance between the current terminal electrode 27 and the voltage terminal electrode 28 is preferably 10 µm or more. When this separation distance is smaller than 10 micrometers, since the electric current which flows between the current terminal electrode 27 and the voltage terminal electrode 28 through the 1st anisotropically conductive sheets 22a and 22b becomes large, it is high precision. It may become difficult to measure an electrical resistance, and an accurate electrical characteristic test may not be possible in some cases.

한편, 전류용 단자 전극(27)과 전압용 단자 전극(28) 사이의 이격 거리의 상한은 피검사 회로 기판(1)의 피검사용의 전극(2, 3)의 치수 및 피치, 및 전류용 단자 전극(27)과 전압용 단자 전극(28)의 치수에 따라 정해지는 것이며, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 통상은 500㎛ 이하이다. 이 이격 거리가 너무 큰 경우에는, 사이즈의 작은 피검사 회로 기판(1)의 피검사 전극(2)(피검사 전극(3))에 대해서 전류용 단자 전극(27)과 전압용 단자 전극(28)의 양쪽 모두를 적절히 배치하는 것이 곤란해진다. On the other hand, the upper limit of the separation distance between the current terminal electrode 27 and the voltage terminal electrode 28 is the size and pitch of the electrodes 2 and 3 for inspection of the circuit board 1 to be inspected, and the terminals for current. It is determined according to the dimensions of the electrode 27 and the terminal electrode 28 for voltage, and is not particularly limited, but is usually 500 µm or less. If the separation distance is too large, the current terminal electrode 27 and the voltage terminal electrode 28 with respect to the inspected electrode 2 (under-test electrode 3) of the small to-be-tested circuit board 1 are tested. It becomes difficult to arrange both of them appropriately.

한편, 피치 변환용 기판(23)의 다른 쪽 표면, 즉, 피검사 회로 기판(1)의 반대측에는, 도 17에 나타낸 것처럼 중계 핀 유닛(31)의 도전 핀(32)에 전기적으로 접속되는 복수의 단자 전극(24)이 형성되어 있다. 이들 단자 전극(24)은, 예를 들 면 피치가 2.54㎜, 1.8㎜, 1.27㎜, 1.06㎜, 0.8㎜, 0.75㎜, 0.5㎜, 0.45㎜, 0.3㎜등에는 0.2㎜의 일정 피치의 격자점 위에 배치되어 있고, 그 피치는 중계 핀 유닛(31)의 도전 핀(32)의 배치 피치와 동일하다. On the other hand, on the other surface of the substrate 23 for pitch conversion, that is, on the opposite side of the circuit board 1 to be tested, a plurality of electrically connected to the conductive pins 32 of the relay pin unit 31 as shown in FIG. The terminal electrode 24 of is formed. These terminal electrodes 24 have, for example, a grid point having a constant pitch of 0.2 mm at a pitch of 2.54 mm, 1.8 mm, 1.27 mm, 1.06 mm, 0.8 mm, 0.75 mm, 0.5 mm, 0.45 mm, 0.3 mm and the like. It is arrange | positioned above and the pitch is the same as the arrangement pitch of the conductive pin 32 of the relay pin unit 31. As shown in FIG.

도 18에 나타낸 것처럼, 도 16의 각각의 접속 전극(25), 즉, 전류용 단자 전극(27)과 전압용 단자 전극(28)은 각각, 다른 배선(52) 및 절연 기판(51)의 두께 방향으로 관통하는 내부 배선(53)에 의해 대응하는 도 17의 단자 전극(24)에 전기적으로 접속되어 있다. As shown in FIG. 18, each of the connecting electrodes 25 in FIG. 16, that is, the current terminal electrode 27 and the voltage terminal electrode 28, has the thicknesses of the other wiring 52 and the insulating substrate 51, respectively. It is electrically connected to the corresponding terminal electrode 24 of FIG. 17 by the internal wiring 53 penetrating in the direction.

한편, 테스터측 커넥터(41)의 커넥터 기판(43)에는, 그 표면의 중계 핀 유닛(31) 측에 도 14, 도 15 및 도 19에 나타낸 것처럼 핀측 전극(45)이 형성되어 있다. 이들 핀측 전극(45)은, 도 19에 나타낸 것처럼 피치 변환용 기판(23)의 접속 전극(25), 즉, 전류용 단자 전극(27)과 전압용 단자 전극(28)에 별개로 각각 전기적으로 접속하도록 전류용 핀측 전극(47)과 전압용 핀측 전극(48)으로 구성되어 있고, 중계 핀 유닛(31)의 도전 핀(32)에 대응하는 위치에 배치되어 있다. On the other hand, in the connector board 43 of the tester side connector 41, the pin side electrode 45 is formed in the relay pin unit 31 side of the surface as shown to FIG. 14, FIG. 15, and FIG. These pin-side electrodes 45 are electrically connected separately to the connecting electrode 25 of the pitch conversion substrate 23, that is, the current terminal electrode 27 and the voltage terminal electrode 28, as shown in FIG. It is comprised by the electric pin side electrode 47 and the voltage pin side electrode 48 so that it may connect, and is arrange | positioned in the position corresponding to the electrically conductive pin 32 of the relay pin unit 31. As shown in FIG.

이 경우, 이들 핀측 전극(45)은, 일정 피치, 예를 들면 2.54㎜, 1.8㎜, 1.27㎜, 1.06㎜, 0.8㎜, 0.75㎜, 0.5㎜, 0.45㎜, 0.3㎜ 또는 0.2㎜의 일정 피치의 격자점 위에 배치되어 있고, 그 배치 피치는 중계 핀 유닛(31)의 도전 핀(32)의 배치 피치와 동일하다. In this case, these pin side electrodes 45 have a constant pitch, for example, 2.54 mm, 1.8 mm, 1.27 mm, 1.06 mm, 0.8 mm, 0.75 mm, 0.5 mm, 0.45 mm, 0.3 mm or 0.2 mm. It is arrange | positioned on the grid point, and the arrangement pitch is the same as the arrangement pitch of the conductive pin 32 of the relay pin unit 31. FIG.

각각의 핀측 전극(45)은 절연 기판의 표면에 형성된 배선 패턴 및 그 내부에 형성된 내부 배선에 의해 테스터측 전극(44)에 전기적으로 접속되어 있다. Each pin-side electrode 45 is electrically connected to the tester side electrode 44 by a wiring pattern formed on the surface of the insulated substrate and internal wiring formed therein.

또한, 이 실시 형태에서는, 핀측 전극(45)을 핀 형상으로 했지만, 핀측 전극 (45)의 형상은 핀 형상으로 한정되는 것은 아니고, 예를 들면 평탄한 전극으로 하는 등 여러 가지의 변경이 가능하다. In addition, in this embodiment, although the pin side electrode 45 was made into pin shape, the shape of the pin side electrode 45 is not limited to a pin shape, For example, various changes are possible, such as making it a flat electrode.

이와 같이 구성되는 본 실시 형태의 검사장치(10)에서는, 도 14에 나타낸 것처럼 피검사 회로 기판(1)의 전극(2) 및 전극(3)은 제1의 이방 도전성 시트(22a, 22b), 피치 변환용 기판(23a, 23b), 제2의 이방 도전성 시트(26a, 26b), 도전 핀(32a, 32b), 제3의 이방 도전성 시트(42a, 42b), 커넥터 기판(43a, 43b)을 개재시켜, 최외측에 배치된 베이스 판(46a, 46b)을 테스터의 가압 기구에 의해 규정의 압력으로 압압 함으로써 테스터(도시하지 않음)에 전기적으로 접속되고, 피검사 회로 기판(1)의 전극 간에 있어서의 전기 저항 측정 등의 전기 검사가 행해진다. In the inspection apparatus 10 of this embodiment comprised in this way, as shown in FIG. 14, the electrode 2 and the electrode 3 of the circuit board 1 to be tested are the first anisotropic conductive sheets 22a and 22b, The pitch conversion substrates 23a and 23b, the second anisotropic conductive sheets 26a and 26b, the conductive pins 32a and 32b, the third anisotropic conductive sheets 42a and 42b, and the connector substrates 43a and 43b. The base plates 46a and 46b disposed on the outermost side are pressed to a prescribed pressure by a pressurizing mechanism of the tester to be electrically connected to a tester (not shown), and between the electrodes of the circuit board 1 under test. Electrical inspection, such as electrical resistance measurement in it, is performed.

이 경우, 도 19에 나타낸 것처럼 피검사 회로 기판(1)의 피검사 전극(2)(피검사 전극(3))에 대해서 제1의 이방 도전성 시트(22)를 개재시켜 피치 변환용 기판(23)의 피검사 회로 기판(1)측에 있어서의 한 쌍의 전류용 단자 전극(27)과 전압용 단자 전극(28)이 전기적으로 접속된다. In this case, as shown in FIG. 19, the pitch conversion board | substrate 23 is interposed with the 1st anisotropically conductive sheet 22 with respect to the to-be-tested electrode 2 (inspection electrode 3) of the to-be-tested circuit board 1. The pair of current terminal electrodes 27 and the voltage terminal electrodes 28 on the side of the circuit board 1 to be inspected are electrically connected to each other.

그리고 피치 변환용 기판(23)의 피검사 회로 기판(1)측에 있어서의 한 쌍의 전류용 단자 전극(27)과 전압용 단자 전극(28)으로부터 피치 변환용 기판(23)의 피검사 회로 기판(1)과 반대측의 단자 전극(24), 제2의 이방 도전성 시트(26), 중계 핀 유닛(31)의 도전 핀(32), 제3의 이방 도전성 시트(42)를 개재시켜, 피치 변환용 기판(23)의 전류용 단자 전극(27)이 커넥터 기판(43)의 전류용 핀측 전극(47)에 전기적으로 접속됨과 함께 피치 변환용 기판(23)의 전압용 단자 전극(28)이 커넥터 기판(43)의 전압용 단자 전극(48)에 전기적으로 접속되도록 되어 있다. And the circuit under test of the pitch conversion substrate 23 from the pair of current terminal electrodes 27 and the voltage terminal electrode 28 on the circuit under test 1 side of the substrate 23 for pitch conversion. The pitch is provided through the terminal electrode 24 on the opposite side to the substrate 1, the second anisotropic conductive sheet 26, the conductive pin 32 of the relay pin unit 31, and the third anisotropic conductive sheet 42. The current terminal electrode 27 of the conversion substrate 23 is electrically connected to the current pin side electrode 47 of the connector substrate 43, while the voltage terminal electrode 28 of the pitch conversion substrate 23 is It is electrically connected to the voltage terminal electrode 48 of the connector board 43.

이것에 의해, 도 19에 나타낸 것처럼 피검사 회로 기판(1)의 각 피검사용 전극(2, 3)에 대해서 피치 변환용 기판(23a, 23b)의 전류용 단자 전극(27a, 27b)을 개재시켜 전류계측 경로(I)가 구성되게 되는 한편, 피검사 회로 기판(1)의 각 피검사용 전극(2, 3)에 대해서 피치 변환용 기판(23a, 23b)의 전압용 단자 전극(28a, 28b)을 개재시켜 전압계측 경로(V)가 구성되게 된다. As a result, as shown in FIG. 19, the terminal electrodes 27a and 27b for current of the substrates 23a and 23b for pitch conversion are interposed between the electrodes 2 and 3 for inspection of the circuit board 1 to be inspected. While the current measuring path I is configured, the voltage terminal electrodes 28a and 28b of the substrates 23a and 23b for pitch conversion with respect to the electrodes 2 and 3 for inspection of the circuit board 1 to be inspected. The voltage measuring path V is formed through the gap.

따라서, 피검사 회로 기판(1)의 각 피검사용 전극(2, 3)에 대해서 피치 변환용 기판(23a, 23b)의 전압용 단자 전극(28a, 28b)을 개재시켜 전압계측 경로(V)에 전압을 인가하면서, 피치 변환용 기판(23a, 23b)의 전류용 단자 전극(27a, 27b)을 개재시켜 전류계측 경로(I)에 의해, 피검사 회로 기판(1)의 각 피검사용 전극(2, 3)을 흐르는 전류를 측정하고, 이것에 의해 피검사 회로 기판(1)의 배선 패턴이 소정의 성능을 가지는지의 여부에 대한 전기적 특성의 확인 시험을 행할 수 있다. Therefore, the voltage measuring path V is connected to the electrodes 2 and 3 for inspection of the circuit board 1 through the voltage terminal electrodes 28a and 28b of the pitch conversion substrates 23a and 23b. Each of the electrodes under inspection 2 of the circuit under test 1 by the current measurement path I through the current terminal electrodes 27a and 27b of the pitch conversion substrates 23a and 23b while applying a voltage. , 3) and the current flowing through 3) can be measured, whereby a test for confirming the electrical characteristics as to whether or not the wiring pattern of the circuit board 1 under test has a predetermined performance can be performed.

반대로, 피검사 회로 기판(1)의 각 전류용 피검사용 전극(2, 3)에 대해서 피치 변환용 기판(23a, 23b)의 전류용 단자 전극(27a, 27b)을 개재시켜 전류계측 경로(I)에 전류를 공급하면서, 피치 변환용 기판(23a, 23b)의 전압용 단자 전극(28a, 28b)을 개재시켜 전압계측 경로(V)에 의해 피검사 회로 기판(1)의 각 피검사용 전극(2, 3)에 대해서 전압을 측정하고, 이것에 의해 피검사 회로 기판(1)의 배선 패턴이 소정의 성능을 가지는지의 여부에 대한 전기적 특성의 확인 시험을 행할 수 있다. On the contrary, the current measurement path I is provided through the current terminal electrodes 27a and 27b of the pitch converting substrates 23a and 23b with respect to the current inspection target electrodes 2 and 3 of the circuit under test 1. ), While the current is supplied to each of the inspected electrodes of the circuit under test 1 by the voltage measuring path V through the voltage terminal electrodes 28a and 28b of the substrate 23a and 23b for pitch conversion. Voltage is measured about 2, 3), and the confirmation test of the electrical characteristic about whether the wiring pattern of the circuit board 1 under test has a predetermined performance can be performed by this.

이와 같이, 피검사 회로 기판(1)의 각 피검사용 전극(2, 3)에 대해서 별개의 전압계측 경로(V), 전류계측 경로(I)를 개재시켜 별개로 전압과 전류를 측정할 수 있으므로, 검사회로 기판의 배선 패턴이 소정의 성능을 가지는 지의 여부에 대한 전기적 특성에 대해 정확한 확인 시험을 행할 수 있고, 게다가, 확인 시험을 단시간에 실시할 수 있다. In this way, the voltage and current can be measured separately through the voltage measuring path V and the current measuring path I with respect to each of the electrodes 2 and 3 for inspection of the circuit under test 1. In addition, an accurate confirmation test can be performed on the electrical characteristics of whether or not the wiring pattern of the inspection circuit board has a predetermined performance, and the confirmation test can be performed in a short time.

또한, 피검사 회로 기판(1)의 피검사회로에 대해서, 전류를 공급하면서 전압을 측정할 수 있으므로, 종래의 검사장치에 있어서의 도통 저항값의 양부 판단의 설정 전압보다도 낮은 설정 전압에 있어서, 피검사 회로 기판(1)의 피검사회로의 도통 저항값을 안정되게 측정할 수 있다. In addition, since the voltage can be measured while supplying a current to the circuit under test 1 of the circuit under test 1, at a set voltage lower than the setting voltage for determining whether the conduction resistance value in a conventional inspection apparatus is acceptable, The conduction resistance value of the circuit under test of the circuit under test 1 can be measured stably.

즉, 고정밀의 검사의 요건으로서 낮은 설정 전압에서의 회로의 양부 판단이 필요해지지만, 본 실시 형태의 검사장치에 의하면 잠재적인 전기적 결함을 가지는 피검사 회로 기판을 높은 확률로 불량품으로서 판단해서 제거할 수 있으므로, 신뢰성이 높은 회로 기판의 확인 시험을 실시하는 것이 가능하다. In other words, as a requirement for high precision inspection, it is necessary to judge whether the circuit is at a low set voltage, but according to the inspection apparatus of the present embodiment, a circuit board having a potential electrical defect can be judged as a defective product with high probability and removed. Therefore, it is possible to perform the confirmation test of a highly reliable circuit board.

또한, 피검사 회로 기판(1)의 각 피검사용 전극(2, 3)에 대해서 피치 변환용 기판(23a, 23b)의 전압용 단자 전극(28a, 28b)을 개재시키고, 예를 들면 정전압 장치를 이용해서 전압계측 경로(V)에 대해서 일정한 전압을 가하면서, 피치 변환용 기판(23a, 23b)의 전류용 단자 전극(27a, 27b)을 개재시켜 전류계측 경로(I)에 전류를 공급하고, 피검사 회로 기판(1)의 각 피검사용 전극(2, 3)으로부터의 전류를 전류계로 측정함으로써 피검사 회로 기판(1)의 배선 패턴이 소정의 성능을 가지는지의 여부에 대한 전기적 특성의 확인 시험을 행할 수 있다. In addition, the electrodes 2 and 3 of the circuit board 1 to be inspected are interposed with the voltage terminal electrodes 28a and 28b of the pitch conversion boards 23a and 23b, for example, By applying a constant voltage to the voltage measuring path V, the current is supplied to the current measuring path I via the current terminal electrodes 27a and 27b of the pitch conversion substrates 23a and 23b. Confirmation of the electrical characteristics as to whether the wiring pattern of the circuit board 1 under test has a predetermined performance by measuring the current from each of the electrodes 2 and 3 for inspection of the circuit under test 1 with an ammeter. The test can be done.

도 20은 본 발명의 회로 기판의 검사장치에 있어서의 다른 실시 형태를 나타낸 단면도, 도 21은 도 20의 검사장치의 검사시에 있어서의 적층 상태를 나타낸 단 면도이다. 또한, 전술한 실시 형태에 있어서의 원가요소에 대응하는 것은 동일한 부호로 나타내고, 그 상세한 설명은 생략한다. 20 is a cross-sectional view showing another embodiment of the inspection apparatus of the circuit board of the present invention, and FIG. 21 is a cross-sectional view showing a lamination state at the time of inspection of the inspection apparatus of FIG. In addition, the thing corresponding to the cost element in embodiment mentioned above is represented with the same code | symbol, and the detailed description is abbreviate | omitted.

본 실시 형태의 검사장치의 구성은 기본적으로는 전술한 실시 형태와 동일하지만, 중계 핀 유닛이 높이 편차를 가지는 피검사 회로 기판의 피검사 전극에 대해서 더욱 안정적인 전기적 접촉을 확보할 수 있는 구성으로 되어 있다. The configuration of the inspection apparatus of the present embodiment is basically the same as the above-described embodiment, but the relay pin unit is configured to ensure more stable electrical contact with the inspected electrode of the inspected circuit board having the height deviation. have.

본 실시 형태에 있어서의 중계 핀 유닛(31)은 도 20, 도 21, 및 도 22에 나타낸 것처럼 상하 방향을 향하도록 병렬로, 소정의 피치로 설치된 다수의 도전 핀(32a, 32b)을 갖추고 있다. 또, 중계 핀 유닛(31)은 이들 도전 핀(32a, 32b)의 양단 측에 설치되어 도전 핀(32a, 32b)을 삽통 지지하는 피검사 회로 기판(1)측에 배치된 제1의 절연판(34a, 34b)과 피검사 회로 기판(1)측과 반대측에 배치된 제2의 절연판(35a, 35b)의 2매의 절연판을 갖추고 있다. The relay pin unit 31 in the present embodiment has a plurality of conductive pins 32a and 32b provided in a predetermined pitch in parallel so as to face the vertical direction as shown in FIGS. 20, 21, and 22. . In addition, the relay pin unit 31 is provided at both ends of these conductive pins 32a and 32b, and is arranged on the side of the circuit board 1 to be inspected for inserting and supporting the conductive pins 32a and 32b. Two insulating plates, 34a and 34b and second insulating plates 35a and 35b disposed on the side opposite to the circuit board 1 side to be inspected, are provided.

도전 핀(32)은, 예를 들면 도 22에 나타낸 것처럼 지름이 큰 중앙부(82)와, 이것보다 지름이 작은 단부(81a, 81b)가 설치되어 있다. For example, as shown in FIG. 22, the conductive pin 32 is provided with a central portion 82 having a larger diameter and end portions 81a and 81b having a smaller diameter than this.

제1의 절연판(34)과 제2의 절연판(35)에는 도전 핀(32)의 단부(81)가 삽입되는 관통구멍(83)이 형성되어 있다. 그리고, 관통구멍(83)의 지름이 도전 핀(32)의 단부(81)의 지름보다 크고, 또한 중앙부(82)의 지름보다 작게 형성되고, 이것에 의해 도전 핀(32)이 탈락하지 않도록 유지되어 있다. In the first insulating plate 34 and the second insulating plate 35, a through hole 83 into which the end portion 81 of the conductive pin 32 is inserted is formed. Then, the diameter of the through hole 83 is formed larger than the diameter of the end portion 81 of the conductive pin 32 and smaller than the diameter of the central portion 82, thereby keeping the conductive pin 32 from falling off. It is.

제1의 절연판(34)과 제2의 절연판(35)은 제1의 지지 핀(33) 및 제2의 지지 핀(37)에 의해 이들 간격이 도전 핀(32)의 중앙부(82)의 길이보다 길어지도록 고정되고, 이것에 의해 도전 핀(32)이 상하로 가동하도록 유지되어 있다. The first insulating plate 34 and the second insulating plate 35 are formed by the first supporting pin 33 and the second supporting pin 37 so that the gaps thereof are the length of the center portion 82 of the conductive pin 32. It is fixed so that it may become longer, and it hold | maintains so that the conductive pin 32 may move up and down.

도전 핀(32)의 단부(81a, 81b)의 길이는 절연판(34, 35)의 두께보다 길어지도록 형성되고, 이것에 의해 절연판(34, 35) 중 적어도 한쪽으로부터 도전 핀(32)이 돌출하게 되어 있다. The lengths of the end portions 81a and 81b of the conductive pins 32 are formed to be longer than the thicknesses of the insulating plates 34 and 35 so that the conductive pins 32 protrude from at least one of the insulating plates 34 and 35. It is.

중계 핀 유닛은, 다수의 도전 핀이, 일정 피치, 예를 들면 2.54㎜, 1.8㎜, 1.27㎜, 1.06㎜, 0.8㎜, 0.75㎜, 0.5㎜, 0.45㎜, 0.3㎜ 또는 0.2㎜의 피치의 격자점 위에 배치되어 있다. The relay pin unit includes a grid of a plurality of conductive pins having a pitch of a constant pitch, for example, 2.54 mm, 1.8 mm, 1.27 mm, 1.06 mm, 0.8 mm, 0.75 mm, 0.5 mm, 0.45 mm, 0.3 mm or 0.2 mm. It is placed on the point.

중계 핀 유닛(31)의 도전 핀(32)의 배치 피치와 피치 변환용 기판(23)에 설치된 단자 전극(24)의 배치 피치를 동일하게 함으로써, 도전 핀(32)을 개재시켜 피치 변환용 기판(23)이 테스터 측에 전기적으로 접속되게 되어 있다. By equalizing the arrangement pitch of the conductive pins 32 of the relay pin unit 31 and the arrangement pitch of the terminal electrodes 24 provided on the substrate 23 for pitch conversion, the substrate for pitch conversion via the conductive pins 32 is provided. 23 is electrically connected to the tester side.

또, 도 20 내지 도 22에 나타낸 것처럼, 중계 핀 유닛(31)에는 제1의 절연판(34a, 34b)과 제2의 절연판(35a, 35b)의 사이에 중간 유지 판(36a, 36b)이 배치되어 있다. 20 to 22, the intermediate holding plates 36a and 36b are disposed in the relay pin unit 31 between the first insulating plates 34a and 34b and the second insulating plates 35a and 35b. It is.

그리고, 제1의 절연판(34a, 34b)과 중간 유지 판(36a, 36b)의 사이에는 제1의 지지 핀(33a, 33b)이 배치되고, 이것에 의해 제1의 절연판(34a, 34b)과 중간 유지 판(36a, 36b)의 사이를 고정하게 되어 있다. Then, the first supporting pins 33a and 33b are disposed between the first insulating plates 34a and 34b and the intermediate holding plates 36a and 36b, whereby the first insulating plates 34a and 34b are disposed. The intermediate holding plates 36a and 36b are fixed.

마찬가지로, 제2의 절연판(35a, 35b)과 중간 유지 판(36a, 36b)의 사이에는 제2의 지지 핀(37a, 37b)이 배치되고, 이것에 의해 제2의 절연판(35a, 35b)과 중간 유지 판(36a, 36b)의 사이를 고정하게 되어 있다. Similarly, second supporting pins 37a and 37b are disposed between the second insulating plates 35a and 35b and the intermediate holding plates 36a and 36b, thereby providing the second insulating plates 35a and 35b. The intermediate holding plates 36a and 36b are fixed.

이 경우, 제1의 지지 핀(33)과 제2의 지지 핀(37)의 재질로서는 특별히 한정되는 것은 아니고, 예를 들면 놋쇠, 스테인레스 등의 금속제이다. In this case, it does not specifically limit as a material of the 1st support pin 33 and the 2nd support pin 37, For example, it is made of metals, such as brass and stainless steel.

또한, 제1의 절연판(34)과 중간 유지 판(36) 사이의 거리와 제2의 절연판(35)과 중간 유지 판(36) 사이의 거리로서는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 후술하는 바와 같이 제1의 절연판(34), 중간 유지 판(36), 및 제2의 절연판(35)의 탄성에 의한 피검사 회로 기판(1)의 피검사 전극(2, 3)의 높이 편차의 흡수성을 고려하면, 바람직하게는 2㎜ 이상, 보다 바람직하게는 2.5㎜ 이상이다. The distance between the first insulating plate 34 and the intermediate holding plate 36 and the distance between the second insulating plate 35 and the intermediate holding plate 36 are not particularly limited, but will be described later. Considering the absorbency of the height deviation of the inspected electrodes 2 and 3 of the circuit board 1 under test due to the elasticity of the insulating plate 34, the intermediate holding plate 36, and the second insulating plate 35 of Preferably it is 2 mm or more, More preferably, it is 2.5 mm or more.

그리고, 도 23에 나타낸 것처럼 제1의 지지 핀(33)의 중간 유지 판(36)에 대한 제1의 맞닿음 지지 위치(38A)와 제2의 지지 핀(37)의 중간 유지 판(36)에 대한 제2의 맞닿음 지지 위치(38B)는, 검사장치를 중간 유지 판(36)의 두께 방향(도 20에 있어서 상방으로부터 하방을 향하는 방향)으로 투영된 중간 유지 판 투영면(A) 위에 있어서 상이한 위치에 배치되어 있다. And as shown in FIG. 23, the 1st contact support position 38A with respect to the intermediate holding plate 36 of the 1st support pin 33, and the intermediate holding plate 36 of the 2nd support pin 37 is shown. The second abutting support position 38B with respect to the intermediate holding plate projection surface A on which the inspection apparatus is projected in the thickness direction of the intermediate holding plate 36 (the direction from the upper side to the lower side in FIG. 20). It is arranged in different positions.

이 경우, 상이한 위치로서는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 제1의 맞닿음 지지 위치(38A)와 제2의 맞닿음 지지 위치(38B)는 도 23에 나타낸 것처럼 중간 유지 판 투영면(A) 위에 있어서 격자 위에 형성되어 있는 것이 바람직하다. In this case, although it does not specifically limit as a different position, The 1st contact support position 38A and the 2nd contact support position 38B are on a grid | lattice on the intermediate holding plate projection surface A as shown in FIG. It is preferable that it is formed.

구체적으로는, 도 23에 나타낸 것처럼 중간 유지 판 투영면(A) 위에 있어서 인접하는 4개의 제1의 맞닿음 지지 위치(38A)로 이루어지는 단위 격자 영역(R1)에 1개의 제2의 맞닿음 지지 위치(38B)가 배치된다. 또, 중간 유지 판 투영면(A)에 있어서, 인접하는 4개의 제2의 맞닿음 지지 위치(38B)로 이루어지는 단위 격자 영역(R2)에 1개의 제1의 맞닿음 지지 위치(38A)가 배치되도록 구성되어 있다. 또한, 도 23에 있어서 제1의 맞닿음 지지 위치(38A)를 흑 동그라미, 제2의 맞닿음 지지 위치(38B)를 백 동그라미로 나타내고 있다. Specifically, as shown in FIG. 23, one second abutting support position is formed in the unit grid region R1 formed of four first abutting support positions 38A adjacent on the intermediate holding plate projection surface A. As shown in FIG. 38B is disposed. Moreover, in the intermediate | middle holding plate projection surface A, one 1st contact support position 38A is arrange | positioned in the unit grid area | region R2 which consists of four adjacent 2nd contact support positions 38B. Consists of. 23, the 1st contact support position 38A is shown with the black circle | round | yen, and the 2nd contact support position 38B is shown with the back circle.

또한, 본 실시 형태에서는 제1의 맞닿음 지지 위치(38A)의 단위 격자 영역(R1)의 대각선(Q1)의 중앙에, 1개의 제2의 맞닿음 지지 위치(38B)를 배치함과 함께 제2의 맞닿음 지지 위치(38B)의 단위 격자 영역(R2)의 대각선(Q2)의 중앙에 1개의 제1의 맞닿음 지지 위치(38A)를 배치하고 있지만, 이들의 상대적인 위치는 특별히 한정되는 것은 아니고 검사장치를 중간 유지 판의 두께 방향으로 투영된 중간 유지 판 투영면(A) 위에 있어서 상이한 위치에 배치되어 있으면 된다. 즉, 격자상으로 배치되지 않는 경우에는 이러한 상대 위치 관계로 구속되는 것은 아니고, 상기와 같이 검사장치(10)가 중간 유지 판의 두께 방향으로 투영된 중간 유지 판 투영면(A) 위에 있어서 상이한 위치에 배치되어 있으면 된다. In addition, in the present embodiment, one second abutting support position 38B is disposed at the center of the diagonal line Q1 of the unit lattice region R1 of the first abutting support position 38A, and Although one 1st contact support position 38A is arrange | positioned at the center of the diagonal line Q2 of the unit grid area | region R2 of 2 contact support positions 38B, these relative positions are specifically limited Instead, the inspection apparatus may be disposed at different positions on the intermediate holding plate projection surface A projected in the thickness direction of the intermediate holding plate. That is, when it is not arrange | positioned in a grid | lattice form, it is not restrained by such a relative position relationship, and as above, the inspection apparatus 10 is located in a different position on the intermediate holding plate projection surface A projected in the thickness direction of an intermediate holding plate. You just need to be arranged.

또, 이 경우, 서로 인접하는 제1의 맞닿음 지지 위치(38A) 사이의 이격 거리, 제2의 맞닿음 지지 위치(38B) 사이의 이격 거리는 특별히 한정되는 것은 아니고, 바람직하게는 10 내지 100㎜, 보다 바람직하게는 12 내지 70㎜, 특히 바람직하게는 15 내지 50㎜이다. In this case, the separation distance between the first abutting support positions 38A adjacent to each other and the separation distance between the second abutting support positions 38B are not particularly limited, and are preferably 10 to 100 mm. More preferably, it is 12-70 mm, Especially preferably, it is 15-50 mm.

또한, 제1의 절연판(34), 중간 유지 판(36), 제2의 절연판(35)으로서는 가요성을 가지는 것이 이용된다. 제1의 절연판(34), 중간 유지 판(36), 제2의 절연판(35)에 요구되는 가요성의 정도는, 제1의 절연판(34), 중간 유지 판(36), 제2의 절연판(35)의 양단부를 각각 10㎝ 간격으로 지지한 상태로 수평으로 배치했을 경우에 있어서, 상방으로부터 50kgf의 압력으로 가압함으로써 발생하는 휨이, 이들 절연판 폭의 0.02% 이하이며, 또한 상방으로부터 200kgf의 압력으로 가압하는 것에 의해서도 파괴 및 영구 변형이 생기지 않을 정도인 것이 바람직하다. As the first insulating plate 34, the intermediate holding plate 36, and the second insulating plate 35, those having flexibility are used. The degree of flexibility required for the first insulating plate 34, the intermediate holding plate 36, and the second insulating plate 35 includes the first insulating plate 34, the intermediate holding plate 36, and the second insulating plate ( In the case where both ends of 35) are horizontally arranged in a state supported by 10 cm intervals, the warpage generated by pressurizing at a pressure of 50 kgf from above is 0.02% or less of the width of these insulating plates, and a pressure of 200 kgf from above. It is preferable that it does not generate | occur | produce a fracture and permanent deformation even if it presses on.

제1의 절연판(34), 중간 유지 판(36), 제2의 절연판(35)의 구체적인 재료로서는 전술한 실시 형태에 있어서의 중계 핀 유닛의 절연판과 마찬가지인 것을 이용할 수 있고, 예를 들면 고유저항이 1×1010Ω·㎝ 이상인 절연성 재료가 바람직하다. As a specific material of the 1st insulating plate 34, the intermediate holding plate 36, and the 2nd insulating plate 35, the thing similar to the insulating plate of the relay pin unit in embodiment mentioned above can be used, For example, a resistivity The insulating material which is 1 * 10 <10> ( ohm) * cm or more is preferable.

제1의 절연판(34), 중간 유지 판(36), 제2의 절연판(35)의 각각의 두께는 제1의 절연판(34), 중간 유지 판(36), 제2의 절연판(35)을 구성하는 재료의 종류에 따라 적당히 선택되는데, 바람직하게는 1 내지 10㎜이다. The thickness of each of the first insulating plate 34, the intermediate holding plate 36, and the second insulating plate 35 is equal to that of the first insulating plate 34, the intermediate holding plate 36, and the second insulating plate 35. Although it selects suitably according to the kind of material to comprise, Preferably it is 1-10 mm.

이와 같이 구성되는 본 실시 형태의 검사장치에서는, 도 21에 나타낸 것처럼 피검사 회로 기판(1)의 전극(2) 및 전극(3)은 제1의 이방 도전성 시트(22a, 22b), 피치 변환용 기판(23a, 23b), 제2의 이방 도전성 시트(26a, 26b), 도전 핀(32a, 32b), 제3의 이방 도전성 시트(42a, 42b), 커넥터 기판(43a, 43b)을 개재시켜, 최외측에 배치된 베이스 판(46a, 46b)을 테스터의 가압 기구에 의해 규정의 압력으로 압압함으로써 테스터(도시하지 않음)에 전기적으로 접속되고, 피검사 회로 기판(1)의 전극 간에 있어서의 전기 저항 측정 등의 전기 검사가 행해진다. 이하, 도 24 내지 도 27을 참조하면서(편의적으로, 제2의 검사 지그(11b)만 나타냄), 제1의 검사 지그(11a)와 제2의 검사 지그(11b)의 사이에 피검사 회로 기판(1)의 양면을 협압했을 때에 있어서의 압력 흡수 작용 및 압력 분산 작용에 대해 설명한다. In the inspection apparatus of the present embodiment configured as described above, as shown in FIG. 21, the electrodes 2 and the electrodes 3 of the circuit board 1 under test are subjected to the first anisotropic conductive sheets 22a and 22b for pitch conversion. Through board | substrates 23a and 23b, 2nd anisotropically conductive sheets 26a and 26b, conductive pins 32a and 32b, 3rd anisotropically conductive sheets 42a and 42b, and connector board | substrates 43a and 43b, The base plates 46a and 46b disposed at the outermost side are electrically connected to a tester (not shown) by pressing the tester at a prescribed pressure by a pressurizing mechanism of the tester, and the electric power between the electrodes of the circuit board 1 to be tested. Electrical inspection such as resistance measurement is performed. Hereinafter, with reference to FIGS. 24-27 (only the 2nd inspection jig 11b is shown conveniently), the to-be-tested circuit board between the 1st inspection jig 11a and the 2nd inspection jig 11b. The pressure absorption action and the pressure dispersion | action action at the time of pinching both surfaces of (1) are demonstrated.

제1의 검사 지그(11a)와 제2의 검사 지그(11b)의 사이에 검사 대상인 피검사 회로 기판(1)의 양면을 협압해서 전기 검사를 행할 때, 도 24의 상태로부터 각 원 가요소를 적층시켜 가압을 개시한 초기 단계에서는(도 25) 중계 핀 유닛(31b)의 도전 핀(32b)의 이동과 제1의 이방 도전성 시트(22b)와 제2의 이방 도전성 시트(26b)와 제3의 이방 도전성 시트(42b)의 고무 탄성 압축으로 압력을 흡수하여, 피검사 회로 기판(1)의 피검사 전극의 높이 편차를 어느 정도 흡수할 수 있다. When the electric inspection is performed by clamping both surfaces of the circuit board 1 to be inspected between the first inspection jig 11a and the second inspection jig 11b, each cost element is removed from the state shown in FIG. In the initial stage in which the pressurization is started by laminating (FIG. 25), the movement of the conductive pin 32b of the relay pin unit 31b, the first anisotropic conductive sheet 22b, the second anisotropic conductive sheet 26b, and the third The pressure can be absorbed by rubber elastic compression of the anisotropic conductive sheet 42b of the anisotropic conductive sheet 42b, and the height variation of the inspected electrode of the circuit board 1 to be inspected can be absorbed to some extent.

그리고, 제1의 지지 핀(33b)의 중간 유지 판(36b)에 대한 제1의 맞닿음 지지 위치(38A)와 제2의 지지 핀(37b)의 중간 유지 판(36b)에 대한 제2의 맞닿음 지지 위치(38B)가, 중간 유지 판(36b)의 두께 방향으로 투영된 중간 유지 판 투영면(A)에 있어서 상이한 위치에 배치되어 있으므로, 도 26의 화살표로 나타낸 것처럼 상하 방향으로 힘이 작용하게 되어, 도 27에 나타낸 것처럼 제1의 검사 지그(11a)와 제2의 검사 지그(11b)의 사이에 검사 대상인 피검사 회로 기판(1)을 더욱 가압했을 때, 제1의 이방 도전성 시트(22b)와 제2의 이방 도전성 시트(26b)와 제3의 이방 도전성 시트(42b)의 고무 탄성 압축에 부가해서, 중계 핀 유닛(31b)의 제1의 절연판(34b)과 제2의 절연판(35b)과 제1의 절연판(34b)과 제2의 절연판(35b)의 사이에 배치된 중간 유지 판(36b)의 용수철 탄성에 의해, 피검사 회로 기판(1)의 피검사 전극(3)의 높이 편차, 예를 들면 땜납 볼 전극의 높이 편차에 대해서 압력 집중을 분산시켜 국부적인 응력 집중을 회피할 수 있다. Then, the first abutting support position 38A with respect to the middle holding plate 36b of the first supporting pin 33b and the second holding plate 36b with the second supporting pin 37b are attached. Since the abutment support position 38B is arrange | positioned in a different position in the intermediate holding plate projection surface A projected in the thickness direction of the intermediate holding plate 36b, a force acts in an up-down direction as shown by the arrow of FIG. As shown in FIG. 27, when the test target circuit board 1 to be inspected is further pressed between the first test jig 11a and the second test jig 11b, the first anisotropic conductive sheet ( In addition to the rubber elastic compression of 22b, the second anisotropic conductive sheet 26b, and the third anisotropic conductive sheet 42b, the first insulating plate 34b and the second insulating plate (of the relay pin unit 31b) The circuit to be inspected by the spring elasticity of the intermediate holding plate 36b disposed between 35b) and the first insulating plate 34b and the second insulating plate 35b. It is possible to avoid local stress concentration by dispersing the pressure concentration with respect to the height deviation of the inspected electrode 3 of the substrate 1, for example, the height deviation of the solder ball electrode.

즉, 도 26 및 도 27에 나타낸 것처럼, 제1의 지지 핀(33b)의 중간 유지 판(36b)과의 제1의 맞닿음 지지 위치(38A)를 중심으로 해서, 중간 유지 판(36b)이 제2의 절연판(35b)의 방향으로 휨과 함께(도 27의 일점 쇄선으로 둘러싼 E부분 참조), 제2의 지지 핀(37b)의 중간 유지 판(36b)과의 제2의 맞닿음 지지 위치(38B)를 중심으로 해서, 중간 유지 판(36b)이 제1의 절연판(34b)의 방향으로 휘게 된다(도 27의 일점 쇄선으로 둘러싼 D부분 참조). 또한, 이하, 본 명세서에서 「휜다」 및 「휘는 방향」이란, 중간 유지 판(36)이 볼록상이 되는 방향으로 돌출하도록 휘는 것 및 그 돌출 방향을 말한다. That is, as shown to FIG. 26 and FIG. 27, the intermediate holding plate 36b is centered around the 1st contact support position 38A with the intermediate holding plate 36b of the 1st support pin 33b. 2nd contact support position with the intermediate | middle holding plate 36b of the 2nd support pin 37b with curvature in the direction of the 2nd insulating plate 35b (refer to the E part enclosed by the dashed-dotted line of FIG. 27). The middle holding plate 36b is bent in the direction of the first insulating plate 34b with reference to 38B (see part D enclosed by the dashed-dotted line in FIG. 27). In addition, as used herein, the term &quot; curved &quot; and &quot; curved direction &quot; mean the bent and the protruding direction so that the intermediate holding plate 36 protrudes in a convex direction.

이와 같이, 중간 유지 판(36b)이 제1의 맞닿음 지지 위치(38A), 제2의 맞닿음 지지 위치(38B)를 중심으로 해서 서로 반대 방향으로 휘기 때문에, 제1의 검사 지그(11a)와 제2의 검사 지그(11b)의 사이에서 검사 대상인 피검사 회로 기판(1)을 더욱 가압했을 때, 중간 유지 판(36b)의 용수철 탄성력이 더욱 발휘되게 된다. Thus, since the intermediate | middle holding plate 36b bends in a mutually opposite direction centering on the 1st contact support position 38A and the 2nd contact support position 38B, the 1st inspection jig 11a is carried out. And the spring elastic force of the intermediate | middle holding plate 36b are exhibited further when the to-be-tested circuit board 1 which is a test | inspection is further pressed between and 2nd test jig 11b.

또, 도 27의 일점 쇄선으로 둘러싼 B부분으로 나타낸 것처럼, 제2의 이방 도전성 시트(26b)의 도전로 형성부의 돌출부의 압축에 의해 도전 핀(32b)의 높이가 흡수되지만, 이 돌출부의 압축에 의해 완전히 흡수되지 않는 압력이 제1의 절연판(34b)에 가해지게 된다. In addition, as indicated by the portion B enclosed by the dashed-dotted line in FIG. 27, the height of the conductive pin 32b is absorbed by the compression of the protrusion of the conductive path forming portion of the second anisotropic conductive sheet 26b, but the compression of the protrusion Pressure not fully absorbed by the pressure is applied to the first insulating plate 34b.

이것에 의해, 도 27의 일점 쇄선으로 둘러싼 C부분으로 나타낸 것처럼, 제1의 절연판(34b)과 제2의 절연판(35b)도 각각, 어느 정도 제1의 지지 핀(33b), 제2의 지지 핀(37b)의 맞닿음 위치에서 서로 반대 방향으로 휘기 때문에, 제1의 검사 지그(11a)와 제2의 검사 지그(11b)의 사이에서 검사 대상인 피검사 회로 기판(1)을 더욱 가압했을 때, 제1의 절연판(34b)과 제2의 절연판(35b)의 용수철 탄성력이 더욱 발휘되게 된다. Thereby, as shown by the C part enclosed by the dashed-dotted line of FIG. 27, the 1st insulating plate 34b and the 2nd insulating plate 35b are also the 1st support pin 33b and the 2nd support to some extent, respectively. When the pin 37b is bent in a direction opposite to each other at the contact position of the pin 37b, when the test circuit board 1 to be inspected is further pressed between the first test jig 11a and the second test jig 11b. The spring elastic force of the first insulating plate 34b and the second insulating plate 35b is further exerted.

이것에 의해, 높이 편차를 가지는 피검사 회로 기판(1)의 피검사 전극의 각각에 대해서도 안정적인 전기적 접촉이 확보되고, 더욱 응력 집중이 저감되므로, 이방 도전성 시트의 국부적인 파손이 억제된다. 그 결과, 이방 도전성 시트의 반복 사용 내구성이 향상하므로, 이방 도전성 시트의 교환 회수가 줄어들고 검사 작업 효율이 향상하게 된다. As a result, stable electrical contact is secured to each of the electrodes to be inspected of the circuit board 1 having the height deviation, and stress concentration is further reduced, so that local breakage of the anisotropic conductive sheet is suppressed. As a result, since the repeated use durability of an anisotropic conductive sheet improves, the replacement | exchange frequency of an anisotropic conductive sheet reduces and inspection work efficiency improves.

도 28은 본 발명의 검사장치의 다른 실시 형태를 나타낸 도 24와 마찬가지의 단면도(편의적으로 제2의 검사 지그만 나타내고 있다), 도 29는 그 중계 핀 유닛의 확대 단면도이다. 또한, 전술한 실시 형태에 있어서의 원가요소에 대응하는 것은 동일한 부호로 나타내고, 그 상세한 설명은 생략한다. FIG. 28 is a sectional view similar to FIG. 24 showing another embodiment of the inspection apparatus of the present invention (only the second inspection jig is shown for convenience), and FIG. 29 is an enlarged sectional view of the relay pin unit. In addition, the thing corresponding to the cost element in embodiment mentioned above is represented with the same code | symbol, and the detailed description is abbreviate | omitted.

본 실시 형태의 검사장치에서는 제1의 절연판(34b)과 제2의 절연판(35b)의 사이에 복수개(이 실시 형태에서는 3개)의 중간 유지 판(36b)이 소정 간격 이격해서 배치됨과 함께, 이들 인접하는 중간 유지 판(36b)끼리의 사이에 유지 판 지지 핀(39b)가 배치되어 있다. In the inspection apparatus of the present embodiment, a plurality of intermediate holding plates 36b (three in this embodiment) are disposed between the first insulating plate 34b and the second insulating plate 35b at predetermined intervals, The holding plate support pin 39b is arrange | positioned between these adjacent intermediate holding plates 36b.

이 경우, 적어도 1개의 중간 유지 판(36b)에 있어서, 중간 유지 판(36b)에 대해서 일면 측으로부터 맞닿는 유지 판 지지 핀(39b)의 중간 유지 판(36b)에 대한 맞닿음 지지 위치와 중간 유지 판(36b)에 대해서 다른 면 측으로부터 맞닿는 제1의 지지 핀(33b), 제2의 지지 핀(37b), 또는 유지 판 지지 핀(39b)의 중간 유지 판(36b)에 대한 맞닿음 지지 위치가 중간 유지 판(36b)의 두께 방향으로 투영된 중간 유지 판 투영면에 있어서 상이한 위치에 배치되어 있는 것이 필요하다. In this case, in the at least one intermediate holding plate 36b, the contact holding position and the intermediate holding | maintenance with respect to the intermediate holding plate 36b of the holding plate support pin 39b which abut against the intermediate holding plate 36b from one surface side. Abutting support position with respect to the intermediate holding plate 36b of the 1st support pin 33b, the 2nd support pin 37b, or the holding plate support pin 39b which abuts from the other surface side with respect to the board 36b. Is required to be disposed at a different position on the intermediate holding plate projection surface projected in the thickness direction of the intermediate holding plate 36b.

가장 바람직하게는, 모든 중간 유지 판(36b)에 있어서, 중간 유지 판(36b)에 대해서 일면 측으로부터 맞닿는 유지 판 지지 핀(39b)의 중간 유지 판(36b)에 대한 맞닿음 지지 위치와 중간 유지 판(36b)에 대해서 다른 면 측으로부터 맞닿는 제1의 지지 핀(33b), 제2의 지지 핀(37b) 또는 유지 판 지지 핀(39b)의 중간 유지 판(36b)에 대한 맞닿음 지지 위치가 중간 유지 판(36b)의 두께 방향으로 투영된 중간 유지 판 투영면에 있어서 상이한 위치에 배치된다. Most preferably, in all the intermediate holding plates 36b, the contact holding positions and the intermediate holding positions with respect to the intermediate holding plate 36b of the holding plate support pin 39b abutting from one surface side with respect to the intermediate holding plate 36b. The abutment support position with respect to the intermediate holding plate 36b of the 1st support pin 33b, the 2nd support pin 37b, or the retaining plate support pin 39b which abuts from the other surface side with respect to the board 36b is It is arrange | positioned in a different position in the intermediate holding plate projection surface projected in the thickness direction of the intermediate holding plate 36b.

본 실시 형태에서는, 3개의 중간 유지 판(36b) 중 상측의 중간 유지 판(36b)에 있어서, 중간 유지 판(36b)에 대해서 일면 측으로부터 맞닿는 유지 판 지지 핀(39b)의 중간 유지 판(36b)에 대한 맞닿음 지지 위치(39A)와 중간 유지 판(36b)에 대해서 다른 면 측으로부터 맞닿는 제1의 지지 핀(33b)의 중간 유지 판(36b)에 대한 맞닿음 지지 위치(38A)가 중간 유지 판(36b)의 두께 방향으로 투영된 중간 유지 판 투영면에 있어서 상이한 위치에 배치되어 있다. In this embodiment, in the upper middle holding plate 36b of the three middle holding plates 36b, the middle holding plate 36b of the holding plate supporting pin 39b which abuts against the middle holding plate 36b from one surface side. The abutment support position 39A with respect to) and the abutment support position 38A with respect to the intermediate holding plate 36b of the first support pin 33b abutting from the other surface side with respect to the intermediate holding plate 36b are intermediate. It is arrange | positioned in a different position in the intermediate holding plate projection surface projected in the thickness direction of the holding plate 36b.

또, 3개의 중간 유지 판(36b) 중 중앙의 중간 유지 판(36b)에 있어서, 중간 유지 판(36b)에 대해서 일면 측으로부터 맞닿는 유지 판 지지 핀(39b)의 중간 유지 판(36b)에 대한 맞닿음 지지 위치(39A)와, 중간 유지 판(36b)에 대해서 다른 면 측으로부터 맞닿는 유지 판 지지 핀(39b)의 중간 유지 판(36b)에 대한 맞닿음 지지 위치(39A)가 중간 유지 판(36b)의 두께 방향으로 투영된 중간 유지 판 투영면에 있어서 상이한 위치에 배치되어 있다. Moreover, in the middle middle holding plate 36b of the three middle holding plates 36b, with respect to the middle holding plate 36b of the holding plate support pin 39b which abuts from the one surface side with respect to the middle holding plate 36b. The abutment support position 39A and the abutment support position 39A with respect to the intermediate holding plate 36b of the holding plate support pin 39b abutting from the other surface side with respect to the intermediate holding plate 36b are the intermediate holding plate ( It is arrange | positioned in a different position in the intermediate | middle holding plate projection surface projected in the thickness direction of 36b).

또, 3개의 중간 유지 판(36b) 중 하측의 중간 유지 판(36b)에 있어서, 중간 유지 판(36b)에 대해서 일면 측으로부터 맞닿는 유지 판 지지 핀(39b)의 중간 유지 판(36b)에 대한 맞닿음 지지 위치(39A)와 중간 유지 판(36b)에 대해서 다른 면 측으로부터 맞닿는 제2의 지지 핀(37b)의 중간 유지 판(36b)에 대한 맞닿음 지지 위치(38B)가 중간 유지 판(36b)의 두께 방향으로 투영된 중간 유지 판 투영면에 있어 서 상이한 위치에 배치되어 있다. In the lower middle holding plate 36b of the three middle holding plates 36b, the middle holding plate 36b of the holding plate supporting pin 39b which abuts from the one surface side with respect to the middle holding plate 36b. The abutment support position 38B with respect to the abutment support position 39A and the intermediate holding plate 36b of the second support pin 37b which abuts from the other surface side with respect to the intermediate holding plate 36b is an intermediate holding plate ( It is arrange | positioned in a different position in the intermediate holding plate projection surface projected in the thickness direction of 36b).

이와 같이 구성함으로써, 이들 복수개의 중간 유지 판(36b)에 의해 용수철 탄성이 더욱 발휘되게 되고, 피검사 회로 기판(1)의 피검사 전극(3)의 높이 편차에 대해서, 압력 집중을 분산시켜 국부적인 응력 집중을 더욱 회피할 수 있고 제1의 이방 도전성 시트(22b)의 국부적인 파손이 억제되고, 그 결과, 제1의 이방 도전성 시트(22b)의 반복 사용 내구성이 향상하므로 제1의 이방 도전성 시트(22b)의 교환 회수가 줄어들고, 검사 작업 효율이 향상된다. By such a configuration, the spring elasticity is further exerted by the plurality of intermediate holding plates 36b, and the pressure concentration is dispersed and localized to the height deviation of the inspected electrode 3 of the circuit board 1 to be inspected. Concentration of phosphorus stress can be further avoided, and local breakage of the first anisotropic conductive sheet 22b is suppressed, and as a result, the repeated use durability of the first anisotropic conductive sheet 22b is improved, so that the first anisotropic conductive The number of replacements of the sheet 22b is reduced, and the inspection work efficiency is improved.

또한, 중간 유지 판(36)의 개수는 복수개여도 되고, 특별히 한정되는 것은 아니다. In addition, the number of the intermediate holding plates 36 may be multiple, and is not specifically limited.

또, 중간 유지 판(36)을 배치한 상기의 2개의 실시 형태에 있어서, 도 20, 도 21, 도 24, 도 25, 도 27 및 도 28에 나타낸 것처럼, 테스터측 커넥터(41)에 있어서의 커넥터 기판(43)과 베이스 판(46)의 사이에 지지 핀(49)을 배치해도 된다. 이들 지지 핀(49)에 의해, 제1의 지지 핀(33), 제2의 지지 핀(37)(도 28에서는 제1의 지지 핀(33), 제2의 지지 핀(37) 및 유지 판 지지 핀(39))이 주는 작용과 마찬가지로 해서 면압을 분산시키는 작용을 주는 것도 가능하다. In the above two embodiments in which the intermediate holding plate 36 is disposed, as shown in FIGS. 20, 21, 24, 25, 27, and 28, in the tester side connector 41. The support pin 49 may be disposed between the connector board 43 and the base plate 46. By these support pins 49, the first support pins 33 and the second support pins 37 (the first support pins 33, the second support pins 37 and the holding plate in Fig. 28). It is also possible to give the effect | action which distributes surface pressure similarly to the action which the support pin 39 gives.

이상에서 중간 유지 판을 배치한 중계 핀 유닛을 이용한 2개의 실시 형태에 대해 설명했지만, 이 중간 유지 판을 배치한 중계 핀 유닛을 이용한 검사장치에 대해서도, 도 14 내지 도 19에 있어서 설명한 실시 형태의 구성, 즉 피검사 회로 기판에 대해서 전류계측과 전압계측을 행하는 데 매우 적합한 구성을 적용할 수 있다. 이러한 검사장치의 부분 확대 단면도를 도 30에 나타낸다. Although two embodiments using the relay pin unit on which the intermediate holding plate is arranged have been described above, the inspection apparatus using the relay pin unit on which the intermediate holding plate is arranged is also the same as that of the embodiment described in FIGS. 14 to 19. A configuration, that is, a configuration that is very suitable for performing current measurement and voltage measurement on the circuit board under test can be applied. 30 is a partially enlarged sectional view of the inspection apparatus.

도시한 것처럼, 피검사 회로 기판(1)의 피검사 전극(2)(피검사 전극(3))에 대해서 제1의 이방 도전성 시트(22)를 개재시켜, 피치 변환용 기판(23)의 피검사 회로 기판(1)측의 한 쌍의 전류용 단자 전극(27)과 전압용 단자 전극(28)이 전기적으로 접속된다. 또한, 도 30에서는 설명의 편의상, 지지 핀(33, 37)을 생략한 상태로 도면을 나타내고 있다. As shown, the pitch of the board | substrate 23 for pitch conversion is interposed through the 1st anisotropically conductive sheet 22 with respect to the to-be-tested electrode 2 (inspection electrode 3) of the to-be-tested circuit board 1. The pair of current terminal electrodes 27 and voltage terminal electrodes 28 on the inspection circuit board 1 side are electrically connected. In addition, in FIG. 30, the figure is shown in the state which abbreviate | omitted the support pins 33 and 37 for convenience of description.

그리고, 피치 변환용 기판(23)의 피검사 회로 기판(1)측의 한 쌍의 전류용 단자 전극(27)과 전압용 단자 전극(28)으로부터, 피치 변환용 기판(23)의 피검사 회로 기판(1)과 반대측의 단자 전극(24), 제2의 이방 도전성 시트(26), 중계 핀 유닛(31)의 도전 핀(32), 제3의 이방 도전성 시트(42)를 개재시켜, 피치 변환용 기판(23)의 전류용 단자 전극(27)이 커넥터 기판(43)의 전류용 핀측 전극(47)에 전기적으로 접속됨과 함께, 피치 변환용 기판(23)의 전압용 단자 전극(28)이 커넥터 기판(43)의 전압용 단자 전극(48)에 전기적으로 접속되게 되어 있다. And the circuit under test of the pitch conversion board | substrate 23 is carried out from a pair of electric current terminal electrode 27 and the voltage terminal electrode 28 on the side of the circuit under test 1 of the circuit board 23 for pitch conversion. The pitch is provided through the terminal electrode 24 on the opposite side to the substrate 1, the second anisotropic conductive sheet 26, the conductive pin 32 of the relay pin unit 31, and the third anisotropic conductive sheet 42. The current terminal electrode 27 of the conversion substrate 23 is electrically connected to the current pin side electrode 47 of the connector substrate 43, and the voltage terminal electrode 28 of the pitch conversion substrate 23 is provided. The connector terminal 43 is electrically connected to the voltage terminal electrode 48.

이것에 의해, 피검사 회로 기판(1)의 각 피검사용 전극(2, 3)에 대해서, 피치 변환용 기판(23a, 23b)의 전류용 단자 전극(27a, 27b)을 개재시켜 전류계측 경로(I)가 구성되게 되는 한편, 피검사 회로 기판(1)의 각 피검사용 전극(2, 3)에 대해서, 피치 변환용 기판(23a, 23b)의 전압용 단자 전극(28a, 28b)을 개재시켜, 전압계측 경로(V)가 구성되게 된다. As a result, the current measurement paths (2, 3) of the test target circuit board 1 are interposed between the current terminal electrodes 27a, 27b of the pitch conversion boards 23a, 23b. While the I) is configured, the electrodes 2 and 3 for inspection of the circuit board 1 to be inspected are interposed between the voltage terminal electrodes 28a and 28b of the substrates 23a and 23b for pitch conversion. The voltage measuring path V is configured.

따라서, 피검사 회로 기판(1)의 각 피검사용 전극(2, 3)에 대해서, 피치 변환용 기판(23a, 23b)의 전압용 단자 전극(28a, 28b)을 개재시켜 전압계측 경로(V)에 전압을 인가하면서, 피치 변환용 기판(23a, 23b)의 전류용 단자 전극(27a, 27b) 을 개재시켜 전류계측 경로(I)에 의해 피검사 회로 기판(1)의 각 피검사용 전극(2, 3)을 흐르는 전류를 측정하고, 이것에 의해 피검사 회로 기판(1)의 배선 패턴이 소정의 성능을 가지는지의 여부에 대한 전기적 특성의 확인 시험을 행할 수 있다. Therefore, the voltage measurement path V is applied to each of the electrodes 2 and 3 for inspection of the circuit board 1 through the voltage terminal electrodes 28a and 28b of the substrates 23a and 23b for pitch conversion. Each of the electrodes to be inspected 2 of the circuit under test 1 by the current measuring path I via the current measuring path I through the current terminal electrodes 27a and 27b of the pitch conversion substrates 23a and 23b while applying a voltage to the substrate. , 3) and the current flowing through 3) can be measured, whereby a test for confirming the electrical characteristics as to whether or not the wiring pattern of the circuit board 1 under test has a predetermined performance can be performed.

반대로, 피검사 회로 기판(1)의 각 피검사용 전극(2, 3)에 대해서, 피치 변환용 기판(23a, 23b)의 전류용 단자 전극(27a, 27b)을 개재시켜 전류계측 경로(I)에 전류를 공급하면서, 피치 변환용 기판(23a, 23b)의 전압용 단자 전극(28a, 28b)을 개재시켜 전압계측 경로(V)에 의해 피검사 회로 기판(1)의 각 피검사용 전극(2, 3)에 대해서 전압을 측정하고, 이것에 의해 피검사 회로 기판(1)의 배선 패턴이 소정의 성능을 가지는지의 여부에 대한 전기적 특성의 확인 시험을 행할 수 있다. On the contrary, the current measurement path I is provided to each of the electrodes 2 and 3 for inspection of the circuit board 1 through the current terminal electrodes 27a and 27b of the pitch conversion substrates 23a and 23b. Each of the electrodes to be inspected 2 of the circuit under test 1 by the voltage measuring path V via the voltage measuring path V via the voltage terminal electrodes 28a and 28b of the pitch conversion substrates 23a and 23b. And 3), the voltage can be measured, and by this, the confirmation test of the electrical characteristic about whether the wiring pattern of the circuit board 1 under test has predetermined performance can be performed.

이상, 본 발명의 실시 형태에 대해 설명했지만, 본 발명은 이들 실시 형태로 한정되는 것은 아니고 그 요지를 일탈하지 않는 범위 내에 있어서 여러 가지의 변형, 변경 및 수정이 가능하다. As mentioned above, although embodiment of this invention was described, this invention is not limited to these embodiment, A various deformation | transformation, a change, and a correction are possible in the range which does not deviate from the summary.

예를 들면, 피검사 회로 기판(1)은 프린트 회로 기판 이외에 패키지 IC, MCM, CSP등의 반도체 집적회로 장치, 웨이퍼에 형성된 회로 장치여도 된다. 또, 프린트 회로 기판은 양면 프린트 회로 기판뿐만 아니라 한 면 프린트 회로 기판이어도 된다. For example, the circuit board 1 to be inspected may be a semiconductor integrated circuit device such as a package IC, an MCM, a CSP, or a circuit device formed on a wafer in addition to a printed circuit board. The printed circuit board may be a single-sided printed circuit board as well as a double-sided printed circuit board.

제1의 검사 지그(11a)와 제2의 검사 지그(11b)는 사용 재료, 부재 구조 등에 있어서 반드시 동일할 필요는 없고 이것들이 상이한 것이어도 된다. 또, 제1의 검사 지그(11a)와 제2의 검사 지그(11b)는 반드시 이것들을 상하에 배치할 필요는 없다. The 1st inspection jig 11a and the 2nd inspection jig 11b do not necessarily need to be the same in material, member structure, etc., and they may differ. In addition, the 1st inspection jig 11a and the 2nd inspection jig 11b do not necessarily need to arrange these up and down.

또, 테스터측 커넥터는 커넥터 기판과 같은 회로 기판과 이방 도전성 시트를 복수 적층하여 구성해도 된다. The tester-side connector may be formed by stacking a plurality of circuit boards such as a connector board and an anisotropic conductive sheet.

이하, 본 발명을 실시예에 의해 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예로 한정되는 것은 아니다.  Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited to these Examples.

[실시예 1]Example 1

(평가용 회로 기판) Evaluation Circuit Board

하기의 사양의 평가용 회로 기판을 준비하였다. The circuit board for evaluation of the following specification was prepared.

치수: 100㎜(세로)×100㎜(가로)×0.8㎜(두께) Dimensions: 100 mm (length) × 100 mm (width) × 0.8 mm (thickness)

상면측의 피검사 전극의 수: 7312개Number of inspected electrodes on the upper side: 7312

상면측의 피검사 전극의 지름: 0.3㎜Diameter of the inspected electrode on the upper surface side: 0.3 mm

상면측의 피검사 전극의 최소 배치 피치: 0.4㎜Minimum placement pitch of the inspection target electrode on the upper surface side: 0.4 mm

하면측의 피검사 전극의 수: 3784Number of inspected electrodes on lower surface: 3784

하면측의 피검사 전극의 지름: 0.3㎜Diameter of the inspected electrode on the lower surface side: 0.3 mm

하면측의 피검사 전극의 최소 배치 피치: 0.4㎜Minimum placement pitch of the electrode under test on the lower surface side: 0.4 mm

레일 반송형 회로 기판 자동 검사기(일본 전산 리드사제, 품명: STARREC V5)의 검사부에 적합한, 상기의 평가용 회로 기판을 검사하기 위한 회로 기판 검사장치(도 20)를 제작하였다. The circuit board test | inspection apparatus (FIG. 20) for test | inspecting the said circuit board for evaluation suitable for the test | inspection part of the rail conveyance type circuit board automatic tester (made by Nippon Computer Co., Ltd., product name: STARREC V5) was produced.

(1) 제1의 이방 도전성 시트(22) (1) First Anisotropic Conductive Sheet 22

도전성 입자가 두께 방향으로 배열함과 함께 면 방향으로 균일하게 분산된 하기의 제1의 이방 도전성 시트를 제작하였다. The electroconductive particle arrange | positioned in the thickness direction, and produced the following 1st anisotropic conductive sheet uniformly disperse | distributed to the surface direction.

치수: 110㎜×110㎜, 두께 0.1㎜Dimensions: 110 mm × 110 mm, thickness 0.1 mm

도전성 입자: 재질; 금 도금 처리를 한 니켈 입자, 평균 입자 지름; 20㎛, 함유율; 18체적%Conductive particles: material; Nickel particles with gold plating treatment, average particle diameter; 20 µm, content rate; 18% by volume

탄성 고분자 물질: 재질; 실리콘 고무, 경도; 40Elastomeric material: material; Silicone rubber, hardness; 40

(2) 피치 변환용 기판(23) (2) Pitch Conversion Substrate 23

유리 섬유 보강형 에폭시 수지로 이루어지는 절연 기판의 양면 전면에, 두께가 18㎛의 동으로 이루어지는 금속박 층을 형성한 적층 재료(마츠시타 전공사제, 품명: R-1766)에, 수치제어형 드릴링 장치에 의해 각각 적층 재료의 두께 방향으로 관통하는 지름 0.2㎜의 원형의 관통구멍을 합계 7312개 형성하였다. To a laminated material (Matsushita Electric Works, product name: R-1766) which formed the metal foil layer which consists of copper of 18 micrometers in thickness on the both surfaces of the insulating substrate which consists of glass fiber reinforcement type epoxy resin, respectively, by a numerical control type drilling apparatus. In total, 7312 circular through-holes having a diameter of 0.2 mm penetrating in the thickness direction of the laminated material were formed.

이어서, 관통구멍이 형성된 적층 재료에 대해서, EDTA 타입 동 도금액을 이용해서 무전해 도금 처리를 함으로써, 각 관통구멍의 내벽에 동 도금층을 형성하고, 또한 황산 동 도금액을 이용해서 전해 동 도금 처리를 함으로써, 각 관통구멍 내에 적층 재료 표면의 각 금속박 층을 서로 전기적으로 접속하는 두께 약 10㎛의 원통형의 바이어 홀을 형성하였다. Subsequently, the electroless plating treatment is performed on the laminated material having the through holes formed using an EDTA type copper plating solution, thereby forming a copper plating layer on the inner wall of each through hole, and further performing an electrolytic copper plating treatment using the copper sulfate plating solution. In each through hole, a cylindrical via hole having a thickness of about 10 µm was formed to electrically connect each metal foil layer on the surface of the laminated material to each other.

이어서, 적층 재료 표면의 금속박 층 위에, 두께가 25㎛인 드라이 필름 레지스터(도쿄응화제, 품명: FP-225)를 라미네이트해서 레지스터 층을 형성함과 함께, 이 적층 재료의 다른 면 측의 금속박 층 위에 보호 실을 배치하였다. 이 레지스터 층 위에 포토 마스크 필름을 배치하고, 레지스터 층에 대해서, 평행광 노광기(오크제작소제)를 이용해서 노광 처리를 한 후 현상 처리를 행함으로써, 에칭용의 레지 스터 패턴을 형성하였다. 그리고, 레지스터 패턴을 형성한 면의 금속박 층에 대해서 에칭 처리를 함으로써, 절연 기판의 표면에 지름 200㎛의 7312개의 접속 전극과 각 접속 전극과 바이어 홀을 전기적으로 접속하는 선 폭이 100㎛인 패턴 배선부를 형성하고, 이어서 레지스터 패턴을 제거하였다. Subsequently, a dry film resistor (Tokyo Co., Ltd., product name: FP-225) having a thickness of 25 μm is laminated on the metal foil layer on the surface of the laminate material to form a resistor layer, and the metal foil layer on the other side of the laminate material. The protective seal was placed on top. The photomask film was arrange | positioned on this resist layer, and the resist pattern for etching was formed by performing an exposure process using a parallel light exposure machine (Oak Manufacturing Co., Ltd.), and developing. Then, the etching process is performed on the metal foil layer on the surface on which the resist pattern is formed, so that a pattern having a width of 100 μm on the surface of the insulating substrate is connected to 7312 connection electrodes having a diameter of 200 μm, and each connection electrode and the via hole are electrically connected to each other. The wiring portion was formed, and then the resist pattern was removed.

접속 전극 및 패턴 배선부가 형성된 절연 기판의 표면에, 두께가 25㎛인 드라이 필름 솔더 레지스트(히다치 화성제, 품명: SR-2300G)를 라미네이트해서 절연층을 형성하고, 이 절연층 위에 포토 마스크 필름을 배치하고, 절연층에 대해서 평행광 노광기(오크제작소제)를 이용해서 노광 처리를 한 후 현상 처리를 행함으로써, 각각의 접속 전극을 노출하는 지름 200㎛의 7312개의 개구부를 형성하였다. 황산동 도금액을 이용하고, 적층 재료의 다른 면 측의 금속박 층을 공통 전극으로서 이용해서 각각의 접속 전극에 대해서 전해 동 도금 처리를 함으로써, 절연층의 표면으로부터 돌출하는 7312개의 접속 전극을 형성하였다. On the surface of the insulated substrate in which the connection electrode and the pattern wiring part were formed, a dry film solder resist (Hitachi Chemical Co., Ltd. name: SR-2300G) having a thickness of 25 µm was laminated to form an insulating layer, and a photomask film was formed on the insulating layer. It arrange | positioned and exposed to an insulation layer using the parallel light exposure machine (Oak Manufacturing Co., Ltd.), and then developed, and formed 7312 opening parts of the diameter of 200 micrometers which expose each connection electrode. By using a copper sulfate plating solution and electrolytic copper plating treatment on each connection electrode using a metal foil layer on the other side of the laminated material as a common electrode, 7312 connection electrodes protruding from the surface of the insulating layer were formed.

이어서, 적층 재료의 다른 면 측의 금속박 층상의 보호 실을 제거하고, 이 면의 금속박 층 위에 두께가 25㎛인 드라이 필름 레지스트(도쿄응화제 (TOKYO KOGYO CO., LTD.), 품명: FP-225)를 라미네이트해서 레지스터 층을 형성하였다. 그 후, 이 레지스터 층 위에 포토 마스크 필름을 배치하고, 레지스터 층에 대해서 평행광 노광기(오크제작소제 (ORC SEISA KUSHO))를 이용해서 노광 처리를 한 후 현상 처리를 행함으로써, 적층 재료에 있어서의 금속박 층 위에 에칭용의 레지스터 패턴을 형성하였다. 그 다음에 에칭 처리를 함으로써, 절연성 기판의 이면에 7312개의 단자 전극과 각 단자 전극과 바이어 홀을 전기적으로 접속하는 패턴 배선부를 형성하고 레지스터 패턴을 제거하였다. Subsequently, the protective seal on the metal foil layer on the other side of the laminated material was removed, and a dry film resist (TOKYO KOGYO CO., LTD.) Having a thickness of 25 µm on the metal foil layer on this side, product name: FP- 225) was laminated to form a resistor layer. Thereafter, a photomask film is placed on the resist layer, and the development process is performed after the exposure process is performed using a parallel light exposure machine (ORC SEISA KUSHO) to the resist layer, thereby producing a laminate material. A resist pattern for etching was formed on the metal foil layer. Subsequently, by etching, a 7312 terminal electrode, a pattern wiring portion for electrically connecting each terminal electrode and a via hole were formed on the back surface of the insulating substrate, and the resist pattern was removed.

이어서, 단자 전극 및 패턴 배선부가 형성된 절연 기판의 이면에 두께가 38㎛인 드라이 필름 솔더레지스트(니치고모톤제 (Nichigo-Morton Co., LTD.), 품명: 콘포마스크 2015)를 라미네이트해서 절연층을 형성하고, 이 절연층 위에 포토 마스크 필름을 배치하고, 이어서 절연층에 대해서, 평행광 노광기(오크제작소제)를 이용해서 노광 처리를 한 후, 현상 처리함으로써, 전극을 노출하는 지름 0.4㎜의 개구부를 7312개 형성하였다. Subsequently, a dry film solder resist (Nichigo-Morton Co., LTD., Manufactured by Nichigo-Morton Co., LTD.), Product name: Confomask 2015, having a thickness of 38 μm, was laminated on the back surface of the insulating substrate on which the terminal electrode and the pattern wiring part were formed, and the insulating layer After forming a photomask film on this insulating layer, and then performing an exposure process using a parallel light exposure machine (Oak Manufacturing Co., Ltd.) with respect to an insulating layer, it develops and exposes an electrode of diameter 0.4mm. 7312 openings were formed.

이상과 같이 해서, 제1의 검사 지그(11a)용의 피치 변환용 기판(23a)을 제작하였다. 이 피트치 변환용 기판(23a)은 종횡의 치수가 120㎜×160㎜, 두께가 0.5㎜, 접속 전극의 절연층 표면으로부터 노출된 부분의 지름이 약 300㎛, 접속 전극의 절연층 표면으로부터의 돌출 높이가 약 25㎛, 접속 전극의 최소 배치 피치가 0.4㎜, 단자 전극의 지름이 0.4㎜, 단자 전극의 배치 피치가 0.75㎜이며, 접속 전극이 형성된 면 측의 절연층의 표면 거칠기가 0.02㎛였다. As described above, the substrate 23a for pitch conversion for the first inspection jig 11a was produced. The substrate 23a for pitch conversion has a length of 120 mm x 160 mm, a thickness of 0.5 mm, a diameter of a portion exposed from the surface of the insulating layer of the connecting electrode of about 300 µm, and a surface of the insulating layer of the connecting electrode. The protruding height is about 25 占 퐉, the minimum arrangement pitch of the connection electrode is 0.4 mm, the diameter of the terminal electrode is 0.4 mm, the arrangement pitch of the terminal electrode is 0.75 mm, and the surface roughness of the insulating layer on the surface side on which the connection electrode is formed is 0.02 占 퐉. It was.

또, 상기와 마찬가지로 해서 표면에 3784개의 접속 전극을 가짐과 함께 이면에 3784개의 단자 전극을 갖는, 제2의 검사 지그(11b)용의 피치 변환용 기판(23b)을 제작하였다. 이 피트치 변환용 기판(23b)은 종횡의 치수가 120㎜×160㎜, 두께가 0.5㎜, 접속 전극에 있어서의 절연층의 표면에 노출된 부분의 지름이 약 300㎛, 접속 전극에 있어서의 절연층의 표면으로부터의 돌출 높이가 약 25㎛, 접속 전극의 최소 배치 피치가 0.4㎜, 단자 전극의 지름이 0.4㎜, 단자 전극의 배치 피치가 0.75㎜이며, 표면(접속 전극이 형성된 면) 측의 절연층의 표면 거칠기가 0.02㎛인 것이다. Moreover, the pitch conversion board | substrate 23b for the 2nd test jig 11b which produced 3784 connection electrodes on the surface, and had 3784 terminal electrodes on the back surface similarly to the above was produced. The pitch-converting substrate 23b has a vertical and horizontal dimension of 120 mm × 160 mm, a thickness of 0.5 mm, and a diameter of a portion exposed to the surface of the insulating layer in the connection electrode of about 300 μm, in the connection electrode. The protruding height from the surface of the insulating layer is about 25 µm, the minimum arrangement pitch of the connection electrode is 0.4 mm, the diameter of the terminal electrode is 0.4 mm, and the arrangement pitch of the terminal electrode is 0.75 mm. The surface roughness of the insulating layer is 0.02 µm.

(3) 회로 기판측 커넥터(21)(3) circuit board side connector (21)

이 피치 변환용 기판(23)의 표면 측에 상기의 제1의 이방 도전성 시트(22)를 배치하고, 이면 측에 두께 방향으로 연장되는 다수의 도전로 형성부와 이것들을 서로 절연하는 절연부로 이루어지고, 한 면에 도전로 형성부가 돌출된 편재형 이방 도전성 시트로 이루어지는 제2의 이방 도전성 시트(26)를 배치함으로써, 회로 기판측 커넥터(21)를 구성하였다. The first anisotropic conductive sheet 22 is disposed on the front surface side of the substrate 23 for pitch conversion, and a plurality of conductive path forming portions extending in the thickness direction on the rear surface side thereof and an insulating part insulating them from each other. The circuit board side connector 21 was comprised by arrange | positioning the 2nd anisotropically conductive sheet | seat 26 which consists of the uneven type anisotropically conductive sheet which the conductive path formation part protruded on one side.

또한, 피치 변환용 기판(23)과 중계 핀 유닛(31)의 사이에 배치되는 제2의 이방 도전성 시트(26)는, 도 6에 나타나는 형상이며, 구체적으로는 하기의 구성을 사용하였다. In addition, the 2nd anisotropic conductive sheet 26 arrange | positioned between the pitch conversion board | substrate 23 and the relay pin unit 31 is a shape shown in FIG. 6, and the following structure was used specifically ,.

〔제2의 이방 도전성 시트(26)〕[2nd anisotropic conductive sheet 26]

치수: 110㎜×150㎜ Dimensions: 110 mm × 150 mm

도전로 형성부의 두께: 0.6㎜Thickness of conductive path forming part: 0.6 mm

도전로 형성부의 외경: 0.35㎜Outer diameter of conductive path forming section: 0.35 mm

도전로 형성부의 돌출 높이: 0.05㎜Protruding height of conductive path forming portion: 0.05 mm

도전성 입자: 재질; 금 도금 처리를 한 니켈 입자, 평균 입자 지름; 35㎛, 도전로 형성부에 있어서의 도전성 입자의 함유율; 30체적%Conductive particles: material; Nickel particles with gold plating treatment, average particle diameter; 35 micrometers, content rate of electroconductive particle in a conductive path formation part; 30% by volume

탄성 고분자 물질: 재질; 실리콘 고무, 경도; 30Elastomeric material: material; Silicone rubber, hardness; 30

(W2/D2=17) (W 2 / D 2 = 17)

(4) 중계 핀 유닛(31) (4) relay pin unit (31)

제1의 절연판(34), 중간 유지 판(36), 제2의 절연판(35)의 재료로서 고유 저항이 1×1010Ω·㎝ 이상인 절연성 재료, 유리 섬유 보강형 에폭시 수지로 이루어지고, 그 두께가 1.9㎜인 것을 이용하였다. The material of the first insulating plate 34, the intermediate holding plate 36, and the second insulating plate 35 is made of an insulating material having a specific resistance of 1 × 10 10 Ω · cm or more, a glass fiber reinforced epoxy resin, A thickness of 1.9 mm was used.

그리고, 제1의 절연판(34)과 중간 유지 판(36) 사이의 거리(L1)가 36.3㎜, 제2의 절연판(35)과 중간 유지 판(36) 사이의 거리(L2)가 3㎜로 되도록, 제1의 지지 핀(33)(지름 2㎜, 길이 36.3㎜)과 제2의 지지 핀(37)(지름 2㎜, 길이 3㎜)에 의해 고정 지지하도록 함과 함께, 제1의 절연판(34)과 제2의 절연판(35)의 사이에 하기의 구성으로 이루어지는 도전 핀(32)을 이동 자재로 되도록 관통구멍(83)(지름 0.4㎜)에 배치해서 제작하였다. The distance L1 between the first insulating plate 34 and the intermediate holding plate 36 is 36.3 mm, and the distance L2 between the second insulating plate 35 and the intermediate holding plate 36 is 3 mm. The first insulating plate is fixedly supported by the first support pin 33 (diameter 2 mm, length 36.3 mm) and the second support pin 37 (diameter 2 mm, length 3 mm). The conductive pin 32 which consists of the following structures between 34 and the 2nd insulating plate 35 was arrange | positioned in the through-hole 83 (diameter 0.4 mm) so that it may become a moving material, and it produced.

〔도전 핀〕[Conduction pin]

재질: 금 도금 처리를 한 놋쇠Material: gold plated brass

선단부(81a)의 치수: 외경 0.35㎜, 전체 길이 2.1㎜Dimensions of the tip portion 81a: 0.35 mm outer diameter, 2.1 mm total length

중앙부(82)의 치수: 외경 0.45㎜, 전체 길이 41㎜Dimensions of the center portion 82: 0.45 mm outer diameter, 41 mm total length

기단부(81b)의 치수: 외경 0.35㎜, 전체 길이 2.1㎜ Dimension of base end 81b: outer diameter 0.35 mm, total length 2.1 mm

또한, 제1의 지지 핀(33)의 중간 유지 판(36)에 대한 제1의 맞닿음 지지 위치(38A)와 제2의 지지 핀(37)의 중간 유지 판(36)에 대한 제2의 맞닿음 지지 위치(38B)는 도 23에 나타낸 것처럼 격자상으로 배치하였다. 또한, 서로 인접하는 제1의 맞닿음 지지 위치(38A) 사이의 이격 거리, 제2의 맞닿음 지지 위치(38B) 사이의 이격 거리를 17.5㎜로 하였다. Further, the first abutting support position 38A with respect to the intermediate holding plate 36 of the first support pin 33 and the second with respect to the intermediate holding plate 36 of the second support pin 37 are described. The contact support position 38B was arrange | positioned at grid form as shown in FIG. Moreover, the separation distance between the 1st contact support positions 38A adjacent to each other, and the separation distance between the 2nd contact support positions 38B was 17.5 mm.

(5) 테스터측 커넥터(41)(5) Tester side connector (41)

도 20에 나타낸 것처럼, 테스터측 커넥터(41)를 제3의 이방 도전성 시트(42)와 커넥터 기판(43)과 베이스 판(46)으로 구성하였다. 또한, 제3의 이방 도전성 시트(42)는 전술한 제2의 이방 도전성 시트(26)와 마찬가지인 것을 이용하였다. As shown in FIG. 20, the tester side connector 41 was comprised from the 3rd anisotropically conductive sheet 42, the connector board 43, and the base board 46. As shown in FIG. In addition, the 3rd anisotropically conductive sheet 42 used the thing similar to the 2nd anisotropically conductive sheet 26 mentioned above.

〔성능 시험〕[Performance test]

1. 최저 프레스 압력의 측정 1. Measurement of the lowest press pressure

제작한 검사장치를 레일 반송형 회로 기판 자동 검사기 「STARREC V5」의 검사부에 세팅하고 평가용 회로 기판(1)을 검사장치에 대해서 세팅하고 레일 반송형 회로 기판 자동 검사기 「STARREC V5」의 프레스 압력을 100 내지 210kgf의 범위 내에 있어서 단계적으로 변화시켜, 각 프레스 압력 조건마다 각 10회씩, 평가용 회로 기판(1)의 피검사 전극에 대해서 검사용 전극에 1밀리 암페어의 전류를 인가했을 때의 도통 저항값을 측정하였다. The manufactured inspection device is set to the inspection unit of the rail conveyance type circuit board automatic inspection machine "STARREC V5", the evaluation circuit board 1 is set with respect to an inspection device, and the press pressure of the rail conveyance type circuit board automatic inspection machine "STARREC V5" is set. The conduction resistance when a current of 1 milliampere was applied to the inspection electrode to the inspection electrode of the circuit board 1 for evaluation by changing stepwise within the range of 100 to 210 kgf for each press pressure condition. The value was measured.

측정된 도통 저항값이 100Ω이상으로 된 검사점( 이하, 「NG 검사점」이라고 함)을 도통 불량으로 판정하고, 총 검사점에 있어서의 NG 검사점의 비율( 이하, 「NG 검사점 비율」이라고 함)을 산출하여, NG 검사점 비율이 0.01% 이하로 된 가장 낮은 프레스 압력을 최저 프레스 압력으로 하였다. The inspection point (hereinafter referred to as "NG inspection point") whose measured conduction resistance value is 100 ohms or more is judged as poor conduction, and the ratio of the NG inspection point in the total inspection point (hereinafter, "NG inspection point ratio"). ), The lowest press pressure at which the NG checkpoint ratio was 0.01% or less was defined as the minimum press pressure.

이 도통 저항값의 측정에 있어서는, 하나의 도통 저항값의 측정이 종료한 후에 해당 측정에 따른 프레스 압력을 개방해서 검사장치를 무 가압 상태로 되돌리고, 다음의 도통 저항값의 측정은 재차 소정의 크기의 프레스 압력을 작용시킴으로 써 행하였다. In the measurement of the conduction resistance value, after completion of the measurement of one conduction resistance value, the press pressure according to the measurement is released to return the inspection device to the unpressurized state, and the measurement of the conduction resistance value of the next time is again a predetermined size. The press pressure of was performed by acting.

구체적으로, NG 검사점 비율은 평가용 회로 기판(1)의 상면 피검사 전극수는 7312점, 하면 피검사 전극수는 3784점이며, 각 프레스 압력 조건에 있어서 10회의 측정을 행한 것으로부터, 식 (7312+3784)×10=110960에 의해 산출되는 110960점의 검사점에 차지하는 NG 검사점의 비율을 나타낸다. Specifically, the NG inspection point ratio is 7312 points on the upper surface of the circuit board 1 for evaluation and 3784 points on the lower surface of the evaluation circuit board. The ratio of NG checkpoints to 110960 checkpoints calculated by +3784) × 10 = 110960 is shown.

이 경우, 「최저 프레스 압이 작다」란, 낮은 프레스 압력으로 피검사 회로 기판의 전기적 검사를 행할 수 있는 것을 의미하고 있다. 검사장치에 있어서는, 검사시의 가압력을 낮게 설정할 수 있으면 검사시의 가압력에 의한 피검사 회로 기판 및 이방 도전성 시트 및 검사용 회로 기판의 열화를 억제할 수 있을 뿐만 아니라, 검사장치의 구성 부재로서 내구성 강도가 낮은 부품을 사용하는 것이 가능해지는 점에서 검사장치의 구조를 작고 컴팩트하게 할 수 있고, 그 결과, 검사장치의 내구성의 향상, 검사장치의 제조의 비용 삭감을 달성되므로 바람직하다. In this case, "the minimum press pressure is small" means that the electrical inspection of the circuit board under test can be performed at low press pressure. In the inspection apparatus, if the pressing force at the time of inspection can be set low, not only the deterioration of the circuit board and the anisotropic conductive sheet and the inspection circuit board due to the pressing force at the time of inspection can be suppressed, but also durability as a constituent member of the inspection apparatus. It is preferable that the structure of the inspection apparatus can be made small and compact in that it is possible to use a component having low strength, and as a result, improvement in durability of the inspection apparatus and cost reduction in the manufacture of the inspection apparatus are achieved.

2. 이방 도전성 시트의 내구성의 측정 2. Measurement of durability of anisotropic conductive sheet

작성한 검사장치를 레일 반송형 회로 기판 자동 검사기 「STARREC V5」의 검사부에 세팅하고 해당 검사장치에 대해서 평가용 회로 기판(1)을 세팅하고 레일 반송형 회로 기판 자동 검사기 「STARREC V5」의 프레스 압력 조건을 130kgf로 하고 소정 회수의 가압을 행한 후, 평가용 회로 기판(1)의 피검사 전극에 대해서 프레스 압력 130kgf의 조건하에서 검사용 전극에 1밀리 암페어의 전류를 인가했을 때의 도통 저항값을 10회 측정하고 소정 회수의 가압을 행하여 마찬가지로 도통 저항값을 10회 측정하는 작업을 반복하였다. The created inspection device is set to the inspection unit of the rail conveyance type circuit board automatic inspection machine "STARREC V5", the circuit board 1 for evaluation is set with respect to the said inspection apparatus, and the press pressure condition of the rail conveyance circuit board automatic inspection machine "STARREC V5" Is 130 kgf, and after a predetermined number of times of pressurization, the conduction resistance value when a current of 1 milliampere is applied to the test electrode under the press pressure of 130 kgf is applied to the test electrode of the circuit board 1 for evaluation. The measurement was performed once, and a predetermined number of times of pressurization were repeated to similarly repeat the operation of measuring the conduction resistance value 10 times.

측정된 도통 저항값이 100Ω 이상으로 된 검사점(NG 검사점)을 도통 불량으로 판정하고, 총 검사점에 있어서의 NG 검사점의 비율(NG 검사점 비율)을 산출하였다. The inspection point (NG inspection point) whose measured conduction resistance value became 100 ohms or more was judged as the conduction defect, and the ratio (NG inspection point ratio) of the NG inspection point in a total inspection point was computed.

이어서, 검사장치의 이방 도전성 시트를 새로운 것으로 교환하고, 프레스 압력 조건을 150kgf로 변경한 것 이외에는 상기와 마찬가지의 조건에 의해 소정 회수의 가압을 행하고, 그 후, 프레스 압력 조건을 150kgf로 한 것 이외에는 상기와 마찬가지의 수법에 따라 NG 검사점 비율을 산출하였다. Subsequently, except that the anisotropic conductive sheet of the inspection apparatus was replaced with a new one and the press pressure condition was changed to 150 kgf, a predetermined number of times of pressurization was carried out under the same conditions as described above, and then the press pressure condition was changed to 150 kgf. The NG check point ratio was calculated according to the same method as above.

이러한 이방 도전성 시트의 내구성과 관련되는 도통 저항값을 측정에 있어서는, 하나의 도통 저항값의 측정이 종료한 후에 해당 측정에 따른 프레스 압력을 개방해서 검사장치를 무 가압 상태로 되돌리고, 다음의 도통 저항값의 측정은 재차 소정의 크기의 프레스 압력을 작용시킴으로써 행하였다. In the measurement of the conduction resistance value related to the durability of such anisotropic conductive sheet, after the measurement of one conduction resistance value is completed, the press pressure according to the measurement is released, the inspection apparatus is returned to the unpressurized state, and the following conduction resistance The measurement of the value was again performed by applying a press pressure of a predetermined size.

또, 구체적으로 NG 검사점 비율은, 평가용 회로 기판(1)의 상면 피검사 전극수는 7312점, 하면 피검사 전극수는 3784점이며, 각 프레스 횟수 조건에 있어서 10회의 측정을 행한 것으로부터 식 (7312+3784)×10=110960에 의해 산출되는 110960점의 검사점에 차지하는 NG 검사점의 비율을 나타낸다. Specifically, the NG inspection point ratio is 7312 points for the number of electrodes to be inspected on the upper surface of the circuit board 1 for evaluation, and 3784 points for the number of electrodes to be inspected on the lower surface. The ratio of NG checkpoints to 110960 checkpoints calculated by 7312 + 3784) × 10 = 110960 is shown.

이 경우, 검사장치에 있어서는, 실용상, NG 검사점 비율이 0.01% 이하인 것이 필요하게 되어 있고, NG 검사점 비율이 0.01%를 넘는 경우에는, 양품인 피검사 회로 기판에 대해서 불량품이라는 잘못한 검사 결과가 얻어지는 경우가 있는 점에서 신뢰성이 높은 회로 기판의 전기적 검사를 행할 수 없게 될 우려가 있다. In this case, in the inspection apparatus, it is necessary for the practical use that the NG inspection point ratio is 0.01% or less, and when the NG inspection point ratio exceeds 0.01%, an incorrect inspection result that the defective inspection target circuit board is defective. There is a possibility that the electrical inspection of a highly reliable circuit board may not be performed in some cases.

최저 프레스의 측정 결과를 표 1에, 이방 도전성 시트의 내구성의 측정 결과 를 표 2에 나타낸다. Table 1 shows the measurement results of the lowest presses, and Table 2 shows the measurement results of the durability of the anisotropic conductive sheet.

[실시예 2]Example 2

상기의 중계 핀 유닛(31) 대신에, 도 1의 중계 핀 유닛(31a, 31b)을 이용하였다. 즉, 일정 피치(2.54㎜ 피치)로 격자점 위에 다수(8000핀) 배치된 도전 핀(32a, 32b)과 이 도전 핀(32a, 32b)을 상하로 이동 가능하게 지지하는 절연판(34a, 34b 및 35a, 35b)으로 이루어지는 중계 핀 유닛을 이용하고, 그 이외에는 실시예 1과 마찬가지의 구성으로서 검사장치를 제작하였다. Instead of the relay pin unit 31 described above, the relay pin units 31a and 31b of FIG. 1 were used. That is, a plurality of conductive pins 32a and 32b disposed on a grid point at a constant pitch (2.54 mm pitch) and insulating plates 34a and 34b for supporting the conductive pins 32a and 32b so as to be movable up and down. Using the relay pin unit consisting of 35a and 35b), the inspection apparatus was produced with the structure similar to Example 1 other than that.

이 검사장치에 대해서, 실시예 1과 마찬가지의 방법에 의해 최저 프레스 압 및 이방 도전성 시트의 내구성을 측정하였다. 최저 프레스의 측정 결과를 표 1에, 이방 도전성 시트의 내구성의 측정 결과를 표 2에 나타낸다. About this test | inspection apparatus, the minimum press pressure and durability of the anisotropic conductive sheet were measured by the method similar to Example 1. Table 1 shows the measurement results of the lowest presses, and Table 2 shows the measurement results of the durability of the anisotropic conductive sheet.

NG 검사점 비율(%)NG Checkpoint Rate (%) 최저 프레스 압력(kgf)Press pressure (kgf) 프레스 압력(kgf)Press pressure (kgf) 100100 110110 130130 150150 180180 210210 실시예 1Example 1 0.30.3 0.010.01 00 00 00 00 150150 실시예 2Example 2 2.82.8 2.22.2 0.20.2 0.020.02 00 00 180180

NG 검사점 비율(%)NG Checkpoint Rate (%) 프레스 횟수(회)Press count (times) 1One 10001000 50005000 1000010000 3000030000 실시예 1 Example 1 프레스 압력 130kgfPress pressure 130kgf 00 00 00 00 0.30.3 프레스 압력 150kgfPress pressure 150kgf 00 00 00 0.050.05 0.70.7 실시예 21 Example 21 프레스 압력 130kgfPress pressure 130kgf 00 00 0.10.1 0.250.25 1.51.5 프레스 압력 150kgfPress pressure 150kgf 00 0.060.06 0.140.14 0.380.38 2.32.3

[실시예 3]Example 3

이하에 있어서, 표면 거칠기는 자이고사제 (Zygo Corporation)의 3차원 표면 구조 해석 현미경 「New View 200」을 이용해서, JIS B0601에 의한 중심 평균 거칠기(Ra)를, 컷오프 값 0.8㎜, 측정 길이 0.25㎜의 조건으로 측정한 값이다.  In the following, the surface roughness was the center average roughness Ra according to JIS B0601 using a 3-dimensional surface structure analysis microscope "New View 200" manufactured by Zygo Corporation, with a cutoff value of 0.8 mm and a measurement length of 0.25. It is the value measured on the conditions of mm.

(평가용 회로 기판) Evaluation Circuit Board

하기의 사양의 평가용 회로 기판을 준비하였다. The circuit board for evaluation of the following specification was prepared.

치수: 100㎜(세로)×100㎜(가로)×0.8㎜(두께) Dimensions: 100 mm (length) × 100 mm (width) × 0.8 mm (thickness)

상면측의 피검사 전극의 수: 7312개Number of inspected electrodes on the upper side: 7312

상면측의 피검사 전극의 지름: 0.3㎜Diameter of the inspected electrode on the upper surface side: 0.3 mm

상면측의 피검사 전극의 최소 배치 피치: 0.4㎜Minimum placement pitch of the inspection target electrode on the upper surface side: 0.4 mm

하면측의 피검사 전극의 수: 3784Number of inspected electrodes on lower surface: 3784

하면측의 피검사 전극의 지름: 0.3㎜Diameter of the inspected electrode on the lower surface side: 0.3 mm

하면측의 피검사 전극의 최소 배치 피치: 0.4㎜Minimum placement pitch of the electrode under test on the lower surface side: 0.4 mm

레일 반송형 회로 기판 자동 검사기(일본 전산 리드사제, 품명: STARREC V5)의 검사부에 적합한, 상기의 평가용 회로 기판을 검사하기 위한 회로 기판 검사장치(도 1)를 제작하였다. The circuit board test | inspection apparatus (FIG. 1) for test | inspecting the said circuit board for evaluation suitable for the test | inspection part of the rail conveyance type circuit board automatic tester (made by Nippon Computer Co., Ltd., product name: STARREC V5) was produced.

(1) 제1의 이방 도전성 시트(22)(1) First Anisotropic Conductive Sheet 22

2액형의 부가형 액상 실리콘 고무의 A액과 B액을 등량으로 되는 비율로 혼합하였다. 이 혼합물 100 중량부에 평균 입자 지름이 20㎛인 도전성 입자 100 중량부를 첨가해서 혼합한 후, 감압에 의한 탈포처리를 행함으로써 성형 재료를 조제하였다. The liquid A and liquid B of the two-part addition liquid silicone rubber were mixed at a ratio equal to each other. To 100 parts by weight of this mixture, 100 parts by weight of conductive particles having an average particle diameter of 20 µm were added and mixed, and then a molding material was prepared by performing a degassing treatment under reduced pressure.

부가형 액상 실리콘 고무로서 A액 및 B액의 점도가 각각 500P이고, 그 경화물의 150℃에 있어서의 압축 영구 일그러짐(JIS K 6249에 준거한 측정 방법에 따름)이 6%, 23℃에 있어서의 파열 강도(JIS K 6249에 준거한 측정 방법에 따름)가 25kN/m인 것을 이용하였다. As the additive liquid silicone rubber, the viscosity of the liquid A and the liquid B is 500P, respectively, and the compression set at 150 ° C of the cured product (according to the measurement method in accordance with JIS K 6249) is 6% and burst at 23 ° C. The thing whose intensity | strength (according to the measuring method based on JISK6249) was 25 kN / m was used.

도전성 입자로서 니켈 입자를 심 입자로 하고, 이 심 입자에 무전해금 도금을 한 것(평균 피복량: 심 입자 중량의 5중량%로 되는 양)을 이용하였다. Nickel particles were used as core particles as electroconductive particles, and electroless plating was performed on the core particles (average coating amount: the amount of 5% by weight of the core particle weight).

한쪽의 성형 부재의 성형 면에, 120㎜×200㎜의 직사각형의 개구부를 갖는, 두께가 0.08㎜인 틀 모양의 스페이서를 배치한 후, 스페이서의 개구부 내에, 조제한 성형 재료를 도포하고, 이 성형 재료상에 다른 쪽의 성형 부재를 그 성형 면이 성형 재료에 접하도록 배치하였다. After arranging a 0.08 mm-thick spacer having a rectangular opening of 120 mm x 200 mm on the molding surface of one of the molding members, the prepared molding material is coated in the opening of the spacer, The other molding member was arranged so that the molding surface was in contact with the molding material.

한쪽의 성형 부재에는, 두께가 0.1㎜인 폴리에스테르 수지 시트(토레이사제 (TORAY CO., LTD.), 품명 「매틀미러 (Mattlemirror) S10」)를, 그 비광택면(표면 거칠기가 1㎛)을 성형 면으로서 사용하고, 다른 쪽의 성형부재에는, 두께가 0.1㎜인 폴리에스테르 수지 시트(토레이사제, 품명 「매틀미러 S10」)를, 그 광택면(표면 거칠기가 0.04㎛)을 성형 면으로서 사용하였다. On one molding member, a polyester resin sheet (TORAY CO., LTD., Product name "Mattlemirror S10") of thickness 0.1mm was used for the non-gloss surface (surface roughness of 1 micrometer). Is used as the molding surface, and the other molding member has a polyester resin sheet (made by Toray Corporation, product name "Matt mirror S10") having a thickness of 0.1 mm, and the glossy surface (surface roughness of 0.04 µm) as the molding surface. Used.

이어서, 가압 롤 및 지지 롤로 이루어지는 가압 롤 장치를 이용해서, 이들 성형 부재에 의해 성형 재료를 협압하여, 성형 재료의 두께를 0.08㎜로 하였다. Next, using the press roll device which consists of a press roll and a support roll, the molding material was pinched by these molding members, and the thickness of the molding material was 0.08 mm.

각 성형 부재의 이면에 전자석을 배치하고, 성형 재료에 대해서 그 두께 방향으로 0.3T의 평행 자장을 작용시키면서, 120℃, 30분간의 조건으로 성형 재료의 경화 처리를 행함으로써, 두께가 0.1㎜인 직사각형의 이방 도전성 시트를 제조하였다. An electromagnet is disposed on the back surface of each molding member, and the curing process of the molding material is performed at 120 ° C. for 30 minutes while applying a 0.3T parallel magnetic field to the molding material in the thickness direction thereof. A rectangular anisotropic conductive sheet was produced.

얻어진 이방 도전성 시트는 그 일면에 있어서의 표면 거칠기가 1.4㎛이고 다른 면에 있어서의 표면 거칠기가 0.12㎛이며 도전성 입자의 비율이 체적분률로12%였다. 이러한 이방 도전성 엘라스토머 시트를 「이방 도전성 시트(a)」라고 한다. The obtained anisotropic conductive sheet had a surface roughness of 1.4 µm on one surface thereof, a surface roughness of 0.12 µm on the other surface thereof, and a proportion of the conductive particles was 12% in volume fraction. Such an anisotropically conductive elastomer sheet is called "anisotropic conductive sheet (a)".

(2)피치 변환용 기판(23) (2) substrates for pitch conversion (23)

유리 섬유 보강형 에폭시 수지로 이루어지는 절연 기판의 양면 전면에, 두께가 18㎛의 동으로 이루어지는 금속박 층을 형성한 적층 재료(마츠시타 전공사제, 품명: R-1766)에 수치제어형 드릴링 장치에 의해, 각각 적층 재료의 두께 방향으로 관통하는 지름 0.2㎜의 원형 관통구멍을 총 7312개 형성하였다. 이어서, 관통구멍이 형성된 적층 재료에 대해서, EDTA 타입 동 도금액을 이용해서 무전해 도금 처리를 함으로써 각 관통구멍의 내벽에 동 도금층을 형성하고, 또한 황산동 도금액을 이용해서 전해 동 도금 처리를 함으로써 각 관통구멍 내에 적층 재료 표면의 각 금속박 층을 서로 전기적으로 접속하는 두께 약 10㎛의 원통형의 바이어 홀을 형성하였다. A numerically controlled drilling device was applied to a laminated material (made by Matsushita Electric Works, product name: R-1766) in which a metal foil layer made of copper having a thickness of 18 µm was formed on both surfaces of both surfaces of the insulating substrate made of glass fiber reinforced epoxy resin. A total of 7312 circular through holes having a diameter of 0.2 mm penetrating in the thickness direction of the laminated material were formed. Subsequently, an electroless plating treatment is performed on the laminated material having the through holes formed by using an EDTA type copper plating solution to form a copper plating layer on the inner wall of each through hole, and an electrolytic copper plating treatment using a copper sulfate plating solution is used for each penetration. A cylindrical via hole having a thickness of about 10 μm was formed in the hole to electrically connect each metal foil layer of the laminated material surface to each other.

이어서, 적층 재료 표면의 금속박 층 위에 두께가 25㎛인 드라이 필름 레지스트(도쿄응화제, 품명: FP-225)를 라미네이트해서 레지스터 층을 형성함과 함께, 이 적층 재료의 다른 면 측의 금속박 층 위에 보호 실을 배치하였다. 이 레지스터 층 위에 포토 마스크 필름을 배치하고, 레지스터 층에 대해서 평행광 노광기(오크제작소제)를 이용해서 노광 처리를 한 후 현상 처리를 행함으로써, 에칭용의 레지스터 패턴을 형성하였다. 그리고, 레지스터 패턴을 형성한 면의 금속박 층에 대해서 에칭 처리를 함으로써, 절연 기판의 표면에, 지름 200㎛의 7312개의 접속 전극과, 각 접속 전극과 바이어 홀을 전기적으로 접속하는 선 폭이 100㎛인 패턴 배선부를 형성하고, 이어서 레지스터 패턴을 제거하였다. Subsequently, a dry film resist having a thickness of 25 µm (Tokyo Co., Ltd., product name: FP-225) is laminated on the metal foil layer on the surface of the laminate material to form a resistor layer, and on the metal foil layer on the other side of the laminate material. The protective seal was placed. The photomask film was arrange | positioned on this resist layer, and the resist pattern for etching was formed by performing an exposure process using a parallel light exposure machine (Oak Manufacturing Company) with respect to a resist layer, and developing. Then, by etching the metal foil layer on the surface on which the resist pattern is formed, the line width for electrically connecting 7312 connection electrodes having a diameter of 200 μm, each connection electrode and the via hole to the surface of the insulating substrate is 100 μm. The phosphorus pattern wiring part was formed, and then the resist pattern was removed.

접속 전극 및 패턴 배선부가 형성된 절연 기판의 표면에 두께가 25㎛인 드라이 필름 솔더 레지스트(히다치 화성제, 품명: SR-2300G)를 라미네이트해서 절연층을 형성하고, 이 절연층 위에 포토 마스크 필름을 배치하고, 절연층에 대해서 평행광 노광기(오크제작소제)를 이용해서 노광 처리를 한 후 현상 처리를 행함으로써, 각각의 접속 전극을 노출하는 지름 200㎛의 7312개의 개구부를 형성하였다. 황산 동 도금액을 이용하고, 적층 재료의 다른 면 측의 금속박 층을 공통 전극으로서 이용해서, 각각의 접속 전극에 대해서 전해 동 도금 처리를 함으로써, 절연층의 표면으로부터 돌출하는 7312개의 접속 전극을 형성하였다. A dry film solder resist (Hitachi Chemical Co., Ltd. name: SR-2300G) having a thickness of 25 µm is laminated on the surface of the insulating substrate on which the connection electrode and the pattern wiring portion are formed to form an insulating layer, and a photomask film is disposed on the insulating layer. Then, the exposure layer was subjected to an exposure process using a parallel light exposure machine (manufactured by Oak Manufacturing Company), and then developed, thereby forming 7312 openings each having a diameter of 200 µm that expose each connection electrode. By using a copper sulfate plating solution and using a metal foil layer on the other side of the laminated material as a common electrode, electrolytic copper plating was performed on each connection electrode, thereby forming 7312 connection electrodes protruding from the surface of the insulating layer. .

이어서, 적층 재료의 다른 면 측의 금속박 층상의 보호 실을 제거하고, 이 면의 금속박 층 위에 두께가 25㎛인 드라이 필름 레지스트(도쿄응화제, 품명: FP-225)를 라미네이트해서 레지스터 층을 형성하였다. 그 후, 이 레지스터 층 위에 포토 마스크 필름을 배치하고, 레지스터 층에 대해서 평행광 노광기(오크제작소제)를 이용해서 노광 처리를 한 후 현상 처리를 함으로써, 적층 재료에 있어서의 금속박 층 위에 에칭용의 레지스터 패턴을 형성하였다. 그 다음에 에칭 처리를 함으로써, 절연성 기판의 이면에 7312개의 단자 전극과 각 단자 전극과 바이어 홀을 전기적으로 접속하는 패턴 배선부를 형성하고 레지스터 패턴을 제거하였다. Subsequently, the protective seal on the metal foil layer on the other side of the laminated material was removed, and a dry film resist (Tokyo Co., Ltd., product name: FP-225) having a thickness of 25 µm was laminated on the metal foil layer on this side to form a resistor layer. It was. Thereafter, a photomask film is placed on the resist layer, and the resist layer is subjected to an exposure process using a parallel light exposure machine (Oak Manufacturing Co., Ltd.), followed by development, thereby etching on the metal foil layer in the laminated material. A resist pattern was formed. Subsequently, by etching, a 7312 terminal electrode, a pattern wiring portion for electrically connecting each terminal electrode and a via hole were formed on the back surface of the insulating substrate, and the resist pattern was removed.

이어서, 단자 전극 및 패턴 배선부가 형성된 절연 기판의 이면에, 두께가 38㎛인 드라이 필름 솔더레지스트(니치고모톤제, 품명: 콘포마스크 2015)를 라미네이트해서 절연층을 형성하고 이 절연층 위에 포토 마스크 필름을 배치하고, 이어서 절연층에 대해서, 평행광 노광기(오크제작소제)를 이용해서 노광 처리를 한 후, 현상 처리함으로써, 전극을 노출하는 지름 0.4㎜의 개구부를 7312개 형성하였다. Subsequently, a dry film solder resist (Nichigo Moton, product name: Confomask 2015) having a thickness of 38 μm was laminated on the back surface of the insulating substrate on which the terminal electrode and the pattern wiring part were formed, to form an insulating layer, and a photo mask on the insulating layer. The film was placed, and then exposed to an insulating layer using a parallel light exposure machine (Oak Manufacturing Co., Ltd.), and then developed to form 7312 openings having a diameter of 0.4 mm to expose the electrodes.

이상과 같이 해서, 피치 변환용 기판(23a)을 제작하였다. 이 피치 변환용 기판은, 종횡의 치수가 120㎜×160㎜, 두께가 0.5㎜, 접속 전극의 절연층 표면으로부터 노출된 부분의 지름이 약 300㎛, 접속 전극의 절연층 표면으로부터의 돌출 높이가 약 25㎛, 접속 전극의 최소 배치 피치가 0.4㎜, 단자 전극의 지름이 0.4㎜, 단자 전극의 배치 피치가 0.75㎜이며, 접속 전극이 형성된 면 측의 절연층의 표면 거칠기가 0.02㎛였다. As mentioned above, the pitch conversion board | substrate 23a was produced. This pitch conversion substrate has a vertical and horizontal dimension of 120 mm x 160 mm, a thickness of 0.5 mm, a diameter of a portion exposed from the surface of the insulating layer of the connecting electrode of about 300 µm, and a height of the protrusion of the connecting electrode from the surface of the insulating layer. It was about 25 micrometers, the minimum arrangement pitch of the connection electrode was 0.4 mm, the diameter of the terminal electrode was 0.4 mm, the arrangement pitch of the terminal electrode was 0.75 mm, and the surface roughness of the insulating layer on the surface side on which the connection electrode was formed was 0.02 µm.

이 피치 변환용 기판의 표면 측에, 상기의 이방 도전성 시트(a)를 배치하고, 이면 측에 두께 방향으로 연장되는 다수의 도전로 형성부와 이것들을 서로 절연하는 절연부로 이루어지고, 한 면에 도전로 형성부가 돌출된 편재형 이방 도전성 시트를 배치함으로써 상부측의 회로 기판측 커넥터(21a)로 하였다. The anisotropic conductive sheet a is disposed on the front surface side of the substrate for pitch conversion, and is formed of a plurality of conductive path forming portions extending in the thickness direction on the back surface side and an insulating portion that insulates them from each other. The circuit board side connector 21a of the upper side was arrange | positioned by arrange | positioning the uneven type anisotropic conductive sheet which protruded the conductive path formation part.

또한, 피치 변환용 기판(23)과 중계 핀 유닛(31)의 사이에 배치되는 제2의 이방 도전성 시트(26)는 도 6에 나타나는 형상이며, 구체적으로는 이하의 구성인 것을 사용하였다. In addition, the 2nd anisotropic conductive sheet 26 arrange | positioned between the pitch conversion board | substrate 23 and the relay pin unit 31 is a shape shown in FIG. 6, and the following structures were used specifically ,.

〔제2의 이방 도전성 시트(26)〕[2nd anisotropic conductive sheet 26]

치수: 110㎜×150㎜Dimensions: 110 mm × 150 mm

도전로 형성부의 두께: 0.6㎜Thickness of conductive path forming part: 0.6 mm

도전로 형성부의 외경: 0.35㎜Outer diameter of conductive path forming section: 0.35 mm

도전로 형성부의 돌출 높이: 0.05㎜Protruding height of conductive path forming portion: 0.05 mm

도전성 입자: 재질; 금 도금 처리를 한 니켈 입자, 평균 입자 지름; 35㎛, 도전로 형성부에 있어서의 도전성 입자의 함유율; 30체적%Conductive particles: material; Nickel particles with gold plating treatment, average particle diameter; 35 micrometers, content rate of electroconductive particle in a conductive path formation part; 30% by volume

탄성 고분자 물질: 재질; 실리콘 고무, 경도; 30Elastomeric material: material; Silicone rubber, hardness; 30

(W2/D2=17) (W 2 / D 2 = 17)

상기와 마찬가지로 해서, 표면에 3784개의 접속 전극을 가짐과 함께, 이면에 3784개의 단자 전극을 가지는 하부측 검사용 지그용의 피치 변환용 기판(23b)을 제작하였다. 이 피치 변환용 기판은 종횡의 치수가 120㎜×160㎜, 두께가 0.5㎜, 접속 전극의 절연층 표면에 노출된 부분의 지름이 약 300㎛, 접속 전극의 절연층 표면으로부터의 돌출 높이가 약 25㎛, 접속 전극의 최소 배치 피치가 0.4㎜, 단자 전극의 지름이 0.4㎜, 단자 전극의 배치 피치가 0.75㎜이며, 접속 전극이 형성된 면 측의 절연층의 표면 거칠기가 0.02㎛였다. In the same manner as described above, the pitch conversion substrate 23b for the lower side inspection jig having 3784 connection electrodes on the surface and 3784 terminal electrodes on the back surface was produced. This pitch conversion substrate has a dimension of 120 mm x 160 mm in length and width, 0.5 mm in thickness, a diameter of a portion exposed to the surface of the insulating layer of the connecting electrode of about 300 µm, and a height of protrusion from the surface of the insulating layer of the connecting electrode. The minimum arrangement pitch of 25 micrometers, the connection electrode was 0.4 mm, the diameter of the terminal electrode was 0.4 mm, and the arrangement pitch of the terminal electrode was 0.75 mm, and the surface roughness of the insulating layer on the surface side on which the connection electrode was formed was 0.02 µm.

이 피치 변환용 기판의 표면 측에 상기의 이방 도전성 시트(a)를 배치하고, 이면 측에 두께 방향으로 연장되는 다수의 도전로 형성부와 이것들을 서로 절연하는 절연부로 이루어지고, 한 면에 도전로 형성부가 돌출된 편재형 이방 도전성 시트를 배치함으로써 하부측의 회로 기판측 커넥터(21b)로 하였다. The anisotropic conductive sheet a is disposed on the front surface side of the substrate for pitch conversion, and is formed of a plurality of conductive path forming portions extending in the thickness direction on the back surface side and an insulating portion that insulates them from each other. By arrange | positioning the uneven type anisotropic conductive sheet which protruded the furnace formation part, it was set as the circuit board side connector 21b of the lower side.

이들 상부측 하부측의 회로 기판측 커넥터(21a, 21b)를 이용해서, 도 1에 나타낸 것처럼 중계 핀 유닛(31a, 31b) 및 테스터측 커넥터(41a, 41b)를 배치함으로써 검사장치를 구성하였다. Using these circuit board side connectors 21a and 21b on the upper side, the inspection apparatus was constructed by arranging relay pin units 31a and 31b and tester side connectors 41a and 41b as shown in FIG.

〔성능시험〕[Performance test]

레일 반송형 회로 기판 자동 검사기 「STARREC V5」(일본 전산 리드사제)에 검사장치를 장착하고, 하기의 방법에 의해, 접속 안정성 시험(최저 프레스 압력의 측정) 및 이방 도전성 시트의 박리 시험을 행하였다. The inspection apparatus was attached to the rail conveyance type circuit board automatic tester "STARREC V5" (made by Nippon Computer Co., Ltd.), and the connection stability test (measurement of the minimum press pressure) and the peeling test of the anisotropic conductive sheet were performed by the following method. .

1. 최저 프레스 압력의 측정 1. Measurement of the lowest press pressure

제작한 검사장치를 레일 반송형 회로 기판 자동 검사기 「STARREC V5」의 검사부에 세팅하고, 검사장치에 대해서 평가용 회로 기판(1)을 세팅하고, 레일 반송형 회로 기판 자동 검사기 「STARREC V5」의 프레스 압력을 100 내지 250kgf의 범위 내에 있어서 단계적으로 변화시켜, 각 프레스 압력 조건마다 각 10회씩 평가용 회로 기판(1)의 피검사 전극에 대해서 검사용 전극에 1밀리 암페어의 전류를 인가했을 때의 도통 저항값을 측정하였다. The produced inspection apparatus is set to the inspection part of the rail conveyance type circuit board automatic inspection machine "STARREC V5", the circuit board 1 for evaluation is set with respect to an inspection apparatus, and the press of the rail conveyance type circuit board automatic inspection machine "STARREC V5" is pressed. The conduction at the time of changing the pressure in steps within the range of 100 to 250 kgf and applying a current of 1 milliampere to the test electrode to the test electrode of the circuit board 1 for evaluation each time 10 times for each press pressure condition. The resistance value was measured.

측정된 도통 저항값이 100Ω 이상으로 된 검사점( 이하, 「NG 검사점」이라고 함)을 도통 불량으로 판정하고, 총 검사점에 있어서의 NG 검사점의 비율( 이하, 「NG 검사점 비율」이라고 함)을 산출하여, NG 검사점 비율이 0.01% 이하로 된 가장 낮은 프레스 압력을 최저 프레스 압력으로 하였다. The inspection point (hereinafter referred to as "NG inspection point") whose measured conduction resistance value became 100 ohms or more is judged as poor conduction, and the ratio of NG inspection point in the total inspection point (hereinafter, "NG inspection point ratio"). ), The lowest press pressure at which the NG checkpoint ratio was 0.01% or less was defined as the minimum press pressure.

이 도통 저항값의 측정에 있어서는, 하나의 도통 저항값의 측정이 종료한 후에 해당 측정에 따른 프레스 압력을 개방해서 검사장치를 무 가압 상태로 되돌리고, 다음의 도통 저항값의 측정은 재차 소정의 크기의 프레스 압력을 작용시킴으로써 행하였다. In the measurement of the conduction resistance value, after completion of the measurement of one conduction resistance value, the press pressure according to the measurement is released to return the inspection device to the unpressurized state, and the measurement of the conduction resistance value of the next time is again a predetermined size. It was performed by acting a press pressure of.

구체적으로, NG 검사점 비율은 평가용 회로 기판(1)의 상면 피검사 전극수는 7312점, 하면 피검사 전극수는 3784점이며, 각 프레스 압력 조건에 있어서 10회의 측정을 행한 것으로부터 식 (7312+3784)×10=110960에 의해 산출되는 110960점의 검사점에 차지하는 NG 검사점의 비율을 나타낸다. 측정 결과를 표 3에 나타냈다. Specifically, the NG inspection point ratio is 7312 points on the upper surface of the circuit board 1 for evaluation and 3784 points on the lower surface of the evaluation circuit board. The ratio of NG checkpoints to 110960 checkpoints calculated by 3784) × 10 = 110960 is shown. The measurement results are shown in Table 3.

2. 박리성 시험 2. Peelability Test

검사장치에 상기의 평가용 회로 기판을 반송시켜 세팅하고, 150kgf의 프레스 하중으로 평가용 회로 기판에 대해서 가압하였다. 이 상태에서, 2개의 커넥터의 접속 전극과 전기적으로 접속된 평가용 회로 기판에 1mA의 전류를 인가했을 때의 전기 저항값을 측정하고, 그 다음에 평가용 회로 기판에 대한 가압을 해제하였다. 이 조작을 10회 행한 후, 평가용 회로 기판을 검사장치의 검사 영역으로부터 반송하였다. The circuit board for evaluation was conveyed and set to the inspection apparatus, and it pressed against the circuit board for evaluation by the press load of 150 kgf. In this state, the electrical resistance value at the time of applying a current of 1 mA to the evaluation circuit board electrically connected to the connection electrodes of the two connectors was measured, and then the pressure on the evaluation circuit board was released. After performing this operation 10 times, the circuit board for evaluation was conveyed from the test | inspection area of a test | inspection apparatus.

상기의 공정을 100매의 평가용 회로 기판에 대해 행하고 평가용 회로 기판을 검사장치의 검사 영역으로부터 반송했을 때, 이방 도전성 시트(a)가 피치 변환용 기판으로부터 이탈해서 평가용 회로 기판에 접착되어 있던 회수(반송 에러 회수)를 측정하였다. 측정 결과를 표 3에 나타냈다. When the above process is performed for 100 circuit boards for evaluation and the circuit board for evaluation is conveyed from the inspection region of the inspection apparatus, the anisotropic conductive sheet a is separated from the substrate for pitch conversion and adhered to the circuit board for evaluation. The number of times of occurrence (number of return errors) was measured. The measurement results are shown in Table 3.

[실시예 4]Example 4

실시예 3에서 제작한 검사장치에 있어서, 이방 도전성 엘라스토머 시트(a) 대신에 하기의 이방 도전성 엘라스토머 시트(b)를 이용해서 검사장치를 구성하고, 실시예 3과 마찬가지로 해서 접속 안정성 시험 및 박리성 시험을 행하였다. 측정 결과를 표 3에 나타냈다. In the inspection apparatus produced in Example 3, instead of the anisotropic conductive elastomer sheet (a), the inspection apparatus is configured using the following anisotropic conductive elastomer sheet (b), and the connection stability test and peelability are performed in the same manner as in Example 3. The test was done. The measurement results are shown in Table 3.

한쪽의 성형 부재의 성형 면에, 120㎜×200㎜의 직사각형의 개구부를 가지고 두께가 0.08㎜인 틀 모양의 스페이서를 배치한 후, 스페이서의 개구부 내에 실시예 1과 마찬가지로 해서 조제한 성형 재료를 도포하고, 이 성형 재료상에 다른 쪽의 성형 부재를 그 성형 면이 성형 재료에 접하도록 배치하였다. After arranging a frame-shaped spacer having a rectangular opening of 120 mm x 200 mm and a thickness of 0.08 mm on the molding surface of one of the molding members, a molding material prepared in the same manner as in Example 1 was applied to the spacer opening. On the molding material, the other molding member was disposed so that the molding surface was in contact with the molding material.

양쪽의 성형 부재에는, 두께가 0.1㎜인 폴리에스테르 수지 시트(토레이사제, 품명 「매틀미러 S10」)를, 그 광택면(표면 거칠기가 0.04㎛)을 성형 면으로 하여 사용하였다. For both molding members, a polyester resin sheet (manufactured by Toray Co., Ltd., "Matter Mirror S10") having a thickness of 0.1 mm was used with the glossy surface (surface roughness of 0.04 µm) as the molding surface.

이어서, 가압 롤 및 지지 롤로 이루어지는 가압 롤 장치를 이용해서 각 성형 부재에 의해 성형 재료를 협압함으로써 두께 0.08㎜의 성형 재료층을 형성하였다. 각 성형 부재의 이면에 전자석을 배치하고 성형 재료층에 대해서 그 두께 방향으로 0.3T의 평행 자장을 작용시키면서, 120℃로 30분간 성형 재료층의 경화 처리를 행함으로써 두께 0.1㎜의 직사각형의 이방 도전성 시트를 제작하였다. Next, the molding material layer of thickness 0.08mm was formed by pinching a molding material with each molding member using the press roll apparatus which consists of a press roll and a support roll. A rectangular anisotropic conductive material having a thickness of 0.1 mm is disposed by curing the molding material layer at 120 ° C. for 30 minutes while arranging an electromagnet on the back surface of each molding member and acting a parallel magnetic field of 0.3T in the thickness direction with respect to the molding material layer. The sheet was produced.

얻어진 이방 도전성 시트(b)는 한쪽 표면에 있어서의 표면 거칠기가 0.13㎛, 다른 쪽 표면에 있어서의 표면 거칠기가 0.12㎛이며, 도전성 입자의 비율이 체적분률로 12%였다. The obtained anisotropic conductive sheet (b) had a surface roughness of 0.13 µm and a surface roughness of 0.12 µm on the other surface, and the proportion of the conductive particles was 12% in the volume fraction.

NG 검사점 비율(%)NG Checkpoint Rate (%) 최저 프레스 압력(kgf)Press pressure (kgf) 반송 에러 횟수(회)Bounce errors 프레스 하중(kgf)Press load (kgf) 110110 130130 150150 180180 200200 250250 실시예 3Example 3 2.22.2 0.20.2 0.020.02 00 00 00 180180 00 실시예 4Example 4 2.32.3 0.30.3 0.010.01 00 00 00 180180 9595

[실시예 5] Example 5

이하에 있어서, 표면 거칠기는 자이고사제의 3차원 표면 구조 해석 현미경 「New View 200」을 이용해서, JIS B0601에 의한 중심 평균 거칠기(Ra)를 컷오프 값 0.8㎜, 측정 길이 0.25㎜의 조건으로 측정한 값이다.  In the following, surface roughness measured the center mean roughness Ra by JIS B0601 on condition of cut-off value 0.8mm and measurement length 0.25mm using the 3-dimensional surface structure analysis microscope "New View 200" made by Zhigo Co., Ltd. One value.

(평가용 회로 기판) Evaluation Circuit Board

하기의 사양의 평가용 회로 기판을 준비하였다. The circuit board for evaluation of the following specification was prepared.

치수: 100㎜(세로)×100㎜(가로)×0.8㎜(두께) Dimensions: 100 mm (length) × 100 mm (width) × 0.8 mm (thickness)

상면측의 피검사 전극의 수: 7312개Number of inspected electrodes on the upper side: 7312

상면측의 피검사 전극의 지름: 0.3㎜Diameter of the inspected electrode on the upper surface side: 0.3 mm

상면측의 피검사 전극의 최소 배치 피치: 0.4㎜Minimum placement pitch of the inspection target electrode on the upper surface side: 0.4 mm

하면측의 피검사 전극의 수: 3784Number of inspected electrodes on lower surface: 3784

하면측의 피검사 전극의 지름: 0.3㎜Diameter of the inspected electrode on the lower surface side: 0.3 mm

하면측의 피검사 전극의 최소 배치 피치: 0.4㎜Minimum placement pitch of the electrode under test on the lower surface side: 0.4 mm

레일 반송형 회로 기판 자동 검사기(일본 전산 리드사제 (Nidec Read Corporation), 품명: 스타레크 (STARREC) V5)의 검사부에 적합한, 상기의 평가용 회로 기판을 검사하기 위한 회로 기판 검사장치(도 20)를 제작하였다. Circuit board inspection apparatus (FIG. 20) for inspecting said evaluation circuit board suitable for the inspection part of the rail conveyance type circuit board automatic tester (Nidec Read Corporation, product name: STARREC V5). Was produced.

(1) 제1의 이방 도전성 시트(22)(1) First Anisotropic Conductive Sheet 22

2액형의 부가형 액상 실리콘 고무의 A액과 B액을 등량으로 되는 비율로 혼합하였다. 이 혼합물 100 중량부에 평균 입자 지름이 20㎛인 도전성 입자 100 중량부를 첨가해서 혼합한 후, 감압에 의한 탈포처리를 행함으로써 성형 재료를 조제하였다. The liquid A and liquid B of the two-part addition liquid silicone rubber were mixed at a ratio equal to each other. To 100 parts by weight of this mixture, 100 parts by weight of conductive particles having an average particle diameter of 20 µm were added and mixed, and then a molding material was prepared by performing a degassing treatment under reduced pressure.

부가형 액상 실리콘 고무로서 A액 및 B액의 점도가 각각 500P이고, 그 경화물의 150℃에 있어서의 압축 영구 일그러짐(JIS K 6249에 준거한 측정 방법에 따름)이 6%, 23℃에 있어서의 파열 강도(JIS K 6249에 준거한 측정 방법에 따름)가 25kN/m인 것을 이용하였다. As the additive liquid silicone rubber, the viscosity of the liquid A and the liquid B is 500P, respectively, and the compression set at 150 ° C of the cured product (according to the measurement method in accordance with JIS K 6249) is 6% and burst at 23 ° C. The thing whose intensity | strength (according to the measuring method based on JISK6249) was 25 kN / m was used.

도전성 입자로서 니켈 입자를 심 입자로 하고, 이 심 입자에 무전해금 도금을 한 것(평균 피복량: 심 입자 중량의 5중량%로 되는 양)을 이용하였다. Nickel particles were used as core particles as electroconductive particles, and electroless plating was performed on the core particles (average coating amount: the amount of 5% by weight of the core particle weight).

한쪽의 성형 부재의 성형 면에 120㎜×200㎜의 직사각형의 개구부를 갖는, 두께가 0.08㎜인 틀 모양의 스페이서를 배치한 후, 스페이서의 개구부 내에 조제한 성형 재료를 도포하고, 이 성형 재료상에 다른 쪽의 성형 부재를 그 성형 면이 성형 재료에 접하도록 배치하였다. After arranging a 0.08 mm-thick spacer having a rectangular opening of 120 mm x 200 mm on the molding surface of one of the molding members, a molding material prepared in the opening of the spacer is applied and the other is formed on the molding material. The side molding member was arrange | positioned so that the molding surface might contact the molding material.

한쪽의 성형 부재에는 두께가 0.1㎜인 폴리에스테르 수지 시트(토레이사제, 품명 「매틀미러 S10」)를 그 비광택면(표면 거칠기가 1㎛)을 성형 면으로 하여 사용하고, 다른 쪽의 성형 부재에는 두께가 0.1㎜인 폴리에스테르 수지 시트(토레이사제, 품명 「매틀미러 S10」)를 그 광택면(표면 거칠기가 0.04㎛)을 성형 면으로 하여 사용하였다. For one molding member, a polyester resin sheet having a thickness of 0.1 mm (manufactured by Toray Corporation, product name "Matter Mirror S10") was used with the non-gloss surface (surface roughness of 1 µm) as the molding surface, and the other molding member For example, a 0.1 mm thick polyester resin sheet (manufactured by Toray Industries, product name "Matter Mirror S10") was used with the gloss surface (surface roughness of 0.04 µm) as the molding surface.

이어서, 가압 롤 및 지지 롤로 이루어지는 가압 롤 장치를 이용해서, 이들 성형 부재에 의해 성형 재료를 협압하여 성형 재료의 두께를 0.08㎜로 하였다. Next, using the press roll device which consists of a press roll and a support roll, the molding material was pinched by these molding members, and the thickness of the molding material was 0.08 mm.

각 성형 부재의 이면에 전자석을 배치하고, 성형 재료에 대해서 그 두께 방향으로 0.3T의 평행 자장을 작용시키면서, 120℃, 30분간의 조건으로 성형 재료의 경화 처리를 행함으로써 두께가 0.1㎜인 직사각형의 이방 도전성 시트를 제조하였다. A rectangle having a thickness of 0.1 mm by arranging the electromagnet on the back surface of each molding member and performing curing treatment of the molding material at 120 ° C. for 30 minutes while acting a 0.3T parallel magnetic field with respect to the molding material in the thickness direction thereof. An anisotropic conductive sheet was prepared.

얻어진 이방 도전성 시트는 그 일면에 있어서의 표면 거칠기가 1.4㎛이고, 다른 면에 있어서의 표면 거칠기가 0.12㎛이며, 도전성 입자의 비율이 체적분률로12%였다. 이 이방 도전성 엘라스토머 시트를 「이방 도전성 시트(a)」라고 한다. The obtained anisotropic conductive sheet had a surface roughness of 1.4 µm on one surface thereof, a surface roughness of 0.12 µm on the other surface thereof, and a proportion of conductive particles was 12% in volume fraction. This anisotropically conductive elastomer sheet is called "anisotropically conductive sheet (a)".

(2) 피치 변환용 기판(23) (2) Pitch Conversion Substrate 23

유리 섬유 보강형 에폭시 수지로 이루어지는 절연 기판의 양면 전면에, 두께가 18㎛의 강철로 이루어지는 금속박 층을 형성한 적층 재료(마츠시타 전공사제, 품명: R-1766) 상의 수치제어형 드릴링 장치에 의해, 각각 적층 재료의 두께 방향으로 관통하는 지름 0.2㎜의 원형 관통구멍을 총 7312개 형성하였다. The numerically controlled drilling apparatus on the laminated material (Matsushita Electric Co., product name: R-1766) which formed the metal foil layer which consists of steel of 18 micrometers in thickness on the both surfaces of the insulating substrate which consists of glass fiber reinforced epoxy resin, respectively, A total of 7312 circular through holes having a diameter of 0.2 mm penetrating in the thickness direction of the laminated material were formed.

이어서, 관통구멍이 형성된 적층 재료에 대해서 EDTA 타입 동 도금액을 이용해서 무전해 도금 처리를 함으로써, 각 관통구멍의 내벽에 동 도금층을 형성하고, 또한 황산동 도금액을 이용해서 전해 동 도금 처리를 함으로써 각 관통구멍 내에 적층 재료 표면의 각 금속박 층을 서로 전기적으로 접속하는, 두께 약 10㎛의 원통형의 바이어 홀을 형성하였다. Subsequently, electroless plating is performed on the laminated material having the through holes formed using an EDTA type copper plating solution, thereby forming a copper plating layer on the inner wall of each through hole, and electrolytic copper plating treatment using the copper sulfate plating solution. A cylindrical via hole having a thickness of about 10 μm was formed in the hole to electrically connect each metal foil layer on the surface of the laminated material to each other.

이어서, 적층 재료 표면의 금속박 층 위에 두께가 25㎛인 드라이 필름 레지스터(도쿄응화제, 품명: FP-225)를 라미네이트해서 레지스터 층을 형성함과 함께, 이 적층 재료의 다른 면 측의 금속박 층 위에 보호 실을 배치하였다. 이 레지스터 층 위에 포토 마스크 필름을 배치하고, 레지스터 층에 대해서 평행광 노광기(오크제작소제)를 이용해서 노광 처리를 한 후 현상 처리를 행함으로써, 에칭용의 레지스터 패턴을 형성하였다. 그리고, 레지스터 패턴을 형성한 면의 금속박 층에 대해서 에칭 처리를 함으로써, 절연 기판의 표면에 지름 200㎛의 7312개의 접속 전극과 각 접속 전극과 바이어 홀을 전기적으로 접속하는 선 폭이 100㎛인 패턴 배선부를 형성하고, 이어서 레지스터 패턴을 제거하였다. Subsequently, a dry film resistor (Tokyo Co., Ltd., product name: FP-225) having a thickness of 25 µm was laminated on the metal foil layer on the surface of the laminated material to form a resistor layer, and on the metal foil layer on the other side of the laminated material. The protective seal was placed. The photomask film was arrange | positioned on this resist layer, and the resist pattern for etching was formed by performing an exposure process using a parallel light exposure machine (Oak Manufacturing Company) with respect to a resist layer, and developing. Then, the etching process is performed on the metal foil layer on the surface on which the resist pattern is formed, so that a pattern having a width of 100 μm on the surface of the insulating substrate is connected to 7312 connection electrodes having a diameter of 200 μm, and each connection electrode and the via hole are electrically connected to each other. The wiring portion was formed, and then the resist pattern was removed.

접속 전극 및 패턴 배선부가 형성된 절연 기판의 표면에 두께가 25㎛인 드라이 필름 솔더레지스트(히다치 화성제, 품명: SR-2300G)를 라미네이트해서 절연층을 형성하고, 이 절연층 위에 포토 마스크 필름을 배치하고 절연층에 대해서 평행광 노광기(오크제작소제)를 이용해서 노광 처리를 한 후 현상 처리를 행함으로써 각각의 접속 전극을 노출하는, 지름 200㎛의 7312개의 개구부를 형성하였다. 황산 동 도금액을 이용하고 적층 재료의 다른 면 측의 금속박 층을 공통 전극으로서 이용해서, 각각의 접속 전극에 대해서 전해 동 도금 처리를 함으로써 절연층의 표면으로부터 돌출하는 7312개의 접속 전극을 형성하였다. A dry film solder resist (Hitachi Chemical Co., Ltd. name: SR-2300G) having a thickness of 25 µm is laminated on the surface of the insulating substrate on which the connection electrode and the pattern wiring portion are formed to form an insulating layer, and a photomask film is disposed on the insulating layer. Then, 7312 openings each having a diameter of 200 μm were formed by exposing each connection electrode by performing an exposure process using a parallel light exposure machine (Oak Manufacturing Co., Ltd.) with respect to the insulating layer. By using copper sulfate plating solution and using a metal foil layer on the other side of the laminated material as a common electrode, 7312 connection electrodes protruding from the surface of the insulating layer were formed by electrolytic copper plating treatment on each connection electrode.

이어서, 적층 재료의 다른 면 측의 금속박 층상의 보호 실을 제거하고, 이 면의 금속박 층 위에 두께가 25㎛인 드라이 필름 레지스트(도쿄응화제, 품명: FP-225)를 라미네이트해서 레지스터 층을 형성하였다. 그 후, 이 레지스터 층 위에 포토 마스크 필름을 배치하고, 레지스터 층에 대해서 평행광 노광기(오크제작소제)를 이용해서 노광 처리를 한 후 현상 처리를 행함으로써, 적층 재료에 있어서의 금속박 층 위에 에칭용의 레지스터 패턴을 형성하였다. 그 다음에 에칭 처리를 함으로써, 절연성 기판의 이면에 7312개의 단자 전극과 각 단자 전극과 바이어 홀을 전기적으로 접속하는 패턴 배선부를 형성하고 레지스터 패턴을 제거하였다. Subsequently, the protective seal on the metal foil layer on the other side of the laminated material was removed, and a dry film resist (Tokyo Co., Ltd., product name: FP-225) having a thickness of 25 µm was laminated on the metal foil layer on this side to form a resistor layer. It was. Thereafter, a photo mask film is disposed on the resist layer, and the resist layer is subjected to an exposure process using a parallel light exposure machine (Oak Manufacturing Co., Ltd.), followed by development, thereby etching on the metal foil layer in the laminated material. The resist pattern of was formed. Subsequently, by etching, a 7312 terminal electrode, a pattern wiring portion for electrically connecting each terminal electrode and a via hole were formed on the back surface of the insulating substrate, and the resist pattern was removed.

이어서, 단자 전극 및 패턴 배선부가 형성된 절연 기판의 이면에, 두께가 38㎛인 드라이 필름 솔더 레지스트(니치고모톤제, 품명: 콘포마스크 2015)를 라미네이트해서 절연층을 형성하고 이 절연층 위에 포토 마스크 필름을 배치하고, 이어서 절연층에 대해서 평행광 노광기(오크제작소제)를 이용해서 노광 처리를 한 후, 현상 처리함으로써 전극을 노출하는 지름 0.4㎜의 개구부를 7312개 형성하였다. Subsequently, a dry film solder resist (Nichigo Moton, product name: Confomask 2015) having a thickness of 38 µm was laminated on the back surface of the insulating substrate on which the terminal electrode and the pattern wiring part were formed, to form an insulating layer, and a photo mask on the insulating layer. The film was placed, and then exposed to an insulating layer using a parallel light exposure machine (Oak Manufacturing Co., Ltd.), and then developed to form 7312 openings having a diameter of 0.4 mm to expose the electrodes.

이상과 같이 해서, 제1의 검사 지그(11a)용의 피치 변환용 기판(23a)을 제작하였다. 이 피치 변환용 기판(23a)은, 종횡의 치수가 120㎜×160㎜, 두께가 0.5㎜, 접속 전극의 절연층 표면으로부터 노출된 부분의 지름이 약 300㎛, 접속 전극의 절연층 표면으로부터의 돌출 높이가 약 25㎛, 접속 전극의 최소 배치 피치가 0.4㎜, 단자 전극의 지름이 0.4㎜, 단자 전극의 배치 피치가 0.75㎜이며, 접속 전극이 형성된 면 측의 절연층의 표면 거칠기가 0.02㎛였다. As described above, the substrate 23a for pitch conversion for the first inspection jig 11a was produced. The substrate 23a for pitch conversion has a length of 120 mm x 160 mm, a thickness of 0.5 mm, a diameter of a portion exposed from the surface of the insulating layer of the connecting electrode of about 300 µm, and a surface of the insulating layer of the connecting electrode. The protruding height is about 25 占 퐉, the minimum arrangement pitch of the connection electrode is 0.4 mm, the diameter of the terminal electrode is 0.4 mm, the arrangement pitch of the terminal electrode is 0.75 mm, and the surface roughness of the insulating layer on the surface side on which the connection electrode is formed is 0.02 占 퐉. It was.

또, 상기와 마찬가지로 해서, 표면에 3784개의 접속 전극을 가짐과 함께 이면에 3784개의 단자 전극을 갖는, 제2의 검사 지그(11b)용의 피치 변환용 기판(23b)을 제작하였다. 이 피트치 변환용 기판(23b)은 종횡의 치수가 120㎜×160㎜, 두께가 0.5㎜, 접속 전극에 있어서의 절연층의 표면에 노출된 부분의 지름이 약 300㎛, 접속 전극에 있어서의 절연층의 표면으로부터의 돌출 높이가 약 25㎛, 접속 전극의 최소 배치 피치가 0.4㎜, 단자 전극의 지름이 0.4㎜, 단자 전극의 배치 피치가 0.75㎜이며, 표면(접속 전극이 형성된 면) 측의 절연층의 표면 거칠기가 0.02㎛인 것이다. Moreover, the pitch conversion board | substrate 23b for the 2nd test jig 11b which produced 3784 connection electrodes on the surface, and had 3784 terminal electrodes on the back surface was produced similarly to the above. The pitch-converting substrate 23b has a vertical and horizontal dimension of 120 mm × 160 mm, a thickness of 0.5 mm, and a diameter of a portion exposed to the surface of the insulating layer in the connection electrode of about 300 μm, in the connection electrode. The protruding height from the surface of the insulating layer is about 25 µm, the minimum arrangement pitch of the connection electrode is 0.4 mm, the diameter of the terminal electrode is 0.4 mm, and the arrangement pitch of the terminal electrode is 0.75 mm. The surface roughness of the insulating layer is 0.02 µm.

(3) 회로 기판측 커넥터(21)(3) circuit board side connector (21)

이 피치 변환용 기판(23)의 표면 측에 상기의 제1의 이방 도전성 시트(22)를 배치하고, 이면 측에 두께 방향으로 연장되는 다수의 도전로 형성부와 이것들을 서로 절연하는 절연부로 이루어지고 한 면에 도전로 형성부가 돌출된 편재형 이방 도전성 시트로 이루어지는, 제2의 이방 도전성 시트(26)를 배치함으로써 회로 기판측 커넥터(21)로 하였다. The first anisotropic conductive sheet 22 is disposed on the front surface side of the substrate 23 for pitch conversion, and a plurality of conductive path forming portions extending in the thickness direction on the rear surface side thereof and an insulating part insulating them from each other. The circuit board side connector 21 was made by arrange | positioning the 2nd anisotropically conductive sheet | seat 26 which consists of the uneven type anisotropically conductive sheet | seat which protruded the conductive path formation part on one side.

또한, 피치 변환용 기판(23)과 중계 핀 유닛(31)의 사이에 배치되는 제2의 이방 도전성 시트(26)는 도 6에 나타나는 형상이며, 구체적으로는 이하의 구성인 것을 사용하였다. In addition, the 2nd anisotropic conductive sheet 26 arrange | positioned between the pitch conversion board | substrate 23 and the relay pin unit 31 is a shape shown in FIG. 6, and the following structures were used specifically ,.

〔제2의 이방 도전성 시트(26)〕[2nd anisotropic conductive sheet 26]

치수: 110㎜×150㎜Dimensions: 110 mm × 150 mm

도전로 형성부의 두께: 0.6㎜Thickness of conductive path forming part: 0.6 mm

도전로 형성부의 외경: 0.35㎜Outer diameter of conductive path forming section: 0.35 mm

도전로 형성부의 돌출 높이: 0.05㎜Protruding height of conductive path forming portion: 0.05 mm

도전성 입자: 재질; 금 도금 처리를 한 니켈 입자, 평균 입자 지름; 35㎛, 도전로 형성부에 있어서의 도전성 입자의 함유율; 30체적%Conductive particles: material; Nickel particles with gold plating treatment, average particle diameter; 35 micrometers, content rate of electroconductive particle in a conductive path formation part; 30% by volume

탄성 고분자 물질: 재질; 실리콘 고무, 경도; 30Elastomeric material: material; Silicone rubber, hardness; 30

(W2/D2=17)(W 2 / D 2 = 17)

(4) 중계 핀 유닛(31) (4) relay pin unit (31)

제1의 절연판(34), 중간 유지 판(36), 제2의 절연판(35)의 재료로서 고유 저항이 1×1010Ω·㎝ 이상인 절연성 재료, 유리 섬유 보강형 에폭시 수지로 이루어지고, 그 두께가 1.9㎜인 것을 이용하였다.The material of the first insulating plate 34, the intermediate holding plate 36, and the second insulating plate 35 is made of an insulating material having a specific resistance of 1 × 10 10 Ω · cm or more, a glass fiber reinforced epoxy resin, A thickness of 1.9 mm was used.

그리고, 제1의 절연판(34)과 중간 유지 판(36) 사이의 거리(L1)가 36.3㎜, 제2의 절연판(35)과 중간 유지 판(36) 사이의 거리(L2)가 3㎜로 되도록, 제1의 지지 핀(33)(지름 2㎜, 길이 36.3㎜)과 제2의 지지 핀(37)(지름 2㎜, 길이 3㎜)에 의해 고정 지지함과 함께, 제1의 절연판(34)과 제2의 절연판(35)의 사이에 하기의 구성으로 이루어지는 도전 핀(32)을 이동 자재로 되도록 관통구멍(83)(지름 0.4㎜)에 배치해서 제작하였다. The distance L1 between the first insulating plate 34 and the intermediate holding plate 36 is 36.3 mm, and the distance L2 between the second insulating plate 35 and the intermediate holding plate 36 is 3 mm. The first insulating plate (1) is fixedly supported by the first support pin 33 (diameter 2 mm, length 36.3 mm) and the second support pin 37 (diameter 2 mm, length 3 mm). The conductive pin 32 which consists of the following structures between 34) and the 2nd insulating plate 35 was arrange | positioned in the through-hole 83 (diameter 0.4 mm) so that it may become a moving material, and it produced.

〔도전 핀〕[Conduction pin]

재질: 금 도금 처리를 한 놋쇠Material: gold plated brass

선단부(81a)의 치수: 외경 0.35㎜, 전체 길이 2.1㎜Dimensions of the tip portion 81a: 0.35 mm outer diameter, 2.1 mm total length

중앙부(82)의 치수: 외경 0.45㎜, 전체 길이 41㎜Dimensions of the center portion 82: 0.45 mm outer diameter, 41 mm total length

기단부(81b)의 치수: 외경 0.35㎜, 전체 길이 2.1㎜ Dimension of base end 81b: outer diameter 0.35 mm, total length 2.1 mm

또한, 제1의 지지 핀(33)의 중간 유지 판(36)과의 제1의 맞닿음 지지 위치(38A)와 제2의 지지 핀(37)의 중간 유지 판(36)과의 제2의 맞닿음 지지 위치(38B)는, 도 23에 나타낸 것처럼 격자상으로 배치하였다. 또, 서로 인접하는 제1의 맞닿음 지지 위치(38A) 사이의 이격 거리, 제2의 맞닿음 지지 위치(38B) 사이의 이격 거리를 17.5㎜로 하였다. Further, the second abutment of the first abutting support position 38A with the intermediate holding plate 36 of the first supporting pin 33 and the intermediate holding plate 36 of the second supporting pin 37 The contact support position 38B was arrange | positioned at grid form as shown in FIG. Moreover, the separation distance between the 1st contact support positions 38A which adjoined each other, and the separation distance between the 2nd contact support positions 38B was 17.5 mm.

(5) 테스터측 커넥터(41)(5) Tester side connector (41)

도 20에 나타낸 것처럼, 테스터측 커넥터(41)를 제3의 이방 도전성 시트(42)와 커넥터 기판(43)과 베이스 판(46)으로 구성하였다. 또한, 제3의 이방 도전성 시트(42)는 전술한 제2의 이방 도전성 시트(26)와 마찬가지인 것을 이용하였다. As shown in FIG. 20, the tester side connector 41 was comprised from the 3rd anisotropically conductive sheet 42, the connector board 43, and the base board 46. As shown in FIG. In addition, the 3rd anisotropically conductive sheet 42 used the thing similar to the 2nd anisotropically conductive sheet 26 mentioned above.

〔성능 시험〕[Performance test]

레일 반송형 회로 기판 자동 검사기 「STARREC V5」(일본 전산 리드사제)에 검사장치를 장착하고, 하기의 방법에 의해 접속 안정성 시험(최저 프레스 압력의 측정) 및 이방 도전성 시트의 박리 시험을 행하였다. The inspection apparatus was attached to the rail conveyance type circuit board automatic tester "STARREC V5" (made by Nippon Computer Co., Ltd.), and the connection stability test (measurement of the minimum press pressure) and the peeling test of the anisotropic conductive sheet were performed by the following method.

1.최저 프레스 압력의 측정 1.Measure the lowest press pressure

작성한 검사장치를 레일 반송형 회로 기판 자동 검사기 「STARREC V5」의 검사부에 세팅하고, 검사장치에 대해서 평가용 회로 기판(1)을 세팅하고, 레일 반송형 회로 기판 자동 검사기 「STARREC V5」의 프레스 압력을 100 내지 210kgf의 범위 내에 있어서 단계적으로 변화시켜, 각 프레스 압력 조건마다 각 10회씩, 평가용 회로 기판(1)의 피검사 전극에 대해서, 검사용 전극에 1밀리 암페어의 전류를 인가했을 때의 도통 저항값을 측정하였다. The created inspection apparatus is set to the inspection part of the rail conveyance type circuit board automatic inspection machine "STARREC V5", the circuit board 1 for evaluation is set with respect to an inspection apparatus, and the press pressure of the rail conveyance type circuit board automatic inspection machine "STARREC V5" Is changed in steps within the range of 100 to 210 kgf, and each time 10 times for each press pressure condition, a current of 1 milliampere is applied to the inspecting electrode to the inspected electrode of the circuit board 1 for evaluation. The conduction resistance value was measured.

측정된 도통 저항값이 100Ω이상으로 된 검사점( 이하, 「NG 검사점」이라고 함)을 도통 불량으로 판정하고, 총 검사점에 있어서의 NG 검사점의 비율( 이하, 「NG 검사점 비율」이라고 함)을 산출하여, NG 검사점 비율이 0.01% 이하로 된 가장 낮은 프레스 압력을 최저 프레스 압력으로 하였다. The inspection point (hereinafter referred to as "NG inspection point") whose measured conduction resistance value is 100 ohms or more is judged as poor conduction, and the ratio of the NG inspection point in the total inspection point (hereinafter, "NG inspection point ratio"). ), The lowest press pressure at which the NG checkpoint ratio was 0.01% or less was defined as the minimum press pressure.

이 도통 저항값의 측정에 있어서는, 하나의 도통 저항값의 측정이 종료한 후에 해당 측정에 따른 프레스 압력을 개방해서 검사장치를 무 가압 상태로 되돌리고, 다음의 도통 저항값의 측정은 재차 소정의 크기의 프레스 압력을 작용시킴으로써 행하였다. In the measurement of the conduction resistance value, after completion of the measurement of one conduction resistance value, the press pressure according to the measurement is released to return the inspection device to the unpressurized state, and the measurement of the conduction resistance value of the next time is again a predetermined size. It was performed by acting a press pressure of.

구체적으로, NG 검사점 비율은 평가용 회로 기판(1)의 상면 피검사 전극수는 7312점, 하면 피검사 전극수는 3784점이며, 각 프레스 압력 조건에 있어서 10회의 측정을 행한 것으로부터 식 (7312+3784)×10=110960에 의해 산출되는 110960점의 검사점에 차지하는, NG 검사점의 비율을 나타낸다. 측정 결과를 표 4에 나타냈다. Specifically, the NG inspection point ratio is 7312 points on the upper surface of the circuit board 1 for evaluation and 3784 points on the lower surface of the evaluation circuit board. The ratio of NG checkpoints to 110960 checkpoints calculated by 3784) × 10 = 110960 is shown. The measurement results are shown in Table 4.

2. 박리성 시험 2. Peelability Test

검사장치에 상기의 평가용 회로 기판을 반송시켜 세팅하고, 130kgf의 프레스 하중으로 평가용 회로 기판에 대해서 가압하였다. 이 상태에서, 2개의 커넥터의 접속 전극과 전기적으로 접속된 평가용 회로 기판에 1밀리 암페어의 전류를 인가했을 때의 전기 저항값을 측정하고, 그 다음에 평가용 회로 기판에 대한 가압을 해제하였다. 이 조작을 10회 행한 후, 평가용 회로 기판을 검사장치의 검사 영역으로부터 반송하였다. The circuit board for evaluation was conveyed and set to the inspection apparatus, and it pressed against the circuit board for evaluation by the press load of 130 kgf. In this state, the electrical resistance value when a current of 1 milliampere was applied to the evaluation circuit board electrically connected to the connection electrodes of the two connectors was measured, and then the pressure on the evaluation circuit board was released. . After performing this operation 10 times, the circuit board for evaluation was conveyed from the test | inspection area of a test | inspection apparatus.

상기의 공정을 100매의 평가용 회로 기판에 대해 행하고, 평가용 회로 기판을 검사장치의 검사 영역으로부터 반송했을 때, 이방 도전성 시트(a)가 피치 변환용 기판으로부터 이탈해서 평가용 회로 기판에 접착되어 있던 회수(반송 에러 회수)를 측정하였다. 측정 결과를 표 4에 나타냈다. When the said process is performed with respect to 100 circuit boards for evaluation, and the circuit board for evaluation was conveyed from the test | inspection area | region of a test | inspection apparatus, the anisotropic conductive sheet (a) deviates from the pitch conversion board | substrate and adheres to the circuit board for evaluation. The number of times (the number of return errors) which was made was measured. The measurement results are shown in Table 4.

[실시예 6]Example 6

실시예 5에서 제작한 검사장치에 있어서, 이방 도전성 엘라스토머 시트(a) 대신에 하기의 이방 도전성 엘라스토머 시트(b)를 이용해서 검사장치를 구성하고, 실시예 5와 마찬가지로 해서 접속 안정성 시험 및 박리성 시험을 행하였다. 측정 결과를 표 4에 나타냈다. In the inspection apparatus produced in Example 5, the inspection apparatus was configured using the following anisotropic conductive elastomer sheet (b) instead of the anisotropic conductive elastomer sheet (a), and the connection stability test and peelability were performed in the same manner as in Example 5. The test was done. The measurement results are shown in Table 4.

한쪽의 성형 부재의 성형 면에, 120㎜×200㎜의 직사각형의 개구부를 가지고, 두께가 0.08㎜인 틀 모양의 스페이서를 배치한 후, 스페이서의 개구부 내에 실시예 1과 마찬가지로 해서 조제한 성형 재료를 도포하고, 이 성형 재료상에 다른 쪽의 성형 부재를 그 성형 면이 성형 재료에 접하도록 배치하였다. After arranging a spacer having a rectangular opening of 120 mm x 200 mm and having a thickness of 0.08 mm on the molding surface of one of the molding members, a molding material prepared in the same manner as in Example 1 was applied to the spacer opening. And the other molding member was arrange | positioned on this molding material so that the molding surface may contact the molding material.

양쪽의 성형 부재에는, 두께가 0.1㎜인 폴리에스테르 수지 시트(토레이사제, 품명 「매틀미러 S10」)를, 그 광택면(표면 거칠기가 0.04㎛)을 성형 면으로 하여 사용하였다. For both molding members, a polyester resin sheet (manufactured by Toray Co., Ltd., "Matter Mirror S10") having a thickness of 0.1 mm was used with the glossy surface (surface roughness of 0.04 µm) as the molding surface.

이어서, 가압 롤 및 지지 롤로 이루어지는 가압 롤 장치를 이용해서 각 성형 부재에 의해 성형 재료를 협압함으로써, 두께 0.08㎜의 성형 재료층을 형성하였다. 각 성형 부재의 이면에 전자석을 배치하고, 성형 재료층에 대해서 그 두께 방향으로 0.3T의 평행 자장을 작용시키면서 120℃로 30분간 성형 재료층의 경화 처리를 행함으로써, 두께 0.1㎜의 직사각형의 이방 도전성 시트를 제작하였다. Next, the molding material layer of thickness 0.08mm was formed by pinching a molding material with each molding member using the press roll apparatus which consists of a press roll and a support roll. Anisotropic magnets having a thickness of 0.1 mm are disposed by placing an electromagnet on the rear surface of each molding member and performing a curing treatment of the molding material layer at 120 ° C. for 30 minutes while acting a 0.3T parallel magnetic field with respect to the molding material layer. An electroconductive sheet was produced.

얻어진 이방 도전성 시트(b)는, 한쪽 표면에 있어서의 표면 거칠기가 0.13㎛, 다른 쪽 표면에 있어서의 표면 거칠기가 0.12㎛이며, 도전성 입자의 비율이 체적분률로 12%였다. The obtained anisotropic conductive sheet (b) had a surface roughness of 0.13 µm and a surface roughness of 0.12 µm on the other surface, and the proportion of the conductive particles was 12% in the volume fraction.

NG 검사점 비율(%)NG Checkpoint Rate (%) 최저 프레스 압력(kgf)Press pressure (kgf) 반송 에러 횟수(회)Bounce errors 프레스 하중(kgf)Press load (kgf) 100100 110110 130130 150150 180180 210210 실시예 5Example 5 2.12.1 0.020.02 00 00 00 00 130130 00 실시예 6Example 6 2.32.3 0.020.02 00 00 00 00 130130 8484

[실시예 7]Example 7

(평가용 회로 기판) Evaluation Circuit Board

하기의 사양의 평가용 회로 기판을 준비하였다. The circuit board for evaluation of the following specification was prepared.

치수: 100㎜(세로)×100㎜(가로)×0.8㎜(두께) Dimensions: 100 mm (length) × 100 mm (width) × 0.8 mm (thickness)

상면측의 피검사 전극의 수: 3400개Number of inspected electrodes on the upper side: 3400

상면측의 피검사 전극의 지름: 0.3㎜Diameter of the inspected electrode on the upper surface side: 0.3 mm

상면측의 피검사 전극의 최소 배치 피치: 0.4㎜Minimum placement pitch of the inspection target electrode on the upper surface side: 0.4 mm

하면측의 피검사 전극의 수: 2500Number of inspected electrodes on lower surface: 2500

하면측의 피검사 전극의 지름: 0.3㎜Diameter of the inspected electrode on the lower surface side: 0.3 mm

하면측의 피검사 전극의 최소 배치 피치: 0.4㎜Minimum placement pitch of the electrode under test on the lower surface side: 0.4 mm

레일 반송형 회로 기판 자동 검사기(일본 전산 리드사제, 품명: STARREC V5)의 검사부에 적합한, 상기의 평가용 회로 기판을 검사하기 위한 회로 기판 검사장치(도 14)를 제작하였다. The circuit board test | inspection apparatus (FIG. 14) for test | inspecting the said circuit board for evaluation suitable for the test | inspection part of the rail conveyance type circuit board automatic tester (product name: STARREC V5) was produced.

(1) 제1의 이방 도전성 시트(22) (1) First Anisotropic Conductive Sheet 22

도전성 입자가 두께 방향으로 배열함과 함께 면 방향으로 균일하게 분산된 하기의 제1의 이방 도전성 시트를 제작하였다. The electroconductive particle arrange | positioned in the thickness direction, and produced the following 1st anisotropic conductive sheet uniformly disperse | distributed to the surface direction.

치수: 110㎜×110㎜, 두께 0.1㎜ Dimensions: 110 mm × 110 mm, thickness 0.1 mm

도전성 입자: 재질; 금 도금 처리를 한 니켈 입자, 평균 입자 지름; 20㎛, 함유율; 18체적%Conductive particles: material; Nickel particles with gold plating treatment, average particle diameter; 20 µm, content rate; 18% by volume

탄성 고분자 물질: 재질; 실리콘 고무, 경도; 40Elastomeric material: material; Silicone rubber, hardness; 40

(2) 피치 변환용 기판(23) (2) Pitch Conversion Substrate 23

유리 섬유 보강형 에폭시 수지로 이루어지는 두께 0.5㎜의 절연 기판의 양면 전면에, 두께가 18㎛의 동으로 이루어지는 금속박 층을 형성한 적층 재료(마츠시타 전공사제, 품명: R-1766)에, 수치제어형 드릴링 장치에 의해 각각 적층 재료의 두께 방향으로 관통하는 지름 0.1㎜의 원형 관통구멍을 총 6800개 형성하였다. Numerically controlled drilling to a laminated material (Matsushita Electric Works, product name: R-1766) in which a metal foil layer made of copper having a thickness of 18 µm was formed on both surfaces of both surfaces of a 0.5 mm thick insulating substrate made of glass fiber reinforced epoxy resin. A total of 6800 circular through holes having a diameter of 0.1 mm were formed by the apparatus, respectively, penetrating in the thickness direction of the laminated material.

이 경우, 관통구멍의 형성은 2개를 1조로 해서 평가용 회로 기판의 상면측의 피검사 전극에 대응하는 위치에 형성하고, 1조의 관통구멍은 0.1㎜의 간극을 설치해서 형성했다(즉, 관통구멍 A=0.1㎜와 관통구멍 B=0.1㎜ 사이의 간극=0.1㎜로 되도록 설정하는 것을 의미함). In this case, two through-holes were formed at one position corresponding to the inspection target electrode on the upper surface side of the evaluation circuit board, and one through-hole was formed by providing a gap of 0.1 mm (that is, Means that the gap between the through hole A = 0.1 mm and the through hole B = 0.1 mm is set to 0.1 mm).

그 후, 관통구멍이 형성된 적층 재료에 대해서, EDTA 타입 동 도금액을 이용해서 무전해 도금 처리를 함으로써 각 관통구멍의 내벽에 동 도금층을 형성하고, 또한 황산 동 도금액을 이용해서 전해 동 도금 처리를 함으로써, 각 관통구멍 내에 적층 재료 표면의 각 금속박 층을 서로 전기적으로 접속하는, 두께 약 10㎛의 원통형의 바이어 홀을 형성하였다. Subsequently, the electroplated layer was formed on the inner wall of each through-hole by electroless plating with the EDTA type copper plating liquid, and the electrolytic copper plating process was performed using the copper sulfate plating liquid. In each through hole, a cylindrical via hole having a thickness of about 10 μm was formed to electrically connect the metal foil layers on the surface of the laminated material to each other.

이어서, 적층 재료 표면의 금속박 층 위에 두께가 25㎛인 드라이 필름 레지스트(도쿄응화제, 품명: FP-225)를 라미네이트해서 레지스터 층을 형성함과 함께, 이 적층 재료의 다른 면 측의 금속박 층 위에 보호 실을 배치하였다. 이 레지스터 층 위에 포토 마스크 필름을 배치하고, 레지스터 층에 대해서 평행광 노광기(오크제작소제)를 이용해서 노광 처리를 한 후 현상 처리를 행함으로써, 에칭용의 레지스터 패턴을 형성하였다. 그리고, 레지스터 패턴을 형성한 면의 금속박 층에 대해서 에칭 처리를 함으로써, 절연 기판의 표면에 가로 60㎛, 세로 150㎛의 6800개의 접속 전극과, 각 접속 전극과 바이어 홀을 전기적으로 접속하는 선 폭이 100㎛인 패턴 배선부를 형성하고, 이어서 레지스터 패턴을 제거하였다. Subsequently, a dry film resist having a thickness of 25 µm (Tokyo Co., Ltd., product name: FP-225) is laminated on the metal foil layer on the surface of the laminate material to form a resistor layer, and on the metal foil layer on the other side of the laminate material. The protective seal was placed. The photomask film was arrange | positioned on this resist layer, and the resist pattern for etching was formed by performing an exposure process using a parallel light exposure machine (Oak Manufacturing Company) with respect to a resist layer, and developing. Then, by etching the metal foil layer on the surface on which the resist pattern is formed, the line width for electrically connecting the 6800 connection electrodes 60 μm wide and 150 μm vertically, and each connection electrode and the via hole to the surface of the insulating substrate. The pattern wiring part which is this 100 micrometers was formed, and then the resist pattern was removed.

다음에, 적층 재료의 접속 전극과 패턴 배선부를 형성한 측의 면에 두께가 50㎛인 드라이 필름 레지스터(도쿄응화제, 품명: FP-225)를 라미네이트해서 레지스터 층을 형성하고, 이 레지스터 층 위에 포토 마스크 필름을 배치하고, 레지스터 층에 대해서 평행광 노광기(오크제작소제)를 이용해서 노광 처리를 한 후 현상 처리를 행함으로써 각각의 접속 전극을 노출하는, 가로 방향 60㎛, 세로 방향 150㎛의 직사각형의 6800개의 개구부를 형성하였다. Next, a dry film resistor (Tokyo Co., Ltd., product name: FP-225) having a thickness of 50 µm was laminated on the surface on the side where the connecting electrode and the pattern wiring portion of the laminated material were formed to form a resistor layer. A photomask film is disposed, the exposure layer is subjected to an exposure process using a parallel light exposure machine (Oak Manufacturing Co., Ltd.), and then the development process is performed to expose each connection electrode. 6800 rectangular openings were formed.

그리고 황산동 도금액을 이용하고 적층 재료의 다른 면 측의 금속박 층을 공통 전극으로서 이용해서, 각각의 접속 전극에 대해서 전해 동 도금 처리를 함으로써 6800개의 접속 전극을 형성하였다. 그 다음에 레지스터 패턴을 제거하였다. 6800 connection electrodes were formed by electrolytic copper plating treatment for each connection electrode using a copper sulfate plating solution and using a metal foil layer on the other side of the laminated material as a common electrode. The register pattern was then removed.

이어서, 적층 재료의 다른 면 측의 금속박 층상의 보호 실을 제거하고, 이 면의 금속박 층 위에 두께가 25㎛인 드라이 필름 레지스터(도쿄응화제, 품명: FP-225)를 라미네이트해서 레지스터 층을 형성하였다. 그 후, 이 레지스터 층 위에 포토 마스크 필름을 배치하고, 레지스터 층에 대해서 평행광 노광기(오크제작소제)를 이용해서 노광 처리를 한 후 현상 처리를 행함으로써, 적층 재료에 있어서의 금속박 층 위에 에칭용의 레지스터 패턴을 형성하였다. Subsequently, the protective seal on the metal foil layer on the other side of the laminated material was removed, and a dry film resistor (Tokyo Co., Ltd., product name: FP-225) having a thickness of 25 µm was laminated on the metal foil layer on this side to form a resistor layer. It was. Thereafter, a photo mask film is disposed on the resist layer, and the resist layer is subjected to an exposure process using a parallel light exposure machine (Oak Manufacturing Co., Ltd.), followed by development, thereby etching on the metal foil layer in the laminated material. The resist pattern of was formed.

이어서, 적층 재료의 접속 전극을 형성한 측의 면에 보호 실을 입힌 후에 에칭 처리를 함으로써, 절연성 기판의 이면에 6800개의 단자 전극과 각 단자 전극과 바이어 홀을 전기적으로 접속하는 패턴 배선부를 형성하고, 레지스터 패턴을 제거하였다. Subsequently, a protective seal is applied to the surface of the side on which the connecting electrode of the laminated material is formed, followed by etching to form a pattern wiring portion for electrically connecting 6800 terminal electrodes, each terminal electrode, and a via hole to the back surface of the insulating substrate. Removed the register pattern.

이어서, 단자 전극 및 패턴 배선부가 형성된 절연 기판의 이면에, 두께가 38㎛인 드라이 필름 솔더레지스트(니치고모톤제, 품명: 콘포마스크 2015)를 라미네이트해서 절연층을 형성하고, 이 절연층 위에 포토 마스크 필름을 배치하고, 이어서 절연층에 대해서, 평행광 노광기(오크제작소제)를 이용해서 노광 처리를 한 후 현상 처리함으로써, 전극을 노출하는 지름 0.4㎜의 개구부를 6800개 형성하였다. Subsequently, a dry film solder resist (Nichigo Moton, product name: Confomask 2015) having a thickness of 38 µm is laminated on the back surface of the insulating substrate on which the terminal electrode and the pattern wiring portion are formed, to form an insulating layer, and a photo on the insulating layer. The mask film was arrange | positioned, and then, an exposure process was performed using the parallel light exposure machine (Oak Manufacturing Co., Ltd.) with respect to the insulating layer, and then developed, and 6800 opening parts with a diameter of 0.4 mm which expose an electrode were formed.

이상과 같이 해서, 피치 변환용 기판(23a)을 제작하였다. 이 피치 변환용 기판(23)은 종횡의 치수가 120㎜×160㎜, 두께가 0.5㎜, 접속 전극(25)의 절연층 표면으로부터 노출된 부분의 치수가 가로 방향 약 60㎛이고, 세로 방향 약 150㎛, 접속 전극(25)의 절연층 표면으로부터의 돌출 높이가 약 60㎛, 쌍을 이루는 접속 전극(25) 간의 이격 거리가 100㎛, 단자 전극(24)의 지름이 0.4㎜, 단자 전극(24)의 배치 피치가 0.75㎜이며, 접속 전극(24)이 형성된 면 측의 절연층의 표면 거칠기가 0.02㎛였다. As mentioned above, the pitch conversion board | substrate 23a was produced. The substrate 23 for pitch conversion has a length of 120 mm x 160 mm, a thickness of 0.5 mm, and a dimension of the portion exposed from the surface of the insulating layer of the connection electrode 25 in a horizontal direction of about 60 µm, and in a longitudinal direction of about 60 µm. 150 µm, the height of the projection electrode 25 from the surface of the insulating layer is about 60 µm, the separation distance between the pair of connection electrodes 25 is 100 µm, the diameter of the terminal electrode 24 is 0.4 mm, and the terminal electrode ( The arrangement pitch of 24) was 0.75 mm, and the surface roughness of the insulating layer on the surface side where the connection electrode 24 was formed was 0.02 µm.

또, 상기와 마찬가지로 해서, 표면에 5000개의 접속 전극(25)을 가짐과 함께 이면에 5000개의 단자 전극(24)을 갖는, 제2의 검사 지그(11b)용의 피치 변환용 기판(23b)을 제작하였다. Further, in the same manner as described above, the substrate 23b for pitch conversion for the second inspection jig 11b, which has 5000 connection electrodes 25 on the front surface and 5000 terminal electrodes 24 on the back surface, is provided. Produced.

이 피치 변환용 기판(23b)은 종횡의 치수가 120㎜×160㎜, 두께가 0.5㎜, 접속 전극(25)에 있어서의 절연층의 표면에 노출된 부분의 가로 방향 약 60㎛이고, 세로 방향 약 150㎛, 접속 전극(25)에 있어서의 절연층의 표면으로부터의 돌출 높이가 약 60㎛, 쌍을 이루는 접속 전극 간의 이격 거리가 100㎛, 단자 전극(24)의 지름이 0.4㎜, 단자 전극(24)의 배치 피치가 0.75㎜이며, 표면(접속 전극이 형성된 면) 측의 절연층의 표면 거칠기가 0.02㎛인 것이다. The pitch-converting substrate 23b has a horizontal and horizontal dimension of 120 mm x 160 mm, a thickness of 0.5 mm, and a horizontal direction of about 60 µm in a portion exposed to the surface of the insulating layer in the connecting electrode 25, and a longitudinal direction. About 150 micrometers, the protrusion height from the surface of the insulating layer in the connection electrode 25 is about 60 micrometers, The separation distance between paired connection electrodes is 100 micrometers, The diameter of the terminal electrode 24 is 0.4 mm, Terminal electrode The arrangement pitch of (24) is 0.75 mm, and the surface roughness of the insulating layer of the surface (surface in which the connection electrode was formed) was 0.02 micrometer.

(3) 회로 기판측 커넥터(21)(3) circuit board side connector (21)

이 피치 변환용 기판(23)의 표면 측에 상기의 제1의 이방 도전성 시트(22)를 배치하고, 이면 측에 두께 방향으로 연장되는 다수의 도전로 형성부와 이것들을 서로 절연하는 절연부로 이루어지고 한 면에 도전로 형성부가 돌출된 편재형 이방 도전성 시트로 이루어지는 제2의 이방 도전성 시트(26)를 배치함으로써, 회로 기판측 커넥터(21)로 하였다. The first anisotropic conductive sheet 22 is disposed on the front surface side of the substrate 23 for pitch conversion, and a plurality of conductive path forming portions extending in the thickness direction on the rear surface side thereof and an insulating part insulating them from each other. The circuit board side connector 21 was made by arrange | positioning the 2nd anisotropically conductive sheet | seat 26 which consists of the uneven type anisotropically conductive sheet which the conductive path formation part protruded in the one surface.

또한, 피치 변환용 기판(23)과 중계 핀 유닛(31)의 사이에 배치되는 제2의 이방 도전성 시트(26)는, 도 6에 나타나는 형상이며, 구체적으로는 이하의 구성인 것을 사용하였다. In addition, the 2nd anisotropic conductive sheet 26 arrange | positioned between the pitch conversion board | substrate 23 and the relay pin unit 31 is a shape shown in FIG. 6, and the following structure was used specifically ,.

〔제2의 이방 도전성 시트(26)〕[2nd anisotropic conductive sheet 26]

치수: 110㎜×150㎜Dimensions: 110 mm × 150 mm

도전로 형성부의 두께: 0.6㎜Thickness of conductive path forming part: 0.6 mm

도전로 형성부의 외경: 0.35㎜Outer diameter of conductive path forming section: 0.35 mm

도전로 형성부의 돌출 높이: 0.05㎜Protruding height of conductive path forming portion: 0.05 mm

도전성 입자: 재질; 금 도금 처리를 한 니켈 입자, 평균 입자 지름; 35㎛, 도전로 형성부에 있어서의 도전성 입자의 함유율; 30체적%Conductive particles: material; Nickel particles with gold plating treatment, average particle diameter; 35 micrometers, content rate of electroconductive particle in a conductive path formation part; 30% by volume

탄성 고분자 물질: 재질; 실리콘 고무, 경도; 30Elastomeric material: material; Silicone rubber, hardness; 30

(W2/D2=17) (W 2 / D 2 = 17)

(4) 중계 핀 유닛(31) (4) relay pin unit (31)

절연판(34, 35)의 재료로서, 고유저항이 1×1010Ω·㎝ 이상인 절연성 재료, 유리 섬유 보강형 에폭시 수지로 이루어지고, 그 두께가 6㎜인 것을 이용하였다. As the material of the insulating plates 34 and 35, an insulating material having a specific resistance of 1 × 10 10 Ω · cm or more and a glass fiber reinforced epoxy resin, and having a thickness of 6 mm were used.

그리고, 절연판(34)과 절연판(35) 사이의 거리가 52㎜로 되도록 지지 핀(33)에 이것을 부착하여, 하기의 구성으로 이루어지는 도전 핀(32)을 이동 자재로 되도록 관통구멍(83)에 배치하였다. Then, this is attached to the support pin 33 so that the distance between the insulating plate 34 and the insulating plate 35 is 52 mm, and the conductive pin 32 having the following structure is formed in the through hole 83 so as to be a moving material. Placed.

〔도전 핀〕[Conduction pin]

재질: 금 도금 처리를 한 놋쇠Material: gold plated brass

선단부의 치수: 외경 0.35㎜, 전체 길이 6.7㎜Tip size: 0.35mm outer diameter, 6.7mm total length

중앙부의 치수: 외경 0.45㎜, 전체 길이 51㎜Center part dimensions: outside diameter 0.45mm, total length 51mm

기단부의 치수: 외경 0.35㎜, 전체 길이 6.7㎜Base end dimensions: 0.35mm outer diameter, 6.7mm total length

인접 검사 핀간 이격 거리: 0.75㎜Distance between adjacent inspection pins: 0.75 mm

(5) 테스터측 커넥터(41)(5) Tester side connector (41)

도 14에 나타낸 것처럼, 테스터측 커넥터(41)를 제3의 이방 도전성 시트(42)와 커넥터 기판(43)과 베이스 판(46)으로 구성하였다. 또한, 제3의 이방 도전성 시트(42)는, 전술한 제2의 이방 도전성 시트(26)와 마찬가지인 것을 이용하였다. As shown in FIG. 14, the tester side connector 41 was comprised from the 3rd anisotropically conductive sheet 42, the connector board 43, and the base board 46. As shown in FIG. In addition, the same thing as the 2nd anisotropically conductive sheet 26 mentioned above was used for the 3rd anisotropically conductive sheet 42.

〔성능 시험〕[Performance test]

1.최저 프레스 압력의 측정 1.Measure the lowest press pressure

작성한 검사장치를 레일 반송형 회로 기판 자동 검사기 「STARREC V5」의 검사부에 세팅하고, 검사장치에 대해서 평가용 회로 기판(1)을 세팅하고, 레일 반송형 회로 기판 자동 검사기 「STARREC V5」의 프레스 압력을 100 내지 250kgf의 범위 내에 있어서 단계적으로 변화시켜, 각 프레스 압력 조건마다 각 10회, 평가용 회로 기판(1)의 피검사 전극에 대해서, 전류 공급용 전극보다 검사용 전극에 1밀리 암페어의 전류를 공급했을 때의 도통 저항값을 전압 측정 전극에서 측정하였다. The created inspection apparatus is set to the inspection part of the rail conveyance type circuit board automatic inspection machine "STARREC V5", the circuit board 1 for evaluation is set with respect to an inspection apparatus, and the press pressure of the rail conveyance type circuit board automatic inspection machine "STARREC V5" Is changed in steps within the range of 100 to 250 kgf, and for each electrode under test each press pressure condition, a current of 1 milliampere is applied to the electrode for inspection than the electrode for current supply with respect to the electrode for inspection of the circuit board 1 for evaluation. The conduction resistance value at the time of supplying was measured with the voltage measuring electrode.

측정된 도통 저항값이 100Ω이상으로 된 검사점( 이하, 「NG 검사점」이라고 함)을 도통 불량으로 판정하고, 총 검사점에 있어서의 NG 검사점의 비율( 이하, 「NG 검사점 비율」이라고 함)을 산출하여, NG 검사점 비율이 0.01% 이하로 된 가장 낮은 프레스 압력을 최저 프레스 압력으로 하였다. The inspection point (hereinafter referred to as "NG inspection point") whose measured conduction resistance value is 100 ohms or more is judged as poor conduction, and the ratio of the NG inspection point in the total inspection point (hereinafter, "NG inspection point ratio"). ), The lowest press pressure at which the NG checkpoint ratio was 0.01% or less was defined as the minimum press pressure.

이 도통 저항값의 측정에 있어서는, 하나의 도통 저항값의 측정이 종료한 후에 해당 측정에 따른 프레스 압력을 개방해서 검사장치를 무 가압 상태로 되돌리고, 다음의 도통 저항값의 측정은 재차 소정의 크기의 프레스 압력을 작용시킴으로써 행하였다. In the measurement of the conduction resistance value, after completion of the measurement of one conduction resistance value, the press pressure according to the measurement is released to return the inspection device to the unpressurized state, and the measurement of the conduction resistance value of the next time is again a predetermined size. It was performed by acting a press pressure of.

구체적으로, NG 검사점 비율은, 평가용 회로 기판(1)의 상면 피검사 전극수는 3400점, 하면 피검사 전극수는 2500점이며, 각 프레스 압력 조건에 있어서 10회의 측정을 행한 것으로부터 식 (3400+2500)×10=59000에 의해 산출되는 59000점의 검사점에 차지하는 NG 검사점의 비율을 나타낸다. 측정 결과를 표 5에 나타낸다. Specifically, the NG inspection point ratio is 3400 for the number of electrodes to be inspected on the upper surface of the circuit board 1 for evaluation, and 2500 for the number of electrodes to be inspected on the lower surface. The ratio of NG checkpoints to 59000 checkpoints calculated by +2500) × 10 = 59000 is shown. The measurement results are shown in Table 5.

2. 이방 도전성 시트의 내구성의 측정 2. Measurement of durability of anisotropic conductive sheet

작성한 검사장치를 레일 반송형 회로 기판 자동 검사기 「STARREC V5」의 검사부에 세팅하고, 해당 검사장치에 대해서 준비한 평가용 회로 기판(1)을 세팅하고, 레일 반송형 회로 기판 자동 검사기 「STARREC V5」의 프레스 압력 조건을 150kgf로 하고, 소정 회수의 가압을 행한 후, 평가용 회로 기판(1)의 피검사 전극에 대해서, 프레스 압력 150kgf의 조건하에서, 전류 공급용 전극보다 검사용 전극에 1밀리 암페어의 전류를 공급했을 때의 도통 저항값을 전압 측정 전극에서 10회 측정하였다. The inspection device thus created is set to the inspection section of the rail conveyance type circuit board automatic inspection machine "STARREC V5", the circuit board 1 for evaluation prepared for the said inspection apparatus is set, and the rail conveyance type circuit board automatic inspection machine "STARREC V5" The press pressure condition is 150 kgf, and after pressurizing a predetermined number of times, the test electrode of the circuit board 1 for evaluation is subjected to 1 milliampere to the test electrode than the current supply electrode under the condition of press pressure 150 kgf. The conduction resistance value at the time of supply of electric current was measured 10 times with the voltage measuring electrode.

측정된 도통 저항값이 100Ω 이상으로 된 검사점(NG 검사점)을 도통 불량으로 판정하고, 총 검사점에 있어서의 NG 검사점의 비율(NG 검사점 비율)을 산출하였다. The inspection point (NG inspection point) whose measured conduction resistance value became 100 ohms or more was judged as the conduction defect, and the ratio (NG inspection point ratio) of the NG inspection point in a total inspection point was computed.

이어서, 검사장치에 있어서의 이방 도전성 시트를 새로운 것으로 교환하고, 프레스 압력 조건을 180kgf로 변경한 것 이외에는 상기와 마찬가지의 조건에 의해 소정 회수의 가압을 행하고, 그 후 프레스 압력 조건을 180kgf로 한 것 이외에는 상기와 마찬가지의 수법에 따라 NG 검사점 비율을 산출하였다. Subsequently, the anisotropic conductive sheet in the inspection apparatus was replaced with a new one, and pressurization was performed a predetermined number of times under the same conditions as described above except that the press pressure condition was changed to 180 kgf, and then the press pressure condition was changed to 180 kgf. Other than that, the NG test point ratio was computed according to the same method as the above.

이 이방 도전성 시트의 내구성과 관련되는 도통 저항값을 측정에 있어서는, 하나의 도통 저항값의 측정이 종료한 후에 해당 측정에 따른 프레스 압력을 개방해서 검사장치를 무 가압 상태로 되돌리고, 다음의 도통 저항값의 측정은 재차 소정의 크기의 프레스 압력을 작용시킴으로써 행하였다. In measuring the conduction resistance value related to the durability of this anisotropically conductive sheet, after the measurement of one conduction resistance value is complete | released, the press pressure according to the said measurement is opened, a test apparatus is returned to a pressurized state, and the following conduction resistance The measurement of the value was again performed by applying a press pressure of a predetermined size.

또, 구체적으로 NG 검사점 비율은, 평가용 회로 기판(1)의 상면 피검사 전극수는 3400점, 하면 피검사 전극수는 2500점이며, 각 프레스 횟수 조건에 있어서 10회의 측정을 행한 것으로부터 식 (3400+2500)×10=59000에 의해 산출되는 59000점의 검사점에 차지하는 NG 검사점의 비율을 나타낸다. Specifically, the NG inspection point ratio is 3400 points on the upper surface of the electrode to be inspected and 2500 points on the lower surface of the circuit board 1 for evaluation. The ratio of NG checkpoints to 59000 checkpoints calculated by 3400 + 2500) × 10 = 59000 is shown.

이 경우, 검사장치에 있어서는, 실용상 NG 검사점 비율이 0.01% 이하인 것이 필요하게 되어 있고, NG 검사점 비율이 0.01%를 넘는 경우에는 양품인 피검사 회로 기판에 대해서 불량품이라는 잘못된 검사 결과가 얻어지는 경우가 있는 점에서, 신뢰성이 높은 회로 기판의 전기적 검사를 행할 수 없게 될 우려가 있다. 측정 결과를 표 6에 나타낸다. In this case, in the inspection apparatus, it is necessary for practical use that the ratio of the NG inspection point is 0.01% or less, and when the ratio of the NG inspection point is more than 0.01%, an incorrect inspection result of a defective product is obtained with respect to a good inspection circuit board. In some cases, there is a fear that electrical inspection of a highly reliable circuit board cannot be performed. Table 6 shows the measurement results.

3.피검사 회로 기판의 도통 불량의 평가 3.Evaluation of the conduction defect of the circuit board under test

제작한 검사장치를 레일 반송형 회로 기판 자동 검사기 「STARREC V5」의 검사부에 세팅하고, 해당 검사장치에 대해서 준비한 평가용 회로 기판(1)을 세팅하고, 레일 반송형 회로 기판 자동 검사기 「STARREC V5」의 프레스 압력 조건을 150kgf로 하고, 평가용 회로 기판(1)의 피검사 전극에 대해서, 프레스 압력 150kgf의 조건하에서, 전류 공급용 전극보다 검사용 전극에 1밀리 암페어의 전류를 공급했을 때의 도통 저항값을 전압 측정 전극에서 10회 측정하고, 설정한 도통 저항값(100Ω) 이상의 도통 저항값이 검출된 검사점(NG 검사점 비율)을 NG 검사점이라고 판단하고, 총 검사점에 있어서의 NG 검사점의 비율(NG 검사점 비율)을 산출하였다. The manufactured inspection apparatus is set to the inspection part of the rail conveyance type circuit board automatic inspection machine "STARREC V5", the evaluation circuit board 1 prepared for the said inspection apparatus is set, and the rail conveyance type circuit board automatic inspection machine "STARREC V5" Conduction when 1 milliampere of current was supplied to the electrode for inspection than the electrode for current supply under the conditions of press pressure 150 kgf with respect to the test | inspection electrode of the evaluation circuit board 1 as 150 kgf of press pressure conditions of the The resistance value is measured 10 times with a voltage measuring electrode, and the inspection point (NG inspection point ratio) at which the conduction resistance value of the set conduction resistance value (100?) Or more is detected is determined as the NG inspection point, and the NG at the total inspection point. The ratio of the checkpoints (NG checkpoint ratio) was calculated.

그리고, 동일한 평가용 회로 기판(1)에 대해서 NG 검사점이라고 판단하는 도통 저항값의 설정을 100Ω보다 낮은 저항값에 변화시켜, 평가용 회로 기판(1)의 평가를 실시하였다. 측정 결과를 표 7에 나타낸다. And evaluation of the circuit board 1 for evaluation was performed about the same evaluation circuit board 1 by changing the setting of the conduction resistance value judged as an NG test point to the resistance value lower than 100 ohms. Table 7 shows the measurement results.

[실시예 8]Example 8

실시예 7의 검사장치에 있어서, 피치 변환용 기판을 하기의 것으로 변경하였다. In the inspection apparatus of Example 7, the substrate for pitch conversion was changed to the following one.

유리 섬유 보강형 에폭시 수지로 이루어지는 두께 0.5㎜의 절연 기판의 양면 전면에, 두께가 18㎛의 강철로 이루어지는 금속박 층을 형성한 적층 재료(마츠시타 전공사제, 품명: R-1766)에, 수치제어형 드릴링 장치에 의해 각각 적층 재료의 두께 방향으로 관통하는 지름 0.2㎜의 원형 관통구멍을 총 3400개 형성하였다. Numerically controlled drilling to a laminated material (Matsushita Electric Works, product name: R-1766) in which a metal foil layer made of steel having a thickness of 18 µm is formed on both surfaces of both surfaces of a 0.5 mm thick insulating substrate made of glass fiber reinforced epoxy resin. A total of 3400 circular through holes each having a diameter of 0.2 mm penetrating in the thickness direction of the laminated material were formed by the apparatus.

실시예 7의 피치 변환용 기판의 제조 방법에 있어서, 접속 전극용의 레지스터의 개구부 패턴을 지름 200㎛의 원형으로 변경한 것 이외에는 마찬가지로 해서 상측용의 피치 변환 기판(23a)을 제조하였다. In the manufacturing method of the pitch conversion board | substrate of Example 7, the pitch conversion board | substrate 23a for the upper side was similarly manufactured except having changed the opening pattern of the register for connection electrodes into the circular shape of 200 micrometers in diameter.

얻어진 상측용의 피치 변환 기판(23a)은, 종횡의 치수가 120㎜×160㎜, 두께가 0.5㎜, 접속 전극(25)의 절연층 표면으로부터 노출된 부분의 치수가 지름 약 250㎛, 접속 전극(25)의 절연층 표면으로부터의 돌출 높이가 약 60㎛, 접속 전극의 1개가 피검사 회로 기판의 피검사 전극의 1개에 접속하도록 접속 전극(25)이 배치되어 있고, 단자 전극(24)의 지름이 0.4㎜, 단자 전극(24)의 배치 피치가 0.75㎜이며, 접속 전극(24)이 형성된 면 측의 절연층의 표면 거칠기가 0.02㎛였다. The obtained upper pitch conversion substrate 23a has a vertical and horizontal dimension of 120 mm × 160 mm, a thickness of 0.5 mm, and a dimension of a portion exposed from the insulating layer surface of the connection electrode 25 with a diameter of about 250 µm and a connection electrode. The connection electrode 25 is arrange | positioned so that the protrusion height from the insulating layer surface of 25 may be about 60 micrometers, and one of the connection electrodes may connect to one of the to-be-tested electrode of a circuit board under test, and the terminal electrode 24 is carried out. The diameter of the wafer was 0.4 mm, the arrangement pitch of the terminal electrodes 24 was 0.75 mm, and the surface roughness of the insulating layer on the surface side on which the connection electrode 24 was formed was 0.02 µm.

또, 상기와 마찬가지로 해서, 표면에 2500개의 접속 전극(25)을 가짐과 함께 이면에 2500개의 단자 전극(24)을 가지는 하측용의 피치 변환 기판(23b)을 작성하였다. Moreover, in the same manner to the above, the lower pitch conversion board 23b which has 2500 connection electrodes 25 in the surface and 2500 terminal electrodes 24 in the back surface was created.

이 하측용의 피치 변환 기판(23b)은, 종횡의 치수가 120㎜×160㎜, 두께가 0.5㎜, 접속 전극(25)에 있어서의 절연층의 표면에 노출된 부분의 지름이 약 250㎛, 접속 전극(25)에 있어서의 절연층의 표면으로부터의 돌출 높이가 약 60㎛, 접속 전극의 1개가 피검사 회로 기판의 피검사 전극의 1개에 접속하도록 접속 전극(25)이 배치되어 있고, 단자 전극(24)의 지름이 0.4㎜, 단자 전극(24)의 배치 피치가 0.75㎜이며, 표면(접속 전극이 형성된 면) 측의 절연층의 표면 거칠기가 0.02㎛인 것이다. The lower pitch conversion substrate 23b has a vertical and horizontal dimension of 120 mm × 160 mm, a thickness of 0.5 mm, and a diameter of a portion exposed to the surface of the insulating layer in the connection electrode 25 of about 250 μm, The connection electrode 25 is arrange | positioned so that the protrusion height from the surface of the insulating layer in the connection electrode 25 may be about 60 micrometers, and one of the connection electrodes may connect to one of the to-be-tested electrode of a circuit board under test, The diameter of the terminal electrode 24 is 0.4 mm, the arrangement pitch of the terminal electrode 24 is 0.75 mm, and the surface roughness of the insulating layer on the surface (surface on which the connection electrode is formed) is 0.02 µm.

제작한 검사장치에 대해, 실시예 7과 마찬가지의 방법에 의해, 최저 프레스 압, 이방 도전성 시트의 내구성, 및 피검사 회로 기판의 도통 불량의 평가를 측정하였다. 최저 프레스의 측정 결과를 표 5에, 이방 도전성 시트의 내구성의 측정 결과를 표 6에, 피검사 회로 기판의 도통 불량의 평가를 표 7에 나타낸다. About the produced test | inspection apparatus, evaluation of the minimum press pressure, the durability of an anisotropic conductive sheet, and the conduction defect of the test circuit board was measured by the method similar to Example 7. In Table 5, the measurement result of the lowest press is shown in Table 5, the measurement result of the durability of an anisotropically conductive sheet is shown in Table 6, and evaluation of the conduction defect of the test circuit board is shown in Table 7.

NG 검사점 비율(%)NG Checkpoint Rate (%) 최저 프레스 압력(kgf)Press pressure (kgf) 프레스 압력(kgf)Press pressure (kgf) 100100 110110 130130 150150 180180 210210 실시예 7Example 7 3.93.9 2.02.0 0.170.17 0.010.01 00 00 180180 실시예 8Example 8 4.34.3 2.22.2 0.20.2 0.020.02 00 00 180180

NG 검사점 비율(%)NG Checkpoint Rate (%) 프레스 횟수(회)Press count (times) 1One 10001000 50005000 1000010000 3000030000 실시예 7Example 7 프레스 압력 180kgfPress pressure 180kgf 00 00 0.090.09 0.220.22 1.41.4 프레스 압력 210kgfPress pressure 210kgf 00 0.020.02 0.130.13 0.250.25 2.12.1 실시예 8 Example 8 프레스 압력 180kgfPress pressure 180kgf 00 00 0.120.12 0.240.24 1.51.5 프레스 압력 210kgfPress pressure 210kgf 00 0.040.04 0.150.15 0.380.38 2.32.3

NG 검사점 비율(%)NG Checkpoint Rate (%) 설정 저항값(Ω)Set resistance value (Ω) 100100 5050 1010 1One 0.50.5 0.10.1 0.010.01 실시예 7 Example 7 프레스 압력 180kgfPress pressure 180kgf 00 00 00 0.010.01 0.020.02 4.34.3 9.59.5 프레스 압력 210kgfPress pressure 210kgf 00 00 00 0.010.01 0.030.03 4.54.5 9.29.2 실시예 8 Example 8 프레스 압력 180kgfPress pressure 180kgf 00 0.60.6 4.14.1 측정 불능Inmeasurement 측정 불능Inmeasurement 측정 불능Inmeasurement 측정 불능Inmeasurement 프레스 압력 210kgfPress pressure 210kgf 00 0.50.5 3.93.9 측정 불능Inmeasurement 측정 불능Inmeasurement 측정 불능Inmeasurement 측정 불능Inmeasurement

[실시예 9] Example 9

(평가용 회로 기판) Evaluation Circuit Board

하기의 사양의 평가용 회로 기판(1)을 준비하였다. The circuit board 1 for evaluation of the following specification was prepared.

치수: 100㎜(세로)×100㎜(가로)×0.8㎜(두께) Dimensions: 100 mm (length) × 100 mm (width) × 0.8 mm (thickness)

상면측의 피검사 전극의 수: 3600개Number of inspected electrodes on the upper side: 3600

상면측의 피검사 전극의 지름: 0.3㎜Diameter of the inspected electrode on the upper surface side: 0.3 mm

상면측의 피검사 전극의 최소 배치 피치: 0.4㎜Minimum placement pitch of the inspection target electrode on the upper surface side: 0.4 mm

하면측의 피검사 전극의 수: 2600개Number of inspected electrodes on the lower surface side: 2600

하면측의 피검사 전극의 지름: 0.3㎜Diameter of the inspected electrode on the lower surface side: 0.3 mm

하면측의 피검사 전극의 최소 배치 피치: 0.4㎜Minimum placement pitch of the electrode under test on the lower surface side: 0.4 mm

레일 반송형 회로 기판 자동 검사기(일본 전산 리드사제, 품명: STARREC V5)의 검사부에 적합한, 상기의 평가용 회로 기판을 검사하기 위한 회로 기판 검사장치(도 30)를 제작하였다. The circuit board test | inspection apparatus (FIG. 30) for inspecting said evaluation circuit board suitable for the test | inspection part of the rail conveyance type circuit board automatic tester (made by Nippon Computer Co., Ltd., product name: STARREC V5) was produced.

(1) 제1의 이방 도전성 시트(22) (1) First Anisotropic Conductive Sheet 22

도전성 입자가 두께 방향으로 배열함과 함께 면 방향으로 균일하게 분산된 하기의 제1의 이방 도전성 시트를 제작하였다. The electroconductive particle arrange | positioned in the thickness direction, and produced the following 1st anisotropic conductive sheet uniformly disperse | distributed to the surface direction.

치수: 110㎜×110㎜, 두께 0.1㎜ Dimensions: 110 mm × 110 mm, thickness 0.1 mm

도전성 입자: 재질; 금 도금 처리를 한 니켈 입자, 평균 입자 지름; 20㎛, 함유율; 18체적%Conductive particles: material; Nickel particles with gold plating treatment, average particle diameter; 20 µm, content rate; 18% by volume

탄성 고분자 물질: 재질; 실리콘 고무, 경도; 40Elastomeric material: material; Silicone rubber, hardness; 40

(2) 피치 변환용 기판(23) (2) Pitch Conversion Substrate 23

유리 섬유 보강형 에폭시 수지로 이루어지는 두께 0.5㎜의 절연 기판의 양면 전면에, 두께가 18㎛의 강철로 이루어지는 금속박 층을 형성한 적층 재료(마츠시타 전공사제, 품명: R-1766)에, 수치제어형 드릴링 장치에 의해, 각각 적층 재료의 두께 방향으로 관통하는 지름 0.1㎜의 원형 관통구멍을 총 7200개 형성하였다. Numerically controlled drilling to a laminated material (Matsushita Electric Works, product name: R-1766) in which a metal foil layer made of steel having a thickness of 18 µm is formed on both surfaces of both surfaces of a 0.5 mm thick insulating substrate made of glass fiber reinforced epoxy resin. By the apparatus, a total of 7200 circular through holes each having a diameter of 0.1 mm penetrating in the thickness direction of the laminated material were formed.

이 경우, 관통구멍의 형성은 2개를 1조로 해서, 평가용 회로 기판의 상면측의 피검사 전극에 대응하는 위치에 형성하고, 1조의 관통구멍은 0.1㎜의 간극을 설치해서 형성했다(즉, 관통구멍 A=0.1㎜와 관통구멍 B=0.1㎜ 사이의 간극: 0.1㎜로 되도록 설정하는 것을 의미함). In this case, two through-holes were formed in one pair, and were formed at positions corresponding to the inspection target electrode on the upper surface side of the circuit board for evaluation, and one set of through-holes was formed by providing a gap of 0.1 mm (that is, Means that the gap between the through hole A = 0.1 mm and the through hole B = 0.1 mm is set to 0.1 mm).

그 후, 관통구멍이 형성된 적층 재료에 대해서 EDTA 타입 동 도금액을 이용해서 무전해 도금 처리를 함으로써, 각 관통구멍의 내벽에 동 도금층을 형성하고, 또한 황산동 도금액을 이용해서 전해 동 도금 처리를 함으로써, 각 관통구멍 내에, 적층 재료 표면의 각 금속박 층을 서로 전기적으로 접속하는, 두께 약 10㎛의 원통형의 바이어 홀을 형성하였다. Thereafter, the electroless plating treatment is performed on the inner wall of each through-hole by electroless plating the laminated material on which the through-hole is formed by using an EDTA type copper plating solution, and the electrolytic copper plating treatment is performed using the copper sulfate plating solution. In each through hole, a cylindrical via hole having a thickness of about 10 μm was formed to electrically connect the metal foil layers on the surface of the laminated material to each other.

이어서, 적층 재료 표면의 금속박 층 위에 두께가 25㎛인 드라이 필름 레지스터(도쿄응화제, 품명: FP-225)를 라미네이트해서 레지스터 층을 형성함과 함께, 이 적층 재료의 다른 면 측의 금속박 층 위에 보호 실을 배치하였다. 이 레지스터 층 위에 포토 마스크 필름을 배치하고, 레지스터 층에 대해서 평행광 노광기(오크제작소제)를 이용해서 노광 처리를 한 후 현상 처리를 행함으로써, 에칭용의 레지스터 패턴을 형성하였다. 그리고, 레지스터 패턴을 형성한 면의 금속박 층에 대해서 에칭 처리를 함으로써, 절연 기판의 표면에 가로 60㎛, 세로 150㎛의 7200개의 접속 전극과 각 접속 전극과 바이어 홀을 전기적으로 접속하는 선 폭이 100㎛인 패턴 배선부를 형성하고, 이어서 레지스터 패턴을 제거하였다. Subsequently, a dry film resistor (Tokyo Co., Ltd., product name: FP-225) having a thickness of 25 µm was laminated on the metal foil layer on the surface of the laminated material to form a resistor layer, and on the metal foil layer on the other side of the laminated material. The protective seal was placed. The photomask film was arrange | positioned on this resist layer, and the resist pattern for etching was formed by performing an exposure process using a parallel light exposure machine (Oak Manufacturing Company) with respect to a resist layer, and developing. Then, by etching the metal foil layer on the surface on which the resist pattern is formed, the line width for electrically connecting 7200 connection electrodes having a width of 60 µm and a length of 150 µm and the respective connection electrodes and the via hole to the surface of the insulating substrate is increased. The pattern wiring part which is 100 micrometers was formed, and then the resist pattern was removed.

다음에, 적층 재료의 접속 전극과 패턴 배선부를 형성한 측의 면에, 두께가 50㎛인 드라이 필름 레지스터(도쿄응화제, 품명: FP-225)를 라미네이트해서 레지스터 층을 형성하고, 이 레지스터 층 위에 포토 마스크 필름을 배치하고, 레지스터 층에 대해서 평행광 노광기(오크제작소제)를 이용해서 노광 처리를 한 후 현상 처리를 행함으로써, 각각의 접속 전극을 노출하는, 가로 방향 60㎛, 세로 방향 150㎛의 직사각형의 7200개의 개구부를 형성하였다. Subsequently, a dry film resistor (Tokyo Co., Ltd., product name: FP-225) having a thickness of 50 µm was laminated on the surface on the side where the connection electrode and the pattern wiring portion of the laminated material were formed to form a resistor layer. A photomask film is disposed thereon, the exposure layer is subjected to an exposure process using a parallel light exposure machine (Oak Manufacturing Co., Ltd.), and then a development process is performed to expose each connection electrode. 7200 openings of a rectangular shape were formed.

그리고, 황산동 도금액을 이용하고, 적층 재료의 다른 면 측의 금속박 층을 공통 전극으로서 이용해서, 각각의 접속 전극에 대해서 전해 동 도금 처리를 함으로써 7200개의 접속 전극을 형성하였다. 그 다음에 레지스터 패턴을 제거하였다. And using the copper sulfate plating liquid, using the metal foil layer of the other side of a laminated material as a common electrode, 7200 connection electrodes were formed by electrolytic copper plating process about each connection electrode. The register pattern was then removed.

이어서, 적층 재료의 다른 면 측의 금속박 층상의 보호 실을 제거하고, 이 면의 금속박 층 위에, 두께가 25㎛인 드라이 필름 레지스트(도쿄응화제, 품명: FP-225)를 라미네이트해서 레지스터 층을 형성하였다. 그 후, 이 레지스터 층 위에 포토 마스크 필름을 배치하고, 레지스터 층에 대해서, 평행광 노광기(오크제작소제)를 이용해서 노광 처리를 한 후 현상 처리를 행함으로써, 적층 재료에 있어서의 금속박 층 위에 에칭용의 레지스터 패턴을 형성하였다. Subsequently, the protective seal on the metal foil layer on the other side of the laminated material was removed, and a dry film resist (Tokyo Co., Ltd., product name: FP-225) having a thickness of 25 µm was laminated on the metal foil layer on this side to form a resistor layer. Formed. Then, the photomask film is arrange | positioned on this resist layer, and it exposes on a metal foil layer in laminated materials by developing after performing an exposure process using a parallel light exposure machine (Oak Manufacturing Co., Ltd.) with respect to a resist layer. A register pattern for the dragon was formed.

이어서, 적층 재료의 접속 전극을 형성한 측의 면에 보호 실을 입힌 후에, 에칭 처리를 함으로써, 절연성 기판의 이면에 7200개의 단자 전극과 각 단자 전극과 바이어 홀을 전기적으로 접속하는 패턴 배선부를 형성하고, 레지스터 패턴을 제거하였다. Subsequently, after a protective seal is applied to the surface on which the connecting electrode of the laminated material is formed, an etching treatment is performed to form a pattern wiring portion for electrically connecting 7200 terminal electrodes, each terminal electrode and a via hole to the back surface of the insulating substrate. And the register pattern was removed.

이어서, 단자 전극 및 패턴 배선부가 형성된 절연 기판의 이면에 두께가 38㎛인 드라이 필름 솔더레지스트(니치고모톤제, 품명: 콘포마스크 2015)를 라미네이트해서 절연층을 형성하고, 이 절연층 위에 포토 마스크 필름을 배치하고, 이어서 절연층에 대해서 평행광 노광기(오크제작소제)를 이용해서 노광 처리를 한 후 현상 처리함으로써, 전극을 노출하는 지름 0.4㎜의 개구부를 7200개 형성하였다. Subsequently, a dry film soldering resist (manufactured by Nichigo Moton, product name: Confomask 2015) having a thickness of 38 µm is laminated on the back surface of the insulating substrate on which the terminal electrode and the pattern wiring portion are formed, to form an insulating layer, and a photo mask on the insulating layer. The film was arrange | positioned, and then, after performing exposure processing using a parallel light exposure machine (oak making company) with respect to an insulating layer, it developed by 7200 opening parts with a diameter of 0.4 mm which expose an electrode.

이상과 같이 해서, 피치 변환용 기판(23)을 제작하였다. 이 피트치 변환용 기판(23)은, 종횡의 치수가 120㎜×160㎜, 두께가 0.5㎜, 접속 전극(25)의 절연층 표면으로부터 노출된 부분의 치수가, 가로 방향 약 60㎛이고, 세로 방향 약 150㎛, 접속 전극(25)의 절연층 표면으로부터의 돌출 높이가 약 60㎛, 쌍을 이루는 접속 전극 간 25의 이격 거리가 100㎛, 단자 전극(24)의 지름이 0.4㎜, 단자 전극(24)의 배치 피치가 0.75㎜이며, 접속 전극(24)이 형성된 면 측의 절연층의 표면 거칠기가 0.02㎛였다. As mentioned above, the pitch conversion board | substrate 23 was produced. As for the pitch conversion board | substrate 23, the dimension of the horizontal and horizontal dimension is 120 mm x 160 mm, the thickness is 0.5 mm, and the dimension of the part exposed from the insulating layer surface of the connection electrode 25 is about 60 micrometers in a horizontal direction, Approximately 150 μm in the longitudinal direction, the protruding height from the surface of the insulating layer of the connection electrode 25 is about 60 μm, the separation distance of 25 between the paired connection electrodes is 100 μm, the diameter of the terminal electrode 24 is 0.4 mm, the terminal The arrangement pitch of the electrodes 24 was 0.75 mm, and the surface roughness of the insulating layer on the surface side on which the connection electrodes 24 were formed was 0.02 μm.

또, 상기와 마찬가지로 해서, 표면에 5200개의 접속 전극(25)을 가짐과 함께 이면에 5200개의 단자 전극(24)을 갖는, 제2의 검사 지그(11b)용의 피치 변환용 기판(23b)을 제작하였다. In the same manner as described above, the substrate 23b for pitch conversion for the second inspection jig 11b, which has 5200 connection electrodes 25 on the front surface and 5200 terminal electrodes 24 on the back surface, is provided. Produced.

이 피치 변환용 기판(23b)은, 종횡의 치수가 120㎜×160㎜, 두께가 0.5㎜, 접속 전극(25)에 있어서의 절연층의 표면에 노출된 부분의 가로 방향 약 60㎛이고, 세로 방향 약 150㎛, 접속 전극(25)에 있어서의 절연층의 표면으로부터의 돌출 높이가 약 60㎛, 쌍을 이루는 접속 전극 간의 이격 거리가 100㎛, 단자 전극(24)의 지름이 0.4㎜, 단자 전극(24)의 배치 피치가 0.75㎜이며, 표면(접속 전극이 형성된 면) 측의 절연층의 표면 거칠기가 0.02㎛인 것이다. The substrate 23b for pitch conversion has a longitudinal dimension of 120 mm × 160 mm, a thickness of 0.5 mm, and a horizontal direction of about 60 μm of a portion exposed to the surface of the insulating layer in the connection electrode 25. Direction about 150 micrometers, the protrusion height from the surface of the insulating layer in the connection electrode 25 is about 60 micrometers, the separation distance between paired connection electrodes is 100 micrometers, the diameter of the terminal electrode 24 is 0.4 mm, and a terminal The arrangement pitch of the electrodes 24 is 0.75 mm, and the surface roughness of the insulating layer on the surface (surface on which the connection electrode is formed) is 0.02 μm.

(3) 회로 기판측 커넥터(21)(3) circuit board side connector (21)

이 피치 변환용 기판(23)의 표면 측에 상기의 제1의 이방 도전성 시트(22)를 배치하고, 이면 측에 두께 방향으로 연장되는 다수의 도전로 형성부와 이것들을 서로 절연하는 절연부로 이루어지고 한 면에 도전로 형성부가 돌출된 편재형 이방 도전성 시트로 이루어지는 제2의 이방 도전성 시트(26)를 배치함으로써, 회로 기판측 커넥터(21)로 하였다. The first anisotropic conductive sheet 22 is disposed on the front surface side of the substrate 23 for pitch conversion, and a plurality of conductive path forming portions extending in the thickness direction on the rear surface side thereof and an insulating part insulating them from each other. The circuit board side connector 21 was made by arrange | positioning the 2nd anisotropically conductive sheet | seat 26 which consists of the uneven type anisotropically conductive sheet which the conductive path formation part protruded in the one surface.

또한, 피치 변환용 기판(23)과 중계 핀 유닛(31)의 사이에 배치되는 제2의 이방 도전성 시트(26)는 도 6에 나타나는 형상이며, 구체적으로는 이하의 구성인 것을 사용하였다. In addition, the 2nd anisotropic conductive sheet 26 arrange | positioned between the pitch conversion board | substrate 23 and the relay pin unit 31 is a shape shown in FIG. 6, and the following structures were used specifically ,.

〔제2의 이방 도전성 시트(26)〕[2nd anisotropic conductive sheet 26]

치수: 110㎜×150㎜ Dimensions: 110 mm × 150 mm

도전로 형성부의 두께: 0.6㎜Thickness of conductive path forming part: 0.6 mm

도전로 형성부의 외경: 0.35㎜Outer diameter of conductive path forming section: 0.35 mm

도전로 형성부의 돌출 높이: 0.05㎜Protruding height of conductive path forming portion: 0.05 mm

도전성 입자: 재질; 금 도금 처리를 한 니켈 입자, 평균 입자 지름; 35㎛, 도전로 형성부에 있어서의 도전성 입자의 함유율; 30체적%Conductive particles: material; Nickel particles with gold plating treatment, average particle diameter; 35 micrometers, content rate of electroconductive particle in a conductive path formation part; 30% by volume

탄성 고분자 물질: 재질; 실리콘 고무, 경도; 30Elastomeric material: material; Silicone rubber, hardness; 30

(W2/D2=17)(W 2 / D 2 = 17)

(4) 중계 핀 유닛(31) (4) relay pin unit (31)

제1의 절연판(34), 중간 유지 판(36), 제2의 절연판(35)의 재료로서 고유 저항이 1×1010Ω. ㎝ 이상의 절연성 재료, 유리 섬유 보강형 에폭시 수지로 이루어지고, 그 두께가 1.9㎜인 것을 이용하였다. The material of the first insulating plate 34, the intermediate holding plate 36, and the second insulating plate 35 has a resistivity of 1 × 10 10 Ω. It consisted of an insulating material of cm or more, glass fiber reinforced epoxy resin, and used the thing whose thickness is 1.9 mm.

그리고, 제1의 절연판(34)과 중간 유지 판(36) 사이의 거리(L1)가 36.3㎜, 제2의 절연판(35)과 중간 유지 판(36) 사이의 거리(L2)가 3㎜로 되도록, 제1의 지지 핀(33)(지름 2㎜, 길이 36.3㎜)과 제2의 지지 핀(37)(지름 2㎜, 길이 3㎜)에 의해 고정 지지함과 함께, 제1의 절연판(34)과 제2의 절연판(35)의 사이에 하기의 구성으로 이루어지는 도전 핀(32)을 이동 자재로 되도록 관통구멍(83)(지름 0.4㎜)에 배치해서 제작하였다. The distance L1 between the first insulating plate 34 and the intermediate holding plate 36 is 36.3 mm, and the distance L2 between the second insulating plate 35 and the intermediate holding plate 36 is 3 mm. The first insulating plate (1) is fixedly supported by the first support pin 33 (diameter 2 mm, length 36.3 mm) and the second support pin 37 (diameter 2 mm, length 3 mm). The conductive pin 32 which consists of the following structures between 34) and the 2nd insulating plate 35 was arrange | positioned in the through-hole 83 (diameter 0.4 mm) so that it may become a moving material, and it produced.

〔도전 핀〕[Conduction pin]

재질: 금 도금 처리를 한 놋쇠Material: gold plated brass

선단부(81a)의 치수: 외경 0.35㎜, 전체 길이 2.1㎜Dimensions of the tip portion 81a: 0.35 mm outer diameter, 2.1 mm total length

중앙부 32의 치수: 외경 0.45㎜, 전체 길이 41㎜Center part 32 dimension: outer diameter 0.45 mm, total length 41 mm

기단부(81b)의 치수: 외경 0.35㎜, 전체 길이 2.1㎜ Dimension of base end 81b: outer diameter 0.35 mm, total length 2.1 mm

또한, 제1의 지지 핀(33)의 중간 유지 판(36)과의 제1의 맞닿음 지지 위치(38A)와 제2의 지지 핀(37)의 중간 유지 판(36)과의 제2의 맞닿음 지지 위치(38B)는 격자상으로 배치하였다. 또한, 서로 인접하는 제1의 맞닿음 지지 위치(38A) 사이의 이격 거리, 제2의 맞닿음 지지 위치(38B) 사이의 이격 거리를 17.5㎜로 하였다. Further, the second abutment of the first abutting support position 38A with the intermediate holding plate 36 of the first supporting pin 33 and the intermediate holding plate 36 of the second supporting pin 37 The contact support position 38B was arrange | positioned at grid form. Moreover, the separation distance between the 1st contact support positions 38A adjacent to each other, and the separation distance between the 2nd contact support positions 38B was 17.5 mm.

(5) 테스터측 커넥터(41) (5) Tester side connector (41)

테스터측 커넥터(41)를 제3의 이방 도전성 시트(42)와 커넥터 기판(43)과 베이스 판(46)으로 구성하였다. 또한, 제3의 이방 도전성 시트(42)는 전술한 제2의 이방 도전성 시트(26)와 마찬가지인 것을 이용하였다. The tester side connector 41 was comprised from the 3rd anisotropically conductive sheet 42, the connector board 43, and the base board 46. As shown in FIG. In addition, the 3rd anisotropically conductive sheet 42 used the thing similar to the 2nd anisotropically conductive sheet 26 mentioned above.

〔성능 시험〕[Performance test]

1. 최저 프레스 압력의 측정 1. Measurement of the lowest press pressure

작성한 검사장치를 레일 반송형 회로 기판 자동 검사기 「STARREC V5」의 검사부에 세팅하고, 검사장치에 대해서 준비한 평가용 회로 기판(1)을 세팅하고, 레일 반송형 회로 기판 자동 검사기 「STARREC V5」의 프레스 압력을 100 내지 210kgf의 범위 내에 있어서 단계적으로 변화시켜, 각 프레스 압력 조건마다 각 10회씩, 평가용 회로 기판(1)의 피검사 전극에 대해서, 전류 공급용 전극보다 검사용 전극에 1밀리 암페어의 전류를 인가했을 때의 도통 저항값을 전압 측정용 전극으로 측정하였다. The created inspection apparatus is set to the inspection part of the rail conveyance type circuit board automatic inspection machine "STARREC V5", the circuit board 1 for evaluation prepared for the inspection apparatus is set, and the press of the rail conveyance type circuit board automatic inspection machine "STARREC V5" The pressure was changed in steps within the range of 100 to 210 kgf, and for each test pressure condition for each press 10 times, the test electrode of the circuit board 1 for evaluation was 1 milliampere to the test electrode than the current supply electrode. The conduction resistance value at the time of applying the electric current was measured by the voltage measuring electrode.

측정된 도통 저항값이 10Ω 이상으로 된 검사점( 이하, 「NG 검사점」이라고 함)을 도통 불량으로 판정하고, 총 검사점에 있어서의 NG 검사점의 비율( 이하, 「NG 검사점 비율」이라고 함)을 산출하여, NG 검사점 비율이 0.01% 이하로 된 가장 낮은 프레스 압력을 최저 프레스 압력으로 하였다. The inspection point (hereinafter referred to as "NG inspection point") whose measured conduction resistance value is 10 ohms or more is judged as a poor conduction, and the ratio of NG inspection point in the total inspection point (hereinafter, "NG inspection point ratio"). ), The lowest press pressure at which the NG checkpoint ratio was 0.01% or less was defined as the minimum press pressure.

이 도통 저항값의 측정에 있어서는, 하나의 도통 저항값의 측정이 종료한 후에 해당 측정에 따른 프레스 압력을 개방해서 검사장치를 무 가압 상태로 되돌리고, 다음의 도통 저항값의 측정은 재차 소정의 크기의 프레스 압력을 작용시킴으로써 행하였다. In the measurement of the conduction resistance value, after completion of the measurement of one conduction resistance value, the press pressure according to the measurement is released to return the inspection device to the unpressurized state, and the measurement of the conduction resistance value of the next time is again a predetermined size. It was performed by acting a press pressure of.

구체적으로, NG 검사점 비율은, 평가용 회로 기판(1)의 상면 피검사 전극수는 3600점, 하면 피검사 전극수는 2600점이며, 각 프레스 압력 조건에 있어서 10회의 측정을 행한 것으로부터, 식 (3600+2600)×10=62000에 의해 산출되는 62000점의 검사점에 차지하는 NG 검사점의 비율을 나타낸다. 측정 결과를 표 8에 나타낸다. Specifically, the NG inspection point ratio is 3600 points on the upper surface inspected electrode and 2600 points on the lower surface inspected electrode of the circuit board 1 for evaluation. The ratio of NG checkpoints to 62000 checkpoints calculated by 3600 + 2600) x10 = 62000 is shown. Table 8 shows the measurement results.

2. 이방 도전성 시트의 내구성의 측정 2. Measurement of durability of anisotropic conductive sheet

제작한 검사장치를 레일 반송형 회로 기판 자동 검사기 「STARREC V5」의 검사부에 세팅하고, 해당 검사장치에 대해서 준비한 평가용 회로 기판(1)을 세팅하고, 레일 반송형 회로 기판 자동 검사기 「STARREC V5」의 프레스 압력 조건을 130kgf로 하고, 소정 회수의 가압을 행한 후, 평가용 회로 기판(1)의 피검사 전극에 대해서 프레스 압력 130kgf의 조건하에서, 전류 공급용 전극보다 검사용 전극에 1밀리 암페어의 전류를 인가했을 때의 도통 저항값을 10회 측정하고, 소정 회수의 가압을 행하여 마찬가지로 도통 저항값을 전압 측정용 전극에서 10회 측정하는 작업을 반복하였다. The manufactured inspection apparatus is set to the inspection part of the rail conveyance type circuit board automatic inspection machine "STARREC V5", the evaluation circuit board 1 prepared for the said inspection apparatus is set, and the rail conveyance type circuit board automatic inspection machine "STARREC V5" Press pressure condition of 130 kgf, and after a predetermined number of times of pressurization, the test electrode of the circuit board 1 for evaluation was subjected to 1 milliampere to the electrode for inspection than the electrode for current supply under the conditions of a press pressure of 130 kgf. The conduction resistance value at the time of applying the electric current was measured 10 times, and the operation | movement which measured the conduction resistance value 10 times with the voltage measuring electrode was similarly repeated by pressing the predetermined | prescribed number of times.

측정된 도통 저항값이 10Ω 이상으로 된 검사점(NG 검사점)을 도통 불량으로 판정하고, 총 검사점에 있어서의 NG 검사점의 비율(NG 검사점 비율)을 산출하였다. The inspection point (NG inspection point) in which the measured conduction resistance value was 10 ohms or more was judged as a poor conduction, and the ratio (NG inspection point ratio) of the NG inspection point in a total inspection point was computed.

이어서, 검사장치에 있어서의 이방 도전성 시트를 새로운 것으로 교환하고, 프레스 압력 조건을 150kgf로 변경한 것 이외에는 상기와 마찬가지의 조건에 의해 소정 회수의 가압을 행하고, 그 후 프레스 압력 조건을 150kgf로 한 것 이외에는 상기와 마찬가지의 수법에 따라 NG 검사점 비율을 산출하였다. Subsequently, the anisotropic conductive sheet in the inspection apparatus was replaced with a new one, and pressurization was performed a predetermined number of times under the same conditions as described above except that the press pressure condition was changed to 150 kgf, and then the press pressure condition was changed to 150 kgf. Other than that, the NG test point ratio was computed according to the same method as the above.

이러한 이방 도전성 시트의 내구성과 관련되는 도통 저항값을 측정에 있어서는, 하나의 도통 저항값의 측정이 종료한 후에, 해당 측정에 따른 프레스 압력을 개방해서 검사장치를 무 가압 상태로 되돌리고 다음의 도통 저항값의 측정은 재차 소정의 크기의 프레스 압력을 작용시킴으로써 행하였다. In measuring the conduction resistance value related to the durability of such anisotropic conductive sheet, after the measurement of one conduction resistance value is complete | released, the press pressure according to the said measurement is opened, a test apparatus is returned to a pressurized state, and the following conduction resistance The measurement of the value was again performed by applying a press pressure of a predetermined size.

구체적으로, NG 검사점 비율은, 평가용 회로 기판(1)의 상면 피검사 전극수는 3600점, 하면 피검사 전극수는 2600점이며, 각 프레스 횟수 조건에 있어서 10회의 측정을 행한 것으로부터, 식 (3600+2600)×10=62000에 의해 산출되는 62000점의 검사점에 차지하는 NG 검사점의 비율을 나타낸다. Specifically, the NG inspection point ratio is 3600 points on the upper surface inspected electrode and 2600 points on the lower surface inspected electrode of the circuit board 1 for evaluation. The ratio of NG checkpoints to 62000 checkpoints calculated by 3600 + 2600) x10 = 62000 is shown.

이 경우, 검사장치에 있어서는, 실용상 NG 검사점 비율이 0.01% 이하인 것이 필요하게 되어 있고, NG 검사점 비율이 0.01%를 넘는 경우에는, 우량품인 피검사 회로 기판에 대해서 불량품이라는 잘못된 검사 결과가 얻어지는 경우가 있는 점에서, 신뢰성이 높은 회로 기판의 전기적 검사를 행할 수 없게 될 우려가 있다. 측정 결과를 표 9에 나타낸다. In this case, in the inspection apparatus, it is necessary for the NG inspection point ratio to be 0.01% or less for practical use, and when the NG inspection point ratio exceeds 0.01%, an incorrect inspection result of a defective product for the inspected circuit board, which is a good product, is obtained. Since it may be obtained, there exists a possibility that the electrical inspection of a highly reliable circuit board may not be performed. Table 9 shows the measurement results.

3. 피검사 회로 기판의 도통 불량의 평가 3. Evaluation of conduction defect of the circuit board under test

제작한 검사장치를 레일 반송형 회로 기판 자동 검사기 「STARREC V5」의 검사부에 세팅하고, 해당 검사장치에 대해서 준비한 평가용 회로 기판(1)을 세팅하고, 레일 반송형 회로 기판 자동 검사기 「STARREC V5」의 프레스 압력 조건을 150kgf로 하고, 평가용 회로 기판(1)의 피검사 전극에 대해서 프레스 압력 150kgf의 조건하에서, 전류 공급용 전극보다 검사용 전극에 1밀리 암페어의 전류를 공급했을 때의 도통 저항값을 전압 측정 전극에서 10회 측정하고, 설정한 도통 저항값(100Ω) 이상의 도통 저항값이 검출된 검사점(NG 검사점 비율)을 NG 검사점이라고 판단하고, 총 검사점에 있어서의 NG 검사점의 비율(NG 검사점 비율)을 산출하였다. The manufactured inspection apparatus is set to the inspection part of the rail conveyance type circuit board automatic inspection machine "STARREC V5", the evaluation circuit board 1 prepared for the said inspection apparatus is set, and the rail conveyance type circuit board automatic inspection machine "STARREC V5" Conduction resistance when 1 milliampere of current was supplied to the electrode for inspection than the current supply electrode under the press pressure of 150 kgf with respect to the test target of the circuit board 1 for evaluation, with a press pressure of 150 kgf. The value is measured 10 times with a voltage measuring electrode, and the inspection point (NG inspection point ratio) in which the conduction resistance value of the set conduction resistance value (100 Ω) or more is detected is determined as the NG inspection point, and the NG inspection at the total inspection point. The ratio of points (NG checkpoint ratio) was calculated.

그리고, 동일한 평가용 회로 기판(1)에 대해서 NG 검사점이라고 판단하는 도통 저항값의 설정을 100Ω보다 낮은 저항값에 변화시켜, 평가용 회로 기판(1)의 평가를 실시하였다. 측정 결과를 표 10에 나타낸다. And evaluation of the circuit board 1 for evaluation was performed about the same evaluation circuit board 1 by changing the setting of the conduction resistance value judged as an NG test point to the resistance value lower than 100 ohms. Table 10 shows the measurement results.

[실시예 10]Example 10

실시예 9의 중계 핀 유닛(31) 대신에, 도 1에 나타낸 것과 같은 중계 핀 유닛(31a, 31b)을 이용하였다. 즉, 일정 피치(2.54㎜ 피치)로 격자점 위에 다수(8000핀) 배치된 도전 핀(32a, 32b)과 이 도전 핀(32a, 32b)을 상하로 이동 가능하게 지지하는 절연판(34a, 34b 및 35a, 35b)을 가지는 것을 이용하였다. Instead of the relay pin unit 31 of the ninth embodiment, the relay pin units 31a and 31b as shown in FIG. 1 were used. That is, a plurality of conductive pins 32a and 32b disposed on a grid point at a constant pitch (2.54 mm pitch) and insulating plates 34a and 34b for supporting the conductive pins 32a and 32b so as to be movable up and down. 35a, 35b) were used.

제작한 검사장치에 대해서, 실시예 9와 마찬가지의 방법에 의해 최저 프레스 압 및 이방 도전성 시트의 내구성을 측정하였다. 최저 프레스의 측정 결과를 표 8에, 이방 도전성 시트의 내구성의 측정 결과를 표 9에 나타낸다. About the produced inspection apparatus, the minimum press pressure and durability of the anisotropic conductive sheet were measured by the method similar to Example 9. Table 8 shows the measurement results of the lowest press, and Table 9 shows the measurement results of the durability of the anisotropic conductive sheet.

[실시예 11]Example 11

실시예 9의 검사장치에 있어서, 피치 변환용 기판을 하기의 것으로 변경하였다. In the inspection apparatus of Example 9, the substrate for pitch conversion was changed to the following.

유리 섬유 보강형 에폭시 수지로 이루어지는 두께 0.5㎜의 절연 기판의 양면 전면에, 두께가 18㎛의 강철로 이루어지는 금속박 층을 형성한 적층 재료(마츠시타 전공사제, 품명: R-1766)에, 수치제어형 드릴링 장치에 의해 각각 적층 재료의 두께 방향으로 관통하는 지름 0.2㎜의 원형 관통 구멍을 총 3600개 형성하였다. Numerically controlled drilling to a laminated material (Matsushita Electric Works, product name: R-1766) in which a metal foil layer made of steel having a thickness of 18 µm is formed on both surfaces of both surfaces of a 0.5 mm thick insulating substrate made of glass fiber reinforced epoxy resin. A total of 3600 circular through holes each having a diameter of 0.2 mm penetrating in the thickness direction of the laminated material were formed by the apparatus.

실시예 9의 피치 변환 기판의 제조 방법에 있어서, 접속 전극용의 레지스터의 개구부 패턴을 지름 200㎛의 원형으로 변경한 것 이외에는 실시예 9와 마찬가지로 해서, 상측용의 피치 변환 기판을 제조하였다. In the manufacturing method of the pitch conversion board | substrate of Example 9, the pitch conversion board | substrate for the upper side was produced like Example 9 except having changed the opening pattern of the resistor for connection electrodes into the circular shape of 200 micrometers in diameter.

얻어진 상측용의 피치 변환 기판은, 표면에 3600개의 접속 전극(25)을 가지는 것으로, 종횡의 치수가 120㎜×160㎜, 두께가 0.5㎜, 접속 전극(25)의 절연층 표면으로부터 노출된 부분의 치수가 지름 약 250㎛, 접속 전극(25)의 절연층 표면으로부터의 돌출 높이가 약 60㎛, 접속 전극의 1개가 피검사 회로 기판의 피검사 전극의 1개에 접속하도록 접속 전극(25)이 배치되어 있고, 단자 전극(24)의 지름이 0.4㎜, 단자 전극(24)의 배치 피치가 0.75㎜이며, 접속 전극(24)이 형성된 면 측의 절연층의 표면 거칠기가 0.02㎛였다. The obtained upper pitch conversion substrate has 3600 connection electrodes 25 on the surface, and the horizontal and horizontal dimensions thereof are 120 mm x 160 mm, thickness 0.5 mm, and portions exposed from the insulating layer surface of the connection electrode 25. The connecting electrode 25 has a diameter of about 250 µm, a height of projecting from the insulating layer surface of the connecting electrode 25 of about 60 µm, and one of the connecting electrodes is connected to one of the inspected electrodes of the circuit board under test. The arrangement | positioning, the diameter of the terminal electrode 24 was 0.4 mm, the arrangement pitch of the terminal electrode 24 was 0.75 mm, and the surface roughness of the insulating layer of the surface side in which the connection electrode 24 was formed was 0.02 micrometer.

또, 상기와 마찬가지로 해서, 표면에 2600개의 접속 전극(25)을 가짐과 함께 이면에 2600개의 단자 전극(24)을 가지는 하측용의 피치 변환 기판을 작성하였다. Moreover, in the same manner to the above, the pitch conversion board | substrate for the lower side which has 2600 connection electrodes 25 on the surface and has 2600 terminal electrodes 24 on the back surface was created.

이 하측용의 피트치 변환 기판은, 종횡의 치수가 120㎜×160㎜, 두께가 0.5㎜, 접속 전극(25)에 있어서의 절연층의 표면에 노출된 부분의 지름이 약 250㎛, 접속 전극(25)에 있어서의 절연층의 표면으로부터의 돌출 높이가 약 60㎛, 접속 전극의 1개가 피검사 회로 기판의 피검사 전극의 1개에 접속하도록 접속 전극(25)이 배치되어 있어 단자 전극(24)의 지름이 0.4㎜, 단자 전극(24)의 배치 피치가 0.75㎜이며, 표면(접속 전극이 형성된 면) 측의 절연층의 표면 거칠기가 0.02㎛인 것이다. This lower pitch conversion substrate has a vertical and horizontal dimension of 120 mm x 160 mm, a thickness of 0.5 mm, and a diameter of a portion exposed to the surface of the insulating layer in the connection electrode 25 of about 250 µm, and the connection electrode. The connection electrode 25 is arrange | positioned so that the protrusion height from the surface of the insulating layer in (25) may be about 60 micrometers, and one of the connection electrodes may connect to one of the to-be-tested electrode of a circuit board under test, and the terminal electrode ( The diameter of 24 is 0.4 mm, the arrangement pitch of the terminal electrodes 24 is 0.75 mm, and the surface roughness of the insulating layer on the surface (surface on which the connection electrode is formed) is 0.02 µm.

제작한 검사장치에 대해서, 실시예 9와 마찬가지의 방법에 의해, 최저 프레스 압 및 이방 도전성 시트의 내구성을 측정하였다. 이방 도전성 시트의 내구성의 측정 결과를 표 10에 나타내고, 피검사 회로 기판의 도통 불량의 NG 검사점이라고 판단하는 도통 저항값을 100Ω보다 낮은 저항값에 변화시켜 간 평가의 결과를 표 11에 나타낸다. About the produced inspection apparatus, the minimum press pressure and durability of the anisotropic conductive sheet were measured by the method similar to Example 9. The measurement result of the durability of an anisotropic conductive sheet is shown in Table 10, and the result of evaluation which changed the conduction resistance value judged as the NG test point of the conduction defect of the circuit board under test to the resistance value lower than 100 ohms is shown in Table 11.

또한, 표 8 및 표 9의 경우에는 4 단자 검사의 경우이므로, 설정 전압을 10Ω으로 설정하고, 표 10 및 표 11의 경우에는 2 단자 검사의 경우(실시예 11)를 포함하고 있으므로, 설정 전압을 100Ω으로 설정해서 시험을 행하고 있다. In addition, in the case of Table 8 and Table 9, since the 4-terminal test is set, the set voltage is set to 10Ω, and in the case of Table 10 and Table 11, the case of 2-terminal test (Example 11) is included. Is set to 100Ω.

NG 검사점 비율(%)NG Checkpoint Rate (%) 최저 프레스 압력(kgf)Press pressure (kgf) 프레스 압력(kgf)Press pressure (kgf) 100100 110110 130130 150150 180180 210210 실시예 9Example 9 0.20.2 0.030.03 00 00 00 00 130130 실시예 10Example 10 3.23.2 2.52.5 0.30.3 0.010.01 00 00 180180

NG 검사점 비율(%)NG Checkpoint Rate (%) 프레스 횟수(회)Press count (times) 1One 10001000 50005000 1000010000 3000030000 실시예 9 Example 9 프레스 압력 130kgfPress pressure 130kgf 00 00 00 00 0.20.2 프레스 압력 150kgfPress pressure 150kgf 00 00 00 0.040.04 0.50.5 실시예 10 Example 10 프레스 압력 130kgfPress pressure 130kgf 00 00 0.150.15 0.30.3 1.81.8 프레스 압력 150kgfPress pressure 150kgf 00 0.050.05 0.20.2 0.250.25 2.22.2

NG 검사점 비율(%)NG Checkpoint Rate (%) 프레스 횟수(회)Press count (times) 1One 10001000 50005000 1000010000 3000030000 실시예 9Example 9 프레스 압력 180kgfPress pressure 180kgf 00 00 0.080.08 0.250.25 1.51.5 프레스 압력 210kgfPress pressure 210kgf 00 0.020.02 0.130.13 0.270.27 2.02.0 실시예 11 Example 11 프레스 압력 180kgfPress pressure 180kgf 00 00 0.130.13 0.250.25 1.61.6 프레스 압력 210kgfPress pressure 210kgf 00 0.050.05 0.200.20 0.350.35 2.52.5

NG 검사점 비율(%)NG Checkpoint Rate (%) 설정 저항값(Ω)Set resistance value (Ω) 100100 5050 1010 1One 0.50.5 0.10.1 0.010.01 실시예 9 Example 9 프레스 압력 180kgfPress pressure 180kgf 00 00 00 0.010.01 0.030.03 4.24.2 8.58.5 프레스 압력 210kgfPress pressure 210kgf 00 00 00 0.020.02 0.020.02 3.83.8 9.09.0 실시예 11 Example 11 프레스 압력 180kgfPress pressure 180kgf 00 0.50.5 4.24.2 측정 불능Inmeasurement 측정 불능Inmeasurement 측정 불능Inmeasurement 측정 불능Inmeasurement 프레스 압력 210kgfPress pressure 210kgf 00 0.60.6 3.93.9 측정 불능Inmeasurement 측정 불능Inmeasurement 측정 불능Inmeasurement 측정 불능Inmeasurement

Claims (13)

한 쌍의 제1의 검사 지그와 제2의 검사 지그에 의해, 양 검사 지그의 사이에서 검사 대상인 피검사 회로 기판의 양면을 협압해서 전기 검사를 행하는 회로 기판의 검사장치로서, As an inspection apparatus of a circuit board which performs an electrical inspection by clamping both surfaces of the to-be-tested circuit board which are a test target between both test jig by a pair of 1st test jig and a 2nd test jig, 상기 제1의 검사 지그와 제2의 검사 지그가 각각, The first inspection jig and the second inspection jig, respectively, 기판의 일면 측과 다른 면 측의 사이에서 전극 피치를 변환하는 피치 변환용 기판과, A pitch conversion substrate for converting an electrode pitch between one surface side and the other surface side of the substrate, 상기 피치 변환용 기판의 피검사 회로 기판측에 배치되는 제1의 이방 도전성 시트와,A first anisotropic conductive sheet disposed on an inspection circuit board side of the substrate for pitch conversion; 상기 피치 변환용 기판의 피검사 회로 기판과는 반대측에 배치되는 제2의 이방 도전성 시트를 갖춘 회로 기판측 커넥터와, A circuit board side connector having a second anisotropic conductive sheet disposed on a side opposite to the circuit board under test of the pitch conversion substrate; 소정의 피치로 배치된 복수의 도전 핀과, A plurality of conductive pins arranged at a predetermined pitch, 상기 도전 핀을 축 방향으로 이동 가능하게 지지하는, 한 쌍의 이격된 제1의 절연판과 제2의 절연판을 갖춘 중계 핀 유닛과, A relay pin unit having a pair of spaced apart first insulating plates and a second insulating plate to axially move the conductive pins; 테스터와 상기 중계 핀 유닛을 전기적으로 접속하는 커넥터 기판과, A connector board electrically connecting the tester and the relay pin unit; 상기 커넥터 기판의 중계 핀 유닛 측에 배치되는 제3의 이방 도전성 시트와, A third anisotropic conductive sheet disposed on the relay pin unit side of the connector board; 상기 커넥터 기판의 중계 핀 유닛과는 반대측에 배치된 베이스 판을 갖춘 테스터측 커넥터를 갖추고, A tester side connector having a base plate disposed on the opposite side of the relay pin unit of the connector board, 상기 제1의 이방 도전성 시트가, 도전성 입자가 두께 방향으로 배열됨과 함 께 면 방향으로 균일하게 분산된 이방 도전성 시트인 것을 특징으로 하는 회로 기판의 검사장치. The first anisotropic conductive sheet is an anisotropic conductive sheet in which the conductive particles are uniformly dispersed in the surface direction while the conductive particles are arranged in the thickness direction. 제1항에 있어서, 상기 제1의 이방 도전성 시트의 두께 W1이 0.03 내지 0.5㎜이며, 도전성 입자의 수 평균 입자 지름 D1이 3 내지 50㎛이며, 두께 W1과 수 평균 입자 지름 D1의 비 W1/D1이 1.1 내지 10이며, 시트 기재를 구성하는 절연성 엘라스토머의 듀로미터 경도가 30 내지 90인 것을 특징으로 하는 회로 기판의 검사장치. The thickness W 1 of the first anisotropic conductive sheet is 0.03 to 0.5 mm, the number average particle diameter D 1 of the conductive particles is 3 to 50 μm, the thickness W 1 and the number average particle diameter D 1. The ratio W 1 / D 1 is 1.1 to 10, and the durometer hardness of the insulating elastomer constituting the sheet base material is 30 to 90, the inspection apparatus of the circuit board. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제1의 이방 도전성 시트는, 피검사 회로 기판에 접하는 쪽의 표면에 있어서의 표면 거칠기가 0.5 내지 5㎛이며, 피치 변환용 기판에 접하는 쪽의 표면에 있어서의 표면 거칠기가 0.3㎛ 이하이며, The said 1st anisotropically conductive sheet is 0.5-5 micrometers in surface roughness in the surface of the side which contact | connects a to-be-tested circuit board, The surface of the side which contact | connects the board | substrate for pitch conversion of Claim 1 or 2 The surface roughness in is 0.3 micrometer or less, 상기 피치 변환용 기판은, 제1의 이방 도전성 시트에 접하는 쪽의 표면에 있어서의 절연부의 표면 거칠기가 0.2㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 회로 기판의 검사장치. The said pitch conversion board | substrate has the surface roughness of the insulating part in the surface of the side which contact | connects a 1st anisotropically conductive sheet | seat, 0.2 micrometer or less, The inspection apparatus of the circuit board characterized by the above-mentioned. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제2의 이방 도전성 시트가, 두께 방향으로 연장되는 복수의 도전로 형성부와, 이들 도전로 형성부를 서로 절연하는 절연부로 이루어지고, 도전성 입자가 도전로 형성부 안에만 함유되고, 이것에 의해 해당 도전성 입자는 면 방향으로 불균일하게 분산됨과 함께, 시트 한 면 측에 도전로 형성부가 돌출되어 있는 것을 특징으로 하는 회로 기판의 검사장치. The said 2nd anisotropically conductive sheet consists of several conductive path forming parts extended in the thickness direction, and the insulating part which insulates these conductive path forming parts mutually, and is electroconductive in any one of Claims 1-3. Particles are contained only in the conductive path forming portion, whereby the conductive particles are uniformly dispersed in the surface direction, and the conductive path forming portion protrudes on one surface side of the sheet. 제4항에 있어서, 상기 제2의 이방 도전성 시트에 있어서의 도전로 형성부의 두께 W2가 0.1 내지 2㎜이고, 도전성 입자의 수 평균 입자 지름 D2가 5 내지 200㎛이며, 두께 W2와 수 평균 입자 지름 D2의 비 W2/D2가 1.1 내지 10이며, 시트 기재를 구성하는 절연성 엘라스토머의 듀로미터 경도가 15 내지 60인 것을 특징으로 하는 회로 기판의 검사장치.The thickness W 2 of the conductive path forming portion in the second anisotropic conductive sheet is 0.1 to 2 mm, the number average particle diameter D 2 of the conductive particles is 5 to 200 μm, and the thickness W 2 and the number average particle diameter D 2 ratio W 2 / D 2 is 1.1 to 10 of the testing device of the circuit board, characterized in that the durometer hardness of the elastomer constituting the insulating sheet bases 15 to 60. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제3의 이방 도전성 시트가 두께 방향으로 연장되는 복수의 도전로 형성부와 이들 도전로 형성부를 서로 절연하는 절연부로 이루어지고, 도전성 입자가 도전로 형성부 안에만 함유되고, 이것에 의해 해당 도전성 입자는 면 방향으로 불균일하게 분산됨과 함께, 시트 한 면 측에 도전로 형성부가 돌출되어 있는 것을 특징으로 하는 회로 기판의 검사장치. The said 3rd anisotropically conductive sheet consists of a some electrically conductive path formation part extended in the thickness direction, and the insulating part which insulates these electrically conductive path formation parts mutually, and electroconductive particle of any one of Claims 1-5. It is contained only in a conductive path formation part, The electroconductive particle disperse | distributes nonuniformly to a surface direction by this, and an electroconductive path formation part protrudes on the one surface side of a sheet | seat, The inspection apparatus of the circuit board characterized by the above-mentioned. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 피치 변환용 기판에 한 쌍의 전류용 단자 전극과 전압용 단자 전극으로 이루어지는 접속 전극이 설치되고, 해당 접속 전극은 피검사 회로 기판의 각 피검사 전극에 대해서 상기 한 쌍의 전류용 단자 전극과 전압용 단자 전극이 전기적으로 접속하도록 피치 변환용 기판에 배치되어 있고, The said pitch conversion board | substrate is provided with the connection electrode which consists of a pair of current terminal electrode and voltage terminal electrode, The said connection electrode is an each of the circuit board to be tested. The pair of current terminal electrodes and the voltage terminal electrode are electrically connected to the electrode to be inspected, and are disposed on the pitch conversion substrate. 상기 커넥터 기판에, 상기 피치 변환용 기판의 전류용 단자 전극과 전압용 단자 전극에 각각 전기적으로 접속하도록 전류용 핀측 전극과 전압용 핀측 전극이 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 회로 기판의 검사장치. And a pin side electrode for current and a pin side electrode for voltage are arranged on the connector substrate so as to be electrically connected to the current terminal electrode and the voltage terminal electrode of the pitch conversion substrate, respectively. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 중계 핀 유닛이, The relay pin unit according to any one of claims 1 to 7, 상기 제1의 절연판과 제2의 절연판의 사이에 배치된 중간 유지 판과, An intermediate holding plate disposed between the first insulating plate and the second insulating plate; 상기 제1의 절연판과 중간 유지 판의 사이에 배치된 제1의 지지 핀과, A first support pin disposed between the first insulating plate and the intermediate holding plate; 상기 제2의 절연판과 중간 유지 판의 사이에 배치된 제2의 지지 핀을 갖춤과 함께, With a second support pin disposed between the second insulating plate and the intermediate holding plate, 상기 제1의 지지 핀의 중간 유지 판에 대한 제1의 맞닿음 지지 위치와, 상기 제2의 지지 핀의 중간 유지 판에 대한 제2의 맞닿음 지지 위치가, 중간 유지 판의 두께 방향으로 투영된 중간 유지 판 투영면에 있어서 상이한 위치에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 회로 기판의 검사장치. A first abutment support position with respect to the intermediate holding plate of the first support pin and a second abutment support position with respect to the intermediate holding plate of the second support pin are projected in the thickness direction of the intermediate holding plate. It is arrange | positioned at a different position in the intermediate | middle holding plate projection surface, The inspection apparatus of the circuit board characterized by the above-mentioned. 제8항에 있어서, 한 쌍의 제1의 검사 지그와 제2의 검사 지그에 의해, 양 검사 지그의 사이에서 검사 대상인 피검사 회로 기판의 양면을 협압했을 때, The method according to claim 8, wherein when a pair of the first inspection jig and the second inspection jig are pressed together on both sides of the inspection circuit board to be inspected between the two inspection jigs, 상기 제1의 지지 핀의 중간 유지 판에 대한 제1의 맞닿음 지지 위치를 중심으로 해서, 상기 중간 유지 판이 상기 제2의 절연판의 방향으로 휨과 함께, The middle holding plate is bent in the direction of the second insulating plate with the first abutting support position with respect to the middle holding plate of the first supporting pin, 상기 제2의 지지 핀의 중간 유지 판에 대한 제2의 맞닿음 지지 위치를 중심으로 해서, 상기 중간 유지 판이 상기 제1의 절연판의 방향으로 휘도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 회로 기판의 검사장치. The intermediate holding plate is configured to bend in the direction of the first insulating plate centering on the second abutting support position with respect to the intermediate holding plate of the second supporting pin. . 제8항 또는 제9항에 있어서, 상기 제1의 지지 핀의 중간 유지 판에 대한 제1의 맞닿음 지지 위치가 상기 중간 유지 판 투영면에 있어서 격자상으로 배치되고, The first abutting support position with respect to the middle holding plate of the said 1st support pin is arrange | positioned at the grid | lattice form in the said middle holding plate projection surface, 상기 제2의 지지 핀의 중간 유지 판에 대한 제2의 맞닿음 지지 위치가 상기 중간 유지 판 투영면에 있어서 격자상으로 배치되어 있고, A second abutting support position with respect to the intermediate holding plate of the second supporting pin is arranged in a lattice shape on the intermediate holding plate projection surface, 상기 중간 유지 판 투영면에 있어서, 인접하는 4개의 제1의 맞닿음 지지 위치로 이루어지는 단위 격자 영역에 1개의 제2의 맞닿음 지지 위치가 배치됨과 함께, In the intermediate holding plate projection surface, one second abutment support position is arranged in a unit grid area composed of four adjacent first abutment support positions, 상기 중간 유지 판 투영면에 있어서, 인접하는 4개의 제2의 맞닿음 지지 위치로 이루어지는 단위 격자 영역에 1개의 제1의 맞닿음 지지 위치가 배치되도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 회로 기판의 검사장치. The said intermediate | middle holding plate projection surface WHEREIN: It is comprised so that one 1st contact support position may be arrange | positioned in the unit grating area which consists of four adjacent 2nd contact support positions. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 중계 핀 유닛이, The relay pin unit according to any one of claims 1 to 7, 상기 제1의 절연판과 제2의 절연판의 사이에 소정 간격 이격해서 배치된 복수개의 중간 유지 판과,A plurality of intermediate holding plates arranged at a predetermined interval apart from the first insulating plate and the second insulating plate; 인접하는 중간 유지 판끼리의 사이에 배치된 유지 판 지지 핀을 갖춤과 함께, With the holding plate support pin disposed between the adjacent intermediate holding plates, 적어도 1개의 중간 유지 판에 있어서, 해당 중간 유지 판에 대해서 일면 측으로부터 맞닿는 유지 판 지지 핀의 해당 중간 유지 판에 대한 맞닿음 지지 위치 와, 해당 중간 유지 판에 대해서 다른 면 측으로부터 맞닿는 제1의 지지 핀, 제2의 지지 핀, 또는 유지 판 지지 핀의 해당 중간 유지 판에 대한 맞닿음 지지 위치가 해당 중간 유지 판의 두께 방향으로 투영된 중간 유지 판 투영면에 있어서 상이한 위치에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 회로 기판의 검사장치. In at least one intermediate | middle holding plate, the contact support position with respect to the said intermediate | middle holding plate of the holding plate support pin which abuts from the one surface side with respect to the said intermediate | middle holding plate, and the 1st which abuts from the other surface side with respect to the said intermediate holding plate. Abutment support position of the support pin, the second support pin, or the retaining plate support pin with respect to the intermediate holding plate is arranged at a different position in the intermediate holding plate projection surface projected in the thickness direction of the intermediate holding plate. A circuit board inspection apparatus. 제11항에 있어서, 모든 상기 중간 유지 판에 있어서, 해당 중간 유지 판에 대해서 일면 측으로부터 맞닿는 유지 판 지지 핀의 해당 중간 유지 판에 대한 맞닿음 지지 위치와, 해당 중간 유지 판에 대해서 다른 면 측으로부터 맞닿는 제1의 지지 핀, 제2의 지지 핀, 또는 유지 판 지지 핀의 해당 중간 유지 판에 대한 맞닿음 지지 위치가 해당 중간 유지 판의 두께 방향으로 투영된 중간 유지 판 투영면에 있어서 상이한 위치에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 회로 기판의 검사장치. 12. The all-intermediate holding plate according to claim 11, wherein the abutment support position of the holding plate support pin, which abuts from one surface side with respect to the middle holding plate, with respect to the middle holding plate, and the other side with respect to the middle holding plate. Contact position of the first support pin, the second support pin, or the retaining plate support pin with respect to the corresponding intermediate retaining plate is different from the intermediate retaining plate projection surface projected in the thickness direction of the intermediate retaining plate. It is arrange | positioned, The inspection apparatus of the circuit board. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 기재된 회로 기판의 검사장치를 이용한 회로 기판의 검사 방법으로서, 한 쌍의 제1의 검사 지그와 제2의 검사 지그에 의해, 양 검사 지그의 사이에서 검사 대상인 피검사 회로 기판의 양면을 협압해서 전기 검사를 행하는 것을 특징으로 하는 회로 기판의 검사 방법.A circuit board inspection method using the circuit board inspection apparatus according to any one of claims 1 to 12, wherein a pair of first inspection jig and a second inspection jig are used between both inspection jigs. An inspection method of a circuit board, characterized in that the electric inspection is performed by pressing both surfaces of the circuit board under test.
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