JP2006053138A - Device and method for inspection of circuit board - Google Patents

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潔 木村
Sugiro Shimoda
杉郎 下田
Satoshi Suzuki
聰 鈴木
Fujio Hara
富士雄 原
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device and method for inspection of a circuit board capable of performing a highly reliable inspection even for the objective circuit board having electrodes with minute pitch. <P>SOLUTION: The inspection device is constituted as follows: a relay pin unit is provided with an intermediate retaining plate 36, a first support pin 33 arranged between a first insulation plate 34 and the intermediate retaining pin 36, and a second support pin 37 arranged between a second insulation plate 35 and the intermediate retaining plate 36; a first abutting support position of the first support pin 33 to the intermediate retaining plate 36, and the second abutting support position of the second support pin 37 to the intermediate retaining plate 36 are projected in a thickness direction of the intermediate retaining plate 36 on the projection surface of the intermediate retaining plate and arranged at the differen positions; and the relay board 29 is provided for relaying the electric connection of the pitch conversion board 23 and the inspection circuit board 1. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、電気検査を行う検査対象である回路基板(以下、「被検査回路基板」という。)を、一対の第1の検査治具と第2の検査治具で両面から挟圧することにより、被検査回路基板の両面に形成された電極をテスターに電気的に接続された状態として、被検査回路基板の電気的特性を検査する回路基板の検査装置および回路基板の検査方法に関する。   According to the present invention, a circuit board (hereinafter referred to as “circuit board to be inspected”) to be inspected for electrical inspection is clamped from both sides by a pair of first inspection jig and second inspection jig. The present invention relates to a circuit board inspection apparatus and a circuit board inspection method for inspecting the electrical characteristics of a circuit board to be inspected in a state where electrodes formed on both surfaces of the circuit board to be inspected are electrically connected to a tester.

集積回路などを実装するためのプリント回路基板は、集積回路などを実装する前に、回路基板の配線パターンが所定の性能を有することを確認するために電気的特性が検査される。   A printed circuit board for mounting an integrated circuit or the like is inspected for electrical characteristics in order to confirm that the wiring pattern of the circuit board has a predetermined performance before mounting the integrated circuit or the like.

この電気検査では、例えば、回路基板の搬送機構を備えた検査用テスターに検査ヘッドを組み込み、検査ヘッド部分を交換することにより異なる回路基板の検査を行っている。
例えば、特許文献1に開示されているように、被検査回路基板の被検査電極に接して電気的に導通する金属の検査ピンを基板に植設した構造の検査治具を用いる方法が提案されている。
In this electrical inspection, for example, an inspection head is incorporated into an inspection tester having a circuit board transport mechanism, and different circuit boards are inspected by exchanging the inspection head portion.
For example, as disclosed in Patent Document 1, a method using an inspection jig having a structure in which a metal inspection pin that is in electrical contact with an inspection target electrode of a circuit board to be inspected is implanted on the substrate is proposed. ing.

また、特許文献2に開示されているように、導電ピンを有する検査ヘッドと、オフグリットアダプターと呼ばれるピッチ変換用の回路基板と、異方導電性シートとを組み合わせた検査治具を用いる方法が知られている。   In addition, as disclosed in Patent Document 2, there is a method using an inspection jig in which an inspection head having a conductive pin, a circuit board for pitch conversion called an off-grid adapter, and an anisotropic conductive sheet are combined. Are known.

しかしながら、特許文献1のように、金属検査ピンを直接に被検査回路基板の被検査電極に接触させる検査治具を用いる方法では、金属からなる導電ピンとの接触により被検査回路基板の電極が損傷する可能性がある。   However, in the method using an inspection jig in which a metal inspection pin is brought into direct contact with an inspected electrode of a circuit board to be inspected as in Patent Document 1, the electrode of the inspected circuit board is damaged by contact with a conductive pin made of metal. there's a possibility that.

特に、近年では回路基板における回路の微細化、高密度化が進み、このようなプリント回路基板を検査する場合、多数の導電ピンを被検査回路基板の被検査電極に同時に導通接触させるためには、高い圧力で検査治具を加圧することが必要となり、被検査電極が損傷し易くなる。   In particular, in recent years, circuit circuit boards have been miniaturized and densified, and when inspecting such a printed circuit board, in order to bring a large number of conductive pins into conductive contact simultaneously with the electrodes to be inspected of the circuit board to be inspected. It is necessary to press the inspection jig with a high pressure, and the electrode to be inspected is easily damaged.

そして、このような微細化、高密度化されたプリント回路基板を検査するための検査治具では、高密度で多数の金属ピンを基板に植設することが技術的に困難になりつつある。また、その製造コストも高価となり、さらに、一部の金属ピンが損傷した場合に、修理、交換することが困難である。   In such an inspection jig for inspecting a miniaturized and high-density printed circuit board, it is becoming technically difficult to implant a large number of high-density metal pins on the board. In addition, the manufacturing cost is expensive, and it is difficult to repair or replace some of the metal pins when they are damaged.

一方、特許文献2のように、異方導電性シートを使用する検査治具では、被検査回路基板の被検査電極が、異方導電性シートを介してピッチ変換用基板の電極と接触することになるため、被検査回路基板の被検査電極が損傷しにくいという利点がある。また、ピッチ変換を行う基板を使用しているため、基板に植設する検査ピンを、被検査回路基板の被検査電極のピッチよりも広いピッチで植設することができるため、微細ピッチで検査ピンを植設する必要がなく、検査治具の製造コストを節約できるという利点もある。   On the other hand, as in Patent Document 2, in an inspection jig using an anisotropic conductive sheet, the electrode to be inspected of the circuit board to be inspected is in contact with the electrode of the substrate for pitch conversion through the anisotropic conductive sheet. Therefore, there is an advantage that the electrode to be inspected of the circuit board to be inspected is hardly damaged. In addition, since a substrate that performs pitch conversion is used, inspection pins to be implanted on the substrate can be implanted at a pitch wider than the pitch of the electrode to be inspected on the circuit substrate to be inspected, so that inspection is performed at a fine pitch. There is an advantage that the manufacturing cost of the inspection jig can be saved without having to plant pins.

しかしながら、この検査治具では、検査対象である被検査回路基板ごとに、ピッチ変換用基板と、検査ピンを植設する検査治具とを作成する必要があるため、検査される被検査回路基板であるプリント回路基板と同数の検査治具が必要となる。   However, in this inspection jig, since it is necessary to create a pitch conversion board and an inspection jig in which an inspection pin is implanted for each circuit board to be inspected, the circuit board to be inspected The same number of inspection jigs as the printed circuit board is required.

このため、複数のプリント回路基板を生産している場合では、それに対応して複数の検
査治具を保有しなければならないという問題がある。特に、近年では電子機器の製品サイクルが短縮し、製品に使用されるプリント回路基板の生産期間の短縮化が進んでいるが、これに伴って検査治具を長期間使用することができなくなり、プリント回路基板の生産が切り替わる度に検査治具を生産しなければならないという問題が生じている。
For this reason, in the case where a plurality of printed circuit boards are produced, there is a problem that a plurality of inspection jigs must be held correspondingly. In particular, in recent years, the product cycle of electronic devices has been shortened, and the production period of printed circuit boards used in products has been shortened. With this, inspection jigs cannot be used for a long time, There is a problem that an inspection jig must be produced each time the production of a printed circuit board is switched.

このような問題への対策として、例えば、特許文献3〜5のような、中継ピンユニットを用いる、いわゆるユニバーサルタイプの検査治具を用いた検査装置が提案されている。
図42は、このようなユニバーサルタイプの検査治具を用いた検査装置の断面図である。この検査装置は、一対の第1の検査治具111aと第2の検査治具111bとを備え、これらの検査治具は、回路基板側コネクタ121a、121bと、中継ピンユニット131a、131bと、テスター側コネクタ141a、141bとを備えている。
As a countermeasure against such a problem, for example, as in Patent Documents 3 to 5, an inspection apparatus using a so-called universal type inspection jig using a relay pin unit has been proposed.
FIG. 42 is a cross-sectional view of an inspection apparatus using such a universal type inspection jig. The inspection apparatus includes a pair of a first inspection jig 111a and a second inspection jig 111b, which include circuit board side connectors 121a and 121b, relay pin units 131a and 131b, Tester side connectors 141a and 141b are provided.

回路基板側コネクタ121a、121bは、ピッチ変換用基板123a、123bと、その両面側に配置される異方導電性シート122a、122b、126a、126bとを有している。   The circuit board side connectors 121a and 121b have pitch conversion boards 123a and 123b and anisotropic conductive sheets 122a, 122b, 126a and 126b arranged on both sides thereof.

中継ピンユニット131a、131bは、一定ピッチ(例えば2.54mmピッチ)で格子点上に多数(例えば5000ピン)配置された導電ピン132a、132bと、この導電ピン132a、132bを上下へ移動可能に支持する一対の絶縁板134a、134bとを有している。   The relay pin units 131a and 131b have a large number of conductive pins 132a and 132b (for example, 5000 pins) arranged on lattice points at a constant pitch (for example, 2.54 mm pitch), and the conductive pins 132a and 132b can be moved up and down. It has a pair of insulating plates 134a and 134b to support.

テスター側コネクタ141a、141bは、被検査回路基板101を検査治具111a、111bで挟圧した際に、テスターと導電ピン132a、132bとを電気的に接続するコネクタ基板143a、143bと、コネクタ基板143a、143bの導電ピン132a、132b側に配置される異方導電性シート142a、142bと、ベース板146a、146bとを有している。   The tester-side connectors 141a and 141b include connector boards 143a and 143b that electrically connect the tester and the conductive pins 132a and 132b when the circuit board 101 to be inspected is clamped by the inspection jigs 111a and 111b. 143a, 143b has anisotropic conductive sheets 142a, 142b disposed on the conductive pins 132a, 132b side, and base plates 146a, 146b.

この中継ピンユニットを使用した検査治具は、異なる被検査対象であるプリント回路基板を検査する際に、回路基板側コネクタ121a、121bを被検査回路基板101に対応するものに交換するだけでよく、中継ピンユニット131a、131bとテスター側コネクタ141a、141bは共通で使用できる。   The inspection jig using the relay pin unit only needs to replace the circuit board side connectors 121a and 121b with those corresponding to the circuit board 101 to be inspected when inspecting a printed circuit board which is a different object to be inspected. The relay pin units 131a and 131b and the tester side connectors 141a and 141b can be used in common.

ところで、被検査回路基板101であるプリント配線基板は、多層高密度化してきており、実際には厚み方向に、例えば、BGAなどのハンダボール電極などの被検査電極102、103による高さバラツキや基板自体の反りが生じている。そのため、被検査回路基板101上の検査点である被検査電極102、103に電気的接続を達成するためには、第1の検査治具111aと第2の検査治具111bとを高い圧力で加圧して、被検査回路基板101を平坦に変形する必要がある。また、被検査電極102、103の高さバラツキに対しては、第1の検査治具111aと第2の検査治具111bの被検査電極102、103の高さに対する追従性が必要となる。   By the way, the printed wiring board which is the circuit board 101 to be inspected has been multi-layered and densified. Actually, in the thickness direction, for example, the height variation due to the inspected electrodes 102 and 103 such as solder ball electrodes such as BGA, The substrate itself is warped. Therefore, in order to achieve electrical connection to the electrodes 102 and 103 to be inspected, which are inspection points on the circuit board 101 to be inspected, the first inspection jig 111a and the second inspection jig 111b are moved at a high pressure. It is necessary to deform the circuit board 101 to be inspected flatly by applying pressure. In addition, for the height variations of the electrodes 102 and 103 to be inspected, it is necessary to follow the heights of the electrodes 102 and 103 to be inspected by the first inspection jig 111a and the second inspection jig 111b.

従来のこのようなユニバーサルタイプの検査治具では、被検査電極102、103の高さに対する追従性を確保するために、導電ピン132a、132bの軸方向移動により追従していたが、この導電ピン132a、132bの軸方向移動量にも限界があるため、このような被検査電極102、103の高さに対する追従性が良好でない場合があり、導通不良が発生して正確な検査ができないことになる。   In such a conventional universal type inspection jig, in order to ensure followability with respect to the height of the electrodes 102 and 103 to be inspected, the conductive pins 132a and 132b are followed by movement in the axial direction. Since the amount of movement in the axial direction of 132a and 132b is also limited, the following ability to the height of the electrodes 102 and 103 to be inspected may not be good, and a continuity failure occurs and accurate inspection cannot be performed. Become.

また、このようなユニバーサルタイプの検査治具では、第1の検査治具111aと第2の検査治具111bによって、被検査回路基板101を挟圧した際のプレス圧力は、その上下の異方導電性シート122a、122b、126a、126b、142a、142b
にて吸収している。
Further, in such a universal type inspection jig, the press pressure when the circuit board 101 to be inspected is clamped by the first inspection jig 111a and the second inspection jig 111b is different in the upper and lower directions. Conductive sheets 122a, 122b, 126a, 126b, 142a, 142b
It absorbs at.

そのため、このようなユニバーサルタイプの検査治具では、ピッチ変換用基板123a、123bを支持しプレス圧を分散させるために、一定間隔で導電ピン132a、132bを配置する必要がある。   Therefore, in such a universal type inspection jig, it is necessary to arrange the conductive pins 132a and 132b at regular intervals in order to support the pitch conversion substrates 123a and 123b and disperse the press pressure.

また、従来のユニバーサルタイプの検査治具では、プレス圧力は導電ピン132a、132bで受けるようになっているため、一定間隔で多数の導電ピン132a、132bを配置する必要がある。   Further, in the conventional universal type inspection jig, the press pressure is received by the conductive pins 132a and 132b, so that it is necessary to arrange a large number of conductive pins 132a and 132b at regular intervals.

このため、被検査回路基板101の電極の微細化に対応して、例えば、0.75mmピッチで1万以上の貫通孔を有する絶縁板134a、134bを形成する場合、絶縁板134a、134bの基板の厚さが薄いと強度が低くなり、曲げた時に割れることもあるので、絶縁板134a、134bの厚さは厚めにする必要があった。   For this reason, in response to the miniaturization of the electrodes of the circuit board 101 to be inspected, for example, when forming the insulating plates 134a and 134b having 10,000 or more through holes at a pitch of 0.75 mm, the substrates of the insulating plates 134a and 134b If the thickness of the insulating plate 134 is thin, the strength becomes low, and it may crack when bent. Therefore, it is necessary to make the insulating plates 134a and 134b thicker.

しかしながら、形成する貫通孔の径が例えば直径0.5mm程度と微細になり、絶縁板134a、134bの厚さが5mm以上になると、一回のドリル加工で貫通孔を形成しようとする場合に、ドリルの刃の強度の関係で、ドリルの刃の欠損、折れが生じて絶縁板の加工に失敗する場合が多くなる。   However, when the diameter of the through hole to be formed becomes as fine as, for example, about 0.5 mm, and the thickness of the insulating plates 134a and 134b is 5 mm or more, when trying to form the through hole by one drilling process, Due to the strength of the drill blade, there are many cases where the drill blade is broken or broken and fails to process the insulating plate.

このため、絶縁板の片面から厚みの半分程度までドリル加工し、さらに他面側から同一部分にドリル加工を行うことにより貫通孔を形成することによって絶縁板の加工を行っているが、この場合、絶縁板に形成する貫通孔数の2倍のドリル加工作業が必要となり、加工工程が煩雑となるという問題があった。   For this reason, the insulating plate is processed by drilling from one side of the insulating plate to about half the thickness, and further forming the through hole by drilling the same part from the other side. There is a problem that a drilling operation twice as many as the number of through holes formed in the insulating plate is required, and the processing step becomes complicated.

また、従来のこうしたユニバーサルタイプの検査治具では、回路基板側コネクタを構成する異方導電性シート122a、122bとして、厚み方向に延びる複数の導電路形成部と、これらの導電路形成部を互いに絶縁する絶縁部とからなり、導電性粒子が導電路形成部中にのみ含有されて面方向に不均一に分散され、シート片面側に導電路形成部が突出した偏在型の異方導電性シートを使用していた。この異方導電性シートは検査での繰り返し使用により導電路形成部が劣化(抵抗値の上昇)し、異方導電性シートを交換する場合、交換の度に異方導電性シートとピッチ変換用基板との位置合わせ、および回路基板側コネクタと中継ピンユニットとの位置合わせが必要であり、この位置合わせ作業が煩雑で検査効率の低下の要因となっていた。   Further, in such a conventional universal type inspection jig, as the anisotropic conductive sheets 122a and 122b constituting the circuit board side connector, a plurality of conductive path forming portions extending in the thickness direction and these conductive path forming portions are mutually connected. An unevenly anisotropic anisotropic conductive sheet comprising an insulating part that insulates, in which conductive particles are contained only in the conductive path forming part and are dispersed unevenly in the plane direction, and the conductive path forming part protrudes on one side of the sheet Was used. This anisotropic conductive sheet deteriorates the resistance of the conductive path due to repeated use in inspection (increases in resistance value), and when replacing the anisotropic conductive sheet, the anisotropic conductive sheet and pitch conversion each time it is replaced Alignment with the substrate and alignment between the circuit board side connector and the relay pin unit are necessary, and this alignment operation is complicated and causes a reduction in inspection efficiency.

また、被検査回路基板の電極が、例えば200μm以下のような微少ピッチになると、上記のような異方導電性シートを用いて複数の被検査回路基板について検査を連続して行った場合、被検査回路基板と繰り返し接触することにより異方導電性シートの位置ずれが生じ易くなる。すると異方導電性シートの導電路形成部と被検査回路基板の電極位置とが一致しなくなり、良好な電気的接続が得られなくなるため過大な抵抗値が測定され、本来は良品と判断されるべきプリント回路基板が不良品と誤判断され易くなる。   Further, when the electrodes of the circuit board to be inspected have a minute pitch of, for example, 200 μm or less, when the inspection is continuously performed on a plurality of circuit boards to be inspected using the anisotropic conductive sheet as described above, Repeated contact with the inspection circuit board tends to cause misalignment of the anisotropic conductive sheet. Then, the conductive path forming part of the anisotropic conductive sheet and the electrode position of the circuit board to be inspected do not coincide with each other, and an excellent electrical connection cannot be obtained. The printed circuit board to be misidentified as a defective product tends to be erroneously determined.

従来、このような問題を解決するために、表面に検査対象である回路基板の被検査電極に対応するパターンに従って配置された接続用電極を有し、裏面に格子点位置に従って配置された端子電極を有するピッチ変換用基板と、このピッチ変換用基板の表面上に一体的に設けられた異方導電性エラストマーシートとからなるアダプター装置が提案されている(特許文献6および特許文献7)。   Conventionally, in order to solve such a problem, a terminal electrode having a connection electrode arranged on a surface according to a pattern corresponding to an electrode to be inspected on a circuit board to be inspected and arranged on a back surface according to a grid point position There has been proposed an adapter device composed of a pitch conversion substrate having an anisotropic conductive elastomer sheet integrally provided on the surface of the pitch conversion substrate (Patent Document 6 and Patent Document 7).

このようなアダプター装置によれば、回路基板の電気的検査において、異方導電性エラストマーシートの位置合わせ作業が不要であり、また、温度変化による熱履歴などの環境
の変化に対しても良好な電気的接続状態が安定に維持され、従って高い接続信頼性が得られる。
According to such an adapter device, in the electrical inspection of the circuit board, it is not necessary to align the anisotropic conductive elastomer sheet, and it is also good against environmental changes such as thermal history due to temperature changes. The electrical connection state is maintained stably, and thus high connection reliability is obtained.

しかしながら、図43に示したように、被検査電極102(103)の間のピッチP1が100μm以下の場合には、被検査電極102(103)の間の離間距離S1が50μm以下になってしまう。このため、図44に示したように、ピッチ変換用基板123の接続用電極125の間の離間距離も、被検査電極102(103)の間の離間距離S1と同じく、50μm以下にする必要がある。   However, as shown in FIG. 43, when the pitch P1 between the electrodes to be inspected 102 (103) is 100 μm or less, the separation distance S1 between the electrodes to be inspected 102 (103) is 50 μm or less. . Therefore, as shown in FIG. 44, the separation distance between the connection electrodes 125 of the pitch conversion substrate 123 also needs to be 50 μm or less, as is the separation distance S1 between the electrodes to be inspected 102 (103). is there.

従って、異方導電性シート122の導電路形成部間を相互に絶縁する絶縁部の幅も、これに合わせて、被検査電極102(103)の間の離間距離S1と同じく、50μm以下にする必要がある。   Accordingly, the width of the insulating portions that insulate the conductive path forming portions of the anisotropic conductive sheet 122 from each other is also set to 50 μm or less, similarly to the separation distance S1 between the electrodes to be inspected 102 (103). There is a need.

しかしながら、被検査電極間の離間距離が100μm以下であるような、被検査電極が狭ピッチで配置された回路基板を検査するための偏在型異方導電性エラストマーシートを得る場合、上記したように、隣接する導電路形成部間を相互に絶縁する絶縁部の幅が50μm以下となるように形成する必要があるが、金型成形によりシートを製造する従来の方法では、隣接する金型磁極との磁場作用のため50μm以下の絶縁部の形成が困難となる。   However, when obtaining an unevenly distributed anisotropic conductive elastomer sheet for inspecting a circuit board in which the electrodes to be inspected are arranged at a narrow pitch such that the distance between the electrodes to be inspected is 100 μm or less, as described above. In the conventional method of manufacturing a sheet by molding, it is necessary to form an insulating portion that insulates adjacent conductive path forming portions from each other. It is difficult to form an insulating portion of 50 μm or less due to the magnetic field action.

このため、この従来の製法による偏在型異方導電性エラストマーシートでは、シートの厚みにもよるが、回路基板の電極間距離の検査可能な下限は、約60〜80μmであった。   For this reason, in the uneven distribution type anisotropically conductive elastomer sheet by this conventional manufacturing method, although it depends on the thickness of the sheet, the lower limit for the inspection of the distance between the electrodes of the circuit board is about 60 to 80 μm.

このため、被検査電極の離間距離が50μm以下である、被検査電極が小ピッチで配置された回路基板を検査するための偏在型異方導電性エラストマーシートは、金型法によって成形することがきわめて困難であるため、実質的には得られていない。   For this reason, the unevenly anisotropic anisotropic conductive elastomer sheet for inspecting a circuit board in which the inspected electrode separation distance is 50 μm or less and the inspected electrodes are arranged at a small pitch can be formed by a mold method. Since it is extremely difficult, it is not practically obtained.

また、アダプター装置として、ピッチ変換用基板の表面に導電性エラストマー層を形成した後、導電性エラストマー層に対してレーザー加工を施してその一部を除去することにより、ピッチ変換用基板の各接続用電極上に互いに独立した導電路形成部が形成されたものが提案されている(特許文献8)。   Also, as an adapter device, after forming a conductive elastomer layer on the surface of the pitch conversion substrate, each part of the pitch conversion substrate is connected by removing a part of the conductive elastomer layer by laser processing. There has been proposed one in which conductive path forming portions independent from each other are formed on a working electrode (Patent Document 8).

このようなアダプター装置によれば、導電路形成部の各々は互いに独立した状態で形成されているため、隣接する導電路形成部間において所要の絶縁性が確実に得られる。
しかしながら、このアダプター装置においては、導電路形成部の各々がピッチ変換用基板の接続用電極のみによって支持されているため、ピッチ変換用基板から脱落し易く耐久性が低いという問題がある。
According to such an adapter device, since each of the conductive path forming portions is formed in an independent state, the required insulation can be reliably obtained between the adjacent conductive path forming portions.
However, in this adapter device, since each of the conductive path forming portions is supported only by the connection electrodes of the pitch conversion board, there is a problem in that the adapter path easily drops off from the pitch conversion board and has low durability.

また、導電路形成部を形成する際には、レーザー加工によってピッチ変換用基板に損傷を与えるおそれがある、という問題がある。
一方、導電性粒子が厚み方向に配列するとともに面方向に均一に分散された、いわゆる分散型の異方導電性エラストマーシートでは、その厚みを小さくすることにより高い分解能が得られるため、例えばその厚みを30μm程度とすることにより、被検査電極の離間距離が50μm以下である回路基板を検査することが、その分解能としては可能となる。
Further, when the conductive path forming portion is formed, there is a problem that the pitch conversion substrate may be damaged by laser processing.
On the other hand, in a so-called dispersive anisotropic conductive elastomer sheet in which conductive particles are arranged in the thickness direction and uniformly dispersed in the plane direction, high resolution can be obtained by reducing the thickness. By setting the distance to about 30 μm, it is possible to inspect a circuit board having a separation distance of electrodes to be inspected of 50 μm or less as its resolution.

しかし、その厚みが30μm程度であるような、薄い分散型異方導電性エラストマーシートでは、異方導電性エラストマーシートの特性の一つである、シート本体の弾性による機械的衝撃の吸収能力や、電極同士のソフトな接触による電気的接続を達成する能力がほとんど無くなってしまうため、多数の高さバラツキを含む被検査電極を有する被検査回路
基板を検査装置に接続する場合に、異方導電性エラストマーシートの段差級収能力の低下により、多数の被検査電極を同時に接続することが困難となる。
However, in the thin dispersion type anisotropic conductive elastomer sheet whose thickness is about 30 μm, one of the characteristics of the anisotropic conductive elastomer sheet is the ability to absorb mechanical shock due to the elasticity of the sheet body, Since the ability to achieve electrical connection by soft contact between electrodes is almost lost, anisotropic conductivity is required when connecting a circuit board to be inspected that has many electrodes to be inspected, including variations in height. It is difficult to connect a large number of electrodes to be inspected at the same time due to the lowering of the leveling ability of the elastomer sheet.

例えば、メッキにより多数の電極が形成される回路基板では、その各々の電極の高さのバラツキが約20μm程度となる。分散型異方導電性エラストマーシートでは、厚み方向に圧縮された際に、安定して電気的な導通を達成できる圧縮率は約20%以下である。例えば20%を超えて圧縮を行うと、横方向の電気的導通が大きくなり導通の異方性が損なわれるばかりでなく、基材となるエラストマーの永久変形が生じて繰り返し使用が困難となる。このため、約20μmの高さバラツキを含む電極を有する回路基板の検査を行う場合、厚みが100μm以上の分散型異方導電性エラストマーシートを使用することが必要となる。   For example, in a circuit board on which a large number of electrodes are formed by plating, the height variation of each electrode is about 20 μm. The dispersion type anisotropic conductive elastomer sheet has a compression ratio of about 20% or less that can stably achieve electrical conduction when compressed in the thickness direction. For example, if the compression exceeds 20%, the electrical conduction in the lateral direction is increased and the anisotropy of conduction is impaired, and permanent deformation of the elastomer as the base material occurs, making repeated use difficult. For this reason, when inspecting a circuit board having an electrode including a height variation of about 20 μm, it is necessary to use a dispersed anisotropic conductive elastomer sheet having a thickness of 100 μm or more.

しかし、厚みが100μm以上の分散型異方導電性エラストマーシートを使用すると、被検査電極が50μm以下の小さいピッチで配置された回路基板を検査することが、分解能が損なわれるために実質的に不可能となってしまう問題点があった。   However, when a dispersed anisotropic conductive elastomer sheet having a thickness of 100 μm or more is used, it is substantially impossible to inspect a circuit board in which electrodes to be inspected are arranged at a small pitch of 50 μm or less because resolution is impaired. There was a problem that would be possible.

さらに、厚みの小さい分散型異方導電性エラストマーシートは、シート本体の弾性が低いために機械的衝撃の吸収能力が小さく、回路基板検査用アダプターに用いて回路基板の繰り返し検査を行った場合に異方導電性エラストマーシートの劣化が早く、そのため頻繁に分散型異方導電性エラストマーシートを交換しなければならず、交換作業が繁雑となり、回路基板の検査効率が低くなってしまう。   Furthermore, the dispersion-type anisotropic conductive elastomer sheet with a small thickness has a low ability to absorb mechanical shock because the elasticity of the sheet body is low, and when a circuit board is repeatedly inspected using an adapter for circuit board inspection. The anisotropic conductive elastomer sheet is rapidly deteriorated, and therefore, the dispersed anisotropic conductive elastomer sheet must be frequently replaced. Therefore, the replacement work becomes complicated and the inspection efficiency of the circuit board is lowered.

以上のことから、被検査電極が50μm以下の小さいピッチで配置された回路基板を検査するための、異方導電性エラストマーシートを用いた回路基板検査用アダプターでは、分解能、段差吸収能、繰り返し使用耐久性を全て満足するものが得られていなかった。   From the above, the circuit board inspection adapter using the anisotropic conductive elastomer sheet for inspecting the circuit board in which the electrodes to be inspected are arranged at a small pitch of 50 μm or less, the resolution, the step absorption capacity, the repeated use A product satisfying all the durability was not obtained.

図44に示したように、被検査電極102(103)の間のピッチP1が100μmの場合には、ピッチ変換基板123の接続用電極125の間の離間距離は、被検査電極102(103)の間の離間距離S1と同じく、50μmであればよい。しかしながら、高い精度で回路基板の潜在的な電気的欠陥を検出するために4端子検査を行う場合、図45に示したように、被検査用回路基板の被検査電極102(103)の1つに対して、ピッチ変換基板123の2つの電極(電流供給用電極127および電圧測定用電極128)を接続することになる。   As shown in FIG. 44, when the pitch P1 between the electrodes to be inspected 102 (103) is 100 μm, the separation distance between the connection electrodes 125 of the pitch conversion substrate 123 is the inspected electrode 102 (103). Similarly to the separation distance S1 between them, it may be 50 μm. However, when performing a four-terminal inspection in order to detect a potential electrical defect of a circuit board with high accuracy, as shown in FIG. 45, one of the electrodes 102 (103) to be inspected on the circuit board to be inspected. On the other hand, the two electrodes (the current supply electrode 127 and the voltage measurement electrode 128) of the pitch conversion substrate 123 are connected.

そのため、ピッチ変換基板123における電流供給用電極127と電圧測定用電極128との間の離間距離S2はさらに小さくなる。例えば、ピッチ変換基板123の被検査電極間102(103)のピッチP1が200μmである場合、被検査電極102(103)の直径Rが約100μmとなり、この直径約100μmの被検査電極102(103)に対して、ピッチ変換用基板123における電流供給用電極127および電圧測定用電極128が共に接続されるので、電流供給用電極127と電圧測定用電極128との間の離間距離S2は、図45に示したように、30〜40μm程度しか設けることができない。   Therefore, the separation distance S2 between the current supply electrode 127 and the voltage measurement electrode 128 on the pitch conversion substrate 123 is further reduced. For example, when the pitch P1 between the electrodes to be inspected 102 (103) of the pitch conversion substrate 123 is 200 μm, the diameter R of the electrodes to be inspected 102 (103) is about 100 μm, and the electrodes to be inspected 102 (103 having a diameter of about 100 μm are formed. ), The current supply electrode 127 and the voltage measurement electrode 128 on the pitch conversion substrate 123 are connected together, so that the separation distance S2 between the current supply electrode 127 and the voltage measurement electrode 128 is as shown in FIG. As shown in FIG. 45, only about 30 to 40 μm can be provided.

しかしながら、上述したように、従来では、偏在型異方導電性エラストマーシート、分散型異方導電性エラストマーシートのいずれを用いた場合にも、ピッチ変換用基板における接続用電極の離間距離S2を30〜40μmとしたアダプター装置は得られていないのが現状である。   However, as described above, conventionally, when any of the unevenly distributed anisotropic conductive elastomer sheet and the dispersed anisotropic conductive elastomer sheet is used, the separation distance S2 of the connection electrodes on the pitch conversion substrate is 30. At present, no adapter device having a diameter of ˜40 μm has been obtained.

以上のように、従来の偏在型異方導電性シートや分散型異方導電性シートを用いた回路基板の検査装置では、多数の被検査電極を有する回路基板を検査する際に要求される分解能、段差吸収能、クッション性、耐久性に関して、その全てにおいて性能が充分なものは
得られていなかった。
特開平6−94768号公報 特開平5−159821号公報 特開平7−248350号公報 特開平8−271569号公報 特開平8−338858号公報 特開平4−151564号公報 特開平6−82531号公報 特開平10−229270号公報
As described above, in a conventional circuit board inspection apparatus using an unevenly distributed anisotropic conductive sheet or a distributed anisotropic conductive sheet, the resolution required when inspecting a circuit board having a large number of electrodes to be inspected. In terms of step absorbability, cushioning properties and durability, no satisfactory performance was obtained in all of them.
JP-A-6-94768 Japanese Patent Laid-Open No. 5-159821 JP 7-248350 A Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-271469 JP-A-8-338858 JP-A-4-151564 JP-A-6-82531 Japanese Patent Laid-Open No. 10-229270

本発明は、検査対象である被検査回路基板が微細ピッチの微小電極を有するものであっても、信頼性の高い回路基板の電気的検査を行うことができる回路基板の検査装置および回路基板の検査方法を提供することを目的とする。   The present invention relates to a circuit board inspection apparatus and circuit board capable of performing a highly reliable electrical inspection of a circuit board even if the circuit board to be inspected has microelectrodes with a fine pitch. The purpose is to provide an inspection method.

また、本発明は、検査対象である被検査回路基板の被検査電極の高さバラツキに対する追従性が良好で、導通不良が発生せず、正確な検査を実施することが可能な回路基板の検査装置および回路基板の検査方法を提供することを目的とする。   In addition, the present invention is a circuit board inspection that has good followability to the height variation of the inspection target electrode of the circuit board to be inspected, does not cause poor conduction, and can perform an accurate inspection. It is an object of the present invention to provide an apparatus and a circuit board inspection method.

また、本発明は、一定間隔で導電ピンを配置する必要がなく、そのため、導電ピンを保持する絶縁板への貫通孔のドリル加工による穿設作業が少なく、コストを低減することが可能な回路基板の検査装置および回路基板の検査方法を提供することを目的とする。   In addition, the present invention does not require the conductive pins to be arranged at regular intervals. Therefore, there is little drilling work by drilling through holes in the insulating plate holding the conductive pins, and the circuit can reduce costs. It is an object of the present invention to provide a substrate inspection apparatus and a circuit board inspection method.

また、本発明は、高い分解能で検査が可能であり、被検査回路基板の被検査電極による段差を良好に吸収するとともに、繰り返し使用耐久性にも優れた回路基板の検査装置および回路基板の検査方法を提供することを目的とする。   In addition, the present invention can inspect with high resolution, absorbs a step due to the inspected electrode of the circuit board to be inspected, and also has excellent repeated use durability and circuit board inspection apparatus and circuit board inspection It aims to provide a method.

本発明の回路基板の検査装置は、一対の第1の検査治具と第2の検査治具によって、両検査治具の間で検査対象である被検査回路基板の両面を挟圧して電気検査を行う回路基板の検査装置であって、
前記第1の検査治具と第2の検査治具がそれぞれ、
基板の一面側と他面側との間で電極ピッチを変換するピッチ変換用基板と、
前記ピッチ変換用基板の被検査回路基板側に配置され、基板に形成された複数の貫通孔に、弾性高分子物質からなる絶縁部と、導電性粒子を含有する弾性高分子物質からなり前記絶縁部を厚み方向へ貫通する導電路形成部とが形成された、該導電路形成部によって前記ピッチ変換用基板と前記被検査回路基板との電気的接続を中継する中継基板と、
前記ピッチ変換用基板の前記中継基板とは逆側に配置される第2の異方導電性シートと、
を備えた回路基板側コネクタと、
所定のピッチで配置された複数の導電ピンと、
前記導電ピンを軸方向へ移動可能に支持する、一対の離間した第1の絶縁板と第2の絶縁板と、
を備えた中継ピンユニットと、
テスターと前記中継ピンユニットとを電気的に接続するコネクタ基板と、
前記コネクタ基板の中継ピンユニット側に配置される第3の異方導電性シートと、
前記コネクタ基板の中継ピンユニットとは逆側に配置されるベース板と、
を備えたテスター側コネクタと、を備え、
前記中継ピンユニットは、
前記第1の絶縁板と第2の絶縁板との間に配置された中間保持板と、
前記第1の絶縁板と中間保持板との間に配置された第1の支持ピンと、
前記第2の絶縁板と中間保持板との間に配置された第2の支持ピンと、
を備えるとともに、
前記第1の支持ピンの中間保持板に対する第1の当接支持位置と、前記第2の支持ピンの中間保持板に対する第2の当接支持位置とが、中間保持板の厚さ方向に投影した中間保持板投影面において異なる位置に配置されていることを特徴とする。
The circuit board inspection apparatus of the present invention performs electrical inspection by sandwiching both surfaces of the circuit board to be inspected between the two inspection jigs by a pair of first inspection jig and second inspection jig. A circuit board inspection apparatus for performing
The first inspection jig and the second inspection jig are respectively
A pitch conversion substrate that converts the electrode pitch between one surface side and the other surface side of the substrate;
An insulating part made of an elastic polymer material and an insulating material made of an elastic polymer material containing conductive particles in a plurality of through holes formed in the substrate, which are arranged on the circuit board side to be inspected of the pitch conversion substrate. A relay board that relays the electrical connection between the substrate for pitch conversion and the circuit board to be inspected by the conductive path forming part formed with a conductive path forming part penetrating the part in the thickness direction;
A second anisotropic conductive sheet disposed on the opposite side of the pitch conversion substrate from the relay substrate;
A circuit board-side connector with
A plurality of conductive pins arranged at a predetermined pitch;
A pair of spaced apart first and second insulating plates for supporting the conductive pins movably in the axial direction;
A relay pin unit with
A connector board for electrically connecting the tester and the relay pin unit;
A third anisotropic conductive sheet disposed on the relay pin unit side of the connector board;
A base plate disposed on the side opposite to the relay pin unit of the connector board;
A tester-side connector with
The relay pin unit is
An intermediate holding plate disposed between the first insulating plate and the second insulating plate;
A first support pin disposed between the first insulating plate and the intermediate holding plate;
A second support pin disposed between the second insulating plate and the intermediate holding plate;
With
A first abutment support position of the first support pin with respect to the intermediate holding plate and a second abutment support position of the second support pin with respect to the intermediate holding plate are projected in the thickness direction of the intermediate holding plate. The intermediate holding plate is disposed at different positions on the projection plane.

このように構成することによって、第1の検査治具と第2の検査治具との間で検査対象である被検査回路基板の両面を挟圧して電気検査を行う際に、加圧の初期段階では、中継ピンユニットの導電ピンによる厚み方向への移動と、中継基板の弾性部分と、第2の異方導電性シートと、第3の異方導電性シートのゴム弾性圧縮にて圧力を吸収して、被検査回路基板の被検査電極の高さバラツキをある程度吸収することができる。   With this configuration, when electrical inspection is performed by sandwiching both surfaces of the circuit board to be inspected between the first inspection jig and the second inspection jig, initial pressure is applied. In the stage, the pressure is applied by rubber elastic compression of the relay pin unit in the thickness direction by the conductive pins, the elastic portion of the relay board, the second anisotropic conductive sheet, and the third anisotropic conductive sheet. It is possible to absorb to some extent the height variation of the electrodes to be inspected of the circuit board to be inspected.

そして、第1の支持ピンの中間保持板に対する第1の当接支持位置と、前記第2の支持ピンの中間保持板に対する第2の当接支持位置とが、中間保持板の厚さ方向に投影した中間保持板投影面において、異なる位置に配置されているので、第1の検査治具と第2の検査治具の間で検査対象である被検査回路基板をさらに加圧した際に、中継基板の弾性部分と、第2の異方導電性シートと、第3の異方導電性シートのゴム弾性圧縮に加えて、中継ピンユニットの第1の絶縁板と、第2の絶縁板と、第1の絶縁板と第2の絶縁板の間に配置された中間保持板のバネ弾性により、被検査回路基板の被検査電極の高さバラツキ、例えば、ハンダボール電極の高さバラツキに対して、圧力集中を分散させて、局部的な応力集中を回避することができる。   The first contact support position of the first support pin with respect to the intermediate holding plate and the second contact support position of the second support pin with respect to the intermediate support plate are in the thickness direction of the intermediate support plate. Since it is arranged at different positions on the projected intermediate holding plate projection surface, when the circuit board to be inspected is further pressurized between the first inspection jig and the second inspection jig, In addition to elastic elastic compression of the relay board, the second anisotropic conductive sheet, and the third anisotropic conductive sheet, the first insulating plate of the relay pin unit, the second insulating plate, Due to the spring elasticity of the intermediate holding plate disposed between the first insulating plate and the second insulating plate, the height variation of the inspected electrode of the circuit board to be inspected, for example, the height variation of the solder ball electrode, The pressure concentration can be distributed to avoid local stress concentration.

これにより、高さバラツキを有する被検査回路基板の被検査電極の各々に対しても、安定的な電気的接触が確保され、さらに応力集中が低減されるので、中継基板の弾性部分の局部的な破損が抑制される。その結果、中継基板の繰り返し使用耐久性が向上するので、中継基板の交換回数が減り、検査作業効率が向上する。   As a result, stable electrical contact is ensured for each of the electrodes to be inspected on the circuit board to be inspected having a height variation, and further, stress concentration is reduced. Damage is suppressed. As a result, since the repeated use durability of the relay board is improved, the number of times of replacement of the relay board is reduced, and the inspection work efficiency is improved.

また、一定間隔で導電ピンを配置する必要がないので、導電ピンを保持する絶縁板への貫通孔のドリル加工による穿設作業が少なく、コストを低減することができる。
さらに本発明では、導電路形成部とその周囲の絶縁部とからなる弾性部分が基板に形成された複数の貫通孔のそれぞれに設けられた中継基板を配置しているので、検査治具の押圧による加圧力や衝撃がこの弾性部分で吸収され、被検査回路基板の電極などを破損損傷することがない。
Moreover, since there is no need to arrange the conductive pins at regular intervals, there is little drilling work by drilling through holes in the insulating plate holding the conductive pins, and the cost can be reduced.
Further, in the present invention, since the relay board provided with each of the plurality of through holes formed in the board by the elastic portion composed of the conductive path forming part and the surrounding insulating part is arranged, the pressing of the inspection jig The pressing force and impact due to the are absorbed by this elastic portion, and the electrodes of the circuit board to be inspected are not damaged or damaged.

さらに、検査対象である被検査回路基板の被検査電極の配置パターンに関わらず、被検査回路基板について所要の電気的検査を確実に実行することができ、被検査回路基板の被検査電極が、そのピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、被検査回路基板について所要の電気的検査を確実に実施することができる。   Furthermore, regardless of the arrangement pattern of the electrodes to be inspected on the circuit board to be inspected, the required electrical inspection can be reliably performed on the circuit board to be inspected. Even if the pitch is very small and densely arranged, the required electrical inspection can be reliably performed on the circuit board to be inspected.

本発明の回路基板の検査装置は、前記中継基板が、
第1の離型性支持板上に支持され、磁性を示す導電性粒子が厚み方向に配向した状態で弾性高分子物質中に分散された導電性エラストマー層を、レーザー加工することにより、第1の離型性支持板上に所定のパターンに従って配置された導電路形成部を形成し、
第2の離型性支持板上に支持され、硬化されて弾性高分子物質となる材料からなる未硬化状態の絶縁部用材料層が前記基板における両側表面および貫通孔の内部に形成された当該基板に対して、導電路形成部が形成された前記第1の離型性支持板を、導電路形成部が前記基板の貫通孔に位置するように重ね合わせ、
この状態で、絶縁部用材料層を硬化処理することにより絶縁部を形成した後、第1およ
び第2の離型性支持板を除去することにより得られたものであることを特徴とする。
In the circuit board inspection apparatus according to the present invention, the relay board includes:
By conducting laser processing on the conductive elastomer layer supported on the first releasable support plate and dispersed in the elastic polymer material in a state where the conductive particles exhibiting magnetism are oriented in the thickness direction, first processing is performed. Forming a conductive path forming portion arranged according to a predetermined pattern on the releasable support plate of
An uncured insulating material layer made of a material that is supported on the second releasable support plate and cured to become an elastic polymer substance is formed on both side surfaces of the substrate and inside the through-hole. Overlying the substrate, the first releasable support plate on which the conductive path forming portion is formed so that the conductive path forming portion is located in the through hole of the substrate,
In this state, the insulating part material layer is cured to form an insulating part, and then the first and second releasable support plates are removed to obtain the insulating part.

このように、導電性エラストマー層をレーザー加工して導電路形成部を形成しているので、導電路形成部は所期の良好な導電性を有している。
また、所定のパターンに従って配置された複数の導電路形成部を形成し、これらの導電路形成部の間に、硬化されて弾性高分子物質となる材料よりなる絶縁部用材料層を形成して、硬化処理することにより絶縁部を形成するため、絶縁部には導電性粒子が全く存在しない。
Thus, since the conductive path forming portion is formed by laser processing the conductive elastomer layer, the conductive path forming portion has the desired good conductivity.
Also, a plurality of conductive path forming portions arranged in accordance with a predetermined pattern are formed, and an insulating portion material layer made of a material that is cured and becomes an elastic polymer substance is formed between the conductive path forming portions. Since the insulating part is formed by the curing process, no conductive particles are present in the insulating part.

しかも、従来の異方導電性シートを製造するために使用されていた多数の強磁性体部が配列されてなる金型を用いることが不要である。
従って、接続すべき被検査回路基板の被検査電極の配置パターンに関わらず、電極の各々に対して所要の電気的接続が確実に達成される。また、接続すべき電極が、そのピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、電極の各々に対して所要の電気的接続が確実に達成される。しかも、中継基板を低コストで製造することができる。
In addition, it is not necessary to use a mold in which a large number of ferromagnetic parts used to manufacture a conventional anisotropic conductive sheet are arranged.
Therefore, regardless of the arrangement pattern of the electrodes to be inspected on the circuit board to be inspected to be connected, the required electrical connection is reliably achieved for each of the electrodes. Further, even when the electrodes to be connected are arranged with a small pitch and a high density, the required electrical connection is reliably achieved for each of the electrodes. Moreover, the relay board can be manufactured at a low cost.

さらに、従来の金型成形により異方導電シートを製造する方法ではないので、隣接する金型磁極との磁場作用の影響がなく、導電路形成部の離間距離が小さい、例えば、導電路形成部間の絶縁部の幅が50μm以下であるものが得られる。   Furthermore, since the anisotropic conductive sheet is not manufactured by conventional mold molding, there is no influence of the magnetic field action between adjacent mold magnetic poles, and the distance between the conductive path forming parts is small. For example, the conductive path forming part An insulating part having a width of 50 μm or less is obtained.

したがって、被検査電極の離間距離が50μm以下である、被検査電極が小ピッチで配置された被検査回路基板を検査することが可能である。
さらに、4端子検査を行う場合、被検査用回路基板の被検査電極1つに対してピッチ変換用基板の2つの検査電極(電圧用および電流用)を接続することになり、検査電極間の離間距離が小さくなるが、このような場合であっても、導電路形成部の離間距離が充分に小さい中継基板を備えているので、確実に電気的検査を実施することができる。
Therefore, it is possible to inspect a circuit board to be inspected in which the electrodes to be inspected are 50 μm or less and the electrodes to be inspected are arranged at a small pitch.
Furthermore, when performing a four-terminal inspection, two inspection electrodes (for voltage and current) of the pitch conversion substrate are connected to one inspection electrode of the circuit substrate to be inspected. Although the separation distance is reduced, even in such a case, since the relay substrate having the sufficiently small separation distance of the conductive path forming portion is provided, the electrical inspection can be surely performed.

本発明の回路基板の検査装置は、前記導電性エラストマー層が、
離型性支持板上に、硬化されて弾性高分子物質となる液状のエラストマー用材料中に磁性を示す導電性粒子が含有された導電性エラストマー用材料層を形成し、
該導電性エラストマー用材料層の表面に、形成すべき導電路形成部のパターンに従って、磁性を示す金属からなる金属マスクを形成し、
前記導電性エラストマー用材料層に対してその厚み方向に磁場を作用させることにより、導電性粒子を厚み方向に配向させ、次いで、磁場を作用させた状態で、または磁場を停止した状態で前記導電性エラストマー用材料層を硬化処理することにより得られたものであることを特徴とする。
In the circuit board inspection apparatus of the present invention, the conductive elastomer layer is
On the releasable support plate, a conductive elastomer material layer containing conductive particles exhibiting magnetism in a liquid elastomer material that is cured to become an elastic polymer substance is formed,
According to the pattern of the conductive path forming portion to be formed on the surface of the material layer for the conductive elastomer, a metal mask made of a metal exhibiting magnetism is formed,
By applying a magnetic field in the thickness direction to the conductive elastomer material layer, the conductive particles are oriented in the thickness direction, and then the conductive material is applied in a state where the magnetic field is applied or in a state where the magnetic field is stopped. It is obtained by carrying out the hardening process of the material layer for an elastic elastomer.

このように、磁性を示す金属からなる金属マスクを用いて導電性エラストマー用材料層に対してその厚み方向に磁場を作用させることにより、分散されていた導電性粒子は、金属マスク部分に集中した状態で厚み方向に配向する。   In this way, by applying a magnetic field to the conductive elastomer material layer in the thickness direction using a metal mask made of a metal exhibiting magnetism, the dispersed conductive particles are concentrated on the metal mask portion. Oriented in the thickness direction in the state.

これにより、導電性エラストマー用材料層における金属マスクが形成されていない部分の導電性粒子の密度が小さくなる。そのため、レーザー加工による導電路形成部の形成が容易になる。さらに、厚みの大きい導電性エラストマー層のレーザー加工が容易となるため、厚みの大きい導電路形成部を確実に得ることができる。   Thereby, the density of the electroconductive particle of the part in which the metal mask in the material layer for electroconductive elastomer is not formed becomes small. Therefore, the formation of the conductive path forming portion by laser processing becomes easy. Furthermore, since the laser processing of the thick conductive elastomer layer is facilitated, a thick conductive path forming portion can be obtained with certainty.

このような製法により得られた中継基板を用いた本発明の検査装置は、接続すべき被検査回路基板の被検査電極の配置パターンに関わらず、電極の各々に対して所要の電気的接続を確実に達成できる。また、接続すべき電極が、そのピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、電極の各々に対して所要の電気的接続を確実に達成できる。   The inspection apparatus of the present invention using the relay substrate obtained by such a manufacturing method makes a necessary electrical connection to each of the electrodes regardless of the arrangement pattern of the electrodes to be inspected of the circuit board to be inspected. Can be achieved reliably. Further, even when the electrodes to be connected are arranged with a small pitch and a high density, the required electrical connection can be reliably achieved for each of the electrodes.

上記した本発明の検査装置では、前記中継基板における少なくとも一部の導電路形成部において、互いに隣接する導電路形成部の離間距離が50μm以下であることが好ましく、より好ましくは10〜50μmである。   In the inspection apparatus of the present invention described above, in at least some of the conductive path forming portions of the relay substrate, the distance between the adjacent conductive path forming portions is preferably 50 μm or less, more preferably 10 to 50 μm. .

このようにすることで、被検査電極の離間距離が50μm以下である、被検査電極が微細ピッチで配置された被検査回路基板を検査することが可能である。
さらに、4端子検査を行う場合、被検査用回路基板の被検査電極1つに対してピッチ変換用基板の2つの検査電極(電圧用および電流用)を接続するので、検査電極間の離間距離が小さくなるが、このような場合であっても確実に電気的検査を実施することができる。
By doing so, it is possible to inspect a circuit board to be inspected in which the electrodes to be inspected are 50 μm or less and in which the electrodes to be inspected are arranged at a fine pitch.
Furthermore, when performing a four-terminal inspection, since two inspection electrodes (for voltage and current) of the pitch conversion substrate are connected to one inspection electrode of the circuit substrate to be inspected, the separation distance between the inspection electrodes However, even in such a case, the electrical inspection can be surely performed.

なお、前記中継基板の片面側もしくは両面側には、導電性粒子が厚み方向に配列するとともに面方向に均一に分散された第1の異方導電性シートを配置してもよい。
本発明の回路基板の検査装置は、
一対の第1の検査治具と第2の検査治具によって、両検査治具の間で検査対象である被検査回路基板の両面を挟圧した際に、
前記第1の支持ピンの中間保持板に対する第1の当接支持位置を中心として、前記中間保持板が、前記第2の絶縁板の方向に撓むとともに、
前記第2の支持ピンの中間保持板に対する第2の当接支持位置を中心として、前記中間保持板が、前記第1の絶縁板の方向に撓むことを特徴とする。
A first anisotropic conductive sheet in which conductive particles are arranged in the thickness direction and uniformly dispersed in the plane direction may be disposed on one side or both sides of the relay substrate.
The circuit board inspection apparatus according to the present invention includes:
When the both sides of the circuit board to be inspected are clamped between the two inspection jigs by the pair of the first inspection jig and the second inspection jig,
The intermediate holding plate bends in the direction of the second insulating plate around the first contact support position of the first support pin with respect to the intermediate holding plate, and
The intermediate holding plate bends in the direction of the first insulating plate around the second contact support position of the second support pin with respect to the intermediate holding plate.

このように構成することによって、中間保持板が、第1の当接支持位置、第2の当接支持位置を中心として、相互に反対方向に撓むので、第1の検査治具と第2の検査治具の間で検査対象である被検査回路基板をさらに加圧した際に、中間保持板のバネ弾性力がさらに発揮されることになり、被検査回路基板の被検査電極の高さバラツキに対して、圧力集中を分散させて局部的な応力集中を回避することができ、中継基板の弾性部分の局部的な破損が抑制される。その結果、中継基板の繰り返し使用耐久性が向上するので、中継基板の交換回数が減り、検査作業効率が向上する。   By configuring in this way, the intermediate holding plate bends in opposite directions with the first contact support position and the second contact support position as the center, so the first inspection jig and the second inspection plate When the circuit board to be inspected is further pressed between the inspection jigs, the spring elastic force of the intermediate holding plate is further exerted, and the height of the electrode to be inspected of the circuit board to be inspected With respect to the variation, the pressure concentration can be dispersed to avoid the local stress concentration, and the local breakage of the elastic portion of the relay board is suppressed. As a result, since the repeated use durability of the relay board is improved, the number of times of replacement of the relay board is reduced, and the inspection work efficiency is improved.

本発明の回路基板の検査装置は、前記第1の支持ピンの中間保持板に対する第1の当接支持位置が、前記中間保持板投影面において格子状に配置され、
前記第2の支持ピンの中間保持板に対する第2の当接支持位置が、前記中間保持板投影面において格子状に配置されており、
前記中間保持板投影面において、隣接する4個の第1の当接支持位置からなる単位格子領域に、1個の第2の当接支持位置が配置されるとともに、
前記中間保持板投影面において、隣接する4個の第2の当接支持位置からなる単位格子領域に、1個の第1の当接支持位置が配置されていることを特徴とする。
In the circuit board inspection apparatus of the present invention, the first contact support positions of the first support pins with respect to the intermediate holding plate are arranged in a grid pattern on the intermediate holding plate projection surface,
Second contact support positions of the second support pins with respect to the intermediate holding plate are arranged in a grid pattern on the intermediate holding plate projection surface,
In the intermediate holding plate projection surface, one second abutment support position is disposed in a unit lattice region composed of four adjacent first abutment support positions, and
In the intermediate holding plate projection surface, one first abutment support position is arranged in a unit cell region composed of four adjacent second abutment support positions.

このように構成することによって、第1の当接支持位置と第2の当接支持位置が格子状に配置され、しかも、第1の当接支持位置と第2の当接支持位置の格子点位置が全てずれた位置に配置されることになる。   With this configuration, the first abutment support position and the second abutment support position are arranged in a grid pattern, and the grid points of the first abutment support position and the second abutment support position are arranged. The positions are all arranged at positions shifted.

従って、中間保持板が、第1の当接支持位置、第2の当接支持位置を中心として、相互に反対方向により撓むことになり、第1の検査治具と第2の検査治具の間で検査対象である被検査回路基板を加圧した際に、中間保持板のバネ弾性力がさらに発揮されることになり、被検査回路基板の被検査電極の高さバラツキに対して圧力集中を分散させて、局部的な応力集中をさらに回避することができる。よって、中継基板の弾性部分の局部的な破損が抑制され、その結果、異方導電性シートの繰り返し使用耐久性が向上するので、中継基板の交換回数が減り、検査作業効率が向上する。   Accordingly, the intermediate holding plate bends in opposite directions around the first contact support position and the second contact support position, and the first inspection jig and the second inspection jig. When the circuit board to be inspected is pressed between the two, the spring elastic force of the intermediate holding plate is further exerted, and the pressure against the height variation of the electrode to be inspected of the circuit board to be inspected The concentration can be distributed to further avoid local stress concentrations. Therefore, local breakage of the elastic portion of the relay board is suppressed, and as a result, the repeated use durability of the anisotropic conductive sheet is improved, so that the number of times of replacement of the relay board is reduced and the inspection work efficiency is improved.

また、本発明の回路基板の検査装置は、前記中継ピンユニットが、
前記第1の絶縁板と第2の絶縁板との間に所定間隔離間して配置された複数個の中間保持板と、
隣接する中間保持板同士の間に配置された保持板支持ピンと、
を備えるとともに、
少なくとも1つの中間保持板において、該中間保持板に対して一面側から当接する保持板支持ピンの該中間保持板に対する当接支持位置と、該中間保持板に対して他面側から当接する第1の支持ピン、第2の支持ピン、または保持板支持ピンの該中間保持板に対する当接支持位置とが、該中間保持板の厚さ方向に投影した中間保持板投影面において異なる位置に配置されていることを特徴とする。
In the circuit board inspection apparatus of the present invention, the relay pin unit is
A plurality of intermediate holding plates disposed at a predetermined interval between the first insulating plate and the second insulating plate;
Holding plate support pins arranged between adjacent intermediate holding plates;
With
In at least one intermediate holding plate, a holding support position of the holding plate support pin that contacts the intermediate holding plate from one surface side with respect to the intermediate holding plate, and a first surface that contacts the intermediate holding plate from the other surface side. The support support position of the first support pin, the second support pin, or the holding plate support pin with respect to the intermediate holding plate is arranged at a different position on the intermediate holding plate projection surface projected in the thickness direction of the intermediate holding plate. It is characterized by being.

このように構成することによって、これらの複数個の中間保持板によってバネ弾性がさらに発揮されることになり、被検査回路基板の被検査電極の高さバラツキに対して、圧力集中を分散させて局部的な応力集中をさらに回避することができ、中継基板の弾性部分の局部的な破損が抑制される。その結果、中継基板の繰り返し使用耐久性が向上するので、中継基板の交換回数が減り、検査作業効率が向上する。   With this configuration, the spring elasticity is further exhibited by the plurality of intermediate holding plates, and the pressure concentration is dispersed with respect to the height variation of the inspected electrode of the inspected circuit board. Local stress concentration can be further avoided, and local breakage of the elastic portion of the relay board is suppressed. As a result, since the repeated use durability of the relay board is improved, the number of times of replacement of the relay board is reduced, and the inspection work efficiency is improved.

また、本発明の回路基板の検査装置は、全ての前記中間保持板において、該中間保持板に対して一面側から当接する保持板支持ピンの該中間保持板に対する当接支持位置と、該中間保持板に対して他面側から当接する第1の支持ピン、第2の支持ピン、または保持板支持ピンの該中間保持板に対する当接支持位置とが、該中間保持板の厚さ方向に投影した中間保持板投影面において異なる位置に配置されていることを特徴とする。   Further, the circuit board inspection apparatus according to the present invention includes a contact support position of the support plate support pin that contacts the intermediate support plate from one surface side with respect to the intermediate support plate, and the intermediate support plate. A contact support position of the first support pin, the second support pin, or the holding plate support pin that contacts the holding plate from the other surface side with respect to the intermediate holding plate is in the thickness direction of the intermediate holding plate. It is arranged at different positions on the projected intermediate holding plate projection surface.

これによって、隣接する中間保持板の間で、保持板支持ピンの中間保持板との当接支持位置がずれた位置に配置されるので、これらの複数個の中間保持板のバネ弾性がさらに発揮されることになり、被検査回路基板の被検査電極の高さバラツキに対して圧力集中を分散させて、局部的な応力集中をさらに回避することができ、中継基板の弾性部分の局部的な破損が抑制される。その結果、中継基板の繰り返し使用耐久性が向上するので、中継基板の交換回数が減り、検査作業効率が向上する。   As a result, the abutting support position of the holding plate support pin with the intermediate holding plate is shifted between the adjacent intermediate holding plates, so that the spring elasticity of the plurality of intermediate holding plates is further exhibited. As a result, the pressure concentration can be dispersed with respect to the height variation of the inspected electrode of the circuit board to be inspected, and the local stress concentration can be further avoided, and the elastic portion of the relay substrate is locally damaged. It is suppressed. As a result, since the repeated use durability of the relay board is improved, the number of times of replacement of the relay board is reduced, and the inspection work efficiency is improved.

また、本発明の回路基板の検査装置は、前記第2の異方導電性シートが、厚み方向に延びる複数の導電路形成部と、これらの導電路形成部を互いに絶縁する絶縁部とからなり、導電性粒子が導電路形成部中にのみ含有され、これにより該導電性粒子は面方向に不均一に分散されるとともに、シート片面側に導電路形成部が突出していることを特徴とする。   In the circuit board inspection apparatus according to the present invention, the second anisotropic conductive sheet includes a plurality of conductive path forming portions extending in a thickness direction and insulating portions that insulate the conductive path forming portions from each other. The conductive particles are contained only in the conductive path forming portion, whereby the conductive particles are dispersed non-uniformly in the surface direction, and the conductive path forming portion protrudes on one side of the sheet. .

また、本発明の回路基板の検査装置は、前記第3の異方導電性シートが、厚み方向に延びる複数の導電路形成部と、これらの導電路形成部を互いに絶縁する絶縁部とからなり、導電性粒子が導電路形成部中にのみ含有され、これにより該導電性粒子は面方向に不均一に分散されるとともに、シート片面側に導電路形成部が突出していることを特徴とする。   In the circuit board inspection apparatus of the present invention, the third anisotropic conductive sheet includes a plurality of conductive path forming portions extending in a thickness direction and insulating portions that insulate these conductive path forming portions from each other. The conductive particles are contained only in the conductive path forming portion, whereby the conductive particles are dispersed non-uniformly in the surface direction, and the conductive path forming portion protrudes on one side of the sheet. .

このように、第2の異方導電性シートおよび第3の異方導電性シートとして、導電路形成部と絶縁部とからなり、導電性粒子が導電路形成部中にのみ含有されて面方向に不均一に分散され、シート片面側に導電路形成部が突出した偏在型の異方導電性シートを使用することにより、検査治具の押圧による加圧力や衝撃がこれらのシートで吸収され、これにより中継基板の弾性部分の劣化が抑制される。   As described above, the second anisotropic conductive sheet and the third anisotropic conductive sheet are composed of the conductive path forming portion and the insulating portion, and the conductive particles are contained only in the conductive path forming portion and are in the plane direction. By using the unevenly anisotropic anisotropic conductive sheet that is unevenly distributed and the conductive path forming part protrudes on one side of the sheet, the pressure and impact due to the pressing of the inspection jig are absorbed by these sheets, Thereby, deterioration of the elastic part of the relay substrate is suppressed.

本発明における一つの態様では、前記複数の導電ピンは、前記第1の絶縁板と第2の絶縁板との間の間隔よりも短い棒状の中央部と、該中央部の両端側に形成され該中央部よりも径が小さい一対の端部とからなり、
前記一対の端部がそれぞれ、前記第1の絶縁板と第2の絶縁板とに形成された前記中央部よりも径が小さく前記一対の端部よりも径が大きい貫通孔に挿通され、これにより、前記導電ピンが軸方向に移動可能に支持される。
In one aspect of the present invention, the plurality of conductive pins are formed on a rod-shaped central portion that is shorter than the distance between the first insulating plate and the second insulating plate, and on both ends of the central portion. It consists of a pair of end portions having a smaller diameter than the central portion,
The pair of end portions are respectively inserted through through-holes having a diameter smaller than that of the central portion formed in the first insulating plate and the second insulating plate and larger than that of the pair of end portions. Thus, the conductive pin is supported so as to be movable in the axial direction.

このように構成することで、導電ピンが、第1の絶縁板と第2の絶縁板との間に、軸方向に移動可能に、且つ脱落しないように保持することができる。
本発明における他の態様では、前記第1の絶縁板と中間保持板との間、前記第2の絶縁板と中間保持板との間、または中間保持板同士の間に、前記導電ピンが挿通される貫通孔が形成された屈曲保持板が設けられ、
前記複数の導電ピンは、前記第1および第2の絶縁板に形成された貫通孔と、前記屈曲保持板に形成された貫通孔とを支点として互いに逆方向に横方向へ押圧されて前記屈曲保持板の貫通孔の位置で屈曲され、これにより前記導電ピンが軸方向に移動可能に支持される。
With such a configuration, the conductive pin can be held between the first insulating plate and the second insulating plate so as to be movable in the axial direction and not to drop off.
In another aspect of the present invention, the conductive pin is inserted between the first insulating plate and the intermediate holding plate, between the second insulating plate and the intermediate holding plate, or between the intermediate holding plates. A bent holding plate in which a through hole is formed is provided,
The plurality of conductive pins are pressed laterally in opposite directions from each other with a through hole formed in the first and second insulating plates and a through hole formed in the bent holding plate as fulcrums. It is bent at the position of the through hole of the holding plate, and thereby the conductive pin is supported so as to be movable in the axial direction.

このように構成することで、導電ピンが、第1の絶縁板と第2の絶縁板との間に、軸方向に移動可能に、且つ脱落しないように保持することができる。さらに、導電ピンとして円柱状である簡易な構造のピンを使用できるため、導電ピンおよびそれを保持する部材の全体としてのコストを抑えることができる。   With such a configuration, the conductive pin can be held between the first insulating plate and the second insulating plate so as to be movable in the axial direction and not to drop off. Furthermore, since the pin having a simple structure having a cylindrical shape can be used as the conductive pin, the cost of the conductive pin and the member holding the conductive pin as a whole can be suppressed.

本発明の回路基板の検査方法は、前述した回路基板の検査装置を用いた回路基板の検査方法であって、
一対の第1の検査治具と第2の検査治具によって、両検査治具の間で検査対象である被検査回路基板の両面を挟圧して電気検査を行うことを特徴とする。
The circuit board inspection method of the present invention is a circuit board inspection method using the circuit board inspection apparatus described above,
The electrical inspection is performed by sandwiching both surfaces of the circuit board to be inspected between the two inspection jigs by the pair of the first inspection jig and the second inspection jig.

本発明によれば、検査対象である被検査回路基板が、例えば被検査電極の離間距離が50μm以下であるような、微細ピッチの微小電極を有するものであっても、信頼性の高い回路基板の電気的検査を行うことが可能である。   According to the present invention, a circuit board with high reliability can be obtained even if the circuit board to be inspected has fine electrodes with a fine pitch such that the distance between the electrodes to be inspected is 50 μm or less. It is possible to perform electrical inspection.

また、検査対象である被検査回路基板の被検査電極の高さバラツキに対する追従性が良好で、導通不良が発生せず、正確な検査を実施することが可能である。
また、一定間隔で導電ピンを配置する必要がないので、導電ピンを保持する絶縁板への貫通孔のドリル加工による穿設作業が少なく、コストを低減することができる。
In addition, the followability to the height variation of the inspected electrode of the inspected circuit board to be inspected is good, and no continuity failure occurs, and an accurate inspection can be performed.
Moreover, since there is no need to arrange the conductive pins at regular intervals, there is little drilling work by drilling through holes in the insulating plate holding the conductive pins, and the cost can be reduced.

また、高分解能で検査が可能であり、且つ、被検査回路基板の被検査電極による段差を良好に吸収できるとともに、繰り返し使用耐久性も高い。   In addition, the inspection can be performed with high resolution, and the step due to the inspection target electrode of the circuit board to be inspected can be absorbed well, and the repeated use durability is also high.

以下、図面を参照しながら本発明の実施形態について説明する。なお、以降の記述において、第1の検査治具と第2の検査治具における一対の同一の構成要素(例えば回路基板側コネクタ21aと回路基板側コネクタ21b、第1の異方導電性シート22aと第1の異方導電性シート22bなど)を総称する場合には、記号「a」、「b」を省略することがある(例えば、第1の異方導電性シート22aと第1の異方導電性シート22bとを総称して「第1の異方導電性シート22」と記述することがある)。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description, a pair of identical components in the first inspection jig and the second inspection jig (for example, the circuit board connector 21a and the circuit board connector 21b, the first anisotropic conductive sheet 22a). And the first anisotropic conductive sheet 22b, etc., the symbols “a” and “b” may be omitted (for example, the first anisotropic conductive sheet 22a and the first anisotropic conductive sheet 22b). The directionally conductive sheet 22b is sometimes collectively referred to as “first anisotropically conductive sheet 22”).

図1は、本発明の検査装置の実施形態を示した断面図、図2は、図1の検査装置の検査使用時における積層状態を示した断面図である。
この検査装置は、集積回路などを実装するためのプリント回路基板などの検査対象である被検査回路基板1において、被検査電極間の電気抵抗を測定することにより被検査回路基板の電気検査を行うものである。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an embodiment of the inspection apparatus of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view showing a laminated state when the inspection apparatus of FIG. 1 is used for inspection.
This inspection apparatus performs an electrical inspection of a circuit board to be inspected by measuring an electrical resistance between electrodes to be inspected in a circuit board 1 to be inspected such as a printed circuit board for mounting an integrated circuit or the like. Is.

そして、この検査装置には、図1および図2に示したように、被検査回路基板1の上面側に配置される第1の検査治具11aと、下面側に配置される第2の検査治具11bとが、上下に互いに対向するように配置されている。   In this inspection apparatus, as shown in FIGS. 1 and 2, the first inspection jig 11a disposed on the upper surface side of the circuit board 1 to be inspected and the second inspection jig disposed on the lower surface side. The jig 11b is disposed so as to face each other vertically.

第1の検査治具11aは、その両側に中継基板29aおよび異方導電性シート26aを備えた回路基板側コネクタ21aと、中継ピンユニット31aを備えている。また、第1の検査治具11aは、その中継ピンユニット31a側に第3の異方導電性シート42aが配置されるコネクタ基板43aと、ベース板46aとを備えたテスター側コネクタ41aを備えている。   The first inspection jig 11a includes a circuit board side connector 21a provided with a relay board 29a and an anisotropic conductive sheet 26a on both sides thereof, and a relay pin unit 31a. The first inspection jig 11a includes a tester-side connector 41a including a connector substrate 43a on which the third anisotropic conductive sheet 42a is disposed on the relay pin unit 31a side and a base plate 46a. Yes.

第2の検査治具11bも、第1の検査治具11aと同様に構成され、その両側に中継基板29bおよび異方導電性シート26bを備えた回路基板側コネクタ21bと、中継ピンユニット31bを備えている。また、第2の検査治具11bは、その中継ピンユニット31b側に異方導電性シート42bが配置されるコネクタ基板43bと、ベース板46bとを備えたテスター側コネクタ41bを備えている。   The second inspection jig 11b is configured similarly to the first inspection jig 11a, and includes a circuit board side connector 21b having a relay board 29b and an anisotropic conductive sheet 26b on both sides thereof, and a relay pin unit 31b. I have. The second inspection jig 11b includes a tester-side connector 41b including a connector substrate 43b on which the anisotropic conductive sheet 42b is disposed on the relay pin unit 31b side and a base plate 46b.

被検査回路基板1の上面には、被検査用の電極2が形成され、その下面にも被検査用の電極3が形成されており、これらは互いに電気的に接続されている。
回路基板側コネクタ21a,21bは、ピッチ変換用基板23a,23bと、その一方の面に配置される中継基板29a,29bと、他方の面に配置される第2の異方導電性シート26a,26bを有している。
An electrode 2 to be inspected is formed on the upper surface of the circuit board 1 to be inspected, and an electrode 3 to be inspected is also formed on the lower surface thereof, and these are electrically connected to each other.
The circuit board-side connectors 21a and 21b include pitch conversion boards 23a and 23b, relay boards 29a and 29b arranged on one side thereof, and second anisotropic conductive sheets 26a arranged on the other side. 26b.

図3は、ピッチ変換用基板の被検査回路基板側の表面を示した図、図4は、その中継ピンユニット側の表面を示した図、図5は、ピッチ変換用基板、中継基板および被検査回路基板を積層した状態を示した断面図である。   3 is a diagram showing the surface of the pitch conversion board on the circuit board side to be inspected, FIG. 4 is a diagram showing the surface on the relay pin unit side, and FIG. 5 is a diagram showing the pitch conversion board, relay board, and board to be tested. It is sectional drawing which showed the state which laminated | stacked the test circuit board.

ピッチ変換用基板23の一方の表面、すなわち、被検査回路基板1側には、図3に示したように、被検査回路基板1の電極2、3に電気的に接続される複数の接続用電極25が形成されている。これらの接続電極25は、被検査回路基板1の被検査電極2,3のパターンに対応するように配置されている。   On one surface of the pitch conversion substrate 23, that is, on the circuit board 1 side to be inspected, as shown in FIG. An electrode 25 is formed. These connection electrodes 25 are arranged so as to correspond to the patterns of the electrodes 2 and 3 to be inspected of the circuit board 1 to be inspected.

一方、ピッチ変換用基板23の他方の表面、すなわち、被検査回路基板1と反対側には、図4に示したように、中継ピンユニット31の導電ピン32a、32bに電気的に接続される複数の端子電極24が形成されている。これらの端子電極24は、例えば、2.54mm、1.8mm、1.27mm、1.06mm、0.8mm、0.75mm、0.5mm、0.45mm、0.3mmまたは0.2mmである一定ピッチの格子点上に配置されており、そのピッチは中継ピンユニットの導電ピン32a、32bの配置ピッチと同一である。   On the other hand, the other surface of the pitch conversion board 23, that is, the side opposite to the circuit board 1 to be inspected, is electrically connected to the conductive pins 32a and 32b of the relay pin unit 31, as shown in FIG. A plurality of terminal electrodes 24 are formed. These terminal electrodes 24 are, for example, 2.54 mm, 1.8 mm, 1.27 mm, 1.06 mm, 0.8 mm, 0.75 mm, 0.5 mm, 0.45 mm, 0.3 mm or 0.2 mm. They are arranged on lattice points having a constant pitch, and the pitch is the same as the arrangement pitch of the conductive pins 32a and 32b of the relay pin unit.

図3のそれぞれの接続電極25は、配線52および絶縁基板51の厚み方向に貫通する内部配線53(図5を参照)によって、対応する図4の端子電極24に電気的に接続されている。   Each connection electrode 25 in FIG. 3 is electrically connected to the corresponding terminal electrode 24 in FIG. 4 by a wiring 52 and an internal wiring 53 (see FIG. 5) penetrating in the thickness direction of the insulating substrate 51.

ピッチ変換用基板23の表面における絶縁部は、例えば、図5に示したように、絶縁基板51の表面に、それぞれの接続電極25が露出するように形成された絶縁層54で構成される。この絶縁層54の厚みは、好ましくは5〜100μm、より好ましくは10〜60μmである。この厚みが過小である場合、表面粗さが小さい絶縁層を形成することが困難となることがある。一方、この厚みが過大である場合、接続電極25と中継基板29の導電路形成部との電気的接続が困難となることがある。   For example, as shown in FIG. 5, the insulating portion on the surface of the pitch conversion substrate 23 includes an insulating layer 54 formed on the surface of the insulating substrate 51 so that the connection electrodes 25 are exposed. The thickness of the insulating layer 54 is preferably 5 to 100 μm, more preferably 10 to 60 μm. When this thickness is too small, it may be difficult to form an insulating layer having a small surface roughness. On the other hand, if this thickness is excessive, it may be difficult to electrically connect the connection electrode 25 and the conductive path forming portion of the relay substrate 29.

ピッチ変換用基板の絶縁基板51を形成する材料としては、一般にプリント回路基板の基材として使用されるものを用いることができる。具体的には、例えばポリイミド樹脂、ガラス繊維補強型ポリイミド樹脂、ガラス繊維補強型エポキシ樹脂、ガラス繊維補強型ビスマレイミドトリアジン樹脂などを挙げることができる。   As a material for forming the insulating substrate 51 of the pitch conversion substrate, a material generally used as a base material of a printed circuit board can be used. Specific examples include polyimide resins, glass fiber reinforced polyimide resins, glass fiber reinforced epoxy resins, glass fiber reinforced bismaleimide triazine resins, and the like.

図5の絶縁層54、55の形成材料としては、薄膜状に成形可能な高分子材料を用いることができる。その具体例としては、例えばエポキシ樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、これらの混合物、レジスト材料などを挙げることができる。   As a material for forming the insulating layers 54 and 55 in FIG. 5, a polymer material that can be formed into a thin film can be used. Specific examples thereof include an epoxy resin, an acrylic resin, a phenol resin, a polyimide resin, a polyamide resin, a mixture thereof, and a resist material.

ピッチ変換用基板23は、例えば、次のようにして製造することができる。まず、平板状の絶縁基板の両面に金属薄層を積層した積層材料を用意し、この積層材料に対して、形成すべき端子電極のパターンに対応し、積層材料の厚み方向に貫通する複数の貫通孔を、数値制御型ドリリング装置、フォトエッチング処理、レーザー加工処理などにより形成する。   The pitch conversion substrate 23 can be manufactured, for example, as follows. First, a laminated material in which a thin metal layer is laminated on both sides of a flat insulating substrate is prepared, and a plurality of layers that penetrates in the thickness direction of the laminated material corresponding to the pattern of terminal electrodes to be formed with respect to this laminated material. The through hole is formed by a numerically controlled drilling apparatus, a photo etching process, a laser processing process, or the like.

次いで、積層材料に形成された貫通孔内に無電解メッキおよび電解メッキを施すことによって、基板両面の金属薄層に連結されたバイアホールを形成する。その後、金属薄層に対してフォトエッチング処理を施すことにより、絶縁基板の表面に配線パターンおよび接続電極を形成するとともに、反対側の表面に端子電極を形成する。   Next, electroless plating and electrolytic plating are performed in the through holes formed in the laminated material to form via holes connected to the thin metal layers on both sides of the substrate. Thereafter, a photoetching process is performed on the thin metal layer to form a wiring pattern and connection electrodes on the surface of the insulating substrate, and to form terminal electrodes on the opposite surface.

そして、図5に示したように、絶縁基板51の表面に、それぞれの接続電極25が露出するように絶縁層54を形成するとともに、反対側の表面に、それぞれの端子電極24が露出するように絶縁層55を形成することにより、ピッチ変換用基板23が得られる。なお、絶縁層55の厚みは、好ましくは5〜100μm、より好ましくは10〜60μmである。   Then, as shown in FIG. 5, the insulating layer 54 is formed on the surface of the insulating substrate 51 so that the connection electrodes 25 are exposed, and the terminal electrodes 24 are exposed on the opposite surface. The pitch conversion substrate 23 is obtained by forming the insulating layer 55 on the substrate. The thickness of the insulating layer 55 is preferably 5 to 100 μm, more preferably 10 to 60 μm.

図6(a)は、中継基板の断面図、図6(b)は、その部分拡大断面図、図6(c)は、その部分上面図である。この中継基板29の基板73には、ピッチ変換用基板23の電極パターンに従って導電路形成部61が配置される多数の貫通孔が形成されている。この貫通孔内には、弾性高分子物質を埋設することにより絶縁部62が形成され、導電路形成部61が、この絶縁部76に囲まれるように貫通形成されている。絶縁部76は基板73の両側表面にも一体的に形成され、複数の貫通孔に連続している。   6A is a cross-sectional view of the relay substrate, FIG. 6B is a partially enlarged cross-sectional view thereof, and FIG. 6C is a partial top view thereof. The substrate 73 of the relay substrate 29 has a number of through holes in which the conductive path forming portions 61 are arranged according to the electrode pattern of the pitch conversion substrate 23. An insulating portion 62 is formed by embedding an elastic polymer material in the through hole, and the conductive path forming portion 61 is formed so as to be surrounded by the insulating portion 76. The insulating portion 76 is integrally formed on both side surfaces of the substrate 73 and is continuous with the plurality of through holes.

導電路形成部61には、絶縁性の弾性高分子物質中に磁性を示す導電性粒子が厚み方向に並ぶよう配向した状態で含有されている。
これに対し、絶縁部62は、導電性粒子を含有しない弾性高分子物質により形成されている。導電路形成部61を構成する弾性高分子物質と絶縁部62を構成する弾性高分子物質とは、互いに同じ種類のものであっても異なる種類のものであってもよい。
The conductive path forming portion 61 contains conductive particles exhibiting magnetism in an insulating elastic polymer material in an aligned state in the thickness direction.
On the other hand, the insulating portion 62 is formed of an elastic polymer material that does not contain conductive particles. The elastic polymer material constituting the conductive path forming portion 61 and the elastic polymer material constituting the insulating portion 62 may be of the same type or different types.

中継基板の基板73を形成する材料としては、具体的には、例えばガラス繊維補強型ポリイミド樹脂、ガラス繊維補強型エポキシ樹脂、ガラス繊維補強型ビスマレイミドトリアジン樹脂、等の複合樹脂材料、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアラミド樹脂、ポリアミド樹脂、ビスマレイミド・トリアジン樹脂、液晶ポリマー等の機械的強度の高い樹脂材料、ステンレス等の金属材料、フッ素樹脂繊維、アラミド繊維、ポリエチレン繊維、ポリアリレート繊維、ナイロン繊維、ポリエステル繊維、液晶ポリマー繊維等の有機繊維よりなるメッシュ、不織布、金属メッシュなどを挙げることができる。基板73の厚みは、形成材料にもよるが、好ましくは20〜200μm、より好ましくは30〜100μmである。   As a material for forming the substrate 73 of the relay substrate, specifically, a composite resin material such as a glass fiber reinforced polyimide resin, a glass fiber reinforced epoxy resin, a glass fiber reinforced bismaleimide triazine resin, a polyimide resin, Polyester resin, polyaramid resin, polyamide resin, bismaleimide / triazine resin, resin material with high mechanical strength such as liquid crystal polymer, metal material such as stainless steel, fluorine resin fiber, aramid fiber, polyethylene fiber, polyarylate fiber, nylon fiber, Examples thereof include meshes made of organic fibers such as polyester fibers and liquid crystal polymer fibers, nonwoven fabrics, and metal meshes. The thickness of the substrate 73 is preferably 20 to 200 μm, more preferably 30 to 100 μm, although it depends on the forming material.

この基板73に形成された多数の貫通孔のそれぞれに、接続用電極25に対応した導電路形成部61が配置される。例えば、4端子検査における電圧供給用電極27と電圧測定用電極28に対応した導電路形成部61の対が貫通孔のそれぞれに配置される。一つの貫通孔に配置される導電路形成部61の数は、特に限定されないが、好ましくは1〜4個であり、ピッチ変換用基板23の接続用電極25に対応して、基板73の各貫通孔毎に導電路形成部75の数が異なっていてもよい。   A conductive path forming portion 61 corresponding to the connection electrode 25 is disposed in each of a large number of through holes formed in the substrate 73. For example, a pair of conductive path forming portions 61 corresponding to the voltage supply electrode 27 and the voltage measurement electrode 28 in the four-terminal inspection is disposed in each of the through holes. The number of conductive path forming portions 61 arranged in one through hole is not particularly limited, but is preferably 1 to 4, and each of the substrates 73 corresponding to the connection electrodes 25 of the pitch conversion substrate 23 is provided. The number of conductive path forming portions 75 may be different for each through hole.

図示の例では、中継基板29の両面において、導電路形成部61が絶縁部62の表面から突出した突出部61aが形成されている。このように突出部61aを形成することによって、導電路形成部61に対する加圧による圧縮の程度が絶縁部62に対するそれよりも大きくなるため、導電路形成部61には充分に抵抗値の低い導電路が確実に形成され、加圧力の変化に対する抵抗値の変化を小さくすることができる。その結果、中継基板29のそれぞれの導電路形成部61に作用する加圧力が不均一であっても、各導電路形成部61間における導電性のバラツキを防止することができる。   In the example shown in the drawing, on both surfaces of the relay substrate 29, a protruding portion 61 a in which the conductive path forming portion 61 protrudes from the surface of the insulating portion 62 is formed. By forming the projecting portion 61a in this way, the degree of compression by pressurization on the conductive path forming portion 61 is larger than that on the insulating portion 62, and therefore the conductive path forming portion 61 has a sufficiently low resistance value. A path is reliably formed, and a change in resistance value with respect to a change in pressure can be reduced. As a result, even if the pressure applied to each conductive path forming portion 61 of the relay substrate 29 is not uniform, it is possible to prevent variation in conductivity between the conductive path forming portions 61.

導電路形成部61および絶縁部62を構成する弾性高分子物質としては、架橋構造を有する高分子物質が好ましい。このような弾性高分子物質を得るために用いることのできる硬化性の高分子物質形成材料の具体例としては、ポリブタジエンゴム、天然ゴム、ポリイソプレンゴム、スチレン−ブタジエン共重合体ゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体ゴムなどの共役ジエン系ゴムおよびこれらの水素添加物、スチレン−ブタジエン−ジエンブロック共重合体ゴム、スチレン−イソプレンブロック共重合体などのブロック共重合体ゴムおよびこれらの水素添加物、クロロプレン、ウレタンゴム、ポリエステル系ゴム、エピクロルヒドリンゴム、シリコーンゴム、エチレン−プロピレン共重合体ゴム、エチレン−プロピレン−ジエン共重合体ゴムなどが挙げられる。   As the elastic polymer material constituting the conductive path forming portion 61 and the insulating portion 62, a polymer material having a crosslinked structure is preferable. Specific examples of the curable polymer substance-forming material that can be used to obtain such an elastic polymer substance include polybutadiene rubber, natural rubber, polyisoprene rubber, styrene-butadiene copolymer rubber, and acrylonitrile-butadiene. Conjugated diene rubber such as copolymer rubber and hydrogenated products thereof, block copolymer rubber such as styrene-butadiene-diene block copolymer rubber, styrene-isoprene block copolymer and hydrogenated products thereof, chloroprene , Urethane rubber, polyester rubber, epichlorohydrin rubber, silicone rubber, ethylene-propylene copolymer rubber, ethylene-propylene-diene copolymer rubber, and the like.

中継基板29に耐候性が要求される場合には、共役ジエン系ゴム以外のものを用いることが好ましく、特に、成形加工性および電気特性の観点からシリコーンゴムを用いることが好ましい。シリコーンゴムとしては、液状シリコーンゴムを架橋または縮合したものが好ましい。液状シリコーンゴムは、その粘度が歪速度10-1secで105ポアズ以下で
あることが好ましく、縮合型のもの、付加型のもの、ビニル基やヒドロキシル基を含有するものなどのいずれであってもよい。具体的には、例えばジメチルシリコーン生ゴム、メチルビニルシリコーン生ゴム、メチルフェニルビニルシリコーン生ゴムなどを挙げることができる。
When the weather resistance is required for the relay substrate 29, it is preferable to use a material other than the conjugated diene rubber, and it is particularly preferable to use a silicone rubber from the viewpoint of moldability and electrical characteristics. As the silicone rubber, those obtained by crosslinking or condensing liquid silicone rubber are preferable. The liquid silicone rubber preferably has a viscosity of 10 5 poise or less at a strain rate of 10 −1 sec, and is any of a condensation type, an addition type, a vinyl group or a hydroxyl group-containing one. Also good. Specific examples include dimethyl silicone raw rubber, methyl vinyl silicone raw rubber, methyl phenyl vinyl silicone raw rubber, and the like.

また、シリコーンゴムは、その分子量Mw(標準ポリスチレン換算重量平均分子量をいう。)が10000〜40000であることが好ましい。また、耐熱性の点から、分子量分布指数(標準ポリスチレン換算重量平均分子量Mwと標準ポリスチレン換算数平均分子量Mnとの比Mw/Mnの値をいう。)が2以下であることが好ましい。   The silicone rubber preferably has a molecular weight Mw (referred to as a standard polystyrene equivalent weight average molecular weight) of 10,000 to 40,000. From the viewpoint of heat resistance, the molecular weight distribution index (referred to as the ratio Mw / Mn between the standard polystyrene equivalent weight average molecular weight Mw and the standard polystyrene equivalent number average molecular weight Mn) is preferably 2 or less.

導電路形成部61に含有される導電性粒子Pとしては、後述する方法により導電性粒子を容易に厚み方向に並ぶよう配向させることができることから、磁性を示す導電性粒子が用いられる。   As the conductive particles P contained in the conductive path forming portion 61, conductive particles exhibiting magnetism are used because the conductive particles can be easily aligned in the thickness direction by a method described later.

このような導電性粒子の具体例としては、鉄、コバルト、ニッケルなどの磁性を有する金属の粒子若しくはこれらの合金の粒子またはこれらの金属を含有する粒子、またはこれらの粒子を芯粒子とし、芯粒子の表面に金、銀、パラジウム、ロジウムなどの導電性の良好な金属のメッキを施したもの、あるいは非磁性金属粒子若しくはガラスビーズなどの無機物質粒子またはポリマー粒子を芯粒子とし、芯粒子の表面に、ニッケル、コバルトなどの導電性磁性金属のメッキを施したものなどが挙げられる。   Specific examples of such conductive particles include magnetic metal particles such as iron, cobalt and nickel, alloy particles thereof, particles containing these metals, or particles containing these metals as core particles. The surface of the particles is plated with a metal having good conductivity such as gold, silver, palladium, rhodium, or non-magnetic metal particles or inorganic particles such as glass beads or polymer particles. Examples thereof include a surface plated with a conductive magnetic metal such as nickel or cobalt.

これらの中では、ニッケル粒子を芯粒子とし、その表面に導電性の良好な金のメッキを施したものを用いることが好ましい。
芯粒子の表面に導電性金属を被覆する方法としては、例えば化学メッキ、電解メッキなどを挙げることができる。
Among these, it is preferable to use nickel particles as core particles and the surfaces thereof plated with gold having good conductivity.
Examples of the method for coating the surface of the core particles with the conductive metal include chemical plating and electrolytic plating.

導電性粒子として芯粒子の表面に導電性金属を被覆したものを用いる場合には、良好な導電性が得られる点から、粒子表面における導電性金属の被覆率(芯粒子の表面積に対する導電性金属の被覆面積の割合)が40%以上であることが好ましく、さらに好ましくは45%以上、特に好ましくは47〜95%である。   When using a conductive particle coated with a conductive metal on the surface of the core particle, the conductive metal coverage on the particle surface (the conductive metal relative to the surface area of the core particle is obtained from the point that good conductivity is obtained. Is preferably 40% or more, more preferably 45% or more, and particularly preferably 47 to 95%.

導電性金属の被覆量は、芯粒子の0.5〜50質量%であることが好ましく、より好ましくは2〜30質量%、さらに好ましくは3〜25質量%、特に好ましくは4〜20質量%である。被覆される導電性金属が金である場合には、その被覆量は、芯粒子の0.5〜30質量%であることが好ましく、より好ましくは2〜20質量%、さらに好ましくは3〜15質量%である。   The coating amount of the conductive metal is preferably 0.5 to 50% by mass of the core particles, more preferably 2 to 30% by mass, further preferably 3 to 25% by mass, and particularly preferably 4 to 20% by mass. It is. When the conductive metal to be coated is gold, the coating amount is preferably 0.5 to 30% by mass of the core particles, more preferably 2 to 20% by mass, and further preferably 3 to 15%. % By mass.

導電性粒子の粒子径は、1〜100μmであることが好ましく、より好ましくは2〜50μm、さらに好ましくは3〜30μm、特に好ましくは4〜20μmである。
導電性粒子Pの粒子径分布(Dw/Dn)は、1〜10であることが好ましく、より好ましくは1.01〜7、さらに好ましくは1.05〜5、特に好ましくは1.1〜4である。
The particle diameter of the conductive particles is preferably 1 to 100 μm, more preferably 2 to 50 μm, still more preferably 3 to 30 μm, and particularly preferably 4 to 20 μm.
The particle size distribution (Dw / Dn) of the conductive particles P is preferably 1 to 10, more preferably 1.01 to 7, still more preferably 1.05 to 5, particularly preferably 1.1 to 4. It is.

このような条件を満足する導電性粒子を用いることにより、得られる導電路形成部61は、加圧変形が容易なものとなり、また、導電路形成部61において導電性粒子間に十分な電気的接触が得られる。   By using the conductive particles satisfying such conditions, the obtained conductive path forming part 61 can be easily deformed under pressure, and the conductive path forming part 61 can have sufficient electrical conductivity between the conductive particles. Contact is obtained.

導電性粒子の形状は、特に限定されるものではないが、高分子物質形成材料中に容易に分散させることができる点で、球状のもの、星形状のものあるいはこれらが凝集した2次粒子であることが好ましい。   The shape of the conductive particles is not particularly limited, but spherical particles, star-shaped particles, or secondary particles in which these particles are aggregated in that they can be easily dispersed in the polymer substance-forming material. Preferably there is.

また、導電性粒子として、その表面がシランカップリング剤などのカップリング剤や潤滑剤で処理されたものを適宜用いることができる。カップリング剤や潤滑剤で粒子表面を処理することにより、異方導電性シートの耐久性が向上する。   Further, as the conductive particles, particles whose surfaces are treated with a coupling agent such as a silane coupling agent or a lubricant can be appropriately used. By treating the particle surface with a coupling agent or a lubricant, the durability of the anisotropic conductive sheet is improved.

このような導電性粒子は、導電路形成部中に体積分率で好ましくは15〜45%、より好ましくは20〜40%となる割合で含有される。この割合が過小である場合には、十分に電気抵抗値の小さい導電路形成部61が得られないことがある。一方、この割合が過大である場合には、得られる導電路形成部61は脆弱なものとなりやすく、導電路形成部61として必要な弾性が得られないことがある。   Such conductive particles are preferably contained in the conductive path forming part in a volume fraction of 15 to 45%, more preferably 20 to 40%. If this ratio is too small, the conductive path forming part 61 having a sufficiently small electric resistance value may not be obtained. On the other hand, when this ratio is excessive, the obtained conductive path forming part 61 is likely to be fragile, and the elasticity required for the conductive path forming part 61 may not be obtained.

導電路形成部61の厚みは、好ましくは20〜250μm、より好ましくは30〜200μmである。この厚み過小である場合、厚み方向の加圧に対する吸収能力が低くなる。一方、この厚み過大である場合、良好な導電性が得られないことがある。   The thickness of the conductive path forming part 61 is preferably 20 to 250 μm, more preferably 30 to 200 μm. When this thickness is too small, the absorption capability with respect to the pressurization of the thickness direction becomes low. On the other hand, when the thickness is excessive, good conductivity may not be obtained.

導電路形成部61における突出部61aの突出高さは、導電路形成部61の厚みの5〜70%であることが好ましく、より好ましくは10〜60%である。
以下に、中継基板29の製造方法の一例を説明する。先ず、導電路形成部61を形成する。
1.導電性エラストマー層の形成
先ず、硬化されて弾性高分子物質となる液状のエラストマー用材料中に磁性を示す導電性粒子が分散された導電性エラストマー用材料を調製する。そして、図7に示したように、導電路形成部を形成するための離型性支持板65上に、導電性エラストマー用材料を塗布することによって導電性エラストマー用材料層61Aを形成する。ここで、導電性エラストマー用材料層61A中には、図8に示したように、磁性を示す導電性粒子Pがランダムに分散された状態で含有されている。
The protruding height of the protruding portion 61a in the conductive path forming portion 61 is preferably 5 to 70% of the thickness of the conductive path forming portion 61, and more preferably 10 to 60%.
Below, an example of the manufacturing method of the relay substrate 29 is demonstrated. First, the conductive path forming part 61 is formed.
1. Formation of Conductive Elastomer Layer First, a conductive elastomer material in which conductive particles exhibiting magnetism are dispersed in a liquid elastomer material that is cured to become an elastic polymer substance is prepared. Then, as shown in FIG. 7, the conductive elastomer material layer 61 </ b> A is formed by applying the conductive elastomer material on the releasable support plate 65 for forming the conductive path forming portion. Here, as shown in FIG. 8, the conductive elastomer material layer 61 </ b> A contains conductive particles P exhibiting magnetism in a randomly dispersed state.

次いで、導電性エラストマー用材料層61Aに対してその厚み方向に磁場を作用させることにより、図9に示したように、導電性エラストマー用材料層61A中に分散されていた導電性粒子Pを、導電性エラストマー用材料層61Aの厚み方向に並ぶよう配向させる。   Next, by applying a magnetic field to the conductive elastomer material layer 61A in the thickness direction, the conductive particles P dispersed in the conductive elastomer material layer 61A as shown in FIG. The conductive elastomer material layer 61A is aligned in the thickness direction.

そして、導電性エラストマー用材料層61Aに対する磁場の作用を継続しながら、または、磁場の作用を停止した後に、導電性エラストマー用材料層61Aの硬化処理を行うことにより、図10に示したように、弾性高分子物質中に導電性粒子Pが厚み方向に並ぶよう配向した状態で含有された導電性エラストマー層61Bが、離型性支持板65上に支持された状態で形成される。   Then, after continuing the action of the magnetic field on the conductive elastomer material layer 61A or after stopping the action of the magnetic field, the curing process of the conductive elastomer material layer 61A is performed, as shown in FIG. The conductive elastomer layer 61B, which is contained in the elastic polymer material in a state in which the conductive particles P are aligned in the thickness direction, is formed in a state of being supported on the releasable support plate 65.

離型性支持板65を構成する材料としては、金属、セラミックス、樹脂およびこれらの複合材などを用いることができる。
導電性エラストマー用材料を塗布する方法としては、スクリーン印刷などの印刷法、ロール塗布法、ブレード塗布法などを利用することができる。
As a material constituting the releasable support plate 65, metals, ceramics, resins, composite materials thereof, and the like can be used.
As a method for applying the conductive elastomer material, a printing method such as screen printing, a roll coating method, a blade coating method, or the like can be used.

導電性エラストマー用材料層61Aの厚みは、形成すべき導電路形成部の厚みに応じて設定される。
導電性エラストマー用材料層61Aに磁場を作用させる手段としては、電磁石、永久磁石などを用いることができる。
The thickness of the conductive elastomer material layer 61A is set according to the thickness of the conductive path forming portion to be formed.
As means for applying a magnetic field to the conductive elastomer material layer 61A, an electromagnet, a permanent magnet, or the like can be used.

導電性エラストマー用材料層61Aに作用させる磁場の強度は、0.2〜2.5テスラとなる大きさが好ましい。
導電性エラストマー用材料層61Aの硬化処理は、通常、加熱処理によって行われる。具体的な加熱温度および加熱時間は、導電性エラストマー用材料層61Aを構成するエラストマー用材料の種類、導電性粒子の移動に要する時間などを考慮して適宜設定される。
The strength of the magnetic field applied to the conductive elastomer material layer 61A is preferably 0.2 to 2.5 Tesla.
The curing process of the conductive elastomer material layer 61A is usually performed by a heating process. The specific heating temperature and heating time are appropriately set in consideration of the type of elastomer material constituting the conductive elastomer material layer 61A, the time required to move the conductive particles, and the like.

この導電性エラストマー層61Bから、以下のようにして、ピッチ変換用基板23の接続用電極25に対応したパターンに従って複数の導電路形成部61を形成する。(図11〜図14)
2.導電路形成部61の形成
図11に示したように、離型性支持板65上に支持された導電性エラストマー層61Bの表面に、メッキ電極用の金属薄層66を形成する。
A plurality of conductive path forming portions 61 are formed from the conductive elastomer layer 61B according to a pattern corresponding to the connection electrode 25 of the pitch conversion substrate 23 as follows. (FIGS. 11-14)
2. Formation of Conductive Path Forming Unit 61 As shown in FIG. 11, a thin metal layer 66 for a plating electrode is formed on the surface of the conductive elastomer layer 61B supported on the releasable support plate 65.

次いで、図12に示したように、この金属薄層66上に、フォトリソグラフィーの手法により、形成すべき導電路形成部のパターン、すなわち接続すべき電極のパターンに対応する所定のパターンに従って、複数の開口67aが形成されたレジスト層67を形成する。   Then, as shown in FIG. 12, a plurality of conductive path forming portions to be formed on the thin metal layer 66 according to a predetermined pattern corresponding to the pattern of the conductive path forming portion to be formed, that is, the pattern of the electrode to be connected. The resist layer 67 having the openings 67a is formed.

その後、図13、図15(a)および図16(a)に示したように、金属薄層66をメッキ電極として、金属薄層66におけるレジスト層67の開口67aから露出した部分に電解メッキ処理を施すことにより、レジスト層67の開口67a内に金属マスク68を形成する。   Thereafter, as shown in FIGS. 13, 15A and 16A, the metal thin layer 66 is used as a plating electrode, and the portion exposed from the opening 67a of the resist layer 67 in the metal thin layer 66 is subjected to an electrolytic plating process. As a result, a metal mask 68 is formed in the opening 67 a of the resist layer 67.

次に、導電性エラストマー層61Bと、金属薄層66と、レジスト層67に対してレーザー加工を施すことにより、図15(b)および図16(b)に示したように、金属マスク68の周辺のレジスト層67と、金属薄層66と、導電性エラストマー層61Bとを除去する。これにより、所定のパターンに従って配置された複数の導電路形成部61が離型性支持板65上に支持された状態で形成される。   Next, the conductive elastomer layer 61B, the metal thin layer 66, and the resist layer 67 are subjected to laser processing, thereby forming the metal mask 68 as shown in FIGS. 15B and 16B. The peripheral resist layer 67, the metal thin layer 66, and the conductive elastomer layer 61B are removed. Thereby, the several conductive path formation part 61 arrange | positioned according to a predetermined pattern is formed in the state supported on the releasable support plate 65. FIG.

その後、導電路形成部61以外の導電性エラストマー層61Bを剥離除去することにより、図14、図15(c)および図16(c)に示したように、離型性支持板65上に導電路形成部61のみを残す。そして、導電路形成部61の表面から残存する金属薄層66と金属マスク68を剥離する。   Thereafter, the conductive elastomer layer 61B other than the conductive path forming portion 61 is peeled and removed, so that the conductive material is formed on the releasable support plate 65 as shown in FIGS. 14, 15 (c) and 16 (c). Only the path forming unit 61 is left. Then, the remaining thin metal layer 66 and the metal mask 68 are peeled off from the surface of the conductive path forming portion 61.

これにより、所定のパターンに従って配置された複数の導電路形成部61が、離型性支持板65上に支持された状態で形成される。
導電性エラストマー層61Bの表面に金属薄層66を形成する方法としては、無電解メッキ法、スパッタ法などを利用することができる。
Thereby, the several conductive path formation part 61 arrange | positioned according to a predetermined pattern is formed in the state supported on the releasable support plate 65. FIG.
As a method of forming the thin metal layer 66 on the surface of the conductive elastomer layer 61B, an electroless plating method, a sputtering method, or the like can be used.

金属薄層66を構成する材料としては、銅、金、アルミニウム、ロジウムなどを用いることができる。
金属薄層66の厚みは、0.05〜2μmであることが好ましく、より好ましくは0.1〜1μmである。この厚みが過小である場合には、均一な薄層が形成されず、メッキ電極として不適なものとなることがある。一方、この厚みが過大である場合には、レーザー加工によって除去することが困難となることがある。
As a material constituting the metal thin layer 66, copper, gold, aluminum, rhodium, or the like can be used.
The thickness of the metal thin layer 66 is preferably 0.05 to 2 μm, more preferably 0.1 to 1 μm. When this thickness is too small, a uniform thin layer is not formed, which may be inappropriate as a plating electrode. On the other hand, if this thickness is excessive, it may be difficult to remove by laser processing.

レジスト層67の厚みは、形成すべき金属マスク68の厚みに応じて設定される。
金属マスク68を構成する材料としては、銅、鉄、アルミウニム、金、ロジウムなどを用いることができる。
The thickness of the resist layer 67 is set according to the thickness of the metal mask 68 to be formed.
As a material constituting the metal mask 68, copper, iron, aluminum uni, gold, rhodium, or the like can be used.

金属マスク68の厚みは、2μm以上であることが好ましく、より好ましくは5〜20μmである。この厚みが過小である場合には、レーザーに対するマスクとして不適なものとなることがある。   The thickness of the metal mask 68 is preferably 2 μm or more, more preferably 5 to 20 μm. If this thickness is too small, it may be unsuitable as a mask for the laser.

レーザー加工は、炭酸ガスレーザーまたは紫外線レーザーによるものが好ましく、これにより、目的とする形態の導電路形成部61を確実に形成することができる。
第1の異方導電性シート22における導電路形成部61は、上述した方法の他に、以下の方法によって形成することができる。
1.複合フィルムの形成
図17に示したように、メッキ電極用の金属薄層66上に、フォトリソグラフィーの手法により、形成すべき導電路形成部のパターン、すなわち接続すべき電極のパターンに対応する所定のパターンに従って複数の開口67aが形成されたレジスト層67を形成する。
The laser processing is preferably performed using a carbon dioxide laser or an ultraviolet laser, whereby the conductive path forming portion 61 having a desired form can be reliably formed.
In addition to the method described above, the conductive path forming portion 61 in the first anisotropic conductive sheet 22 can be formed by the following method.
1. Formation of Composite Film As shown in FIG. 17, a predetermined pattern corresponding to the pattern of the conductive path forming portion to be formed, that is, the pattern of the electrode to be connected, is formed on the thin metal layer 66 for the plating electrode by a photolithography technique. A resist layer 67 having a plurality of openings 67a is formed according to the pattern.

その後、図18に示したように、金属薄層66をメッキ電極として、金属薄層66におけるレジスト層67の開口67aから露出した部分に電解メッキ処理を施すことにより、レジスト層67の開口67a内に金属マスク68を形成する。これにより、複合フィルム69が得られる。   After that, as shown in FIG. 18, by using the metal thin layer 66 as a plating electrode, a portion of the metal thin layer 66 exposed from the opening 67a of the resist layer 67 is subjected to electrolytic plating treatment, whereby the inside of the opening 67a of the resist layer 67 A metal mask 68 is formed on the substrate. Thereby, the composite film 69 is obtained.

ここで、金属薄層66としては、金属箔、金属板などを用いることができる。また、樹脂フィルムに一体化された金属箔や、無電解メッキ法、スパッタ法などにより樹脂フィルム上に形成した金属薄層などを用いることができる。   Here, as the thin metal layer 66, a metal foil, a metal plate, or the like can be used. Further, a metal foil integrated with a resin film, a thin metal layer formed on the resin film by an electroless plating method, a sputtering method, or the like can be used.

金属薄層66の材料としては、銅、金、アルミニウム、ロジウムなどを用いることができる。
金属薄層66の厚みは、0.05〜2μmであることが好ましく、より好ましくは0.1〜1μmである。この厚みが過小である場合には、均一な薄層が形成されず、メッキ電極として不適なものとなることがある。一方、この厚みが過大である場合には、レーザー加工によって除去することが困難となることがある。
As a material of the metal thin layer 66, copper, gold, aluminum, rhodium, or the like can be used.
The thickness of the metal thin layer 66 is preferably 0.05 to 2 μm, more preferably 0.1 to 1 μm. When this thickness is too small, a uniform thin layer is not formed, which may be inappropriate as a plating electrode. On the other hand, if this thickness is excessive, it may be difficult to remove by laser processing.

レジスト層67の厚みは、形成すべき金属マスク68の厚みに応じて設定される。
金属マスク68を構成する材料としては、磁性を示す金属が使用される。その具体例としては、ニッケル、コバルト、およびこれらの合金などを挙げることができる。
The thickness of the resist layer 67 is set according to the thickness of the metal mask 68 to be formed.
As a material constituting the metal mask 68, a metal exhibiting magnetism is used. Specific examples thereof include nickel, cobalt, and alloys thereof.

金属マスク68の厚みは、2μm以上であることが好ましく、より好ましくは5〜20μmである。この厚みが過小である場合には、レーザーに対するマスクとして不適なものとなることがある。
2.導電性エラストマー層の形成
先ず、硬化されて弾性高分子物質となる液状のエラストマー用材料中に磁性を示す導電性粒子が分散された導電性エラストマー用材料を調製する。そして、図19に示したように、導電路形成部を形成するための離型性支持板65上に、導電性エラストマー用材料を塗布することによって導電性エラストマー用材料層61Aを形成する。ここで、導電性エラストマー用材料層61A中は、磁性を示す導電性粒子Pがランダムに分散された状態で含有されている。
The thickness of the metal mask 68 is preferably 2 μm or more, more preferably 5 to 20 μm. If this thickness is too small, it may be unsuitable as a mask for the laser.
2. Formation of Conductive Elastomer Layer First, a conductive elastomer material in which conductive particles exhibiting magnetism are dispersed in a liquid elastomer material that is cured to become an elastic polymer substance is prepared. Then, as shown in FIG. 19, a conductive elastomer material layer 61A is formed by applying a conductive elastomer material on a releasable support plate 65 for forming a conductive path forming portion. Here, the conductive elastomer material layer 61A contains the conductive particles P exhibiting magnetism in a randomly dispersed state.

次いで、複合フィルム69を、その金属薄層66が形成されていない側の面が導電性エラストマー用材料層61Aに接するようにして積層する。
その後、導電性エラストマー用材料層61Aに対してその厚み方向に磁場を作用させることにより、図21に示したように、分散されていた導電性粒子Pを、磁性を示す金属からなる金属マスク68の部分に集中させると共に、厚み方向に並ぶように配向させる。磁性を示す金属からなる金属マスク68の作用により、金属マスク68の領域における磁場の強度が強くなるので、導電性粒子Pが金属マスク68の部分に集中しつつ配向がなされる。これにより、導電性エラストマー用材料層61Aにおいて、金属マスク68の部分における導電性粒子Pの密度が高くなり、金属マスク68が形成されていない部分では導電性粒子の密度が低くなる。
Next, the composite film 69 is laminated so that the surface on which the metal thin layer 66 is not formed is in contact with the conductive elastomer material layer 61A.
Thereafter, by applying a magnetic field in the thickness direction to the conductive elastomer material layer 61A, as shown in FIG. 21, the dispersed conductive particles P are converted into a metal mask 68 made of a metal exhibiting magnetism. And are aligned so as to be aligned in the thickness direction. Due to the action of the metal mask 68 made of a metal exhibiting magnetism, the strength of the magnetic field in the region of the metal mask 68 is increased, so that the conductive particles P are oriented while concentrating on the metal mask 68 portion. Thereby, in the conductive elastomer material layer 61A, the density of the conductive particles P in the portion of the metal mask 68 is high, and the density of the conductive particles is low in the portion where the metal mask 68 is not formed.

そして、導電性エラストマー用材料層61Aに対する磁場の作用を継続しながら、または、磁場の作用を停止した後に、導電性エラストマー用材料層61Aの硬化処理を行うことにより、図22に示したように、弾性高分子物質中に導電性粒子Pが厚み方向に並ぶよう配向した状態で含有された導電性エラストマー層61Bが、離型性支持板65上に支持された状態で形成される。   Then, while continuing the action of the magnetic field on the conductive elastomer material layer 61A or after stopping the action of the magnetic field, the curing process of the conductive elastomer material layer 61A is performed, as shown in FIG. The conductive elastomer layer 61B, which is contained in the elastic polymer material in a state in which the conductive particles P are aligned in the thickness direction, is formed in a state of being supported on the releasable support plate 65.

離型性支持板65を構成する材料、導電性エラストマー用材料を塗布する方法、導電性エラストマー用材料層61Aの厚み、導電性エラストマー用材料層61Aに磁場を作用させるときの条件等は、前述した導電路形成部の形成方法において説明したとおりである。   The material constituting the releasable support plate 65, the method of applying the conductive elastomer material, the thickness of the conductive elastomer material layer 61A, the conditions for applying a magnetic field to the conductive elastomer material layer 61A, etc. are as described above. This is as described in the method for forming the conductive path forming portion.

その後、図23に示したように、この導電性エラストマー層61Bの表面に一体化された金属薄層66を除去する。金属薄層66の除去は、エッチング、機械的剥離、機械的研磨等により行うことができる。
2.導電路形成部61の形成
この導電性エラストマー層61Bから、前述した方法に準じて、ピッチ変換用基板23の接続用電極25に対応したパターンに従って複数の導電路形成部61を形成する。すな
わち、導電性エラストマー層61Bとレジスト層67に対してレーザー加工を施すことにより、金属マスク68の周辺のレジスト層67と導電性エラストマー層61Bとを除去する。これにより、所定のパターンに従って配置された複数の導電路形成部61が離型性支持板65上に支持された状態で形成される。
Thereafter, as shown in FIG. 23, the thin metal layer 66 integrated on the surface of the conductive elastomer layer 61B is removed. The metal thin layer 66 can be removed by etching, mechanical peeling, mechanical polishing, or the like.
2. Formation of Conductive Path Forming Unit 61 From the conductive elastomer layer 61B, a plurality of conductive path forming units 61 are formed according to a pattern corresponding to the connection electrode 25 of the pitch conversion substrate 23 in accordance with the method described above. That is, by performing laser processing on the conductive elastomer layer 61B and the resist layer 67, the resist layer 67 and the conductive elastomer layer 61B around the metal mask 68 are removed. Thereby, the several conductive path formation part 61 arrange | positioned according to a predetermined pattern is formed in the state supported on the releasable support plate 65. FIG.

その後、導電路形成部61以外の導電性エラストマー層61Bを剥離除去することにより、図24に示したように、離型性支持板65上に導電路形成部61のみを残す。そして、導電路形成部61の表面から残存する金属マスク68を剥離する。   Thereafter, the conductive elastomer layer 61B other than the conductive path forming portion 61 is peeled and removed, so that only the conductive path forming portion 61 is left on the releasable support plate 65 as shown in FIG. Then, the remaining metal mask 68 is peeled off from the surface of the conductive path forming portion 61.

レーザー加工は、炭酸ガスレーザーまたは紫外線レーザーによるものが好ましく、これにより、目的とする形態の導電路形成部61を確実に形成することができる。
以上のようにして得られた、離型性支持板65上に形成された複数の導電路形成部61を用いて、以下の工程によって中継基板29を得る。先ず、図25(a)に示したように、離型性支持板70を用意し、この離型性支持板70の表面に、硬化されて絶縁性の弾性高分子物質となる液状の絶縁部用材料層62Aを印刷法などにより形成する。
The laser processing is preferably performed using a carbon dioxide laser or an ultraviolet laser, whereby the conductive path forming portion 61 having a desired form can be reliably formed.
The relay substrate 29 is obtained by the following steps using the plurality of conductive path forming portions 61 formed on the releasable support plate 65 obtained as described above. First, as shown in FIG. 25A, a releasable support plate 70 is prepared, and a liquid insulating portion that is cured to become an insulating elastic polymer material on the surface of the releasable support plate 70. The material layer 62A is formed by a printing method or the like.

次いで、図25(b)に示したように、絶縁部用材料層62Aの上に、貫通孔を有する基板73を載置する。そして基板73の上面側から、硬化されて絶縁性の弾性高分子物質となる液状のエラストマー用材料を、印刷法などによって基板73の貫通孔75内に充填する。さらに、エラストマー用材料を基板73の表面に塗布することにより、図25(c)に示したように基板73の両側表面および貫通孔75に一体に形成された絶縁部用材料層62Aを得る。   Next, as shown in FIG. 25B, a substrate 73 having a through hole is placed on the insulating material layer 62A. Then, from the upper surface side of the substrate 73, a liquid elastomer material that is cured and becomes an insulating elastic polymer substance is filled into the through holes 75 of the substrate 73 by a printing method or the like. Further, by applying an elastomer material to the surface of the substrate 73, an insulating portion material layer 62A integrally formed on both side surfaces of the substrate 73 and the through holes 75 is obtained as shown in FIG.

次いで、図26(a)に示したように、複数の導電路形成部61が形成された離型性支持板65を、基板73が載置され、その両側表面および貫通孔75内に絶縁部用材料層62Aが形成された離型性支持板70上に重ね合わせることにより、導電路形成部61の各々を離型性支持板70に接触させる。これにより、導電路形成部61の周囲に絶縁部用材料層62Aが形成された状態となる。   Next, as shown in FIG. 26A, the releasable support plate 65 on which the plurality of conductive path forming portions 61 are formed is placed on the substrate 73, and the insulating portions are provided on both side surfaces and in the through holes 75. Each of the conductive path forming portions 61 is brought into contact with the releasable support plate 70 by being superimposed on the releasable support plate 70 on which the material layer 62A is formed. As a result, the insulating material layer 62 </ b> A is formed around the conductive path forming portion 61.

次いで図26(b)に示したように、離型性支持板65を加圧することにより導電路形成部61を圧縮し、絶縁部用材料層62Aの硬化処理を行う。硬化処理後、離型性支持板65および離型性支持板70による圧力を開放し、離型性支持板65および離型性支持板70から離型させることにより、導電路形成部61の両端部を絶縁部62から突出させる。これにより、図26(c)に示したように、隣接する一対の導電路形成部61,61を相互に絶縁する絶縁部62が、導電路形成部61と一体的に形成され、導電路形成部61が絶縁部62の表面より突出した中継基板29が得られる。   Next, as shown in FIG. 26B, the conductive path forming portion 61 is compressed by pressurizing the releasable support plate 65, and the insulating portion material layer 62A is cured. After the curing treatment, both ends of the conductive path forming portion 61 are released by releasing the pressure from the releasable support plate 65 and the releasable support plate 70 and releasing from the releasable support plate 65 and the releasable support plate 70. The part protrudes from the insulating part 62. As a result, as shown in FIG. 26C, an insulating portion 62 that insulates a pair of adjacent conductive path forming portions 61, 61 from each other is formed integrally with the conductive path forming portion 61, thereby forming a conductive path. The relay substrate 29 in which the part 61 protrudes from the surface of the insulating part 62 is obtained.

なお、図26(d)に示したように、導電路形成部61の先端部に、金属膜64を形成してもよい。この金属膜64は、同図のように導電路形成部61における両側の先端部に形成してもよく、あるいは導電路形成部61におけるいずれか一方の片側の先端部に形成してもよい。このような金属膜は、例えば金属メッキによる方法、スパッタ法などによる蒸着、金属プレートを接着剤によって導電路形成部61の先端部に貼付する方法など、公知である各種の方法で形成できる。   As shown in FIG. 26D, a metal film 64 may be formed at the tip of the conductive path forming portion 61. The metal film 64 may be formed at the tip portions on both sides of the conductive path forming portion 61 as shown in the figure, or may be formed at the tip portion on one side of the conductive path forming portion 61. Such a metal film can be formed by various known methods such as a metal plating method, a vapor deposition method using a sputtering method, or a method in which a metal plate is attached to the tip of the conductive path forming unit 61 with an adhesive.

離型性支持板70を構成する材料としては、導電路形成部61を形成するための離型性支持板65と同様のものを用いることができる。
絶縁部用材料層62Aに用いられるエラストマー用材料を塗布する方法としては、スクリーン印刷などの印刷法、ロール塗布法、ブレード塗布法などを挙げることができる。
As a material constituting the releasable support plate 70, the same material as the releasable support plate 65 for forming the conductive path forming portion 61 can be used.
Examples of the method for applying the elastomer material used for the insulating portion material layer 62A include a printing method such as screen printing, a roll coating method, and a blade coating method.

絶縁部用材料層62Aの厚みは、形成すべき絶縁部62の厚みに応じて設定される。
絶縁部用材料層62A硬化処理は、通常、加熱処理によって行われる。具体的な加熱温度および加熱時間は、絶縁部用材料層62Aを構成するエラストマー材料の種類などを考慮して適宜設定される。
The thickness of the insulating part material layer 62A is set according to the thickness of the insulating part 62 to be formed.
The insulating part material layer 62A curing process is usually performed by heat treatment. The specific heating temperature and heating time are appropriately set in consideration of the type of elastomer material constituting the insulating portion material layer 62A.

基板73の貫通孔は、数値制御型ドリリング装置、フォトエッチング処理、レーザー加工処理などにより形成することができる。
以上に説明した中継基板の製造方法によれば、導電性粒子Pが厚み方向に並ぶよう配向した状態で分散された導電性エラストマー層61Aに対してレーザー加工を施してその一部を除去することによって目的とする形状の導電路形成部61を形成している。
The through hole of the substrate 73 can be formed by a numerically controlled drilling apparatus, a photo etching process, a laser processing process, or the like.
According to the relay substrate manufacturing method described above, laser processing is performed on the conductive elastomer layer 61A dispersed in a state where the conductive particles P are aligned in the thickness direction, and a part thereof is removed. Thus, the conductive path forming portion 61 having a desired shape is formed.

従って、所要の量の導電性粒子Pが充填され、所期の導電性を有する導電路形成部61が形成された中継基板29を確実に得ることができる。
また、磁性を示す金属からなる金属マスクを用いて導電性エラストマー用材料層61Aに対して磁場配向を行う方法を適用することにより、金属マスクが形成されていない部分の導電性粒子の密度が小さくなる。そのため、レーザー加工による導電路形成部の形成が容易になる。さらに、厚みの大きい導電性エラストマー層61Bのレーザー加工が容易となるため、厚みの大きい導電路形成部61を確実に得ることができる。
Therefore, it is possible to reliably obtain the relay substrate 29 filled with the required amount of the conductive particles P and having the conductive path forming portion 61 having the desired conductivity.
Further, by applying a magnetic field orientation method to the conductive elastomer material layer 61A using a metal mask made of metal exhibiting magnetism, the density of the conductive particles in the portion where the metal mask is not formed is reduced. Become. Therefore, the formation of the conductive path forming portion by laser processing becomes easy. Furthermore, since the laser processing of the conductive elastomer layer 61B having a large thickness is facilitated, the conductive path forming portion 61 having a large thickness can be reliably obtained.

また、ピッチ変換用基板23の接続用電極25に対応する所定のパターンに従って離型性支持板65上に配置された複数の導電路形成部61を形成し、これらの導電路形成部61の間に、未硬化状態のエラストマー用材料層62Aを形成して硬化処理することにより、絶縁部62を形成している。   In addition, a plurality of conductive path forming portions 61 arranged on the releasable support plate 65 are formed according to a predetermined pattern corresponding to the connection electrodes 25 of the pitch conversion substrate 23, and the space between these conductive path forming portions 61 is formed. Further, the insulating portion 62 is formed by forming an uncured elastomer material layer 62A and performing a curing process.

これにより、導電性粒子Pが全く存在しない絶縁部62が形成された第1の異方導電性シート22を確実に得ることができる。
しかも、従来の異方導電性シートを製造するために使用されていた、多数の強磁性体部が配列された高価な金型が不要である。
Thereby, the 1st anisotropic conductive sheet 22 in which the insulating part 62 in which the electroconductive particle P does not exist at all was formed can be obtained reliably.
And the expensive metal mold | die with which many ferromagnetic parts were used which was used in order to manufacture the conventional anisotropic conductive sheet is unnecessary.

従って、このような方法によって得られる中継基板29によれば、検査対象である被検査回路基板の検査電極の配置パターンに関わらず、被検査電極の各々に対して所要の電気的接続を確実に達成することができる。   Therefore, according to the relay substrate 29 obtained by such a method, the required electrical connection can be reliably made to each of the electrodes to be inspected regardless of the arrangement pattern of the inspection electrodes of the circuit board to be inspected. Can be achieved.

また、被検査電極が、そのピッチが微小で高密度に配置されている場合であっても、被検査電極の各々に対して所要の電気的接続を確実に達成することができ、しかも、製造コストの低減化を図ることができ、さらに高い耐久性が得られる。   Further, even when the electrodes to be inspected are arranged in a small pitch and at a high density, it is possible to reliably achieve the required electrical connection to each of the electrodes to be inspected, and to manufacture the electrodes. Costs can be reduced and higher durability can be obtained.

図5は、ピッチ変換用基板、中継基板および被検査回路基板を積層した状態を示した断面図である。同図では、4端子検査を行う場合の例を示している。図示したように、被検査回路基板1とピッチ変換用基板23との間に中継基板29が配置されている。   FIG. 5 is a cross-sectional view showing a state in which a pitch conversion substrate, a relay substrate, and a circuit board to be inspected are stacked. In the figure, an example in which a four-terminal inspection is performed is shown. As shown in the figure, a relay board 29 is arranged between the circuit board 1 to be inspected and the pitch conversion board 23.

ピッチ変換用基板23の表面には、それぞれ同一の被検査電極に電気的に接続される互いに離間して配置された電流供給用の電流供給用電極27および電圧測定用の電圧測定用電極28からなる接続用電極25が形成されている。   On the surface of the pitch conversion substrate 23, current supply electrodes 27 for current supply and voltage measurement electrodes 28 for voltage measurement, which are spaced apart from each other and electrically connected to the same electrode to be inspected, respectively. The connecting electrode 25 is formed.

ピッチ変換用基板23の電流供給用電極27および電圧測定用電極28に対応して、中継基板29の1つの貫通孔内には、一対の導電路形成部61が形成されている。この一対の導電路形成部61,61は、その一端側で電流供給用電極27および電圧測定用電極28と電気的に接続され、他端側で被検査回路基板1の被検査電極2と電気的に接続され、この状態で電気検査が行われる。   A pair of conductive path forming portions 61 are formed in one through hole of the relay substrate 29 corresponding to the current supply electrode 27 and the voltage measurement electrode 28 of the pitch conversion substrate 23. The pair of conductive path forming portions 61 and 61 are electrically connected to the current supply electrode 27 and the voltage measurement electrode 28 on one end side, and electrically connected to the test electrode 2 on the circuit board 1 to be tested on the other end side. The electrical inspection is performed in this state.

中継基板29の片面側もしくは両面側には、分散型異方導電性シートを配置するようにしてもよい。本発明では中継基板29を備えているので、分解能を損なわない薄い分散型異方導電性シートを用いても、被検査回路基板1の電極による局部的な応力集中が充分に緩和される。図27は、分散型異方導電性シートを配置した例を示した断面図であり、図27(a)では、ピッチ変換用基板23と中継基板29との間に分散型異方導電性シートである第1の異方導電性シート22を配置し、ピッチ変換用基板23の電流供給用電極27および電圧測定用電極28と、中継基板29の一対の導電路形成部61,61とを、第1の異方導電性シート22を介して電気的に接続している。   A dispersive anisotropic conductive sheet may be disposed on one side or both sides of the relay substrate 29. In the present invention, since the relay substrate 29 is provided, local stress concentration due to the electrodes of the circuit board 1 to be inspected is sufficiently relieved even if a thin dispersed anisotropic conductive sheet that does not impair the resolution is used. FIG. 27 is a cross-sectional view showing an example in which a dispersive anisotropic conductive sheet is arranged. In FIG. 27A, the dispersive anisotropic conductive sheet is disposed between the pitch conversion substrate 23 and the relay substrate 29. The first anisotropic conductive sheet 22 is disposed, the current supply electrode 27 and the voltage measurement electrode 28 of the pitch conversion substrate 23, and the pair of conductive path forming portions 61 and 61 of the relay substrate 29, The first anisotropic conductive sheet 22 is electrically connected.

図27(b)では、中継基板29の両面側に分散型異方導電性シートである第1の異方導電性シート22,22を配置し、ピッチ変換用基板23の電流供給用電極27および電圧測定用電極28と、中継基板29の一対の導電路形成部61,61とを、第1の異方導電性シート22を介して電気的に接続するとともに、被検査回路基板1の被検査電極2と、中継基板29の一対の導電路形成部61,61とを、第1の異方導電性シート22を介して電気的に接続している。   In FIG. 27 (b), the first anisotropic conductive sheets 22 and 22 which are dispersive anisotropic conductive sheets are arranged on both sides of the relay substrate 29, and the current supply electrodes 27 of the pitch conversion substrate 23 and The voltage measuring electrode 28 and the pair of conductive path forming portions 61 and 61 of the relay substrate 29 are electrically connected via the first anisotropic conductive sheet 22 and the circuit board 1 to be inspected is inspected. The electrode 2 and the pair of conductive path forming portions 61 and 61 of the relay substrate 29 are electrically connected via the first anisotropic conductive sheet 22.

回路基板側コネクタ21を構成し、中継基板29に隣接して配置される第1の異方導電性シート22は、図28に示したように、絶縁性の弾性高分子物質からなるシート基材63中に多数の導電性粒子Pが面方向に分散されるとともに厚み方向に配列した状態で含有されている。   As shown in FIG. 28, the first anisotropic conductive sheet 22 constituting the circuit board side connector 21 and disposed adjacent to the relay board 29 is a sheet base material made of an insulating elastic polymer material. 63 contains a large number of conductive particles P dispersed in the plane direction and arranged in the thickness direction.

第1の異方導電性シート22の厚みは、好ましくは20〜200μm、より好ましくは30〜100μmである。この最小厚みが20μm未満である場合には、第1の異方導電性シート22の機械的強度が低くなり易く、必要な耐久性が得られないことがある。一方、この第1の異方導電性シート22の厚みが200μmを超える場合には、厚み方向の電気抵抗が大きくなり易く、また、接続すべき電極のピッチが小さい場合には、加圧により形成される導電路間において所要の絶縁性が得られず、被検査電極間で電気的な短絡が生じて検査対象回路基板の電気的検査が困難となることがある。   The thickness of the first anisotropic conductive sheet 22 is preferably 20 to 200 μm, more preferably 30 to 100 μm. When the minimum thickness is less than 20 μm, the mechanical strength of the first anisotropic conductive sheet 22 tends to be low, and the required durability may not be obtained. On the other hand, when the thickness of the first anisotropic conductive sheet 22 exceeds 200 μm, the electric resistance in the thickness direction tends to increase, and when the pitch of electrodes to be connected is small, it is formed by pressurization. In some cases, the required insulation cannot be obtained between the conductive paths, and an electrical short circuit occurs between the electrodes to be inspected, making it difficult to electrically inspect the circuit board to be inspected.

第1の異方導電性シート22のシート基材63を構成する弾性高分子物質は、そのデュロメータ硬さが好ましくは30〜90であり、より好ましくは35〜80、さらに好ましくは40〜70である。なお、ここで「デュロメータ硬さ」とは、JIS K6253の
デュロメータ硬さ試験に基づいてタイプAデュロメータによって測定されたものをいう。
The elastic polymer material constituting the sheet base 63 of the first anisotropic conductive sheet 22 preferably has a durometer hardness of 30 to 90, more preferably 35 to 80, and still more preferably 40 to 70. is there. Here, “durometer hardness” means that measured by a type A durometer based on the durometer hardness test of JIS K6253.

弾性高分子物質のデュロメータ硬さが30未満である場合、厚み方向に押圧された際に、異方導電性シートの圧縮、変形が大きく、大きな永久歪みが生じるため、異方導電性シートが早期に劣化して検査使用が困難となり耐久性が低くなり易い。   When the durometer hardness of the elastic polymer material is less than 30, the anisotropic conductive sheet is compressed and deformed greatly when pressed in the thickness direction, and a large permanent distortion occurs. It becomes difficult to use for inspection due to deterioration and durability tends to be lowered.

一方、弾性高分子物質のデュロメータ硬さが90を超える場合、異方導電性シートが厚み方向に押圧された際に、厚み方向の変形量が不十分となるため、良好な接続信頼性が得られず、接続不良が発生し易くなる。   On the other hand, when the durometer hardness of the elastic polymer material is more than 90, when the anisotropic conductive sheet is pressed in the thickness direction, the deformation amount in the thickness direction becomes insufficient, so that good connection reliability is obtained. This is likely to cause a connection failure.

第1の異方導電性シート22の基材を構成する弾性高分子物質としては、上記のデュロメータ硬さを示すものであれば特に限定されないが、形成加工性および電気特性の観点から、シリコーンゴムを用いることが好ましい。   The elastic polymer material constituting the base material of the first anisotropic conductive sheet 22 is not particularly limited as long as it exhibits the durometer hardness described above. From the viewpoint of forming processability and electrical properties, silicone rubber Is preferably used.

第1の異方導電性シート22は、その厚みW1(μm)と、磁性導電性粒子の数平均粒
子径D1(μm)との比率W1/D1が1.1〜10であることが好ましい。ここで、「磁
性導電性粒子の数平均粒子径」とは、レーザー回折散乱法によって測定されたものをいう。比率W1/D1が1.1未満である場合、異方導電性シートの厚みに対して磁性導電性粒
子の直径が同等あるいはそれよりも大きくなるため、この異方導電性シートはその弾性が低くなり、このため、この異方導電性シートを被検査回路基板側に配置する際に被検査回路基板が傷つきやすくなる。
The first anisotropic conductive sheet 22 has a ratio W 1 / D 1 of 1.1 to 10 between its thickness W 1 (μm) and the number average particle diameter D 1 (μm) of the magnetic conductive particles. It is preferable. Here, the “number average particle diameter of the magnetic conductive particles” means that measured by a laser diffraction scattering method. When the ratio W 1 / D 1 is less than 1.1, the diameter of the magnetic conductive particles is equal to or larger than the thickness of the anisotropic conductive sheet. For this reason, the circuit board to be inspected is easily damaged when the anisotropic conductive sheet is disposed on the circuit board to be inspected side.

一方、比率W1/D1が10を超える場合には、厚み方向に多数の導電性粒子が配列して連鎖が形成されるので、多数の導電性粒子同士の接点が存在し、電気的抵抗値が高くなり易い。 On the other hand, when the ratio W 1 / D 1 exceeds 10, since a large number of conductive particles are arranged in the thickness direction to form a chain, there are contacts between the large number of conductive particles, and the electrical resistance The value tends to be high.

磁性導電性粒子としては、異方導電性シートを形成するためのシート成形材料中において、磁性導電性粒子を磁場の作用によって容易に移動させることができる点から、その飽和磁化が好ましくは0.1Wb/m2 以上、より好ましくは0.3Wb/m2 以上、特に好ましくは0.5Wb/m2 以上のものが使用される。 The magnetic conductive particles preferably have a saturation magnetization of 0. 0 because the magnetic conductive particles can be easily moved by the action of a magnetic field in the sheet molding material for forming the anisotropic conductive sheet. 1 Wb / m 2 or more, more preferably 0.3Wb / m 2 or more, and especially preferably 0.5 Wb / m 2 or more.

飽和磁化が0.1Wb/m2 以上であることにより、その製造工程において磁性導電性粒子を磁場の作用によって確実に移動させて所望の配向状態とすることができるため、異方導電性シートを使用する際に磁性導電性粒子の連鎖を形成することができる。 Since the saturation magnetization is 0.1 Wb / m 2 or more, the magnetic conductive particles can be reliably moved by the action of a magnetic field in the production process to obtain a desired orientation state. When used, a chain of magnetic conductive particles can be formed.

磁性導電性粒子の具体例としては、鉄、ニッケル、コバルトなどの磁性を示す金属の粒子もしくはこれらの合金の粒子またはこれらの金属を含有する粒子、あるいはこれらの粒子を芯粒子とし、この芯粒子の表面に高導電性金属を被覆した複合粒子、あるいは非磁性金属粒子もしくはガラスビーズなどの無機物質粒子またはポリマー粒子を芯粒子とし、この芯粒子の表面に、高導電性金属のメッキを施した複合粒子、あるいは芯粒子に、フェライト、金属間化合物などの導電性磁性体および高導電性金属の両方を被覆した複合粒子などが挙げられる。   Specific examples of magnetic conductive particles include particles of metals such as iron, nickel, cobalt, etc., particles of alloys thereof, particles containing these metals, or particles containing these metals as core particles. Composite particles with a highly conductive metal coated on the surface, or non-magnetic metal particles or inorganic substance particles such as glass beads or polymer particles were used as core particles, and the surface of the core particles was plated with a highly conductive metal. Examples include composite particles or composite particles in which core particles are coated with both a conductive magnetic material such as ferrite and an intermetallic compound and a highly conductive metal.

ここで、「高導電性金属」とは、0℃における導電率が5×106 Ω-1-1以上の金属をいう。このような高導電性金属としては、具体的には、金、銀、ロジウム、白金、クロムなどを用いることができ、これらの中では、化学的に安定でかつ高い導電率を有する点で金を用いることが好ましい。 Here, the “high conductivity metal” refers to a metal having an electrical conductivity at 0 ° C. of 5 × 10 6 Ω −1 m −1 or more. Specifically, gold, silver, rhodium, platinum, chromium, and the like can be used as such a highly conductive metal. Among these, gold is chemically stable and has high conductivity. Is preferably used.

上記の磁性導電性粒子の中では、ニッケル粒子を芯粒子とし、その表面に金や銀などの高導電性金属のメッキを施した複合粒子が好ましい。
芯粒子の表面に高導電性金属を被覆する手段として、例えば、無電解メッキ法を用いることができる。
Among the above magnetic conductive particles, composite particles in which nickel particles are used as core particles and the surfaces thereof are plated with a highly conductive metal such as gold or silver are preferable.
As a means for coating the surface of the core particles with a highly conductive metal, for example, an electroless plating method can be used.

磁性導電性粒子は、その数平均粒子径の変動係数が50%以下であることが好ましく、より好ましくは40%以下、さらに好ましくは30%以下、特に好ましくは20%以下である。ここで、「数平均粒子径の変動係数」とは、式:(σ/Dn)×100(但し、σは、粒子径の標準偏差の値を示し、Dnは、粒子の数平均粒子径を示す。)によって求められるものである。   The magnetic conductive particles preferably have a coefficient of variation in number average particle diameter of 50% or less, more preferably 40% or less, still more preferably 30% or less, and particularly preferably 20% or less. Here, the “coefficient of variation of the number average particle diameter” is an expression: (σ / Dn) × 100 (where σ represents the value of the standard deviation of the particle diameter, and Dn represents the number average particle diameter of the particles. Is required).

磁性導電性粒子の数平均粒子径の変動係数が50%以下であることにより、粒子径の不揃いの程度が小さくなるため、得られる異方導電性シートにおける部分的な導電性のバラツキを小さくすることができる。   When the coefficient of variation of the number average particle diameter of the magnetic conductive particles is 50% or less, the degree of unevenness of the particle diameter is reduced, so that the partial conductivity variation in the anisotropically conductive sheet obtained is reduced. be able to.

このような磁性導電性粒子は、金属材料を常法により粒子化し、あるいは市販の金属粒子を用意し、この粒子に対して分級処理を行うことにより得ることができる。粒子の分級処理は、例えば、空気分級装置、音波ふるい装置などの分級装置によって行うことができる。分級処理の具体的な条件は、目的とする導電性金属粒子の数平均粒子径、分級装置の種類などに応じて適宜設定される。   Such magnetic conductive particles can be obtained by making a metal material into particles by a conventional method, or preparing commercially available metal particles and subjecting the particles to a classification treatment. The particle classification treatment can be performed by, for example, a classification device such as an air classification device or a sonic sieving device. Specific conditions for the classification treatment are appropriately set according to the number average particle diameter of the target conductive metal particles, the type of the classification device, and the like.

磁性導電性粒子の具体的な形状は、特に限定されないが、例えば複数の球形の一次粒子が一体的に連結された二次粒子が好ましく用いられる。
磁性導電性粒子として、芯粒子の表面に高導電性金属が被覆された複合粒子(導電性複合金属粒子)を用いる場合、良好な導電性が得られる点から、導電性複合金属粒子の表面における高導電性金属の被覆率(芯粒子の表面積に対する高導電性金属の被覆面積の割合)が40%以上であることが好ましく、さらに好ましくは45%以上、特に好ましくは47〜95%である。
Although the specific shape of the magnetic conductive particles is not particularly limited, for example, secondary particles in which a plurality of spherical primary particles are integrally connected are preferably used.
When using composite particles (conductive composite metal particles) in which the surface of the core particles is coated with a highly conductive metal as the magnetic conductive particles, good conductivity can be obtained. The coverage of the highly conductive metal (ratio of the coated area of the highly conductive metal to the surface area of the core particles) is preferably 40% or more, more preferably 45% or more, and particularly preferably 47 to 95%.

また、高導電性金属の被覆量は、芯粒子の重量の2.5〜50質量%であることが好ましく、より好ましくは3〜45質量%、さらに好ましくは3.5〜40質量%、特に好ましくは5〜30質量%である。   The coating amount of the highly conductive metal is preferably 2.5 to 50% by mass, more preferably 3 to 45% by mass, still more preferably 3.5 to 40% by mass, particularly the weight of the core particles. Preferably it is 5-30 mass%.

このような、絶縁性の弾性高分子物質中に多数の導電性粒子が面方向に分散し厚み方向に配列した状態で含有された異方導電性シートは、例えば特開2003−77560号公報に示されるように、硬化されて弾性高分子物質となる高分子物質用材料中に、磁性を示す導電性粒子が含有された流動性の成形材料を調製し、この成形材料からなる成形材料層を、当該成形材料層における一面に接する一面側成形部材と、当該成形材料層における他面に接する他面側成形部材との間に形成し、この成形材料層に対してその厚み方向に磁場を作用させると共に、当該成形材料層を硬化処理する方法等により製造することができる。   An anisotropic conductive sheet containing a large number of conductive particles dispersed in the surface direction and arranged in the thickness direction in such an insulating elastic polymer material is disclosed in, for example, JP-A-2003-77560. As shown, a fluid molding material containing conductive particles exhibiting magnetism is prepared in a polymer material that is cured to become an elastic polymer material, and a molding material layer made of this molding material is prepared. The molding material layer is formed between the one-surface-side molded member that contacts one surface of the molding material layer and the other-surface-side molding member that contacts the other surface of the molding material layer, and a magnetic field acts on the molding material layer in the thickness direction. And can be produced by a method of curing the molding material layer.

ピッチ変換用基板23の中継ピンユニット31側に配置される第2の異方導電性シート26は、図29に示したように、絶縁性の弾性高分子材料中に多数の導電性粒子Pが厚み方向に配列して形成された導電路形成部71と、それぞれの導電路形成部71を離間する絶縁部72から構成されている。このように、導電性粒子Pは導電路形成部71中にのみ、面方向に不均一に分散されている。   As shown in FIG. 29, the second anisotropic conductive sheet 26 arranged on the pitch conversion substrate 23 on the relay pin unit 31 side has a large number of conductive particles P in an insulating elastic polymer material. The conductive path forming portions 71 are arranged in the thickness direction, and the insulating portions 72 are provided to separate the conductive path forming portions 71 from each other. As described above, the conductive particles P are non-uniformly dispersed in the surface direction only in the conductive path forming portion 71.

導電路形成部71の厚みは、好ましくは0.1〜2mm、より好ましくは0.2〜1.5mmである。この厚みが過小である場合、厚み方向の加圧に対する吸収能力が低く、検査時において検査治具による加圧力の吸収が小さくなり、回路基板側コネクタ21への衝撃を緩和する効果が減少する。このため、中継基板29における弾性部の劣化を抑制しにくくなり、結果として被検査回路基板1の繰り返し検査時における中継基板29の交換回数が増加して、検査の効率が低下する。一方、この厚みが過大である場合、厚み方向の電気抵抗が大きくなり易く電気検査が困難となることがある。   The thickness of the conductive path forming portion 71 is preferably 0.1 to 2 mm, more preferably 0.2 to 1.5 mm. When this thickness is too small, the absorption capacity for pressurization in the thickness direction is low, absorption of the applied pressure by the inspection jig during inspection is reduced, and the effect of reducing the impact on the circuit board side connector 21 is reduced. For this reason, it becomes difficult to suppress the deterioration of the elastic portion in the relay substrate 29. As a result, the number of replacements of the relay substrate 29 during the repeated inspection of the circuit board 1 to be inspected increases, and the inspection efficiency decreases. On the other hand, if this thickness is excessive, the electrical resistance in the thickness direction tends to increase and electrical inspection may be difficult.

絶縁部72の厚みは、導電路形成部71の厚みと実質的に同一か、それよりも小さいことが好ましい。図29に示したように、絶縁部72の厚みを導電路形成部71の厚みよりも小さくして導電路形成部71が絶縁部72より突出した突出部71aを形成することにより、厚み方向の加圧に対して導電路形成部72の変形が容易になり、加圧力の吸収能力が増大するため、検査時において検査治具の加圧力を吸収し、回路基板側コネクタへ21の衝撃を緩和することができる。   The thickness of the insulating part 72 is preferably substantially the same as or smaller than the thickness of the conductive path forming part 71. As shown in FIG. 29, the thickness of the insulating portion 72 is made smaller than the thickness of the conductive path forming portion 71, and the conductive path forming portion 71 forms a protruding portion 71 a that protrudes from the insulating portion 72. Since the conductive path forming portion 72 is easily deformed by pressurization and the pressure absorption capacity is increased, the pressure applied by the inspection jig is absorbed during the inspection, and the impact of the circuit board connector 21 is reduced. can do.

第2の異方導電性シート26を構成する導電性粒子Pに、磁性導電性粒子を使用する場合、その数平均粒子径は好ましくは5〜200μm、より好ましくは5〜150μm、さらに好ましくは10〜100μmである。ここで、「磁性導電性粒子の数平均粒子径」とは、レーザー回折散乱法によって測定されたものをいう。磁性導電性粒子の数平均粒子径が5μm以上であると、異方導電性シートの導電路形成部の加圧変形が容易になる。また、その製造工程において磁場配向処理によって磁性導電性粒子を配向させる場合、磁性導電性粒子の配向が容易である。磁性導電性粒子の数平均粒子径が200μm以下であると
、異方導電性シートの導電路形成部71の弾性が良好で加圧変形が容易になる。
When magnetic conductive particles are used for the conductive particles P constituting the second anisotropic conductive sheet 26, the number average particle diameter is preferably 5 to 200 μm, more preferably 5 to 150 μm, and still more preferably 10 ˜100 μm. Here, the “number average particle diameter of the magnetic conductive particles” means that measured by a laser diffraction scattering method. When the number average particle diameter of the magnetic conductive particles is 5 μm or more, the pressure deformation of the conductive path forming portion of the anisotropic conductive sheet becomes easy. Further, when the magnetic conductive particles are oriented by a magnetic field orientation process in the manufacturing process, the magnetic conductive particles are easily oriented. When the number average particle diameter of the magnetic conductive particles is 200 μm or less, the elasticity of the conductive path forming portion 71 of the anisotropic conductive sheet is good and the pressure deformation is easy.

導電路形成部71の厚みW2(μm)と、磁性導電性粒子の数平均粒子径D2(μm)との比率W2/D2は1.1〜10であることが好ましい。
比率W2/D2が1.1未満である場合、導電路形成部71の厚みに対して磁性導電性粒子の直径が同等あるいはそれよりも大きくなるため、導電路形成部71の弾性が低くなり、その厚み方向の加圧力の吸収能力が小さくなる。検査時における検査治具の加圧圧力を吸収が小さくなり、回路基板側コネクタ21への衝撃を緩和する効果が減少するため、中継基板29における弾性部の劣化を抑制しにくくなり、結果として、被検査回路基板1の繰り返し検査時において中継基板29の交換回数が増加して、検査の効率が低下し易くなる。
The ratio W 2 / D 2 between the thickness W 2 (μm) of the conductive path forming portion 71 and the number average particle diameter D 2 (μm) of the magnetic conductive particles is preferably 1.1-10.
When the ratio W 2 / D 2 is less than 1.1, the diameter of the magnetic conductive particles is equal to or larger than the thickness of the conductive path forming portion 71, and therefore the elasticity of the conductive path forming portion 71 is low. Thus, the ability to absorb the pressure in the thickness direction is reduced. Since the absorption of the pressure applied by the inspection jig during inspection is reduced and the effect of mitigating the impact on the circuit board side connector 21 is reduced, it is difficult to suppress the deterioration of the elastic portion in the relay board 29. When the circuit board 1 to be inspected is repeatedly inspected, the number of times the relay substrate 29 is replaced increases, and the inspection efficiency tends to be lowered.

一方、比率W2/D2が10を超える場合、導電路形成部71に多数の導電性粒子が配列して連鎖を形成することとなり、導電性粒子同士の接点が多数存在することになるため、電気的抵抗値が高くなり易い。 On the other hand, when the ratio W 2 / D 2 exceeds 10, a large number of conductive particles are arranged in the conductive path forming portion 71 to form a chain, and there are a large number of contacts between the conductive particles. The electrical resistance value tends to be high.

導電路形成部71の基材である弾性高分子物質は、そのタイプAデュロメータによって測定されたデュロメータ硬さが好ましくは15〜60、より好ましくは20〜50、さらに好ましくは25〜45である。   The elastic polymer substance that is the base material of the conductive path forming portion 71 preferably has a durometer hardness measured by a type A durometer of 15 to 60, more preferably 20 to 50, and even more preferably 25 to 45.

弾性高分子のデュロメータ硬さが15よりも小さい場合、厚み方向に押圧された際のシートの圧縮、変形が大きく、大きな永久歪が生じるためシート形状が早期に変形して検査時の電気的接続が困難となり易い。弾性高分子のデュロメータ硬さが60よりも大きい場合、厚み方向に押圧された際の変形が小さくなるため、その厚み方向の加圧力の吸収能力が小さくなる。このため、中継基板29における弾性部の劣化を抑制しにくくなり、結果として、被検査回路基板1の繰り返し検査時において中継基板29の交換回数が増加して、検査の効率が低下しやすくなる。   When the durometer hardness of the elastic polymer is less than 15, the compression and deformation of the sheet when pressed in the thickness direction is large, and a large permanent distortion occurs. Tends to be difficult. When the durometer hardness of the elastic polymer is larger than 60, the deformation when pressed in the thickness direction becomes small, so the ability to absorb pressure in the thickness direction becomes small. For this reason, it becomes difficult to suppress the deterioration of the elastic part in the relay substrate 29. As a result, the number of times of replacement of the relay substrate 29 is increased during the repeated inspection of the circuit board 1 to be inspected, and the inspection efficiency tends to decrease.

導電路形成部71の基材となる弾性高分子としては、上記のデュロメータ硬さを示すものであれば特に限定されないが、加工性および電気特性の点から、シリコーンゴムを用いることが好ましい。   The elastic polymer serving as the base material of the conductive path forming portion 71 is not particularly limited as long as it exhibits the durometer hardness described above, but it is preferable to use silicone rubber from the viewpoint of workability and electrical characteristics.

第2の異方導電性シート26の絶縁部72は、実質的に導電性粒子を含有しない絶縁材料により形成される。絶縁材料としては、例えば、絶縁性の高分子材料、無機材料、表面を絶縁化処理した金属材料などを用いることができるが、導電路形成部に使用した弾性高分子と同一の材料を用いると生産が容易である。絶縁部の材料として弾性高分子を使用する場合、デュロメータ硬さが上記の範囲であるものを使用することが好ましい。   The insulating portion 72 of the second anisotropic conductive sheet 26 is formed of an insulating material that does not substantially contain conductive particles. As the insulating material, for example, an insulating polymer material, an inorganic material, a metal material with an insulating surface can be used, and the same material as the elastic polymer used for the conductive path forming portion is used. Easy to produce. When an elastic polymer is used as the material for the insulating portion, it is preferable to use a material having a durometer hardness in the above range.

磁性導電性粒子としては、前述した中継基板29の導電路形成部に用いられる導電性粒子を用いることができる。
第2の異方導電性シート26は、例えば、以下のようにして製造することができる。先ず、それぞれ全体の形状が略平板状であって、互いに対応する上型と下型とよりなり、上型と下型との間の成形空間内に充填された材料層に磁場を作用させながら材料層を加熱硬化することができる構成の異方導電性シート成形用金型を用意する。
As the magnetic conductive particles, the conductive particles used in the conductive path forming portion of the relay substrate 29 described above can be used.
The second anisotropic conductive sheet 26 can be manufactured, for example, as follows. First, each of the overall shapes is substantially flat, and consists of an upper mold and a lower mold that correspond to each other, while applying a magnetic field to the material layer filled in the molding space between the upper mold and the lower mold. An anisotropic conductive sheet molding die having a configuration capable of heat-curing the material layer is prepared.

この異方導電性シート成形用金型は、材料層に磁場を作用させて適正な位置に導電性を有する部分を形成するために、上型および下型の両方は、鉄、ニッケルなどの強磁性体からなる基板上に、金型内の磁場に強度分布を生じさせるための鉄、ニッケルなどよりなる強磁性体部分と、銅などの非磁性金属若しくは樹脂よりなる非磁性体部分とが互いに隣接するよう交互に配置されたモザイク状の層を有する構成のものであり、強磁性体部分は、
形成すべき導電路形成部に対応するパターンに従って配列されている。
In this anisotropic conductive sheet molding die, a magnetic field is applied to the material layer to form a conductive portion at an appropriate position. Therefore, both the upper die and the lower die are made of strong iron or nickel. On a substrate made of a magnetic material, a ferromagnetic part made of iron, nickel or the like for generating an intensity distribution in the magnetic field in the mold and a nonmagnetic part made of nonmagnetic metal or resin such as copper are mutually connected. It has a structure having mosaic layers alternately arranged so as to be adjacent to each other, and the ferromagnetic portion is
They are arranged according to a pattern corresponding to the conductive path forming portion to be formed.

ここで、上型の成形面は平坦であり、下型の成形面は形成すべき異方導電性シートの導電路形成部に対応してわずかに凹凸を有するものである。
そして、上記の異方導電性シート成形用金型を用いて、以下のようにして異方導電性シートが製造される。先ず、異方導電性シート成形用金型の成形空間内に、硬化されて弾性高分子物質となる高分子物質材料中に磁性を示す導電性粒子が含有されてなる成形材料を注入して成形材料層を形成する。
Here, the molding surface of the upper mold is flat, and the molding surface of the lower mold has slight irregularities corresponding to the conductive path forming portion of the anisotropic conductive sheet to be formed.
And an anisotropic conductive sheet is manufactured as follows using said anisotropic conductive sheet shaping die. First, molding is performed by injecting a molding material containing conductive particles exhibiting magnetism into a polymer material that is cured and becomes an elastic polymer substance in the molding space of the anisotropic conductive sheet molding die. A material layer is formed.

次に、上型および下型の各々における強磁性体部分および非磁性体部分を利用し、形成された成形材料層に対してその厚み方向に強度分布を有する磁場を作用させることにより、その磁力の作用によって、導電性粒子を、上型における強磁性体部分と、その直下に位置する下型における強磁性体部分との間に集合させ、更には導電性粒子を厚み方向に並ぶように配向させる。そして、その状態で成形材料層を硬化処理することにより、複数の柱状の導電路形成部が、絶縁部によって互い絶縁されてなる構成を有する異方導電性シートが製造される。   Next, by using a ferromagnetic part and a non-magnetic part in each of the upper mold and the lower mold, a magnetic field having an intensity distribution in the thickness direction is applied to the formed molding material layer to thereby obtain the magnetic force. As a result, the conductive particles are gathered between the ferromagnetic part in the upper mold and the ferromagnetic part in the lower mold located immediately below it, and the conductive particles are aligned in the thickness direction. Let And the anisotropically conductive sheet which has the structure by which a some columnar conductive path formation part is mutually insulated by the insulation part by hardening-processing a molding material layer in the state is manufactured.

一方、テスター側コネクタ41a,41bは、図1に示したように、第3の異方導電性シート42a,42bと、コネクタ基板43a,43bと、ベース板46a,46bと、を備えている。第3の異方導電性シート42a,42bには、前述した第2の異方導電性シート26と同様のものが使用される。すなわち、図29に示したような、絶縁性の弾性高分子材料中に多数の導電性粒子が厚み方向に配列して形成された導電路形成部と、それぞれの導電路形成部を離間する絶縁部とから構成された異方導電性シートが使用される。   On the other hand, as shown in FIG. 1, the tester side connectors 41a and 41b include third anisotropic conductive sheets 42a and 42b, connector boards 43a and 43b, and base plates 46a and 46b. As the third anisotropic conductive sheet 42a, 42b, the same material as the second anisotropic conductive sheet 26 described above is used. That is, as shown in FIG. 29, a conductive path forming part in which a large number of conductive particles are arranged in the thickness direction in an insulating elastic polymer material, and insulation that separates each conductive path forming part. An anisotropic conductive sheet composed of a portion is used.

コネクタ基板43a,43bは、絶縁基板を備えており、その表面の中継ピンユニット31側に、図1および図2に示したようにピン側電極45a,45bが形成されている。
これらのピン側電極45は、例えば、2.54mm、1.8mm、1.27mm、1.06mm、0.8mm、0.75mm、0.5mm、0.45mm、0.3mmまたは0.2mmの一定ピッチの格子点上に配置されており、その配置ピッチは中継ピンユニット31の導電ピン32の配置ピッチと同一である。
The connector substrates 43a and 43b include an insulating substrate, and pin-side electrodes 45a and 45b are formed on the surface thereof on the relay pin unit 31 side as shown in FIGS.
These pin side electrodes 45 are, for example, 2.54 mm, 1.8 mm, 1.27 mm, 1.06 mm, 0.8 mm, 0.75 mm, 0.5 mm, 0.45 mm, 0.3 mm or 0.2 mm. It is arranged on lattice points with a constant pitch, and the arrangement pitch is the same as the arrangement pitch of the conductive pins 32 of the relay pin unit 31.

それぞれのピン側電極45は、絶縁基板の表面に形成された配線パターンおよびその内部に形成された内部配線によって、テスター側電極44a,44bへ電気的に接続されている。   Each pin-side electrode 45 is electrically connected to the tester-side electrodes 44a and 44b by a wiring pattern formed on the surface of the insulating substrate and an internal wiring formed therein.

中継ピンユニット31は、図1、図2、図30(図30は、説明の便宜上、中継ピンユニット31aについて示している)、および図36〜図39に示したように、上下方向を向くように並列に、所定のピッチで設けられた多数の導電ピン32a,32bを備えている。また、中継ピンユニット31は、これらの導電ピン32a,32bの両端側に設けられ、導電ピン32a,32bを挿通支持する被検査回路基板1側に配置された第1の絶縁板34a,34bと、被検査回路基板1側とは反対側に配置された第2の絶縁板35a,35bの2枚の絶縁板を備えている。   1, 2 and 30 (FIG. 30 shows the relay pin unit 31a for convenience of explanation) and FIGS. 36 to 39 so that the relay pin unit 31 faces in the vertical direction. Are provided with a plurality of conductive pins 32a and 32b provided at a predetermined pitch. Further, the relay pin unit 31 is provided on both ends of the conductive pins 32a and 32b, and is provided with first insulating plates 34a and 34b disposed on the circuit board 1 side to be inspected for inserting and supporting the conductive pins 32a and 32b. The second insulating plates 35a and 35b are provided on the opposite side of the circuit board 1 to be inspected.

導電ピン32は、例えば、図31に示したように、直径の大きい中央部82と、これよりも直径の小さい端部81a,81bとからなる。第1の絶縁板34と第2の絶縁板35には、導電ピン32の端部81が挿入される貫通孔83が形成されている。そして、貫通孔83の直径が、導電ピン32の端部81a,81bの直径よりも大きく、且つ中央部82の直径よりも小さく形成され、これにより導電ピン32が脱落しないように保持されている。   For example, as shown in FIG. 31, the conductive pin 32 includes a central portion 82 having a large diameter and end portions 81a and 81b having a smaller diameter. The first insulating plate 34 and the second insulating plate 35 are formed with through holes 83 into which the end portions 81 of the conductive pins 32 are inserted. The diameter of the through hole 83 is formed larger than the diameter of the end portions 81a and 81b of the conductive pin 32 and smaller than the diameter of the central portion 82, thereby holding the conductive pin 32 so as not to drop off. .

第1の絶縁板34および第2の絶縁板35は、図1の第1の支持ピン33および第2の支持ピン37によって、これらの間隔が導電ピン32の中央部82の長さよりも長くなるように固定され、これにより導電ピン32が上下へ移動可能に保持されている。導電ピン32の端部81の長さは、絶縁板34の厚みよりも長くなるように形成され、これにより、少なくとも一方の絶縁板34から導電ピン32が突出するようになっている。   The distance between the first insulating plate 34 and the second insulating plate 35 is longer than the length of the central portion 82 of the conductive pin 32 by the first support pin 33 and the second support pin 37 of FIG. Thus, the conductive pin 32 is held so as to be movable up and down. The length of the end portion 81 of the conductive pin 32 is formed to be longer than the thickness of the insulating plate 34, so that the conductive pin 32 protrudes from at least one of the insulating plates 34.

中継ピンユニットは、多数の導電ピンが、例えば、2.54mm、1.8mm、1.27mm、1.06mm、0.8mm、0.75mm、0.5mm、0.45mm、0.3mmまたは0.2mmのピッチの格子点上に配置されている。   The relay pin unit has a large number of conductive pins, for example, 2.54 mm, 1.8 mm, 1.27 mm, 1.06 mm, 0.8 mm, 0.75 mm, 0.5 mm, 0.45 mm, 0.3 mm or 0. It is arranged on a grid point with a pitch of 2 mm.

中継ピンユニット31の導電ピン32の配置ピッチと、ピッチ変換用基板23に設けられた端子電極24の配置ピッチとを同一とすることにより、導電ピン32を介してピッチ変換用基板23がテスター側に電気的に接続されるようになっている。   By making the arrangement pitch of the conductive pins 32 of the relay pin unit 31 the same as the arrangement pitch of the terminal electrodes 24 provided on the pitch conversion board 23, the pitch conversion board 23 is connected to the tester side via the conductive pins 32. It is designed to be connected electrically.

また、図1および図30に示したように、中継ピンユニット31には、第1の絶縁板34a,34bと、第2の絶縁板35a,35bとの間に、中間保持板36a、36bが配置されている。   Further, as shown in FIGS. 1 and 30, the relay pin unit 31 includes intermediate holding plates 36a and 36b between the first insulating plates 34a and 34b and the second insulating plates 35a and 35b. Has been placed.

そして、第1の絶縁板34a,34bと中間保持板36a,36bとの間には、第1の支持ピン33a,33bが配置され、これによって、第1の絶縁板34a,34bと中間保持板36a,36bとの間を固定している。   The first support pins 33a and 33b are arranged between the first insulating plates 34a and 34b and the intermediate holding plates 36a and 36b, whereby the first insulating plates 34a and 34b and the intermediate holding plate are arranged. The space between 36a and 36b is fixed.

同様に、第2の絶縁板35a,35bと中間保持板36a,36bとの間には、第2の支持ピン37a,37bが配置され、これによって、第2の絶縁板35a,35bと中間保持板36a,36bとの間を固定している。   Similarly, second support pins 37a and 37b are disposed between the second insulating plates 35a and 35b and the intermediate holding plates 36a and 36b, whereby the second insulating plates 35a and 35b and the intermediate holding plates 36a and 36b are intermediately held. The space between the plates 36a and 36b is fixed.

第1の支持ピン33と、第2の支持ピン37の材質としては、例えば、真鍮、ステンレスなどの金属が使用される。
なお、図30における第1の絶縁板34と中間保持板36との間の距離L1と、第2の絶縁板35と中間保持板36との間の距離L2としては、特に限定されるものではないが、後述するように、第1の絶縁板34、中間保持板36、第2の絶縁板35の弾性による、被検査回路基板1の被検査電極2,3の高さバラツキの吸収性を考慮すれば、2mm以上が好ましく、より好ましくは2.5mm以上である。
As a material of the first support pin 33 and the second support pin 37, for example, a metal such as brass or stainless steel is used.
Note that the distance L1 between the first insulating plate 34 and the intermediate holding plate 36 and the distance L2 between the second insulating plate 35 and the intermediate holding plate 36 in FIG. 30 are not particularly limited. However, as will be described later, the height variation of the electrodes 2 and 3 to be inspected on the circuit board 1 to be inspected due to the elasticity of the first insulating plate 34, the intermediate holding plate 36, and the second insulating plate 35 is absorbed. In consideration, 2 mm or more is preferable, and 2.5 mm or more is more preferable.

そして、図30に示したように、第1の支持ピン33の中間保持板36に対する第1の当接支持位置38Aと、第2の支持ピン37の中間保持板36に対する第2の当接支持位置38Bとは、検査装置を中間保持板の厚さ方向に(図1において上方から下方に向かって)投影した中間保持板投影面A上において異なる位置に配置されている。   Then, as shown in FIG. 30, the first contact support position 38 </ b> A of the first support pin 33 with respect to the intermediate holding plate 36 and the second contact support of the second support pin 37 with respect to the intermediate holding plate 36. The position 38B is arranged at a different position on the intermediate holding plate projection surface A obtained by projecting the inspection apparatus in the thickness direction of the intermediate holding plate (from the upper side to the lower side in FIG. 1).

この場合、異なる位置としては、特に限定されるものではないが、第1の当接支持位置38Aと、第2の当接支持位置38Bは、図35に示したように、中間保持板投影面A上において格子上に形成されていることが好ましい。   In this case, the different positions are not particularly limited, but the first abutting support position 38A and the second abutting support position 38B are, as shown in FIG. It is preferably formed on the lattice on A.

具体的には、図35に示したように、中間保持板投影面A上において、隣接する4個の第1の当接支持位置38Aからなる単位格子領域R1に、1個の第2の当接支持位置38Bが配置される。また、中間保持板投影面Aにおいて、隣接する4個の第2の当接支持位置38Bからなる単位格子領域R2に、1個の第1の当接支持位置38Aが配置される。なお、図35では、第1の当接支持位置38Aを黒丸、第2の当接支持位置群38Bを白丸で示している。   Specifically, as shown in FIG. 35, on the intermediate holding plate projection surface A, one second contact is formed in the unit lattice region R1 composed of four adjacent first contact support positions 38A. The contact support position 38B is arranged. Further, on the intermediate holding plate projection surface A, one first contact support position 38A is arranged in a unit lattice region R2 composed of four adjacent second contact support positions 38B. In FIG. 35, the first contact support position 38A is indicated by a black circle, and the second contact support position group 38B is indicated by a white circle.

なお、ここでは、第1の当接支持位置38Aの単位格子領域R1の対角線Q1の中央に、1個の第2の当接支持位置38Bを配置するとともに、第2の当接支持位置38Bの単位格子領域R2の対角線Q2の中央に、1個の第1の当接支持位置38Aを配置している。しかしながら、これらの相対的な位置は、特に限定されるものではなく、上記のように、検査装置を中間保持板の厚さ方向に投影した中間保持板投影面A上において異なる位置に配置されていればよい。すなわち、格子状に配置されない場合には、このような相対位置関係に拘束されるものではなく、上記のように、検査装置を中間保持板の厚さ方向に投影した中間保持板投影面A上において異なる位置に配置されていればよい。   Here, one second abutment support position 38B is disposed at the center of the diagonal line Q1 of the unit lattice region R1 of the first abutment support position 38A, and the second abutment support position 38B. One first abutment support position 38A is arranged at the center of the diagonal line Q2 of the unit lattice region R2. However, these relative positions are not particularly limited, and are arranged at different positions on the intermediate holding plate projection plane A obtained by projecting the inspection apparatus in the thickness direction of the intermediate holding plate as described above. Just do it. That is, when not arranged in a grid pattern, it is not constrained by such a relative positional relationship, and as described above, on the intermediate holding plate projection surface A obtained by projecting the inspection device in the thickness direction of the intermediate holding plate. As long as they are arranged at different positions.

また、この場合、互いに隣接する第1の当接支持位置38Aの間の離間距離、第2の当接支持位置38Bの間の離間距離は、好ましくは10〜100mm、より好ましくは12〜70mm、特に好ましくは15〜50mmである。   In this case, the separation distance between the first contact support positions 38A adjacent to each other and the separation distance between the second contact support positions 38B are preferably 10 to 100 mm, more preferably 12 to 70 mm. Especially preferably, it is 15-50 mm.

第1の絶縁板34、中間保持板36、第2の絶縁板35の形成材料には、可撓性を有するものが用いられる。これらの板の可撓性は、第1の絶縁板34、中間保持板36、第2の絶縁板35の両端部を、それぞれ10cm間隔で支持した状態で水平に配置した場合において、上方から50kgfの圧力で加圧することによって生ずる撓みが、これらの絶縁板の幅の0.02%以下であり、かつ上方から200kgfの圧力で加圧することによっても破壊および永久変形が生じない程度であることが好ましい。   As the forming material of the first insulating plate 34, the intermediate holding plate 36, and the second insulating plate 35, a flexible material is used. The flexibility of these plates is 50 kgf from above when both ends of the first insulating plate 34, the intermediate holding plate 36, and the second insulating plate 35 are horizontally arranged with 10 cm intervals. The deflection caused by pressurizing at a pressure of 0.02% or less of the width of these insulating plates is such that destruction and permanent deformation do not occur even when pressurizing at a pressure of 200 kgf from above. preferable.

第1の絶縁板34、中間保持板36、第2の絶縁板35の材料としては、具体的には、固有抵抗が1×1010Ω・cm以上の絶縁性材料、例えばポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、フェノール樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポチエチレンテレフタレート樹脂、シンジオタクチック・ポリスチレン樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエーテルエチルケトン樹脂、フッ素樹脂、ポリエーテルニトリル樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリアミドイミド樹脂等の機械的強度の高い樹脂材料、ガラス繊維補強型エポキシ樹脂、ガラス繊維補強型ポリエステル樹脂、ガラス繊維補強型ポリイミド樹脂、ガラス繊維補強フェノール樹脂、ガラス繊維補強型フッ素樹脂等のガラス繊維型複合樹脂材料、カーボン繊維補強型エポキシ樹脂、カーボン繊維補強型ポリエステル樹脂、カーボン繊維補強型ポリイミド樹脂、カーボン繊維補強型フェノール樹脂、カーボン繊維補強型フッ素樹脂等のカーボン繊維型複合樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等にシリカ、アルミナ、ボロンナイトライド等の無機材料を充填した複合樹脂材料、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等にメッシュを含有した複合樹脂材料などが挙げられる。また、これらの材料からなる板材を複数積層して構成された複合板材等も用いることができる。 Specifically, the material of the first insulating plate 34, the intermediate holding plate 36, and the second insulating plate 35 is an insulating material having a specific resistance of 1 × 10 10 Ω · cm or more, such as a polyimide resin or a polyester resin. , Polyamide resin, phenol resin, polyacetal resin, polybutylene terephthalate resin, polyethylene terephthalate resin, syndiotactic polystyrene resin, polyphenylene sulfide resin, polyether ethyl ketone resin, fluorine resin, polyether nitrile resin, polyether sulfone resin Resin materials with high mechanical strength such as polyarylate resin and polyamide-imide resin, glass fiber reinforced epoxy resin, glass fiber reinforced polyester resin, glass fiber reinforced polyimide resin, glass fiber reinforced phenolic resin, glass fiber reinforced fluorine resin Glass fiber type composite resin material, carbon fiber reinforced epoxy resin, carbon fiber reinforced polyester resin, carbon fiber reinforced polyimide resin, carbon fiber reinforced phenol resin, carbon fiber reinforced fluorocarbon resin, etc., Examples thereof include a composite resin material in which an inorganic material such as silica, alumina, or boron nitride is filled in an epoxy resin or a phenol resin, or a composite resin material in which a mesh is contained in an epoxy resin or a phenol resin. Moreover, the composite board material etc. which were comprised by laminating | stacking two or more board | plate materials which consist of these materials can also be used.

第1の絶縁板34、中間保持板36、および第2の絶縁板35の厚みは、第1の絶縁板34、中間保持板36、第2の絶縁板35を構成する材料の種類に応じて適宜選択されるが、好ましくは1〜10mmである。例えば、ガラス繊維補強型エポキシ樹脂からなり、その厚みが2〜5mmであるものを使用することができる。   The thicknesses of the first insulating plate 34, the intermediate holding plate 36, and the second insulating plate 35 are in accordance with the types of materials constituting the first insulating plate 34, the intermediate holding plate 36, and the second insulating plate 35. Although it selects suitably, Preferably it is 1-10 mm. For example, a glass fiber reinforced epoxy resin having a thickness of 2 to 5 mm can be used.

第1の絶縁板34および第2の絶縁板35に導電ピン32を移動可能に支持する方法としては、図30に示した方法の他に、図32〜図34に示した方法を挙げることができる。この例では、導電ピン32として図示したように、この例では第1の絶縁板34と第2の絶縁板35との間に、屈曲保持板84が設けられている。   As a method of movably supporting the conductive pins 32 on the first insulating plate 34 and the second insulating plate 35, the methods shown in FIGS. 32 to 34 can be cited in addition to the method shown in FIG. it can. In this example, as illustrated as the conductive pins 32, in this example, a bent holding plate 84 is provided between the first insulating plate 34 and the second insulating plate 35.

また、導電ピン32として、円柱形状である金属ピンを用いている。
図32に示したように、屈曲保持板84には導電ピン32が挿通される貫通孔85が形成されている。導電ピン32は、第1の絶縁板34に形成された貫通孔83aおよび第2の絶縁板35に形成された貫通孔83bと、屈曲保持板84に形成された貫通孔85とを
支点として、互いに逆方向に横方向へ押圧されて、屈曲保持板84の貫通孔85の位置で屈曲され、これにより導電ピン32が軸方向へ移動可能に支持されている。
In addition, a cylindrical metal pin is used as the conductive pin 32.
As shown in FIG. 32, the bent holding plate 84 is formed with a through hole 85 through which the conductive pin 32 is inserted. The conductive pin 32 has a through hole 83a formed in the first insulating plate 34, a through hole 83b formed in the second insulating plate 35, and a through hole 85 formed in the bent holding plate 84 as fulcrums. They are pressed laterally in opposite directions and bent at the position of the through hole 85 of the bending holding plate 84, whereby the conductive pin 32 is supported so as to be movable in the axial direction.

なお、中間保持板36には、導電ピン32と接触しない程度に径を大きくした貫通孔86が形成され、この貫通孔86に導電ピン32が挿通されている。
導電ピン32は、図33(a)〜図33(c)に示した手順で第1の絶縁板34および第2の絶縁板35に支持される。図33(a)に示したように、第1の絶縁板34の貫通孔83aおよび第2の絶縁板35に形成された貫通孔83bと、屈曲保持板84の貫通孔85とが軸方向に位置合わせされた位置に屈曲保持板84を配置する。
The intermediate holding plate 36 is formed with a through hole 86 having a diameter large enough not to contact the conductive pin 32, and the conductive pin 32 is inserted into the through hole 86.
The conductive pin 32 is supported by the first insulating plate 34 and the second insulating plate 35 in the procedure shown in FIGS. 33 (a) to 33 (c). As shown in FIG. 33A, the through hole 83a of the first insulating plate 34 and the through hole 83b formed in the second insulating plate 35 and the through hole 85 of the bent holding plate 84 are in the axial direction. The bending holding plate 84 is disposed at the aligned position.

次に、図33(b)に示したように、導電ピン32を、第1の絶縁板34の貫通孔83aから屈曲保持板84の貫通孔85を通して第2の絶縁板35の貫通孔83bまで挿入する。   Next, as shown in FIG. 33 (b), the conductive pin 32 extends from the through hole 83 a of the first insulating plate 34 to the through hole 83 b of the second insulating plate 35 through the through hole 85 of the bent holding plate 84. insert.

次に、図33(c)に示したように、屈曲保持板84を、導電ピン32の軸方向と垂直な横方向(水平方向)に移動し、適宜の手段によって屈曲保持板84の位置を固定する。これによって、導電ピン32は、第1の絶縁板34の貫通孔83aおよび第2の絶縁板35に形成された貫通孔83bと、屈曲保持板84の貫通孔85とを支点として互いに逆方向に横方向へ押圧されて、屈曲保持板84の貫通孔85の位置で屈曲され、これにより導電ピン32が軸方向に移動可能に支持される。   Next, as shown in FIG. 33 (c), the bending holding plate 84 is moved in the lateral direction (horizontal direction) perpendicular to the axial direction of the conductive pin 32, and the position of the bending holding plate 84 is adjusted by an appropriate means. Fix it. As a result, the conductive pins 32 are opposite to each other with the through hole 83 b formed in the first insulating plate 34 and the second insulating plate 35 and the through hole 85 of the bent holding plate 84 as fulcrums. It is pressed in the lateral direction and bent at the position of the through hole 85 of the bending holding plate 84, whereby the conductive pin 32 is supported so as to be movable in the axial direction.

このように構成することで、導電ピン32が、第1の絶縁板34と第2の絶縁板35との間に、軸方向へ移動可能に、且つ脱落しないように保持することができるとともに、導電ピン32として円柱状である簡易な構造のピンを使用できるため、導電ピン32およびそれを保持する部材の全体としてのコストを抑えることができる。   By being configured in this way, the conductive pin 32 can be held between the first insulating plate 34 and the second insulating plate 35 so as to be movable in the axial direction and not to fall off, Since the pin having a simple structure having a cylindrical shape can be used as the conductive pin 32, the cost of the conductive pin 32 and the member holding it can be suppressed as a whole.

なお、屈曲保持板84が配置される位置は、第1の絶縁板34と中間保持板36との間であってもよい。
このように構成された本実施形態の検査装置では、図2に示したように、被検査回路基板1の電極2および電極3が、中継基板29a,29b、ピッチ変換用基板23a,23b、第2の異方導電性シート26a,26b、導電ピン32a,32b、第3の異方導電性シート42a,42b、コネクタ基板43a,43bを介して、最外側に配置されたベース板46a,46bをテスターの加圧機構により規定の圧力で押圧することによってテスター(図示せず)に電気的に接続され、被検査回路基板1の電極間における電気抵抗測定などの電気検査が行われる。
The position where the bent holding plate 84 is disposed may be between the first insulating plate 34 and the intermediate holding plate 36.
In the inspection apparatus of the present embodiment configured as described above, as shown in FIG. 2, the electrodes 2 and 3 of the circuit board 1 to be inspected are connected to the relay boards 29a and 29b, the pitch conversion boards 23a and 23b, the first The base plates 46a and 46b arranged on the outermost side through the two anisotropic conductive sheets 26a and 26b, the conductive pins 32a and 32b, the third anisotropic conductive sheets 42a and 42b, and the connector boards 43a and 43b By pressing the tester with a predetermined pressure, the tester is electrically connected to a tester (not shown), and electrical inspection such as electrical resistance measurement between electrodes of the circuit board 1 to be inspected is performed.

測定時に被検査回路基板に対して上側および下側の第1の検査治具11a,第2の検査治具11bから押圧する圧力は、例えば、100〜250kgfである。
以下、図36〜図39を参照しながら(便宜的に、第2の検査治具11bのみ示す)、第1の検査治具11aと第2の検査治具11bとの間で被検査回路基板1の両面を挟圧した際における圧力吸収作用および圧力分散作用について説明する。
The pressure pressed from the upper and lower first inspection jigs 11a and 11b against the circuit board to be inspected at the time of measurement is, for example, 100 to 250 kgf.
Hereinafter, the circuit board to be inspected between the first inspection jig 11a and the second inspection jig 11b with reference to FIGS. 36 to 39 (for convenience, only the second inspection jig 11b is shown). A pressure absorbing action and a pressure dispersing action when both surfaces of 1 are clamped will be described.

図37に示したように、第1の検査治具11aと第2の検査治具11bとの間で検査対象である被検査回路基板1の両面を挟圧して電気検査を行う際に、加圧の初期段階では、中継ピンユニット31の導電ピン32の厚み方向への移動と、中継基板29の弾性部と、第2の異方導電性シート26と、第3の異方導電性シート42のゴム弾性圧縮により圧力を吸収して、被検査回路基板1の被検査電極の高さバラツキをある程度吸収することができる。   As shown in FIG. 37, when electrical inspection is performed by sandwiching both surfaces of the circuit board 1 to be inspected between the first inspection jig 11a and the second inspection jig 11b. In the initial stage of pressure, the relay pin unit 31 moves in the thickness direction of the conductive pins 32, the elastic portion of the relay substrate 29, the second anisotropic conductive sheet 26, and the third anisotropic conductive sheet 42. The pressure can be absorbed by the rubber elastic compression, and the height variation of the inspected electrode of the inspected circuit board 1 can be absorbed to some extent.

そして、第1の支持ピンと中間保持板との第1の当接支持位置と、前記第2の支持ピン
と中間保持板との第2の当接支持位置とが、中間保持板の厚さ方向に投影した中間保持板投影面において異なる位置に配置されているので、図38の矢印で示したように、上下方向に力が作用し、図39に示したように、第1の検査治具11aと第2の検査治具11bの間で検査対象である被検査回路基板1をさらに加圧した際に、中継基板29の弾性部と、第2の異方導電性シート26と、第3の異方導電性シート42のゴム弾性圧縮に加えて、中継ピンユニット31の第1の絶縁板34と、第2の絶縁板35と、第1の絶縁板34と第2の絶縁板35の間に配置された中間保持板36のバネ弾性により、被検査回路基板1の被検査電極の高さバラツキ、例えば、ハンダボール電極の高さバラツキに対して、圧力集中を分散させて、局部的な応力集中を回避することができる。
A first contact support position between the first support pin and the intermediate holding plate and a second contact support position between the second support pin and the intermediate holding plate are in the thickness direction of the intermediate holding plate. Since they are arranged at different positions on the projected intermediate holding plate projection surface, a force acts in the vertical direction as shown by the arrows in FIG. 38, and as shown in FIG. 39, the first inspection jig 11a. When the circuit board 1 to be inspected is further pressed between the second inspection jig 11b and the second inspection jig 11b, the elastic portion of the relay substrate 29, the second anisotropic conductive sheet 26, and the third In addition to the rubber elastic compression of the anisotropic conductive sheet 42, the first insulating plate 34, the second insulating plate 35, and between the first insulating plate 34 and the second insulating plate 35 of the relay pin unit 31. Variation of the electrodes to be inspected of the circuit board 1 to be inspected due to the spring elasticity of the intermediate holding plate 36 disposed in For example, it is possible to solder ball electrodes with respect to height variation, by dispersing pressure concentration, to avoid local stress concentration.

すなわち、図38および図39に示したように、第1の支持ピン33と中間保持板36に対する第1の当接支持位置38Aを中心として、中間保持板36が、第2の絶縁板35の方向に撓むとともに(図39の一点鎖線で囲んだEの部分参照)、第2の支持ピン37と中間保持板36との第2の当接支持位置38Bを中心として、中間保持板36が、第1の絶縁板34の方向に撓むことになる(図39の一点鎖線で囲んだDの部分参照)。なお、ここで「撓む」および「撓み方向」とは中間保持板36が凸状になる方向に突出するように撓むことおよびその突出方向を言う。   That is, as shown in FIGS. 38 and 39, the intermediate holding plate 36 has the second insulating plate 35 centered on the first support pin 33 and the first contact support position 38 </ b> A with respect to the intermediate holding plate 36. The intermediate holding plate 36 is bent around the second contact support position 38B between the second support pin 37 and the intermediate holding plate 36, as shown in FIG. It bends in the direction of the first insulating plate 34 (see the portion D surrounded by the one-dot chain line in FIG. 39). Here, “bend” and “bend direction” refer to the bend so that the intermediate holding plate 36 protrudes in a convex direction and the protruding direction thereof.

このように、中間保持板36が、第1の当接支持位置38A、第2の当接支持位置38Bを中心として、相互に反対方向に撓むので、第1の検査治具11aと第2の検査治具11bとの間で検査対象である被検査回路基板1をさらに加圧した際に、中間保持板36のバネ弾性力が発揮されることになる。   As described above, the intermediate holding plate 36 bends in the opposite directions around the first contact support position 38A and the second contact support position 38B, so that the first inspection jig 11a and the second inspection jig 11a When the circuit board 1 to be inspected is further pressurized with the inspection jig 11b, the spring elastic force of the intermediate holding plate 36 is exerted.

また、図39の一点鎖線で囲んだB部分で示したように、第2の異方導電性シート26の導電路形成部の突出部の圧縮によって、導電ピン32bの高さが吸収されるが、この突出部の圧縮よって吸収しきれない圧力が、第1の絶縁板34bに加わることになる。   39, the height of the conductive pin 32b is absorbed by the compression of the protruding portion of the conductive path forming portion of the second anisotropic conductive sheet 26, as indicated by the B portion surrounded by the one-dot chain line in FIG. The pressure that cannot be absorbed by the compression of the protrusion is applied to the first insulating plate 34b.

したがって、図39の一点鎖線で囲んだC部分で示したように、第1の絶縁板34と第2の絶縁板35も、第1の支持ピン33、第2の支持ピン37との当接位置で、相互に反対方向に撓むので、第1の検査治具11aと第2の検査治具11bとの間で検査対象である被検査回路基板1をさらに加圧した際に、第1の絶縁板34と第2の絶縁板35のバネ弾性力が発揮されることになる。   Therefore, as shown by a portion C surrounded by a one-dot chain line in FIG. 39, the first insulating plate 34 and the second insulating plate 35 are also in contact with the first support pin 33 and the second support pin 37. When the circuit board 1 to be inspected is further pressed between the first inspection jig 11a and the second inspection jig 11b, the first and second inspection jigs 11b are bent. The spring elastic force of the insulating plate 34 and the second insulating plate 35 is exhibited.

これにより、高さバラツキを有する被検査回路基板1の被検査電極のそれぞれに対して安定的な電気的接触が確保され、さらに応力集中が低減されるので、中継基板29の弾性部の局部的な破損が抑制される。その結果、中継基板29の繰り返し使用耐久性が向上するので、その交換回数が減り、検査作業効率が向上することになる。   As a result, stable electrical contact is ensured with respect to each of the electrodes to be inspected of the circuit board 1 to be inspected having a height variation, and further, stress concentration is reduced, so that the elastic portion of the relay substrate 29 is locally localized. Damage is suppressed. As a result, since the repeated use durability of the relay substrate 29 is improved, the number of times of replacement is reduced, and the inspection work efficiency is improved.

図40は、本発明の検査装置の他の実施形態を説明する図36と同様な断面図(便宜的に第2の検査治具のみ示している)、図41は、その中継ピンユニットの拡大断面図である。この検査装置は、図1に示した検査装置と基本的には同様な構成であり、同一の構成部材には同一の参照番号を付している。この検査装置では、図40および図41に示したように、第1の絶縁板34と第2の絶縁板35との間に、複数個(本実施形態では3個)の中間保持板36が所定間隔離間して配置されるとともに、これらの隣接する中間保持板36同士の間に、保持板支持ピン39が配置されている。   40 is a cross-sectional view similar to FIG. 36 for explaining another embodiment of the inspection apparatus of the present invention (only the second inspection jig is shown for convenience), and FIG. 41 is an enlarged view of the relay pin unit. It is sectional drawing. This inspection apparatus has basically the same configuration as the inspection apparatus shown in FIG. 1, and the same reference numerals are assigned to the same components. In this inspection apparatus, as shown in FIGS. 40 and 41, a plurality (three in this embodiment) of intermediate holding plates 36 are provided between the first insulating plate 34 and the second insulating plate 35. The holding plate support pins 39 are arranged between the adjacent intermediate holding plates 36 while being spaced apart from each other by a predetermined distance.

この場合、少なくとも1つの中間保持板36bにおいて、中間保持板36bに対して一面側から当接する保持板支持ピン39bの中間保持板36bに対する当接支持位置と、中間保持板36bに対して他面側から当接する第1の支持ピン33b、第2の支持ピン37b、または保持板支持ピン39bの中間保持板36bに対する当接支持位置とが、中間保
持板36bの厚さ方向に投影した中間保持板投影面において異なる位置に配置されていることが必要である。
In this case, in at least one intermediate holding plate 36b, the holding support position of the holding plate support pin 39b that comes into contact with the intermediate holding plate 36b from one surface side with respect to the intermediate holding plate 36b, and the other surface with respect to the intermediate holding plate 36b. The intermediate support projected from the contact position of the first support pin 33b, the second support pin 37b, or the holding plate support pin 39b with respect to the intermediate holding plate 36b in the thickness direction of the intermediate holding plate 36b. It is necessary that they are arranged at different positions on the plate projection surface.

最も好ましくは、全ての中間保持板36bにおいて、中間保持板36bに対して一面側から当接する保持板支持ピン39bの中間保持板36bに対する当接支持位置と、中間保持板36bに対して他面側から当接する第1の支持ピン33b、第2の支持ピン37b、または保持板支持ピン39bの中間保持板36bに対する当接支持位置とが、中間保持板36bの厚さ方向に投影した中間保持板投影面において異なる位置に配置される。   Most preferably, in all of the intermediate holding plates 36b, the holding plate support pins 39b that come into contact with the intermediate holding plate 36b from one surface side are in contact with the intermediate holding plate 36b, and the other surface of the intermediate holding plate 36b. The intermediate support projected from the contact position of the first support pin 33b, the second support pin 37b, or the holding plate support pin 39b with respect to the intermediate holding plate 36b in the thickness direction of the intermediate holding plate 36b. They are arranged at different positions on the plate projection plane.

この場合、詳述しないが、「異なる位置」とは、前述した実施形態において、第1の支持ピン33と中間保持板36との第1の当接支持位置38Aと、第2の支持ピン37と中間保持板36との第2の当接支持位置38Bとの間の関係で説明した相対位置と同様な配置とすることが可能である。   In this case, although not described in detail, the “different positions” means the first contact support position 38A between the first support pin 33 and the intermediate holding plate 36 and the second support pin 37 in the above-described embodiment. And the relative position described with respect to the relationship between the intermediate holding plate 36 and the second contact support position 38B.

本実施形態では、3つの中間保持板36bのうち上側の中間保持板36bにおいて、中間保持板36bに対して一面側から当接する保持板支持ピン39bの中間保持板36bに対する当接支持位置39Aと、中間保持板36bに対して他面側から当接する第1の支持ピン33bの中間保持板36bに対する当接支持位置38Aとが、中間保持板36bの厚さ方向に投影した中間保持板投影面において異なる位置に配置されている。   In the present embodiment, in the upper intermediate holding plate 36b among the three intermediate holding plates 36b, the holding support position 39A of the holding plate support pin 39b that comes into contact with the intermediate holding plate 36b from the one surface side with respect to the intermediate holding plate 36b; The intermediate support plate projection surface projected from the contact support position 38A of the first support pin 33b that contacts the intermediate support plate 36b from the other side with respect to the intermediate support plate 36b in the thickness direction of the intermediate support plate 36b. Are arranged at different positions.

また、3つの中間保持板36bのうち中央の中間保持板36bにおいて、中間保持板36bに対して一面側から当接する保持板支持ピン39bの中間保持板36bに対する当接支持位置39Aと、中間保持板36bに対して他面側から当接する保持板支持ピン39bの中間保持板36bに対する当接支持位置39Aとが、中間保持板36bの厚さ方向に投影した中間保持板投影面において異なる位置に配置されている。   Further, in the middle intermediate holding plate 36b among the three intermediate holding plates 36b, the holding support position 39A of the holding plate support pin 39b that comes into contact with the intermediate holding plate 36b from one side and the intermediate holding plate 36b, and the intermediate holding plate The holding support position 39A of the holding plate support pin 39b that is in contact with the plate 36b from the other surface side with respect to the intermediate holding plate 36b is at a different position on the intermediate holding plate projection surface projected in the thickness direction of the intermediate holding plate 36b. Is arranged.

また、3つの中間保持板36bのうち下側の中間保持板36bにおいて、中間保持板36bに対して一面側から当接する保持板支持ピン39bの中間保持板36bに対する当接支持位置39Aと、中間保持板36bに対して他面側から当接する第2の支持ピン37bの中間保持板36bに対する当接支持位置38Bとが、中間保持板36bの厚さ方向に投影した中間保持板投影面において異なる位置に配置されている。   Further, in the lower intermediate holding plate 36b among the three intermediate holding plates 36b, the holding support position 39A of the holding plate support pin 39b that comes into contact with the intermediate holding plate 36b from one surface side with respect to the intermediate holding plate 36b, The contact support position 38B of the second support pin 37b that contacts the holding plate 36b from the other surface side with respect to the intermediate holding plate 36b is different on the intermediate holding plate projection surface projected in the thickness direction of the intermediate holding plate 36b. Placed in position.

このように構成することによって、これらの複数個の中間保持板36によってバネ弾性がさらに発揮されることになり、被検査回路基板1の被検査電極の高さバラツキに対して、圧力集中を分散させて、局部的な応力集中をさらに回避することができ、中継基板29の弾性部の局部的な破損が抑制され、その結果、中継基板29の繰り返し使用耐久性が向上するので、中継基板29の交換回数が減り、検査作業効率が向上する。   With this configuration, the spring elasticity is further exhibited by the plurality of intermediate holding plates 36, and the pressure concentration is distributed with respect to the height variation of the electrodes to be inspected of the circuit board 1 to be inspected. Thus, local stress concentration can be further avoided, and local breakage of the elastic portion of the relay board 29 is suppressed. As a result, the repeated use durability of the relay board 29 is improved. The number of replacements is reduced and inspection work efficiency is improved.

なお、中間保持板36の個数としては、複数個であればよく、特に限定されるものではない。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲内において種々の変形、変更が可能である。
The number of intermediate holding plates 36 is not particularly limited as long as it is plural.
As mentioned above, although embodiment of this invention was described, this invention is not limited to these embodiment, A various deformation | transformation and change are possible within the range which does not deviate from the summary.

例えば、被検査回路基板1は、プリント回路基板以外に、パッケージIC、MCM、CSPなどの半導体集積回路装置、ウェハに形成された回路装置であってもよい。また、プリント回路基板は、両面プリント回路基板だけではなく片面プリント回路基板であってもよい。   For example, the circuit board 1 to be inspected may be a semiconductor integrated circuit device such as a package IC, MCM, or CSP, or a circuit device formed on a wafer, in addition to a printed circuit board. Further, the printed circuit board may be a single-sided printed circuit board as well as a double-sided printed circuit board.

第1の検査治具11aと第2の検査治具11bは、使用材料、部材構造などにおいて必ずしも同一である必要はなく、これらが異なるものであってもよい。
テスター側コネクタは、コネクタ基板のような回路基板と異方導電性シートを複数積層して構成してもよい。
The first inspection jig 11a and the second inspection jig 11b are not necessarily the same in materials used, member structures, and the like, and they may be different.
The tester-side connector may be configured by laminating a plurality of circuit boards such as connector boards and anisotropic conductive sheets.

上記の実施形態では、第2の異方導電性シート26および第3の異方導電性シート42として、厚み方向に延びる複数の導電路形成部と、これらの導電路形成部を互いに絶縁する絶縁部とからなり、導電性粒子が導電路形成部中にのみ含有され、これにより該導電性粒子は面方向に不均一に分散されるとともに、シート片面側に導電路形成部が突出しているものを用いたが、必ずしもこれに限定されるものではない。   In the above embodiment, as the second anisotropic conductive sheet 26 and the third anisotropic conductive sheet 42, a plurality of conductive path forming portions extending in the thickness direction and insulation that insulates these conductive path forming portions from each other. And the conductive particles are contained only in the conductive path forming part, whereby the conductive particles are dispersed unevenly in the surface direction, and the conductive path forming part protrudes on one side of the sheet However, the present invention is not necessarily limited to this.

また、図1、図2、図36、図37、図39および図40に示したように、テスター側コネクタ41におけるコネクタ基板43とベース板46との間に、支持ピン49を配置してもよい。これらの支持ピン49によって、第1の支持ピン33、第2の支持ピン37(図40では第1の支持ピン33、第2の支持ピン37および保持板支持ピン39)が与える作用と同様にして、面圧を分散させる作用を与えることも可能である。この面圧分散作用を与えるためには、支持ピン49の位置と、第2の支持ピン37の位置とが面方向において互いに異なるようにこれらを配置することが好ましい。   Further, as shown in FIGS. 1, 2, 36, 37, 39, and 40, support pins 49 may be arranged between the connector board 43 and the base plate 46 in the tester side connector 41. Good. These support pins 49 have the same action as the first support pin 33 and the second support pin 37 (the first support pin 33, the second support pin 37, and the holding plate support pin 39 in FIG. 40). Thus, it is possible to provide an effect of dispersing the surface pressure. In order to give this surface pressure dispersion action, it is preferable to arrange these so that the position of the support pin 49 and the position of the second support pin 37 are different from each other in the surface direction.

以下に、本発明の具体的な実施例および比較例を示す。
[実施例1]
レール搬送型回路基板自動検査機(日本電産リード社製,品名:STARREC V5)の検査部に適合する、図1に示したような、下記の評価用回路基板を検査するための回路基板検査装置を作製した。
(1)評価用回路基板1
下記の仕様の評価用回路基板1を用意した。
寸法:100mm(縦)×100mm(横)×0.8mm(厚み)
上面側の被検査電極の数:3600個
上面側の被検査電極の径:0.2mm
上面側の被検査電極の最小配置ピッチ:0.4mm
下面側の被検査電極の数:2600個
下面側の被検査電極の径:0.2mm
下面側の被検査電極の最小配置ピッチ:0.4mm
(2)ピッチ変換用基板23
ガラス繊維補強型エポキシ樹脂からなる厚さ0.5mmの絶縁基板の両面全面に、厚みが18μmの銅からなる金属薄層を形成した積層材料(松下電工社製,品名:R−1766)に、数値制御型ドリリング装置によって、それぞれ積層材料の厚み方向に貫通する直径0.1mmの円形の貫通孔を合計で7200個形成した。
Specific examples and comparative examples of the present invention are shown below.
[Example 1]
A circuit board inspection for inspecting the following evaluation circuit board as shown in FIG. 1, which is suitable for an inspection section of a rail conveyance type automatic circuit board inspection machine (manufactured by Nidec Reed, product name: STARREC V5). A device was made.
(1) Circuit board for evaluation 1
An evaluation circuit board 1 having the following specifications was prepared.
Dimensions: 100mm (length) x 100mm (width) x 0.8mm (thickness)
Number of electrodes to be inspected on the upper surface side: 3600 Diameters of electrodes to be inspected on the upper surface side: 0.2 mm
Minimum arrangement pitch of the electrodes to be inspected on the upper surface side: 0.4 mm
Number of electrodes to be inspected on the lower surface side: 2600 Diameters of electrodes to be inspected on the lower surface side: 0.2 mm
Minimum arrangement pitch of the electrodes to be inspected on the lower surface side: 0.4 mm
(2) Pitch conversion substrate 23
A laminated material (Matsushita Electric Works, product name: R-1766) in which a thin metal layer made of copper having a thickness of 18 μm is formed on both surfaces of an insulating substrate made of glass fiber reinforced epoxy resin and having a thickness of 0.5 mm, A total of 7200 circular through-holes with a diameter of 0.1 mm, each penetrating in the thickness direction of the laminated material, were formed by a numerically controlled drilling apparatus.

この場合、貫通孔の形成は2個を一組として、評価用回路基板の上面側の被検査電極に対応する位置に形成し、一組の貫通孔は0.1mmの間隙を設けて形成した(すなわち、貫通孔A=0.1mmと貫通孔B=0.1mmとの間の間隙=0.1mmとなるように設定することを意味する)。   In this case, the two through holes are formed as a set at a position corresponding to the electrode to be inspected on the upper surface side of the evaluation circuit board, and the set of through holes is formed with a gap of 0.1 mm. (That is, it means that the gap between the through hole A = 0.1 mm and the through hole B = 0.1 mm is set to be 0.1 mm).

その後、貫通孔が形成された積層材料に対し、EDTAタイプ銅メッキ液を用いて無電解メッキ処理を施すことにより、各貫通孔の内壁に銅メッキ層を形成し、さらに、硫酸銅メッキ液を用いて電解銅メッキ処理を施すことにより、各貫通孔内に、積層材料表面の各金属薄層を互いに電気的に接続する、厚さ約10μmの円筒状のバイアホールを形成した。   Thereafter, the laminated material in which the through holes are formed is subjected to an electroless plating process using an EDTA type copper plating solution, thereby forming a copper plating layer on the inner wall of each through hole. By using the electrolytic copper plating treatment, a cylindrical via hole having a thickness of about 10 μm was formed in each through hole to electrically connect the thin metal layers on the surface of the laminated material to each other.

次いで、積層材料表面の金属薄層上に、厚みが25μmのドライフィルムレジスト(東
京応化製,品名:FP−225)をラミネートしてレジスト層を形成するとともに、この積層材料の他面側の金属薄層上に保護シールを配置した。このレジスト層上にフォトマスクフィルムを配置し、レジスト層に対して、平行光露光機(オーク製作所製)を用いて露光処理を施した後、現像処理を行うことにより、エッチング用のレジストパターンを形成した。そして、レジストパターンを形成した面の金属薄層に対してエッチング処理を施すことにより、絶縁基板の表面に、横60μm、縦120μmの矩形の7200個の接続電極と、各接続電極とバイアホールとを電気的に接続する線幅が100μmのパターン配線部を形成し、次いで、レジストパターンを除去した。
Next, a dry film resist (product name: FP-225, manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) having a thickness of 25 μm is laminated on the metal thin layer on the surface of the laminated material to form a resist layer, and the metal on the other side of the laminated material A protective seal was placed on the thin layer. A photomask film is disposed on the resist layer, and the resist layer is subjected to an exposure process using a parallel light exposure machine (manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.), followed by a development process, whereby a resist pattern for etching is formed. Formed. Then, by applying an etching process to the thin metal layer on the surface on which the resist pattern is formed, 7200 connection electrodes having a rectangular shape of 60 μm wide and 120 μm long, and each connection electrode and via hole are formed on the surface of the insulating substrate. A pattern wiring portion having a line width of 100 μm for electrically connecting the two was formed, and then the resist pattern was removed.

次に、積層材料の接続電極とパターン配線部を形成した側の面に、厚みが25μmのドライフィルムレジスト(東京応化製,品名:FP−225)をラミネートしてレジスト層を形成し、このレジスト層の上にフォトマスクフィルムを配置して、レジスト層に対して平行光露光機(オーク製作所製)を用いて露光処理を施した後、現像処理を行うことにより、それぞれの接続電極を露出する、横方向60μm、縦方向120μmの矩形の7200個の開口を形成した。   Next, a dry film resist (product name: FP-225, manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) having a thickness of 25 μm is laminated on the surface of the laminated material on which the connection electrode and the pattern wiring portion are formed, and a resist layer is formed. A photomask film is placed on the layer, and the resist layer is exposed to light using a parallel light exposure machine (manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.), and then developed to expose the respective connection electrodes. 7200 rectangular openings having a horizontal direction of 60 μm and a vertical direction of 120 μm were formed.

そして、硫酸銅メッキ液を用い、積層材料の他面側の金属薄層を共通電極として用い、それぞれの接続電極に対して電解銅メッキ処理を施すことにより7200個の接続電極を形成した。次いでレジストパターンを除去した。   Then, using the copper sulfate plating solution, the thin metal layer on the other side of the laminated material was used as a common electrode, and 7200 connection electrodes were formed by subjecting each connection electrode to electrolytic copper plating. Next, the resist pattern was removed.

次いで、積層材料の他面側の金属薄層上の保護シールを除去し、この面の金属薄層上に、厚みが25μmのドライフィルムレジスト(東京応化製,品名:FP−225)をラミネートしてレジスト層を形成した。その後、このレジスト層上にフォトマスクフィルムを配置し、レジスト層に対して、平行光露光機(オーク製作所製)を用いて露光処理を施した後、現像処理を行うことにより、積層材料における金属薄層上にエッチング用のレジストパターンを形成した。   Next, the protective seal on the thin metal layer on the other side of the laminated material is removed, and a dry film resist (product name: FP-225, manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) having a thickness of 25 μm is laminated on the thin metal layer on this side. A resist layer was formed. Thereafter, a photomask film is disposed on the resist layer, and the resist layer is exposed to light using a parallel light exposure machine (manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.). A resist pattern for etching was formed on the thin layer.

次いで、積層材料の接続電極を形成した側の面に保護シールを施した後に、エッチング処理を施すことにより、絶縁性基板の裏面に7200個の端子電極と、各端子電極とバイアホールとを電気的に接続するパターン配線部を形成し、レジストパターンを除去した。   Next, a protective seal is applied to the surface on which the connection electrode of the laminated material is formed, and then an etching process is performed to electrically connect 7200 terminal electrodes, each terminal electrode, and the via hole to the back surface of the insulating substrate. The pattern wiring part to be connected was formed, and the resist pattern was removed.

次いで、端子電極およびパターン配線部が形成された絶縁基板の裏面に、厚みが38μmのドライフィルムソルダーレジスト(ニチゴーモートン製、品名:コンフォマスク2015)をラミネートして絶縁層を形成し、この絶縁層上にフォトマスクフィルムを配置し、次いで、絶縁層に対して、平行光露光機(オーク製作所製)を用いて露光処理を施した後、現像処理することにより、電極を露出する直径0.4mmの開口を7200個形成した。   Next, an insulating layer is formed by laminating a dry film solder resist (made by Nichigo Morton, product name: conform mask 2015) having a thickness of 38 μm on the back surface of the insulating substrate on which the terminal electrode and the pattern wiring portion are formed. A photomask film is placed on the surface, and then the insulating layer is exposed to light using a parallel light exposure machine (manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.) and then developed to provide an electrode with a diameter of 0.4 mm. 7200 openings were formed.

以上のようにして、第1の検査治具11a用のピッチ変換用基板23aを作製した。このピッチ変換用基板23aは、縦横の寸法が120mm×160mm、厚みが0.5mm、接続用電極25の絶縁層表面から露出した部分の寸法が、横方向約60μmで、縦方向約120μm、接続用電極25の絶縁層表面からの突出高さが約30μm、対をなす接続用電極25間の離間距離が30μm、端子電極24の直径が0.4mm、端子電極24の配置ピッチが0.75mmであった。   As described above, the pitch conversion substrate 23a for the first inspection jig 11a was produced. This substrate 23a for pitch conversion has a vertical and horizontal dimension of 120 mm × 160 mm, a thickness of 0.5 mm, and the dimension of the portion exposed from the insulating layer surface of the connection electrode 25 is about 60 μm in the horizontal direction and about 120 μm in the vertical direction The protrusion height of the electrode 25 from the insulating layer surface is about 30 μm, the distance between the paired connection electrodes 25 is 30 μm, the diameter of the terminal electrode 24 is 0.4 mm, and the arrangement pitch of the terminal electrodes 24 is 0.75 mm. Met.

また、上記と同様にして、表面に5200個の接続用電極25を有すると共に裏面に5200個の端子電極24を有する、第2の検査治具11b用のピッチ変換用基板23bを作製した。   Further, in the same manner as described above, a pitch conversion substrate 23b for the second inspection jig 11b having 5200 connection electrodes 25 on the front surface and 5200 terminal electrodes 24 on the back surface was produced.

このピッチ変換用基板23bは、縦横の寸法が120mm×160mm、厚みが0.5
mm、接続用電極25における絶縁層の表面に露出した部分の横方向約60μmで、縦方向約120μm、接続用電極25における絶縁層の表面からの突出高さが約30μm、対をなす接続用電極25間の離間距離が30μm、端子電極24の直径が0.4mm、端子電極24の配置ピッチが0.75mmのものである。
(3)中継基板29
1.基板の製造
両面に銅箔を備えた厚みが25μmの液晶ポリマー銅張積層板(新日鐵化学:エスパネックス LB18−25−18NEP)に対してエッチングを行い、両面の銅箔を除去することにより厚み25μmの液晶ポリマーシートを得た。
The pitch converting substrate 23b has a vertical and horizontal dimension of 120 mm × 160 mm and a thickness of 0.5 mm.
mm, about 60 μm in the lateral direction of the portion of the connecting electrode 25 exposed on the surface of the insulating layer, about 120 μm in the vertical direction, and about 30 μm in the protruding height from the surface of the insulating layer in the connecting electrode 25, for paired connection The distance between the electrodes 25 is 30 μm, the diameter of the terminal electrodes 24 is 0.4 mm, and the arrangement pitch of the terminal electrodes 24 is 0.75 mm.
(3) Relay board 29
1. Manufacturing of substrate Etching is performed on a liquid crystal polymer copper clad laminate (Nippon Steel Chemical Co., Ltd .: Espanex LB18-25-18NEP) having a thickness of 25 μm with copper foil on both sides, and removing the copper foil on both sides A liquid crystal polymer sheet having a thickness of 25 μm was obtained.

この液晶ポリマーシートに、形成するべき貫通孔に対応する開口を有する厚さ18μmの銅よりなるレーザー加工用金属マスクを積層し、炭酸ガスレーザー加工機にて、レーザー加工用金属マスクの開口部を介してレーザー光を照射することにより液晶ポリマーシートに所定の貫通孔を形成した。   This liquid crystal polymer sheet is laminated with a metal mask for laser processing made of copper having a thickness of 18 μm and having an opening corresponding to the through-hole to be formed. A predetermined through-hole was formed in the liquid crystal polymer sheet by irradiating with laser light.

以上において、炭酸ガスレーザー装置によるレーザー加工は、炭酸ガスレーザー加工機「ML−605GTX」(三菱電機(株)製)を用い、レーザービーム径が直径60μm,レーザー出力が0.8mJの条件で、1つの加工点にレーザービームを10ショット照射することにより行った。   In the above, the laser processing by the carbon dioxide laser device uses the carbon dioxide laser processing machine “ML-605GTX” (manufactured by Mitsubishi Electric Corporation), under the conditions of a laser beam diameter of 60 μm and a laser output of 0.8 mJ, This was performed by irradiating one processing point with 10 shots of a laser beam.

得られた基板73の寸法、貫通孔の数および直径は以下のとおりである。
〔上側の中継基板29a用の基板73a〕
寸法:90mm(縦)×90mm(横)×25μm(厚み)
貫通孔の数:3600個
貫通孔の直径:0.3mm
〔下側の中継基板29b用の基板73b〕
寸法:90mm(縦)×90mm(横)×25μm(厚み)
貫通孔の数:2600個
貫通孔の直径:0.3mm
2.導電性エラストマー層の形成
付加型液状シリコーンゴム100重量部中に、ニッケルよりなる芯粒子に金が被覆されてなる導電性粒子(芯粒子に対する金の割合が2重量%)400重量部を分散させることにより、導電性エラストマー用材料を調製した。この導電性エラストマー用材料を、厚みが5mmのステンレスよりなる離型性支持板65の表面に、スクリーン印刷により塗布することにより、離型性支持板65上に、厚みが0.05mmの導電性エラストマー用材料層61Aを形成した(図7)。
The dimensions of the obtained substrate 73, the number of through holes, and the diameter are as follows.
[Substrate 73a for Upper Relay Board 29a]
Dimensions: 90mm (length) x 90mm (width) x 25μm (thickness)
Number of through holes: 3600 Diameter of through hole: 0.3 mm
[Substrate 73b for Lower Relay Board 29b]
Dimensions: 90mm (length) x 90mm (width) x 25μm (thickness)
Number of through holes: 2600 Diameter of through holes: 0.3 mm
2. Formation of conductive elastomer layer In 100 parts by weight of addition-type liquid silicone rubber, 400 parts by weight of conductive particles (the ratio of gold to the core particles is 2% by weight) in which core particles of nickel are coated are dispersed. Thus, a conductive elastomer material was prepared. By applying this conductive elastomer material to the surface of a releasable support plate 65 made of stainless steel having a thickness of 5 mm by screen printing, a conductive material having a thickness of 0.05 mm is formed on the releasable support plate 65. An elastomer material layer 61A was formed (FIG. 7).

次いで、導電性エラストマー用材料層65に対して、電磁石によって厚み方向に2テスラの磁場を作用させながら、120℃、1時間の条件で硬化処理を行うことにより、離型性支持板65上に支持された厚みが0.05mmの導電性エラストマー層65Bを形成した(図10)。
3.導電路形成部の形成
離型性支持板65上に支持された導電性エラストマー層65Bの表面に、無電解メッキ処理を施すことによって、厚みが0.3μmの銅よりなる金属薄層66を形成し(図11)、この金属薄層66上に、フォトリソグラフィーの手法によって横60μm、縦120μmの矩形の7200個の開口が形成された、厚みが25μmのレジスト層67を形成した(図12)。その後、金属薄層66の表面に電解メッキ処理を施すことにより、レジスト層67の開口内に厚みが約20μmの銅よりなる金属マスク68を形成した(図13)。そして、この状態で、金属マスク68の周辺部の導電性エラストマー層65B、金属薄層66およびレジスト層67に対して、炭酸ガスレーザー装置によってレーザー加工を施
すことにより、離型性支持板65上に支持された7200個の導電路形成部61を形成し(図15B)、次に、導電路形成部61をレーザー加工により切り離した残余の導電性エラストマー層を剥離することにより、図15(c)に示したように導電路形成部61のみを離型性支持板65上に残存させた。その後、導電路形成部61の表面から残存する金属薄層66および金属マスク68をエッチングにより除去した。
Next, the conductive elastomer material layer 65 is subjected to a curing process at 120 ° C. for 1 hour while applying a magnetic field of 2 Tesla in the thickness direction by an electromagnet, thereby forming the material layer 65 on the releasable support plate 65. A supported conductive elastomer layer 65B having a thickness of 0.05 mm was formed (FIG. 10).
3. Formation of conductive path forming portion By performing electroless plating on the surface of conductive elastomer layer 65B supported on releasable support plate 65, metal thin layer 66 made of copper having a thickness of 0.3 μm is formed. Then, a resist layer 67 having a thickness of 25 μm, in which 7200 rectangular openings having a width of 60 μm and a length of 120 μm were formed by photolithography, was formed on the thin metal layer 66 (FIG. 12). . Thereafter, the surface of the metal thin layer 66 was subjected to electrolytic plating, thereby forming a metal mask 68 made of copper having a thickness of about 20 μm in the opening of the resist layer 67 (FIG. 13). In this state, the conductive elastomer layer 65B, the metal thin layer 66, and the resist layer 67 around the metal mask 68 are subjected to laser processing with a carbon dioxide gas laser device, whereby the releasable support plate 65 is covered. 7200 conductive path forming portions 61 supported on the substrate (FIG. 15B), and then the remaining conductive elastomer layer obtained by cutting the conductive path forming portion 61 by laser processing is peeled off, so that FIG. Only the conductive path forming part 61 was left on the releasable support plate 65 as shown in FIG. Thereafter, the remaining thin metal layer 66 and metal mask 68 were removed from the surface of the conductive path forming portion 61 by etching.

以上において、炭酸ガスレーザー装置によるレーザー加工は、炭酸ガスレーザー加工機「ML−605GTX」(三菱電機(株)製)を用い、レーザービーム径が直径60μm、レーザー出力が0.8mJの条件で、1つの加工点にレーザービームを10ショット照射することにより行った。
4.絶縁部の形成
離型性支持板70の表面に付加型液状シリコーンゴムを塗布して厚み15μmのシリコーンゴム層を設けた(図25(a))。
In the above, the laser processing by the carbon dioxide laser device uses the carbon dioxide laser processing machine “ML-605GTX” (manufactured by Mitsubishi Electric Corporation), under the conditions of a laser beam diameter of 60 μm and a laser output of 0.8 mJ, This was performed by irradiating one processing point with 10 shots of a laser beam.
4). Formation of Insulating Portion An additional liquid silicone rubber was applied to the surface of the releasable support plate 70 to provide a silicone rubber layer having a thickness of 15 μm (FIG. 25 (a)).

離型性支持板70の表面に、液晶ポリマーシートからなる基板73を上記のシリコーンゴム層を介して載置し(図25(b))、基板73の貫通孔内に付加型液状シリコーンゴムを塗布することにより、合計の厚みが0.05mmの絶縁部用材料層62Aを形成し(図25(c))、この絶縁部用材料層62A上に、7200個の導電路形成部61が形成された離型性支持板65を位置合わせして重ね合わせた(図26(a))。   A substrate 73 made of a liquid crystal polymer sheet is placed on the surface of the releasable support plate 70 via the silicone rubber layer (FIG. 25 (b)), and the additional liquid silicone rubber is placed in the through hole of the substrate 73. By application, an insulating part material layer 62A having a total thickness of 0.05 mm is formed (FIG. 25C), and 7200 conductive path forming parts 61 are formed on the insulating part material layer 62A. The released releasable support plates 65 were aligned and overlapped (FIG. 26 (a)).

そして、離型性支持板65に20kgfの圧力を加えることにより、導電路形成部61の厚みを0.05mmから0.04mmに弾性的に圧縮させ、この状態で、120℃、1時間の条件で、絶縁部用材料層62の硬化処理を行うことにより、隣接する導電路形成部61の間に絶縁部62を形成し(図26(b))、その後、離型性支持板から離型させることにより、第1の検査治具11a用の中継基板29aを製造した(図26(c))。   Then, by applying a pressure of 20 kgf to the releasable support plate 65, the thickness of the conductive path forming portion 61 is elastically compressed from 0.05 mm to 0.04 mm, and in this state, the condition of 120 ° C. for 1 hour Then, the insulating portion 62 is formed between the adjacent conductive path forming portions 61 by curing the insulating portion material layer 62 (FIG. 26B), and then released from the releasable support plate. Thus, the relay substrate 29a for the first inspection jig 11a was manufactured (FIG. 26C).

このようにして作成した第1の検査治具11a用の中継基板29aは、基板73aの寸法が90mm(縦)×90mm(横)×25μm(厚み)、導電路形成部61aの数が7200個、導電路形成部61aの寸法が横60μm、縦120μm、厚みが約0.05mm、絶縁部62aの厚みが約0.03mm、隣接する導電路形成部61a間の絶縁部62aの幅が30μm、絶縁部62aからの導電路形成部61aの突出高さが上下を合計して約0.02mmであった。   The thus-prepared relay substrate 29a for the first inspection jig 11a has a size of the substrate 73a of 90 mm (vertical) × 90 mm (horizontal) × 25 μm (thickness), and the number of conductive path forming portions 61a is 7200. The dimension of the conductive path forming portion 61a is 60 μm wide, 120 μm long, the thickness is approximately 0.05 mm, the thickness of the insulating portion 62a is approximately 0.03 mm, the width of the insulating portion 62a between the adjacent conductive path forming portions 61a is 30 μm, The total projecting height of the conductive path forming portion 61a from the insulating portion 62a was about 0.02 mm.

また、第1の検査治具11a用の中継基板29aと同様の工程によって、第2の検査治具11b用の中継基板29bを作成した。この中継基板29bは、導電路形成部61bの数が5200個、導電路形成部61bの寸法が横60μm、縦120μm、厚みが約0.05mm、絶縁部62bの厚みが約0.03mm、隣接する導電路形成部61b間の絶縁部62bの幅が30μm、絶縁部62bからの導電路形成部61bの突出高さが上下を合計して約0.02mmであった。
(4)回路基板側コネクタ21
上記のピッチ変換用基板23の一面側に、中継基板29を配置し、裏面側に、厚み方向に延びる多数の導電路形成部と、これらを互いに絶縁する絶縁部とからなり、片面に導電路形成部が突出した偏在型異方導電性シートからなる第2の異方導電性シート26を配置することにより、回路基板側コネクタ21とした。
Further, the relay substrate 29b for the second inspection jig 11b was created by the same process as the relay substrate 29a for the first inspection jig 11a. In this relay substrate 29b, the number of conductive path forming portions 61b is 5200, the size of the conductive path forming portions 61b is 60 μm wide, 120 μm long, the thickness is approximately 0.05 mm, and the thickness of the insulating portion 62b is approximately 0.03 mm. The width of the insulating part 62b between the conductive path forming parts 61b to be performed was 30 μm, and the total projecting height of the conductive path forming part 61b from the insulating part 62b was about 0.02 mm.
(4) Circuit board side connector 21
The relay substrate 29 is disposed on one surface side of the pitch conversion substrate 23, and on the back surface side, a plurality of conductive path forming portions extending in the thickness direction and insulating portions that insulate them from each other are formed. The circuit board-side connector 21 was formed by arranging a second anisotropic conductive sheet 26 made of an unevenly distributed anisotropic conductive sheet with a projecting portion protruding.

なお、ピッチ変換用基板23と中継ピンユニット31との間に配置される第2の異方導電性シート26は、図29に示される形状であり、具体的には以下の構成のものを使用した。
〔第2の異方導電性シート26〕
寸法:110mm×150mm
導電路形成部の厚み:0.6mm
導電路形成部の外径:0.35mm
導電路形成部の突出高さ:0.05mm
導電性粒子:材質;金メッキ処理を施したニッケル粒子、平均粒子径;35μm、導電路形成部における導電性粒子の含有率;30体積%
弾性高分子物質:材質;シリコーンゴム、硬度;30
(5)中継ピンユニット31
第1の絶縁板34、中間保持板36、第2の絶縁板35の材料として、固有抵抗が1×1010Ω・cm以上の絶縁性材料、ガラス繊維補強型エポキシ樹脂よりなり、その厚みが1.9mmのものを用いた。
Note that the second anisotropic conductive sheet 26 disposed between the pitch conversion substrate 23 and the relay pin unit 31 has the shape shown in FIG. 29, and specifically uses the following configuration. did.
[Second anisotropic conductive sheet 26]
Dimensions: 110mm x 150mm
Thickness of conductive path forming part: 0.6 mm
Outside diameter of conductive path forming part: 0.35 mm
Projection height of conductive path forming part: 0.05mm
Conductive particles: material: nickel particles subjected to gold plating treatment, average particle diameter: 35 μm, content of conductive particles in the conductive path forming portion: 30% by volume
Elastic polymer material: material; silicone rubber, hardness: 30
(5) Relay pin unit 31
The material of the first insulating plate 34, the intermediate holding plate 36, and the second insulating plate 35 is made of an insulating material having a specific resistance of 1 × 10 10 Ω · cm or more and a glass fiber reinforced epoxy resin. A 1.9 mm one was used.

そして、第1の絶縁板34と中間保持板36との間の距離L1が、36.3mm、第2の絶縁板35と中間保持板36との間の距離L2が、3mmとなるように、第1の支持ピン33(直径2mm、長さ36.3mm)と、第2の支持ピン37(直径2mm、長さ3mm)によって固定支持するようにするとともに、第1の絶縁板34と第2の絶縁板35との間に、下記の構成からなる導電ピン32を移動自在となるように貫通孔83(直径0.4mm)に配置した。
〔導電ピン〕
材質:金メッキ処理を施した真鍮
先端部81aの寸法:外径0.35mm、全長2.1mm
中央部32の寸法外径0.45mm、全長41mm
基端部81bの寸法:外径0.35mm、全長2.1mm
なお、第1の支持ピン33の中間保持板36との第1の当接支持位置38Aと、第2の支持ピン37の中間保持板36に対する第2の当接支持位置38Bは、図35に示したように、格子状に配置した。なお、互いに隣接する第1の当接支持位置38Aの間の離間距離、第2の当接支持位置38Bの間の離間距離を、17.5mmとした。
(6)テスター側コネクタ41
テスター側コネクタ41を、図1に示したように、第3の異方導電性シート42と、コネクタ基板43と、ベース板46とから構成した。なお、第3の異方導電性シート42は、前述した第2の異方導電性シート26と同様のものを用いた。
性能試験
1.最低プレス圧力の測定
作成した検査装置をレール搬送型回路基板自動検査機「STARREC V5」の検査部にセットし、検査装置に対して用意した評価用回路基板1をセットした。
The distance L1 between the first insulating plate 34 and the intermediate holding plate 36 is 36.3 mm, and the distance L2 between the second insulating plate 35 and the intermediate holding plate 36 is 3 mm. The first support pin 33 (diameter 2 mm, length 36.3 mm) and the second support pin 37 (diameter 2 mm, length 3 mm) are fixedly supported, and the first insulating plate 34 and the second The conductive pin 32 having the following configuration was disposed in the through hole 83 (diameter 0.4 mm) between the insulating plate 35 and the insulating plate 35.
[Conductive pin]
Material: Brass tip 81a with gold plating treatment Dimensions: Outer diameter 0.35mm, Overall length 2.1mm
Center part 32 dimension outer diameter 0.45mm, total length 41mm
Dimensions of base end 81b: outer diameter 0.35mm, total length 2.1mm
The first contact support position 38A of the first support pin 33 with respect to the intermediate holding plate 36 and the second contact support position 38B of the second support pin 37 with respect to the intermediate support plate 36 are shown in FIG. As shown, they were arranged in a grid. The separation distance between the first contact support positions 38A adjacent to each other and the separation distance between the second contact support positions 38B were set to 17.5 mm.
(6) Tester side connector 41
As shown in FIG. 1, the tester-side connector 41 is composed of a third anisotropic conductive sheet 42, a connector substrate 43, and a base plate 46. In addition, the 3rd anisotropic conductive sheet 42 used the thing similar to the 2nd anisotropic conductive sheet 26 mentioned above.
Performance test Measurement of minimum press pressure The prepared inspection apparatus was set in an inspection section of a rail transport type automatic circuit board inspection machine “STARREC V5”, and the prepared evaluation circuit board 1 was set for the inspection apparatus.

そして、レール搬送型回路基板自動検査機「STARREC V5」のプレス圧力を、100〜210kgfの範囲内において段階的に変化させ、各プレス圧力条件毎に各10回づつ、評価用回路基板1の被検査電極について、電流供給用の接続用電極に1ミリアンペアの電流を流したときの導通抵抗値を測定した。   Then, the press pressure of the rail conveyance type automatic circuit board inspection machine “STARCREC V5” is changed stepwise within the range of 100 to 210 kgf, and 10 times each for each press pressure condition, For the inspection electrode, the conduction resistance value was measured when a current of 1 milliampere was passed through the connection electrode for supplying current.

測定された導通抵抗値が10Ω以上となった検査点(以下、「NG検査点」という。)を導通不良と判定し、総検査点におけるNG検査点の割合(以下、「NG検査点割合」という。)を算出し、NG検査点割合が0.01%以下となった最も低いプレス圧力を最低プレス圧力とした。   An inspection point having a measured conduction resistance value of 10Ω or more (hereinafter referred to as “NG inspection point”) is determined as a continuity failure, and a ratio of NG inspection points to the total inspection points (hereinafter referred to as “NG inspection point ratio”). The lowest press pressure at which the NG inspection point ratio was 0.01% or less was defined as the minimum press pressure.

この検査装置においては、実用上、NG検査点割合が0.01%以下であることが必要とされており、NG検査点割合が0.01%を超える場合には、良品である被検査回路基板に対して、不良品であるとの誤った検査結果が得られる場合があることから、信頼性の高い回路基板の電気的検査を行うことができなくなるおそれがある。   In this inspection apparatus, in practice, the NG inspection point ratio is required to be 0.01% or less, and when the NG inspection point ratio exceeds 0.01%, the circuit to be inspected is a good product. Since an erroneous inspection result that the board is defective may be obtained, there is a possibility that a highly reliable electrical inspection of the circuit board cannot be performed.

この導通抵抗値の測定においては、一の導通抵抗値の測定が終了した後に、測定に係るプレス圧力を開放して検査装置を無加圧状態に戻し、次の導通抵抗値の測定は、再度、所定の大きさのプレス圧力を作用させることによって行った。   In the measurement of the conduction resistance value, after the measurement of one conduction resistance value is completed, the press pressure related to the measurement is released to return the inspection device to the non-pressurized state, and the next measurement of the conduction resistance value is performed again. This was performed by applying a pressing pressure of a predetermined magnitude.

評価用回路基板1の上面被検査電極数は3600点、下面被検査電極数は2600点であり、各プレス圧力条件において10回の測定を行ったことから、NG検査点割合は、式(3600+2600)×10=62000によって算出される62000点の検査点に占めるNG検査点の割合を示す。   The number of the upper surface inspected electrodes and the number of the lower surface inspected electrodes of the evaluation circuit board 1 were 2600 points, and the measurement was performed 10 times under each press pressure condition. Therefore, the NG inspection point ratio was expressed by the equation (3600 + 2600). ) × 10 = 62000 indicates the ratio of NG inspection points to 62,000 inspection points.

測定結果を表1に示した。
なお、「最低プレス圧が小さい」とは、低いプレス圧力で被検査回路基板の電気的検査が行えることを意味している。検査時の加圧圧力を低く設定できれば、検査時の加圧圧力による被検査回路基板、異方導電性シートおよびピッチ変換用基板の劣化が抑制できる。
The measurement results are shown in Table 1.
Note that “the minimum press pressure is small” means that the circuit board to be inspected can be electrically inspected with a low press pressure. If the pressurization pressure at the time of inspection can be set low, it is possible to suppress deterioration of the circuit board to be inspected, the anisotropic conductive sheet, and the pitch conversion substrate due to the pressurization pressure at the time of inspection.

しかも、検査装置の構成部材として、耐久性強度の低い部品を使用することが可能となることから、検査装置の構造を小さくコンパクトにすることができる。
その結果、検査装置の耐久性の向上、検査装置の製造のコスト削減が達成できる。
2.中継基板の耐久性の測定
作成した検査装置をレール搬送型回路基板自動検査機「STARREC V5」の検査部にセットした。
And since it becomes possible to use components with low durability strength as a structural member of a test | inspection apparatus, the structure of a test | inspection apparatus can be made small and compact.
As a result, it is possible to improve the durability of the inspection device and reduce the cost of manufacturing the inspection device.
2. Measurement of durability of relay board The prepared inspection apparatus was set in an inspection section of a rail conveyance type automatic circuit board inspection machine “STARREC V5”.

検査装置に対して用意した評価用回路基板1をセットして、レール搬送型回路基板自動検査機「STARREC V5」のプレス圧力条件を130kgfとし、所定回数の加圧を行った。   The evaluation circuit board 1 prepared for the inspection apparatus was set, and the press pressure condition of the rail transport type circuit board automatic inspection machine “STARCREC V5” was set to 130 kgf, and pressurization was performed a predetermined number of times.

その後、評価用回路基板1の被検査電極について、プレス圧力130kgfの条件下にて、検査用電極に1ミリアンペアの電流を印加したときの導通抵抗値を10回測定し、所定回数の加圧を行い同様に導通抵抗値を10回測定する作業を繰り返した。   Thereafter, for the electrode to be inspected on the evaluation circuit board 1, the conduction resistance value is measured 10 times when a current of 1 milliampere is applied to the inspection electrode under the condition of the press pressure of 130 kgf, and the predetermined number of pressurizations are performed. Similarly, the operation of measuring the conduction resistance value 10 times was repeated.

測定された導通抵抗値が10Ω以上となった検査点(NG検査点)を導通不良と判定し、総検査点におけるNG検査点の割合(NG検査点割合)を算出した。
次いで、検査装置の中継基板を新しいものに交換し、プレス圧力条件を150kgfに変更したこと以外は上記と同様の条件によって所定回数の加圧を行い、上記と同様の手法によってNG検査点割合を算出した。
An inspection point (NG inspection point) having a measured conduction resistance value of 10Ω or more was determined as a continuity failure, and a ratio of NG inspection points to the total inspection points (NG inspection point ratio) was calculated.
Next, the relay board of the inspection apparatus is replaced with a new one, and pressurization is performed a predetermined number of times under the same conditions as above except that the press pressure condition is changed to 150 kgf, and the NG inspection point ratio is determined by the same method as above. Calculated.

なお、一の導通抵抗値の測定が終了した後に、測定に係るプレス圧力を開放して検査装置を無加圧状態に戻し、次の導通抵抗値の測定は、所定の大きさのプレス圧力を再度作用させることによって行った。   After the measurement of one conduction resistance value is completed, the press pressure related to the measurement is released to return the inspection device to the non-pressurized state, and the next measurement of the conduction resistance value is performed with a press pressure of a predetermined magnitude. This was done by reacting again.

測定結果を表2に示した。
3.絶縁性の評価
以下のようにして、ピッチ変換用基板23および中継基板29からなるアダプター体における対をなす接続用電極間の絶縁抵抗を評価した。
The measurement results are shown in Table 2.
3. Evaluation of insulation The insulation resistance between the connecting electrodes forming a pair in the adapter body composed of the pitch conversion substrate 23 and the relay substrate 29 was evaluated as follows.

接続用電極間の絶縁抗性の評価には、縦方向100mm、横方向100mm、厚さ0.8mmの、表面を絶縁性コートを施したガラスエポキシ基板を使用した。
作成した検査装置を、レール搬送型回路基板自動検査機「STARREC V5」の検査部にセットし、検査装置に対して上記のガラスエポキシ基板をセットした。
For the evaluation of the insulation resistance between the connecting electrodes, a glass epoxy substrate having a surface of 100 mm, a width of 100 mm, and a thickness of 0.8 mm and having a surface coated with an insulating coating was used.
The created inspection apparatus was set in an inspection section of a rail transport type circuit board automatic inspection machine “STARREC V5”, and the glass epoxy substrate was set on the inspection apparatus.

そして、レール搬送型回路基板自動検査機「STARREC V5」のプレス圧力を、
100〜210kgfの範囲内において段階的に変化させた。そして、各プレス圧力条件毎に各10回づつ、第1の検査治具11a用の上記アダプター体に設けられた、各々の対をなす検査電極25の間の絶縁抵抗を測定した。
And press pressure of rail transport type circuit board automatic inspection machine “STARREC V5”
It was changed stepwise within the range of 100 to 210 kgf. Then, the insulation resistance between each pair of inspection electrodes 25 provided on the adapter body for the first inspection jig 11a was measured 10 times for each press pressure condition.

具体的には、対をなす接続用電極25に対応する端子電極24を通じて1ミリアンペアの電流を印加しつつ、対をなす検査電極25の導通抵抗値を測定した。
この方法にて、対をなす接続用電極25間の絶縁抵抗値、すなわち中継基板29における対をなす導電路形成部61間の絶縁部62の絶縁抵抗値を測定した。
Specifically, the conduction resistance value of the pair of test electrodes 25 was measured while applying a current of 1 milliampere through the terminal electrode 24 corresponding to the pair of connection electrodes 25.
By this method, the insulation resistance value between the paired connection electrodes 25, that is, the insulation resistance value of the insulation part 62 between the paired conductive path forming parts 61 in the relay substrate 29 was measured.

測定された絶縁抵抗値が100Ω以上となった接続用電極対を絶縁良好と判定し、総検査点数に対する絶縁良好と判定された点の割合(以下「絶縁性合格点割合」という。)を算出した。   A connection electrode pair having a measured insulation resistance value of 100Ω or more is determined to have good insulation, and a ratio of points determined to have good insulation with respect to the total number of inspection points (hereinafter referred to as “insulation passing point ratio”) is calculated. did.

第1の検査治具11a用の上記アダプター体における接続用電極25は、7200個が3600個の対となっており、すなわち3600個の接続電極対が存在し、各プレス圧力条件において10回の測定を行ったことから、絶縁性合格点割合は、式(3600)×10=36000によって算出される36000点の検査点に占めるNG検査点の割合を示す。   As for the connection electrodes 25 in the adapter body for the first inspection jig 11a, 7200 are 3600 pairs, that is, there are 3600 connection electrode pairs, and 10 times in each press pressure condition. Since the measurement was performed, the insulating passing point ratio indicates the ratio of the NG inspection points to the 36,000 inspection points calculated by the equation (3600) × 10 = 36000.

この検査装置においては、実用上、絶縁性合格点割合が99.9%以上であることが必要とされており、絶縁性合格点割合が99.9%未満の場合には、検査時において、電流供給用電極として使用する接続用電極から、電圧測定用電極として使用する接続用電極へリーク電流が流れることになる。   In this inspection apparatus, in practice, it is required that the insulating passing point ratio is 99.9% or more. When the insulating passing point ratio is less than 99.9%, at the time of inspection, A leakage current flows from the connection electrode used as the current supply electrode to the connection electrode used as the voltage measurement electrode.

その結果、被検査回路基板の良品である被検査回路基板に対して、不良品であるとの誤った検査結果が得られる場合があるため、信頼性の高い回路基板の電気的検査を行うことができなくなるおそれがある。   As a result, an erroneous inspection result may be obtained for a circuit board to be inspected, which is a non-defective circuit board to be inspected, so that a highly reliable circuit board electrical inspection is performed. There is a risk that it will not be possible.

評価結果を表3に示した。
[比較例1]
実施例1の中継ピンユニット31の代わりに、図42に示したような従来の中継ピンユニット131a、131bを用いた。すなわち、一定ピッチ(2.54mmピッチ)で格子点上に多数(8000ピン)配置された導電ピン132a,132bと、この導電ピン132a,132bを上下へ移動可能に支持する絶縁板134a,134bとを有しているものを用いた。それ以外は実施例1と同様の構成として、比較用の検査装置を作製した。
The evaluation results are shown in Table 3.
[Comparative Example 1]
Instead of the relay pin unit 31 of the first embodiment, conventional relay pin units 131a and 131b as shown in FIG. 42 are used. That is, a large number (8000 pins) of conductive pins 132a and 132b arranged on lattice points at a constant pitch (2.54 mm pitch), and insulating plates 134a and 134b that support the conductive pins 132a and 132b so as to be movable up and down. The thing which has was used. Other than that, the inspection apparatus for comparison was manufactured in the same configuration as in Example 1.

作製した比較用検査装置について、実施例1と同様な方法により、最低プレス圧および中継基板の耐久性を測定した。
最低プレス圧の測定結果を表1に、耐久性の測定結果を表2に示した。
[比較例2]
実施例1の検査装置において、中継基板29の代わりに、ピッチ変換基板23と評価用回路基板1の間に厚さ100μmの分散型異方導電性シートを配置した。
With respect to the manufactured inspection apparatus for comparison, the minimum press pressure and the durability of the relay substrate were measured in the same manner as in Example 1.
The measurement results of the minimum press pressure are shown in Table 1, and the measurement results of durability are shown in Table 2.
[Comparative Example 2]
In the inspection apparatus of Example 1, instead of the relay substrate 29, a distributed anisotropic conductive sheet having a thickness of 100 μm was disposed between the pitch conversion substrate 23 and the evaluation circuit substrate 1.

作製した比較用検査装置におけるピッチ変換用基板と分散型異方導電性シートとからなるアダプター体について、上述した方法にて絶縁性の評価を行った。絶縁性の評価結果を表3に示した。
[比較例3]
比較例2において使用した厚さ100μmの分散型異方導電性シートを、厚み40μmの分散型異方導電性シートに交換した。
With respect to the adapter body composed of the pitch conversion substrate and the dispersive anisotropic conductive sheet in the produced comparative inspection apparatus, the insulation was evaluated by the method described above. The insulating evaluation results are shown in Table 3.
[Comparative Example 3]
The dispersed anisotropic conductive sheet having a thickness of 100 μm used in Comparative Example 2 was replaced with a dispersed anisotropic conductive sheet having a thickness of 40 μm.

そして作製した比較用検査装置について、実施例1と同様な方法により、最低プレス圧の測定、異方導電性シートの耐久性の測定および絶縁性の評価を行った。最低プレス圧の測定結果を表1に、耐久性の測定結果を表2に、ピッチ変換用基板の絶縁性の測定結果を表3に示した。   And about the produced comparison test | inspection apparatus, by the method similar to Example 1, the measurement of the minimum press pressure, the measurement of durability of an anisotropic conductive sheet, and the evaluation of insulation were performed. Table 1 shows the measurement results of the minimum press pressure, Table 2 shows the measurement results of the durability, and Table 3 shows the measurement results of the insulation properties of the substrate for pitch conversion.

なお、比較例2および比較例3において使用した分散型異方導電性シートは以下のようにして得た。
<分散型異方導電性シートの製造>
二液型の付加型液状シリコーンゴムのA液とB液とを、等量となる割合で混合した混合物100容量部に、平均粒子径が20μmの導電性粒子を25容量部添加して混合した。
The dispersed anisotropic conductive sheets used in Comparative Example 2 and Comparative Example 3 were obtained as follows.
<Manufacture of dispersive anisotropic conductive sheet>
25 parts by volume of conductive particles having an average particle diameter of 20 μm were added to and mixed with 100 parts by volume of a mixture obtained by mixing A liquid and B liquid of two-pack type addition type liquid silicone rubber in equal proportions. .

その後、減圧による脱泡処理を行うことにより、導電性エラストマー用材料を調製した。導電性粒子としては、ニッケル粒子を芯粒子とし、この芯粒子に無電解金メッキが施されたもの(平均被覆量:芯粒子の重量の5重量%となる量)を用いた。   Then, the material for electroconductive elastomers was prepared by performing the defoaming process by pressure reduction. As the conductive particles, nickel particles were used as core particles, and the core particles were subjected to electroless gold plating (average coating amount: an amount corresponding to 5% by weight of the weight of the core particles).

表面が光沢面(表面粗さが0.04μm)で、裏面が非光沢面である、厚みが0.1mmのポリエステル樹脂シート(東レ社製,品名「マットルミラーS10」)を2枚用意した。そして、一方のポリエステル樹脂シートの表面上に、120mm×200mmの矩形の開口を有する、厚みが100μmの枠状のスペーサーを配置した。   Two polyester resin sheets having a glossy surface (surface roughness of 0.04 μm) and a non-glossy back surface and a thickness of 0.1 mm (product name “Mattle Mirror S10”) were prepared. Then, a frame-shaped spacer having a rectangular opening of 120 mm × 200 mm and a thickness of 100 μm was disposed on the surface of one polyester resin sheet.

このスペーサーの開口内に、調製した導電性エラストマー用材料を塗布し、この導電性エラストマー用材料上に、他方のポリエステル樹脂シートを、その表面が導電性エラストマー用材料に接するよう配置した。   The prepared conductive elastomer material was applied into the opening of the spacer, and the other polyester resin sheet was disposed on the conductive elastomer material so that the surface thereof was in contact with the conductive elastomer material.

その後、加圧ロールと支持ロールとからなる加圧ロール装置を用い、2枚のポリエステル樹脂シートによって導電性エラストマー用材料を挟圧することにより、厚みが100μmの導電性エラストマー用材料層を形成した。   Then, using the pressure roll apparatus which consists of a pressure roll and a support roll, the material layer for conductive elastomers having a thickness of 100 μm was formed by sandwiching the material for conductive elastomers with two polyester resin sheets.

次いで、2枚のポリエステル樹脂シートの各々の裏面に電磁石を配置し、導電性エラストマー材料層に対して、その厚み方向に0.3Tの平行磁場を作用させながら、120℃、30分間の条件で、成形材料層の硬化処理を行うことにより、厚みが100μmの矩形の導電性エラストマーシートを製造した。得られた導電性エラストマーシートにおける導電性粒子の割合は、体積分率で12%であった。   Next, an electromagnet is disposed on the back surface of each of the two polyester resin sheets, and a parallel magnetic field of 0.3 T is applied to the conductive elastomer material layer in the thickness direction at 120 ° C. for 30 minutes. A rectangular conductive elastomer sheet having a thickness of 100 μm was manufactured by performing a curing treatment on the molding material layer. The ratio of the conductive particles in the obtained conductive elastomer sheet was 12% in terms of volume fraction.

この導電性エラストマーシートを、110mm×110mmに切断し、比較例2に使用される分散型異方導電性エラストマーシートとした。
また、上記において、スペーサーの厚みを40μmに変更し、同様の方法にて、比較例3に使用される厚み40μmの分散型異方導電性エラストマーシートを得た。
This conductive elastomer sheet was cut into 110 mm × 110 mm to obtain a dispersed anisotropic conductive elastomer sheet used in Comparative Example 2.
Moreover, in the above, the thickness of the spacer was changed to 40 μm, and the dispersion type anisotropic conductive elastomer sheet having a thickness of 40 μm used in Comparative Example 3 was obtained in the same manner.

Figure 2006053138
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Figure 2006053138
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図1は、本発明の検査装置における一実施形態を示した断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing an embodiment of the inspection apparatus of the present invention. 図2は、図1の検査装置の検査使用時における積層状態を示した断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing a stacked state when the inspection apparatus of FIG. 図3は、ピッチ変換用基板の回路基板側の表面を示した図である。FIG. 3 is a diagram showing the surface of the pitch conversion board on the circuit board side. 図4は、ピッチ変換用基板のピン側表面を示した図である。FIG. 4 is a diagram showing the pin side surface of the pitch conversion substrate. 図5は、ピッチ変換用基板、中継基板および被検査回路基板を積層した状態を示した断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view showing a state in which a pitch conversion substrate, a relay substrate, and a circuit board to be inspected are stacked. 図6(a)は、中継基板の部分断面図、図6(b)は、その拡大図、図6(c)は、中継基板の部分上面図である。6A is a partial cross-sectional view of the relay board, FIG. 6B is an enlarged view thereof, and FIG. 6C is a partial top view of the relay board. 図7は、離型性支持板上に導電性エラストマー用材料層が形成された状態を示した断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing a state in which a conductive elastomer material layer is formed on a releasable support plate. 図8は、導電性エラストマー用材料層を拡大して示した断面図である。FIG. 8 is an enlarged cross-sectional view of the conductive elastomer material layer. 図9は、導電性エラストマー用材料層に対してその厚み方向に磁場を作用させた後の状態を示した断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view showing a state after a magnetic field is applied to the conductive elastomer material layer in the thickness direction. 図10は、離型性支持板上に導電性エラストマー層が形成された状態を示した断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing a state in which a conductive elastomer layer is formed on a releasable support plate. 図11は、導電性エラストマー層上に金属薄層が形成された状態を示した断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing a state in which a thin metal layer is formed on the conductive elastomer layer. 図12は、金属薄層上に開口を有するレジスト層が形成された状態を示した断面図である。FIG. 12 is a cross-sectional view showing a state in which a resist layer having an opening is formed on a thin metal layer. 図13は、レジスト層の開口内に金属マスクが形成された状態を示した断面図である。FIG. 13 is a cross-sectional view showing a state in which a metal mask is formed in the opening of the resist layer. 図14は、離型性支持板上に特定のパターンに従って複数の導電路形成部が形成された状態を示した断面図である。FIG. 14 is a cross-sectional view showing a state in which a plurality of conductive path forming portions are formed according to a specific pattern on the releasable support plate. 図15は、レーザー加工によって導電路形成部を形成する工程を示した断面図である。FIG. 15 is a cross-sectional view showing a process of forming a conductive path forming portion by laser processing. 図16は、レーザー加工によって導電路形成部を形成する工程を示した上面図である。FIG. 16 is a top view illustrating a process of forming a conductive path forming portion by laser processing. 図17は、金属薄層に開口が形成されたレジスト層が積層された積層体を示した断面図である。FIG. 17 is a cross-sectional view showing a laminate in which a resist layer having an opening formed in a thin metal layer is laminated. 図18は、図17におけるレジスト層の開口内に金属マスクを形成した複合フィルムの断面図である。18 is a cross-sectional view of a composite film in which a metal mask is formed in the opening of the resist layer in FIG. 図19は、離型性支持板上に導電性エラストマー用材料層が形成された状態を示した断面図である。FIG. 19 is a cross-sectional view showing a state in which a conductive elastomer material layer is formed on a releasable support plate. 図20は、導電性エラストマー用材料層上に複合フィルムを重ね合わせた状態を示した断面図である。FIG. 20 is a cross-sectional view showing a state in which the composite film is overlaid on the conductive elastomer material layer. 図21は、図20の積層体に対してその厚み方向に磁場を作用させた後の状態を示した断面図である。FIG. 21 is a cross-sectional view showing a state after a magnetic field is applied to the laminated body of FIG. 20 in the thickness direction. 図22は、離型性支持板上に導電性エラストマー層が形成された状態を示した断面図である。FIG. 22 is a cross-sectional view showing a state where a conductive elastomer layer is formed on a releasable support plate. 図23は、図22における金属薄層を除去した後の状態を示した断面図である。FIG. 23 is a cross-sectional view showing a state after the metal thin layer in FIG. 22 is removed. 図24は、離型性支持板上に特定のパターンに従って複数の導電路形成部が形成された状態を示した断面図である。FIG. 24 is a cross-sectional view showing a state where a plurality of conductive path forming portions are formed according to a specific pattern on the releasable support plate. 図25は、中継基板の製造工程を説明する断面図である。FIG. 25 is a cross-sectional view illustrating the manufacturing process of the relay board. 図26は、中継基板の製造工程を説明する断面図である。FIG. 26 is a cross-sectional view illustrating the manufacturing process of the relay board. 図27は、ピッチ変換用基板、中継基板および被検査回路基板を、第1の異方導電性シートを介して積層した状態を示した部分断面図である。FIG. 27 is a partial cross-sectional view illustrating a state in which a pitch conversion substrate, a relay substrate, and a circuit board to be inspected are stacked via a first anisotropic conductive sheet. 図28は、第1の異方導電性シートの部分断面図である。FIG. 28 is a partial cross-sectional view of the first anisotropic conductive sheet. 図29は、第2の異方導電性シートの断面図である。FIG. 29 is a cross-sectional view of a second anisotropic conductive sheet. 図30は、中継ピンユニットの断面図である。FIG. 30 is a cross-sectional view of the relay pin unit. 図31は、中継ピンユニットの導電ピン、中間保持板および絶縁板の一部を示した断面図である。FIG. 31 is a cross-sectional view showing a part of the conductive pin, the intermediate holding plate, and the insulating plate of the relay pin unit. 図32は、中継ピンユニットにおける他の例を示した図31と同様の断面図である。FIG. 32 is a cross-sectional view similar to FIG. 31 showing another example of the relay pin unit. 図33は、図32の構成において第1の絶縁板と第2の絶縁板との間に導電ピンを配置するまでの工程を示した断面図である。FIG. 33 is a cross-sectional view showing a process until a conductive pin is arranged between the first insulating plate and the second insulating plate in the configuration of FIG. 図34は、屈曲保持板を配置した中継ピンユニットの断面図である。FIG. 34 is a cross-sectional view of a relay pin unit having a bent holding plate. 図35は、中継ピンユニットの中間保持板の厚さ方向に投影した中間保持板投影面の部分拡大図である。FIG. 35 is a partially enlarged view of the intermediate holding plate projection surface projected in the thickness direction of the intermediate holding plate of the relay pin unit. 図36は、本発明の検査装置の実施形態を示した一部断面図である。FIG. 36 is a partial cross-sectional view showing an embodiment of the inspection apparatus of the present invention. 図37は、本発明の検査装置の使用状態を説明する断面図である。FIG. 37 is a cross-sectional view for explaining the use state of the inspection apparatus of the present invention. 図38は、本発明の検査装置における中継ピンユニットの使用状態を説明する断面図である。FIG. 38 is a cross-sectional view illustrating a usage state of the relay pin unit in the inspection apparatus of the present invention. 図39は、本発明の検査装置の使用状態を説明する断面図である。FIG. 39 is a cross-sectional view illustrating a use state of the inspection apparatus of the present invention. 図40は、本発明の検査装置における他の実施形態を示した図40と同様の一部断面図である。FIG. 40 is a partial cross-sectional view similar to FIG. 40 showing another embodiment of the inspection apparatus of the present invention. 図41は、図40の実施形態における中継ピンユニットの断面図である。41 is a cross-sectional view of the relay pin unit in the embodiment of FIG. 図42は、従来における回路基板の検査装置の断面図である。FIG. 42 is a cross-sectional view of a conventional circuit board inspection apparatus. 図43は、被検査回路基板の被検査電極のピッチと、電極離間距離との関係を示した図である。FIG. 43 is a diagram showing the relationship between the pitch of the electrodes to be inspected on the circuit board to be inspected and the electrode separation distance. 図44は、被検査回路基板の被検査電極のピッチと、電極離間距離と、ピッチ変換用基板の接続用電極との関係を示した図である。FIG. 44 is a diagram illustrating the relationship among the pitch of the electrodes to be inspected on the circuit board to be inspected, the electrode separation distance, and the connection electrodes on the pitch conversion substrate. 図45は、4端子検査の場合における、被検査回路基板の被検査電極のピッチと、電極離間距離と、ピッチ変換用基板の接続用電極との関係を示した図である。FIG. 45 is a diagram showing the relationship among the pitch of the electrodes to be inspected on the circuit board to be inspected, the electrode separation distance, and the connection electrodes on the pitch conversion board in the case of four-terminal inspection.

符号の説明Explanation of symbols

29a,29b 中継基板
31a,31b 中継ピンユニット
32a,32b 導電ピン
33a,33b 第1の支持ピン
34a,34b 第1の絶縁板
35a,35b 第2の絶縁板
36a,36b 中間保持板
37a,37b 第2の支持ピン
38A 第1の当接支持位置
38B 第2の当接支持位置
39 保持板支持ピン
39A 当接支持位置
41a,41b テスター側コネクタ
42a,42b 第3の異方導電性シート
43a,43b コネクタ基板
44a,44b テスター側電極
45a,45b ピン側電極
46a,46b ベース板
49a,49b 支持ピン
51 絶縁基板
52 配線
53 内部配線
54 絶縁層
55 絶縁層
61 導電路形成部
61a 突出部
61A 導電性エラストマー用材料層
61B 導電性エラストマー層
62 絶縁部
62A 絶縁部用材料層
63 シート基材
64 金属膜
65 離型性支持板
66 金属薄層
67 レジスト層
67a 開口
68 金属マスク
69 複合フィルム
70 離型性支持板
71 導電路形成部
72 絶縁部
72a 突出部
73 基板
75 貫通孔
81a,81b 端部
82 中央部
83,83a,83b 貫通孔
84 屈曲保持板
85 貫通孔
86 貫通孔
101 被検査回路基板
102 被検査電極
103 被検査電極
111a 第1の検査治具
111b 第2の検査治具
121a、121b 回路基板側コネクタ
122a,122b 第1の異方導電性シート
123a,123b ピッチ変換用基板
124a,124b 端子電極
125a,125b 接続用電極
126a,126b 第2の異方導電性シート
127 電流供給用電極
128 電圧測定用電極
131a,131b 中継ピンユニット
132a,132b 導電ピン
133a,133b 支持ピン
134a,134b 絶縁板
141a,141b テスター側コネクタ
142a,142b 第3の異方導電性シート
143a,143b コネクタ基板
144a,144b テスター側電極
145a,145b ピン側電極
146a,146b ベース板
A 中間保持板投影面
P 導電性粒子
L1 距離
L2 距離
Q1 対角線
Q2 対角線
R1 単位格子領域
R2 単位格子領域


29a, 29b Relay boards 31a, 31b Relay pin units 32a, 32b Conductive pins 33a, 33b First support pins 34a, 34b First insulating plates 35a, 35b Second insulating plates 36a, 36b Intermediate holding plates 37a, 37b First Second support pin 38A First contact support position 38B Second contact support position 39 Holding plate support pin 39A Contact support position 41a, 41b Tester side connectors 42a, 42b Third anisotropic conductive sheets 43a, 43b Connector boards 44a and 44b Tester side electrodes 45a and 45b Pin side electrodes 46a and 46b Base plates 49a and 49b Support pins 51 Insulating board 52 Wiring 53 Internal wiring 54 Insulating layer 55 Insulating layer 61 Conductive path forming part 61a Protruding part 61A Conductive elastomer Material layer 61B Conductive elastomer layer 62 Insulating part 62A Insulating part material layer 63 sheet base 64 metal film 65 releasable support plate 66 metal thin layer 67 resist layer 67a opening 68 metal mask 69 releasable support plate 71 conductive path forming part 72 insulating part 72a projecting part 73 substrate 75 through hole 81a, 81b End portion 82 Central portion 83, 83a, 83b Through hole 84 Bending holding plate 85 Through hole 86 Through hole 101 Circuit board 102 Inspected electrode 103 Inspected electrode 111a First inspection jig 111b Second inspection Jigs 121a and 121b Circuit board side connectors 122a and 122b First anisotropic conductive sheets 123a and 123b Pitch conversion boards 124a and 124b Terminal electrodes 125a and 125b Connection electrodes 126a and 126b Second anisotropic conductive sheets 127 Current supply electrode 128 Voltage measurement electrodes 131a and 131b Relay pin unit 13 2a, 132b Conductive pins 133a, 133b Support pins 134a, 134b Insulating plates 141a, 141b Tester side connectors 142a, 142b Third anisotropic conductive sheets 143a, 143b Connector boards 144a, 144b Tester side electrodes 145a, 145b Pin side electrodes 146a , 146b Base plate A Intermediate holding plate projection plane P Conductive particle L1 Distance L2 Distance Q1 Diagonal line Q2 Diagonal line R1 Unit lattice region R2 Unit lattice region


Claims (15)

一対の第1の検査治具と第2の検査治具によって、両検査治具の間で検査対象である被検査回路基板の両面を挟圧して電気検査を行う回路基板の検査装置であって、
前記第1の検査治具と第2の検査治具がそれぞれ、
基板の一面側と他面側との間で電極ピッチを変換するピッチ変換用基板と、
前記ピッチ変換用基板の被検査回路基板側に配置され、基板に形成された複数の貫通孔に、弾性高分子物質からなる絶縁部と、導電性粒子を含有する弾性高分子物質からなり前記絶縁部を厚み方向へ貫通する導電路形成部とが形成された、該導電路形成部によって前記ピッチ変換用基板と前記被検査回路基板との電気的接続を中継する中継基板と、
前記ピッチ変換用基板の前記中継基板とは逆側に配置される第2の異方導電性シートと、
を備えた回路基板側コネクタと、
所定のピッチで配置された複数の導電ピンと、
前記導電ピンを軸方向へ移動可能に支持する、一対の離間した第1の絶縁板と第2の絶縁板と、
を備えた中継ピンユニットと、
テスターと前記中継ピンユニットとを電気的に接続するコネクタ基板と、
前記コネクタ基板の中継ピンユニット側に配置される第3の異方導電性シートと、
前記コネクタ基板の中継ピンユニットとは逆側に配置されるベース板と、
を備えたテスター側コネクタと、を備え、
前記中継ピンユニットは、
前記第1の絶縁板と第2の絶縁板との間に配置された中間保持板と、
前記第1の絶縁板と中間保持板との間に配置された第1の支持ピンと、
前記第2の絶縁板と中間保持板との間に配置された第2の支持ピンと、
を備えるとともに、
前記第1の支持ピンの中間保持板に対する第1の当接支持位置と、前記第2の支持ピンの中間保持板に対する第2の当接支持位置とが、中間保持板の厚さ方向に投影した中間保持板投影面において異なる位置に配置されていることを特徴とする回路基板の検査装置。
A circuit board inspection apparatus that performs electrical inspection by sandwiching both surfaces of a circuit board to be inspected between a pair of first inspection jigs and a second inspection jig between the inspection jigs. ,
The first inspection jig and the second inspection jig are respectively
A pitch conversion substrate that converts the electrode pitch between one surface side and the other surface side of the substrate;
An insulating part made of an elastic polymer material and an insulating material made of an elastic polymer material containing conductive particles in a plurality of through holes formed in the substrate, which are arranged on the circuit board side to be inspected of the pitch conversion substrate. A relay board that relays the electrical connection between the substrate for pitch conversion and the circuit board to be inspected by the conductive path forming part formed with a conductive path forming part penetrating the part in the thickness direction;
A second anisotropic conductive sheet disposed on the opposite side of the pitch conversion substrate from the relay substrate;
A circuit board-side connector with
A plurality of conductive pins arranged at a predetermined pitch;
A pair of spaced apart first and second insulating plates for supporting the conductive pins movably in the axial direction;
A relay pin unit with
A connector board for electrically connecting the tester and the relay pin unit;
A third anisotropic conductive sheet disposed on the relay pin unit side of the connector board;
A base plate disposed on the side opposite to the relay pin unit of the connector board;
A tester-side connector with
The relay pin unit is
An intermediate holding plate disposed between the first insulating plate and the second insulating plate;
A first support pin disposed between the first insulating plate and the intermediate holding plate;
A second support pin disposed between the second insulating plate and the intermediate holding plate;
With
A first abutment support position of the first support pin with respect to the intermediate holding plate and a second abutment support position of the second support pin with respect to the intermediate holding plate are projected in the thickness direction of the intermediate holding plate. An inspection apparatus for circuit boards, wherein the inspection apparatus is arranged at different positions on the intermediate holding plate projection surface.
前記中継基板は、
第1の離型性支持板上に支持され、磁性を示す導電性粒子が厚み方向に配向した状態で弾性高分子物質中に分散された導電性エラストマー層を、レーザー加工することにより、第1の離型性支持板上に所定のパターンに従って配置された導電路形成部を形成し、
第2の離型性支持板上に支持され、硬化されて弾性高分子物質となる材料からなる未硬化状態の絶縁部用材料層が前記基板における両側表面および貫通孔の内部に形成された当該基板に対して、導電路形成部が形成された前記第1の離型性支持板を、導電路形成部が前記基板の貫通孔に位置するように重ね合わせ、
この状態で、絶縁部用材料層を硬化処理することにより絶縁部を形成した後、第1および第2の離型性支持板を除去することにより得られたものであることを特徴とする請求項1に記載の回路基板の検査装置。
The relay board is
By conducting laser processing on the conductive elastomer layer supported on the first releasable support plate and dispersed in the elastic polymer material in a state where the conductive particles exhibiting magnetism are oriented in the thickness direction, first processing is performed. Forming a conductive path forming portion arranged according to a predetermined pattern on the releasable support plate of
An uncured insulating material layer made of a material that is supported on the second releasable support plate and cured to become an elastic polymer substance is formed on both side surfaces of the substrate and inside the through-hole. Overlying the substrate, the first releasable support plate on which the conductive path forming portion is formed so that the conductive path forming portion is located in the through hole of the substrate,
In this state, the insulating layer is obtained by removing the first and second releasable support plates after forming the insulating portion by curing the insulating portion material layer. Item 4. The circuit board inspection apparatus according to Item 1.
前記導電性エラストマー層は、
離型性支持板上に、硬化されて弾性高分子物質となる液状のエラストマー用材料中に磁性を示す導電性粒子が含有された導電性エラストマー用材料層を形成し、
該導電性エラストマー用材料層の表面に、形成すべき導電路形成部のパターンに従って、磁性を示す金属からなる金属マスクを形成し、
前記導電性エラストマー用材料層に対してその厚み方向に磁場を作用させることにより、導電性粒子を厚み方向に配向させ、次いで、磁場を作用させた状態で、または磁場を停止した状態で前記導電性エラストマー用材料層を硬化処理することにより得られたもので
あることを特徴とする請求項2に記載の回路基板の検査装置。
The conductive elastomer layer is
On the releasable support plate, a conductive elastomer material layer containing conductive particles exhibiting magnetism in a liquid elastomer material that is cured to become an elastic polymer substance is formed,
According to the pattern of the conductive path forming portion to be formed on the surface of the material layer for the conductive elastomer, a metal mask made of a metal exhibiting magnetism is formed,
By applying a magnetic field in the thickness direction to the conductive elastomer material layer, the conductive particles are oriented in the thickness direction, and then the conductive material is applied in a state where the magnetic field is applied or in a state where the magnetic field is stopped. 3. The circuit board inspection apparatus according to claim 2, wherein the circuit board inspection apparatus is obtained by curing a material layer for a conductive elastomer.
前記中継基板における少なくとも一部の導電路形成部において、互いに隣接する導電路形成部の離間距離が50μm以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の回路基板の検査装置。   4. The circuit board inspection apparatus according to claim 1, wherein in at least some of the conductive path forming portions of the relay substrate, a distance between adjacent conductive path forming portions is 50 μm or less. 5. . 前記中継基板における少なくとも一部の導電路形成部において、互いに隣接する導電路形成部の離間距離が10〜50μmであることを特徴とする請求項4に記載の回路基板の検査装置。   5. The circuit board inspection apparatus according to claim 4, wherein in at least some of the conductive path forming portions of the relay substrate, a distance between adjacent conductive path forming portions is 10 to 50 μm. 前記中継基板の片面側もしくは両面側に、導電性粒子が厚み方向に配列するとともに面方向に均一に分散された第1の異方導電性シートが配置されていることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の回路基板の検査装置。   The first anisotropic conductive sheet in which conductive particles are arranged in the thickness direction and uniformly dispersed in the surface direction is disposed on one side or both sides of the relay substrate. The circuit board inspection apparatus according to any one of? 一対の第1の検査治具と第2の検査治具によって、両検査治具の間で検査対象である被検査回路基板の両面を挟圧した際に、
前記第1の支持ピンの中間保持板に対する第1の当接支持位置を中心として、前記中間保持板が、前記第2の絶縁板の方向に撓むとともに、
前記第2の支持ピンの中間保持板に対する第2の当接支持位置を中心として、前記中間保持板が、前記第1の絶縁板の方向に撓むことを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の回路基板の検査装置。
When the both sides of the circuit board to be inspected are clamped between the two inspection jigs by the pair of the first inspection jig and the second inspection jig,
The intermediate holding plate bends in the direction of the second insulating plate around the first contact support position of the first support pin with respect to the intermediate holding plate, and
The intermediate holding plate bends in the direction of the first insulating plate around the second contact support position of the second support pin with respect to the intermediate holding plate. The circuit board inspection apparatus according to any one of the above.
前記第1の支持ピンの中間保持板に対する第1の当接支持位置が、前記中間保持板投影面において格子状に配置され、
前記第2の支持ピンの中間保持板に対する第2の当接支持位置が、前記中間保持板投影面において格子状に配置されており、
前記中間保持板投影面において、隣接する4個の第1の当接支持位置からなる単位格子領域に、1個の第2の当接支持位置が配置されるとともに、
前記中間保持板投影面において、隣接する4個の第2の当接支持位置からなる単位格子領域に、1個の第1の当接支持位置が配置されていることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の回路基板の検査装置。
A first contact support position of the first support pin with respect to the intermediate holding plate is arranged in a lattice shape on the intermediate holding plate projection surface;
Second contact support positions of the second support pins with respect to the intermediate holding plate are arranged in a grid pattern on the intermediate holding plate projection surface,
In the intermediate holding plate projection surface, one second abutment support position is disposed in a unit lattice region composed of four adjacent first abutment support positions, and
2. The first abutment support position is arranged in a unit lattice region composed of four adjacent second abutment support positions on the intermediate holding plate projection surface. The circuit board inspection apparatus according to any one of?
前記中継ピンユニットが、
前記第1の絶縁板と第2の絶縁板との間に所定間隔離間して配置された複数個の中間保持板と、
隣接する中間保持板同士の間に配置された保持板支持ピンと、
を備えるとともに、
少なくとも1つの中間保持板において、該中間保持板に対して一面側から当接する保持板支持ピンの該中間保持板に対する当接支持位置と、該中間保持板に対して他面側から当接する第1の支持ピン、第2の支持ピン、または保持板支持ピンの該中間保持板に対する当接支持位置とが、該中間保持板の厚さ方向に投影した中間保持板投影面において異なる位置に配置されていることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の回路基板の検査装置。
The relay pin unit is
A plurality of intermediate holding plates disposed at a predetermined interval between the first insulating plate and the second insulating plate;
Holding plate support pins arranged between adjacent intermediate holding plates;
With
In at least one intermediate holding plate, a holding support position of the holding plate support pin that contacts the intermediate holding plate from one surface side with respect to the intermediate holding plate, and a first surface that contacts the intermediate holding plate from the other surface side. The support support position of the first support pin, the second support pin, or the holding plate support pin with respect to the intermediate holding plate is arranged at a different position on the intermediate holding plate projection surface projected in the thickness direction of the intermediate holding plate. The circuit board inspection apparatus according to claim 1, wherein the circuit board inspection apparatus is provided.
全ての前記中間保持板において、該中間保持板に対して一面側から当接する保持板支持ピンの該中間保持板に対する当接支持位置と、該中間保持板に対して他面側から当接する第1の支持ピン、第2の支持ピン、または保持板支持ピンの該中間保持板に対する当接支持位置とが、該中間保持板の厚さ方向に投影した中間保持板投影面において異なる位置に配置されていることを特徴とする請求項9に記載の回路基板の検査装置。   In all of the intermediate holding plates, the holding plate supporting pins that come into contact with the intermediate holding plate from one surface side are in contact with and supported by the intermediate holding plate, and the intermediate holding plate comes into contact with the intermediate holding plate from the other side The support support position of the first support pin, the second support pin, or the holding plate support pin with respect to the intermediate holding plate is arranged at a different position on the intermediate holding plate projection surface projected in the thickness direction of the intermediate holding plate. The circuit board inspection apparatus according to claim 9, wherein the circuit board inspection apparatus is provided. 前記第2の異方導電性シートが、厚み方向に延びる複数の導電路形成部と、これらの導電路形成部を互いに絶縁する絶縁部とからなり、導電性粒子が導電路形成部中にのみ含有され、これにより該導電性粒子は面方向に不均一に分散されるとともに、シート片面側に導電路形成部が突出していることを特徴とする請求項1〜10のいずれかに記載の回路基板の検査装置。   The second anisotropic conductive sheet includes a plurality of conductive path forming portions extending in the thickness direction and insulating portions that insulate the conductive path forming portions from each other, and the conductive particles are only in the conductive path forming portions. 11. The circuit according to claim 1, wherein the conductive particles are dispersed non-uniformly in a plane direction, and a conductive path forming portion protrudes on one side of the sheet. Board inspection equipment. 前記第3の異方導電性シートが、厚み方向に延びる複数の導電路形成部と、これらの導電路形成部を互いに絶縁する絶縁部とからなり、導電性粒子が導電路形成部中にのみ含有され、これにより該導電性粒子は面方向に不均一に分散されるとともに、シート片面側に導電路形成部が突出していることを特徴とする請求項1〜11のいずれかに記載の回路基板の検査装置。   The third anisotropic conductive sheet is composed of a plurality of conductive path forming portions extending in the thickness direction and insulating portions that insulate these conductive path forming portions from each other, and the conductive particles are only in the conductive path forming portions. 12. The circuit according to claim 1, wherein the conductive particles are dispersed non-uniformly in a plane direction, and a conductive path forming portion protrudes on one side of the sheet. Board inspection equipment. 前記複数の導電ピンは、前記第1の絶縁板と第2の絶縁板との間の間隔よりも短い棒状の中央部と、該中央部の両端側に形成され該中央部よりも径が小さい一対の端部とからなり、
前記一対の端部がそれぞれ、前記第1の絶縁板と第2の絶縁板とに形成された前記中央部よりも径が小さく前記一対の端部よりも径が大きい貫通孔に挿通され、これにより前記導電ピンが軸方向へ移動可能に支持されていることを特徴とする請求項1〜12のいずれかに記載の回路基板の検査装置。
The plurality of conductive pins are formed in a bar-shaped central portion that is shorter than the distance between the first insulating plate and the second insulating plate, and are formed on both ends of the central portion, and have a smaller diameter than the central portion. Consisting of a pair of ends,
The pair of end portions are respectively inserted through through-holes having a diameter smaller than that of the central portion formed in the first insulating plate and the second insulating plate and larger than that of the pair of end portions. The circuit board inspection apparatus according to claim 1, wherein the conductive pin is supported so as to be movable in an axial direction.
前記第1の絶縁板と中間保持板との間、前記第2の絶縁板と中間保持板との間、または中間保持板同士の間に、前記導電ピンが挿通される貫通孔が形成された屈曲保持板が設けられ、
前記複数の導電ピンは、前記第1および第2の絶縁板に形成された貫通孔と、前記屈曲保持板に形成された貫通孔とを支点として互いに逆方向に横方向へ押圧されて前記屈曲保持板の貫通孔の位置で屈曲され、これにより前記導電ピンが軸方向へ移動可能に支持されていることを特徴とする請求項1〜12のいずれかに記載の回路基板の検査装置。
A through hole through which the conductive pin is inserted is formed between the first insulating plate and the intermediate holding plate, between the second insulating plate and the intermediate holding plate, or between the intermediate holding plates. A bent holding plate is provided,
The plurality of conductive pins are pressed laterally in opposite directions from each other with a through hole formed in the first and second insulating plates and a through hole formed in the bent holding plate as fulcrums. 13. The circuit board inspection apparatus according to claim 1, wherein the circuit board inspection device is bent at a position of a through hole of the holding plate, whereby the conductive pin is supported so as to be movable in an axial direction.
請求項1〜14のいずれかに記載の回路基板の検査装置を用いた回路基板の検査方法であって、
一対の第1の検査治具と第2の検査治具によって、両検査治具の間で検査対象である被検査回路基板の両面を挟圧して電気検査を行うことを特徴とする回路基板の検査方法。

A circuit board inspection method using the circuit board inspection apparatus according to claim 1,
A circuit board comprising: a pair of a first inspection jig and a second inspection jig, wherein both sides of a circuit board to be inspected are sandwiched between the inspection jigs to perform an electrical inspection. Inspection method.

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