KR20060121292A - 고도로 분지된 중합체를 포함하는 연마 시스템 - Google Patents
고도로 분지된 중합체를 포함하는 연마 시스템 Download PDFInfo
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Abstract
Description
Claims (23)
- (a) 액체 담체,(b) 분지도가 50% 또는 그 이상인 중합체, 및(c) 연마 패드, 연마제, 또는 이들의 조합물을 포함하는 연마 시스템.
- 제1항에 있어서, 분지도가 60% 또는 그 이상인 연마 시스템.
- 제2항에 있어서, 분지도가 70% 또는 그 이상인 연마 시스템.
- 제1항에 있어서, 중합체가 덴드리머 중합체, 빗 모양 중합체, 병브러시 모양 중합체, 선형 덴드리머 이블록 공중합체, 선형 덴드리머 삼블록 공중합체, 무작위로 분지된 중합체, 이들의 공중합체, 및 이들의 조합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 연마 시스템.
- 제4항에 있어서, 중합체가 선형 덴드리머 이블록 공중합체인 연마 시스템.
- 제5항에 있어서, 선형 덴드리머 이블록 공중합체가 폴리에틸렌 옥시드-폴리아미도아민(PEO-PAMAM) 이블록 공중합체인 연마 시스템.
- 제4항에 있어서, 중합체가 선형 덴드리머 삼블록 공중합체인 연마 시스템.
- 제7항에 있어서, 선형 덴드리머 삼블록 공중합체가 폴리에틸렌 옥시드-폴리프로필렌 옥시드-폴리아미도아민 삼블록 공중합체인 연마 시스템.
- 제4항에 있어서, 중합체가 덴드리머 중합체인 연마 시스템.
- 제9항에 있어서, 덴드리머 중합체가 C1 -8의 헤테로시클릭 고리, C1 -8의 카르보시클릭 고리, C1 -8의 알칸, 및 C1 -8의 아미노알칸으로 이루어진 군으로부터 선택되는 코어 단량체를 포함하는 것인 연마 시스템.
- 제9항에 있어서, 덴드리머 중합체가 질소 원자로부터 분지된 것인 연마 시스템.
- 제9항에 있어서, 덴드리머 중합체가 2 내지 10 세대를 포함하는 것인 연마 시스템.
- 제1항에 있어서, 중합체가 폴리아미도아민(PAMAM) 중합체인 연마 시스템.
- 제1항에 있어서, 중합체가 폴리글리세롤인 연마 시스템.
- 제1항에 있어서, 중합체가 아민, 아미드, 카르복시산, 설폰산, 포스폰산, 히드록시 기, 이들의 염, 및 이들의 조합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 표면 관능기를 포함하는 것인 연마 시스템.
- 제1항에 있어서, 중합체의 분자량이 1,000 내지 1,000,000 g/mol인 연마 시스템.
- 제16항에 있어서, 분자량이 2,000 내지 500,000 g/mol인 연마 시스템.
- 제1항에 있어서, 중합체가 단량체를 포함하는 고도로 분지된 코어를 포함하고, 고도로 분지된 코어 내 단량체의 50% 또는 그 이상이 분지된 것인 연마 시스템.
- 제1항에 있어서, 중합체의 점도가 동일한 조건 하에서 동일한 단량체 조성 및 분자량의 선형 중합체의 점도의 70% 또는 그 이하인 연마 시스템.
- 제1항에 있어서, 액체 담체 중에 현탁된 연마제를 포함하는 연마 시스템.
- 제1항에 있어서, 연마 패드에 고정된 연마제를 포함하는 연마 시스템.
- 제1항에 있어서, 킬레이트제 또는 착화제, 산화제, 계면활성제, 소포제, 살생물제, 및 이들의 조합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 또는 그 이상의 연마 첨가제를 더 포함하는 연마 시스템.
- (i) 기판을 제1항의 연마 시스템과 접촉시키고,(ii) 기판의 적어도 일부분을 연삭하여 기판을 연마시키는 것을 포함하는 기판의 연마 방법.
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