KR20060119008A - 포토레지스트 여과 장치 - Google Patents

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KR20060119008A
KR20060119008A KR1020050041509A KR20050041509A KR20060119008A KR 20060119008 A KR20060119008 A KR 20060119008A KR 1020050041509 A KR1020050041509 A KR 1020050041509A KR 20050041509 A KR20050041509 A KR 20050041509A KR 20060119008 A KR20060119008 A KR 20060119008A
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신형석
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Abstract

포토레지스트를 여과한기 위한 장치에 있어서, 필터 하우징은 포토레지스트 필터를 수용하는 공간을 갖고, 포토레지스트 필터는 필터 하우징의 내에 구비되며, 포토레지스트에 포함된 오염물을 여과한다. 포토레지스트 공급부는 포토레지스트에 포함된 오염물을 여과하기 위해 필터 하우징 내부로 포토레지스트를 공급한다. 에어 배출부는 필터 하우징 내부로 포토레지스트가 제공될 경우 발생되는 에어를 상기 필터 하우징으로부터 배출시킨다. 포토레지스트 배출부는 포토레지스트 필터에 의해 여과된 포토레지스트를 포토레지스트 코팅장치로 배출하는 한다. 따라서, 반도체 기판 상에는 기포 및 오염물을 포함하지 않는 포토레지스트가 제공될 수 있다.

Description

포토레지스트 여과 장치{apparatus for Filtering a photoresist composition}
도 1은 종래의 포토레지스트 여과 장치를 설명하기 위한 구성도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 포토레지스트 여과 장치를 설명하기 위한 구성도이다.
도 3은 도 2에 도시된 포토레지스트 여과장치를 포함하는 감광액 공급 장치를 설명하기 위한 개략적인 구성도이다.
도 4는 도 3에 도시된 감광액 공급 장치를 포함하는 기판 코팅 장치를 설명하기 위한 개략적인 구성도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *
100 : 포토레지스트 여과 장치 102 : 포토레지스트 필터
104 : 필터 하우징 110 : 포토레지스트 공급부
120 : 기포 배출부 130 : 포토레지스트 배출부
200 : 감광액 공급 장치 202 : 용기
204 : 버퍼 탱크 210 : 제1 공급 라인
212 : 연결 밸브 214 : 감광액 감지 센서
230 : 감광액 공급부 232 : 제2 공급 라인
234 : 유량 제어 밸브 236 : 제2펌프
240 : 공급 노즐 10 : 반도체 기판
W : 투명 윈도우
본 발명은 포토레지스트(photoresist)를 여과하기 위한 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 포토레지스트에 포함된 불순물을 제거하기 위한 포토레지스트 여과 장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 장치는 반도체 기판으로 사용되는 실리콘웨이퍼 상에 전기적인 회로를 형성하는 팹(Fab) 공정과, 상기 팹 공정에서 형성된 반도체 장치들의 전기적인 특성을 검사하는 EDS(electrical die sorting)공정과, 상기 반도체 장치들을 각각 에폭시 수지로 봉지하고 개별화시키기 위한 패키지 조립 공정을 통해 제조된다.
상기 팹 공정은 반도체 기판 상에 막을 형성하기 위한 증착 공정과, 상기 막을 평탄화하기 위한 화학적 기계적 연마 공정과, 상기 막 상에 포토레지스트 패턴을 형성하기 위한 포토리소그래피 공정과, 상기 포토레지스트 패턴을 이용하여 상기 막을 전기적인 특성을 갖는 패턴으로 형성하기 위한 식각 공정과, 반도체 기판의 소정 영역에 특정 이온을 주입하기 위한 이온 주입 공정과, 반도체 기판 상의 불순물을 제거하기 위한 세정 공정과, 상기 막 또는 패턴이 형성된 반도체 기판의 표면을 검사하기 위한 검사 공정 등을 포함한다.
상기와 같은 단위 공정들 중에서 포토리소그래피 공정은 반도체 기판 상에 포토레지스트 막(photoresist film)을 형성하고 이를 경화시키는 공정과, 반도체 기판 상에 형성된 포토레지스트 막을 원하는 포토레지스트 패턴으로 형성하기 위해 소정 부위를 제거하는 노광 공정 및 현상 공정을 포함한다.
이때, 상기 포토레지스트는 일반적으로 스피너(SPINNER)라 불리는 도포장치에 의해 상기 반도체 기판 상에 도포되고, 상기 도포장치는 상기 포토레지스트를 항상 일정하게 공급하기 위한 공급장치와, 상기 포토레지스트에 포함되어 있는 오염물질을 제거하기 위한 여과 장치를 포함한다.
상기 여과 장치는 상기 반도체 기판 상에 형성되는 포토레지스트 막이 균일도를 향상시키기 위해 오염물질 등을 여과하는 공정을 수행한다. 상기 여과 공정은 포토레지스트를 필터를 구비하는 여과 장치에 포토레지스트를 공급하여 상기 포토레지스트가 상기 여과 장치에 구비되는 필터를 통과하도록 하는 공정이다. 상기 여과 공정을 거친 상기 포토레지스트는 이후 코팅장치의 노즐에 의해 분사되어 상기 반도체 기판 상에서 포토레스트막으로 형성된다.
도 1은 종래의 포토레지스트 여과 장치를 설명하기 위한 구성도이다.
도 1은 참조하면, 포토레지스트 여과 장치(20)는 포토레지스트 필터(2) 상기 포토레지스트 필터를 수용하는 필터 하우징(4)을 포함한다. 상기 필터 하우징(4)은 상부를 개방 또는 밀폐시킬 수 있는 덮개(6)를 포함한다. 상기 필터 하우징의 덮개(6)에는 필터 하우징(4)의 내부로 상기 포토레지스트를 공급하기 위한 포토레지스 트 공급라인(8)이 연결되어 있다. 또한, 상기 필터 하우징(4)의 덮개에는 상기 필터 하우징의 내부에서 발생되는 에어를 필터 하우징으로부터 배출하기 위한 기포 배기 라인(10)이 연결되어 있다. 또한, 상기 덮개(6)에는 상기 포토레지스트 필터에 의해 여과된 포토레지스트를 코팅부로 유입시키기 위한 포토레지스트 배출 라인(12)이 연결되어 있는 구조를 갖는다.
상기와 같이 포토레지스트 공급라인, 포토레지스트 배출라인 및 기포 배출라인이 모두 필터 하우징의 상부에 연결되는 구조를 갖는 포토레지스트 여과 장치는 캐리어 가스의 압력에 의해 상기 포토레지스트 공급 라인을 경유하여 상기 필터 하우징 내부로 포토레지스트가 유입될 경우 발생되는 기포가 상기 포토레지스트 배출라인을 통해 배출되는 문제점이 발생한다.
이는 상기 기포가 필터 하우징 공간의 상부로 이동하는 특성을 갖기 때문에 상기 필터 상부로 이동된 기포는 상기 여과된 포토레지스트와 함께 상기 배출 라인을 통해 함께 배출된다.
이렇게 상기 필터에 의해 여과되어 배출되는 포토레지스트에는 기포를 포함하고 있어 상기 기포는 포토레지스트 코팅장치의 분사노즐로 제공되는 공정의 불량을 초래할 정도의 크기로 성장하게 된다. 상기 기포를 포함하는 포토레지스트가 반도체 기판으로 공급되는 경우, 반도체 기판 상에 불 균일한 포토레지스트 막이 형성되며, 이는 형성되는 포토레지스트 패턴의 불량을 야기하고, 후속 공정에서의 추가적인 공정 불량을 초래한다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은 반도체 기판으로 제공되는 포토레지스트로부터 오염물질 및 기포를 제거하기 위한 포토레지스트 여과 장치를 제공하는데 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 포토레지스트 여과 장치는 공급되는 포토레지스트에 포함된 오염물을 여과하기 위한 포토레지스트 필터와 상기 포토레지스트 필터를 수용하는 필터 하우징을 포함한다. 상기 필터 하우징 상부에 연결되고, 상기 포토레지스트에 포함된 오염물을 여과하기 위해 필터 하우징 내부로 포토레지스트를 공급하는 포토레지스트 공급부를 포함한다. 상기 필터 하우징의 상부에 연결되고, 상기 필터 하우징 내부로 포토레지스트가 제공될 경우 발생되는 기포를 상기 필터 하우징으로부터 배출시키는 기포 배출부를 포함한다. 그리고, 상기 하우징의 저면에 연결되고, 상기 포토레지스트 필터에 의해 여과된 포토레지스트를 배출하는 포토레지스트 배출부를 포함한다.
본 발명의 바람직한 일 실시예에 따르면, 상기 필터 하우징은 상기 포토레지스트 필터를 수용하는 공간을 갖고 상부가 개구된 용기와 상기 용기의 상부를 밀폐시키는 덮개를 포함하며, 포토레지스트 필터의 오염상태를 관찰하는 투명 윈도우가 형성되어 있다. 이때, 상기 기포 배출부는 상기 필터 하우징 상부에 연결되어 상기 필터 하우징 내부로 포토레지스트가 제공될 경우 발생되는 기포 하우징으로부터 배출시키는 기포 배출 라인과 상기 기포 배출 라인을 개폐하기 위한 밸브 및 상기 기포를 배출시키기 위한 가압력을 제공하기 위한 펌프를 포함하고 있다.
상기와 같이 포토레지스트 여과 장치에서 여과된 포토레지스트는 기포를 포함하지 않음으로서 반도체 기판 상에는 균일한 감광막이 형성되며, 후속 공정에서의 불량 요인이 사전에 방지되는 효과가 있다. 또한, 상기 포토레지스트 여과 장치에는 투명 윈도우를 포함하고 있어 상기 포토레지스트 여과장치의 분해 없이 포토레지스트 필터의 오염상태를 확인할 수 있다.
이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명하면 다음과 같다.
포토레지스트 여과 장치.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 포토레지스트 여과 장치를 설명하기 위한 구성도이다.
도 2를 참조하면, 상기 일 실시예에 따른 포토레지스트 여과 장치(100)는 포토레지스트에 포함된 오염물을 여과하기 위한 포토레지스트 필터(102)를 수용하는 필터 하우징(104)과 상기 포토레지스트에 포함된 오염물을 여과하기 위해 상기 필터 하우징 내부로 포토레지스트를 공급하는 포토레지스트 공급부(110)와 상기 필터 하우징 내부로 포토레지스트가 제공될 경우 발생되는 기포를 상기 필터 하우징으로부터 배출시키는 기포 배출부(120)와 상기 하우징의 저면에 연결되어 상기 포토레지스트 필터에 의해 여과된 포토레지스트를 배출하는 포토레지스트 배출부(130)를 포함한다.
도시된 바에 따르면, 포토레지스트 여과 장치(100)는 포토레지스트 필터(102)를 수용하는 공간을 갖는 필터 하우징(104)을 갖는다. 상기 필터 하우징(104) 은 상부가 개구되고, 상기 포토레지스트 필터를 수용하는 공간을 갖는 용기(106)와 상기 용기의 개구부를 밀폐하는 커버(Cover;108)를 포함한다.
본 발명의 필터 하우징(104)의 크기 및 형상은 구비되는 포토레지스트 필터(102)의 크기 및 그 형상에 대응되도록 다양하게 변경될 수 있다. 일 예로 커버(108)와 용기(106)는 클램프(미도시)에 의에 체결될 수 있으며, 상기 커버 외측에 형성된 나사선과 용기의 내측면에 성된 나사선에 의해 체결될 수 있다. 또한, 상기 필터 하우징의 상부 즉, 커버에는 제1 관통홀(미도시)과 제2 관통홀(미도시)이 형성되어 있다. 상기 제1 관통홀에는 상기 포토레지스트 공급부(120)가 연결되며, 상기 제2 관통홀에는 기포 배출부(130)가 연결된다.
일 예로 상기 필터 하우징(104)에는 수용된 포토레지스트 필터(102)의 오염상태를 관찰하는 투명 윈도우(W)가 구비되는 것이 바람직하다. 상기 투명 윈도우(W)는 작업자가 상기 포토레지스트 여과장치를 분해하지 않고, 상기 필터 하우징에 수용된 포토레지스트 필터의 오염정도를 관찰하도록 함으로써 보다 정확하게 상기 포토레지스트 필터의 교환 주기 설정이 가능하도록 한다.
포토레지스트 필터(102)는 상기 필터 하우징(104) 내에 구비되며, 상기 필터 하우징 내부로 제공되는 포토레지스트에 포함된 오염 물질들을 여과하는데 사용된다. 상기 포토레지스트 필터(102)에 의해 여과된 포토레지스트는 오염물질을 포함하지 않기 때문에 반도체 기판 상에 코팅되어 보다 균일한 특성을 갖는 포토레지스트막으로 형성된다.
포토레지스트 공급부(110)는 상기 하우징의 상부에 해당하는 커버에 연결되 며, 캐리어가스의 압력에 의해 포토레지스트 수용부(미도시)에서 제공되는 상기 포토레지스트에 포함된 오염물을 여과하기 위해 필터 하우징(104) 내부로 공급한다. 구체적으로, 상기 포토레지스트 공급부(110)는 상기 필터 하우징의 커버(108)에 형성된 제1 관통홀에 연결되고, 상기 포토레지스트를 상기 필터 하우징(104) 내로 공급하기 위한 유로를 제공하는 포토레지스트 공급 라인(112)을 포함한다. 상기 포토레지스트 공급 라인(112)에 설치되며, 상기 포토레지스트 공급 라인(112)을 통해 흐르는 포토레지스트의 공급 유량을 조절하기 위한 밸브(114)를 포함한다. 또한, 상기 포토레지스트 공급 라인(112)에 설치되며 상기 포토레지스트 공급하기 위한 가압력을 제공하는 펌프(미도시)를 더 포함한다.
기포 배출부(120)는 상기 하우징의 상부 즉, 커버에 연결되며 캐리어가스(N2가스)의 압력에 의해 상기 필터 하우징 내부로 포토레지스트가 제공될 경우 발생되는 기포를 상기 필터 하우징으로부터 제거하는 역할을 한다. 구체적으로 기포 배출부(120)는 상기 필터 하우징의 커버(108)에 형성된 제2 관통홀(미도시)에 연결되며 상기 필터 하우징 내부로 포토레지스트가 제공될 경우 발생되는 기포를 상기 필터 하우징 밖으로 배출시키기 위한 유로를 제공하는 기포 배출 라인(122)을 포함한다. 상기 기포 배출 라인(122)에 설치되며 상기 기포 배출 라인을 개폐하기 위한 밸브(124)를 포함한다. 상기 기포를 배출시키기 위해 상기 기포 배출 라인(122) 내에 가 압력을 제공하기 위한 펌프(126)를 포함한다.
포토레지스트 배출부(130)는 상기 하우징의 저면 즉, 커버와 마주보는 하우 징의 바닥에 연결되어 상기 포토레지스트 필터(102)에 의해 오염물질이 여과된 포토레지스트를 포토레지스트 코팅장치의 분사유닛으로 유입시키기 위해 배출한다. 구체적으로 포토레지스트 배출부(130)는 상기 필터 하우징의 커버(108)와 마주보는 저면에 형성된 제3 관통홀(미도시)에 연결되며 상기 필터 하우징 내부에 구비된 포토레지스트 필터에 의해 오염물질이 여과된 포토레지스트를 기포의 유입 없이 상기 필터 하우징 밖으로 배출시키기 위한 유로를 제공하는 포토레지스트 배출 라인(132)을 포함한다. 상기 포토레지스트 배출 라인(132)에 설치되며 상기 포토레지스트 배출 라인을 개폐하며, 배출되는 포토레지스트의 유량을 제어하는 밸브(134)를 포함한다. 상기 오염물질이 제거된 포토레지스트를 하우징 밖으로 배출시키기 위해 상기 포토레지스트 배출 라인(132)내에 가압력을 제공하기 위한 펌프(136)를 포함한다.
상기 포토레지스트 배출부와 상기 기포 배출부가 포토레지스트 필터를 중심으로 서로 마주보도록 배치된 구조를 갖는 포토레지스트 여과 장치는 기포 및 오염물질을 포함하지 않는 포토레지스트를 수득할 수 있다. 이렇게 수득된 포토레지스트는 반도체 기판 상에는 코팅되어 균일한 감광막이 형성되며, 후속 공정에서의 불량 요인이 사전에 방지되는 효과가 있다. 또한, 상기 포토레지스트 여과 장치에는 투명 윈도우(W)를 포함하고 있어 상기 포토레지스트 여과장치의 분해 없이 포토레지스트 필터의 오염 상태를 항상 확인할 수 있다.
포토레지스트 공급 장치
도 3은 도 2에 도시된 포토레지스트 여과장치를 포함하는 감광액 공급 장치를 설명하기 위한 개략적인 구성도이다. 이 경우, 본 실시예에 따른 포토레지스트 공급 장치는 상기 실시예에 따른 포토레지스트 여과 장치를 포함한다.
도 3을 참조하면, 상기 감광액 공급 장치(200)는 포토레지스트를 저장하기 위한 포토레지스트 저장부(202)와, 상기 포토레지스트 저장부(202)로부터 공급되는 포토레지스트를 일시적으로 수용하기 위한 버퍼 탱크(204)와, 상기 버퍼 탱크(204)로부터 반도체 기판(10) 상에 감광액을 공급하기 위한 포토레지스트 공급수단(230)을 포함한다.
도시된 바에 따르면, 감광액 공급 장치(200)는 감광액을 저장하기 위한 제1저장부(202a)와 제2 저장부(202b)를 포함한다. 그러나, 포토레지스트 저장부(202)의 수량은 다양하게 변경될 수 있으며, 본 발명의 포토레지스트 저장부(202)의 수량에 한정되지는 않는다. 제1 저장부(202a)와 제2 저장부(202b)는 연결 라인(208)에 의해 서로 연결되어 있으며, 연결 라인(208)으로부터 포토레지스트를 버퍼 탱크(204)로 제공하기 위한 제1 공급 라인(210)이 분기된다. 연결 라인(208)과 제1 공급 라인(210)은 연결 밸브(212)에 의해 서로 연결되어 있으며, 제1 저장부(202a)로부터 제공되는 포토레지스트를 감지하기 위한 제1포토레지스트 감지 센서(214a)가 제1 저장부(202a)에 인접하도록 연결 라인(208)에 설치되며, 제2 저장부(202b)로부터 제공되는 포토레지스트를 감지하기 위한 제2 포토레지스트 감지 센서(214b)가 제2용기(202b)에 인접하도록 연결 라인(208)에 설치되어 있다.
버퍼 탱크(204)의 상기 포토레지스트 저장부로부터 제공되는 포토레지스트를 일시적으로 수용한다. 상기 버퍼 탱크에 수용된 포토레지스트에 포함된 가스를 제거하기 위한 가스 배출부(미도시)가 구비되어 있다.
포토레지스트 공급수단(230)은 버퍼 탱크(204)의 하부에 연결된 제2 공급 라인(232)과, 포토레지스트의 유량을 조절하기 위한 유량 제어 밸브(234)와 포토레지스트를 공급하기 위한 가압력을 제공하는 제2 펌프(236) 및 상기 제2 공급 라인(232)의 단부에 연결되며 상기 포토레지스트를 반도체 기판(10) 상으로 공급하기 위해 반도체 기판(10) 상에 배치되는 공급 노즐(240)을 포함한다.
또한, 상기 제2 공급라인에는 포토레지스트에 포함된 오염물질 등을 제거하기 위한 포토레지스트 여과 장치(100)가 설치되어 있다. 상기 포토레지스트 여과 장치는 위에서 상세히 설명하였기에 중복을 피하기 위해 생략한다.
따라서, 포토레지스트 여과 장치를 포함하는 구성을 갖는 포토레지스트 제공 장치는 상기 반도체 기판(10) 상에 공급된 포토레지스트에 기포 및 오염물질을 포함하고 있지 않기 때문에 균일한 도포성을 갖는 포토레지스트막을 형성할 수 있다. 즉, 포토레지스트막의 불 균일 및 포토레지스트 패턴 불량과 같은 공정 사고를 사전에 방지할 수 있다.
기판 코팅 장치.
도 4는 도 3에 도시된 감광막 공급 장치를 포함하는 기판 코팅 장치를 설명하기 위한 개략적인 구성도이다.
도 4를 참조하면, 도시된 반도체 기판 코팅 장치(300)는 반도체 기판(10)을 지지하고, 회전시키는 회전척(310)과, 회전척(310)을 둘러싸도록 구비되는 보울(320)과, 회전척(310)과 보울(320)을 내장하는 챔버(302)와, 포토레지스트를 공급하기 위한 포토레지스트 공급 장치(200)를 구비한다.
회전척(310)의 하부에는 회전력을 전달하는 회전축(312)이 연결되어 있으며, 회전축(312)은 회전력을 제공하는 제1구동부(314)와 연결된다.
회전척(310)의 상부에는 반도체 기판(10) 상에 포토레지스트를 제공하는 공급 노즐(240)이 구비되며, 공급 노즐(240)은 제2구동부(340)에 의해 반도체 기판(10)을 가로질러 이동 가능하도록 설치된다. 또한, 도시되지는 않았으나, 시너 조성물을 제공하는 노즐이 더 구비될 수 있다.
보울(320)은 반도체 기판(10)의 회전에 의해 반도체 기판(10)으로부터 비산된 포토레지스트를 차단하기 위해 구비되며, 제3구동부(미도시)에 의해 반도체 기판(10)의 로딩 및 언로딩에 따라 상하 구동된다.
보울(320)의 하부에는 포토레지스트으로부터 발생된 연무(fume) 및 챔버(302) 내부에서 부유하는 미세한 파티클들을 배출하기 위한 제1배출부(350)가 연결되어 있다. 제1배출부(350)는 회전척(310)의 양측에 연결되며, 진공이 제공되는 진공 라인(미도시)과 연결된다. 진공 라인은 진공 펌프와 연결되며, 진공 라인에는 진공 라인의 개폐 정도를 조절하는 밸브가 설치되어 있다. 또한, 보울(320)의 하부 가장자리에는 반도체 기판(10)으로부터 비산되어 보울(320)에 의해 차단된 포토레지스트를 배출하기 위한 제2배출부(360)가 연결되어 있다.
보울(320)의 바닥에는 제1배출부(350)로 포토레지스트가 유입되는 것을 방지 하기 위한 차단부(380)가 설치되어 있다. 차단부(380)는 보울(320)의 측벽에 의해 차단된 포토레지스트가 보울(320)의 바닥으로 이동하여 회전축(312)의 양측에 연결된 제1배출부(350)로 유입되는 것을 방지하도록 제1배출부(350)와 제2배출부(360) 사이에 설치되며, 원형 링 형상을 갖는다.
상기와 같은 기판 코팅 장치(300)는 기포 배출부(220, 도 2 참조)에 의해 기포가 제거된 포토레지스트를 사용하므로 반도체 기판(10) 상에 균일한 감광막을 형성할 수 있다.
상기와 같은 본 발명에 따르면, 상기 포토레지스트 배출부와 상기 기포 배출부가 포토레지스트 필터를 중심으로 서로 마주보도록 배치된 구조를 갖는 포토레지스트 여과 장치는 기포 및 오염 물질을 포함하지 않는 포토레지스트를 수득할 수 있다
상기 포토레지스트는 반도체 기판 상에는 코팅되어 균일한 감광막이 형성되며, 후속 공정에서의 불량 요인이 사전에 방지되는 효과가 있다.
또한, 상기 포토레지스트 여과 장치에는 투명 윈도우(W)를 포함하고 있어 상기 포토레지스트 여과장치의 분해 없이 포토레지스트 필터의 오염 상태를 항상 확인할 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims (6)

  1. 포토레지스트에 포함된 오염물을 여과하기 위한 포토레지스트 필터;
    상기포토레지스트 필터를 수용하는 필터 하우징;
    상기 필터 하우징 상부에 연결되고, 상기 포토레지스트에 포함된 오염물을 여과하기 위해 필터 하우징 내부로 포토레지스트를 공급하는 포토레지스트 공급부;및
    상기 하우징의 저면에 연결되고, 상기 포토레지스트 필터에 의해 여과된 포토레지스트를 배출하는 포토레지스트 배출부를 포함하는 포토레지스트 여과장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 필터 하우징은 상기 포토레지스트 필터를 수용하는 공간을 갖고 상부가 개구된 용기와 상기 용기의 상부를 밀폐시키는 덮개를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 여과장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 필터 하우징은 상기 포토레지스트 필터의 오염상태를 관찰하는 투명 윈도우를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 여과장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 포토레지스트 공급부는,
    상기 필터 하우징 상부에 연결되고, 상기 포토레지스트를 상기 필터 하우징 내로 공급하기 위한 포토레지스트 공급 라인; 및
    상기 포토레지스트 공급 라인에 설치되며, 상기 포토레지스트의 공급 유량을 조절하기 위한 밸브를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 여과장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 필터 하우징의 상부에 연결되고, 상기 필터 하우징 내부로 포토레지스트가 제공될 경우 발생되는 기포를 상기 필터 하우징으로부터 배출시키는 기포 배출부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 여과 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 기포 배출부는,
    상기 필터 하우징 상부에 연결되고, 상기 필터 하우징 내부로 포토레지스트가 제공될 경우 발생되는 기포 하우징으로부터 배출시키는 기포 배출 라인;
    상기 기포 배출 라인을 개폐하기 위한 밸브; 및
    상기 기포를 배출시키기 위한 압력을 제공하기 위한 펌프를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 여과장치.
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