KR20060113934A - Ｕｖ 안정화 첨가제 조성물 - Google Patents

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KR20060113934A
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benzotriazole
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빈센조 말라테스타
존 젠너
스탠리 레쇼
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사이텍 테크놀러지 코포레이션
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Abstract

오쏘-하이드록시 트리스-아릴-s-트리아진 화합물; 부자유 아민 화합물; 및 하이드록시벤조페논 화합물을 함유한 UV 안정화 조성물의 조성물. 부자유 아민 화합물 대 트리아진 화합물의 비율은 약 2:1 내지 약 25:1이고; 부자유 아민 화합물 대 하이드록시벤조페논 화합물의 비율은 약 1:1 내지 25:1이다. 이 UV 안정화 조성물은 안정화될 물질을 추가적으로 함유할 수 있다.
트리아진, 부자유 아민, 하이드록시벤조페논, 벤조트리아졸, ＵＶ

Description

ＵＶ 안정화 첨가제 조성물{UV STABILIZING ADDITIVE COMPOSITION}
본 발명은 개선된 UV 안정화 첨가제 조성물에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 오쏘-하이드록시 트리아진(ortho-hydroxy triazine) 화합물, 부자유 아민(hindered amine) 화합물 및 하이드록시벤조페논(hydroxybenzophenone) 화합물을 함유한 UV 안정화 첨가제 조성물에 관한 것이다.
태양광 및 기타 자외선 방사 급원에 대한 노출은 광범위한 종류의 물질, 특히 중합체 물질의 분해를 일으키는 것으로 알려져 있다. 예를 들어, 플라스틱과 같은 중합체 물질은 UV 광선에 대한 연장된 노출의 결과로서 변색 및 광택이 손실 되고/되거나 무르게되는데, 이는 기본적으로 중합체의 분자량의 감소에 기인한다. 따라서, 당해 기술 분야의 주된 부분이 UV 광선 흡수제 및 안정제와 같은, 중합체 물품에서 그러한 분해를 저지할 수 있는 물질에 대하여 직접적으로 발전되어왔다.
본 발명자는 오쏘-하이드록시 트리아진(ortho-hydroxy triazine) 화합물, 부자유 아민(hindered amine) 화합물 및 하이드록시벤조페논(hydroxybenzophenone) 화합물의 혼합이 UV 광선에 대항하는 물질의 상승효과적인 보호성을 제공한다는 사실을 밝혀냈다. 이러한 혼합은 전형적인 UV 안정제 적재 수준에서 보다 양호한 보호를 제공하거나, 또는 훨씬 낮은 적재 수준에서 전형적인 보호를 제공함으로써, 그 결과 종래의 UV 안정화 첨가제 조성물에 비하여 상당한 비용 절감효과를 낼 수 있다.
발명의 개요
본 발명은 오쏘-하이드록시 트리아진 화합물, 부자유 아민 화합물 및 하이드록시벤조페논 화합물을 함유한 UV 안정화 첨가제 조성물에 관한 것이다. 이 첨가제 조성물은 UV 방사로부터 물질을 안정화하는데 사용될 수 있다. 본 발명은 또한 UV 안정화 첨가제 조성물과 물질을 접촉시켜 물질을 안정화시키는 방법을 포함한다.
상세한 설명
본 발명은 오쏘-하이드록시 트리아진 화합물, 부자유 아민 광 안정제(HALS) 화합물 및 하이드록시벤조페논 화합물을 함유하는 UV 안정화 첨가제 조성물에 관한 것이다.
바람직하게는, 오쏘-하이드록시 트리스-아릴-s-트리아진(ortho-hydroxy tris-aryl-s-triazine) 화합물은 하기의 화학식 I을 갖는데:
Figure 112006039111858-PCT00001
상기 식에서, A, B 및 C는 각각 방향족이고; A, B 및 C 중 적어도 하나는 트리아진 고리의 연결 지점에 대하여 오쏘 위치에 하이드록시 그룹이 치환되어 있으며; R1 내지 R9 각각은 수소, 하이드록시, 알킬, 알콕시, 설폰, 카르복시, 할로(halo), 할로알킬 및 약 1 내지 약 24개의 탄소원자를 가진 아실아미노로 이루어진 그룹에서 선택된다.
트리스-아릴-s-트리아진의 일 구체예는 하기의 화학식 II를 갖는 화합물인데:
Figure 112006039111858-PCT00002
상기 식에서, Ar1 및 Ar2는 동일 또는 상이하고, 치환 또는 비치환 아릴기이며; 상기 R20 및 R21은 각각 독립적으로 수소, C1-C24 알킬, C1-C24 할로알킬, C6-C24 아릴, C2-C24 알케닐, C1-C24 아실, C1-C24 시클로알킬, C5-C24 시클로아실, C7-C24 아르알킬, 또는 C6-C24 아르아실, 치환 또는 비치환 비페닐렌(biphenylene), 치환 또는 비치환 나프탈렌, OR, NRR', CONRR', OCOR, CN, SR, SO2R이며; 상기 R 및 R'는 각각 독립적 으로 수소, C1-C24 알킬, C1-C24 할로알킬, C6-C24 아릴, C2-C24 알케닐, C1-C24 아실, C1-C24 시클로알킬, C5-C24 시클로아실, C7-C24 아르알킬, 또는 C6-C24 아르아실, 치환 또는 비치환 비페닐, 또는 치환 또는 비치환 나프탈렌이다.
바람직하게는, 상기 화학식 II에서, Ar1은 하기의 화학식 IIa를 갖는데:
Figure 112006039111858-PCT00003
상기 식에서, R22 및 R23은 각각 독립적으로 수소, C1-C24 알킬, C1-C24 할로알킬, C6-C24 아릴, C2-C24 알케닐, C1-C24 아실, C1-C24 시클로알킬, C5-C24 시클로아실, C7-C24 아르알킬, 또는 C6-C24 아르아실, 치환 또는 비치환 비페닐렌, 치환 또는 비치환 나프탈렌, OR, NRR', CONRR', OCOR, CN, SR, 및 SO2R이며; 여기서 R 및 R'는 상기 정의된 바와 같다.
또한 상기 화학식 II에서 바람직한 것은, R20이 수소 또는 C1-C8 알킬일 때, R21이 수소인 것이고, Ar1 및 Ar3는 동일 또는 상이할 수 있으며, 벤질, 메틸벤질 또는 디메틸벤질이다.
이용될 수 있는 적절한 트리스-아릴-s-트리아진의 예는 2,4,6-트리스(2-하이 드록시-4-옥틸옥시페닐)-1,3,5-트리아진; 2-(2-하이드록시-4-n-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진; 2-(2-하이드록시-4-(혼합 이소-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진; 2-(2,4-디하이드록시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진; 2,4-비스(2-하이드록시-4-프로필옥시페닐)-6-(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진; 2-(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(4-메틸페닐)-1,3,5-트리아진; 2-(2-하이드록시-4-도데실옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진; 2-(2-하이드록시-4-트리데실옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진; 2-[2-하이드록시-4-(2-하이드록시-3-부틸옥시프로필옥시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진; 2-[2-하이드록시-4-(2-하이드록시-3-옥틸옥시프로필옥시)-페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진; 2-[4-도데실옥시/트리데실옥시-2-하이드록시프로폭시)-2-하이드록시페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진; 2-[2-하이드록시-4-(2-하이드록시-3-도데실옥시프로폭시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진; 2-(2-하이드록시-4-헥실옥시)페닐-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진; 2-(2-하이드록시-4-메톡시페닐)-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진; 2,4,6-트리스[2-하이드록시-4-(3-부톡시-2-하이드록시프로폭시)페닐]-1,3,5-트리아진 및 2-(2-하이드록시페닐)-4-(4-메톡시페닐)-6-페닐-1,3,5-트리아진이다..
부자유 아민 화합물은 2,2,6,6-테트라알킬피페리딘 또는 2,2,6,6-테트라알킬피페라지논 라디칼을 포함하는 화합물과 같은 임의의 적절한 부자유 아민 화합물일 수 있다. 부자유 아민 화합물의 일 구체예는 하기의 화학식 III을 갖는 적어도 1 그룹을 포함하는 화합물인데:
Figure 112006039111858-PCT00004
상기 식에서, R11은 수소, O, OH, C1-C18 알킬, -CH2CN, C1-C18 알콕시, C1-C18 하이드록시알콕시, C5-C12 시클로알콕시, C5-C12 하이드록시클로알콕시, C3-C6 알케닐, C1-C18 알키닐, C7-C9 페닐알킬, 비치환 또는 페닐 상의 1,2 또는 3 위치에 치환된 C1-C4 알킬, 또는 지방족 C1-C8 아실이고; R12은 수소, C1-C8 알킬, 또는 벤질이며; R13, R14, R15 및 R16은 각각 독립적으로 C1-C18 알킬, 벤질 또는 펜에틸(phenethyl)이고, 또는 선택적으로 R13 및 R14, 및/또는 R15 및 R16은 이들이 결합되는 탄소와 함께 C5-C19 시클로알킬을 형성한다.
부자유 아민 화합물의 또 다른 구체예는 하기의 화학식 IV를 갖는 화합물인데:
Figure 112006039111858-PCT00005
상기 식에서, R10은 모폴리노(morpholino), C1-C8 알킬아민, 디(C1-C8)알킬아민, 피롤리딜(pyrrolidyl), 시클로헥실아민 또는 이들의 혼합물이며, 동일 또는 상이할 수 있는 X 및 X1은 수소, C1-C20 알킬, 또는 상기 정의된 화학식 III의 라디칼이고, R11 내지 R16은 상기 정의된 바와 같으며, Z는 직쇄 또는 분지쇄 C1-C20 알킬렌, 또는 직쇄 또는 적어도 옥시, 티오, 또는 -N(R17)-에 의해 간섭된(interrupted) 분지쇄 C1-C20 알칼렌(alkalene) 사슬이며, 여기서 R17은 수소, C1-C20 알킬, C5-C10 시클로알킬렌, C6-C12 아릴렌(arylene), C8-C14 아르알킬렌 또는 화학식 II의 라디칼이고; n은 1보다 큰 정수이며; Y는 할로겐 원자, C1-C8 알킬아민, 디(C1-C8) 알킬아민, 피롤리딜, 모폴리노, 시클로헥실아민 또는 하기의 식이며,
Figure 112006039111858-PCT00006
상기 식에서 X, X1 및 Z는 상기 정의된 바와 같다.
바람직하게는 상기 화학식 IV에서, Z는 C2 내지 C6 알킬렌이고, R10은 모폴리노 또는 시클로헥실아민이며, X 및 X1은 화학식 III의 라디칼이고, R11은 수소 또는 메틸이며, R12는 수소이고, R13, R14, R15 및 R16은 메틸이다.
부자유 아민의 또 다른 구체예는 2,2,6,6-테트라알킬피페라지논(tetraalkylpiperazinone)이다. 2,2,6,6-테트라알킬피페라지논 화합물의 일 구체예는 하기의 화학식 IVa의 적어도 1 그룹을 포함하는 화합물인데:
Figure 112006039111858-PCT00007
상기 식에서 R11은 상기 정의한 바와 같다.
적절한 부자유 아민 화합물의 예에는 하기의 화합물이 포함되나, 이에 한정되지는 않는다: 1H-피롤-2,5-디온, 1-옥타데실-, (1-메틸에테닐)벤젠 및 1-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐)-1H-피롤-2,5-디온을 보유하는 중합체; 피페라지논(piperazinone), 1,1',1"-[1,3,5-트리아진-2,4,6-트리일트리스[(시클로헥실이미노)-2,1-에탄디일]]트리스[3,3,5,5-테트라메틸-]; 피페라지논, 1,1',1"-[1,3,5- 트리아진-2,4,6-트리일 트리스[(시클로헥실이미노)-2,1-에탄디일]]트리스[3,3,4,5,5-펜타메틸-]; 7,7,9,9-테트라메틸-2-시클로운데실-1-옥사-3,8-디아자-4-옥소스피로[4.5]데칸과 에피클로로하이드린의 반응 산물; N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)헥사메틸렌디아민과 4-시클로헥실아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합물(condensate); 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄, 2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진 및 4-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 축합물; N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)헥사메틸렌디아민과 4-모폴리노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합물; 2-클로로-4,6-비스(4-n-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄의 축합물; 2-클로로-4,6-비스(4-n-부틸아미노-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스-(3-아미노프로필아미노)에탄의 축합물; 2-[(2-하이드록시에틸)아미노]-4,6-비스[N-(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)부틸아미노-1,3,5-트리아진; 프로판디산(propanedioic acid), [(4-메톡시페닐)-메틸렌]-비스-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리디닐) 에스테르; 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트; 벤젠프로판산(bezenepropanoic acid), 3,5-비스(1,1-디메틸에틸)-4-하이드록시-, 1-[2-[3-[3,5-비스(1,1-디메틸에틸)-4-하이드록시페닐]-1-옥소프로폭시]에틸]-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐 에스테르; N-(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)-N'-도데실옥살아미드; 트리스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)니트릴로트리아세테이트; 1,5-디옥사스피로{5,5}운데칸-3,3-디카르복시산, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸 -4-피페리디닐); 1,5-디옥사스피로{5,5}운데칸-3,3-디카르복시산, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐); 1-(2-하이드록시에틸)-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리딘과 석신산의 축합물; N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)헥사메틸렌디아민 및 4-tert-옥틸아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합물; 1,2,3,4-부탄테트라카르복시산, 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리디닐 트리데실 에스테르; 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트; 1,2,3,4-부탄테트라카르복시산, 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐 트리데실 에스테르; 테트라키스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트; 2,2,4,4-테트라메틸-21-옥소-7-옥사-3.20-디아자스피로(5.1.11.2)-헤네이코산(heneicosane)-20-프로판산-도데실에스테르; 2,2,4,4-테트라메틸-21-옥소-7-옥사-3.20-디아자스피로(5.1.11.2)-헤네이코산-20-프로판산-테트라데실에스테르; 1H,4H,5H,8H-2,3a,4a,6,7a,8a-헥사아자시클로펜타[데프(def)]플루오렌-4,8-디온, 헥사하이드로-2,6-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐)-; 폴리메틸[프로필-3-옥시(2',2',6',6'-테트라메틸-4,4'-피페리디닐)]실록산(siloxane); 폴리메틸[프로필-3-옥시(1',2',2',6',6'-펜타메틸-4,4'-피페리디닐)]실록산; 에틸 아크릴레이트 및 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일 아크릴레이트를 보유한 메틸메타크릴레이트의 공중합체; 혼합 C20 내지 C24 알파-올레핀 및 (2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)석신이미드의 공중합체; 1,2,3,4-부탄테트라카르복시산, β,β,β',β'-테트라메틸-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸-3,9-디에탄올을 보유한 중합체, 1,2,2,6,6- 펜타메틸-4-피페리디닐 에스테르; 1,2,3,4-부탄테트라카르복시산, β,β,β',β'-테트라메틸-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸-3,9-디에탄올을 보유한 중합체, 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐 에스테르 공중합체; 1,3-벤젠디카르복사미드, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐; 1,1'-(1,10-디옥소-1,10-데칸디일)-비스(헥사하이드로-2,2,4,4,6-펜타메틸피리미딘; 에탄 디아미드, N-(1-아세틸-2,2,6,6-테트라메틸피페리디닐)-N'-도데실; 포름아미드, N,N'-1,6-헥산디일비스[N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐); D-글루시톨(D-glucitol), 1,3:2,4-비스-Ｏ-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐리덴)-; 2,2,4,4,-테트라메틸-7-옥사-3,20-디아자-21-옥소-디스피로[5.1.11.2]헤네이코산; 프로판아미드, 2-메틸-N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐)-2-[(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐)아미노]-; 7-옥사-3,20-디아자디스피로[5.1.11.2]헤네이코산-20-프로판산, 2,2,4,4-테트라메틸-21-옥소-, 도데실 에스테르; N-(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)-β-아미노프로피온산 도데실 에스테르; N-(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)-N'-아미노옥살아미드; 프로판아미드, N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐)-3-[2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐)아미노]-; 4-헥사데실옥시- 및 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 혼합물; 3-도데실-1-(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일)피롤리딘-2,5-디온; 3-도데실-1-(1-에타노일-2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일)피롤리딘-2,5-디온; 비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)석시네이트; 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일)-n-부틸-3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질말로네이트; 트리스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)니트릴로트리아세테이트; 1,1'-(1,2-에탄디일)비 스(3,3,5,5-테트라메틸피페라지논); 4-벤조일-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘; 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘; 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-2-n-부틸-2-(2-하이드록시-3,5-디-tert-부틸벤질)말로네이트; 3-n-옥틸-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로[4.5]데칸-2,4-디온; 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)세바케이트; 비스(1-옥틸-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)석시네이트; 8-아세틸-3-도데실-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로[4.5]데칸-2,4-디온; 3-도데실-1-(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)피롤리딘-2,5-디온; 3-도데실-1-(1-에타노일-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)피롤리딘-2,5-디온; 3-도데실-1-(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일)피롤리딘-2,5-디온; 4-헥사데실옥시- 및 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 혼합물; 2-운데실-7,7,9,9-테트라메틸-1-옥사-3,8-디아자-4-옥소스피로[4.5]데칸; 1,5-디옥사스피로{5,5}운데칸-3,3-디카르복시산, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐) 및 1,5-디옥사스피로{5,5}운데칸-3,3-디카르복시산, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리디닐).
본 발명의 하이드록시벤조페논 화합물은 하기의 화학식 V를 갖는 화합물과 같은 임의의 적절한 부자유 하이드록시벤조에이트 화합물일 수 있는데:
Figure 112006039111858-PCT00008
상기 식에서, R17, R18 및 R24는 각각 독립적으로 수소 및 1 내지 18개의 탄소원자를 보유하는 알킬, 아릴, 아르알킬, 알카릴, 알콕시, 아릴옥시이고, R19는 수소, C1-C24 알킬, 또는 치환 또는 비치환 C6-C24 아릴이다. 바람직하게는 R17, R18 및 R24는 각각 수소이고 R19는 C1-C8 알킬이다.
적절한 부자유 하이드록시벤조페논 화합물의 예에는 하기의 화합물이 포함된다: 2,4-디하이드록시벤조페논; 2-하이드록시-4-메톡시벤조페논; 2-하이드록시-4-옥틸옥시벤조페논; 2-하이드록시-4-데실옥시벤조페논; 2-하이드록시-4-도데실옥시벤조페논; 2-하이드록시-4-벤질옥시벤조페논; 2,2'-디하이드록시-4,4'-디메톡시벤조페논; 2,2',4,4'-테트라하이드록시벤조페논; 2,4-디하이드록시-4'-tert-부틸-벤조페논; 1,6-비스-(3-하이드록시-4-벤조일페녹시)헥산; 메틸렌비스-(2-벤조일-5-메톡시페놀).
본 발명의 일 구체예에서, 본 발명의 UV 안정화 첨가제 조성물은 자외선 방사에 의해 분해되기 쉬운 물질을 안정화시키는데 이용될 수 있는데, 이는 UV 안정 화 첨가제 조성물과 중합체 또는 다른 물질을 함유한 조성물을 화학적 또는 물리적으로 접촉시킴에 의한다. 그렇게 안정화될 수 있는 물질의 비제한적인 예는 폴리올레핀, 폴리에스테르, 폴리에테르, 폴리케톤, 폴리아미드, 천연 및 합성 고무, 폴리우레탄, 폴리스티렌, 고-충격 폴리스티렌, 폴리아크릴레이트, 폴리메타크릴레이트, 폴리아세탈, 폴리아크릴로니트릴, 폴리부타디엔, 폴리스티렌, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌, 스티렌 아크릴로니트릴, 아크릴레이트 스티렌 아크릴로니트릴, 셀룰로스계 아세테이트 부티레이트, 셀룰로스계 중합체, 폴리이미드, 폴리아미드이미드, 폴리에테르이미드, 폴리페닐설파이드, 폴리페닐옥사이드, 폴리설폰(polysulfone), 폴리에테르설폰, 폴리비닐클로라이드, 폴리카보네이트, 폴리케톤, 지방족 폴리케톤, 열가소성 올레핀, 아미노 수지가 가교결합된 폴리아크릴레이트 및 폴리에스테르, 폴리 이소시아네이트가 가교결합된 폴리에스테르 및 폴리아크릴레이트, 페놀/포름알데히드, 우레아/포름알데히드 및 멜라민/포름알데히드 수지, 건조 및 비-건조 알키드(alkyd) 수지, 알키드 수지, 폴리에스테르 수지, 멜라민 수지와 가교결합된 아크릴레이트 수지, 우레아 수지, 이소시아네이트, 이소시아누레이트(isocyanurate), 카바메이트 및 에폭시수지, 무수물 또는 아민과 가교결합된 지방족, 지환족, 헤테로고리 및 방향족 글리시딜 화합물 유래의 가교결합된 에폭시 수지, 폴리실록산, 마이클 첨가 중합체, 아민, 활성화된 불포화물 및 메틸렌 화합물을 보유한 블록 아민, 활성화된 불포화물 및 메틸렌 화합물을 보유한 케티민(ketimine), 불포화 아크릴계 폴리아세토아세테이트 수지와 결합한 폴리케티민, 불포화 아크릴 수지와 결합한 폴리케티민, 방사광 경화 조성물, 에폭시멜라민 수 지, 유기 염료, 화장품 제품, 셀룰로스-기반 종이 배합물, 사진 필름 종이, 섬유, 왁스, 잉크 및 이들의 혼합물이다.
바람직하게는 안정화될 물질은 열가소성 올레핀, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌, 폴리에스테르, 폴리비닐클로라이드, 폴리아미드, 폴리우레탄; 또는 호모 프로필렌, 이소부틸렌, 부텐, 메틸펜텐, 헥센, 헵텐, 옥텐, 이소프렌, 부타디엔, 헥사디엔, 디시클로펜다티엔, 에틸리덴(ethylidene), 시클로펜텐 및 노르보르넨(norbornene)의 호모- 및 공중합체이다. 보다 바람직하게는 이 물질은 폴리프로필렌 및 열가소성 올레핀이다.
본 발명의 첨가제의 혼합물을 이용하여 안정화될 물질에 이용되는 트리아진 화합물의 양은 전형적으로 일반적인 이용량보다 낮다. 트리아진의 최소 제한량은 안정화될 물질의 양을 기초로 약 10 ppm, 또는 약 20 ppm, 또는 약 50 ppm 또는 약 75 ppm 또는 약 100 ppm 또는 약 200 ppm 만큼 낮을 수 있다. 트리아진 양의 최대 제한량은 없으나, 안정화될 물질을 기초로 약 5000 ppm 또는 약 4000 ppm 또는 약 3000 ppm 또는 약 2000 ppm 또는 약 1000 ppm 또는 약 500 ppm이 될 것이다.
본 발명의 첨가제의 혼합물을 이용하여 안정화될 물질에 이용되는 하이드록시벤조페논 화합물의 양은 전형적으로 일반적인 이용량보다 낮다. 하이드록시벤조페논의 최소 제한량은 안정화될 물질의 양을 기초로 약 10 ppm, 또는 약 20 ppm, 또는 약 50 ppm 또는 약 75 ppm 또는 약 100 ppm 또는 약 200 ppm, 또는 약 500 ppm만큼 낮을 수 있다. 하이드로벤조페논의 최대 제한량은 없으나, 안정화될 물질을 기초로 약 5000 ppm 또는 약 4000 ppm 또는 약 3000 ppm 또는 약 2000 ppm 또는 약 1000 ppm 또는 약 500 ppm이 될 것이다.
본 발명의 첨가제의 혼합물을 이용하여 안정화될 물질에 이용되는 부자유 아민 화합물의 양은 전형적인 이용량과 거의 유사하다. 부자유 아민화합물의 최소 제한량은 안정화될 물질의 양을 기초로 약 250 ppm, 또는 약 500 ppm, 또는 약 1000 ppm 또는 약 2000 ppm이 될 수 있다. 부자유 아민 화합물의 최대 제한량은 없으나, 안정화될 물질을 기초로 약 30000 ppm, 또는 약 20000 ppm 또는 약 15000 ppm 또는 약 12500 ppm 또는 약 10000 ppm 또는 약 7500 ppm, 또는 약 5000 ppm이 될 것이다.
기타 UV 흡수제에 관한 부자유 아민 화합물의 양은 전형적으로 더 많다. 부자유 아민 화합물 대 트리아진 UV 흡수제의 비율은 약 50:1, 또는 약 25:1, 또는 약 20:1 또는 약 10:1, 또는 약 7:1 또는 약 3:1만큼 높을 수 있다. 부자유 아민 화합물 대 하이드록시벤조페논 UV 흡수제의 비율을 약 25:1, 또는 약 20:1 또는 약 10:1, 또는 약 7:1 또는 약 3:1 또는 약 2:1 또는 약 1.5:1 또는 약 1:1일 수 있다. 하이드록시벤조페논 화합물 대 트리아진 UV 흡수제의 비율은 약 10:1, 또는 약 5:1, 또는 약 3:1 또는 약 2:1, 또는 약 1:1 또는 약 1:2일 수 있다.
상기 첨가물에 대해 개시된 양 및 비율은 서로 각각 독립적이라는 것이 유념되어야 한다.
본 발명은 벤조트리아졸 UV 흡수제가 하이드록시벤조페논 UV 흡수제를 대체할 수 있다는 것을 포함한다. 이 벤조트리아졸 화합물도 또한 다른 세 첨가제에 첨가될 수 있다. 하이드록시벤조페논 UV 흡수제에 대해 상기 개시된 것과 동일한 비 율 및 양이 벤조트리아졸 UV 흡수제에 이용될 수 있다. 하기의 화합물은 벤조트리아졸 UV 흡수제의 예이다: 2-(2-하이드록시-5-메틸페닐)-벤조트리아졸; 2-(2-하이드록시-5-tert-부틸페닐)-벤조트리아졸; 2-(2-하이드록시-3,5-디-tert-부틸페닐)-벤조트리아졸; 5-클로로-2-(2-하이드록시-3-tert-부틸-5-메틸페닐)-벤조트리아졸; 5-클로로-2-(2-하이드록시-3,5-디-tert-부틸-5-메틸페닐)-벤조트리아졸; 2-(2-하이드록시-3-tert-페닐-5-메틸)-벤조트리아졸; 2-(2-하이드록시-3,5-디-tert-아밀)-벤조트리아졸; 2-(2-하이드록시-3-sec-부틸-5-tert-부틸)-벤조트리아졸; 2-(2-하이드록시-4-옥틸옥시)-벤조트리아졸; 2-(2-하이드록시-5-tert-옥틸)-벤조트리아졸; 2-[2-하이드록시-3,5-디(α,α-디메틸벤질)페닐]-벤조트리아졸; 2-(2-하이드록시-3-도데실-5-메틸페닐)벤조트리아졸; 2-[2-하이드록시-3-(α,α'-디메틸벤질)-5-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐]벤조트리아졸; 2,2'-메틸렌비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-벤조트리아졸-2-일 페놀]; 2-[2-하이드록시-3-(3,4,5,6-테트라하이드로프탈이미도메틸)-5-메틸페닐]벤조트리아졸; 2-[3-tert-부틸-5-(2-(2-에틸헥실옥시카르보닐에틸))-2-하이드록시페닐]벤조트리아졸; 2-[3-tert-부틸-5-(2-메톡시카르보닐에틸)-2-하이드록시페닐)벤조트리아졸과 약 MW 300의 폴리에틸렌 글리콜의 에스테르교환 반응 산물의 혼합물; 5-클로로-2-[2-하이드록시-3-tert-부틸-5-(2-옥틸옥시카르보닐)에틸페닐]벤조트리아졸.
본 발명은 또한 UV 안정화 첨가제 조성물을 안정화될 물질과 접촉시킴에 의해 상기 조성물을 제조하는 방법을 포함한다. 이 안정화될 물질 및 UV 안정화 첨가제 조성물은 일축 또는 이축 스크류 압출기, 반버리(Banbury) 혼합기, 또는 고온 롤러와 같은 반죽 장치에서 성분들을 바람직하게는 혼합 또는 화합시킴으로써 접촉된다. 공정 변수(parameter) 및 그러한 반죽 장치의 이용은 당해 기술 분야에서 숙련된 자(이하 당업자라 한다)들에게 잘 알려져 있다.
안정화될 물질 및 UV 안정화 첨가제 조성물과 더불어, 플라스틱 물질 제조 분야의 당업자들에게 명백한 바와 같이, 본 발명의 조성물은 산화방지제, 금속 불활성제(metal deactivator), 하이드록실아민, 니트론(nitrone), 락톤, 공-안정화제(co-stablilizer), 조핵제, 정화제(clarifying agent), 중화제, 금속성 스테아레이트, 금속 산화물, 하이드로탈사이트(hydrotalcite), 충전제 및 강화제, 가소제, 윤활제, 에멀션화제, 안료, 유동화 첨가제(rheological additive), 촉매, 농도조절제(level agent), 광학적 광택제(optical brightener), 화염 억제제(flame retardant agent), 정전기 방지제(anti-static agent) 및 발포제, 및 이들의 혼합물이 포함되나 이에 한정되지는 않는 종래의 첨가제들을 함유할 수 있다.
UV 안정화 첨가제 조성물 및 안정화될 물질은 압출 또는 성형 물품과 같은 물품들, 코팅, 테이프 및 필름을 제조하는데 이용될 수 있다. 이 물품들은 압출, 시트 압출(sheet extrusion), 사출성형, 발포성형, 사출발포성형, 회전 또는 로토-성형, 캘린더링, 가열성형, 압축성형, 진공성형, 압력성형(pressure molding), 반응사출성형 및 당업계에 공지된 기타 유사한 기법에 의해 성형될 수 있다. 이외에도, 코팅은 분말코팅, 압출코팅, 일렉트로코팅(electrocoating), 스프레이, 디핑(dipping) 및 당업계에 공지된 기타 유사한 기법으로 도포된다.
하기의 실시예는 본 발명을 예증하기 위해 제공된다. 이 실시예들은 본 발명의 범주를 제한하는 의도가 아니며, 그렇게 이해되어서도 안된다.
실시예 1 내지 4. 저밀도 폴리에틸렌( LDPE ) 조성물에서 광택 보유도 , 보유 연신율 및 보유 인장강도
실시예 1 내지 4의 UV 첨가제를 건조 혼합 기법을 이용하여 혼합했다. 이 첨가제 이외에도, 0.04중량%의 1,3,5-트리스-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)-s-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)트리온)을 함유하는 산화방지제 패키지, 0.08%의 트리스(2,4-디-tert-부틸페닐)포스파이트(뉴저지 더블유. 패터슨 소재 사이텍 인더스트리 인크.) 및 0.05중량%의 아연 스테아레이트를 UV 첨가제와 혼합했다. 이러한 첨가제를 텍사스 휴스턴 소재 이퀴스타(Equistar)사가 공급하는 저밀도 폴리에틸렌(마이크로텐(Microthene, MI = 3.6, 밀도 = 0.9395 g/mL)과 화합하고 종래의 일축 압출 요소를 가진 데이비스 스탠다드 킬론(Davis Standard Killon)을 이용하여 압출했다. 압출 후에, 표준 2×2.5×0.125 in의 플라크(plaque)를 아버그(Arburg) 사출성형기를 이용하여 사출성형했다.
광택 보유도(retention), 보유 연신율(elongation) 및 보유 인장강도(tensile strength)의 성능 기준(criteria)을 ASTM-G-26 하에 물 분사 시험 조건으로 제논(xenon) 웨더-오메터(weather-ometer)에서 가속 노출을 이용하여 정지 노출 간격(광택에 대하여 500 시간, 보유 연신율 및 인장강도에 대하여 2500 시간)에서 측정했다. 광택 및 색상 측정 이전에, 샘플을 탈이온수로 세척하고 닦아냈다.
광택 보유도 측정은 ASTM 시험 절차 D523 하에 60°각도로 가드너(Gardner) 계기 상에서 수행했다.
파쇄 강도에 대하서, 각각의 데이터 포인트 당 5개의 장력 막대를 인스트론(Instron) 엔지니어링 컴패니 텐슬 테스터(시리즈 IX 자동화 테스트 시스템 7.51.00) 상에서 시험했다. 3개의 시험 샘플의 평균 장력 파쇄 강도를 측정하고, a% 파쇄 강도를 부여하기 위해 UV 노출되지 않은 샘플에 표준화시켰다. 텐슬 테스터의 크로스-헤드(cross-head) 속도는 1 in(0.254 cm)/min였다.
결과를 하기의 표 1 내지 3에 나타냈다.
실시예 1 내지 4의 광택 보유도 %
실시예 설명 광택 보유도 % 3500 시간 광택 보유도 % 4500 시간
1 UV-3346 0.900%, UV-1164 0.045%, UV-531 0.045% 87 71
2 UV-3346 0.900%, UV-531 0.090% 67 44
3 UV-3346 0.900%, UV-1164 0.090% 91 75
4 UV-3346 1.0% 67 52
Cyasorb® UV 3346은 1,6-헥산디아민, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐)-, 모르폴린-2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진을 보유한 중합체(HALS)이고,
Cyasorb® UV 1164는 2-[4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진-2-일]-5-(옥틸옥시)페놀(트리아진 UV 흡수제)이며,
Cyasorb® UV 531은 2-하이드록시-4-n-옥토옥시벤조페논(UV 흡수제)이다.
실시예 1 내지 4의 보유 인장강도
실시예 설명 보유 인장강도 % 2500 시간 보유 인장강도 % 5000 시간
1 UV-3346 0.900%, UV-1164 0.045%, UV-531 0.045% 87% 84%
2 UV-3346 0.900%, UV-531 0.090% 90% 76%
3 UV-3346 0.900%, UV-1164 0.090% 90% 77%
4 UV-3346 1.0% 73% 69%
실시예 1 내지 4의 보유 연신율
실시예 설명 보유 연신율 % 2500 시간 보유 연신율 % 5000 시간
1 UV-3346 0.900%, UV-1164 0.045%, UV-531 0.045% 71% 71%
2 UV-3346 0.900%, UV-531 0.090% 82% 60%
3 UV-3346 0.900%, UV-1164 0.090% 69% 64%
4 UV-3346 1.0% 49% 45%
결과는 벤조페논과 함께 절반에 해당하는 양의 트리아진 UV 흡수제를 함유한 첨가제 조성물이 두배로 적재한 트리아진 UV만을 함유한 조성물보다 성능이 더 좋았다는 것을 나타냈다.

Claims (14)

  1. (i) 오쏘-하이드록시 트리스-아릴-s-트리아진 화합물;
    (ii) 부자유 아민 화합물; 및
    (iii) 하이드록시벤조페논 화합물을 함유하는 UV 안정화 조성물을 함유하는 조성물.
  2. (i) 오쏘-하이드록시 트리스-아릴-s-트리아진 화합물;
    (ii) 부자유 아민 화합물; 및
    (iii) 하이드록시벤조페논 화합물을 함유하되, 여기서 부자유 아민 화합물 대 트리아진 화합물의 비율은 약 3:1 내지 약 25:1이고; 부자유 아민 화합물 대 하이드록시벤조페논 화합물의 비율은 약 1:1 내지 약 25:1인 것인, UV 안정화 조성물을 함유하는 조성물.
  3. 제2항에 있어서, 안정화될 물질을 추가적으로 함유하는 조성물.
  4. 제3항에 있어서, 상기 트리아진 화합물의 양은 안정화될 물질의 중량을 기초로 약 20 ppm 내지 약 2000 ppm이고, 상기 하이드록시벤조페논의 양은 안정화될 물질의 중량을 기초로 약 20 ppm 내지 약 5000 ppm이며, 상기 부자유 아민의 양은 안정화될 물질의 중량을 기초로 약 250 ppm 내지 약 20000 ppm인 것이 특징인 조성 물.
  5. 제3항에 있어서, 상기 안정화될 물질은 폴리올레핀, 폴리에스테르, 폴리에테르, 폴리케톤, 폴리아미드, 천연 및 합성 고무, 폴리우레탄, 폴리스티렌, 고-충격 폴리스티렌, 폴리아크릴레이트, 폴리메타크릴레이트, 폴리아세탈, 폴리아크릴로니트릴, 폴리부타디엔, 폴리스티렌, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌, 스티렌 아크릴로니트릴, 아크릴레이트 스티렌 아크릴로니트릴, 셀룰로스계 아세테이트 부티레이트, 셀룰로스계 중합체, 폴리이미드, 폴리아미드이미드, 폴리에테르이미드, 폴리페닐설파이드, 폴리페닐옥사이드, 폴리설폰(polysulfone), 폴리에테르설폰, 폴리비닐클로라이드, 폴리카보네이트, 폴리케톤, 지방족 폴리케톤, 열가소성 올레핀, 아미노 수지가 가교결합된 폴리아크릴레이트 및 폴리에스테르, 폴리이소시아네이트가 가교결합된 폴리에스테르 및 폴리아크릴레이트, 페놀/포름알데히드, 우레아/포름알데히드 및 멜라민/포름알데히드 수지, 건조 및 비-건조 알키드(alkyd) 수지, 알키드 수지, 폴리에스테르 수지, 멜라민 수지와 가교결합된 아크릴레이트 수지, 우레아 수지, 이소시아네이트, 이소시아누레이트(isocyanurate), 카바메이트 및 에폭시수지, 무수물 또는 아민과 가교결합된 지방족, 지환족, 헤테로고리 및 방향족 글리시딜 화합물 유래의 가교결합된 에폭시 수지, 폴리실록산, 마이클 첨가 중합체, 아민, 활성화된 불포화물 및 메틸렌 화합물을 보유한 블록 아민, 활성화된 불포화물 및 메틸렌 화합물을 보유한 케티민(ketimine), 불포화 아크릴계 폴리아세토아세테이트 수지와 결합한 폴리케티민, 불포화 아크릴 수지와 결합한 폴리케티민, 방사광 경화 조성물, 에폭시멜라민 수지, 유기 염료, 화장품 제품, 셀룰로스-기반 종이 배합물, 사진 필름 종이, 섬유, 왁스, 잉크 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹에서 선택된 것이 특징인 조성물.
  6. 제2항에 있어서, 상기 트리아진은 2,4,6-트리스(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-1,3,5-트리아진; 2-(2-하이드록시-4-n-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진; 2-(2-하이드록시-4-(혼합 이소-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진; 2-(2,4-디하이드록시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진; 2,4-비스(2-하이드록시-4-프로필옥시페닐)-6-(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진; 2-(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(4-메틸페닐)-1,3,5-트리아진; 2-(2-하이드록시-4-도데실옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진; 2-(2-하이드록시-4-트리데실옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진; 2-[2-하이드록시-4-(2-하이드록시-3-부틸옥시프로필옥시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진; 2-[2-하이드록시-4-(2-하이드록시-3-옥틸옥시프로필옥시)-페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진; 2-[4-도데실옥시/트리데실옥시-2-하이드록시프로폭시)-2-하이드록시페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진; 2-[2-하이드록시-4-(2-하이드록시-3-도데실옥시프로폭시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진; 2-(2-하이드록시-4-헥실옥시)페닐-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진; 2-(2-하이드록시-4-메톡시페닐)-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진; 2,4,6-트리스[2-하이드록시-4-(3-부톡시-2-하이드록시프로폭시)페닐]- 1,3,5-트리아진; 2-(2-하이드록시페닐)-4-(4-메톡시페닐)-6-페닐-1,3,5-트리아진 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹에서 선택된 것이 특징인 조성물.
  7. 제2항에 있어서, 상기 부자유 아민 화합물은 1H-피롤-2,5-디온, 1-옥타데실-, (1-메틸에테닐)벤젠 및 1-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐)-1H-피롤-2,5-디온을 보유한 중합체; 피페라지논(piperazinone), 1,1',1"-[1,3,5-트리아진-2,4,6-트리일트리스[(시클로헥실이미노)-2,1-에탄디일]]트리스[3,3,5,5-테트라메틸-]; 피페라지논, 1,1',1"-[1,3,5-트리아진-2,4,6-트리일 트리스[(시클로헥실이미노)-2,1-에탄디일]]트리스[3,3,4,5,5-펜타메틸-]; 7,7,9,9-테트라메틸-2-시클로운데실-1-옥사-3,8-디아자-4-옥소스피로[4.5]데칸과 에피클로로하이드린의 반응 산물; N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)헥사메틸렌디아민과 4-시클로헥실아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합물(condensate); 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄, 2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진 및 4-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 축합물; N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)헥사메틸렌디아민과 4-모폴리노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합물; 2-클로로-4,6-비스(4-n-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄의 축합물; 2-클로로-4,6-비스(4-n-부틸아미노-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스-(3-아미노프로필아미노)에탄의 축합물; 2-[(2-하이드록시에틸)아미노]-4,6-비스[N-(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)부틸아미노-1,3,5-트리아진; 프로판디산(propanedioic acid), [(4-메톡시페닐)- 메틸렌]-비스-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리디닐) 에스테르; 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트; 벤젠프로판산(bezenepropanoic acid), 3,5-비스(1,1-디메틸에틸)-4-하이드록시-, 1-[2-[3-[3,5-비스(1,1-디메틸에틸)-4-하이드록시페닐]-1-옥소프로폭시]에틸]-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐 에스테르; N-(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)-N'-도데실옥살아미드; 트리스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)니트릴로트리아세테이트; 1,5-디옥사스피로{5,5}운데칸-3,3-디카르복시산, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리디닐); 1,5-디옥사스피로{5,5}운데칸-3,3-디카르복시산, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐); 1-(2-하이드록시에틸)-2,2,6,6-테트라메틸-4-하이드록시피페리딘과 석신산의 축합물; N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)헥사메틸렌디아민과 4-tert-옥틸아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합물; 1,2,3,4-부탄테트라카르복시산, 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리디닐 트리데실 에스테르; 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트; 1,2,3,4-부탄테트라카르복시산, 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐 트리데실 에스테르; 테트라키스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트; 2,2,4,4-테트라메틸-21-옥소-7-옥사-3.20-디아자스피로(5.1.11.2)-헤네이코산(heneicosane)-20-프로판산-도데실에스테르; 2,2,4,4-테트라메틸-21-옥소-7-옥사-3.20-디아자스피로(5.1.11.2)-헤네이코산-20-프로판산-테트라데실에스테르; 1H,4H,5H,8H-2,3a,4a,6,7a,8a-헥사아자시클로펜타[데프(def)]플루오렌-4,8-디온, 헥사하이드로-2,6-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐)-; 폴리메틸[프로필-3-옥 시(2',2',6',6'-테트라메틸-4,4'-피페리디닐)]실록산(siloxane); 폴리메틸[프로필-3-옥시(1',2',2',6',6'-펜타메틸-4,4'-피페리디닐)]실록산; 에틸 아크릴레이트 및 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일 아크릴레이트를 보유하는 메틸메타크릴레이트의 공중합체; 혼합 C20 내지 C24 알파-올레핀 및 (2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)석신이미드의 공중합체; 1,2,3,4-부탄테트라카르복시산, β,β,β',β'-테트라메틸-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸-3,9-디에탄올을 보유하는 중합체, 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리디닐 에스테르; 1,2,3,4-부탄테트라카르복시산, β,β,β',β'-테트라메틸-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸-3,9-디에탄올을 보유하는 중합체, 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐 에스테르 공중합체; 1,3-벤젠디카르복사미드, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐; 1,1'-(1,10-디옥소-1,10-데칸디일)-비스(헥사하이드로-2,2,4,4,6-펜타메틸피리미딘; 에탄 디아미드, N-(1-아세틸-2,2,6,6-테트라메틸피페리디닐)-N'-도데실; 포름아미드, N,N'-1,6-헥산디일비스[N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐); D-글루시톨(D-glucitol), 1,3:2,4-Ｏ-비스-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐리덴)-; 2,2,4,4,-테트라메틸-7-옥사-3,20-디아자-21-옥소-디스피로[5.1.11.2]헤네이코산; 프로판아미드, 2-메틸-N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐)-2-[(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐)아미노]-; 7-옥사-3,20-디아자디스피로[5.1.11.2]헤네이코산-20-프로판산, 2,2,4,4-테트라메틸-21-옥소-, 도데실 에스테르; N-(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)-β-아미노프로피온산 도데실 에스테르; N-(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)-N'-아미노 옥살아미드; 프로판아미드, N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐)-3-[2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐)아미노]-; 4-헥사데실옥시- 및 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 혼합물; 3-도데실-1-(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일)피롤리딘-2,5-디온; 3-도데실-1-(1-에타노일-2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일)피롤리딘-2,5-디온; 비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)석시네이트; 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일)-n-부틸-3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질말로네이트; 트리스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)니트릴로트리아세테이트; 1,1'-(1,2-에탄디일)비스(3,3,5,5-테트라메틸피페라지논); 4-벤조일-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘; 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘; 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-2-n-부틸-2-(2-하이드록시-3,5-디-tert-부틸벤질)말로네이트; 3-n-옥틸-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로[4.5]데칸-2,4-디온; 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)세바케이트; 비스(1-옥틸-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)석시네이트; 8-아세틸-3-도데실-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로[4.5]데칸-2,4-디온; 3-도데실-1-(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)피롤리딘-2,5-디온; 3-도데실-1-(1-에타노일-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)피롤리딘-2,5-디온; 3-도데실-1-(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일)피롤리딘-2,5-디온; 4-헥사데실옥시- 및 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 혼합물; 2-운데실-7,7,9,9-테트라메틸-1-옥사-3,8-디아자-4-옥소스피로[4.5]데칸; 1,5-디옥사스피로{5,5}운데칸-3,3-디카르복시산, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐) 및 1,5-디옥사스피로{5,5}운데칸-3,3-디카르복시산, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리디닐) 및 이의 혼합물로 이루 어진 그룹에서 선택된 것이 특징인 조성물.
  8. 제2항에 있어서, 상기 하이드록시벤조펜논은 2,4-디하이드록시벤조페논; 2-하이드록시-4-메톡시벤조페논; 2-하이드록시-4-옥틸옥시벤조페논; 2-하이드록시-4-데실옥시벤조페논; 2-하이드록시-4-도데실옥시벤조페논; 2-하이드록시-4-벤질옥시벤조페논; 2,2'-디하이드록시-4,4'-디메톡시벤조페논; 2,2',4,4'-테트라하이드록시벤조페논; 2,4-디하이드록시-4'-tert-부틸-벤조페논; 1,6-비스-(3-하이드록시-4-벤조일페녹시)헥산; 메틸렌비스-(2-벤조일-5-메톡시페놀) 및 이의 혼합물로 이루어진 그룹에서 선택된 것이 특징인 조성물.
  9. 제2항에 있어서, 벤조트리아졸 화합물을 추가적으로 함유하는 조성물.
  10. (i) 오쏘-하이드록시 트리스-아릴-s-트리아진 화합물;
    (ii) 부자유 아민 화합물; 및
    (iii) 벤조트리아졸 화합물을 포함하되, 여기서 부자유 아민 화합물 대 트리아진 화합물의 비율은 약 3:1 내지 약 25:1이고; 부자유 아민 화합물 대 벤조트리아졸 화합물의 비율은 약 2:1 내지 약 10:1인 것인, UV 안정화 조성물을 함유하는 조성물.
  11. 제10항에 있어서, 안정화될 물질을 추가적으로 함유하는 조성물.
  12. 제11항에 있어서, 상기 트리아진 화합물의 양은 안정화될 물질의 중량을 기초로 약 20 ppm 내지 약 2000 ppm이고, 상기 벤조트리아졸의 양은 안정화될 물질의 중량을 기초로 약 20 ppm 내지 약 5000 ppm이며, 상기 부자유 아민의 양은 안정화될 물질의 중량을 기초로 약 250 ppm 내지 약 20000 ppm인 것이 특징인 조성물.
  13. 제10항에 있어서, 상기 벤조트리아졸 화합물은 2-(2-하이드록시-5-메틸페닐)-벤조트리아졸; 2-(2-하이드록시-5-tert-부틸페닐)-벤조트리아졸; 2-(2-하이드록시-3,5-디-tert-부틸페닐)-벤조트리아졸; 5-클로로-2-(2-하이드록시-3-tert-부틸-5-메틸페닐)-벤조트리아졸; 5-클로로-2-(2-하이드록시-3,5-디-tert-부틸-5-메틸페닐)-벤조트리아졸; 2-(2-하이드록시-3-tert-페닐-5-메틸)-벤조트리아졸; 2-(2-하이드록시-3,5-디-tert-아밀)-벤조트리아졸; 2-(2-하이드록시-3-sec-부틸-5-tert-부틸)-벤조트리아졸; 2-(2-하이드록시-4-옥틸옥시)-벤조트리아졸; 2-(2-하이드록시-5-tert-옥틸)-벤조트리아졸; 2-[2-하이드록시-3,5-디(α,α-디메틸벤질)페닐]-벤조트리아졸; 2-(2-하이드록시-3-도데실-5-메틸페닐)벤조트리아졸; 2-[2-하이드록시-3-(α,α'-디메틸벤질)-5-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐]벤조트리아졸; 2,2'-메틸렌비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-벤조트리아졸-2-일 페놀]; 2-[2-하이드록시-3-(3,4,5,6-테트라하이드로프탈이미도메틸)-5-메틸페닐]벤조트리아졸; 2-[3-tert-부틸-5-(2-(2-에틸헥실옥시카르보닐에틸))-2-하이드록시페닐]벤조트리아졸; 2-[3-tert-부틸-5-(2-메톡시카르보닐에틸)-2-하이드록시페닐)벤조트리아졸과 약 MW 300 의 폴리에틸렌 글리콜의 에스테르교환 반응 산물의 혼합물; 5-클로로-2-[2-하이드록시-3-tert-부틸-5-(2-옥틸옥시카르보닐)에틸페닐]벤조트리아졸 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹에서 선택된 것이 특징인 조성물.
  14. 제2항에 있어서, 상기 부자유 아민 화합물 대 트리아진 화합물의 비율은 약 3:1 내지 약 25:1이고; 부자유 아민 화합물 대 하이드록시벤조페논 화합물의 비율은 약 2:1 내지 10:1인 것이 특징인 조성물.
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