KR100496096B1 - 안정화제조성물 - Google Patents

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KR100496096B1
KR100496096B1 KR10-1998-0708070A KR19980708070A KR100496096B1 KR 100496096 B1 KR100496096 B1 KR 100496096B1 KR 19980708070 A KR19980708070 A KR 19980708070A KR 100496096 B1 KR100496096 B1 KR 100496096B1
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Abstract

본 발명은 광반응성의 자외선 흡수성 저분자량 폴리알킬피페리딘 및 비광반응성의 저분자량 입체 장애된 폴리알킬피페리딘의 신규한 조성물, 및 상기 신규한 조성물을 포함한 마스터배치 조성물에 관한 것이다. 본 발명은 또한 유기 물질의 광안정화도를 향상시키는 방법, 안정화된 유기 물질 및 그의 용도에 관한 것이다.

Description

안정화제 조성물{STABILIZER COMPOSITION}
본 발명은 광반응성의 저분자량 폴리알킬피페리딘 및 비광반응성의 저분자량 입체-장애된 폴리알킬피페리딘의 신규한 조성물, 상기 신규한 조성물을 포함하는 마스터배치 조성물, 및 광, 열 및/또는 산화에 의해 일어나는 손상에 대해 천연 또는 합성 유기 중합체성 또는 예비중합체성 기재를 안정화하는 방법에 관한 것이다. 본 발명은 또한 상응하는 안정화된 유기 물질, 및 섬유 및 실, 성형물, 발포 플라스틱, 피복물, 락카 또는 니스, 접착제 및 직물의 제조에 사용되는 그의 용도에 관한 것이다.
본 발명에 따라, 하기 화학식 I의 광반응성의 자외선 흡수성 저분자량 폴리알킬피페리딘(이후 성분 A로서 지칭됨) 및 하기 화학식 B-1 내지 B-24의 화합물로 구성된 군중에서 선택된 비광반응성의 저분자량 입체 장애된 폴리알킬피페리딘(이후 성분 B로서 지칭됨)으로 구성된 광안정화제로서 특히 적합한 조성물이 제공된다:
[화학식 I]
[화학식 B-1]
[화학식 B-2]
[화학식 B-3]
[화학식 B-4]
[화학식 B-5]
[화학식 B-6]
[화학식 B-7]
[화학식 B-8]
[화학식 B-9]
[화학식 B-10]
[화학식 B-11]
[화학식 B-12]
[화학식 B-13]
[화학식 B-14]
[화학식 B-15]
[화학식 B-16]
[화학식 B-17]
[화학식 B-18]
[화학식 B-19]
[화학식 B-20]
[화학식 B-21]
[화학식 B-22]
[화학식 B-23]
[화학식 B-24]
상기 식들에서,
R1은 수소, 하이드록실, C1 내지 C20 알킬, C1 내지 C20 알콕시 또는 알킬을 나타내고,
R2는 수소, C1 내지 C8 알킬 또는 C1 내지 C2 알콕시를 나타내고,
R3은 하기 화학식 a 내지 g[이때, 알킬은 선형, 분지형 또는 환형인 포화 C1 내지 C18 알킬 그룹, 또는 선형, 분지형 또는 환형인 C1 내지 C18 불포화 그룹(알케닐 그룹)이다]로 구성된 군중에서 선택된 그룹을 나타내고:
n은 0 내지 20, 바람직하게는 1 내지 14, 보다 바람직하게는 1 내지 10중에서 선택된 정수이고,
R4는 수소, C1 내지 C20 알킬, 바람직하게는 C1 내지 C10 알킬, 보다 바람직하게는 C1 내지 C4 알킬 또는 R3이고,
X는 산소 또는 N-R4이고,
R5는 수소, C1 내지 C20 알킬, 하이드록실, C1 내지 C20 알콕시 또는 아실이고,
R6은 수소, C1 내지 C20 알킬, -CH2
(CH2)mCOOR7(이때, m은 0 내지 10, 바람직하게는 0 내지 2중에서 선택된 정수이고, R7은 C1 내지 C20 알킬이다)이고,
R10은 수소, C1 내지 C10 알킬 또는 C1 내지 C10 알케닐이고,
R은 수소, C1 내지 C20 알킬, 알콕시, -C(O)알킬, -OC(O)알킬 또는
n은 1 내지 19중에서 선택된 정수이다)이다.
성분 A 대 성분 B의 비는 넓은 범위 내에서 선택될 수 있다. 그러나, 상승 효과는 A 대 B의 비가 95:5 내지 5:95, 바람직하게는 75:25 내지 25:75, 보다 바람직하게는 65:35 내지 35:65일때 관찰된다.
성분 A 및 성분 B의 화합물은 공지되어 있거나 또는 공지된 방법에 의해 공지된 화합물로부터 제조될수 있다. 또한, 본 명세서에서, 범위가 주어지면, 범위를 한정한 수가 포함된다. 선형, 분지형 또는 환형일 수 있는 임의의 그룹은 다르게 나타나지 않으면 선형, 분지형 또는 환형이다. 또한 본 명세서에서, 기호가 화학식에서 한번 이상 나타나면, 그 의미는 다르게 나타내지 않으면 서로 독립적이다.
화학식 I에서, R1은 바람직하게는 C1 내지 C8 알킬, 포르밀, 아세틸, 프로피오닐 또는 C8 알콕시를 나타낸다.
화학식 I에서 R2는 바람직하게는 메톡시를 나타낸다.
본 발명의 바람직한 양태에서, 성분 A의 화학식 I에서 R1은 메틸을 나타내고, R2는 메톡시를 나타낸다.
본 발명에 따른 바람직한 조성물에서, 성분 B는 하기 화합물 (1) 내지 (6)으로 구성된 군중에서 선택된다:
(1) n이 8이고, R3이 를 나타내는, 화학식 B-1의 화합물,
(2) n이 8이고, R3이 를 나타내는, 화학식 B-1의 화합물,
(3) n이 8이고, R3이 를 나타내는, 화학식 B-1의 화합물,
(4) R5가 수소를 나타내고, R6이 (CH2)mCOOR7(이때, m은 2이고, R7은 60 대 40의 비의 C12H25와 C14H29의 혼합물이다)을 나타내는 화학식 B-10의 화합물,
(5) R5 및 R6이 수소를 나타내는 화학식 B-10의 화합물, 및
(6) n이 11 내지 17이고, R3이 를 나타내는, 화학식 B-15의 화합물.
또한, 성분 B의 특히 유용한 화합물은 하기에 나타난 것과 같다.
비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐)석시네이트,
비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐)세바케이트,
비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리디닐)세바케이트,
비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐)석시네이트,
비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐)세바케이트,
테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐)-1,2,3,4-부탄-테트라카복실레이트,
1,1'-(1,2-에탄디일)비스-(3,3,5,5-테트라메틸피페라지논),
1-N-이소프로필-3,3,5,5-테트라메틸-2-피페라지논,
2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐벤조에이트,
2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐스테아레이트,
비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-피페리딜)-2-n부틸-2-(2-하이드록시-3,5-디3급부틸-벤질)말로네이트,
3-n옥틸-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로[4.5]데칸-2,4-디온,
8-아세틸-3-도데실-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로[4.5]데칸-2,4-디온,
3-도데실-1-(2',2',6',6'-테트라메틸-4'-피페리딜)-피롤리딘-2,5-디온,
3-도데실-1-(1',2',2',6',6'-펜타메틸-4'-피페리딜)-피롤리딘-2,5-디온,
3-도데실-1-(1'-아세틸-2',2',6',6'-테트라메틸-4'-피페리딜)-피롤리딘-2,5-디온,
N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐)-글리신-(C1-C20)알킬에스테르,
N,N'-1,6-헥산디일비스[N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐)-포름아미드],
헥사하이드로-2,6-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐)-1H,4H,5H,8H-2,3a,4a,6,7a,8a-헥사아자사이클로펜타[데프]플루오렌-4,8-디온,
2,2,4,4-테트라메틸-7-옥사-3,20-디아자-디스피로[5.1.11.2]헤네이코산-21-온,
2,2,4,4-테트라메틸-7-옥사-3,20-디아자-디스피로[5.1.11.2]헤네이코산-21-온-20-프로판산 도데실 에스테르,
1,5-디옥사스피로[5.5]운데칸-3,3-디카복실산 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐)-에스테르,
1,5-디옥사스피로[5.5]운데칸-3,3-디카복실산 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리디닐)-에스테르,
1,5-디옥사스피로[5.5]운데칸-3,3-디카복실산 비스(1-아세틸-2,2,6,6-테트라-메틸-4-피페리디닐)-에스테르,
트리스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리디닐)포스파이트,
2-메틸-2(2",2",6",6"-테트라메틸-4"-피페리디닐아미노)-N-(2',2',6',6'-테트라-메틸-4'-피페리디닐)프로피오닐아미드,
글리신-N,N-비스[2-옥소-2-[(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐)-옥시]에틸]-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐에스테르,
1-[2-(3,5-디3급부틸-4-하이드록시페닐프로피오닐옥시)에틸]-4-(3,5-디3급부틸-4-하이드록시페닐프로피오닐옥시)-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘 및
펜타키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)디에틸렌트리아민-N,N,N',N",N"-펜타아세테이트.
본 발명에 따르면, 본원에 상기 개시된 것과 같은 신규한 안정화제 조성물을 포함한 고체 마스터배치 조성물이 추가로 제공된다. 이런 마스터배치 조성물에서, 본 발명에 따른 안정화제 조성물의 양은 일반적으로 10 내지 80 중량%, 바람직하게는 15 내지 40 중량%이고, 안정화시키려는 천연 또는 합성 중합체성 또는 예비중합체성 기재와 동일하거나 또는 이와 혼화성인 천연 또는 합성 중합체성 또는 예비중합체성 물질의 양은 90 내지 20 중량%, 바람직하게는 85 내지 60 중량%이다.
본 발명은 그대로 또는 고체 마스터배치 조성물의 형태의 본원에 상기 개시된 것과 같은 안정화제 조성물의 안정화량의 혼입을 포함하는, 천연 또는 합성 중합체성 또는 예비중합체성 기재의 광안정화도를 향상시키는 방법을 추가로 제공한다. 기재에 인정할만한 범위의 광안정화도를 제공하는데 필요한 조성물의 양은 기재의 형태 및 최종 용도에 따라 다양하다. 숙련자는 임의의 주어진 경우에 적합한 양을 쉽게 확인할수 있으나, 전형적인 양은 0.01 내지 7.5 중량%, 바람직하게는 0.03 내지 5 중량%, 보다 바람직하게는 0.2 내지 3.5 중량%이다.
본 발명에 따른 안정화제 조성물은 공지된 방법에 의해, 예를 들면 성형 가공 전에 또는 그 동안, 경우에 따라 추가의 첨가제와 함께 용융-혼합에 의해, 또는 경우에 따라 용매의 후속적인 기화와 함께 용해 또는 분산된 안정화제 조성물을 기재 상으로 도포함으로써 중합 전 또는 후에 안정화될 기재 내로 혼입될수 있다.
본 발명은 본원에 상기 개시된 것과 같은 조성물의 광-안정화량을 포함한 안정화된 유기 물질, 및 천연 또는 합성 중합체성 또는 예비중합체성 기재를 추가로 제공한다. 상기 기재 또는 안정화된 유기 물질을 상기 언급된 것과 같이 성형 가공시키고, 이는 모든 중합체성 제품, 예를 들면 섬유, 실, 직물, 성형물, 발포체, 피복물, 락카, 니스 또는 접착제의 제조를 포함한다.
안정화시키려는 기재의 예들은 다음과 같다:
1. 모노올레핀 및 디올레핀의 중합체, 예를 들면 폴리프로필렌, 폴리이소부틸렌, 폴리부트-1-엔, 폴리-4-메틸펜트-1-엔, 폴리이소프렌 또는 폴리부타디엔 뿐만 아니라 사이클로올레핀의 중합체, 예를 들면 사이클로펜텐 또는 노보넨의 중합체, 폴리에틸렌(선택적으로 가교결합될수 있음), 예를 들면 고밀도 폴리에틸렌(HDPE), 저밀도 폴리에틸렌(LDPE), 선형 저밀도 폴리에틸렌(LLDPE), 분지형 저밀도 폴리에틸렌(BLDPE).
폴리올레핀, 즉 전술된 문단에 예시된 모노올레핀의 중합체, 바람직하게 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌은 다른 방법, 특히 다음의 방법에 의해 제조될수 있다:
a) 라디칼 중합(일반적으로 고압 및 승온에서), 및
b) 일반적으로 주기율표의 4b, 5b, 6b 또는 8족 금속을 하나 이상 포함한 촉매를 사용하는 촉매 중합. 이들 금속은 일반적으로 하나 이상의 리간드, 전형적으로는 산화물, 할라이드, 알코올레이트, 에스테르, 에테르, 아민, 알킬, 알케닐 및/또는 아릴(π- 또는 σ-배위될수 있음)을 갖는다. 이들 금속 착체는 유리 형태 일수 있거나, 또는 기재 상에, 전형적으로는 활성화된 염화 마그네슘, 염화 티탄(III), 알루미나 또는 산화 규소 상에 고정될수 있다. 이들 촉매는 중합 매질에 가용성 또는 불용성일수 있다. 촉매는 중합된 그자체로 사용될수 있거나, 또는 추가의 활성화제, 전형적으로 금속 알킬, 금속 하이드라이드, 금속 알킬 할라이드, 금속 알킬 옥사이드 또는 금속 알킬옥산(상기 금속은 주기율표의 1a, 2a 및/또는 3a족의 원소이다)이 사용될수 있다. 활성화제는 추가의 에스테르, 에테르, 아민 또는 실릴 에테르 그룹으로 편리하게 개질될수 있다. 이들 촉매 시스템은 일반적으로 필립스(Philips), 스탠다드 오일 인디아나(Standard Oil Indiana), 지글러(ziegler)(-나타(-Natta)), TNZ(듀퐁(DuPont)), 메탈로센 또는 단일 부위 촉매(SSC)로 불린다.
2. 1에 언급된 중합체의 혼합물, 예를 들면 폴리프로필렌과 폴리이소부틸렌의 혼합물, 폴리프로필렌과 폴리에틸렌의 혼합물(예를 들면 PP/HDPE, PP/LDPE) 및 다른 유형의 폴리에틸렌의 혼합물(예를 들면 LDPE/HDPE).
3. 모노올레핀 및 디올레핀과 각각의 다른 비닐 단량체의 공중합체, 예를 들면 에틸렌/프로필렌 공중합체, 선형 저밀도 폴리에틸렌(LLDPE) 및 이와 저밀도 폴리에틸렌(LDPE)과의 혼합물, 프로필렌/부트-1-엔 공중합체, 프로필렌/이소부틸렌 공중합체, 에틸렌/부트-1-엔 공중합체, 에틸렌/헥센 공중합체, 에틸렌/메틸펜텐 공중합체, 에틸렌/헵텐 공중합체, 에틸렌/옥텐 공중합체, 프로필렌/부타디엔 공중합체, 이소부틸렌/이소프렌 공중합체, 에틸렌/알킬 아크릴레이트 공중합체, 에틸렌/알킬 메타크릴레이트 공중합체, 에틸렌/비닐 아세테이트 공중합체, 및 일산화탄소를 갖는 이들의 공중합체 또는 에틸렌/아크릴산 공중합체 및 이들의 염(이오노머)뿐만 아니라 에틸렌과 프로필렌 및 디엔(예: 헥사디엔, 디사이클로펜타디엔 또는 에틸리덴-노보넨)의 삼원공중합체; 및 이러한 공중합체간의 혼합물 또는 이러한 공중합체와 상기 1에 언급된 중합체의 혼합물, 예를 들면 폴리프로필렌/에틸렌프로필렌 공중합체, LDPE/에틸렌비닐 아세테이트 공중합체(EVA), LDPE/에틸렌아크릴산 공중합체(EAA), LLDPE/EVA, LLDPE/EAA 및 교호(alternating) 또는 랜덤 폴리알킬렌/일산화탄소 공중합체, 및 이들과 기타 중합체, 예를 들면 폴리아미드와의 혼합물.
4. 탄화수소 수지의 수소화된 개질제(예를 들면, 점착제)를 포함한 탄화수소 수지(예를 들면, C5 내지 C9), 및 폴리알킬렌과 전분의 혼합물.
5. 폴리스티렌, 폴리(p-메틸스티렌) 및 폴리(α-메틸스티렌).
6. 스티렌 또는 α-메틸스티렌과 디엔 또는 아크릴 유도체의 공중합체, 예를 들면 스티렌/부타디엔, 스티렌/아크릴로니트릴, 스티렌/알킬 메타크릴레이트, 스티렌/부타디엔/알킬 아크릴레이트, 스티렌/부타디엔/알킬 메타크릴레이트, 스티렌/말레산 무수물, 스티렌/아크릴로니트릴/메틸 아크릴레이트: 스티렌 공중합체와 다른 중합체의 고 충격 강도의 혼합물, 예를 들면 폴리아크릴레이트, 디엔 중합체 또는 에틸렌/프로필렌/디엔 삼원공중합체, 및 스티렌의 블록 공중합체, 예를 들면 스티렌/부타디엔/스티렌, 스티렌/이소프렌/스티렌, 스티렌/에틸렌/스티렌 또는 스티렌/에틸렌/프로필렌/스티렌.
7. 스티렌 또는 α-메틸스티렌의 그래프트 공중합체, 예를 들면 폴리부타디엔 상의 스티렌, 폴리부타디엔-스티렌 또는 폴리부타디엔-아크릴로니트릴 공중합체 상의 스티렌: 폴리부타디엔 상의 스티렌 및 아크릴로니트릴(또는 메타크릴로니트릴): 폴리부타디엔 상의 스티렌, 아크릴로니트릴 및 메틸 메타크릴레이트: 폴리부타디엔 상의 스티렌 및 말레산 무수물: 폴리부타디엔 상의 스티렌, 아크릴로니트릴 및 말레산 무수물 또는 말레이미드: 폴리부타디엔 상의 스티렌 및 말레이미드: 폴리부타디엔 상의 스티렌 및 알킬 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트: 에틸렌/폴리프로필렌/디엔 삼원공중합체 상의 스티렌 및 아크릴로니트릴; 폴리알킬 아크릴레이트 또는 폴리알킬 메타크릴레이트 상의 스티렌 및 아크릴로니트릴, 아크릴레이트/부타디엔 공중합체 상의 스티렌 및 아크릴로니트릴뿐만 아니라 6에 나타낸 공중합체와 이들의 혼합물, 예를 들면 ABS, MBS, ASA 또는 AES 중합체로서 공지된 공중합체 혼합물.
8. 할로겐-함유 중합체, 예를 들면 폴리클로로프렌, 염화 고무, 염화 또는 설포염화 폴리에틸렌, 에틸렌과 염화 에틸렌의 공중합체, 에피클로로하이드린 단독중합체 및 공중합체, 특히 할로겐-함유 비닐 화합물의 중합체, 예를 들면 염화 폴리비닐, 염화 폴리비닐리덴, 불화 폴리비닐, 불화 폴리비닐리덴뿐만 아니라 이들의 공중합체, 예를 들면 염화 비닐/염화 비닐리덴, 염화 비닐/비닐 아세테이트 또는 염화 비닐리덴/비닐 아세테이트 공중합체.
9. α,β-불포화산으로부터 유도된 중합체 및 이들의 유도체, 예를 들면 폴리아크릴레이트 및 폴리메타크릴레이트; 부틸 아크릴레이트로 충격-개질된 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리아크릴아미드 및 폴리아크릴로니트릴.
10. 9에 언급된 단량체와 서로와의 또는 다른 불포화 단량체와의 공중합체, 예를 들면 아크릴로니트릴/부타디엔 공중합체, 아크릴로니트릴/알킬 아크릴레이트 공중합체, 아크릴로니트릴/알콕시알킬 아크릴레이트 또는 아크릴로니트릴/비닐 할라이드 공중합체 또는 아크릴로니트릴/알킬 메타크릴레이트/부타디엔 삼원공중합체.
11. 불포화 알콜 및 아민으로부터 유도된 중합체, 또는 이들의 아실 유도체 또는 아세탈, 예를 들면 폴리비닐 알콜, 폴리비닐 아세테이트, 폴리비닐 스테아레이트, 폴리비닐 벤조에이트, 폴리비닐 말레이트, 폴리비닐 부티랄, 폴리알릴 프탈레이트 또는 폴리알릴 멜라민; 뿐만 아니라 상기 1에 언급된 올레핀과의 이들의 공중합체.
12. 사이클릭 에테르의 단독중합체 및 공중합체, 예를 들면 폴리알킬렌 글리콜, 산화 폴리에틸렌, 산화 폴리프로필렌, 또는 이들과 비스글리시딜 에테르와의 공중합체.
13. 폴리아세탈, 예를 들면 폴리옥시메틸렌, 및 공단량체로서 산화 에틸렌을 함유한 폴리옥시메틸렌, 열가소성 폴리우레탄, 아크릴레이트 또는 MBS로 개질된 폴리아세탈.
14. 산화 폴리페닐렌 및 황화 폴리페닐렌, 및 폴리아미드의 스티렌 중합체와 산화 폴리페닐렌과의 혼합물.
15. 하이드록시-말단 폴리에테르, 한편으로는 폴리부타디엔의 폴리에스테르 및 다른 한편으로는 지방족 또는 방향족 폴리이소시아네이트 뿐만 아니라 이들의 전구체로부터 유도된 폴리우레탄.
16. 디아민 및 디카복실산으로부터 및/또는 아미노카복실산 또는 상응하는 락탐으로부터 유도된 폴리아미드 및 코폴리아미드, 예를 들면 폴리아미드 4, 폴리아미드 6, 폴리아미드 6/6, 6/10, 6/9, 6/12, 4/6, 12/12, 폴리아미드 11, 폴리아미드 12, m-크실렌 디아민 및 아디프산으로부터 출발한 방향족 폴리아미드; 개질제로서 탄성중합체를 갖거나 또는 갖지 않는 헥사메틸렌-디아민 및 이소프탈산 또는/및 테레프탈산으로부터 제조된 폴리아미드, 예를 들면 폴리-2,4,4-트리메틸헥사메틸렌 테레프탈아미드 또는 폴리-m-페닐렌 이소프탈아미드; 및 또한 폴리올레핀, 올레핀 공중합체, 이오노머 또는 화학적으로 결합된 또는 그래프트된 탄성중합체 또는 폴리에테르, 예를 들면 폴리에틸렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜 또는 폴리테트라메틸렌 글리콜과 상기 언급된 폴리아미드의 블록 공중합체; 뿐만 아니라 EPDM 또는 ABS로 개질된 폴리아미드 또는 코폴리아미드; 및 가공동안 축합된 폴리아미드(RIM 폴리아미드 시스템).
17. 폴리우레아, 폴리이미드, 폴리아미드-이미드 및 폴리벤즈이미다졸.
18. 디카복실산 및 디올로부터 및/또는 하이드록시카복실산 또는 상응하는 락톤으로부터 유도된 폴리에스테르, 예를 들면 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리-1,4-디메틸올사이클로헥산 테레프탈레이트 및 폴리하이드록시벤조에이트뿐만 아니라 하이드록시-말단 폴리에테르로부터 유도된 블록 코폴리에테르 에스테르; 및 또한 폴리카보네이트 또는 MBS로 개질된 폴리에스테르.
19. 폴리카보네이트 및 폴리에스테르 카보네이트.
20. 폴리설폰, 폴리에테르 설폰 및 폴리에테르 케톤.
21. 한편으로는 알데히드, 및 다른 한편으로는 페놀, 우레아 및 멜라민으로부터 유도된 가교결합된 중합체, 예를 들면 페놀/포름알데히드 수지, 우레아/포름알데히드 수지 및 멜라민/포름알데히드 수지.
22. 건조 및 비-건조 알키드 수지.
23. 가교결합제로서 다가 알콜 및 비닐 화합물과 포화 및 불포화 디카복실산과의 코폴리에스테르로부터 유도된 불포화 폴리에스테르 수지, 및 또한 저 가연성의 이들의 할로겐 함유 개질제.
24. 치환된 아크릴레이트로부터 유도된 가교결합성 아크릴 수지, 예를 들면 에폭시 아크릴레이트, 우레탄 아크릴레이트 또는 폴리에스테르 아크릴레이트.
25. 멜라민 수지, 우레아 수지, 폴리이소시아네이트 또는 에폭시 수지와 가교결합된 아크릴레이트 수지, 알키드 수지 및 폴리에스테르 수지.
26. 폴리에폭사이드, 예를 들면 비스-글리시딜 에테르 또는 사이클로지방족 디에폭사이드로부터 유도된 가교결합된 에폭시 수지.
27. 셀룰로스, 고무, 젤라틴과 같은 천연 중합체 및 화학적으로 개질된 이들의 동족 유도체, 예를 들면 셀룰로스 아세테이트, 셀룰로스 프로피오네이트 및 셀룰로스 부티레이트, 또는 메틸 셀룰로스와 같은 셀룰로스 에테르; 뿐만 아니라 수지 및 이들의 유도체.
28. 상기 언급된 중합체의 블렌드(폴리블렌드), 예를 들면 PP/EPDM, 폴리아미드/EPDM 또는 ABS, PVC/EVA, PVC/ABS, PVC/MBS, PC/ABS, PBTP/ABS, PC/ASA, PC/PBT, PVC/CPE, PVC/아크릴레이트, POM/열가소성 PUR, PC/열가소성 PUR, POM/아크릴레이트, POM/MBS, PPO/HIPS, PPO/PA 6.6 및 공중합체, PA/HDPE, PA/PP 및 PA/PPO.
29. 순수한 단량체성 화합물 또는 이러한 화합물의 혼합물인 천연 생성 및 합성 유기 물질, 예를 들면 광유, 동물성 및 식물성 지방, 오일 및 왁스, 또는 합성 에스테르(예를 들면, 프탈레이트, 아디페이트, 포스페이트 또는 트리멜리테이트)계 오일, 지방 및 왁스, 및 또한 임의의 중량비의 광유와 합성 에스테르의 혼합물, 전형적으로는 방적 조성물로서 사용되는 것들뿐만 아니라 이러한 물질의 수성 유화액.
30. 천연 또는 합성 고무의 수성 유화액, 예를 들면 카복실화된 스티렌/부타디엔 공중합체의 천연 라텍스.
경우에 따라 추가의 첨가제가 첨가될수 있다. 예들은 다음에 주어진다.
1. 산화방지제
1.1 알킬화된 모노페놀, 예를 들면 2,6-디-3급-부틸-4-메틸페놀, 2-3급-부틸-4,6-디-메틸페놀, 2,6-디-3급-부틸-4-에틸페놀, 2s,6-디-3급-부틸-4-n-부틸페놀, 2,6-디-3급-부틸-4-이소부틸페놀, 2,6-디-사이클로펜틸-4-메틸페놀, 2-(α-메틸사이클로헥실)-4,6-디메틸페놀, 2,6-디-옥타데실-4-메틸페놀, 2,4,6-트리사이클로헥실페놀, 2,6-디-3급-부틸-4-메톡시-메틸페놀, 2,6-디-노닐-4-메틸페놀, 2,4-디-메틸-6-(1'-메틸운데-1'-일)페놀, 2,4-디-메틸-6-(1'-메틸-헵타데스-1'-일)페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸트리데스-1'-일)페놀 및 이들의 혼합물.
1.2 알킬티오메틸페놀, 예를 들면 2,4-디옥틸티오메틸-6-3급-부틸페놀, 2,4-디옥틸티오메틸-6-메틸페놀, 2,4-디옥틸티오-메틸-6-에틸페놀 및 2,6-디-도데실티오메틸-4-노닐페놀.
1.3 하이드로퀴논 및 알킬화된 하이드로퀴논, 예를 들면 2,6-디-3급-부틸-4-메톡시페놀, 2,5-디-3급-부틸하이드로퀴논, 2,5-디-3급-아밀하이드로-퀴논, 2,6-디페닐-4-옥타데실옥시페놀, 2,6-디-3급-부틸하이드로-퀴논, 2,5-디-3급-부틸-4-하이드록시아니솔, 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시-아니솔, 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐 스테아레이트 및 비스-(3,5-디-3급-부틸-하이드록시페닐)아디페이트.
1.4 토코페롤, 예를 들면 α-토코페롤, β-토코페롤, γ-토코페롤, δ-토코페롤 및 이들의 혼합물(비타민 E).
1.5 하이드록실화된 티오페닐 에테르, 예를 들면 2,2'-티오비스(6-3급-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-티오비스(4-옥틸페놀), 4,4'-티오비스(6-3급-부틸-3-메틸페놀), 4,4'-티오비스(6-3급-부틸-2-메틸페놀), 4,4'-티오비스(3,6-디-2급-아밀페놀) 및 4,4'-비스(2,6-디메틸-4-하이드록시페닐)-디설파이드.
1.6 알킬리덴비스페놀, 예를 들면 2,2'-메틸렌비스(6-3급-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-3급-부틸-4-에틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[4-메틸-6-(α-메틸사이클로헥실)-페놀], 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-사이클로헥실페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-노닐-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-3급-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-3급-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(6-3급-부틸-4-이소-부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[6-(α-메틸벤질)-4-노닐페놀], 2,2'-메틸렌비스[6-α,α-디메틸벤질)-4-노닐페놀], 4,4'-메틸렌비스(2,6-디-3급-부틸페놀), 4,4'-메틸렌비스(6-3급-부틸-2-메틸-페놀), 1,1-비스(5-3급-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)부탄, 2,6-비스-(3-3급-부틸-5-메틸-2-하이드록시벤질)-4-메틸페놀, 1,1,3-트리스(5-3급-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)부탄, 1,1-비스(5-3급-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)-3-n-도데실머캅토부탄, 에틸렌 글리코 비스[3,3-비스-(3'-3급-부틸-4'-하이드록시페닐)부티레이트], 비스(3-3급-부틸-4-하이드록시-5-메틸-페닐)디사이클로펜타디엔, 비스-[2-(3'-3급-부틸-2'-하이드록시-5'-메틸벤질)-6-3급-부틸-4-메틸페닐]테레프탈레이트, 1,1-비스-(3,5-디-메틸-2-하이드록시페닐)부탄, 2,2-비스-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시-페닐)-프로판, 2,2-비스-(5-3급-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)-4-n-도데실머캅토부탄 및 1,1,5,5-테트라-(5-3급-부틸-4-하이드록시-2-메틸-페닐)펜탄.
1.7 O-, N- 및 S-벤질화합물, 예를 들면 3,5,3',5'-테트라-3급-부틸-4,4'-디하이드록시-디벤질 에테르, 옥타데실-4-하이드록시-3,5-디메틸벤질-머캅토아세테이트, 트리스-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)아민, 비스(4-3급-부틸-3-하이드록시-2,6-디메틸벤질)디티오테레프탈레이트, 비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)설파이드 및 이소옥틸-3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시-벤질머캅토아세테이트.
1.8 하이드록시벤질화된 말로네이트, 예를 들면 디옥타데실-2,2-비스-(3,5-디-3급-부틸-2-하이드록시벤질)-말로네이트, 디-옥타데실-2-(3-3급-부틸-4-하이드록시-5-메틸벤질)-말로네이트, 디-도데실머캅토에틸-2,2-비스-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)-말로네이트 및 비스-[4-(1,1,3,3-테트라메틸-부틸)페닐]-2,2-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)말로네이트.
1.9 방향족 하이드록시벤질 화합물, 예를 들면 1,3,5-트리스-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)-2,4,6-트리메틸벤젠, 1,4-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)-2,3,5,6-테트라메틸벤젠 및 2,4,6-트리스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)페놀.
1.10 트리아진 화합물, 예를 들면 2,4-비스(옥틸머캅토)-6-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸머캅토-4,6-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸머캅토-4,6-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페녹시)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페녹시)-1,2,3-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(4-3급-부틸-3-하이드록시-2,6-디-메틸벤질)이소시아누레이트, 2,4,6-트리스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시-페닐에틸)-1,3,5-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시-페닐프로피오닐)-헥사하이드로-1,3,5-트리아진 및 1,3,5-트리스(3,5-디사이클로헥실-4-하이드록시벤질)이소시아누레이트.
1.11 벤질포스포네이트, 예를 들면 디메틸-2,5-디-3급-부틸-4-하이드록시-벤질포스포네이트, 디에틸-3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시-벤질포스포네이트, 디옥타데실-3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질포스포네이트, 디옥타-데실-5-3급-부틸-4-하이드록시-3-메틸벤질포스포네이트, 및 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤질포스폰산의 모노에틸 에스테르의 칼슘염.
1.12 아실아미노페놀, 예를 들면 4-하이드록시라우르아닐리드, 4-하이드록시스테아르-아닐리드 및 옥틸 N-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐)카바메이트.
1.13 β-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐)프로피온산과 일가 또는 다가 알콜, 예를 들면 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오-펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드록시에틸) 이소시아누레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올-프로판 및 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비사이클로[2.2.2]옥탄의 에스테르.
1.14 β-(5-3급-부틸-4-하이드록시-3-메틸페닐)프로피온산과 일가 또는 다가 알콜, 예를 들면 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오-펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드록시에틸) 이소시아누레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올-프로판 및 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비사이클로[2.2.2]옥탄의 에스테르.
1.15 β-(3,5-디사이클로헥실-4-하이드록시페닐)프로피온산과 일가 또는 다가 알콜, 예를 들면 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오-펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드록시에틸) 이소시아누레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올-프로판 및 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비사이클로[2.2.2]옥탄의 에스테르.
1.16 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐 아세트산과 일가 또는 다가 알콜, 예를 들면 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오-펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드록시에틸) 이소시아누레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올-프로판 및 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비사이클로[2.2.2]옥탄의 에스테르.
1.17 β-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐)프로피온산의 아미드, 예를 들면 N,N'-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐프로피오닐)헥사메틸렌-디아민 및 N,N'-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐프로피오닐)히드라진.
2. UV 흡수제 및 기타 광안정화제
2.1 2-(2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 예를 들면 2-(2'-하이드록시-5'-메틸페닐)-벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-3급-부틸-2'-하이드록시페닐)-벤조트리아졸, 2-(5'-3급-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-3급-부틸-2'-하이드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-3급-부틸-2'-하이드록시-5'-메틸페닐)5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3'-2급-부틸-5'-3급-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-4'-옥틸옥시페닐)-벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-3급-아밀-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-비스-(α,α-디메틸벤질)-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-3급-부틸-5'-α,α-디메틸벤질-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸; 2-(3'-3급-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-옥틸옥시카보닐에틸)페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-3급-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)-카보닐-에틸]-2'-하이드록시페닐)- 5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3'-3급-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-메톡시카보닐에틸)페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3'-3급-부틸-2'-하이드록시-5'(2-옥틸옥시카보닐에틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-3급-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)카보닐에틸]-2'-하이드록시-페닐)벤조트리아졸, 2-(3-도데실-2'-하이드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸 및 2-(3'-3급-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-이소옥틸옥시카보닐에틸)-페닐벤조트리아졸의 혼합물, 2,2'-메틸렌-비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-벤조트리아졸-2-일페놀]; 2-[3'-3급-부틸-5'(2-메톡시카보닐에틸)-2'-하이드록시페닐]-2H-벤조트리아졸과 폴리에틸렌글리콜 300의 에스테르전환 생성물; 및 [R-CH2CH2- COO(CH2)3]2-(R은 3'-3급-부틸-4'-하이드록시-5'-2H-벤조트리아졸-2-일페닐이다).
2.2 2-하이드록시벤조페논, 예를 들면 4-하이드록시, 4-메톡시, 4-옥틸옥시, 4-데실옥시, 4-도데실옥시, 4-벤질옥시, 4,2',4'-트리하이드록시 및 2'-하이드록시-4,4'-디메톡시 유도체.
2.3 치환된 및 비치환된 벤조산의 에스테르, 예를 들면 4-3급-부틸페닐-살리실레이트, 페닐-살리실레이트, 옥틸페닐-살리실레이트, 디-벤조일-레조르시놀, 비스(4-3급-부틸-벤조일)레조르시놀, 벤조일 레조르시놀, 2,4-디-3급-부틸페닐-3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 헥사-데실-3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 옥타데실 3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤조에이트 및 2-메틸-4,6-디-3급-부틸페닐-3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시벤조에이트.
2.4 아크릴레이트, 예를 들면 에틸 α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 이소옥틸 α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 메틸 α-카보메톡시신나메이트, 메틸 α-시아노-β-메틸-p-메톡시-신나메이트, 부틸 α-시아노-β-메틸-p-메톡시-신나메이트, 메틸 α-카보메톡시-p-메톡시-신나메이트 및 N-(β-카보메톡시-β-시아노비닐)-2-메틸인돌린.
2.5 니켈 화합물, 예를 들면 n-부틸아민, 트리에탄올아민 또는 N-사이클로헥실디에텐올아민과 같은 추가의 리간드 없이 또는 이와 함께 1:1 또는 1:2 착체와 같은 2,2'-티오-비스-[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀]의 니켈 착체, 니켈 디부틸디티오카바메이트; 모노알킬 에스테르, 예를 들면 4-하이드록시-3,5-디-3급-부틸-벤질포스폰산의 메틸 또는 에틸 에스테르의 니켈 염, 추가의 리간드 없이 또는 이와 함께 케톡심, 예를 들면 2-하이드록시-4-메틸페닐 운데실케톡심의 니켈 착체 및 1-페닐-4-라우로일-5-하이드록시라졸의 니켈 착체.
2.6 옥사미드, 예를 들면 4,4'-디옥틸옥시옥사닐리드, 2,2'-디에톡시옥사닐리드, 2,2'-디옥틸옥시-5,5'-디-3급-부톡사닐리드, 2,2'-디도데실옥시-5,5'-디-3급-부톡사닐리드, 2-에톡시-2'-에틸옥사닐리드, N,N'-비스(3-디메틸아미노-프로필)옥사닐리드, 2-에톡시-5-3급-부틸-2'-에톡사닐리드, 및 2-에톡시-2'-에틸-5,4'-디-3급-부톡사닐리드와의 혼합물, 오르토- 및 파라-메톡시-이치환된 옥사닐리드의 혼합물 및 오르토- 및 파라-에톡시-이치환된 옥사닐리드의 혼합물.
2.7 2-(2-하이드록시페닐)1,3,5-트리아진, 예를 들면 2,4,6-트리스(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스-(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2,4-디하이드록시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(2-하이드록시-4-프로필옥시-페닐)-6-(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-도데실-옥시페닐)-4,6-비스-(4-메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-옥틸-옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-하이드록시-4-(2-하이드록시-3-부틸옥시-프로폭시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸)-1,3,5-트리아진 및 2-[2-하이드록시-4-(2-하이드록시-3-옥틸옥시-프로필옥시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸)-1,3,5-트리아진.
3. 금속 탈활성화제, 예를 들면 N,N'-디페닐옥사미드, N-살리실랄-N'-살리실로일 히드라진, N,N'-비스(살리실로일) 히드라진, N,N'-비스(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시-페닐프로피오닐)히드라진, 3-살리실로일아미노-1,2,4-트리아졸, 비스-(벤질리덴)옥살릴 디히드라지드, 옥사닐리드, 이소프탈로일 디히드라지드, 세바코일 비스페닐히드라지드, N,N'-디아세틸아디포일 디히드라지드, N,N'-비스-(살리실로일)-옥살릴 디히드라지드 및 N,N'-비스(살리실로일)-티오프로피오닐 디히드라지드.
4. 포스파이트 및 포스포나이트, 예를 들면 트리페닐 포스파이트, 디페닐 알킬 포스파이트, 페닐 디알킬 포스파이트, 트리스(노닐페닐)포스파이트, 트리라우릴 포스파이트, 트리옥타데실 포스파이트, 디스테아릴 펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리스(2,4-디-3급-부틸페닐) 포스파이트, 디이소데실 펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-3급-부틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스-(2,6-디-3급-부틸-4-메틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 디이소데실옥시펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-3급-부틸-6-메틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4,6-트리스(3급-부틸-페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리스테아릴 소르비톨 트리포스파이트, 테트라키스-(2,4-디-3급-부틸페닐)-4,4'-비페닐렌 디포스포나이트, 6-이소옥틸옥시-2,4,8,10-테트라-3급-부틸-12H-디벤즈[d,g]-1,3,2-디옥사포스포신, 6-플루오로-2,4,8,10-테트라-3급-부틸-12-메틸-디벤즈-[d,g]-1,3,2-디옥사포스포신, 비스(2,4-디-3급-부틸-6-메틸페닐)메틸포스파이트 및 비스(2,4-디-3급-부틸-6-메틸페닐)에틸-포스파이트.
5. 하이드록실아민, 예를 들면 디벤조일하이드록시아민, 디옥틸하이드록실아민, 디오데실하이드록실아민, 디테트라데실하이드록실아민, 디헥사데실하이드록실아민, 디옥타데실하이드록실아민, 1-하이드록시-2,2-6,6-테트라메틸-4-피페리딜 벤조에이트 또는 비스(1-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트.
6. 퍼옥사이드 소거제, 예를 들면 β-티오디프로피온산의 에스테르, 예를 들면 라우릴, 스테아릴, 미리스틸 또는 트리데실 에스테르, 머캅토벤즈이미다졸, 또는 2-머캅토벤즈이미다졸의 아연 염, 아연 디부틸-디티오카바메이트, 디옥타데실 디설파이드 및 펜타에리트리톨 테트라키스(β-도데실머캅토)프로피오네이트.
7. 폴리아미드 안정화제, 예를 들면 요오드 및/또는 인 화합물과 혼합한 구리 염 및 2가 마그네슘의 염.
8. 염기성 조안정화제, 예를 들면 멜라민, 폴리비닐피롤리딘, 디시안디아미드, 트리알릴 시아누레이트, 우레아 유도체, 히드라진 유도체, 아민, 폴리아미드, 폴리우레탄, 고급 지방산의 알칼리 금속 염 및 알칼리 토금속 염, 예를 들면 칼슘 스테아레이트, 아연 스테아레이트, 마그네슘 베헤네이트, 마그네슘 스테아레이트, 나트륨 리시놀리에이트 및 칼륨 팔미테이트, 안티몬 피로카테콜레이트 또는 주석 피로카테콜레이트.
9. 핵생성제, 예를 들면 4-3급-부틸벤조산, 아디프산 및 디페닐-아세트산.
10. 충전제 또는 보강제, 예를 들면 탄산 칼슘, 실리케이트, 유리 섬유, 석면, 활석, 카올린, 미카, 바륨 설페이트, 금속 산화물 및 수산화물, 카본 블랙 및 흑연.
11. 다른 첨가제, 예를 들면 가소화제, 윤활제, 유화제, 안료, 광학 증백제, 화염방지제, 대전방지제 및 취입제.
12. 벤조푸라논 및 인돌리논, 예를 들면 미국 특허 제 A-4 325 863 호, 미국 특허 제 A-4 338 244 호, 미국 특허 제 A-5 175 312 호, 미국 특허 제 A-5 216 052 호, 미국 특허 제 A-5 252 643 호, 독일 특허 제 A-4 316 611 호, 독일 특허 제 A-4 316 622 호, 독일 특허 제 A-4 316 876 호, 유럽 특허 제 A-0 589 839 호 또는 유럽 특허 제 A-0 591 102 호에 개시된 것들, 또는 3-[4-(2-아세톡시에톡시)페닐]-5,7-디-3급-부틸-벤조푸란-2-온, 5,7-디-3급-부틸-3-[4-2-스테아로일옥시에톡시)페닐]-벤조푸란-2-온, 3,3'-비스-[5,7-디-3급-부틸-3-(4-[2-하이드록시에톡시]페닐)벤조푸란-2-온], 5,7-디-3급-부틸-3-(4-에톡시페닐)벤조푸란-2-온, 3-(4-아세톡시-3,5-디메틸페닐)-5,7-디-3급-부틸-벤조푸란-2-온 및 3-(3,5-디메틸-4-피발로일옥시페닐)-5,7-디-3급-부틸-벤조푸란-2-온.
본 발명은 모든 부가 중량으로 표현된 다음의 실시예에 의해 추가로 설명된다:
실시예 1
폴리프로필렌 분말(용융 유동 지수 4, 230℃/2.16 kg) 100부를 Ca-스테아레이트 0.1부 및 펜타에리트리톨-테트라키스-[3-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐)-프로피오네이트] 0.05부 및 각각 성분 A 및 성분 B 0.075부와 함께 건조 블렌딩하고, 220℃에서 10분동안 균질화한다. 이렇게 수득된 조성물을 토글(toggle) 프레스에서 압축-성형시켜 1 내지 1.5 mm 두께의 판을 수득한다. 수득된 조성형물의 부분을 절단하고 3톤의 압력에서 1.5분동안 210℃에서 2개의 고광택 딱딱한 알루미늄 포일 사이에서 압축하고 30톤의 압력에서 1.5분동안 추가로 압축시켜 0.1 mm 두께의 필름을 수득한다. 각각 약 40 x 45 mm의 부분을 이 필름으로부터 천공하고 아틀라스 웨더-오미터(Atlas Weather-Ometer) Ci 65에서 조사한다. 일정한 간격의 시간에서, 이들 시험 샘플을 조사 장치로부터 수거하고 IR 스펙트로-포토미터에서 이들의 카보닐 함량에 대해 시험한다. 노출시 카보닐 소멸의 증가는 중합체의 광산화 분해의 척도이고, 경험에 따르면 중합체의 기계적인 성질의 악화와 관련된다. 0.30의 카보닐-지수에 도달하는데 필요한 시간은 안정화 작용의 척도로 간주된다.
실시예 2
폴리프로필렌 분말(호스탈렌(Hostalen) PPU 0180P, 훽스트(Hoechst), MFI 15 g/10분; 230℃/2.16 kg) 100부를 Ca-스테아레이트 0.1부, 펜타에리트리틸-테트라키스-[3-(3,5-디-3급-부틸-4-하이드록시페닐)-프로피오네이트] 0.05부 및 광안정화제 0.15부와 혼합하고 압출에 의해 용융-균질화한다.
가속화 풍화를 다음의 표준에 따라 수행했다:
UV-A: ASTM D-5208에 따름(UVCON-장치)
CAM-7: DIN 53387-A에 따름(웨더-오미터 Ci65)
몇몇 플라크를 약 0.1 mm의 평균 두께의 가압 필름을 제조하기 위해 사용한다. 또한, 이들 필름을 가속화 풍화시킨다. 임의의 특정 시간 간격에서 IR-분광계를 사용하여 약 1720 cm-1에서 카보닐 흡수의 증가를 조사하면 광산화 분해의 지표를 제공한다.
0.5의 카보닐 소멸에 도달하는 시간(T0.5 측정치)은 표 1 및 2에 주어진다.
T0.5 계산치 값을 첨가 규칙(랜비(B. Ranby) 및 라베크(J.F. Rabek)의 문헌[Photodegradation, Photo-oxidation and Photostabilization of Polymers, Principles and Applications, a Wiley-Interscience Publication, 1975, pp 418-422])에 따라 하기 수학식 1을 사용하여 계산한다.
상승 효과는 T0.5 계산치와 T0.5 측정치를 비교하여 측정된다. 상기 값들은 또한 하기 표 1 및 2에 주어진다.
T0.5 측정치 > T0.5 계산치이면, 기술된 혼합물에 대한 상승 효과가 나타난다.

Claims (7)

  1. 하기 화학식 I의 광반응성의 자외선 흡수성 저분자량 폴리알킬피페리딘(이후 성분 A로서 지칭됨) 및 하기 화학식 B-1 내지 B-24의 화합물로 구성된 군중에서 선택된 비광반응성의 저분자량 입체 장애된 폴리알킬-피페리딘(이후 성분 B로서 지칭됨)으로 구성된 조성물:
    화학식 I
    화학식 B-1
    R3-OC(O)-(CH2)n-C(O)O-R3
    화학식 B-2
    R3-NH-(CH2)n-NH-R3
    화학식 B-3
    R3-OCH2CH=CHCH2-O-R3
    화학식 B-4
    R3-OC(O)-NR3-(CH2)6-NR3C(O)O-R3
    화학식 B-5
    R3-O-Si(CH3)2-O-R3
    화학식 B-6
    화학식 B-7
    화학식 B-8
    화학식 B-9
    화학식 B-10
    화학식 B-11
    화학식 B-12
    R3-NH-C(O)-(CH2)n-C(O)-NH-R3
    화학식 B-13
    R3-NR4-(CH2)mCOOR7
    화학식 B-14
    R3-OC(O)CH2CH[C(O)OR3]CH[C(O)OR3]CH2C(O)O-R3
    화학식 B-15
    R3-OC(O)(CH2)n-CH3
    화학식 B-16
    R3OC(O)-아릴
    화학식 B-17
    (R3)3P
    화학식 B-18
    (R3)2PR
    화학식 B-19
    R3PRR
    화학식 B-20
    화학식 B-21
    화학식 B-22
    화학식 B-23
    화학식 B-24
    R3-O-CH=C(COOR3)2
    상기 식들에서,
    R1은 수소, 하이드록실, C1 내지 C20 알킬, C1 내지 C20 알콕시 또는 아실을 나타내고,
    R2는 수소, C1 내지 C8 알킬 또는 C1 내지 C2 알콕시를 나타내고,
    R3은 하기 화학식 a 내지 g[이때, 알킬은 선형, 분지형 또는 환형인 포화 C1 내지 C18 알킬 그룹, 또는 선형, 분지형 또는 환형인 C1 내지 C18 불포화 그룹(알케닐 그룹)이다]로 구성된 군중에서 선택된 그룹을 나타내고:
    화학식 a
    화학식 b
    화학식 c
    화학식 d
    화학식 e
    화학식 f
    화학식 g
    n은 0 내지 20중에서 선택된 정수이고,
    R4는 수소, C1 내지 C20 알킬 또는 R3이고,
    X는 산소 또는 N-R4이고,
    R5는 수소, C1 내지 C20 알킬, 하이드록실, C1 내지 C20 알콕시 또는 아실이고,
    R6은 수소, C1 내지 C20 알킬, 또는 (CH2)mCOOR7(이때, m은 0 내지 10중에서 선택된 정수이고, R7은 C1 내지 C20 알킬이다)이고,
    R10은 수소, C1 내지 C10 알킬 또는 C1 내지 C10 알케닐이고,
    R은 수소, C1 내지 C20 알킬, 알콕시, -C(O)알킬, -OC(O)알킬 또는
    n은 1 내지 19중에서 선택된 정수이다)이다.
  2. 제 1 항에 있어서,
    A대 B의 비가 95:5 내지 5:95인 조성물.
  3. 제 1 항에 따른 조성물, 및 안정화시키려는 천연 또는 합성 중합체성 기재와 동일하거나 또는 이와 혼화성인 천연 또는 합성 중합체성 또는 예비중합체성 물질을 포함하는 고체 마스터배치 조성물.
  4. 제 3 항에 있어서,
    10 내지 80 중량%의 안정화제 조성물, 및 90 내지 20 중량%의 천연 또는 합성 중합체성 또는 예비중합체성 물질을 포함하는 고체 마스터배치 조성물.
  5. 기재 안정화량의 제 1 항의 조성물 또는 제 3 항의 고체 마스터배치 조성물을 기재에 첨가함을 포함하는, 광에 의해 일어난 손상에 대해 천연 또는 합성 중합체성 또는 예비중합체성 기재를 안정화시키는 방법.
  6. 제 5 항에 있어서,
    0.01 내지 7.5 중량%의 제 1 항에 따른 조성물을 첨가하는 방법.
  7. (a) 제 1 항 또는 제 2 항에 따른 조성물, 및
    (b) 천연 또는 합성 중합체성 또는 예비중합체성 기재로 이루어진 안정화된 유기 물질.
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