KR20060106666A - High thermal emissive coated metal material - Google Patents

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KR20060106666A
KR20060106666A KR1020060021307A KR20060021307A KR20060106666A KR 20060106666 A KR20060106666 A KR 20060106666A KR 1020060021307 A KR1020060021307 A KR 1020060021307A KR 20060021307 A KR20060021307 A KR 20060021307A KR 20060106666 A KR20060106666 A KR 20060106666A
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가부시키가이샤 고베 세이코쇼
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Abstract

금속기재의 편면 또는 양면에 적어도 1층의 수지도막이 형성되어 있는 금속도장체에 있어서, 최외층에는 표면에 개구한 1~1000㎚의 세공을 갖는 다공질입자가, 최외층의 표면으로부터 적어도 일부 노출한 상태로 함유되어 있고, 바람직하게는 그 하층측에 방사성첨가제를 함유한 도막층이 형성된 방열성이 우수한 도장금속재를 개시한다. 이 도장금속재는 방열성이 우수하고, 열원을 내장하는 전자기기(열원을 내장하는 전기기기나 광학기기를 포함한다. 이하 동일) 등을 수용하는 틀체(케이싱)의 소재로서 유용하다.In a metal coating body in which at least one layer of resin coating film is formed on one side or both sides of a metal base, the outermost layer is formed by exposing at least part of porous particles having pores of 1 to 1000 nm that are open to the surface from the surface of the outermost layer. The coating metal material excellent in the heat dissipation which is contained in the state and in which the coating film layer containing the radioactive additive was formed in the lower layer side is disclosed. This coated metal material is excellent in heat dissipation and is useful as a material of a casing which accommodates electronic devices (including electric devices and optical devices incorporating heat sources. The same applies hereinafter).

Description

방열성이 우수한 도장금속재{High thermal emissive coated metal material}High thermal emissive coated metal material

도 1은 도장금속판의 방사전열량(Q2)과 대류열전달량(Q1)의 산출법을 나타내는 원리설명도이다.1 is an explanatory diagram showing a principle of calculating the radiant heat amount Q2 and the convective heat amount Q1 of a coated metal plate.

(기술분야)(Technology)

본 발명은 방열성이 우수한 도장금속재에 관한 것으로, 특히 열원(熱源)을 내장하는 전자기기(열원을 내장하는 전기기기나 광학기기를 포함한다. 이하 동일)를 수용하는 틀체(케이싱)의 소재로 유용한 방열성이 우수한 도장금속재에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a coated metal material having excellent heat dissipation, and is particularly useful as a material of a casing that accommodates an electronic device (including an electric device or an optical device with a built-in heat source. It is related with the coating metal material excellent in heat dissipation.

(배경기술)(Background)

근년, 전자기기 등에 있어서는, 고성능화ㆍ소형화가 진행됨에 따라 전자기기 등의 내부에서의 발열에 의한 기기내부 온도상승이 문제가 되어, IC, CPU(반도체소자), 디스크, 모터 등의 내열온도를 넘어, 안정조작에 지장을 줄 우려가 있고 또한 전자기기의 내부온도가 상승하면 반도체소자가 부서지거나 고장나거나 하는 원인이 되어 전자기기부품의 수명을 단축시킬 우려가 있다.In recent years, as the performance and miniaturization of electronic devices and the like progress, the internal temperature rise of the device due to heat generation inside the electronic devices, etc. becomes a problem, and beyond the heat resistance temperatures of ICs, CPUs (semiconductor devices), disks, and motors In addition, there is a risk of impairing the stable operation, and if the internal temperature of the electronic device rises, the semiconductor device may break or fail, which may shorten the life of the electronic device component.

본 발명자들은 이러한 상황에 착안하여 열원을 내장하는 전자기기부품에서 발생하는 열을 외부로 빠르게 방산하여 내부온도의 상승을 억제하는 것이 가능한 틀체소재의 개발에 착수하고 앞서 일본특허 제 3563731호에 기재된 기술을 개발하였다. In view of such a situation, the present inventors have started to develop a framework material capable of rapidly dissipating heat generated from an electronic device component having a heat source to the outside to suppress an increase in internal temperature, and the technique described in Japanese Patent No. 3563731. Developed.

이 발명은, 기재의 표면 또는 표리면(表裏面)에 방열성 첨가제를 배합한 방열성 도막을 형성하여 방열성을 높이는 도장체로서, 이 방열성 도막에는 카본블랙 등의 방열성첨가제와 아울러 Ni 등의 도전성 필러를 배합하여 도전성을 갖게하고 있다. 이 도장체는 100℃에서 가열했을 때의 적외선(파장:4.5~15.4㎛) 적분방사율이 하기(1)식의 관계를 만족하는 것으로, 방열성과 전자파 차폐성 때문에 도전성이 우수한 전자기기(전자렌지 부품은 제외)용 도장체로서 주목 받고 있다.This invention is a coating body which improves heat dissipation by forming the heat dissipation coating film which mix | blended the heat dissipation additive on the surface or front and back surface of a base material, and this heat dissipation coating film has electroconductive fillers, such as Ni, in addition to heat dissipation additives, such as carbon black. It mixes and has electroconductivity. This coating material is an infrared ray (wavelength: 4.5 to 15.4 µm) integral heating rate when heated at 100 ° C satisfies the relationship of the following formula (1), and excellent electrical conductivity due to heat dissipation and electromagnetic shielding (microwave parts It is attracting attention as a coating material for).

a × b ≥ 0.42 …… (1)a × b? 0.42. … (One)

a : 표면에 방열성도막이 형성된 도장체의 적외선 적분방사율a: Infrared integral emissivity of a coating body having a heat dissipating film formed on its surface

b : 이면에 방열성도막이 형성된 도장체의 적외선 적분방사율b: Infrared integral emissivity of the coating body having a heat dissipating film formed on the back surface

이 도장체는 방열성 첨가제를 배합한 방열성도막을 기재의 편면 혹은 양면에 형성하여 우수한 열방사특성을 발휘하기 때문에, 열원에 의한 내부온도 상승이 문제되는 각종 전자기기용 틀체로서 광범위한 용도전개가 기대되고 있다. 그러나, 이 기술을 이후 더욱 전개시켜 나가는데는 방열특성이 더더욱 향상될 것이 요구된다.Since this coating body forms a heat-dissipating coating film containing heat-dissipating additives on one side or both sides of the substrate and exhibits excellent heat radiation characteristics, it is expected to develop a wide range of applications as a framework for various electronic devices in which an internal temperature rise due to a heat source is problematic. . However, further development of this technology requires further improvement in heat dissipation characteristics.

또한 특개 2001-313009호 공보에는 전지의 가장 바깥표면에 공기대류를 촉진 하는 대류촉진막을 장착한 대류촉진막붙임 밀폐전지가 개시되어 있고, 대류촉진막으로서 박막상(薄膜狀)의 폴리에틸렌 텔레프탈레이트막이나 폴리테트라플루오로에틸렌막, 폴리프로필렌막 등을 들 수 있다.Also, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-313009 discloses a sealed battery with a convection accelerator film having a convection accelerator film on the outermost surface of the battery for promoting air convection, and a thin polyethylene telephthalate membrane as a convection accelerator film. And polytetrafluoroethylene membranes, polypropylene membranes, and the like.

그러나 특개 2001-313009호 공보에 기재되어 있는 박막소재를 본 발명에서 의도하는 도막소재로서 사용해도, 본 발명에서 기대할 수 있는 방열특성은 발휘되지 않는다.However, even if the thin film material described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-313009 is used as a coating film material intended by this invention, the heat dissipation characteristic anticipated by this invention is not exhibited.

또한 특개 2001-291982호 공보에는 전자기기 부품을 수납한 밀폐구조의 틀체와, 이 틀체 내에 설치되어 하부에 흡기공과 상부에 배기공을 갖는 통풍로를 갖추고, 틀체 내를 자연공냉에 의해 냉각하는 구조로 된 공냉식 밀폐형 전자기기 틀체가 개시되어 있다.In addition, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-291982 discloses a structure of a sealed structure containing electronic components, and a ventilation path installed in the frame having an intake hole at the lower portion and an exhaust hole at the upper portion thereof, and cooling the inside of the frame by natural air cooling. An air-cooled hermetic electronic device frame is disclosed.

그러나 이 기술은, 발열체의 주위구조를 개선하여 외부공기의 흐름을 제어하여 방열을 촉진하는 것으로, 도막자체의 방열특성을 높이는 기술과는 본질적으로 다른 것이다.However, this technique improves the surrounding structure of the heating element to control the flow of external air to promote heat dissipation, which is essentially different from the technique of increasing the heat dissipation characteristics of the coating film itself.

(발명이 해결하고저 하는 과제)(Problem Solving Invention)

본 발명은 전술한 바와 같은 상황 하에서 이루어진 것으로, 그 목적은 일본특허 제 3563731호에 개시된 것과 같이 방열성 도장체의 성능을 더욱 향상시켜 도막의 방열특성을 한층 높인 도장금속재를 제공하는 데 있다.The present invention has been made under the above circumstances, and its object is to provide a coating metal material which further improves the heat dissipation characteristics of the coating film by further improving the performance of the heat dissipating coating body as disclosed in Japanese Patent No. 3563731.

(과제를 해결하기 위한 수단)(Means to solve the task)

상기 과제를 해결할 수 있는 본 발명의 도장금속재는, 금속기재의 적어도 편면에 적어도 1층의 도막이 형성되어 있는 도장금속재로서, 상기 도막의 최외층에는 표면에 개구한 1~1000㎚의 세공을 가진 다공질입자를, 최외층의 표면으로부터 적어도 일부가 노출된 상태로 함유시킨 것이다.The coating metal material of this invention which can solve the said subject is a coating metal material in which at least 1 layer of coating film is formed in the at least single side | surface of a metal base material, The outermost layer of the said coating film is a porous which has a pore of 1-1000 nm opened to the surface. The particles are contained in a state in which at least a part is exposed from the surface of the outermost layer.

본 발명의 도장금속재의 상기 최외층은 두께 (x)가 0.5~4㎛, 다공질입자의 평균입경 (y)는 1~8㎛이고, 또한 「x〈 y」의 관계를 만족하는 것이 바람직하다. 또한, 이 최외층의 하면측에는 방사성 첨가제를 함유한 도막층이 형성되어 있고, 이 도장금속체를 100℃로 가열했을 때의 적외선(파장 4.5~15.4㎛)의 적분방사율이 0.6 이상을 나타내는 것은, 한층 우수한 방열특성을 갖는 것이므로 바람직하고, 또한 이 도막에 Ni 등의 도전성 필러(filler)를 배합하여 표면저항을 100Ω 이하로 저감한 것은 전자파 차폐(shield) 효과도 발휘하므로 바람직하다.It is preferable that the outermost layer of the coating metal material of this invention is 0.5-4 micrometers in thickness, and the average particle diameter (y) of porous particle is 1-8 micrometers, and satisfy | fills the relationship of "x <y". Moreover, the coating film layer containing a radioactive additive is formed in the lower surface side of this outermost layer, and when the coating metal body is heated at 100 degreeC, the integral emissivity of infrared rays (wavelength 4.5-15.4 micrometers) shows 0.6 or more, It is preferable to have excellent heat dissipation characteristics, and to reduce the surface resistance to 100 Ω or less by incorporating a conductive filler such as Ni into the coating film is also preferable because it exhibits an electromagnetic shielding effect.

이러한 특성을 갖춘 본 발명의 도장금속체는 특히 열원을 갖는 전자기기의 틀체용으로서 극히 유효히 활용할 수 있다. 또한, 본 발명의 도장금속체는 열원을 내장한 전자기기부품의 외벽의 적어도 일부로서 극히 유효히 활용 가능하다.The coated metal body of this invention which has such a characteristic can utilize extremely effectively for the frame body of the electronic device which has a heat source especially. In addition, the coated metal body of the present invention can be extremely effectively utilized as at least a part of an outer wall of an electronic device component incorporating a heat source.

본 발명의 도장금속재는 상기와 같은 도막의 최외층에 표면에 개구한 1~1000㎚의 세공을 가진 다공질입자를, 이 다공질입자의 적어도 일부가 도막의 최외층 표면으로부터 노출하여 세공이 개구한 상태로 함유시키고, 이 다공질입자로 부여된 대류에 의해 외기로의 열전달 촉진작용을 유효히 활용하여 우수한 방열특성을 발휘시키는 것이다. 따라서, 발열에 의해 내부온도의 상승을 일으키는 각종 전자기기를 보호하는 틀체용 소재로서 극히 유효히 활용할 수 있다.The coating metal material of this invention is a state in which the porous particle which has a pore of 1-1000 nm opened to the outermost layer of the coating film as mentioned above at least one part of this porous particle exposed from the outermost layer surface of a coating film, and opened the pore. The heat transfer promoting effect to the outside air is effectively utilized by convection imparted to the porous particles, thereby exhibiting excellent heat dissipation characteristics. Therefore, it can utilize extremely effectively as a frame material which protects various electronic devices which raise internal temperature by heat generation.

특히 도막의 최외층에 상기 다공질입자를 배합함과 아울러, 그 하층측에 방열성 첨가제를 배합한 도막을 형성한 것은, 최외층의 대류에 의한 열전달 촉진작용과 하층피막의 열방사특성이 서로 조합되어 획기적으로 우수한 방열특성을 발휘한다. 또한 상기 도막의 적어도 한쪽에 도전성 필러를 배합하여 도막의 전기저항을 100Ω 이하로 저감한 것은 도전성이 양호하고 전자파 차폐효과에 있어서도 우수한 성능을 갖게 해준다. In particular, the porous film is blended into the outermost layer of the coating film, and the coating film containing the heat dissipating additive is formed on the lower layer side. The heat transfer promoting action by the convection of the outermost layer and the thermal radiation characteristics of the lower layer film are combined with each other. Excellent heat dissipation characteristics. In addition, by reducing the electrical resistance of the coating film to 100 Ω or less by mixing a conductive filler in at least one of the coating films, the conductivity is good and excellent performance is also achieved in the electromagnetic wave shielding effect.

(발명을 실시하기 위한 최량의 형태)(The best form to carry out invention)

전자기기 등의 내부발열부품에서 발생하는 열은 열전도, 대류, 열방사 등에 의해 당해 기기를 보호하는 틀체(케이싱)에 전달된다. 따라서, 이 열을 틀체 내에서 축적시키지 않고 빠르게 대기로 방산시키는 것이 가능하다면 틀체의 내부온도가 과도하게 높아지지 않아 전자기기 내부성능을 안전하게 보호할 수 있게 된다.Heat generated from internal heat-generating parts such as electronic devices is transferred to a frame (casing) that protects the device by heat conduction, convection, heat radiation, and the like. Therefore, if it is possible to dissipate this heat to the atmosphere quickly without accumulating the heat in the frame, the internal temperature of the frame is not excessively high, so that the internal performance of the electronic device can be protected safely.

따라서, 전술한 일본특허 제 3563731호에서는 틀체의 구성소재를 방열성도막으로 피복한 판재로 틀체를 구성하므로써, 기기 내부에서 발생하는 열을 외부로 방산시켜 전자기기 내부온도 상승을 억제하고 있다. 이러한 방열성도막은 앞서 설명한 것과 같이 카본블랙 등의 방열성 첨가제를 배합하여 방열성을 높인 것으로, 이 도막에 도전성 필러를 배합하여 도전성을 가하면 전자파 쉴드효과도 부여할 수 있다는 것을 명확히 하고 있다.Therefore, in Japanese Patent No. 3563731 described above, the frame is made of a plate coated with a heat dissipating coating film to prevent the rise in the internal temperature of the electronic device by dissipating heat generated inside the device to the outside. As described above, the heat dissipating coating film is made of a heat dissipating additive such as carbon black to enhance heat dissipation. It is clarified that the electromagnetic wave shielding effect can also be imparted by adding a conductive filler to the coating film.

이에 대해 본 발명에서는, 이러한 방열성 첨가제의 사용을 배제하는 것은 아 니지만, 방열작용의 주체를 도막의 최외층에 함유시킨 즉, 표면에 개구한 1~1000㎚의 세공을 갖는 다공질입자에 의해 발휘시키는 것에 특징을 갖고 있다. 즉, 표면에 개구한 소정사이즈의 세공을 갖는 다공질입자를, 그 일부가 도막최외층의 표면으로부터 노출된 상태로 함유시키면, 이 다공질입자의 노출한 세공이 외기에 대해 대류하여 우수한 열전달작용을 발휘하고, 방열특성을 더욱 높이는 것이 확인되었다.In contrast, in the present invention, the use of such a heat dissipating additive is not excluded, but the main body of the heat dissipation action is contained in the outermost layer of the coating film, that is, exhibited by the porous particles having pores of 1 to 1000 nm open to the surface. It has a characteristic to let. That is, when the porous particles having pores of a predetermined size opened on the surface are contained in a state where a part thereof is exposed from the surface of the outermost layer of the coating film, the exposed pores of the porous particles convex to the outside air and exhibit excellent heat transfer effect. It was confirmed that the heat dissipation characteristics were further improved.

이와 같이, 다공질입자의 표면에 개구(開口)된 소정사이즈의 세공이 특이한 방열특성을 발휘하는 이유는, 현재에 있어서는 명확하지는 않다. 그러나, 후술하는 실시예에서도 명확히 알 수 있듯이 개구된 세공(細孔)의 평균입경이 1㎚ 미만인 미세한 것에서는 거의 방열특성이 개선되지 않고, 또한 세공이 표면에 개구되지 않은 폐기공(閉氣孔)인 경우에도 본 발명에서 의도하는 방열특성이 발현되지 않는 등, 이러한 것으로부터 생각해보면 평균입경이 1㎚ 이상의 개구된 세공이 방열특성에 적지 않은 영향을 끼치는 것은 명백하다.As described above, the reason why the pores of a predetermined size opened on the surface of the porous particles exhibit unique heat dissipation characteristics is not clear at present. However, as can be clearly seen from the examples described later, in the fine particles having an average particle diameter of the opened pores of less than 1 nm, the heat dissipation characteristics are almost not improved, and the closed pores in which the pores are not opened to the surface. In this case, it is apparent that the pores with an average particle diameter of 1 nm or more have a significant effect on the heat dissipation characteristics.

게다가 상기 다공질입자는 적어도 일부가 도막최외층의 표면으로부터 노출되어 있고, 개구한 상기 세공이 외표면에 개구상태로 존재하는 것이 중요하다. 그러기 위해서는, 최외층을 구성하는 도막의 막두께(x)와 상기 다공질입자의 평균입경(y)이 「x〈 y」의 관계를 만족하도록 조정하는 것이 가장 간편한 방법이다. 즉, 다공질입자의 평균입경(y)과 막두께(x)가 상기 관계를 만족한다는 것은, 다공질입자의 적어도 일부가 최외층 도막의 표면으로부터 노출되어 있다는 것을 의미한다. 따라서, 이 노출된 다공질입자의 표면에 존재하는 개구한 세공이 대류에 의한 외부분위기 방향으로의 열전달을 촉진하여 방열특성이 보다 효과적으로 높아지는 것이 다.In addition, it is important that at least a portion of the porous particles are exposed from the surface of the coating film outermost layer, and the opened pores remain in an open state on the outer surface. For this purpose, it is the simplest method to adjust so that the film thickness (x) of the coating film which comprises an outermost layer and the average particle diameter (y) of the said porous particle satisfy | fill the relationship of "x <y". That is, the fact that the average particle diameter y and the film thickness x of the porous particles satisfy the above relationship means that at least a part of the porous particles is exposed from the surface of the outermost layer coating film. Therefore, the open pores present on the exposed porous particles surface promote heat transfer in the direction of the external atmosphere due to convection, so that the heat dissipation characteristics are more effectively increased.

단, 막두께 (x)에 대하여 다공질입자의 평균입경 (y)가 너무 크게 되면, 다공질입자가 최외층의 표면으로부터 크게 돌출하고 이 돌출한 다공질입자가 작은 마찰력으로 최외층으로부터 탈락하기 쉬우므로, 바람직하게는 다공질입자의 평균입경 (y)를 막두께 (x)의 3/2~2배 정도, 즉 「(3/2)ㆍx≤y≤2x」로 하고, 다공질입자의 1/3~1/2 정도가 최외층의 상면으로부터 노출하도록 막두께와 다공질입자의 평균입경을 조정하는 것이 바람직하다. 단, 다공질입자의 입도분포가 좁은 경우에는, 더욱 높은 비율을 가진 입자를 최외층의 표면에 노출시킬 수 있다.However, if the average particle diameter (y) of the porous particles becomes too large with respect to the film thickness (x), the porous particles protrude largely from the surface of the outermost layer, and the protruding porous particles easily fall out of the outermost layer with a small frictional force. Preferably, the average particle diameter (y) of the porous particles is about 3/2 to 2 times the film thickness (x), that is, "(3/2) x x y y 2x", and 1/3 to the porous particles. It is preferable to adjust the film thickness and the average particle diameter of the porous particles so that about 1/2 is exposed from the upper surface of the outermost layer. However, when the particle size distribution of the porous particles is narrow, particles having a higher ratio can be exposed on the surface of the outermost layer.

이 다공질입자의 표면에 개구한 세공의 사이즈는, 외기방향으로의 대류에 의한 열전달효율을 높이기 때문에 매우 중요하다. 본 발명자들이 실험으로 확인한 바에 의하면, 그 사이즈는 적어도 1㎚ 이상으로 하지 않으면 안되는 것이 확인되었다. 그 이유는 현재로서는 명확하진 않지만, 1㎚ 미만의 미세한 구멍에서는 본 발명에서 의도하는 방열촉진효과는 발휘되지 않았음이 확인되었다. 실험에 의해 확인한 보다 바람직한 세공의 평균경은 5㎚ 이상, 보다 바람직하게는 10㎚ 이상이다.The size of the pores opened on the surface of the porous particles is very important because the heat transfer efficiency due to convection in the outside air direction is increased. As a result of the experiments confirmed by the present inventors, it was confirmed that the size should be at least 1 nm or more. The reason for this is not clear at present, but it was confirmed that the heat dissipation promoting effect intended in the present invention was not exerted in the fine pores smaller than 1 nm. The more preferable average diameter of the pores confirmed by the experiment is 5 nm or more, more preferably 10 nm or more.

세공 평균경의 상한은 명확하게는 존재하지 않는다. 본 발명에서는 이 세공을 갖는 입상의 다공질입자를 최외층 도막중에 혼입시켜 그 기능을 발휘시킨 것으로, 최외층의 막두께 (x)는 후술하는 바와 같이 0.5~4㎛ 정도가 바람직하고, 또한 이 막두께 (x)와의 관계에서 다공질입자의 평균입경 (y)는 1~8㎛의 범위가 바람직하다. 이러한 사실을 고려해보면, 세공이 너무 크면 다공질입자가 취약하게 되어 압괴되기 쉬으므로, 이러한 문제를 회피하기 위한 세공경(細孔俓)의 상한은 1000㎚ 정도로 생각된다. 보다 바람직한 세공경의 상한은 500㎚, 가장 바람직하게는 200㎚ 정도이다.The upper limit of the pore average diameter is clearly not present. In the present invention, granular porous particles having these pores are mixed in the outermost layer coating film to exhibit the function. The outermost layer film thickness (x) is preferably about 0.5 to 4 µm, as described later. In the relationship with the thickness (x), the average particle diameter (y) of the porous particles is preferably in the range of 1 to 8 µm. Considering this fact, if the pores are too large, the porous particles become brittle and easily collapsed, so the upper limit of the pore diameter for avoiding such a problem is considered to be about 1000 nm. The upper limit of a more preferable pore diameter is 500 nm, Most preferably, it is about 200 nm.

상기 다공질입자의 세공경은 유아사이오닉스사 제의 상품명「AUTOSORBI」를 이용하여 질소가스 흡착법에 의해 측정하고, 또한 다공질입자의 평균입경은 Leed & Northrup사 제의 상품명「마이크로트랙 9220 FRA」를 이용하여 측정한 값이다.The pore diameter of the porous particles was measured by nitrogen gas adsorption method using AUTOSORBI, a trade name of AYOSIONIX Co., Ltd., and the average particle diameter of the porous particles, using a micro track 9220 FRA, manufactured by Leed & Northrup. This is the value measured.

본 발명에서의 다공질입자로서 이용 가능한 물질로는 다공질 실리카, 제오라이트, 일부의 활성탄 및 일부의 알루미나를 들 수 있다.Examples of the material usable as the porous particles in the present invention include porous silica, zeolite, some activated carbon, and some alumina.

본 발명에 이용한 다공질 실리카는 예컨데 다음과 같이 제조할 수 있다. 규산나트륨 수용액에 황산(또는 염산)을 가하여 반응시켜 실리카히드로졸(수나노~수십나노메탈경의 콜로이드 입자)을 얻는다. 이 실리카히드로졸을 겔화반응시켜 실리카히드로졸을 얻고, 그것을 세정, 건조, 소성시켜 다공질실리카를 얻는다. 여기에서, 실리카히드로졸의 크기에 의해 다공질실리카의 공경(孔俓)이 결정된다.The porous silica used in the present invention can be prepared, for example, as follows. Sulfuric acid (or hydrochloric acid) is added to an aqueous sodium silicate solution and reacted to obtain silica hydrosol (colloid particles having diameters of several nanometers to several tens of nanometals). The silica hydrosol is gelled to obtain a silica hydrosol, which is washed, dried and calcined to obtain porous silica. Here, the pore size of the porous silica is determined by the size of the silica hydrosol.

공경에 대하여 상술한 조건을 만족하는 다공질입자를 얻는데는, 예컨데 기존의 다공질실리카 중에서 조건을 만족하는 것을 골라내도 좋다.In order to obtain the porous particle which satisfy | fills the conditions mentioned above about the pore size, you may select the thing which satisfy | fills the conditions among the existing porous silicas, for example.

상기 최외층의 바람직한 막두께를 0.5~4㎛의 범위로 정한 것은, 이 막두께가 너무 얇으면 최외층에 필요한 만큼의 다공질입자를 가질 수 없기 때문에, 만족할만한 방열특성을 얻기 어렵게 되고, 반대로 막두께가 4㎛를 초과하여 너무 두꺼워지면 이 최외층을 구성하는 비히클수지층에 의해 오히려 방열이 저해될 우려가 생기기 때문이다. 다공질입자의 안정성이나 방열성을 고려했을 때 최외층의 보다 바람직한 막두께는 1㎛ 이상, 3㎛ 이하이다.The film thickness of the outermost layer is preferably set in the range of 0.5 to 4 µm. If the film thickness is too thin, it is difficult to obtain as many porous particles as necessary for the outermost layer. This is because if the thickness becomes too thick exceeding 4 μm, heat dissipation may be rather hindered by the vehicle resin layer constituting the outermost layer. In consideration of stability and heat dissipation of the porous particles, the more preferable film thickness of the outermost layer is 1 µm or more and 3 µm or less.

본 발명에서는, 전술한 바와 같이 도막최외층의 표면으로부터 노출한 다공질입자의 개구한 세공에 의한 대류열전달의 촉진작용을 활용하여 방열특성을 높이는 것이므로, 최외층 표면에 노출한 다공질입자 표면의 세공은 개구상태로 유지할 필요가 있다. 그러기 위해서는 이 다공질입자 함유층을 형성할 때의 도포액으로서, 비히클수지성분이 휘발성용제로 충분히 희석된 고형분농도가 낮은 도포액을 사용하는 것이 좋다.In the present invention, as described above, the heat dissipation characteristics are enhanced by utilizing the promoting action of convective heat transfer by the open pores of the porous particles exposed from the surface of the outermost layer of the coating film, so that the pores on the surface of the porous particles exposed to the outermost layer surface It is necessary to keep it open. To this end, it is preferable to use a coating liquid having a low solid content concentration in which the vehicle resin component is sufficiently diluted with a volatile solvent as the coating liquid when forming the porous particle-containing layer.

즉 고형분농도가 높은 도포액을 사용하면, 도막최외층에 도포액을 도포건조하여 최외층도막을 형성할 때에, 다공질입자의 세공 내부까지 침입한 수지가 그대로 건조고화하여 세공을 막아버릴 우려가 있지만, 고형분농도가 낮은 도포액을 사용하면 건조고화 후에 잔존하는 수지량이 적기 때문에, 세공 내벽면에 수지막을 형성할 정도로 세공을 막아버릴 우려는 없다.In other words, when a coating liquid having a high solid content concentration is used, when the coating liquid is applied to the outermost layer of the coating film to form the outermost coating film, the resin penetrating into the pores of the porous particles may be dried and solidified to prevent the pores. When the coating liquid having a low solid content concentration is used, the amount of resin remaining after drying and solidification is small, so that there is no fear of blocking the pores to the extent that a resin film is formed on the inner wall surface of the pores.

따라서, 최외층도막을 형성할 때에는, 다공질입자를 제외한 수지고형분의 농도로 10질량% 이하, 보다 바람직하게는 7.5질량% 이하, 가장 바람직하게는 5질량% 이하의 저농도 도포액을 사용하는 것이 좋다. 이러한 저농도 도포액을 사용하는 것은, 상대적으로 얇은 0.5~4㎛ 레벨의 막두께인 최외층을 형성하는 데에도 유리하다. 도포액 농도의 하한은 특히 존재하지 않지만, 도포액 중의 다공질입자의 분리안정성이나 도포작업성 등을 고려하면 다공질입자를 제외한 수지고형분의 농도로 1질량% 이상, 보다 바람직하게는 2질량% 정도 이상이다.Therefore, when forming an outermost layer coating film, it is good to use the low concentration coating liquid of 10 mass% or less, More preferably, 7.5 mass% or less, Most preferably, 5 mass% or less by the density | concentration of resin solid content except a porous particle. . Using such a low concentration coating liquid is also advantageous for forming the outermost layer having a relatively thin film thickness of 0.5 to 4 µm. The lower limit of the coating liquid concentration is not particularly present, but considering the separation stability and coating workability of the porous particles in the coating liquid, the concentration of the resin solid except for the porous particles is 1% by mass or more, more preferably about 2% by mass or more. to be.

다공질입자가 건조도막 중에 점하는 질량비율에 대해서는, 소망하는 방열특성을 얻을 수 있도록 도막의 종류나 막두께 및 다공질입자의 크기나 세공조건에 따 라 적절히 조정하는 것이 좋다. 일반적으로는, 건조도막 중에 다공질입자가 약 10% 내외로 함유되도록 배합하는 것이 좋다.The mass ratio of the porous particles in the dry coating film may be appropriately adjusted according to the type and thickness of the coating film and the size and pore conditions of the porous particles so as to obtain desired heat dissipation characteristics. Generally, it is good to mix | blend so that about 10% of porous particles may be contained in a dry coating film.

본 발명에서는, 전술한 바와 같이 도막의 최외층에 개구한 소정사이즈의 세공을 갖는 다공질입자를 혼입시켜, 도막표면으로부터 외기방향으로의 대류에 의한 열전달을 가속하므로써 방열특성을 높이는 것에 특징을 갖고 있다. 이러한 작용만을 활용하여 방열성을 높이는 것도 물론 가능하지만, 이러한 특성을 상기 일본특허 제 3563731호에 나타난 방열성 향상기술과 조합하여 발휘시키면 매우 효과적이다.According to the present invention, as described above, porous particles having a predetermined size of pores opened in the outermost layer of the coating film are mixed to increase heat dissipation characteristics by accelerating heat transfer by convection from the surface of the coating film to the outside air direction. . It is of course possible to improve the heat dissipation by utilizing only such an effect, but it is very effective to exhibit such characteristics in combination with the heat dissipation improving technique shown in Japanese Patent No. 3563731.

즉, 상기 다공질입자를 함유한 최외층의 하층측에 일본특허 제 3563731호에 개시되어 있는 방사성첨가제를 함유한 하층도막을 형성하고, 이 하층도막에 의한 열방사특성을 이용하여 방열특성을 더욱 높이는 것도 유효하다. 구체적으로는, 방사성첨가제를 배합하여 방열특성을 높인 하층도막을 형성하는 것으로, 이 도장금속판을 100℃로 가열했을 때의 적외선(파장 4.5~15.4㎛)의 적분방사율을 0.6 이상으로 높이면, 다공질입자를 배합하므로써 대류열전달 성능을 높인 최외층도막의 존재와도 서로 조합되어 방열특성은 일층 향상한다.That is, an underlayer coating film containing the radioactive additive disclosed in Japanese Patent No. 3563731 is formed on the lower layer side of the outermost layer containing the porous particles, and the heat dissipation characteristics of the underlayer coating film are further enhanced. It is also valid. Specifically, a radioactive additive is added to form a lower layer coating film having high heat dissipation characteristics. Porous particles are formed by increasing the integral emissivity of infrared rays (wavelength of 4.5 to 15.4 μm) when the coated metal plate is heated to 100 ° C. to 0.6 or more. In combination with the presence of the outermost layer of the film having improved convective heat transfer performance, the heat dissipation characteristics are further improved.

또한 상기「적외선 적분방사율」은, 적외선(열에너지) 방출의 용이(흡수 용이)를 의미한다. 따라서, 상기 적외선 방사율이 높을수록 도막으로부터 방출되는 열에너지 량은 커지게 된다. 예컨데 물체(본 발명의 경우는 도장금속재)에 가한 열에너지의 100%가 방사된 경우에는, 당해 적외선 적분방사율은 1이 된다.In addition, said "infrared integral emissivity" means the ease (absorption) of infrared (thermal energy) emission. Therefore, the higher the infrared emissivity, the greater the amount of thermal energy emitted from the coating film. For example, when 100% of the thermal energy applied to an object (in the case of the present invention, a coated metal material) is emitted, the infrared integrated emissivity becomes 1.

본 발명에서는, 상기와 같이 100℃로 가열했을 때의 적외선 적분방사율을 정하고 있다. 이것은, 본 발명의 도장금속재가 통상 전자기기(용도에 따라서도 다르 지만, 통상 사용분위기 온도는 대략 50~70℃이고, 최고로는 약 100℃)에 적용되는 것을 고려하여, 당해 실용분위기 온도와 일치시키기 위하여 가열온도를 100℃로 정하였다. 단, 본 발명자들의 실험에 따르면, 200℃로 가열했을 때의 적외선 적분방사율은 100℃의 적외선 적분방사율에 비하여 겨우 0.02(즉 2%) 정도 높게될 뿐으로, 개략 동일하게 되는 것을 확인하였다.In this invention, the infrared integrated emissivity at the time of heating at 100 degreeC as mentioned above is defined. This coincides with the practical ambient temperature in consideration of the fact that the coated metal material of the present invention is usually applied to an electronic device (although depending on the use, but usually used in an ambient temperature of approximately 50 to 70 ° C. and at most about 100 ° C.). In order to make the heating temperature was set to 100 ℃. However, according to the experiments of the present inventors, it was confirmed that the infrared integrated emissivity when heated to 200 ° C. was only about 0.02 (ie 2%) higher than the infrared integrated emissivity of 100 ° C., and was approximately the same.

본 발명에서 채용된 적외선 적분방사율의 측정법은 일본특허 제 3563731호에서도 분명히 하고 있지만, 다시 게재하자면 다음과 같다.Although the method of measuring the infrared integrated emissivity employed in the present invention is also clarified in Japanese Patent No. 3563731, it is as follows.

장치 : 니혼덴시회사 제의「JIR-5500형프리에변환 적외분광 광도계」및 방사측정유닛「IRR-200」Apparatus: JIR-5500-type Fourier transform infrared spectrophotometer and radiation measuring unit IRR-200 manufactured by Nippon Denshi Corporation

측정파장범위 : 4.5~15.4㎛Wavelength Range: 4.5 ~ 15.4㎛

측정온도 : 공시재의 가열온도를 100℃로 설정Measurement temperature: Set the heating temperature of test material to 100 ℃

적산회수 : 200회Total number of times: 200 times

분해능 : 16㎝-1 Resolution: 16 cm -1

상기 장치를 사용하여, 적외선 파장역(4.5~15.4㎛)에서의 공시재의 분광방사강도(실측치)를 측정하였다. 이 실측치는 백그라운드의 방사강도와 장치관수가 가산/부가된 수치로 측정된 것으로, 이들을 보정하기 위해 방사율 측정 프로그램 [니혼덴시회사 제의 방사율 측정 프로그램]을 이용하여 적분방사율을 산출하였다. 산출법의 상세한 것은 다음과 같다.Using this apparatus, the spectral radiant intensity (actual value) of the specimen in the infrared wavelength range (4.5-15.4 micrometers) was measured. This measured value was measured by the added / added values of the background radiation intensity and the device irrigation, and an integrated emissivity was calculated by using an emissivity measurement program (emissivity measurement program manufactured by Nippon Denshi Co., Ltd.) to correct them. Details of the calculation method are as follows.

[수식 1][Equation 1]

Figure 112006016151251-PAT00001
Figure 112006016151251-PAT00001

식 중, ε(λ)는 파장 λ에서의 공시재의 분광방사율(%), E(T)는 온도 T(℃)에서의 공시재의 분광방사율(%), M(λ,T)은 파장 λ, 온도 T(℃)에서의 공시재의 분광방사강도(실측치), A(λ)는 장치관수, KFB(λ)는 파장 λ에서의 고정백그라운드(공시재에 의해 변화하지 않는 백그라운드)의 분광방사강도, KTB(λ,TTB)는 파장 λ, 온도 TTB(℃)에서의 트랩흑체의 분광방사강도, KB(λ,T)는 파장 λ, 온도 T(℃)에서의 흑체의 분광방사강도(프랑크의 이론식으로부터의 계산치), λ1, λ2는 적분한 파장의 범위를 각각 의미한다.Where ε (λ) is the spectral emissivity (%) of the specimen at wavelength λ, E (T) is the spectral emissivity (%) of the specimen at temperature T (° C.), and M (λ, T) is the wavelength λ, The spectral radiant intensity (actual value) of the specimen at the temperature T (° C.), A (λ) is the device irrigation, and K FB (λ) is the spectral radiant intensity of the fixed background (background unchanged by the specimen) at the wavelength λ. , K TB (λ, T TB ) is the spectral radiant intensity of the trap blackbody at wavelength λ, temperature T TB (℃), and K B (λ, T) is the spectral radiation of black body at wavelength λ, temperature T (℃) Intensity (calculated from Frank's theoretical formula), λ1, and λ2 mean the ranges of integrated wavelengths, respectively.

여기에서, 상기 A(λ:장치관수) 및 상기 KFB(λ:고정 백그라운드의 분광방사강도)는 2개의 흑체로(80℃, 160℃)의 분광방사강도의 실측치와, 이 온도역에서의 흑체의 분광방사강도(프랑크의 이론식으로부터의 계산치)를 토대로, 하기식에 의해 산출된 것이다.Here, A (λ: device irrigation) and K FB (λ: spectral radiation intensity in fixed background) are measured values of spectral radiation intensity of two black body furnaces (80 ° C and 160 ° C), and at this temperature range. Based on the spectral radiant intensity (calculated from Frank's theoretical formula) of the black body, the following formula was calculated.

[수식 2][Formula 2]

Figure 112006016151251-PAT00002
Figure 112006016151251-PAT00002

식 중, M160℃(λ,160℃)은, 파장λ에서 160℃인 흑체로의 분광방사강도(실측치), M80℃(λ,80℃)은 파장λ에서 80℃인 흑체로의 분광방사강도(실측치), K160℃(λ,160℃)은 파장λ에서 160℃인 흑체로의 분광방사강도(프랑크의 이론식으로부터의 계산치), K80℃(λ,80℃)은 파장λ에서 80℃인 흑체로의 분광방사강도(프랑크의 이론식으로부터의 계산치)를 각각 의미한다.In the formula, M 160 ° C. (λ, 160 ° C.) is the spectral radiant intensity (actual value) from the wavelength λ to 160 ° C., and M 80 ° C. (λ, 80 ° C.) is the spectrum from the wavelength λ to 80 ° C. Radiation intensity (actual value), K 160 ° C (λ, 160 ° C) is the spectral radiant intensity from the wavelength lambda to 160 ° C (calculated from Frank's theoretical formula), K 80 ° C (λ, 80 ° C) at the wavelength lambda The spectral radiant intensity (calculated from Frank's theoretical formula) to the black body which is 80 degreeC is meant respectively.

또한, 적분방사율 E(T=100℃)의 산출에 맞게 KTB(λ,TTB)를 고려하는 것은, 측정을 할 때 공시재의 주위에 수냉한 트랩흑체를 배치하기 때문이다. 이 트랩흑체의 설치에 의해 변동 백그라운드 방사(공시재에 의해 변화하는 백그라운드 방사를 의미한다. 공시재의 주위로부터의 방사가 공시재 표면에서 반사되기 때문에 공시재의 분광방사강도의 실측치는 이 백그라운드 방사가 가산된 수치로 나타난다)의 분광방사강도를 낮게 콘트롤할 수 있다. 상기 트랩흑체로는 방사율 0.96인 의사흑체를 사용하고, 상기 KTB[(λ,TTB) : 파장 λ, 온도 TTB(℃)에서의 트랩흑체의 분광방사강도]는 다음과 같이 산출한다.In addition, K TB (λ, T TB ) is considered in accordance with the calculation of the integral emissivity E (T = 100 ° C.) because the trap black body, which is water-cooled, is placed around the specimen during measurement. Fluctuations of background radiation (meaning background radiation that varies with specimens due to the installation of the trap blackbody. Since the radiation from the surroundings of the specimens is reflected on the surface of the specimens, the actual value of the spectral radiation intensity of the specimens is added to this background radiation. The spectral radiant intensity of the A pseudo black body having an emissivity of 0.96 is used as the trap black body, and the K TB [(λ, T TB ): spectral radiant intensity of the trap black body at a wavelength λ and a temperature T TB (° C.)] is calculated as follows.

KTB(λ,TTB) = 0.96 × KB(λ,TTB)K TB (λ, T TB ) = 0.96 × K B (λ, T TB )

식 중, KB(λ,TTB)는 파장 λ, 온도 TTB(℃)에서의 흑체의 분광방사강도를 의미한다.In the formula, K B (λ, T TB ) means the spectral radiant intensity of the black body at the wavelength λ, temperature T TB (° C.).

방사성첨가제를 함유한 하층도막이 형성된 도장금속재는, 이렇게 하여 측정한 적외선(파장 4.5~15.4㎛)의 적분방사율[상기 E(T=100℃)]로, 이 방열성도막이 형성된 도장금속재의 적외선 적분방사율(a)가 적어도 0.6 이상인 것이 바람직하다. 또한, 이면에도 같은 모양의 방열성도막이 형성되어 있는 도장금속재의 경우에는 표리면측의 적외선 적분방사율(a),(b)의 곱셈(a×b)이 0.6 이상을 만족하는 것이 바람직하다.The coating metal material in which the lower layer coating film containing a radioactive additive was formed is the integral emissivity (the said E (T = 100 degreeC)) of the infrared rays (wavelength 4.5-15.4 micrometers) measured in this way, and the infrared integral radiation rate of the coating metal material in which this heat radiation coating film was formed ( It is preferable that a) is at least 0.6 or more. In the case of a coated metal material having the same heat dissipating coating film formed on the back surface, it is preferable that the product (a × b) of the infrared integrated emissivity (a) and (b) on the front and back surface satisfies 0.6 or more.

즉, 도장금속재로부터 방출된 적외선 적분방사율은 도장금속재 자체의 방열효과를 나타내는 지표로서 유용하고, 이 값이「0.6 이상」을 나타내는 것은 상기 적외선 파장역에서 평균적으로 높은 방사특성을 발휘하므로, 본 발명에서는 바람직한 적분방사율로서 상기 값을 정한 것이다. 보다 바람직하게는 0.64 이상, 가장 바람직하게는 0.72 이상이다.That is, the infrared integrated emissivity emitted from the coated metal material is useful as an index indicating the heat dissipation effect of the coated metal material itself, and the value of &quot; 0.6 or higher &quot; exhibits a high radiation characteristic on average in the infrared wavelength range, and thus the present invention In the above, the above values are defined as preferable integral emissivity. More preferably, it is 0.64 or more, Most preferably, it is 0.72 or more.

본 발명을 실시할 때에는, 틀체의 외면측이 되는 편면측의 적외선방사율이 많을수록 바람직하다. 이 편면측의 적분방사율이 0.6 이상, 보다 바람직하게는 0.7 이상, 가장 바람직하게는 0.8 이상인 도장금속재는 본 발명에서 가장 바람직한 실시태양으로서 권장된다.When implementing this invention, it is more preferable that there are many infrared radiation rates of the one side which becomes the outer surface side of a frame. A coated metal material having an integral emissivity of 0.6 or more, more preferably 0.7 or more, and most preferably 0.8 or more on one side is recommended as the most preferred embodiment in the present invention.

상기 적외선 적분방사율은, 다공질입자를 배합한 최외층도막의 구성에는 거의 영향을 주지 않고, 방사성첨가제를 함유한 하층도막의 구성에 의해 거의 일률적 으로 결정된다. 따라서, 이 하층도막과 최외층도막을 복합한 본 발명의 바람직한 태양으로는, 이 하층도막의 상기 적분방사율과 최외층도막의 대류열전달에 의한 방열효과가 총합된 방열특성을 발휘하게 되는 것이다.The infrared integrated emissivity hardly affects the constitution of the outermost layer containing the porous particles, and is almost uniformly determined by the constitution of the lower layer containing the radioactive additive. Therefore, as a preferable aspect of this invention which combined this lower layer coating film with the outermost layer film, the said heat radiation characteristic of the said integral emissivity of this lower layer film and the convection heat transfer of an outermost layer film is exhibited.

하층도막 중에 배합된 방사성첨가제로서 가장 바람직한 것은 카본블랙이다. 그 외에 Co, Ni, Cu, Mn, Ag, Sn 등의 산화물, 황화물, 카바이드 등, 또는 TiO2, 세라믹스, 산화철, 산화알루미늄, 황화바륨, 산화규소 등을 사용하는 것도 가능하다. 이들 방사성첨가제의 바람직한 배합량은 하층도막 중에 점하는 고형분 비율로 1질량% 이상, 보다 바람직하게는 2질량% 이상이다.The most preferred radioactive additive blended in the undercoat is carbon black. In addition, oxides such as Co, Ni, Cu, Mn, Ag, Sn, sulfides, carbides, or the like, or TiO 2 , ceramics, iron oxide, aluminum oxide, barium sulfide, silicon oxide, or the like can also be used. Preferable compounding quantity of these radioactive additives is 1 mass% or more, More preferably, it is 2 mass% or more by solid content ratio which occupies in a lower layer coating film.

방사성첨가제로서 카본블랙을 사용하는 경우의 바람직한 사이즈는, 평균입경이 5㎚ 이상, 100㎚ 이하이다. 평균입경이 5㎚ 미만이면, 소망하는 방열특성을 얻기 어려울 뿐 아니라, 도료의 안정성이 저하하여 도장외관이 열화하는 경향이 있고, 한편 평균입경이 100㎚를 초과하여 너무 커져도 방열특성이 저하하고 또한 도막외관도 불균일하게 되는 경향이 있다. 바람직하게는 10㎚ 이상, 90㎚ 이하; 보다 바람직하게는 15㎚ 이상, 80㎚ 이하이다. 또한 방열특성과 함께 도료안정성, 도장후 외관의 균일성 등을 총합적으로 고려하면, 카본블랙의 최적 평균입경은 대략 20~40㎚의 범위이다.The preferable size at the time of using carbon black as a radioactive additive is 5 nm or more and 100 nm or less in average particle diameter. If the average particle diameter is less than 5 nm, not only the desired heat dissipation characteristics are obtained, but also the stability of the coating material tends to deteriorate, and the appearance of the coating tends to deteriorate. The appearance of the coating film also tends to be nonuniform. Preferably at least 10 nm and at most 90 nm; More preferably, they are 15 nm or more and 80 nm or less. In addition, considering the heat dissipation characteristics, paint stability, uniformity of appearance after coating, and the like, the optimum average particle diameter of carbon black is in the range of approximately 20 to 40 nm.

전술한 최외층도막 및 상기 하층도막의 비히클성분으로서 사용되는 수지(방열도막을 형성하는 베이스 수지)의 종류는 방열특성의 관점으로부터는 특히 한정하지 않지만, 아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 폴리올레핀계 수지, 폴리에스테르계 수 지, 불소계 수지, 실리콘계 수지 및 이들의 혼합물이나 변성수지 등을 적절히 사용할 수 있다. 단, 본 발명의 도장금속재는 전자기기의 틀체로서 사용되기 때문에, 방열특성과 함께 내식성이나 가공성 등도 요구될 때가 많으므로, 상기 베이스 수지로서는 비친수성 수지[구체적으로는 물과의 접촉각이 30℃ 이상(보다 바람직하게는 50℃ 이상, 더욱 바람직하게는 70℃ 이상)을 만족하는 것]를 사용하는 것이 좋다. 이러한 비친수성 수지는 혼합정도와 변성정도 등에도 따르지만, 예컨데 폴리에스테르계 수지, 폴리올레핀계 수지, 불소계 수지, 실리콘계 수지 및 이들의 혼합물 또는 변성수지가 바람직하고, 그중에서도 특히 바람직한 것은 폴리에스테르계 수지나 그 변성수지(에폭시변성 폴리에스테르계 수지, 페놀유도체를 골격으로 도입한 폴리에스테르계 수지 등의 열경화성 폴리에스테르계 수지 또는 불포화 폴리에스테르계 수지)이다.The type of resin (base resin for forming a heat dissipation film) used as the vehicle component of the outermost layer coating film and the above-described lower layer coating film is not particularly limited from the viewpoint of heat dissipation characteristics, but an acrylic resin, urethane resin, polyolefin resin, poly Ester resins, fluorine resins, silicone resins, mixtures thereof, modified resins and the like can be suitably used. However, since the coated metal material of the present invention is used as a framework for electronic devices, corrosion resistance and workability are often required along with heat dissipation characteristics. Thus, the base resin is a non-hydrophilic resin (specifically, the contact angle with water is 30 ° C. or higher). (More preferably, 50 ° C. or higher, still more preferably 70 ° C. or higher). Such non-hydrophilic resins also depend on the degree of mixing, the degree of modification, and the like, but for example, polyester resins, polyolefin resins, fluorine resins, silicone resins and mixtures or modified resins thereof are preferable, and among them, polyester resins and the like are particularly preferred. Modified resins (thermosetting polyester-based resins or unsaturated polyester-based resins such as epoxy-based polyester resins and polyester-based resins in which a phenol derivative is introduced into the skeleton).

이들 수지에는, 필요에 따라 예컨데 멜라민계 화합물이나 이소시아네이트계 화합물 등의 가교제를 첨가할 수 있다.To these resins, crosslinking agents, such as a melamine type compound and an isocyanate type compound, can be added as needed.

또한, 상기 최외층도막이나 하층도막에는 본 발명의 작용을 해치지 않는 범위에서, 그 외의 첨가제, 예컨데 방청안료나 대전방지제, 내후성 개선제 등을 첨가해도 좋다. 다른 첨가제 중에서도, 바람직하게는 하층도막측에 배합하므로써 우수한 성능을 부여하는 첨가제로서 도전성 필러를 들 수 있다.In addition, other additives such as rust preventive pigments, antistatic agents, weather resistance improving agents, and the like may be added to the outermost layer film or the lower layer film within a range that does not impair the effect of the present invention. Among other additives, conductive fillers are preferably mentioned as additives that provide excellent performance by blending on the lower coating layer side.

즉, 본 발명의 도장금속재가 적용되는 전자기기 부품은 방열의 문제 외에, 외부로의 전자파 장해를 초래할 수도 있으므로, 이들 전자기기용 틀체로서 이용하는 본 발명의 도장금속재는 전자파 차폐성을 갖는 것이 바람직하다. 그러기 위해서 는 최외층도막이나 하층도막의 한쪽 또는 양쪽(바람직하게는 하층도료 중)에 도전성 필러를 배합하여 도전성을 주어, 전자파 차폐성을 부여하는 것이 권장된다.That is, since the electronic device component to which the coated metal material of the present invention is applied may cause electromagnetic interference to the outside in addition to the problem of heat dissipation, it is preferable that the coated metal material of the present invention used as a frame for these electronic devices has electromagnetic shielding properties. For this purpose, it is recommended to provide an electroconductive shielding property by providing a conductive filler by mixing conductive fillers with one or both of the outermost layer and the lower layer (preferably in the lower layer).

이러한 목적으로 사용되는 도전성 필러로는 Ag, Zn, Fe, Ni. Cu 등의 금속단체(單體)나 FeP 등의 금속화합물을 들 수 있다. 그 중에서도 특히 바람직한 것은 Ni이다. 그 형상은 특히 한정하지 않지만, 보다 적은 배합량으로 우수한 도전성을 부여하는 데에는, 비늘편모양의 것을 사용하는 것이 좋다. 도전성 필러의 배합량은 사용하는 베이스 수지의 종류나 필요에 따라 첨가되는 가교제나 방열성 첨가제, 그 외의 첨가제 등도 포함하여 도막을 구성하는 모든 성분 중에 점하는 비율(고형분 환산)로 5~50질량%의 범위로 하는 것이 좋다. 5% 미만에서는 소망하는 도전성 부여효과를 얻을 수 없으므로 바람직하게는 15% 이상, 보다 바람직하게는 20% 이상 배합하는 것이 좋다. 단, 도전성 필러의 량이 50질량%를 넘으면, 도막의 가공성이 저하한다. 특히, 도장금속판으로서 고도의 굽힘가공성이 요구되는 부위에 적용할 경우에는, 우수한 가공성을 확보하기 위해 40질량% 이하, 보다 바람직하게는 35질량% 이하로 억제하는 것이 좋다.Conductive fillers used for this purpose include Ag, Zn, Fe, Ni. Metal compounds, such as Cu, and metal compounds, such as FeP, are mentioned. Especially preferred is Ni. Although the shape is not specifically limited, In order to provide the outstanding electroconductivity with a small compounding quantity, it is good to use the thing of scale-like form. The compounding amount of the conductive filler is in the range of 5 to 50% by mass in terms of the proportion (solid content) of all the components constituting the coating film, including a crosslinking agent, a heat dissipating additive, and other additives added according to the kind of base resin to be used and if necessary. It is good to do. If it is less than 5%, a desired conductivity imparting effect cannot be obtained, and therefore it is preferable to mix it with 15% or more, more preferably 20% or more. However, when the amount of electroconductive filler exceeds 50 mass%, the workability of a coating film will fall. In particular, when applied to a site where high bending workability is required as a coated metal plate, it is preferable to suppress the content to 40% by mass or less, more preferably 35% by mass or less in order to ensure excellent workability.

도전성의 지표로는, 전기저항 100Ω 이하를 기준으로 하는 것이 좋고, 보다 바람직하게는 10Ω 이하이다. 여기에서, 전기저항은 다음과 같은 방법으로 측정할 수 있다.As an index of electroconductivity, it is good to refer to electrical resistance of 100 ohms or less, More preferably, it is 10 ohms or less. Here, the electrical resistance can be measured by the following method.

도전성 측정장치로서 미츠비시가가꾸 제의「로레스타 EP」, 프로브는 미츠비시가가꾸제의 2탐침 프로브(MCP-TP01)을 사용하였다. 측정에 있어서는, 프로브의 탐침과 측정샘플과의 사이에 두께 0.8mm, 크기 20mm 각의 동판을 동판끼리 접촉하 지 않도록 2매 놓고 공시재의 저항(Ω)을 측정한다.Mitsubishi Chemical Corporation's "Lone Star EP" and the probe used a Mitsubishi Chemical Corporation two-probe probe (MCP-TP01). In the measurement, the resistance (Ω) of the specimen is measured by placing two copper plates each having a thickness of 0.8 mm and a size of 20 mm between the probe and the measurement sample so that the copper plates do not contact each other.

또한, 기재로서 금속을 사용하는 본 발명에 있어서는, 상기 이외의 첨가제로 방청제를 배합하는 것도 유효하다. 그 구체적인 예로는, 실리카계 화합물, 인산염계 화합물, 아인산염계 화합물, 폴리인산염계 화합물, 유황계 유기화합물, 벤조트리아졸, 탄닌산, 몰리브덴산염계 화합물, 텅스텐산염계 화합물, 바나듐계 화합물, 실란카플링제 등을 들 수 있고, 이들을 단독 혹은 병용할 수 있다. 특히 바람직한 것은 실리카계 화합물(예컨데 칼슘이온교환 실리카 등)과, 인산염계 화합물, 아인산염계 화합물, 폴리인산염계 화합물(예컨데 트리폴리인산 알루미늄 등)과의 병용으로, 실리카계 화합물:(인산염계 화합물, 아인산염계 화합물, 또는 폴리인산염계 화합물)을 질량비율로 0.5~9.5:9.5~0.5(보다 바람직하게는 1:9~9:1)의 범위로 병용하는 것이 권장된다. 이러한 범위로 제어하므로써, 우수한 내식성과 가공성을 겸비한 도막을 얻을 수 있게 된다.Moreover, in this invention using a metal as a base material, it is also effective to mix | blend a rust preventive agent with the additive of that excepting the above. Specific examples thereof include silica compounds, phosphate compounds, phosphite compounds, polyphosphate compounds, sulfur organic compounds, benzotriazoles, tannic acid, molybdate compounds, tungstate compounds, vanadium compounds, and silane couplings. The agent etc. can be mentioned, These can be used individually or in combination. Particularly preferred is a combination of a silica compound (such as calcium ion exchange silica) and a phosphate compound, a phosphite compound, a polyphosphate compound (such as tripolyphosphate), and a silica compound: (phosphate compound, It is recommended to use a phosphite type compound or polyphosphate type compound together in the range of 0.5-9.5: 9.5-0.5 (more preferably 1: 9-9: 1) by mass ratio. By controlling in such a range, the coating film which has the outstanding corrosion resistance and workability can be obtained.

이상, 본 발명의 도장체를 특징짓는 도막에 대하여 상술했지만, 본 발명의 가장 중요한 포인트는 도막, 그것도 최외층도막, 혹은 이것과 하층도막의 구성을 특정한 것으로, 도막이 형성되는 금속기재의 종류는 특히 한정하지 않는다. 따라서 본 발명에 이용되는 금속기재로는, 가장 대표적인 강판, 구체적으로는 냉연강판, 열연강판, 전기아연도금강판(EG), 용융아연도금강판(GI), 합금화용융아연도금강판(GA), Al-Zn도금강판, Al 등의 각종도금강판, 스테인레스강판 등의 강판류나, 비철금속판 등을 모두 적용할 수 있고, 또한 금속판 이외의 기재, 구체적으로는 관재, 선재, 봉재, 이형재 등을 모두 사용할 수 있다.As mentioned above, although the coating film which characterizes the coating body of this invention was mentioned above, the most important point of this invention specified the coating film, also the outermost layer coating layer, or this and lower layer coating film, The kind of metal base material from which a coating film is formed is especially It is not limited. Therefore, as the metal substrate used in the present invention, the most representative steel sheet, specifically, cold-rolled steel sheet, hot-rolled steel sheet, electrogalvanized steel sheet (EG), hot-dip galvanized steel sheet (GI), alloyed hot-dip galvanized steel sheet (GA), Al -Steel plate such as Zn plated steel sheet, various plated steel sheet such as Al, stainless steel sheet, non-ferrous metal sheet, etc. can all be used, and base materials other than metal sheet, specifically, pipe, wire, bar, release material, etc. can be used. have.

또한, 상기 금속재는 내식성이나 도막의 밀착성 향상 등을 목적으로 크로메이트처리나 인산염처리 등의 표면처리를 행해도 좋고, 또한 환경오염 등을 고려하여 논크로메이트 처리한 금속재를 사용해도 좋다. 어떠한 경우이든 본 발명의 기술적 범위에 포함된다.The metal material may be subjected to a surface treatment such as chromate treatment or phosphate treatment for the purpose of improving corrosion resistance, adhesion of the coating film, or the like, or may be a non-chromate metal material in consideration of environmental pollution. In any case, it is included in the technical scope of the present invention.

본 발명의 도장체는 전술한 바와 같은 성분을 함유한 도료를 공지의 도장법으로 기재 표면에 도포하여 건조하거나, 또는 가열소부(加熱燒付)처리하여 제조할 수 있다. 도장방법은 특히 한정하지 않지만 예컨데 표면을 청정화하여 필요에 따라 도장전처리(예컨데 인산염처리, 크로메이트 처리 등)를 행한 기재 표면에, 롤코터법, 스프레이법, 카튼프로코터법 등을 이용하여 도료를 도공하고, 열풍건조로를 통과시켜 건조하거나, 또는 소부경화시키는 방법 등을 들 수 있다.The coating body of this invention can be manufactured by apply | coating the paint containing the component mentioned above to the surface of a base material by a well-known coating method, or drying it, or heat-baking. Although the coating method is not particularly limited, for example, the surface is cleaned and coated with a roll coating method, a spraying method, a carton coating method, etc. on the surface of the substrate subjected to pre-painting treatment (for example, phosphate treatment, chromate treatment, etc.) if necessary. And drying through a hot air drying furnace or baking.

최외층도막의 밑에 하층도막을 만든 다층구조의 도막을 형성하는 경우에는, 상술한 방법으로 하층도막을 형성한 후, 이 하층도막이 건조고화한 후에 최외층도막을 형성하는 것이 좋다. 덧붙여 말하자면, 하층도막과 최외층도막을 순차도포한 후 건조고화를 동시에 행하고자 하면, 하층도막재와 최외층도막재의 상호확산이나 혼합이 일어나 본 발명에서 의도하는 최외층도막을 얻기 어려워지기 때문이다.In the case of forming a multi-layered coating film formed of a lower layer coating film under the outermost layer coating film, it is preferable to form the lower layer coating film after the lower layer coating film is dried and solidified by the above-described method. Incidentally, when the drying and solidification are to be performed at the same time after sequentially applying the lower coat and the outermost coat, it is difficult to obtain the outermost coat intended by the present invention due to mutual diffusion or mixing of the lower coat and the outer coat. .

이렇게 하여 얻어진 본 발명의 도장체는 최외층에 전술한 다공질입자를 함유한 얇은 표피도막이 형성되어 우수한 대류 열전도작용을 가지고, 바람직하게는 더욱 그 하층측에 방사성첨가제를 함유한 하층도막을 형성하므로써, 우수한 방열특성을 갖거나 혹은 더욱 바람직하게는 하층측에 도전성 필러를 배합하여 도전성도막으로 만들어 전자파 차폐성을 부여하는 것이 가능하므로, 전자기기를 보호수납하기 위한 틀체용소재로서 극히 유효히 활용할 수 있다.The coating body of the present invention thus obtained has a thin epidermal coating film containing the above-mentioned porous particles in the outermost layer and has excellent convective heat conduction action, and preferably, by forming a lower coating film containing a radioactive additive on the lower layer side thereof, It is possible to have excellent heat dissipation characteristics or, more preferably, to provide an electromagnetic shielding property by mixing a conductive filler on the lower layer side to form a conductive coating film, which can be extremely effectively used as a framework material for protecting and storing electronic devices.

또한 본 발명의 특징이 효과적으로 발휘되는 전자기기부품은, 닫혀진 공간에 발열체를 내장한 전자기기부품으로, 이 전자기기부품의 외벽 전부 또는 일부를 상기 도장금속재로 구성하는 것이 좋다.An electronic device component in which the features of the present invention are effectively exhibited is an electronic device component incorporating a heating element in a closed space, and it is preferable that all or part of the outer wall of the electronic component is made of the above-described coated metal material.

이러한 전자기기부품으로는, CD, LD, DVD, CD-ROM, CD-RAM, PDP, LCD 등의 정보기록제품; 퍼스널컴퓨터, 차량 네비게이션, 차량 AV 등의 전기ㆍ전자ㆍ통신관련제품; 프로젝터, 텔레비젼, 비디오, 게임기 등의 AV기기; 복사기, 프린터 등의 복사기기; 에어콘 실외기 등의 전원박스커버, 제어박스커버, 자동판매기, 냉장고 등을 구체예로서 예시할 수 있다.Such electronic device parts include information recording products such as CD, LD, DVD, CD-ROM, CD-RAM, PDP and LCD; Electrical, electronic and communication related products such as personal computers, vehicle navigation systems, and vehicle AV; AV equipment such as a projector, a television, a video, and a game machine; Copying apparatuses such as copying machines and printers; A power box cover such as an air conditioner outdoor unit, a control box cover, a vending machine, a refrigerator, and the like can be exemplified as specific examples.

실시예Example

이하, 실시예를 들어 본 발명을 더욱 구체적으로 설명한다. 본 발명은 하기 실시예에 의해 제한을 받는 것이 아니고, 전ㆍ후기의 취지에 적합한 범위에서 적당히 변경을 가하여 실시하는 것도 물론 가능하고, 그것들은 모두 본 발명의 기술적 범위에 포함된다.Hereinafter, an Example is given and this invention is demonstrated further more concretely. This invention is not restrict | limited by the following example, Of course, it is also possible to change suitably and to implement in the range suitable for the meaning of the previous and the latter, and all are included in the technical scope of this invention.

(실시예)(Example)

크로메이트 처리를 행한 전기아연 도금강판(판두께; 0.8mm, Cr부착량; 20mg/㎥를 원판으로 사용하고, 그 편면에 하기 표1에 나타난 첨가제를 배합한 도료(베이스 수지로서 폴리에스테르계 수지를 사용하고, 가교제로 멜라민수지를 사용한 것)를 도포한 후, 소부 및 건조를 행하여 하층도막을 형성하였다.Electro-galvanized steel plate subjected to chromate treatment (plate thickness; 0.8 mm, Cr deposition amount; 20 mg / m 3 as a base plate, and a coating material containing the additives shown in Table 1 below on one side thereof (using polyester resin as base resin) And a melamine resin was used as the crosslinking agent), followed by baking and drying to form an undercoat.

다음으로 그 위에, 표 1에 나타난 미립자를 배합한 폴리에스테르계 수지도료를 도포하고 소부ㆍ건조하여 최외층도막을 형성하였다. 이 폴리에스테르계 수지도료에 있어서, 도료 중의 수지고형분을 50질량%로 한 것, 및 7.5질량%로 한 것 각각에 표면이 개구한 구경; 약 20㎚의 세공을 다수 가진 다공질실리카(多孔質silica) (미즈사와가가꾸회사 제의 상품명「Mizukasil P-707」), 또는 표면이 개구한 구경; 약 0.3㎚의 세공을 다수 가진 제오라이트(닛본가가꾸회사 제의 상품명「제오스타 KA-100P」)를 건조도막 중에 점하는 비율로 10질량%가 되도록 배합하였다.Next, the polyester resin coating material which mix | blended the microparticles | fine-particles shown in Table 1 was apply | coated, baked and dried, and the outermost layer coating film was formed. In this polyester-based resin coating material, the diameter of the surface of which is opened in each of the resin solid content in the paint is 50% by mass and 7.5% by mass; Porous silica having a large number of pores of about 20 nm (trade name "Mizukasil P-707" manufactured by Mizusawa Chemical Co., Ltd.) or a aperture having a surface open; Zeolites having a large number of pores of about 0.3 nm (trade name "Zeostar KA-100P" manufactured by Nippon Kagaku Co., Ltd.) were blended so as to be 10% by mass in proportion to the dry coating film.

얻어진 각 도장금속판에 대하여, 하기의 방법으로 대류에 의한 열전달성을 평가함과 아울러, 100℃로 가열했을 때의 적외선(파장 4.5~15.4㎛) 적분방사율을 조사하였다.About each obtained coating metal plate, the heat transfer by convection was evaluated by the following method, and the integral emissivity of infrared (wavelength 4.5-15.4 micrometers) when it heated at 100 degreeC was investigated.

[대류열전달성 평가법][Convective Heat Transfer Evaluation Method]

각 공시강판의 대류ㆍ열전달성능을 평가하기 위해 하기의 원리로, 동일방향으로 균일한 속도로 가열한 공시강판의 대표온도를 계측하고, 공시강판 간에 상대평가하였다.In order to evaluate the convection and heat transfer performance of each steel sheet, the representative temperature of the steel sheets heated at the same speed in the same direction in the same direction was measured, and the steel sheets were evaluated relative to each other.

원리 : principle :

도 1에 나타난 바와 같이, 같은 칫수의 공시강판 A, B의 편면측을 같은 열량(Q0)으로 가열하고, 반대면에 동일온도 T0, 동일속도(V1)로 설정한 공기를 흐르게 하였다. 공시강판 A의 열통과성능이 공시강판 B보다도 우수하면 공시강판 A의 표면온도 TA와 공시강판 B의 표면온도 TB의 사이에는「TA<TB」의 관계가 성립한다. 도면 중, ha, hb는 공시강판 A, B의 열전달계수, A0는 공시강판 A, B의 마이크로적 표면적(즉, 표면에 노출한 다공질입자의 세공면적은 무시한 표면적으로, 실험에서는 같은 사이즈의 공시판을 이용했으므로 같은 값이다)을 나타낸다.As shown in Fig. 1, the one side of the test plate A and B of the same dimension was heated with the same amount of heat Q0, and the air set at the same temperature T0 and the same speed V1 flowed on the opposite side. If the heat-transmitting performance of the test steel A is superior to the test steel B, the relationship of "TA <TB" is established between the surface temperature TA of the test steel A and the surface temperature TB of the test steel B. In the figure, ha and hb are heat transfer coefficients of the test steels A and B, and A0 is the micro surface area of the test steels A and B (i.e., the surface area ignoring the pore area of the porous particles exposed to the surface, and the same size in the experiment). Since the plate is used, it is the same value).

또한 상기 열통과성능은 방사전열량과 대류열전달량에 의해 결정되지만, 공시강판의 방사율(ε0)과 공기온도(T0)가 분명해지면, 방사전열량(Q2)은 하기식에 의해 구할 수 있고, 남은 대류열전달량(Q1)은「Q1=Q0ㆍQ2」로 구할 수 있으므로, 대류열전달성의 향상의 양부(良否)를 판단할 수 있다.In addition, the heat passing performance is determined by the radiant heat transfer amount and the convective heat transfer amount, but when the emissivity (ε0) and the air temperature (T0) of the steel sheet become clear, the radiant heat transfer amount (Q2) can be obtained by the following equation, Since the remaining convective heat transfer amount Q1 can be obtained as "Q1 = Q0 and Q2", it is possible to judge whether the improvement of the convective heat transferability is improved.

Q2=5.67×ε0×A0×{[(TA+273)/100]4-[(T0+273)/100]4}Q2 = 5.67 × ε0 × A0 × {[(TA + 273) / 100] 4 -[(T0 + 273) / 100] 4 }

Figure 112006016151251-PAT00003
Figure 112006016151251-PAT00003

상기 표 1로부터 다음과 같이 생각할 수 있다.From the said Table 1, it can think as follows.

부호 1은 아무 도막도 형성되어 있지 않은 전기아연도금강판을 그대로 이용한 블랭크(blank)재이다. 부호 2는 일본특허 제 3563731호로 나타낸 선출원발명에 관한 방사성첨가물을 함유한 하층피막만으로 이루어진 도장금속판으로, 높은 열방사율과 아울러 방열성도 양호하고, 블랭크재에 비교하여 6.3℃나 강온(방열)효과를 얻을 수 있었다.The code | symbol 1 is a blank material which used the electro galvanized steel sheet in which no coating film was formed as it is. Reference numeral 2 is a coating metal plate composed of only a lower layer coating containing radioactive additives related to the prior application of Japanese Patent No. 3563731. It has a high heat radiation rate and good heat dissipation, and has a 6.3 DEG C or a lower temperature (heat dissipation) effect than a blank material. Could get

부호 3은 열방사성의 하층도막을 형성함과 아울러 그 위에 본 발명의 규정요건을 만족하는 최외층도막을 형성한 본 발명의 실시예로서, 부호 2의 종래재에 비 하여 또한 1.3℃의 방열효과를 얻을 수 있었다.Reference numeral 3 denotes an embodiment of the present invention in which a lower-layer coating film having thermal radiation is formed and an outermost coating film that satisfies the requirements of the present invention is formed thereon. Could get

부호 4는, 부호 3에 대해 최외층도막을 형성하기 위한 도막으로 수지고형분 농도가 높은 것을 사용한 예로서, 다공질입자의 세공이 수지로 막혀버렸기 때문인지, 최외층도막을 형성한 효과가 전혀 발휘되지 않았다. 또한 부호 5, 6은 다공질입자로서 세공을 갖고 있는 평균세공경이 본 발명에서 규정하는 사이즈에 도달하지 않은 미세세공을 가진 제오라이트를 이용한 것으로, 방열성은 하층도막만을 구비한 부호 2보다도 나빠졌다. 이것은 제오라이트에 대류열전달에 의한 방열효과가 없을 뿐 아니라, 하층도막의 열방사가 이 제오라이트를 함유한 최외층도막에 의해 저해되었기 때문이라고 생각된다.Reference numeral 4 is an example of using a coating resin for forming the outermost layer coating film with reference to symbol 3, which has a high resin solid content concentration. The effect of forming the outermost layer coating film is not exhibited because the pores of the porous particles are blocked with resin. Did. In addition, the code | symbol 5 and 6 used the zeolite which has micropore whose average pore diameter which has a pore as a porous particle does not reach the size prescribed | regulated by this invention, and heat dissipation worsened than the code | symbol 2 which has only a lower layer coating film. This is considered to be because the zeolite has no heat dissipation effect due to convective heat transfer and the thermal radiation of the lower layer coating film is inhibited by the outermost layer coating film containing the zeolite.

또한 열방사율은 오직 하층도막에만 의존하는데, 하층도막의 구성이 동일한 부호 2~6의 열방사율은 최외층도막의 여하를 불문하고 일정한 값을 나타내고 있다. In addition, the thermal emissivity depends only on the lower layer coating film, and the thermal emissivity having the same structure as the lower layer coating code 2 to 6 has a constant value regardless of the outermost layer coating film.

본 발명에 의하여 일층 우수하게 된 방열특성을 가진 도장금속재를 얻을 수 있을 뿐 아니라 도전성과 전자파 차폐효과가 우수한 도장금속재를 얻을 수 있었다.According to the present invention, not only a coating metal material having excellent heat dissipation characteristics can be obtained, but also a coating metal material excellent in conductivity and electromagnetic shielding effect can be obtained.

Claims (6)

금속기재의 적어도 편면에 적어도 1층의 도막이 형성되는 도장금속재로서, 이 도막의 최외층에는 표면에 개구한 1~1000㎚의 세공을 가진 다공질입자가 표층측에 적어도 일부가 노출한 상태로 함유되어 있는 것을 특징으로 하는 방열성(放熱性)이 우수한 도장금속재(塗裝金屬材).A coated metal material on which at least one layer of coating film is formed on at least one side of the metal substrate, wherein the outermost layer of the coating film contains porous particles having pores of 1 to 1000 nm that are open on the surface in a state where at least part of them is exposed to the surface layer side. Painted metal material with excellent heat dissipation, characterized in that there is. 제 1항에 있어서, 상기 최외층의 층두께(x)가 0.5~4㎛, 상기 다공질입자의 평균입경(y)이 1~8㎛이고,「x<y」의 관계를 만족하는 것을 특징으로 하는 방열성이 우수한 도장금속재.The outermost layer has a layer thickness (x) of 0.5 to 4 µm, an average particle diameter (y) of the porous particles of 1 to 8 µm, and satisfies a relationship of "x <y". Painted metal material with excellent heat dissipation. 제 1항에 있어서, 상기 최외층의 하측에 방사성첨가제를 함유한 도막층이 형성되고, 도장금속재를 100℃로 가열했을 때의 적외선(파장 4.5~15.4㎛)의 적분방사율이 0.6 이상인 것을 특징으로 하는 방열성이 우수한 도장금속재.The coating film layer containing a radioactive additive is formed in the lower side of the said outermost layer, The integral emissivity of infrared rays (wavelength 4.5-15.4 micrometers) at the time of heating a coating metal material at 100 degreeC is 0.6 or more, It is characterized by the above-mentioned. Painted metal material with excellent heat dissipation. 제 1항에 있어서, 상기 도장금속재는 표면저항이 100Ω 이하인 것을 특징으로 하는 방열성이 우수한 도장금속재.The coated metal material according to claim 1, wherein the coated metal material has a surface resistance of 100 Ω or less. 제 1항에 있어서, 상기 도막이 폴리에스테르계 수지 또는 폴리에스테르계 수지의 변성수지로부터 이루어 지는 것을 특징으로 하는 방열성이 우수한 도장금속재.The coated metal material according to claim 1, wherein the coating film is made of a polyester resin or a modified resin of a polyester resin. 제 1항에 있어서, 상기 다공질입자는 다공질실리카(多孔質silica) 또는 제오라이트인 것을 특징으로 하는 방열성이 우수한 도장금속재.The coated metal material according to claim 1, wherein the porous particles are porous silica or zeolite.
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